JP2007093411A - Substrate inspection apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate inspection apparatus capable of carrying out an appearance inspection of a substrate to be inspected which is held swingably by a swing mechanism, by using downward lighting, and capable of effectively carrying out the appearance inspection by using backside transmission lighting. <P>SOLUTION: The substrate inspection apparatus 1 comprises: the swing mechanism 3 for holding and swinging the substrate to be inspected W; a backlight 5 for lighting the backside W2 opposite to the front side W1 of the substrate to be inspected W; and a moving means 6 for the backlight 5. A rotating arm 17 of the moving means 6 is composed of two link levers 19, 20 and a fixing plate 21 used as a fixing member. Respective edges 19a, 20a of the two link levers 19, 20 are disposed at a prescribed spacing and pivoted separately by a support member 16 so as to be rotatable. Furthermore, respective other edges 19b, 20b are disposed at a prescribed spacing and pivoted separately by the fixing plate 21 so as to be rotatable. The backlight 5 is fixed to the fixing plate 21. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、背面透過照明によってガラス基板などの外観検査が可能な基板検査装置に関する。   The present invention relates to a substrate inspection apparatus capable of inspecting the appearance of a glass substrate or the like by backside transmitted illumination.

従来、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）等の製造工程において、ガラス基板などの外観検査を行うものとして、被検査基板の正面側からの落射照明によって観察するとともに、背面側から透過照明によって観察し、さらに詳細に傷などの欠陥部分を検出する方法が試みられている。例えば、被検査基板を揺動可能に支持する揺動ステージと、揺動ステージ上の基板表面を照射する反射照明手段と、揺動ステージ上の基板を裏面から透過する透過照明手段とを備えた基板検査装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、被検査基板を保持する被検査基板保持部に対し、上下方向の駆動力を作用する第１の駆動手段と、回動支持する回動支持手段と、水平方向に駆動力を作用する第２の駆動手段とを備えた装置本体の後方に、外光の反射を防止するためのＮＤフィルタが表面に設けられたバックライトが設けられている基板検査装置が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
特開２０００−６６１６４号公報 特開平１１−９４７５３号公報 Conventionally, in a manufacturing process of a flat panel display (FPD) or the like, as a visual inspection of a glass substrate or the like, it is observed by epi-illumination from the front side of the substrate to be inspected, and is observed by transmission illumination from the back side. A method for detecting a defective portion such as a scratch in detail has been attempted. For example, a swing stage for swingably supporting the substrate to be inspected, a reflective illumination unit for irradiating the substrate surface on the swing stage, and a transmission illumination unit for transmitting the substrate on the swing stage from the back surface are provided. A substrate inspection apparatus has been proposed (see, for example, Patent Document 1). In addition, a first driving means that applies a driving force in the vertical direction, a rotating support means that supports and rotates, and a first driving force that applies a driving force in the horizontal direction to the inspected substrate holding portion that holds the inspected substrate. There has been proposed a substrate inspection apparatus in which a backlight having an ND filter for preventing reflection of external light is provided on the rear side of the apparatus main body having two driving means (for example, a patent) Reference 2).
JP 2000-66164 A Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-94753

しかしながら、特許文献１の基板外観検査装置においては、透過照明手段によって揺動ステージの下方から照明を行い、検査者の観察方向と透過照明の方向とが異なるため、効果的な透過照明観察を行うことができなかった。また、透過照明手段が揺動ステージに固着され、揺動ステージとともに透過照明手段も揺動する装置が提案されているが、揺動ステージを駆動させる駆動部は透過照明手段も合わせて揺動させるため、特に被検査基板の大型化に伴い、駆動部が大きくなってしまう問題があった。
また、特許文献２の基板検査装置においては、被検査基板の移動範囲の後方に位置することで、透過照明による観察時に、被検査基板とバックライトとの距離が離れてしまう。このため、特に被検査基板が大型化するのに伴い、バックライトの照明が散乱してしまい、観察に必要な明るさを得ることができない問題があった。 However, in the substrate appearance inspection apparatus of Patent Document 1, illumination is performed from below the swing stage by the transmission illumination means, and the observation direction of the inspector and the direction of the transmission illumination are different, so that effective transmission illumination observation is performed. I couldn't. Further, there has been proposed an apparatus in which the transmission illumination unit is fixed to the swing stage and the transmission illumination unit swings together with the swing stage. However, the drive unit that drives the swing stage also swings the transmission illumination unit together. For this reason, there has been a problem that the drive section becomes large especially with the increase in the size of the substrate to be inspected.
Moreover, in the board | substrate inspection apparatus of patent document 2, the distance of a to-be-inspected board | substrate and a backlight will leave | separate at the time of observation by transmitted illumination by being located behind the movement range of a to-be-inspected board | substrate. For this reason, the illumination of the backlight is scattered particularly with the increase in the size of the substrate to be inspected, and there is a problem that the brightness necessary for observation cannot be obtained.

この発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって、揺動機構に回動可能に保持された被検査基板を落射照明によって外観検査することが可能であるとともに、効果的に背面透過照明による外観検査を行うことが可能な基板検査装置を提供する。   The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and can inspect the appearance of a substrate to be inspected that is rotatably held by a swing mechanism by epi-illumination and effectively transmits the back surface. Provided is a substrate inspection apparatus capable of performing an appearance inspection by illumination.

