JP2007091973A - Polyacetal resin composition and molded article - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide stable polyacetal resin composition that can control the amount of generated formaldehyde to an extremely low level and also causes no adverse effect on other resin molded articles existing together in a tightly closed space. <P>SOLUTION: The polyacetal resin composition includes (B) 0.01 to 5.0 pts.wt. of a carboxylic acid hydrazide based on (A) 100 pts.wt. of a polyacetal resin, wherein (B) the carboxylic acid hydrazide generates less than 10 ppm of hydrazine according to the head space GC/MS method by heating at 200°C for 10 minutes. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ホルムアルデヒドの発生量を極めて低レベルに抑制し、密閉空間において他樹脂成形品に悪影響を及ぼさない安定なポリアセタール樹脂組成物、及びその樹脂組成物で成形された成形品に関する。   The present invention relates to a stable polyacetal resin composition that suppresses the amount of formaldehyde generated to an extremely low level and does not adversely affect other resin molded articles in a sealed space, and a molded article molded from the resin composition.

ポリアセタール樹脂は、機械的性質、耐疲労性、耐摩擦・摩耗性、耐薬品性及び成形性に優れているため、自動車部品、電気・電子機器部品、建材・配管部材、生活・化粧用部品、医用部品などの分野において広く利用されている。しかしながら、その用途の拡大及び多様化、高度化に伴って、より熱安定性に優れ、ホルムアルデヒド発生量の極めて少ない高品質のポリアセタール樹脂が求められている。   Polyacetal resin is excellent in mechanical properties, fatigue resistance, friction and wear resistance, chemical resistance and moldability, so it can be used for automobile parts, electrical / electronic equipment parts, building materials / piping members, life / cosmetic parts, Widely used in fields such as medical parts. However, with the expansion, diversification, and sophistication of its use, there is a demand for a high-quality polyacetal resin that is more excellent in thermal stability and has an extremely small amount of formaldehyde generated.

特許文献1には、ポリアセタールコポリマーと特定のカルボン酸ヒドラジド化合物(炭素数3〜10の脂肪族ジカルボン酸ジヒドラジド、芳香族ジカルボン酸ジヒドラジド、脂環族ジカルボン酸ジヒドラジドなど)とを含む組成物が開示されている。これらのカルボン酸ヒドラジド化合物を用いると、ある程度は熱安定性が向上し、ホルムアルデヒドの発生を抑制できる。   Patent Document 1 discloses a composition comprising a polyacetal copolymer and a specific carboxylic acid hydrazide compound (such as an aliphatic dicarboxylic acid dihydrazide having 3 to 10 carbon atoms, an aromatic dicarboxylic acid dihydrazide, or an alicyclic dicarboxylic acid dihydrazide). ing. When these carboxylic acid hydrazide compounds are used, thermal stability is improved to some extent, and generation of formaldehyde can be suppressed.

しかしながら、これらのカルボン酸ヒドラジド化合物を用いてもなお、その効果は十分とは言い難い。また、かかるカルボン酸ヒドラジド化合物を配合したポリアセタール樹脂組成物からなる成形品を他の樹脂成形品と共存させた場合、他の樹脂成形品の特性に好ましくない影響を及ぼす場合がある。例えば、かかるポリアセタール樹脂組成物からなる成形品をポリカーボネート樹脂成形品と共に非接触の状態で高温多湿(例えば温度120℃、飽和湿度)の密閉空間に保存したとき、比較的短時間でポリカーボネート樹脂成形品を腐食させる場合がある。
米国特許3152101号公報(第1欄及び第3欄)
However, even if these carboxylic acid hydrazide compounds are used, the effect is not sufficient. In addition, when a molded product made of a polyacetal resin composition containing such a carboxylic acid hydrazide compound is allowed to coexist with another resin molded product, it may adversely affect the characteristics of the other resin molded product. For example, when a molded article made of such a polyacetal resin composition is stored in a high-temperature and high-humidity (eg, 120 ° C., saturated humidity) sealed space in a non-contact state together with a polycarbonate resin molded article, the polycarbonate resin molded article can be obtained in a relatively short time. May corrode.
US Pat. No. 3,152,101 (columns 1 and 3)

本発明の目的は、ホルムアルデヒドの発生量を極めて低レベルに抑制するとともに、密閉空間においても共存する他樹脂成形品に悪影響を及ぼさない、安定なポリアセタール樹脂組成物、及びその樹脂組成物で成形された成形品を提供することにある。   An object of the present invention is to form a stable polyacetal resin composition that suppresses the amount of formaldehyde generated to an extremely low level and does not adversely affect other resin molded products that coexist in a sealed space, and the resin composition. Is to provide a molded product.

本発明者は、前記課題を解決するため、ポリアセタール樹脂の安定剤に関して一連のカルボン酸ヒドラジド化合物の探索検討を行なった結果、特定のカルボン酸ヒドラジド化合物がポリアセタール樹脂組成物の成形品から発生するホルムアルデヒドを極めて低レベルに抑制できるとともに、密閉空間において他樹脂成形品に悪影響を及ぼさないことを見出し、本発明を完成した。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor conducted a search for a series of carboxylic acid hydrazide compounds with respect to a stabilizer for polyacetal resin. Was found to be able to be suppressed to an extremely low level, and other resin molded products were not adversely affected in the sealed space, and the present invention was completed.

すなわち、本発明は、(A)ポリアセタール樹脂100重量部に対して(B)カルボン酸ヒドラジド化合物0.01〜5.0重量部を含んでなり、該カルボン酸ヒドラジド化合物(B)は200℃で10分間の加熱によるヘッドスペースGC/MS法においてヒドラジンの発生量が10ppm以下であることを特徴とするポリアセタール樹脂組成物に関するものである。   That is, the present invention comprises 0.01 to 5.0 parts by weight of (B) carboxylic acid hydrazide compound with respect to 100 parts by weight of (A) polyacetal resin, and the carboxylic acid hydrazide compound (B) is heated at 200 ° C. for 10 minutes. Relates to a polyacetal resin composition characterized in that the amount of hydrazine generated is 10 ppm or less in the headspace GC / MS method.

本発明では、ポリアセタール樹脂に特定のカルボン酸ヒドラジド化合物を添加するので、ポリアセタール樹脂組成物の成形品から発生するホルムアルデヒドを極めて低レベルに抑制することができる。さらに、該ポリアセタール樹脂組成物の成形品は、密閉空間においても、共存する他樹脂成形品に悪影響を及ぼさないので、安定性、信頼性を向上させることができる。また、本発明の効果は他の添加物の存在によっても損なわれることのない特異的なものであり、他の添加剤(耐候(光)安定剤、耐衝撃性改良剤、摺動性改良剤、光沢性制御剤、充填剤、着色剤など)を添加することにより、ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品からのホルムアルデヒドの発生量を極めて低レベルに抑制することができるとともに、各添加剤に応じた諸特性(長期安定性、耐熱性、加工特性、耐候(光)性、耐衝撃性、摺動性など)が改善されたポリアセタール樹脂組成物及び成形品を提供することもできる。   In the present invention, since the specific carboxylic acid hydrazide compound is added to the polyacetal resin, formaldehyde generated from the molded product of the polyacetal resin composition can be suppressed to an extremely low level. Furthermore, since the molded product of the polyacetal resin composition does not adversely affect other coexisting resin molded products even in a sealed space, stability and reliability can be improved. The effects of the present invention are specific without being impaired by the presence of other additives, and other additives (weather resistance (light) stabilizer, impact resistance improver, slidability improver) , Gloss control agents, fillers, colorants, etc.), the amount of formaldehyde generated from the polyacetal resin composition and its molded product can be suppressed to an extremely low level, and depending on each additive It is also possible to provide a polyacetal resin composition and a molded article having improved various properties (long-term stability, heat resistance, processing characteristics, weather resistance (light) resistance, impact resistance, slidability, etc.).

本発明のポリアセタール樹脂組成物は、ポリアセタール樹脂(A)に対し特定のカルボン酸ヒドラジド化合物(B)を含んで構成されており、本発明の成形品は前記ポリアセタール樹脂組成物を成形することにより得られる。以下に詳細な説明を行う。   The polyacetal resin composition of the present invention comprises a specific carboxylic acid hydrazide compound (B) with respect to the polyacetal resin (A), and the molded product of the present invention is obtained by molding the polyacetal resin composition. It is done. Detailed description will be given below.

本発明に用いられるポリアセタール樹脂(A)は、オキシメチレン基(−CH2O−)を主たる構成単位とする高分子化合物であり、ポリアセタールホモポリマー、オキシメチレン基以外に他の構成単位を含有するポリアセタールコポリマーなどが挙げられる。また、分岐構造や架橋構造を有するもの、ブロック構造やグラフト構造を有するものなど、従来公知のポリアセタール樹脂が全て対象となる。 The polyacetal resin (A) used in the present invention is a polymer compound having an oxymethylene group (—CH 2 O—) as a main structural unit, and contains other structural units in addition to the polyacetal homopolymer and the oxymethylene group. Examples include polyacetal copolymers. In addition, all conventionally known polyacetal resins such as those having a branched structure or a crosslinked structure, those having a block structure or a graft structure, and the like are targeted.

一般に、ポリアセタールホモポリマーは、無水ホルムアルデヒドの重合、もしくはホルムアルデヒドの環状三量体であるトリオキサンの重合により製造される。通常、末端キャップにより、熱分解に対して安定化されている。   In general, polyacetal homopolymer is produced by polymerization of anhydrous formaldehyde or trioxane, which is a cyclic trimer of formaldehyde. Usually stabilized against thermal degradation by end caps.

また、ポリアセタールコポリマーは、一般的にはホルムアルデヒドまたはホルムアルデヒドの環状オリゴマーを主モノマーとし、環状エーテルや環状ホルマールから選ばれた化合物をコモノマーとして共重合することによって製造され、通常、加水分解によって末端の不安定部分を除去して熱分解に対して安定化される。主モノマーとしてはホルムアルデヒドの環状三量体であるトリオキサンを用いるのが一般的である。トリオキサンは、一般的に、酸性触媒の存在下でホルムアルデヒド水溶液を反応させた後、蒸留などの方法で精製して得られる。重合に用いるトリオキサンは、水、メタノール、蟻酸などの不純物を実質的に含まないのが好ましい。   Polyacetal copolymers are generally produced by copolymerizing formaldehyde or formaldehyde cyclic oligomers as main monomers and compounds selected from cyclic ethers or cyclic formals as comonomers. It is stabilized against thermal decomposition by removing the stable part. As the main monomer, trioxane which is a cyclic trimer of formaldehyde is generally used. Trioxane is generally obtained by reacting an aqueous formaldehyde solution in the presence of an acidic catalyst and then purifying it by a method such as distillation. The trioxane used for the polymerization preferably does not substantially contain impurities such as water, methanol and formic acid.

また、コモノマーである環状エーテル及び環状ホルマールとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、シクロヘキセンオキサイド、オキセタン、テトラヒドロフラン、トリオキセパン、1,3−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、プロピレングリコールホルマール、ジエチレングリコールホルマール、トリエチレングリコールホルマール、1,4−ブタンジオールホルマール、1,6−ヘキサンジオールホルマールなどが挙げられる。   Examples of the cyclic ether and cyclic formal as comonomer include ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, cyclohexene oxide, oxetane, tetrahydrofuran, trioxepane, 1,3-dioxane, 1,3-dioxolane, propylene glycol formal, diethylene glycol formal, Examples include ethylene glycol formal, 1,4-butanediol formal, 1,6-hexanediol formal, and the like.