上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
請求項１に係る発明は、被検査基板を保持し、検査時は前記被検査基板を検査位置まで移動させ、非検査時には退避位置まで移動させることが可能である揺動機構と、前記被検査基板の観察する正面側とは反対の背面側に位置し、前記被検査基板を照射するバックライトとを備え、該バックライトの背面透過照明によって前記被検査基板の外観検査を行うことが可能な基板検査装置であって、前記バックライトを移動可能な移動手段を備え、該移動手段は、背面透過照明による観察時においては、前記揺動機構によって所定の角度に設定された前記被検査基板の背面側に前記バックライトを接近させるとともに、正面側からの落射照明による観察時及び前記揺動機構の回動時においては、前記揺動機構の回動範囲外に前記バックライトを移動させることを特徴としている。 In order to solve the above problems, the present invention proposes the following means.
According to a first aspect of the present invention, there is provided a swing mechanism capable of holding a substrate to be inspected, moving the substrate to be inspected to an inspection position at the time of inspection, and to a retracted position at the time of non-inspection, and the inspection target And a backlight that illuminates the substrate to be inspected, which is located on the back side opposite to the front side of the substrate to be observed, and can inspect the appearance of the substrate to be inspected by the backside illumination of the backlight. The substrate inspection apparatus includes a moving unit capable of moving the backlight, and the moving unit is configured to move the backlight of the substrate to be inspected set at a predetermined angle by the swing mechanism during observation using back-surface transmitted illumination. The backlight is moved closer to the back side, and the backlight is moved out of the swinging range of the swinging mechanism during observation by epi-illumination from the front side and when the swinging mechanism is rotated. It is characterized by causing.

この発明に係る基板検査装置によれば、バックライトからの背面透過照明による観察時には、被検査基板を保持した揺動機構を検査位置となるように所定の角度に設定した上で、移動手段によってバックライトを被検査基板の背面側に接近させることができる。さらに正面側からの落射照明による観察時及び前記揺動機構の回動時においては、移動手段によってバックライトは揺動機構の回動範囲外に移動させることができる。   According to the substrate inspection apparatus of the present invention, at the time of observation by back-surface transmission illumination from the backlight, the swing mechanism holding the substrate to be inspected is set at a predetermined angle so as to be the inspection position, and then is moved by the moving unit. The backlight can be brought close to the back side of the substrate to be inspected. Further, during observation by epi-illumination from the front side and rotation of the swing mechanism, the backlight can be moved out of the swing range of the swing mechanism by the moving means.

本発明によれば、被検査基板の背面にバックライトを配置することができるので、効果的な背面透過照明による外観検査を行うことができる。さらに、移動手段によって揺動機構の回動範囲外に移動させることができるので、正面側からの落射照明による観察時及び前記揺動機構の回動時に支障となることがない。また、バックライトの移動手段を被検査基板を回動させる揺動機構と異なる機構とすることで、これらの機構の駆動部が大型化してしまうことがない。   According to the present invention, since the backlight can be arranged on the back surface of the substrate to be inspected, it is possible to perform an appearance inspection by effective back surface transmitted illumination. Furthermore, since it can be moved out of the range of rotation of the swing mechanism by the moving means, there is no trouble during observation by epi-illumination from the front side and when the swing mechanism is rotated. Further, by making the backlight moving means a mechanism different from the swinging mechanism that rotates the substrate to be inspected, the drive unit of these mechanisms does not increase in size.

（第１の実施形態）
図１及び図２は、この発明に係る第１の実施形態を示している。図１に基板検査装置の全体図、図２に拡大した側面図を示す。 (First embodiment)
1 and 2 show a first embodiment according to the present invention. FIG. 1 shows an overall view of the substrate inspection apparatus, and FIG. 2 shows an enlarged side view.

図１に示すように、基板検査装置１は、外郭をなす筐体２と、被検査基板Ｗを保持し回動する揺動機構３と、被検査基板Ｗの観察する正面Ｗ１を落射照明する落射照明手段４と、被検査基板Ｗの正面Ｗ１とは反対側の背面Ｗ２を照射するバックライト５と、バックライト５の移動手段６とを備える。筐体２の内壁面２ａは、光が乱反射しないように黒色とされている。また、揺動機構３は、回動中心に設けられた回動軸７と、基端部で回動軸７に回転可能に軸支される一対の揺動アーム８と、各揺動アーム８の先端部に固定される一対のホルダガイド部９と、各ホルダガイド部９に沿って移動可能な矩形状の開口部を有する基板ホルダ１１とを備える。基板ホルダ１１の開口部には、細かい棒状の桟が複数架設され、この桟の上に被検査基板Ｗを吸着保持する吸着パッド１０が、所定の間隔をおいて複数固定されている。さらに、揺動機構３は駆動部１２を備え、駆動部１２が稼動することによって、揺動アーム８が回動軸７を中心として回動可能としている。これにより揺動アーム８は、被検査基板Ｗの検査を行う位置である検査位置Ａからホルダガイド部９が略水平となる被検査基板Ｗの受け渡しを行う退避位置Ｂまで回動可能であり、また被検査基板Ｗの検査時に、検査位置Ａにおいて被検査基板Ｗを微小な角度範囲で揺動させることが可能である。   As shown in FIG. 1, the substrate inspection apparatus 1 incidentally illuminates an outer casing 2, a swing mechanism 3 that holds and rotates the substrate W to be inspected, and a front surface W <b> 1 that the substrate W to be inspected is observed. An epi-illumination unit 4, a backlight 5 that irradiates a back surface W 2 opposite to the front surface W 1 of the substrate W to be inspected, and a moving unit 6 for the backlight 5 are provided. The inner wall surface 2a of the housing 2 is black so that light is not irregularly reflected. Further, the swing mechanism 3 includes a swing shaft 7 provided at the center of rotation, a pair of swing arms 8 rotatably supported on the swing shaft 7 at the base end portion, and the swing arms 8. And a substrate holder 11 having a rectangular opening movable along each holder guide portion 9. A plurality of fine rod-like bars are installed in the opening of the substrate holder 11, and a plurality of suction pads 10 for sucking and holding the substrate W to be inspected are fixed on the bars at predetermined intervals. Furthermore, the swing mechanism 3 includes a drive unit 12, and the swing arm 8 can rotate about the rotation shaft 7 by operating the drive unit 12. Thus, the swing arm 8 can be rotated from an inspection position A, which is a position where the inspection substrate W is inspected, to a retreat position B where the inspection substrate W is transferred so that the holder guide portion 9 is substantially horizontal. Further, when inspecting the inspected substrate W, the inspected substrate W can be swung within a minute angle range at the inspection position A.