さらに、分岐構造や架橋構造を形成可能なコモノマー成分としては、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ナフチルグリシジルエーテルなどのアルキル又はアリールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテルなどのアルキレン又はポリアルキレングリコールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらのコモノマーは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
本発明においては、ホルムアルデヒドの発生をより低いレベルに抑制する観点から、特にポリアセタールコポリマーが好適に使用される。中でも、トリオキサン(a-1)と環状エーテル及び環状ホルマールから選ばれた化合物(a-2)の1種以上とを、前者(a-1)/後者(a-2)=99.9/0.1〜80.0/20.0の割合(重量比)で共重合させてなるものが好ましく、さらに好ましくは前者/後者=99.5/0.5〜90.0/10.0の割合(重量比)で共重合させてなるものである。
Further, comonomer components capable of forming a branched structure or a crosslinked structure include alkyl glycidyl ethers such as methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, and naphthyl glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, Examples include alkylene such as ethylene glycol diglycidyl ether and butanediol diglycidyl ether, and polyalkylene glycol diglycidyl ether. These comonomers can be used alone or in combination of two or more.
In the present invention, a polyacetal copolymer is particularly preferably used from the viewpoint of suppressing the generation of formaldehyde to a lower level. Among them, trioxane (a-1) and at least one compound (a-2) selected from cyclic ether and cyclic formal are represented by the former (a-1) / the latter (a-2) = 99.9 / 0. A copolymer obtained by copolymerization at a ratio (weight ratio) of 1 to 80.0 / 20.0 is preferable, and a ratio of the former / the latter = 99.5 / 0.5 to 90.0 / 10.0 is more preferable. (Weight ratio) is copolymerized.

また、環状エーテル及び環状ホルマールから選ばれる化合物としては、エチレンオキシド、1,3−ジオキソラン、1,4−ブタンジオールホルマール、ジエチレングリコールホルマールが特に好ましい。   Further, as the compound selected from cyclic ether and cyclic formal, ethylene oxide, 1,3-dioxolane, 1,4-butanediol formal, and diethylene glycol formal are particularly preferable.

上記の如きポリアセタールコポリマーは、一般には適量の分子量調整剤を添加し、カチオン重合触媒を用いてカチオン重合することにより得ることができる。使用される分子量調整剤、カチオン重合触媒、重合方法、重合装置、重合後の触媒の失活化処理、重合によって得られた粗ポリアセタールコポリマーの末端安定化処理法などは多くの文献によって公知であり、基本的にはそれらが何れも利用できる。   The polyacetal copolymer as described above can be generally obtained by cationic polymerization using a cationic polymerization catalyst with an appropriate amount of molecular weight regulator added. The molecular weight regulator used, cationic polymerization catalyst, polymerization method, polymerization apparatus, deactivation treatment of the catalyst after polymerization, terminal stabilization treatment method of the crude polyacetal copolymer obtained by polymerization are well known in many literatures. Basically, any of them can be used.

本発明で使用するポリアセタール樹脂の分子量は特に限定されないが、重量平均分子量が10,000〜400,000程度のものが好ましい。また、樹脂の流動性の指標となるメルトインデックス(ASTM−D1238に準じ、190℃、荷重2.16kgで測定)が0.1〜100g/10分であるものが好ましく、さらに好ましくは0.5〜80g/10分である。   The molecular weight of the polyacetal resin used in the present invention is not particularly limited, but those having a weight average molecular weight of about 10,000 to 400,000 are preferable. Further, it is preferable that the melt index (measured at 190 ° C. under a load of 2.16 kg according to ASTM-D1238) of 0.1 to 100 g / 10 minutes, which is an index of resin fluidity, is more preferably 0.5. ~ 80 g / 10 min.

次に、本発明で使用するカルボン酸ヒドラジド化合物(B)は、200℃で10分間のサンプル加熱によるヘッドスペースGC/MS法でヒドラジンの発生量が10ppm以下であるカルボン酸ヒドラジド化合物である。ヘッドスペースGC/MS法は、公知の分析装置、例えば、アジレント社製のヘッドスペースサンプラー7694、マスセレクティブディテクター5973を使用し、バイアル瓶中のサンプルを200℃で10分間加熱した後、発生ガス成分をGC/MS法にて検出して行う。検出側のオーブン温度は50℃で保持後、昇温速度10℃/minで昇温させGC/MS測定し、ヒドラジンに該当するピークの帰属を行う。なお、検出感度(S/N)において検出されない場合には、実質上ヒドラジンは発生しないと判定される。   Next, the carboxylic acid hydrazide compound (B) used in the present invention is a carboxylic acid hydrazide compound in which the amount of hydrazine generated is 10 ppm or less by a headspace GC / MS method by heating the sample at 200 ° C. for 10 minutes. The headspace GC / MS method uses a known analyzer, for example, Agilent headspace sampler 7694, mass selective detector 5973, and the sample in the vial is heated at 200 ° C. for 10 minutes, and then the generated gas components Is detected by GC / MS method. The oven temperature on the detection side is maintained at 50 ° C., then the temperature is increased at a rate of temperature increase of 10 ° C./min, GC / MS measurement is performed, and the peak corresponding to hydrazine is assigned. If no detection sensitivity (S / N) is detected, it is determined that hydrazine is substantially not generated.

本発明で使用するカルボン酸ヒドラジド化合物(B)は、ポリアセタール樹脂組成物の一般的な加工条件である200℃、10分における加熱で、カルボン酸ヒドラジド化合物の分解等により発生するヒドラジン量が10ppm以下である必要がある。カルボン酸ヒドラジド化合物の分解等により発生するヒドラジン量が10ppmより多い場合、カルボン酸ヒドラジド化合物を添加したポリアセタール樹脂の成形品中のヒドラジン及び/またはその反応成分がが密閉空間において他樹脂成形品に悪影響を及ぼすことがある。本発明で使用するカルボン酸ヒドラジド化合物(B)としては、実質的にヒドラジンを発生しないものが特に好ましい。   The carboxylic acid hydrazide compound (B) used in the present invention has a hydrazine amount of 10 ppm or less generated by decomposition of the carboxylic acid hydrazide compound when heated at 200 ° C. for 10 minutes, which is a general processing condition of the polyacetal resin composition. Need to be. If the amount of hydrazine generated due to decomposition of the carboxylic acid hydrazide compound is more than 10 ppm, hydrazine and / or its reaction components in the polyacetal resin molded product to which the carboxylic acid hydrazide compound is added may adversely affect other resin molded products May affect. As the carboxylic acid hydrazide compound (B) used in the present invention, those which do not substantially generate hydrazine are particularly preferable.

また、本発明で使用するカルボン酸ヒドラジド化合物を得るためには、例えば、(1)カルボン酸のエステル(アルキルエステルなど)と、ヒドラジン(ヒドラジン水化物を含む)とを加熱する方法、(2)カルボン酸のハライド(クロライドなど)と、ヒドラジンとを反応させる方法、(3)カルボン酸塩とヒドラジンとを加熱する方法、(4)カルボン酸に対応する酸アミドとヒドラジンとを加熱する方法、及び、(5)カルボン酸のウレイドと次亜ハロゲン酸塩とを反応させる方法などにより製造でき、この時、生成するカルボン酸ヒドラジド化合物におけるヒドラジンの含有量が100ppm以下、特に10ppm以下になるように精製することが好ましい。   In order to obtain the carboxylic acid hydrazide compound used in the present invention, for example, (1) a method of heating an ester of a carboxylic acid (such as an alkyl ester) and hydrazine (including hydrazine hydrate), (2) A method of reacting a carboxylic acid halide (such as chloride) with hydrazine, (3) a method of heating carboxylic acid salt and hydrazine, (4) a method of heating acid amide and hydrazine corresponding to carboxylic acid, and (5) It can be produced by a method of reacting ureido of carboxylic acid with hypohalite, etc. At this time, it is purified so that the hydrazine content in the carboxylic acid hydrazide compound to be produced is 100 ppm or less, particularly 10 ppm or less. It is preferable to do.

なお、化合物中におけるヒドラジンの含有量の定量は、化合物を直接使用、或いは、化合物の抽出物を使用して、NMR法、クロマト法など、従来公知の方法を適用することが可能である。   The hydrazine content in the compound can be quantified by using a known method such as NMR or chromatography using the compound directly or using an extract of the compound.

200℃、10分における加熱で、カルボン酸ヒドラジド化合物の分解によるヒドラジンを実質的に遊離させ難い具体的な化学構造としては、下記式(1)で表わされる化学構造を有するカルボン酸ヒドラジド化合物が好ましい。   As a specific chemical structure that hardly releases hydrazine by decomposition of the carboxylic acid hydrazide compound by heating at 200 ° C. for 10 minutes, a carboxylic acid hydrazide compound having a chemical structure represented by the following formula (1) is preferable. .

Figure 2007091973
Figure 2007091973

[式中、Xは芳香族環を示し、R1は炭素数1〜30の炭化水素基を示し、R2は水素原子、または炭素数1〜30のアルキル基もしくはアシル基を示す。aは0〜4の整数を示し、bは0〜4の整数を示す。]
前記式(1)において、Xで表される芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環などの芳香族環の他に、ビスアリール類[ビフェニル、ビスアリールアルカン(ジフェニルメタン、2,2−ジフェニルプロパンなど)]などが挙げられる。前記芳香族環Xとしては、特に、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。
[Wherein, X represents an aromatic ring, R 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and R 2 represents a hydrogen atom, or an alkyl group or acyl group having 1 to 30 carbon atoms. a represents an integer of 0 to 4, and b represents an integer of 0 to 4. ]
In the formula (1), examples of the aromatic ring represented by X include bisaryl [biphenyl, bisarylalkane (diphenylmethane, 2), in addition to aromatic rings such as a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, and phenanthrene ring. , 2-diphenylpropane etc.)] and the like. As the aromatic ring X, a benzene ring and a naphthalene ring are particularly preferable.

式(1)においてR1は炭素数1〜30の炭化水素基を示し、前記芳香族環Xの環を構成する炭素原子に結合する置換基である。R1で表わされる炭化水素基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基などの直鎖または分岐状アルキル基)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基など)、及びアリール基(フェニル基、ナフチル基など)などが挙げられる。 In the formula (1), R 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms and is a substituent bonded to the carbon atom constituting the ring of the aromatic ring X. Examples of the hydrocarbon group represented by R 1 include an alkyl group (a linear or branched alkyl group such as methyl group, ethyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group), cyclo Examples thereof include an alkyl group (such as a cyclohexyl group) and an aryl group (such as a phenyl group and a naphthyl group).

式(1)において芳香族環Xに結合するR1の個数aは、前記芳香族環Xの員数に応じて選択でき、例えば、0〜6の整数、好ましくは0〜4の整数、さらに好ましくは0〜3の整数である。例えば、芳香族環Xがベンゼン環である場合、aは0〜3の整数、特に0〜2の整数が好ましい。また、芳香族環Xがナフタレン環である場合、aは0〜4の整数、特に0〜2の整数が好ましい。なお、aが2以上の場合、R1は各々同一でも異なっていてもよい。 The number a of R 1 bonded to the aromatic ring X in the formula (1) can be selected according to the number of the aromatic ring X, and is, for example, an integer of 0 to 6, preferably an integer of 0 to 4, more preferably Is an integer from 0 to 3. For example, when the aromatic ring X is a benzene ring, a is preferably an integer of 0 to 3, particularly preferably an integer of 0 to 2. Further, when the aromatic ring X is a naphthalene ring, a is preferably an integer of 0 to 4, particularly preferably an integer of 0 to 2. When a is 2 or more, R 1 may be the same or different.

式(1)において基−OR2は、前記芳香族環Xの環を構成する炭素原子に結合する置換基である。基−OR2としては、R2が水素であるヒドロキシル基およびヒドロキシル基の誘導体基[メトキシ基などの炭素数1〜30のアルコキシ基(すなわち、R2はメチル基などのアルキル基)、アセチル基などの炭素数1〜30のアシル基など]が挙げられる。 In the formula (1), the group —OR 2 is a substituent bonded to the carbon atom constituting the ring of the aromatic ring X. The group —OR 2 includes a hydroxyl group in which R 2 is hydrogen and a derivative group of the hydroxyl group [an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms such as a methoxy group (that is, R 2 is an alkyl group such as a methyl group), an acetyl group Etc.], and the like.