また、落射照明手段４は、照明用光源であるランプ１３と、ランプ１３から照射される照明光が反射される反射ミラー１４と、反射ミラー１４で反射された照明光を収束し、被検査基板Ｗに照射させるフレネルレンズ１５とを備える。ランプ１３は、広範囲を照明可能なもので、例えばメタルハライドランプ、ナトリウムランプや蛍光灯などである。   Further, the epi-illumination means 4 converges the lamp 13 that is an illumination light source, the reflection mirror 14 that reflects the illumination light emitted from the lamp 13, and the illumination light that is reflected by the reflection mirror 14 to be inspected. And a Fresnel lens 15 for irradiating W. The lamp 13 can illuminate a wide area, and is, for example, a metal halide lamp, a sodium lamp, a fluorescent lamp, or the like.

バックライト５は、面照明可能な光源であり、例えば蛍光灯やＬＥＤの集合体で構成されている。また、移動手段６は、基端部で揺動機構３の回動範囲Ｐより外側の上方に固定された支持部材１６に軸支され回転可能な回転アーム１７と、回転アーム１７を回転、作動させるアクチュエータ１８とで構成される。回転アーム１７は、２本のリンクレバー１９、２０と、固定部材である固定板２１とで構成されている。２本のリンクレバー１９、２０は、各々一端１９ａ、２０ａにおいて、所定の間隔を設けて別々に支持部材１６に軸支されている。また、他端１９ｂ、２０ｂにおいて、所定の間隔を設けて別々に固定板２１に回転可能に取り付けられ、支持部材１６、回転アーム１７の構成要素であるリンクレバー１９、２０、及び固定板２１によって、クランクリンク機構が構成されている。また、被検査基板Ｗ側に位置するリンクレバー１９の長さに対して、もう１つのリンクレバー２０の方が長く設定されている。アクチュエータ１８は、より詳しくは油圧シリンダで、一端１８ａがリンクレバー２０にピン結合されるとともに、他端１８ｂも壁体などの固定部にピン結合されていて、この状態で伸縮することで、回転アーム１７を回転させることを可能としている。さらに、アクチュエータ１８は、駆動部２２と接続されていて、駆動部２２が稼動することによって、駆動することが可能となっている。また、固定板２１にはバックライト５が固定されている。   The backlight 5 is a light source capable of surface illumination, and is composed of, for example, an assembly of fluorescent lamps and LEDs. Further, the moving means 6 is a rotary arm 17 that is pivotally supported by a support member 16 that is fixed at an upper end outside the rotation range P of the swing mechanism 3 at the base end portion, and a rotary arm 17 that rotates. And an actuator 18 to be operated. The rotary arm 17 includes two link levers 19 and 20 and a fixed plate 21 that is a fixed member. The two link levers 19 and 20 are pivotally supported by the support member 16 separately at a predetermined interval at one end 19a and 20a, respectively. Further, at the other ends 19b and 20b, they are separately attached to the fixed plate 21 with a predetermined interval so as to be rotatable, and by the link levers 19 and 20 and the fixed plate 21 which are components of the support member 16 and the rotary arm 17. A crank link mechanism is configured. Further, the other link lever 20 is set longer than the length of the link lever 19 located on the inspected substrate W side. More specifically, the actuator 18 is a hydraulic cylinder, and one end 18a is pin-coupled to the link lever 20, and the other end 18b is also pin-coupled to a fixed portion such as a wall body. The arm 17 can be rotated. Furthermore, the actuator 18 is connected to the drive unit 22 and can be driven when the drive unit 22 operates. The backlight 5 is fixed to the fixed plate 21.

そして、図２に示すように、バックライト５は、移動手段６によって、揺動機構３の回動範囲Ｐの外の退避位置Ｄから揺動アーム８及び被検査基板Ｗが検査位置Ａに位置した際の被検査基板Ｗの背面Ｗ２に接近する照射位置Ｃまで移動することが可能である。また、バックライト５が照射位置Ｃに位置した時に、検査位置Ａに位置する被検査基板Ｗとバックライト５とが略平行となるように、回転アーム１７とバックライト５とは組み付けられている。さらに、回転アーム１７はクランクリンク機構が構成され、構成するリンクレバー１９、２０の長さが異なっているので、照射位置Ｃから退避位置Ｄまでバックライト５が移動するのに伴い、バックライト５の側方視鉛直方向に対する角度が変化していく。そして、退避位置Ｄに位置する時に、バックライト５が側方視鉛直方向に対して傾斜するとともに、揺動機構３の回動範囲Ｐと筐体２の間のスペースに収容されるようにリンクレバー１９、２０の長さが設定されている。   As shown in FIG. 2, the backlight 5 is moved from the retracted position D outside the rotation range P of the swing mechanism 3 to the inspection position A by the moving means 6. It is possible to move to an irradiation position C that approaches the back surface W2 of the substrate W to be inspected. Further, when the backlight 5 is positioned at the irradiation position C, the rotary arm 17 and the backlight 5 are assembled so that the substrate W to be inspected and the backlight 5 positioned at the inspection position A are substantially parallel. . Further, the rotary arm 17 has a crank link mechanism, and the lengths of the link levers 19 and 20 are different. Therefore, as the backlight 5 moves from the irradiation position C to the retracted position D, the backlight 5 The angle of the side view with respect to the vertical direction changes. When the backlight 5 is located at the retracted position D, the backlight 5 is inclined with respect to the vertical direction of the side view, and is linked to be accommodated in the space between the rotation range P of the swing mechanism 3 and the housing 2. The lengths of the levers 19 and 20 are set.

また、基板検査装置１には、さらに操作盤２３や制御部２４が設けられ、検査者Ｍによる操作盤２３の操作によって、揺動アーム８の駆動部１２や回転アーム１７の駆動部２２の稼動、及びバックライト５や落射照明手段４による照明を制御することが可能となっている。さらに、バックライト５にはセンサ２５が設けられていて、照射位置Ｃよりも揺動アーム８及び被検査基板Ｗに接近するとセンサ２５が感知し、制御部２４に信号が送られ、自動停止する構成となっている。   Further, the board inspection apparatus 1 is further provided with an operation panel 23 and a control unit 24, and the operation of the drive unit 12 of the swing arm 8 and the drive unit 22 of the rotary arm 17 is performed by the operation of the operation panel 23 by the inspector M. , And the illumination by the backlight 5 and the epi-illumination means 4 can be controlled. Furthermore, the backlight 5 is provided with a sensor 25. When the swing arm 8 and the inspected substrate W come closer to the irradiation position C than the irradiation position C, the sensor 25 senses, and a signal is sent to the control unit 24 to automatically stop. It has a configuration.