式(1)において芳香族環Xに結合する基−OR2の数bは、前記芳香族環Xの員数に応じて、例えば、0〜4の整数、好ましくは0〜3の整数、さらに好ましくは0〜2の整数である。例えば、芳香族環Xがベンゼン環である場合、bは0〜3の整数、特に0〜2の整数が好ましい。また、芳香族環Xがナフタレン環である場合、bは0〜4の整数、特に0〜2の整数が好ましい。なお、bが2以上の場合、基−OR2は各々同一でも異なっていてもよい。 The number b of the group —OR 2 bonded to the aromatic ring X in the formula (1) is, for example, an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 3, more preferably, depending on the number of the aromatic ring X. Is an integer of 0-2. For example, when the aromatic ring X is a benzene ring, b is preferably an integer of 0 to 3, and particularly preferably an integer of 0 to 2. Moreover, when the aromatic ring X is a naphthalene ring, b is preferably an integer of 0 to 4, particularly preferably an integer of 0 to 2. When b is 2 or more, the groups -OR 2 may be the same or different.

本発明に用いるカルボン酸ヒドラジド化合物(B)において、中間原料として使用されるカルボン酸およびその誘導体の例としては、安息香酸、o−トルイル酸、m−トルイル酸、p−トルイル酸、2−エチル安息香酸、3−エチル安息香酸、4−エチル安息香酸、4−イソプロピル安息香酸、4−n−プロピル安息香酸、2,3,4,5−テトラメチル安息香酸、ペンタメチル安息香酸、2,3−ジメチル安息香酸、2,4−ジメチル安息香酸、2,5−ジメチル安息香酸、2,6−ジメチル安息香酸、3,4−ジメチル安息香酸、3,5−ジメチル安息香酸、2,3,4−トリメチル安息香酸、2,3,5−トリメチル安息香酸、2,3,6−トリメチル安息香酸、2,4,5−トリメチル安息香酸、2,4,6−トリメチル安息香酸、3,4,5−トリメチル安息香酸、2−ヒドロキシ安息香酸、3−ヒドロキシ安息香酸、4−ヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸、2,3,4−トリヒドロキシ安息香酸、2,4,5−トリヒドロキシ安息香酸、2,4,6−トリヒドロキシ安息香酸、3−メチルサリチル酸、4−メチルサリチル酸、5−メチルサリチル酸、3−ヒドロキシー2−メチル安息香酸、2−ヒドロキシー3,5−ジメチル安息香酸、3−ヒドロキシー4−イソプロピル安息香酸、2−ヒドロキシー3−イソプロピルー6―メチル安息香酸、4,6−ジヒドロキシー2−メチル安息香酸、2,6−ジヒドロキシー4−メチル安息香酸、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸、3ーメチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸、オリセリン酸、ジバール酸、オリベトールカルボン酸、スフェロホロルカルボン酸、メチルオリセリン酸、4−ヒドロキシオルセリン酸、6−ヒドロキシオルセリン酸、などの安息香酸系化合物、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸、2−メチルー1―ナフトエ酸、4−メチルー1―ナフトエ酸、5−メチルー1―ナフトエ酸、6−メチルー1―ナフトエ酸、7−メチルー1―ナフトエ酸、8−メチルー1―ナフトエ酸、1−メチルー2―ナフトエ酸、4−メチルー2―ナフトエ酸、5−メチルー2―ナフトエ酸、6−メチルー2―ナフトエ酸、8−メチルー2―ナフトエ酸、2−ヒドロキシー1−ナフトエ酸、4−ヒドロキシー1−ナフトエ酸、5−ヒドロキシー1−ナフトエ酸、7−ヒドロキシー1−ナフトエ酸、1−ヒドロキシー2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシー2−ナフトエ酸、6−ヒドロキシー2−ナフトエ酸、などのナフトエ酸系化合物、アントラセンー1−カルボン酸、アントラセンー2−カルボン酸、アントラセンー9−カルボン酸、2−メチルー1−アントラセンカルボン酸、4−メチルー1−アントラセンカルボン酸、4−フェニルー1−アントラセンカルボン酸、9−フェニルー1−アントラセンカルボン酸、10−フェニルー9−アントラセンカルボン酸、3−ベンジルー2−アントラセンカルボン酸、2−メチルー9−フェニルー1−アントラセンカルボン酸、3−メチルー9−フェニルー1−アントラセンカルボン酸、などのアントラセンカルボン酸系化合物、フェナントレン−1−カルボン酸、フェナントレン−2−カルボン酸、フェナントレン−3−カルボン酸、フェナントレン−9−カルボン酸、9,10−ジヒドロキシー9−フェナントレンカルボン酸、1−メチルー3−フェナントレンカルボン酸、5−メチルー9−フェナントレンカルボン酸、6−エチルー9−フェナントレンカルボン酸、6,8−ジメチルー9−フェナントレンカルボン酸、などのアントラセンカルボン酸系化合物、4’−ヒドロキシビフェニルー4−カルボン酸などのビスアリール系化合物などの、カルボン酸およびその誘導体が挙げられる。   In the carboxylic acid hydrazide compound (B) used in the present invention, examples of the carboxylic acid and its derivatives used as intermediate raw materials include benzoic acid, o-toluic acid, m-toluic acid, p-toluic acid, 2-ethyl. Benzoic acid, 3-ethylbenzoic acid, 4-ethylbenzoic acid, 4-isopropylbenzoic acid, 4-n-propylbenzoic acid, 2,3,4,5-tetramethylbenzoic acid, pentamethylbenzoic acid, 2,3- Dimethylbenzoic acid, 2,4-dimethylbenzoic acid, 2,5-dimethylbenzoic acid, 2,6-dimethylbenzoic acid, 3,4-dimethylbenzoic acid, 3,5-dimethylbenzoic acid, 2,3,4- Trimethylbenzoic acid, 2,3,5-trimethylbenzoic acid, 2,3,6-trimethylbenzoic acid, 2,4,5-trimethylbenzoic acid, 2,4,6-trimethylbenzoic acid, , 4,5-trimethylbenzoic acid, 2-hydroxybenzoic acid, 3-hydroxybenzoic acid, 4-hydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid 2,6-dihydroxybenzoic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, 3,4,5-trihydroxybenzoic acid, 2,3,4-trihydroxybenzoic acid, 2,4 , 5-trihydroxybenzoic acid, 2,4,6-trihydroxybenzoic acid, 3-methylsalicylic acid, 4-methylsalicylic acid, 5-methylsalicylic acid, 3-hydroxy-2-methylbenzoic acid, 2-hydroxy-3,5- Dimethylbenzoic acid, 3-hydroxy-4-isopropylbenzoic acid, 2-hydroxy-3-isopropyl-6-methylbenzoic acid 4,6-dihydroxy-2-methylbenzoic acid, 2,6-dihydroxy-4-methylbenzoic acid, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoic acid, 3-methyl-5-t-butyl-4 -Benzoic acid-based compounds such as hydroxybenzoic acid, oreseric acid, divaric acid, olivetol carboxylic acid, spheroholol carboxylic acid, methyloryselic acid, 4-hydroxyorceric acid, 6-hydroxyorceric acid, 1- Naphthoic acid, 2-naphthoic acid, 2-methyl-1-naphthoic acid, 4-methyl-1-naphthoic acid, 5-methyl-1-naphthoic acid, 6-methyl-1-naphthoic acid, 7-methyl-1-naphthoic acid, 8- Methyl-1-naphthoic acid, 1-methyl-2-naphthoic acid, 4-methyl-2-naphthoic acid, 5-methyl-2-naphthoic acid, 6-methyl-2-naphtho Ethic acid, 8-methyl-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 4-hydroxy-1-naphthoic acid, 5-hydroxy-1-naphthoic acid, 7-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid , Naphthoic acid compounds such as 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 6-hydroxy-2-naphthoic acid, anthracene-1-carboxylic acid, anthracene-2-carboxylic acid, anthracene-9-carboxylic acid, 2-methyl-1-anthracenecarboxylic acid 4-methyl-1-anthracenecarboxylic acid, 4-phenyl-1-anthracenecarboxylic acid, 9-phenyl-1-anthracenecarboxylic acid, 10-phenyl-9-anthracenecarboxylic acid, 3-benzyl-2-anthracenecarboxylic acid, 2-methyl-9 -Phenyl-1-anthracene Anthracene carboxylic acid compounds such as rubonic acid, 3-methyl-9-phenyl-1-anthracene carboxylic acid, phenanthrene-1-carboxylic acid, phenanthrene-2-carboxylic acid, phenanthrene-3-carboxylic acid, phenanthrene-9-carboxylic acid 9,10-dihydroxy-9-phenanthrenecarboxylic acid, 1-methyl-3-phenanthrenecarboxylic acid, 5-methyl-9-phenanthrenecarboxylic acid, 6-ethyl-9-phenanthrenecarboxylic acid, 6,8-dimethyl-9-phenanthrenecarboxylic acid Carboxylic acid and derivatives thereof, such as bisaryl compounds such as 4'-hydroxybiphenyl-4-carboxylic acid.

本発明で使用するカルボン酸ヒドラジド化合物(B)のうち、特に好ましい化学構造としては、前記式(1)において、芳香族環Xがナフタレン環であり、R1が直鎖または分岐状アルキル基であり、aが0〜2の整数であり、bが0〜2の整数である化合物が挙げられる。 Among the carboxylic acid hydrazide compounds (B) used in the present invention, as a particularly preferred chemical structure, in the formula (1), the aromatic ring X is a naphthalene ring, and R 1 is a linear or branched alkyl group. Yes, a is an integer of 0-2, and b is an integer of 0-2.

本発明のカルボン酸ヒドラジド化合物は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。これらのカルボン酸ヒドラジド化合物(B)の割合は、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.01〜5.0重量部であり、好ましくは0.02〜3.0重量部、さらに好ましくは0.03〜2.0重量部である。前記カルボン酸ヒドラジド化合物(B)の割合が、少なすぎるとホルムアルデヒド発生量を効果的に低減するのが困難であり、多すぎると成形性や機械的強度が低下する。   The carboxylic acid hydrazide compounds of the present invention can be used alone or in combination of two or more. The ratio of these carboxylic acid hydrazide compounds (B) is 0.01 to 5.0 parts by weight, preferably 0.02 to 3.0 parts by weight, and more preferably 0.8 to 100 parts by weight of the polyacetal resin. 03 to 2.0 parts by weight. If the proportion of the carboxylic acid hydrazide compound (B) is too small, it is difficult to effectively reduce the amount of formaldehyde generated, and if it is too large, the moldability and mechanical strength are lowered.

本発明のポリアセタール樹脂組成物は、このような特定のカルボン酸ヒドラジド化合物を用いることにより樹脂組成物及びその成形品からのホルムアルデヒド発生量を大幅に低減するとともに、該成形品は密閉空間においても他樹脂成形品に悪影響を及ぼさないので、ポリアセタール樹脂組成物の安定性・信頼性を向上させることができる。   The polyacetal resin composition of the present invention significantly reduces the amount of formaldehyde generated from the resin composition and its molded product by using such a specific carboxylic acid hydrazide compound. Since the resin molded product is not adversely affected, the stability and reliability of the polyacetal resin composition can be improved.

本発明のポリアセタール樹脂組成物には、さらに、(C)酸化防止剤、(D)耐熱安定剤、(E)加工性改良剤、(F)耐候(光)安定剤、あるいは耐衝撃性改良剤、摺動性改良剤、光沢性制御剤、充填剤及び着色剤から選択された少なくとも一種を配合することにより、本発明の目的を損なうことなく、それぞれの添加剤に応じた諸特性を向上させることができる。   The polyacetal resin composition of the present invention further includes (C) an antioxidant, (D) a heat stabilizer, (E) a workability improver, (F) a weather (light) stabilizer, or an impact improver. By blending at least one selected from a slidability improver, a gloss control agent, a filler and a colorant, various properties corresponding to the respective additives are improved without impairing the object of the present invention. be able to.

これらの添加剤の詳細は以下の通りである。
(C)酸化防止剤
本発明のポリアセタール樹脂組成物には、樹脂の酸化分解を抑えることにより短期及び長期の諸特性を保持すると共に、分解に伴うホルムアルデヒドの発生を抑制するため、酸化防止剤を配合するのが好ましい。
Details of these additives are as follows.
(C) Antioxidant In the polyacetal resin composition of the present invention, an antioxidant is used in order to maintain the short-term and long-term characteristics by suppressing the oxidative degradation of the resin and to suppress the generation of formaldehyde accompanying the degradation. It is preferable to mix.

酸化防止剤には、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物、ヒドロキノン系化合物、キノリン系化合物などが含まれる。これらの酸化防止剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、ヒンダードフェノール系化合物及びヒンダードアミン系化合物が好ましく、特に好ましくはヒンダードフェノール系化合物である。   Antioxidants include hindered phenol compounds, hindered amine compounds, phosphorus compounds, sulfur compounds, hydroquinone compounds, quinoline compounds, and the like. These antioxidants can be used alone or in combination of two or more. Of these, hindered phenol compounds and hindered amine compounds are preferable, and hindered phenol compounds are particularly preferable.

ヒンダードフェノール系化合物としては、単環式ヒンダードフェノール化合物、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールなど;炭化水素基又はイオウ原子を含む基で連結された多環式ヒンダードフェノール化合物、例えば、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、4,4′−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)など;エステル基又はアミド基を有するヒンダードフェノール化合物、例えば、n−オクタデシル−3−(4′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオネート、n−オクタデシル−2−(4′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオネート、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、3,9−ビス[2−{3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、2−t−ブチル−6−(3′−t−ブチル−5′−メチル−2′−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレート、ジ−n−オクタデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ジヒドロシンナムアミド、N,N′−エチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、N,N′−テトラメチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、N,N′−ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、N,N’−エチレンビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、N,N′−ヘキサメチレンビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、N,N′−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、N,N′−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレートなどが挙げられる。   Examples of the hindered phenol compound include a monocyclic hindered phenol compound such as 2,6-di-t-butyl-p-cresol; a polycyclic hinder linked with a hydrocarbon group or a group containing a sulfur atom. Dophenol compounds such as 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-methylenebis (2,6-di-tert-butylphenol), 1,1,3-tris ( 2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), etc .; ester group or amide Hindered phenol compounds having, for example, n-octadecyl-3- (4'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) propionate, n-octadecyl-2- (4'-hydroxy-3' , 5'-di-t-butylphenyl) propionate, 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3 -(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis [2- {3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} -1,1-dimethyl ester -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, 2-t-butyl-6- (3'-t-butyl-5'-methyl-2'-hydroxybenzyl) -4 -Methylphenyl acrylate, 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-t-pentylphenyl acrylate, di-n-octadecyl-3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-dihydrocinnamamide, N, N'-ethylenebis [3 -(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionamide], N, N'-tetramethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionamide Mido], N, N′-hexamethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionamide], N, N′-ethylenebis [3- (3-t-butyl) -5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionamide], N, N'-hexamethylenebis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionamide], N, N'- Bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine, N, N′-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionyl Hydrazine, 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 1,3,5-tris (4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6) - Chirubenjiru) isocyanurate and the like.

前記ヒンダードアミン系化合物としては、エステル基含有ピペリジン誘導体、例えば、4−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)オギザレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)マロネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アジペート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アジペート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)テレフタレート、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレートなど;エーテル基含有ピペリジン誘導体、例えば、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−フェノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1,2−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシ)エタンなど;アミド基含有ピペリジン誘導体、例えば、[4−(フェニルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレン−1,6−ジカルバメートなど、が挙げられる。また、高分子量のピペリジン誘導体重縮合物なども含まれる。   Examples of the hindered amine compound include ester group-containing piperidine derivatives such as 4-acetoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- Acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) oxalate Bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) malonate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) adipate, bis (1,2,2,6,6) -Pentamethyl-4-piperidyl) adipate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2 6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) terephthalate, tris (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) benzene 1,3,5-tricarboxylate and the like; ether group-containing piperidine derivatives such as 4-methoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethyl Piperidine, 4-phenoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1,2-bis (2,2,6,6-tetra Methyl-4-piperidyloxy) ethane and the like; amide group-containing piperidine derivatives such as [4- (phenylcarbamoyloxy) -2,2,6,6 Tetramethylpiperidine, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) hexamethylene-1,6-dicarbamate, and the like. High molecular weight piperidine derivative polycondensates are also included.

これらの酸化防止剤(C)は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。酸化防止剤(C)を配合する場合の配合割合は、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.01〜5.0重量部が好ましく、さらに好ましくは0.02〜3.0重量部、特に好ましくは0.03〜2.0重量部である。
(D)耐熱安定剤
本発明のポリアセタール樹脂組成物には、押出加工や成形加工の際の樹脂の熱分解を抑えることにより樹脂の諸特性を保持すると共に、樹脂の分解に伴うホルムアルデヒドの発生を抑制するため、耐熱安定剤を配合するのが好ましい。
These antioxidants (C) can be used alone or in combination of two or more. The blending ratio when blending the antioxidant (C) is preferably 0.01 to 5.0 parts by weight, more preferably 0.02 to 3.0 parts by weight, particularly preferably 100 parts by weight of the polyacetal resin. Is 0.03 to 2.0 parts by weight.
(D) Heat-resistant stabilizer The polyacetal resin composition of the present invention retains various properties of the resin by suppressing the thermal decomposition of the resin during extrusion and molding, and generates formaldehyde associated with the decomposition of the resin. In order to suppress it, it is preferable to mix a heat stabilizer.

耐熱安定剤には、有機カルボン酸金属塩、塩基性窒素含有化合物、アルカリ又はアルカリ土類金属化合物、ハイドロタルサイト、ゼオライト、ホスフィン化合物などが含まれる。   Examples of heat stabilizers include organic carboxylic acid metal salts, basic nitrogen-containing compounds, alkali or alkaline earth metal compounds, hydrotalcite, zeolite, and phosphine compounds.

有機カルボン酸金属塩を形成する金属としては、Li,Na,Kなどのアルカリ金属、Mg,Caなどのアルカリ土類金属、Znなどの遷移金属が挙げられる。また、有機カルボン酸金属塩を形成する有機カルボン酸としては、炭素数が1〜34程度の各種の脂肪族カルボン酸が使用可能であり、飽和脂肪族モノカルボン酸、飽和脂肪族ジカルボン酸、不飽和脂肪族モノカルボン酸、不飽和脂肪族ジカルボン酸、及びこれらのオキシ酸などが挙げられる。これらの脂肪族カルボン酸は、ヒドロキシル基を有するものであってもよい。また、有機カルボン酸金属塩を形成する有機カルボン酸は、重合性不飽和カルボン酸((メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノエチルなど)とオレフィンとの共重合体などであってもよい。このような有機カルボン酸の具体例を挙げると、クエン酸リチウム、クエン酸カリウム、クエン酸ナトリウム、ステアリン酸リチウム、12−ヒドロキシステアリン酸リチウムなどのアルカリ金属有機カルボン酸塩、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、クエン酸マグネシウム、クエン酸カルシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、12−ヒドロキシステアリン酸カルシウムなどのアルカリ土類金属有機カルボン酸塩、アイオノマー樹脂などである。これらの有機カルボン酸金属塩のうち、安定化効果の点で、クエン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、12−ヒドロキシステアリン酸カルシウムなどのアルカリ土類金属塩が好ましい。   Examples of the metal forming the organic carboxylic acid metal salt include alkali metals such as Li, Na, and K, alkaline earth metals such as Mg and Ca, and transition metals such as Zn. As the organic carboxylic acid forming the organic carboxylic acid metal salt, various aliphatic carboxylic acids having about 1 to 34 carbon atoms can be used, and saturated aliphatic monocarboxylic acid, saturated aliphatic dicarboxylic acid, Examples thereof include saturated aliphatic monocarboxylic acids, unsaturated aliphatic dicarboxylic acids, and oxyacids thereof. These aliphatic carboxylic acids may have a hydroxyl group. The organic carboxylic acid forming the organic carboxylic acid metal salt is a copolymer of a polymerizable unsaturated carboxylic acid (such as (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, maleic anhydride, monoethyl maleate) and an olefin. It may be. Specific examples of such organic carboxylic acids include alkali metal organic carboxylates such as lithium citrate, potassium citrate, sodium citrate, lithium stearate, lithium 12-hydroxystearate, magnesium acetate, calcium acetate, Examples thereof include alkaline earth metal organic carboxylates such as magnesium citrate, calcium citrate, calcium stearate, magnesium stearate, magnesium 12-hydroxystearate, and calcium 12-hydroxystearate, and ionomer resins. Among these organic carboxylic acid metal salts, alkaline earth metal salts such as calcium citrate, magnesium stearate, calcium stearate, 12-hydroxymagnesium stearate, and 12-hydroxycalcium stearate are preferable from the viewpoint of stabilizing effect.

また、前記塩基性窒素含有化合物としては、アミノトリアジン化合物、グアニジン化合物、尿素化合物、アミノ酸化合物、アミノアルコール化合物、イミド化合物、アミド化合物、ヒドラジン化合物などが挙げられる。   Examples of the basic nitrogen-containing compound include aminotriazine compounds, guanidine compounds, urea compounds, amino acid compounds, amino alcohol compounds, imide compounds, amide compounds, and hydrazine compounds.

アミノトリアジン化合物には、メラミン又はその誘導体、グアナミン又はその誘導体、アミノトリアジン樹脂などが含まれる。メラミン誘導体としてはメラム、メレムなどが例示され、グアナミン誘導体としてはアセトグアナミン、ステアログアナミンなどのアルキル置換グアナミン類、アジポジグアナミンなどのアルキレン-ビスグアナミン類、シクロヘキサンカルボグアナミンなどの脂環族グアナミン類、ベンゾグアナミン、フェニルベンゾグアナミン、ヒドロキシベンゾグアナミンなどの芳香族グアナミン類、フタログアナミン、ナフタレンジグアナミンなどのポリグアナミン類、CTU−グアナミン、CMTU−グアナミンなどのヘテロ原子含有グアナミン類などが例示され、アミノトリアジン樹脂としてはメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンーホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−フェノール−ホルムアルデヒド樹脂などが例示される。また、メラミン誘導体、グアナミン誘導体には、そのアミノ基の水素がメチロール基やアルコキシメチル基で置換された化合物(例えば、モノ〜ヘキサメチロールメラミン、モノ〜ヘキサメトキシメチルメラミン、モノ〜テトラメトキシメチルベンゾグアナミンなど)も含まれる。   Examples of the aminotriazine compound include melamine or a derivative thereof, guanamine or a derivative thereof, and an aminotriazine resin. Examples of melamine derivatives include melam and melem, and examples of guanamine derivatives include alkyl-substituted guanamines such as acetoguanamine and stealoganamin, alkylene-bisguanamines such as adipodiguanamine, and alicyclic guanamines such as cyclohexanecarboguanamine. , Aromatic guanamines such as benzoguanamine, phenylbenzoguanamine and hydroxybenzoguanamine, polyguanamines such as phthaloguanamine and naphthalenediguanamine, and heteroatom-containing guanamines such as CTU-guanamine and CMTU-guanamine, etc. Melamine-formaldehyde resin, melamine-phenol-formaldehyde resin, benzoguanamine-formaldehyde resin, benzoguanamine-phenol An example of the formaldehyde-formaldehyde resin. Melamine derivatives and guanamine derivatives include compounds in which the amino group hydrogen is substituted with a methylol group or an alkoxymethyl group (for example, mono-hexamethylol melamine, mono-hexamethoxymethyl melamine, mono-tetramethoxymethyl benzoguanamine, etc. ) Is also included.