次に、基板検査装置１の作用について説明する。まず、図１に示すように、揺動アーム８をホルダガイド部９が水平となる退避位置Ｂに配置し、図示しない搬送ロボットによって搬送される被検査基板Ｗの受け渡しを行う。被検査基板Ｗを吸着パッド１０で吸着した後、揺動アーム８を回動させて外観検査を行う検査位置Ａまで被検査基板Ｗを移動させる。この際、バックライト５は、揺動機構３の回動範囲Ｐの外である退避位置Ｄに配置しておく。そして、落射照明手段４によって被検査基板Ｗの正面Ｗ１に落射照明を照射し、その反射光の変化を観察し、傷等の欠陥部分を検出する。観察する際は、ホルダガイド部９上で基板ホルダ１１を移動させることで、被検査基板Ｗが大きくても、検査者Ｍは視線を上下する必要なく、また被検査基板Ｗの全体を照射する必要がなく、上下方向に被検査基板Ｗの全体を検査することができる。また、検査する際に揺動アーム８を揺動させることで反射光の変調を調べ、さらに詳細な検査を可能とさせる。   Next, the operation of the substrate inspection apparatus 1 will be described. First, as shown in FIG. 1, the swing arm 8 is disposed at the retreat position B where the holder guide portion 9 is horizontal, and the inspection substrate W transferred by a transfer robot (not shown) is transferred. After the substrate W to be inspected is sucked by the suction pad 10, the swing arm 8 is rotated to move the substrate W to be inspected to the inspection position A where the appearance inspection is performed. At this time, the backlight 5 is disposed at a retracted position D that is outside the rotation range P of the swing mechanism 3. Then, the epi-illumination means 4 irradiates the front surface W1 of the inspected substrate W with epi-illumination, observes the change in the reflected light, and detects a defective portion such as a scratch. When observing, the substrate holder 11 is moved on the holder guide portion 9 so that the inspector M does not need to move his / her line of sight even when the substrate to be inspected W is large, and the entire substrate to be inspected W is irradiated. There is no need, and the entire substrate W to be inspected can be inspected in the vertical direction. Further, when the inspection is performed, the swinging arm 8 is swung to check the modulation of the reflected light, thereby enabling a more detailed inspection.

落射照明による外観検査の際、筐体２の内部で散乱した光や外光が筐体２の内壁面２ａあるいはバックライト５の表面に反射して検査者Ｍに到達してしまい、落射照明による反射光の観察に支障をきたす場合がある。しかし、基板検査装置１では、筐体２の内壁面２ａが黒色となっているので、内壁面２ａでは反射せず検査者Ｍに到達してしまう恐れがない。また、バックライト５は、退避位置Ｄでは検査者Ｍの観察視野Ｍ１の上方に位置し、側方視鉛直方向に対して傾斜しているので、仮に散乱光や外光がバックライト５に反射したとしても、その反射光が検査者Ｍに到達してしまう恐れがない。   In the appearance inspection by the epi-illumination, the light scattered outside the case 2 or the external light is reflected on the inner wall surface 2a of the case 2 or the surface of the backlight 5 and reaches the inspector M. It may interfere with observation of reflected light. However, in the board inspection apparatus 1, since the inner wall surface 2a of the housing 2 is black, there is no possibility of reaching the inspector M without being reflected by the inner wall surface 2a. Further, since the backlight 5 is located above the observation field M1 of the examiner M at the retracted position D and is inclined with respect to the vertical direction of the side view, the scattered light and the external light are temporarily reflected on the backlight 5. Even if it does, there is no possibility that the reflected light will reach the inspector M.

次に、図２に示すように、駆動部２２を稼動させ、アクチュエータ１８を作動させることで、回転アーム１７を回転させて、バックライト５を退避位置Ｄから照射位置Ｃへ移動させ、被検査基板Ｗの背面Ｗ２に接近させる。この際、センサ２５によってバックライト５と揺動アーム８及び被検査基板Ｗとの距離を監視しているので、バックライト５と揺動アーム８あるいは被検査基板Ｗとが接触して破損してしまう恐れはない。次に、バックライト５を点灯させて、バックライト５の透過照明によって被検査基板Ｗの傷等の欠陥部分を検出する。そして、落射照明による外観検査時と同様に、基板ホルダ１１を上下に移動させることで、被検査基板Ｗの全体を検査する。そして、すべての検査が完了した後、再び回転アーム１７を回転させて、バックライト５を照射位置Ｃから退避位置Ｄへ移動させ、揺動アーム８を検査位置Ａから退避位置Ｂに回動させる。そして、図示しない搬送ロボットに検査完了した被検査基板Ｗを受け渡し、新たな被検査基板Ｗを受け取って再び検査を行う。   Next, as shown in FIG. 2, the drive unit 22 is operated and the actuator 18 is operated to rotate the rotary arm 17 to move the backlight 5 from the retracted position D to the irradiation position C. It is made to approach the back surface W2 of the substrate W. At this time, since the distance between the backlight 5 and the swing arm 8 and the substrate to be inspected W is monitored by the sensor 25, the backlight 5 and the swing arm 8 or the substrate to be inspected W are contacted and damaged. There is no fear of it. Next, the backlight 5 is turned on, and a defective portion such as a scratch on the inspected substrate W is detected by the transmitted illumination of the backlight 5. Then, as in the appearance inspection by epi-illumination, the entire substrate W to be inspected is inspected by moving the substrate holder 11 up and down. Then, after all the inspections are completed, the rotating arm 17 is rotated again, the backlight 5 is moved from the irradiation position C to the retracted position D, and the swing arm 8 is rotated from the inspection position A to the retracted position B. . Then, the inspection target substrate W is delivered to a transfer robot (not shown), and a new inspection target substrate W is received and inspected again.