グアニジン化合物には、非環状グアニジン(グリコシアミン、グアノリン、グアニジン、シアノグアニジンなど)、環状グアニジン(グリコシアミジン、クレアチニン、オキサリルグアニジン、2,4−ジイミノパラバン酸など)、イミノ基置換ウラゾール化合物(イミノウラゾール、グアナジンなど)、イソシアヌール酸イミド類(イソアンメリド、イソアンメリンなど)、マロニルグアニジン、タルトロニルグアニジン、メソキサリルグアニジンなどが挙げられる。   Guanidine compounds include acyclic guanidine (glycosamine, guanolin, guanidine, cyanoguanidine, etc.), cyclic guanidine (glycocyanidin, creatinine, oxalylguanidine, 2,4-diiminoparabanic acid, etc.), imino group-substituted urazole compounds (iminourasol). , Guanazine, etc.), isocyanuric imides (isoammelide, isoammelin, etc.), malonyl guanidine, tartronyl guanidine, mesoxalyl guanidine, and the like.

尿素化合物としては、非環状尿素化合物[尿素、アルキル基などの置換基が置換したN−置換尿素、非環状の尿素縮合体(ビウレット、ビウレア、メチレン二尿素、ホルム窒素など)など)、環状尿素化合物[アルキレン尿素、アリーレン尿素、ジカルボン酸のウレイド、β−アルデヒド酸のウレイド、α−オキシ酸のウレイド(ヒダントイン、5−メチルヒダントイン、5−フェニルヒダントイン、5−ベンジルヒダントイン、5,5−ジメチルヒダントイン、5−メチル−5−フェニルヒダントイン、5,5−ジフェニルヒダントイン、5,5−ジベンジルヒダントイン、ペンタメチレンビスヒダントイン、アラントイン又はその金属塩など)、尿酸、アルキル置換尿酸、アセチレン尿素(グリコールウリル)又はその誘導体、クロチリデンジウレア、α−オキシ酸のジウレイド、ジウレア、ジカルボン酸のジウレイドなど]などが例示できる。   Examples of urea compounds include non-cyclic urea compounds (N-substituted urea substituted with a substituent such as urea or an alkyl group, acyclic urea condensates (biuret, biurea, methylene diurea, form nitrogen, etc.)), cyclic urea, etc. Compound [alkylene urea, arylene urea, ureido of dicarboxylic acid, ureido of β-aldehyde acid, ureido of α-oxyacid (hydantoin, 5-methylhydantoin, 5-phenylhydantoin, 5-benzylhydantoin, 5,5-dimethylhydantoin 5-methyl-5-phenylhydantoin, 5,5-diphenylhydantoin, 5,5-dibenzylhydantoin, pentamethylenebishydantoin, allantoin or metal salts thereof), uric acid, alkyl-substituted uric acid, acetylene urea (glycoluril) Or its derivatives, clotylide And diurea of α-oxyacid, diurea, diureide of dicarboxylic acid, etc.].

アミノ酸化合物としては、α−アミノ酸、β−アミノ酸、γ−アミノ酸、δ−アミノ酸などが例示できる。アミノ酸化合物は、D−体、L−体、DL体の何れであってもよく、さらに、カルボルキシル基が金属塩化、アミド化、ヒドラジド化、エステル化されたアミノ酸誘導体も含む。   Examples of amino acid compounds include α-amino acids, β-amino acids, γ-amino acids, and δ-amino acids. The amino acid compound may be any of D-form, L-form, and DL-form, and further includes amino acid derivatives in which a carboxyl group is metallated, amidated, hydrazated, or esterified.

アミノアルコール化合物には、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、2−アミノ−1−ブタノール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−アミノ−2−エチル−1,3−プロパンジオール、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンなどのアミノ脂肪族モノ又はポリオールが挙げられる。   Amino alcohol compounds include monoethanolamine, diethanolamine, 2-amino-1-butanol, 2-amino-2-methyl-1-propanol, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, 2-amino Examples include aminoaliphatic mono- or polyols such as 2-ethyl-1,3-propanediol and tris (hydroxymethyl) aminomethane.

イミド化合物としては、フタル酸イミド、トリメリット酸イミド、ピロメリット酸イミドなどの芳香族多価カルボン酸イミドなどが使用できる。   As the imide compound, aromatic polycarboxylic imides such as phthalic imide, trimellitic imide, and pyromellitic imide can be used.

アミド化合物には、脂肪族カルボン酸アミド類、環状カルボン酸アミド類、芳香族カルボン酸アミド、ポリアミド系樹脂[例えば、ポリアミド3、ポリアミド46、ポリアミド6、ポリアミド66、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリアミドMXD6、ポリアミド6−10、ポリアミド6−11、ポリアミド6−12、ポリアミド6−66−610、ポリアミド9Tなど]、ポリエステルアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリ(メタ)アクリル酸アミド単独又は共重合体、ポリ(ビニルラクタム)単独又は共重合体、ポリ(N−ビニルカルボン酸アミド)、N−ビニルカルボン酸アミドと他のビニルモノマーとの共重合体などが挙げられる。   Examples of the amide compound include aliphatic carboxylic acid amides, cyclic carboxylic acid amides, aromatic carboxylic acid amides, polyamide resins [for example, polyamide 3, polyamide 46, polyamide 6, polyamide 66, polyamide 11, polyamide 12, polyamide MXD6. , Polyamide 6-10, polyamide 6-11, polyamide 6-12, polyamide 6-66-610, polyamide 9T, etc.], polyesteramide, polyamideimide, polyurethane, poly (meth) acrylic acid amide homopolymer or copolymer, poly (Vinyl lactam) homopolymer or copolymer, poly (N-vinylcarboxylic acid amide), copolymers of N-vinylcarboxylic acid amide and other vinyl monomers, and the like can be mentioned.

ヒドラジン化合物には、脂肪族又は脂環族カルボン酸ヒドラジド(ラウリン酸ヒドラジド、ステアリン酸ヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、ソルビン酸ヒドラジドなどの飽和又は不飽和脂肪酸ヒドラジド、α−オキシ酪酸ヒドラジド、グリセリン酸ヒドラジドなどのオキシ脂肪酸ヒドラジドなど)、芳香族カルボン酸ヒドラジド(フタル酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジドなど)などが含まれる。   Hydrazine compounds include aliphatic or alicyclic carboxylic acid hydrazides (saturated or unsaturated fatty acid hydrazides such as lauric acid hydrazide, stearic acid hydrazide, adipic acid dihydrazide, sebacic acid dihydrazide, dodecanedioic acid dihydrazide, sorbic acid hydrazide, α- Oxy fatty acid hydrazides such as oxybutyric acid hydrazide and glyceric acid hydrazide), aromatic carboxylic acid hydrazides (phthalic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, terephthalic acid dihydrazide and the like).

アルカリ又はアルカリ土類金属化合物には、金属酸化物(CaO、MgOなど)、金属水酸化物(LiOH、Ca(OH)2、Mg(OH)2など)、金属無機酸塩(Li2CO3、Na2CO3、K2CO3、CaCO3、MgCO3などの金属炭酸塩、ホウ酸塩、リン酸塩など)などが含まれ、特に、アルカリ土類金属の酸化物及び水酸化物が好ましい。 Examples of the alkali or alkaline earth metal compound include metal oxides (CaO, MgO, etc.), metal hydroxides (LiOH, Ca (OH) 2 , Mg (OH) 2 etc.), metal inorganic acid salts (Li 2 CO 3). , Na 2 CO 3 , K 2 CO 3 , CaCO 3 , MgCO 3 and other metal carbonates, borates, phosphates, etc.), and in particular, alkaline earth metal oxides and hydroxides preferable.

ハイドロタルサイトとしては、例えば、下記式で表されるハイドロタルサイト化合物などが使用できる。   As the hydrotalcite, for example, a hydrotalcite compound represented by the following formula can be used.

[M2+ 1−X3+ (OH)X+[An− X/n・mHO]X−
(式中、M2+はMg2+、Mn2+、Fe2+、Co2+などの2価金属イオンを示し、M3+はAl3+、Fe3+、Cr3+などの3価金属イオンを示す。An−はCO 2−、OH、HPO 2−、SO 2−などのn価(特に1価又は2価)のアニオンを示す。xは、0<x<0.5であり、mは、0≦m<1である)
ゼオライトとしては、最小単位セルがアルカリ及び/又はアルカリ土類金属の結晶性アルミノケイ酸塩であるゼオライト、例えば、A型、X型、Y型、L型、及びZSM型ゼオライト、チャバザイト、モルデン沸石、ホージャサイトなどの天然ゼオライトなどが使用できる。
[M 2+ 1-X M 3+ X (OH) 2] X + [A n- X / n · mH 2 O] X-
(.A shown wherein, M 2+ is Mg 2+, Mn 2+, Fe 2+ , a divalent metal ion such as Co 2+, M 3+ is Al 3+, Fe 3+, trivalent metal ions such as Cr 3+ n- Represents an anion of n valence (especially monovalent or divalent) such as CO 3 2− , OH , HPO 4 2− , SO 4 2− , x is 0 <x <0.5, and m is , 0 ≦ m <1)
As the zeolite, zeolite whose minimum unit cell is a crystalline aluminosilicate of alkali and / or alkaline earth metal, for example, A type, X type, Y type, L type, ZSM type zeolite, chabazite, mordenite, Natural zeolite such as faujasite can be used.

ホスフィン化合物には、アルキルホスフィン類(トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィンなど)、シクロアルキルホスフィン類(トリシクロヘキシルホスフィンなど)、アリールホスフィン類(トリフェニルホスフィン、p−トリルジフェニルホスフィン、ジ−p−トリルフェニルホスフィン、トリ−m−アミノフェニルホスフィン、トリ(2,4−ジメチルフェニル)ホスフィン、トリ(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィン、トリ(o−、m−又はp−トリル)ホスフィンなど)、アラルキルホスフィン類(トリ(o−、m−又はp−アニシル)ホスフィンなど)、アリールアルケニルホスフィン類(ジフェニルビニルホスフィン、アリルジフェニルホスフィンなど)、アリールアラルキルホスフィン類(p−アニシルジフェニルホスフィン、ジ(p−アニシル)フェニルホスフィン、メチルフェニル−p−アニシルホスフィンなど)、ビスホスフィン類(1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタンなど)などのホスフィン化合物などが例示できる。   Examples of phosphine compounds include alkyl phosphines (such as triethylphosphine, tripropylphosphine, and tributylphosphine), cycloalkylphosphines (such as tricyclohexylphosphine), and arylphosphines (such as triphenylphosphine, p-tolyldiphenylphosphine, and di-p-). Tolylphenylphosphine, tri-m-aminophenylphosphine, tri (2,4-dimethylphenyl) phosphine, tri (2,4,6-trimethylphenyl) phosphine, tri (o-, m- or p-tolyl) phosphine, etc. ), Aralkylphosphines (such as tri (o-, m- or p-anisyl) phosphine), arylalkenylphosphines (such as diphenylvinylphosphine and allyldiphenylphosphine), arylaralkylphosphines Such as p-anisyldiphenylphosphine, di (p-anisyl) phenylphosphine, methylphenyl-p-anisylphosphine, and bisphosphines (such as 1,4-bis (diphenylphosphino) butane). Examples include phosphine compounds.

耐熱安定剤を配合する場合の配合割合は、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.01〜5.0重量部が好ましく、さらに好ましくは0.02〜3.0重量部、特に好ましくは0.03〜2.0重量部である。
(E)加工性改良剤
本発明のポリアセタール樹脂組成物には、押出加工や成形加工の際の加工性を改善することによって樹脂の諸特性、特に成形品の寸法精度や表面性など、を良好に保持すると共に、押出あるいは成形加工の際の剪断による樹脂の分解とそれに伴うホルムアルデヒドの発生を抑制するため、加工性改良剤を配合するのが好ましい。
The blending ratio when the heat stabilizer is blended is preferably 0.01 to 5.0 parts by weight, more preferably 0.02 to 3.0 parts by weight, and particularly preferably 0.0 to 3.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyacetal resin. 03 to 2.0 parts by weight.
(E) Processability improver The polyacetal resin composition of the present invention has good resin properties, particularly dimensional accuracy and surface properties of molded products, by improving processability during extrusion and molding. It is preferable to add a processability improver in order to suppress the decomposition of the resin due to shearing during extrusion or molding and the accompanying generation of formaldehyde.

かかる加工性改良剤には、長鎖脂肪酸又はその誘導体、ポリアルキレングリコール、シリコーン化合物、各種ワックス類などが含まれる。   Such processability improvers include long chain fatty acids or derivatives thereof, polyalkylene glycols, silicone compounds, various waxes and the like.

このような長鎖脂肪酸としては、炭素数10以上の一価の飽和又は不飽和脂肪酸(例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、べヘン酸、モンタン酸、オレイン酸、リノール酸、エルカ酸など)、炭素数10以上の二価の飽和又は不飽和脂肪酸(例えば、セバシン酸、ドデカン二酸、テトラデカン二酸、ドデセン二酸など)が例示できる。長鎖脂肪酸には、一部の水素原子がヒドロキシル基などの置換基で置換された脂肪酸(12−ヒドロキシステアリン酸など)も含まれる。   Examples of such long-chain fatty acids include monovalent saturated or unsaturated fatty acids having 10 or more carbon atoms (for example, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, montanic acid, oleic acid, linoleic acid, Erucic acid and the like) and divalent saturated or unsaturated fatty acids having 10 or more carbon atoms (for example, sebacic acid, dodecanedioic acid, tetradecanedioic acid, dodecenedioic acid, etc.). Long-chain fatty acids also include fatty acids (such as 12-hydroxystearic acid) in which some hydrogen atoms are substituted with substituents such as hydroxyl groups.

長鎖脂肪酸の誘導体には、脂肪酸エステル及び脂肪酸アミドなどが含まれる。長鎖脂肪酸エステルを構成するアルコールは一価アルコール及び多価アルコールの何れでもよいが、多価アルコールとのエステルが好ましい場合が多い。   Derivatives of long chain fatty acids include fatty acid esters and fatty acid amides. The alcohol constituting the long-chain fatty acid ester may be either a monohydric alcohol or a polyhydric alcohol, but an ester with a polyhydric alcohol is often preferred.

長鎖脂肪酸と一価アルコールとのエステルの例としては、ステアリルステアレート、ステアリルパルミテートなどが挙げられる。   Examples of esters of long chain fatty acids and monohydric alcohols include stearyl stearate and stearyl palmitate.

また、長鎖脂肪酸と多価アルコールとのエステルの例としては、エチレングリコールモノ又はジパルミチン酸エステル、エチレングリコールモノ又はジステアリン酸エステル、エチレングリコールモノ又はジベヘン酸エステル、エチレングリコールモノ又はジモンタン酸エステル、グリセリンモノ乃至トリパルミチン酸エステル、グリセリンモノ乃至トリステアリン酸エステル、グリセリンモノ乃至トリベヘン酸エステル、グリセリンモノ乃至トリモンタン酸エステル、ペンタエリスリトールモノ乃至テトラパルミチン酸エステル、ペンタエリスリトールモノ乃至テトラステアリン酸エステル、ペンタエリスリトールモノ乃至テトラベヘン酸エステル、ペンタエリスリトールモノ乃至テトラモンタン酸エステル、ポリグリセリントリステアリン酸エステル、トリメチロールプロパンモノパルミチン酸エステル、ペンタエリスリトールモノウンデシル酸エステル、ソルビタンモノステアリン酸エステル、ポリアルキレングリコール(ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなど)のモノ又はジラウレート、モノ又はジパルミテート、モノ又はジステアレート、モノ又はジベヘネート、モノ又はジモンタネート、モノ又はジオレート、モノ又はジリノレートなどが挙げられる。   Examples of esters of long-chain fatty acids and polyhydric alcohols include ethylene glycol mono or dipalmitate, ethylene glycol mono or distearate, ethylene glycol mono or dibehenate, ethylene glycol mono or dimanthate, Glycerol mono-tripalmitic acid ester, glycerin mono-tristearic acid ester, glycerin mono-tribehenic acid ester, glycerin mono-trimontanic acid ester, pentaerythritol mono-tetrapalmitic acid ester, pentaerythritol mono-tetrastearic acid ester, pentaerythritol Mono to tetrabehenate, pentaerythritol mono to tetramontanate, polyglycerol tristeary Acid esters, trimethylolpropane monopalmitate, pentaerythritol monoundecylate, sorbitan monostearate, polyalkylene glycol (polyethylene glycol, polypropylene glycol, etc.) mono or dilaurate, mono or dipalmitate, mono or distearate, mono Or dibehenate, mono or dimontanate, mono or diolate, mono or dilinoleate, etc. are mentioned.

脂肪酸アミドとしては、カプリン酸アミド、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、モンタン酸アミドなどの飽和脂肪酸の第1級酸アミド、オレイン酸アミドなどの不飽和脂肪酸の第1級酸アミド、ステアリルステアリン酸アミド、ステアリルオレイン酸アミドなどの飽和及び/又は不飽和脂肪酸とモノアミンとの第2級酸アミド、エチレンジアミン−ジパルミチン酸アミド、エチレンジアミン−ジステアリン酸アミド(エチレンビスステアリルアミド)、ヘキサメチレンジアミン−ジステアリン酸アミド、エチレンジアミン−ジベヘン酸アミド、エチレンジアミン−ジモンタン酸アミド、エチレンジアミン−ジオレイン酸アミド、エチレンジアミン−ジエルカ酸アミドなどが挙げられる。さらにエチレンジアミン−(ステアリン酸アミド)オレイン酸アミドなどのアルキレンジアミンのアミン部位に異なるアシル基が結合した構造を有するビスアミドなども使用できる。これらの脂肪酸アミドのうち、特にビスアミド化合物が好ましい。   As fatty acid amides, primary fatty acid amides such as capric acid amide, lauric acid amide, myristic acid amide, palmitic acid amide, stearic acid amide, behenic acid amide, and montanic acid amide, and unsaturated acids such as oleic acid amide Fatty acid primary acid amide, stearyl stearic acid amide, stearyl oleic acid amide and other saturated and / or unsaturated fatty acid and monoamine secondary acid amide, ethylenediamine-dipalmitic acid amide, ethylenediamine-distearic acid amide (ethylene Bisstearylamide), hexamethylenediamine-distearic acid amide, ethylenediamine-dibehenic acid amide, ethylenediamine-dimantanoic acid amide, ethylenediamine-dioleic acid amide, ethylenediamine-dierucic acid amide, etc. It is below. Further, bisamide having a structure in which different acyl groups are bonded to the amine moiety of alkylenediamine such as ethylenediamine- (stearic acid amide) oleic acid amide can also be used. Of these fatty acid amides, bisamide compounds are particularly preferred.

前記ポリアルキレングリコールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリアルキレングリコール、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン共重合体(ランダム又はブロック共重合体など)、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリセリルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンモノブチルエーテルなどの共重合体などが挙げられる。これらのうち、オキシエチレン単位を有する重合体、例えば、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体及びそれらの誘導体などが好ましい。   Examples of the polyalkylene glycol include polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol, polyoxyethylene-polyoxypropylene copolymers (random or block copolymers, etc.), polyoxyethylene polyoxypropylene glyceryl. Examples thereof include copolymers such as ether and polyoxyethylene polyoxypropylene monobutyl ether. Of these, polymers having oxyethylene units, such as polyethylene glycol, polyoxyethylene polyoxypropylene copolymers, and derivatives thereof are preferable.

前記シリコーン系化合物には、オルガノシロキサン及びポリオルガノシロキサンが含まれる。オルガノシロキサンとしては、ジメチルシロキサン、フェニルメチルシロキサン、ジフェニルシロキサンなどが例示され、ポリオルガノシロキサンとしては、前記オルガノシロキサンの単独重合体(ポリジメチルシロキサン、ポリフェニルメチルシロキサンなど)及び共重合体が例示できる。なお、ポリオルガノシロキサンは、オリゴマーであってもよい。また、オルガノシロキサンやポリオルガノシロキサンには、分子末端や主鎖にエポキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基又は置換アミノ基(ジアルキルアミノ基など)、エーテル基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基などの置換基を有する変性体も含まれる。   The silicone compound includes organosiloxane and polyorganosiloxane. Examples of the organosiloxane include dimethylsiloxane, phenylmethylsiloxane, and diphenylsiloxane. Examples of the polyorganosiloxane include homopolymers (polydimethylsiloxane, polyphenylmethylsiloxane, etc.) and copolymers of the organosiloxane. . The polyorganosiloxane may be an oligomer. Organosiloxanes and polyorganosiloxanes include epoxy groups, hydroxyl groups, alkoxy groups, carboxyl groups, amino groups or substituted amino groups (such as dialkylamino groups), ether groups, vinyl groups, ) Modified products having a substituent such as an acryloyl group are also included.

また、ワックス類としては、低分子量のポリオレフィン(例えば、低分子量ポリエチレン、エチレンとα−オレフィンの低分子量共重合体など)、酸化型ポリエチレンワックス等が挙げられる。   Examples of the wax include low molecular weight polyolefin (for example, low molecular weight polyethylene, low molecular weight copolymer of ethylene and α-olefin), oxidized polyethylene wax and the like.

これらの加工性改良剤を配合する場合の割合は、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.01〜5.0重量部が好ましく、さらに好ましくは0.02〜3.0重量部、特に好ましくは0.03〜2.0重量部である。
(F)耐候(光)安定剤
本発明のポリアセタール樹脂組成物には、耐候(光)性を付与するためにさらに耐候(光)安定剤を配合してもよく、かかる耐候(光)安定剤の配合によってもなお、特定ヒドラジド誘導体(B)によるホルムアルデヒド発生の抑制効果が損なわれることがない。
The proportion when blending these processability improvers is preferably 0.01 to 5.0 parts by weight, more preferably 0.02 to 3.0 parts by weight, particularly preferably 100 parts by weight of the polyacetal resin. 0.03 to 2.0 parts by weight.
(F) Weather resistance (light) stabilizer The polyacetal resin composition of the present invention may further contain a weather resistance (light) stabilizer in order to impart weather resistance (light) resistance. Even if it mix | blends, the inhibitory effect of formaldehyde generation | occurrence | production by a specific hydrazide derivative (B) is not impaired.

耐候(光)安定剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、芳香族ベンゾエート系化合物、シアノアクリレート系化合物、シュウ酸アニリド系化合物、ヒドロキシアリール−1,3,5−トリアジン系化合物、ヒンダードアミン系化合物などが挙げられる。   Weather resistance (light) stabilizers include benzotriazole compounds, benzophenone compounds, aromatic benzoate compounds, cyanoacrylate compounds, oxalic acid anilide compounds, hydroxyaryl-1,3,5-triazine compounds, hindered amine compounds Compound etc. are mentioned.