以上のように、基板検査装置１では、移動手段６によって、バックライト５が背面透過照射による外観検査を行わない時は退避位置Ｄに位置し、背面透過照射による外観検査を行う時にのみ、被検査基板Ｗの背面Ｗ２に接近して照射するので、照度が落ちることなく効果的に透過照明を行うことできる。また、バックライト５は照射位置Ｃから退避位置Ｄに移動するのに伴い、側方視鉛直方向に対して角度を変化させることができる。このため、揺動アーム８の回動範囲Ｐと筐体２との間の少ないスペースに退避、収容させることができる。さらに、移動手段６でバックライト５を移動させる方法が、回動範囲Ｐの上方を中心とした円運動となっている。このため、バックライト５を照射位置Ｃから退避位置Ｄまで後退かつ上方へ移動する行程を２方向の直線運動の繰り返しで行うのに比べて、少ない装置スペース及び移動スペースで効率良く行うことができる。また、落射照明による外観検査時は、バックライト５は観察視野Ｍ１の上方の退避位置Ｄに位置し、かつ側方視鉛直方向に傾斜しているので、バックライト５で反射した反射光が落射照明による外観検査の支障となることもない。また、バックライト５の移動手段６を揺動機構３と別の機構とすることで、これらの機構を駆動させる駆動部１２、２２を異なるものとし、駆動部の大型化を防止できる。   As described above, in the substrate inspection apparatus 1, the moving means 6 is positioned at the retracted position D when the backlight 5 does not perform the appearance inspection by the back surface transmission irradiation, and only when the backlight 5 performs the appearance inspection by the back surface transmission irradiation. Since the irradiation is performed close to the back surface W2 of the inspection substrate W, it is possible to effectively perform the transmission illumination without decreasing the illuminance. Further, as the backlight 5 moves from the irradiation position C to the retracted position D, the angle of the backlight 5 can be changed with respect to the vertical direction of the side view. For this reason, it can be retracted and accommodated in a small space between the rotation range P of the swing arm 8 and the housing 2. Further, the method of moving the backlight 5 by the moving means 6 is a circular motion centered on the upper side of the rotation range P. For this reason, it is possible to efficiently perform the process of moving the backlight 5 backward from the irradiation position C to the retreat position D and moving upward by repeating the linear motion in two directions with less apparatus space and movement space. . Further, at the time of appearance inspection by epi-illumination, the backlight 5 is located at the retracted position D above the observation visual field M1 and is inclined in the vertical direction of the side view, so that the reflected light reflected by the backlight 5 is epi-illuminated. It does not hinder the appearance inspection by lighting. Moreover, by making the moving means 6 of the backlight 5 a mechanism different from the swing mechanism 3, the drive units 12 and 22 for driving these mechanisms are different, and an increase in size of the drive unit can be prevented.

なお、移動手段６の回転アーム１７は、揺動アーム８の回動範囲Ｐの上方で回転可能に軸支されるとしたが、これに限ることは無い。少なくとも、揺動アーム８の回動範囲Ｐの外で軸支されていて、背面照射による外観検査時にバックライト５を被検査基板Ｗの背面Ｗ２に接近させるとともに、回動範囲Ｐの外にバックライト５を退避させることが可能であれば良く、例えば、回動範囲Ｐの下方に軸支され、下方に回転させる構成としても良い。   Although the rotary arm 17 of the moving means 6 is pivotally supported above the rotation range P of the swing arm 8, it is not limited to this. At least, it is pivotally supported outside the rotation range P of the swing arm 8, and the backlight 5 is brought close to the back surface W <b> 2 of the substrate W to be inspected at the time of appearance inspection by backside illumination, and the back is outside the rotation range P. It is only necessary that the light 5 can be retracted. For example, the light 5 may be pivotally supported below the rotation range P and rotated downward.

（第２の実施形態）
図３は、この発明に係る第２の実施形態を示していて、基板検査装置の拡大した側面図を示している。この実施形態において、前述した実施形態で用いた部材と共通の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。 (Second Embodiment)
FIG. 3 shows a second embodiment according to the present invention, and shows an enlarged side view of the substrate inspection apparatus. In this embodiment, members that are the same as those used in the above-described embodiment are assigned the same reference numerals, and descriptions thereof are omitted.

図３に示すように、この実施形態の基板検査装置３０において、バックライト５を移動させる移動手段３１は、基端部で一対の揺動アーム８の回動軸７と同軸上に回転可能に軸支される回転アーム３２と、回転アーム３２を回転、作動させるアクチュエータ３３とで構成されている。回転アーム３２の先端部にはバックライト５が固定され、揺動アーム８の退避位置Ｂの下方である退避位置Ｄから照射位置Ｃまで揺動アーム８と異なって回転することが可能である。また、アクチュエータ３３は、一端３３ａが回転アーム３２にピン結合され、他端３３ｂが壁体などの固定部にピン結合されていて、この状態で伸縮することで、回転アーム１７を回転させることを可能としている。さらに、アクチュエータ３３は、駆動部３４と接続されていて、駆動部３４が稼動することによって、駆動することが可能となっている。   As shown in FIG. 3, in the substrate inspection apparatus 30 of this embodiment, the moving means 31 for moving the backlight 5 can be rotated coaxially with the rotation shaft 7 of the pair of swing arms 8 at the base end portion. The rotary arm 32 is pivotally supported, and an actuator 33 that rotates and operates the rotary arm 32. The backlight 5 is fixed to the tip of the rotating arm 32 and can rotate differently from the swing arm 8 from the retracted position D below the retracted position B of the swing arm 8 to the irradiation position C. Further, the actuator 33 has one end 33a pin-coupled to the rotary arm 32 and the other end 33b pin-coupled to a fixed part such as a wall body. The actuator 33 expands and contracts in this state to rotate the rotary arm 17. It is possible. Furthermore, the actuator 33 is connected to the drive unit 34 and can be driven when the drive unit 34 operates.

この実施形態の基板検査装置３０においても、被検査基板Ｗを図示しない搬送ロボットから受け取り、揺動アーム８が検査位置Ａまで回動するまでの間、バックライト５は揺動アーム８の回動範囲Ｐの外である退避位置Ｄに位置するので支障とならない。また、落射照明による外観検査時には、検査者Ｍの観察視野Ｍ１の外に位置するので、バックライト５で反射した反射光が検査者Ｍに到達し、検査の支障となることはない。そして、回動範囲Ｐの下方の少ないスペースでバックライト５が退避位置Ｄから照射位置Ｃまで移動可能であり、第１の実施形態と同様、効率的である。また、この実施形態の基板検査装置３０では、移動手段３１の回転アーム３２と一対の揺動アーム８とが同軸上に軸支されている。このため、被検査基板Ｗが揺動アーム８によってどのような角度に設定されていたとしても、回転アーム３２によってバックライト５を被検査基板Ｗの背面Ｗ２に接近させて、背面照射による外観検査を行うことができる。   Also in the substrate inspection apparatus 30 of this embodiment, the backlight 5 is rotated until the substrate W to be inspected is received from a transfer robot (not shown) and the swing arm 8 is rotated to the inspection position A. Since it is located at the retracted position D that is outside the range P, there is no problem. Further, at the time of the appearance inspection by the epi-illumination, since it is located outside the observation field M1 of the inspector M, the reflected light reflected by the backlight 5 reaches the inspector M and does not hinder the inspection. The backlight 5 can be moved from the retracted position D to the irradiation position C in a small space below the rotation range P, which is efficient as in the first embodiment. Moreover, in the board | substrate inspection apparatus 30 of this embodiment, the rotation arm 32 of the moving means 31 and the pair of swing arms 8 are supported on the same axis. For this reason, no matter what angle the substrate to be inspected W is set by the swing arm 8, the backlight 5 is brought close to the back surface W2 of the substrate W to be inspected by the rotating arm 32, and the appearance inspection is performed by backside illumination. It can be performed.

（第３の実施形態）
図４は、この発明に係る第３の実施形態を示していて、基板検査装置の拡大した側面図を示している。この実施形態において、前述した実施形態で用いた部材と共通の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。 (Third embodiment)
FIG. 4 shows a third embodiment according to the present invention, and shows an enlarged side view of the substrate inspection apparatus. In this embodiment, members that are the same as those used in the above-described embodiment are assigned the same reference numerals, and descriptions thereof are omitted.

図４に示すように、この実施形態の基板検査装置４０において、バックライト５を移動させる移動手段４１は、基端部で揺動アーム８の回動範囲Ｐの上方に回転可能に軸支される回転アーム４２と、回転アーム４２を回転させるモータ４３とで構成されている。バックライト５は、回転アーム４２の先端部に固定され、照射位置Ｃに位置する時に被検査基板Ｗと平行となるように設定されている。また、回転アーム４２はバックライト５を回動範囲Ｐの外であり、かつ検査者Ｍの観察視野Ｍ１の外である退避位置Ｄまで移動させることが可能である。   As shown in FIG. 4, in the substrate inspection apparatus 40 of this embodiment, the moving means 41 for moving the backlight 5 is pivotally supported at the base end portion so as to be rotatable above the rotation range P of the swing arm 8. A rotating arm 42 and a motor 43 that rotates the rotating arm 42. The backlight 5 is fixed to the tip of the rotary arm 42 and is set to be parallel to the substrate to be inspected W when it is located at the irradiation position C. Further, the rotary arm 42 can move the backlight 5 to the retracted position D that is outside the rotation range P and outside the observation field M1 of the inspector M.

この実施形態の基板検査装置４０においても、被検査基板Ｗを図示しない搬送ロボットから受け取り、揺動アーム８が検査位置Ａまで回動するまでの間、バックライト５は揺動アーム８の回動範囲Ｐの外である退避位置Ｄに位置するので支障とならない。また、落射照明による外観検査時には、検査者Ｍの観察視野Ｍ１の外に位置するので、バックライト５で反射した反射光が検査者Ｍに到達し、検査の支障となることはない。そして、回動範囲Ｐの下方の少ないスペースでバックライト５が退避位置Ｄから照射位置Ｃまで移動可能であり、第１の実施形態と同様、効率的である。   Also in the substrate inspection apparatus 40 of this embodiment, the backlight 5 is rotated until the substrate W to be inspected is received from a transfer robot (not shown) and the swing arm 8 is rotated to the inspection position A. Since it is located at the retracted position D that is outside the range P, there is no problem. Further, at the time of the appearance inspection by the epi-illumination, since it is located outside the observation field M1 of the inspector M, the reflected light reflected by the backlight 5 reaches the inspector M and does not hinder the inspection. The backlight 5 can be moved from the retracted position D to the irradiation position C in a small space below the rotation range P, which is efficient as in the first embodiment.

なお、移動手段４１の回転アーム４２は回動範囲Ｐの上方に回転可能に軸支されていとしたが、これに限ること無く、回動範囲Ｐの下方に軸支されて、退避位置Ｄを回動範囲Ｐの下方としても同様の効果を得ることができる。   Although the rotary arm 42 of the moving means 41 is pivotally supported above the rotation range P, the rotation arm 42 is not limited to this and is pivotally supported below the rotation range P so that the retreat position D is set. The same effect can be obtained even below the rotation range P.

（第４の実施形態）
図５は、この発明に係る第４の実施形態を示していて、基板検査装置の拡大した側面図を示している。この実施形態において、前述した実施形態で用いた部材と共通の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。 (Fourth embodiment)
FIG. 5 shows a fourth embodiment according to the present invention, and shows an enlarged side view of the substrate inspection apparatus. In this embodiment, members that are the same as those used in the above-described embodiment are assigned the same reference numerals, and descriptions thereof are omitted.