ベンゾトリアゾール系化合物としては、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ(t−ブチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ(t−アミル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジイソアミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−3′,5′−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−4′−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。   Examples of the benzotriazole compounds include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di (t-butyl) phenyl) benzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-3 ', 5'-di (t-amyl) phenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-diisoamylphenyl) benzotriazole, 2- [2 ' -Hydroxy-3 ', 5'-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4'-octoxyphenyl) benzotriazole and the like.

ベンゾフェノン系化合物としては、複数のヒドロキシル基を有するベンゾフェノン類(2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オキシベンジルベンゾフェノンなど)、ヒドロキシル基及びアルコキシ基を有するベンゾフェノン類(2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノンなど)などが挙げられる。   Examples of the benzophenone compounds include benzophenones having a plurality of hydroxyl groups (such as 2,4-dihydroxybenzophenone and 2-hydroxy-4-oxybenzylbenzophenone), and benzophenones having a hydroxyl group and an alkoxy group (2-hydroxy-4- Methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, etc.).

芳香族ベンゾエート系化合物としては、p−t−ブチルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレートなどのアルキルアリールサリシレート類が挙げられる。   Examples of the aromatic benzoate compounds include alkylaryl salicylates such as pt-butylphenyl salicylate and p-octylphenyl salicylate.

シアノアクリレート系化合物としては、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレートなどのシアノ基含有ジアリールアクリレート類などが挙げられる。   Examples of the cyanoacrylate compounds include cyano group-containing diaryl acrylates such as 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate and ethyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate.

シュウ酸アニリド系化合物としては、N−(2−エチルフェニル)−N′−(2−エトキシ−5−t−ブチルフェニル)シュウ酸ジアミド、N−(2−エチルフェニル)−N′−(2−エトキシ−フェニル)シュウ酸ジアミドなどの窒素原子上に置換されたアリール基などを有するシュウ酸ジアミド類が挙げられる。   Examples of the oxalic acid anilide compounds include N- (2-ethylphenyl) -N ′-(2-ethoxy-5-t-butylphenyl) oxalic acid diamide, N- (2-ethylphenyl) -N ′-(2 Examples include oxalic acid diamides having an aryl group substituted on a nitrogen atom, such as -ethoxy-phenyl) oxalic acid diamide.

ヒドロキシアリール−1,3,5−トリアジン系化合物としては、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジ(p−トリル又は2′,4′−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−(2−ブトキシエトキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジ−p−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4−(2−ヘキシルオキシエトキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジンなどが挙げられる。   Examples of hydroxyaryl-1,3,5-triazine compounds include 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2,4 -Dihydroxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2 -Hydroxy-4-ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- 6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-to Azine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-dodecyloxyphenyl)- 1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-benzyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-di (p-tolyl or 2 ', 4 '-Dimethylphenyl) -6- (2-hydroxy-4-benzyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4- (2-butoxyethoxy) phenyl ) -1,3,5-triazine, 2,4-di-p-tolyl-6- (2-hydroxy-4- (2-hexyloxyethoxy) phenyl) -1,3,5-triazine and the like. .

ヒンダードアミン系化合物としては、酸化防止剤の項で例示されたヒンダードアミン系化合物などが使用できる。   As the hindered amine compound, the hindered amine compounds exemplified in the section of the antioxidant can be used.

これらの耐候(光)安定剤は、単独で用いてもよく、また、同種又は異種の耐候(光)安定剤を二種以上組み合わせて用いてもよい。特に、ベンゾトリアゾール系化合物とヒンダードアミン系化合物とを併用するのが好ましく、両者を併用する場合には、両者の割合(重量比)をベンゾトリアゾール系化合物/ヒンダードアミン系化合物=99.5/0.5〜0.5/99.5とするのが好ましく、さらに好ましくは90/10〜30/70、特に好ましくは80/20〜40/60である。   These weather resistance (light) stabilizers may be used alone, or two or more of the same or different weather resistance (light) stabilizers may be used in combination. In particular, it is preferable to use a benzotriazole compound and a hindered amine compound in combination. When both are used in combination, the ratio (weight ratio) of both is benzotriazole compound / hindered amine compound = 99.5 / 0.5. It is preferable to set it to -0.5 / 99.5, More preferably, it is 90 / 10-30 / 70, Especially preferably, it is 80 / 20-40 / 60.

本発明において耐候(光)安定剤を配合する場合の配合割合は、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.01〜5.0重量部が好ましく、さらに好ましくは0.05〜3.0重量部、特に好ましくは0.1〜2.0重量部である。
(その他の添加剤)
本発明のポリアセタール樹脂組成物には、さらに、耐衝撃性改良剤、摺動性改良剤、光沢制御剤、充填剤、着色剤などから選択された一種または二種以上の添加剤が含まれていてもよい。
In the present invention, the blending ratio when the weathering (light) stabilizer is blended is preferably 0.01 to 5.0 parts by weight, more preferably 0.05 to 3.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyacetal resin. Particularly preferred is 0.1 to 2.0 parts by weight.
(Other additives)
The polyacetal resin composition of the present invention further contains one or more additives selected from impact resistance improvers, slidability improvers, gloss control agents, fillers, colorants, and the like. May be.

耐衝撃性改良剤としては、例えば、熱可塑性ポリウレタン系樹脂、アクリル系コアシェルポリマー、熱可塑性ポリエステル系エラストマー、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、ゴム成分(天然ゴムなど)などが挙げられる。耐衝撃性改良剤を配合する場合の割合は、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.1〜50重量部が好ましく、より好ましくは1〜30重量部、さらに好ましくは3〜20重量部である。   Examples of the impact resistance improver include thermoplastic polyurethane resins, acrylic core shell polymers, thermoplastic polyester elastomers, styrene elastomers, olefin elastomers, polyamide elastomers, rubber components (natural rubber, etc.), and the like. . When blending the impact modifier, the proportion is preferably 0.1 to 50 parts by weight, more preferably 1 to 30 parts by weight, and even more preferably 3 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyacetal resin. .

摺動性改良剤としては、オレフィン系ポリマー(ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンとα−オレフィンの共重合体、これらの酸無水物などによる変性体など)、ワックス類(ポリエチレンワックスなど)、シリコーン系樹脂(前記加工性改良剤の項で例示されたシリコーン系化合物など)、フッ素系樹脂(ポリテトラフルオロエチレンなど)、脂肪酸エステルなどが挙げられる。これらの摺動性改良剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。摺動性改良剤を配合する場合の割合は、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.01〜20重量部が好ましく、より好ましくは0.03〜10重量部、さらに好ましくは0.05〜5重量部である。   Examples of the slidability improver include olefin polymers (polyethylene, polypropylene, copolymers of ethylene and α-olefin, modified products thereof such as acid anhydrides), waxes (polyethylene wax, etc.), silicone resins ( And silicone compounds exemplified in the section of the processability improver), fluorine resins (polytetrafluoroethylene and the like), fatty acid esters and the like. These slidability improvers can be used alone or in combination of two or more. The proportion in the case of blending the slidability improver is preferably 0.01 to 20 parts by weight, more preferably 0.03 to 10 parts by weight, still more preferably 0.05 to 5 parts per 100 parts by weight of the polyacetal resin. Parts by weight.

光沢制御剤としては、アクリル系コアシェルポリマー、熱可塑性ポリウレタン、熱可塑性ポリエステルエラストマー、ポリアミド系エラストマー、アルキル(メタ)アクリレートの単独又は共重合体(ポリメチルメタクリレートなど)、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂(ポリスチレン、AS樹脂、AES樹脂など)、オレフィン系樹脂(ポリプロピレンや環状ポリオレフィンなど)などが挙げられる。光沢制御剤を配合する場合の配合割合は、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.1〜30重量部が好ましく、より好ましくは0.2〜20重量部、さらに好ましくは0.5〜10重量部である。   Gloss control agents include acrylic core-shell polymers, thermoplastic polyurethanes, thermoplastic polyester elastomers, polyamide elastomers, alkyl (meth) acrylate homo- or copolymers (polymethyl methacrylate, etc.), polycarbonate resins, styrene resins ( Polystyrene, AS resin, AES resin, etc.), olefin resin (polypropylene, cyclic polyolefin, etc.) and the like. When blending the gloss control agent, the blending ratio is preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 0.2 to 20 parts by weight, and still more preferably 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyacetal resin. Part.

充填剤としては、ガラス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、チタン酸カリウム繊維、金属繊維、アラミド繊維などの無機又は有機繊維状充填剤、ガラスフレーク、マイカ、グラファイトなどの板状充填剤、ミルドファイバー、ガラスビーズ、ガラスバルーン、タルク、カオリン、シリカ、ケイソウ土、クレー、ウォラスナイト、アルミナ、フッ化黒鉛、炭化ケイ素、窒化ホウ素、金属粉などの粉粒状充填剤などが挙げられる。充填剤を配合する場合の配合割合は、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.1〜150重量部が好ましく、より好ましくは0.5〜100重量部、さらに好ましくは1〜80重量部である。   As fillers, inorganic or organic fibrous fillers such as glass fiber, carbon fiber, boron fiber, potassium titanate fiber, metal fiber, aramid fiber, plate-like filler such as glass flake, mica, graphite, milled fiber, Examples thereof include powdery fillers such as glass beads, glass balloons, talc, kaolin, silica, diatomaceous earth, clay, wollastonite, alumina, graphite fluoride, silicon carbide, boron nitride, and metal powder. When blending the filler, the blending ratio is preferably 0.1 to 150 parts by weight, more preferably 0.5 to 100 parts by weight, and further preferably 1 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyacetal resin. .

着色剤としては、各種染料及び顔料が使用できる。染料としてはアゾ系染料、アントラキノン系染料、フタロシアニン系染料、ナフトキノン系染料などが挙げられる。顔料としては無機顔料及び有機顔料のいずれも使用でき、無機顔料としては、チタン系顔料、亜鉛系顔料、カーボンブラック、鉄系顔料、モリブデン系顔料、カドミウム系顔料、鉛系顔料、コバルト系顔料及びアルミニウム系顔料などが例示でき、有機顔料としては、アゾ系顔料、アンスラキノン系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、イソインドリン系顔料、ジオキサジン系顔料及びスレン系顔料などが例示できる。これらのうち、光遮蔽効果の高い着色剤であるカーボンブラック、酸化チタン、フタロシアニン系顔料、ペリレン系顔料を用いると、耐候(光)性も向上できる。着色剤を配合する場合の配合割合は、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.01〜5重量部が好ましく、より好ましくは0.02〜3重量部、さらに好ましくは0.03〜2重量部である。   Various dyes and pigments can be used as the colorant. Examples of the dye include azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, and naphthoquinone dyes. As the pigment, both inorganic pigments and organic pigments can be used, and as inorganic pigments, titanium pigments, zinc pigments, carbon black, iron pigments, molybdenum pigments, cadmium pigments, lead pigments, cobalt pigments and Examples of the organic pigment include azo pigments, anthraquinone pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, perylene pigments, perinone pigments, isoindoline pigments, dioxazine pigments, and selenium pigments. Etc. can be exemplified. Of these, the use of carbon black, titanium oxide, phthalocyanine pigments, and perylene pigments, which are colorants having a high light shielding effect, can also improve weather resistance (light). The blending ratio in the case of blending the colorant is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.02 to 3 parts by weight, still more preferably 0.03 to 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyacetal resin. It is.