図５に示すように、この実施形態の基板検査装置５０において、バックライト５を移動させる移動手段５１は、揺動アーム８の回動範囲Ｐの上方に位置し、検査位置Ａにおける揺動アーム８と略平行となるように設けられるガイド５２と、ガイド５２に嵌合し、ガイド５２の軸方向に移動可能であるスライダ５３とでスライダ機構が構成されている。バックライト５は、スライダ５３の先端部に固定され、スライダ５３によって、検査位置Ａにおける被検査基板Ｗの背面Ｗ２に接近する照射位置Ｃから揺動アーム８の回動範囲Ｐの外である退避位置Ｄまで直線移動することが可能である。   As shown in FIG. 5, in the substrate inspection apparatus 50 of this embodiment, the moving means 51 for moving the backlight 5 is located above the rotation range P of the swing arm 8 and the swing arm at the inspection position A. A slider mechanism is configured by a guide 52 provided so as to be substantially parallel to the slider 8 and a slider 53 that is fitted to the guide 52 and is movable in the axial direction of the guide 52. The backlight 5 is fixed to the tip end of the slider 53, and the slider 53 retracts outside the rotation range P of the swing arm 8 from the irradiation position C approaching the back surface W2 of the substrate W to be inspected at the inspection position A. It is possible to move straight to position D.

この実施形態の基板検査装置５０においても、被検査基板Ｗを図示しない搬送ロボットから受け取り、揺動アーム８が検査位置Ａまで回動するまでの間、バックライト５は揺動アーム８の回動範囲Ｐの外である退避位置Ｄに位置するので支障とならない。また、落射照明による外観検査時には、検査者Ｍの観察視野Ｍ１の外に位置するので、バックライト５で反射した反射光が検査者Ｍに到達し、検査の支障となることはない。そして、回動範囲Ｐの上方の少ないスペースでバックライト５が退避位置Ｄから照射位置Ｃまで移動可能であり、第１の実施形態と同様、効率的である。   Also in the substrate inspection apparatus 50 of this embodiment, the backlight 5 rotates the swing arm 8 until the substrate W to be inspected is received from a transfer robot (not shown) and the swing arm 8 rotates to the inspection position A. Since it is located at the retracted position D that is outside the range P, there is no problem. Further, at the time of the appearance inspection by the epi-illumination, since it is located outside the observation field M1 of the inspector M, the reflected light reflected by the backlight 5 reaches the inspector M and does not hinder the inspection. The backlight 5 can be moved from the retracted position D to the irradiation position C in a small space above the rotation range P, which is efficient as in the first embodiment.

なお、移動手段５１のスライダ５３は照射位置Ｃから揺動アーム８の回動範囲Ｐの上方の退避位置Ｄまで移動可能であるとしたが、これに限ることは無い。ガイド５２を回動範囲Ｐの下方に設けて、照射位置Ｃから揺動アーム８の回動範囲Ｐの下方に移動可能な構成としても良い。   Although the slider 53 of the moving means 51 is movable from the irradiation position C to the retreat position D above the rotation range P of the swing arm 8, it is not limited to this. The guide 52 may be provided below the rotation range P so as to be movable from the irradiation position C to below the rotation range P of the swing arm 8.

以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was explained in full detail with reference to drawings, the concrete structure is not restricted to this embodiment, The design change etc. of the range which does not deviate from the summary of this invention are included.

なお、センサ２５は、バックライト５ではなく、一対の揺動アーム８に取り付けられる構成としても良い。また、揺動機構３は、ホルダガイド部９上で基板ホルダ１１によってホルダガイド部９の軸方向に移動可能としたが、さらに、ホルダガイド部９に軸支されることで回転可能としても良い。このような構成とすることで、被検査基板Ｗを１８０度回転させて、背面Ｗ２についても同様の外観検査を行うことができるようになる。   The sensor 25 may be attached to the pair of swing arms 8 instead of the backlight 5. Further, although the swing mechanism 3 is movable on the holder guide portion 9 in the axial direction of the holder guide portion 9 by the substrate holder 11, the swing mechanism 3 may be rotatable by being pivotally supported by the holder guide portion 9. . With such a configuration, the same appearance inspection can be performed on the back surface W2 by rotating the inspected substrate W by 180 degrees.

この発明の第１の実施形態の基板検査装置の全体図である。1 is an overall view of a substrate inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention. この発明の第１の実施形態の基板検査装置の拡大した側面図である。It is the side view to which the board | substrate inspection apparatus of 1st Embodiment of this invention was expanded. この発明の第２の実施形態の基板検査装置の拡大した側面図である。It is the side view to which the board | substrate inspection apparatus of 2nd Embodiment of this invention was expanded. この発明の第３の実施形態の基板検査装置の拡大した側面図である。It is the side view to which the board | substrate inspection apparatus of 3rd Embodiment of this invention was expanded. この発明の第４の実施形態の基板検査装置の拡大した側面図である。It is the side view to which the board | substrate inspection apparatus of 4th Embodiment of this invention was expanded.

符号の説明Explanation of symbols

１、３０、４０、５０ 基板検査装置
３ 揺動機構
５ バックライト
６、３１、４１、５１ 移動手段
７ 回動軸（回動中心）
１６ 支持部材
１７、３２、４２ 回転アーム
１９、２０ リンクレバー
１９ａ、２０ａ 一端
１９ｂ、２０ｂ 他端
２１ 固定板（固定部材）
５２ ガイド（スライダ機構）
５３ スライダ（スライダ機構）
Ａ 検査位置
Ｂ 退避位置
Ｃ 照射位置
Ｄ 退避位置
Ｍ１ 観察視野
Ｐ 回動範囲
Ｗ 被検査基板
Ｗ１ 正面
Ｗ２ 背面 1, 30, 40, 50 Substrate inspection device 3 Oscillating mechanism 5 Backlight 6, 31, 41, 51 Moving means 7 Rotating shaft (rotating center)
16 Support member 17, 32, 42 Rotating arm 19, 20 Link lever 19a, 20a One end 19b, 20b The other end 21 Fixing plate (fixing member)
52 Guide (Slider mechanism)
53 Slider (Slider mechanism)
A Inspection position B Retraction position C Irradiation position D Retraction position M1 Viewing field P Rotation range W Board to be inspected W1 Front W2 Back

Claims (10)

被検査基板を保持し、検査時は前記被検査基板を検査位置まで移動させ、非検査時には退避位置まで移動させることが可能である揺動機構と、前記被検査基板の観察する正面側とは反対の背面側に位置し、前記被検査基板を照射するバックライトとを備え、該バックライトの背面透過照明によって前記被検査基板の外観検査を行うことが可能な基板検査装置であって、
前記バックライトを移動可能な移動手段を備え、該移動手段は、背面透過照明による観察時においては、前記揺動機構によって所定の角度に設定された前記被検査基板の背面側に前記バックライトを接近させるとともに、正面側からの落射照明による観察時及び前記揺動機構の回動時においては、前記揺動機構の回動範囲外に前記バックライトを移動させることを特徴とする基板検査装置。 The swing mechanism that holds the substrate to be inspected, can move the substrate to be inspected to the inspection position during inspection, and can move to the retracted position in the case of non-inspection, and the front side to be observed of the substrate to be inspected A substrate inspection apparatus that is located on the opposite back side and includes a backlight that irradiates the substrate to be inspected, and is capable of performing an appearance inspection of the substrate to be inspected by a back surface transmission illumination of the backlight,
The moving means includes a moving means capable of moving the backlight, and the moving means places the backlight on the back side of the substrate to be inspected set at a predetermined angle by the swing mechanism during observation with back-surface transmitted illumination. A substrate inspection apparatus, wherein the backlight is moved outside the rotation range of the swing mechanism during observation by epi-illumination from the front side and rotation of the swing mechanism. 請求項１に記載の基板検査装置において、
前記移動手段は、正面側からの落射照明による観察時において、さらに、前記被検査基板を観察する観察視野外に前記バックライトを移動させることを特徴とする基板検査装置。 The board inspection apparatus according to claim 1,
The moving means further moves the backlight outside an observation field for observing the substrate to be inspected during observation by epi-illumination from the front side. 請求項１に記載の基板検査装置において、
前記移動手段は、正面側からの落射照明による観察時において、さらに、前記バックライトを側方視鉛直方向に対して傾斜させることを特徴とする基板検査装置。 The board inspection apparatus according to claim 1,
The substrate inspection apparatus, wherein the moving means further tilts the backlight with respect to a vertical direction in a side view during observation by epi-illumination from the front side. 請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板検査装置において、
前記移動手段は、前記揺動機構の前記回動範囲上方に回転可能に軸支された回転アームを備え、前記バックライトは前記回転アームに設けられ、前記回動範囲上方に回転移動可能であることを特徴とする基板検査装置。 In the board | substrate inspection apparatus in any one of Claims 1-3,
The moving means includes a rotating arm that is rotatably supported above the rotation range of the swing mechanism, and the backlight is provided on the rotating arm and is rotatable and movable above the rotation range. A substrate inspection apparatus. 請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板検査装置において、
前記移動手段は、前記揺動機構の前記回動範囲下方に回転可能に軸支された回転アームを備え、前記バックライトは前記回転アームに設けられ、前記回動範囲下方に回転移動可能であることを特徴とする基板検査装置。 In the board | substrate inspection apparatus in any one of Claims 1-3,
The moving means includes a rotating arm that is rotatably supported below the swinging range of the swing mechanism, and the backlight is provided on the rotating arm and is rotatable and movable below the rotating range. A substrate inspection apparatus. 請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板検査装置において、
前記移動手段は、前記揺動機構の回動中心と同軸上に回転可能に軸支された回転アームを備え、前記バックライトは前記回転アームに設けられ、前記被検査基板の背面側後方に回転移動可能であることを特徴とする基板検査装置。 In the board | substrate inspection apparatus in any one of Claims 1-3,
The moving means includes a rotating arm that is rotatably supported coaxially with the rotation center of the swing mechanism, and the backlight is provided on the rotating arm and rotates rearwardly on the back side of the substrate to be inspected. A substrate inspection apparatus characterized by being movable. 請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板検査装置において、
前記移動手段は、前記揺動機構の前記回動範囲上方に設けられたスライド機構を備え、前記バックライトは前記スライド機構に設けられ、前記回動範囲上方に平行移動可能であることを特徴とする基板検査装置。 In the board | substrate inspection apparatus in any one of Claims 1-3,
The moving means includes a slide mechanism provided above the rotation range of the swing mechanism, and the backlight is provided on the slide mechanism and is movable in parallel above the rotation range. Substrate inspection device. 請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板検査装置において、
前記移動手段は、前記揺動機構の前記回動範囲下方に設けられたスライド機構を備え、前記バックライトは前記スライド機構に設けられ、前記回動範囲下方に平行移動可能であることを特徴とする基板検査装置。 In the board | substrate inspection apparatus in any one of Claims 1-3,
The moving means includes a slide mechanism provided below the rotation range of the swing mechanism, and the backlight is provided on the slide mechanism and is movable in parallel below the rotation range. Substrate inspection device. 請求項４から請求項６のいずれかに記載の基板検査装置において、
前記移動手段の前記回転アームは２本のリンクレバーで構成され、該リンクレバーの各々は、一端が前記揺動機構の回動範囲外の異なる位置で回転可能に軸支され、他端が固定部材の異なる位置に回転可能に取り付けられることでクランクリンク機構を構成するとともに、前記バックライトは前記固定部材に固定されることを特徴とする基板検査装置。 In the board | substrate inspection apparatus in any one of Claims 4-6,
The rotating arm of the moving means is composed of two link levers, and each of the link levers is rotatably supported at one end at a different position outside the rotation range of the swing mechanism and the other end is fixed. A substrate inspection apparatus, wherein a crank link mechanism is configured by being rotatably attached to different positions of members, and the backlight is fixed to the fixing member. 請求項９に記載の基板検査装置において、
前記回転アームを構成する２本の前記リンクレバーは、異なる長さに設定されていることを特徴とする基板検査装置。 The board inspection apparatus according to claim 9, wherein
The substrate inspection apparatus, wherein the two link levers constituting the rotating arm are set to different lengths.
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