本発明のポリアセタール樹脂組成物には、必要に応じて、他の慣用の添加剤、例えば、離型剤、核剤、帯電防止剤、難燃剤、発泡剤、界面活性剤、抗菌剤、抗カビ剤、芳香剤、香料などが含まれていてもよい。
(ポリアセタール樹脂組成物の製造方法)
本発明のポリアセタール樹脂組成物の製造方法は特に限定されず、樹脂組成物の調製法として従来から知られた各種の方法により調製することができる。例えば、(1)組成物を構成する全成分を混合し、これを押出機に供給して溶融混練し、ペレット状の組成物を得る方法、(2)組成物を構成する成分の一部を押出機の主フィード口から、残余成分をサイドフィード口から供給して溶融混練し、ペレット状の組成物を得る方法、(3)押出し等により一旦組成の異なるペレットを調製し、そのペレットを混合して所定の組成に調整する方法、(4)ポリアセタール樹脂のペレット又は粉砕物に所定量の配合成分を混合するか、ポリアセタール樹脂のペレット又は粉砕物の表面に所定量の配合成分をコーティングして所定の組成物を得る方法などが採用できる。
If necessary, the polyacetal resin composition of the present invention may contain other conventional additives such as mold release agents, nucleating agents, antistatic agents, flame retardants, foaming agents, surfactants, antibacterial agents, antifungal agents. Agents, fragrances, fragrances and the like may be included.
(Production method of polyacetal resin composition)
The manufacturing method of the polyacetal resin composition of this invention is not specifically limited, It can prepare by the various methods conventionally known as a preparation method of a resin composition. For example, (1) a method in which all components constituting the composition are mixed, and this is supplied to an extruder and melt-kneaded to obtain a pellet-like composition; (2) a part of the components constituting the composition Supplying the remaining components from the main feed port of the extruder through the side feed port and melt-kneading them to obtain a pellet-shaped composition. (3) Preparing pellets having different compositions by extrusion or the like, and mixing the pellets (4) Mixing a predetermined amount of a blending component into a pellet or pulverized product of a polyacetal resin, or coating a predetermined amount of a blending component on the surface of a pellet or pulverized product of a polyacetal resin A method for obtaining a predetermined composition can be employed.

押出機を用いた組成物の調製においては、一カ所以上の脱揮ベント口を有する押出機を用いるのが好ましく、さらに、主フィード口から脱揮ベント口までの任意の場所に水や低沸点アルコール類をポリアセタール樹脂100重量部に対して0.1〜10重量部程度供給し、押出工程で発生するホルムアルデヒド等を水や低沸点アルコール類と共に脱揮ベント口から脱揮除去するのが好ましい。これにより、ポリアセタール樹脂組成物およびその成形品から発生するホルムアルデヒド量をさらに低減することができる。また、ヒドラゾン化合物をサイドフィードする場合、脱揮ベント口の後にフィードするのが好ましい。
(成形品)
本発明には、前記樹脂組成物で形成された成形品も含まれる。本発明のポリアセタール成形品は、特定のカルボン酸ヒドラジド化合物が配合されていることにより、ホルムアルデヒド発生量が大幅に抑制される。具体的には、湿式条件下において、ホルムアルデヒド発生量が成形品の単位重量当たり2μg/g以下、好ましくは1μg/g以下である。また、乾式条件下において、ホルムアルデヒド発生量が成形品の単位重量当たり2μg/g以下、好ましくは1μg/g以下である。湿式条件下及び乾式条件下におけるホルムアルデヒド発生量は、(1)温度60℃で飽和湿度の密閉空間に厚さ2mmの成形品を3時間保存したときに発生するホルムアルデヒド量、及び(2)温度80℃の密閉空間に厚さ2mmの成形品を24時間保存したときに発生するホルムアルデヒド量であり、より具体的には実施例の項で記載した測定法によるものである。
In the preparation of the composition using an extruder, it is preferable to use an extruder having one or more devolatilization vent ports, and further, water or a low boiling point at any location from the main feed port to the devolatilization vent port. It is preferable to supply about 0.1 to 10 parts by weight of alcohol with respect to 100 parts by weight of the polyacetal resin, and devolatilize and remove formaldehyde and the like generated in the extrusion step together with water and low-boiling point alcohols from the devolatilization vent port. Thereby, the amount of formaldehyde generated from the polyacetal resin composition and its molded product can be further reduced. Further, when the hydrazone compound is side-fed, it is preferably fed after the devolatilization vent port.
(Molding)
The molded product formed with the said resin composition is also contained in this invention. In the polyacetal molded article of the present invention, the amount of formaldehyde generated is greatly suppressed by incorporating a specific carboxylic acid hydrazide compound. Specifically, under wet conditions, the amount of formaldehyde generated is 2 μg / g or less, preferably 1 μg / g or less per unit weight of the molded product. Further, under dry conditions, the amount of formaldehyde generated is 2 μg / g or less, preferably 1 μg / g or less per unit weight of the molded product. The amount of formaldehyde generated under wet and dry conditions is (1) the amount of formaldehyde generated when a molded product having a thickness of 2 mm is stored in a sealed space of saturated humidity at a temperature of 60 ° C. for 3 hours, and (2) a temperature of 80 It is the amount of formaldehyde generated when a molded product having a thickness of 2 mm is stored for 24 hours in a sealed space at 0 ° C., and more specifically, by the measurement method described in the Examples section.

また、本発明のポリアセタール樹脂成形品は、ポリカーボネート樹脂やポリエステル樹脂などのポリアセタール樹脂以外の樹脂からなる成形品と共存させて過酷な条件下(例えば、高温多湿の密閉空間など)に保持しても、他樹脂からなる成形品を実質的に腐食させず、安定して使用することができる。他樹脂に対する腐食性は、実施例の項で記載した方法で評価することができる。   In addition, the polyacetal resin molded product of the present invention can be held under severe conditions (for example, a high temperature and high humidity sealed space) by coexisting with a molded product made of a resin other than polyacetal resin such as polycarbonate resin and polyester resin. The molded product made of another resin can be used stably without being substantially corroded. The corrosiveness to other resins can be evaluated by the method described in the Examples section.

本発明のポリアセタール樹脂組成物は、従来公知の成形方法(例えば、射出成形、押出成形、圧縮成形、ブロー成形、真空成形、発泡成形、回転成形、ガスインジェクション成形などの方法)で、種々の成形品を成形するのに有用である。   The polyacetal resin composition of the present invention can be molded by various known molding methods (for example, injection molding, extrusion molding, compression molding, blow molding, vacuum molding, foam molding, rotational molding, gas injection molding, etc.). Useful for molding articles.

本発明の樹脂組成物は、その成形品としての利用分野に制約はないが、ホルムアルデヒド発生量の低減が強く求められる用途、例えば自動車部品、電気・電子部品、精密機械部品、建材・配管部品、日用品、化粧品用部品、医療用機器部品などに好適に使用できる。   The resin composition of the present invention is not limited in the field of use as a molded product, but uses where reduction of formaldehyde generation is strongly required, such as automobile parts, electrical / electronic parts, precision machine parts, building materials / piping parts, It can be suitably used for daily necessities, cosmetic parts, medical equipment parts and the like.

以下に、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

なお、実施例及び比較例における評価項目及びその測定法は以下の通りである。
[ヘッドスペースGC/MS測定におけるヒドラジン発生量]
アジレント社製のヘッドスペースサンプラー7694、マスセレクティブディテクター5973を使用し、カルボン酸ヒドラジド化合物約0.02gを20mlバイアル瓶にサンプリングし、焼き出し済みの石英ウールで吸い込み防止措置をした後、バイアル瓶中のサンプルを200℃で10分間加熱し、発生ガス成分をGC/MS測定した。検出側のオーブン温度は50℃で4分保持後、昇温速度10℃/minで昇温させGC/MS測定し、ヒドラジンに該当するピークの帰属と定量を行った。なお、検出感度(S/N)において検出されない場合には、実質上ヒドラジンの発生はなしと判定した。図1,2には測定結果(GCチャート)の例を示す。
[湿式での成形品からのホルムアルデヒド発生量]
実施例及び比較例で調製したポリアセタール樹脂組成物を用い、射出成形(成形温度190℃)により平板状試験片(100mm×40mm×2mm)を成形した。この平板状試験片2枚(総重量約22gを精秤)を蒸留水50mlを含むポリエチレン製瓶(容量1L)の蓋に吊下げて密閉し、恒温槽内に温度60℃で3時間放置した後、室温で1時間静置した。平板状試験片から発生し、ポリエチレン製瓶中の蒸留水に吸収されたホルムアルデヒド量をJIS K0102,29(ホルムアルデヒドの項)に従って定量し、試験片単位重量当たりのホルムアルデヒド発生量(μg/g)を算出した。
[乾式での成形品からのホルムアルデヒド発生量]
実施例及び比較例で調製したポリアセタール樹脂組成物を用い、射出成形(成形温度190℃)により角柱状試験片(2mm×2mm×50mm)を成形した。この角柱状試験片10個(総重量約2.7gを精秤)を容量20mlの容器に入れて密閉し、温度80℃の恒温槽内で24時間加熱した後、恒温槽から取り出して室温になるまで空冷した。次に、容器内に蒸留水5mlをシリンジにて注入し、試験片から発生したホルムアルデヒドを蒸留水に吸収させた。この水溶液のホルムアルデヒド量をJIS K0102,29(ホルムアルデヒドの項)に従って定量し、試験片単位重量当たりのホルムアルデヒド発生量(μg/g)を算出した。
[ポリカーボネート樹脂成形品腐食試験]
ポリアセタール樹脂成形品(前記角柱状試験片を2mmの長さに細断したものを全量1.5gとなる個数)および水(0.1ml)を密閉容器(容量20ml)に入れ、その上に焼き出し済みの石英ウールを置き、更に石英ウールの上にポリカーボネート樹脂の成形品(ディスク断片)を置くことにより、ポリアセタール樹脂成形品とポリカーボネート樹脂成形品とを非接触状態に設置した。続いて、容器を温度120℃・飽和湿度の密閉空間に保持し、ポリカーボネート樹脂成形品の腐食発生状況を目視で観察し、腐食が生じた時間を測定した。試験は200時間まで行い、この時点で腐食が見られない場合には、腐食なしと判定した。
In addition, the evaluation item and its measuring method in an Example and a comparative example are as follows.
[Hydrazine generation in headspace GC / MS measurement]
Using an Agilent headspace sampler 7694 and mass selective detector 5973, sample 0.02 g of carboxylic acid hydrazide compound into a 20 ml vial and take measures to prevent inhalation with baked quartz wool. The sample was heated at 200 ° C. for 10 minutes, and the generated gas components were measured by GC / MS. The oven temperature on the detection side was kept at 50 ° C. for 4 minutes, and then heated at a rate of temperature increase of 10 ° C./min and subjected to GC / MS measurement, and assignment and quantification of the peak corresponding to hydrazine were performed. When no detection sensitivity (S / N) was detected, it was determined that hydrazine was substantially not generated. 1 and 2 show examples of measurement results (GC chart).
[Formaldehyde generation from wet molded products]
Using the polyacetal resin compositions prepared in Examples and Comparative Examples, flat plate test pieces (100 mm × 40 mm × 2 mm) were molded by injection molding (molding temperature 190 ° C.). Two flat test pieces (total weight of about 22 g) were hung on the lid of a polyethylene bottle (capacity: 1 L) containing 50 ml of distilled water and sealed, and left in a thermostatic bath at a temperature of 60 ° C. for 3 hours. Then, it left still at room temperature for 1 hour. The amount of formaldehyde generated from a flat test piece and absorbed in distilled water in a polyethylene bottle was quantified according to JIS K0102, 29 (formaldehyde term), and the amount of formaldehyde generated per unit weight (μg / g) was determined. Calculated.
[Formaldehyde generation amount from dry molded products]
Using the polyacetal resin compositions prepared in Examples and Comparative Examples, prismatic test pieces (2 mm × 2 mm × 50 mm) were molded by injection molding (molding temperature 190 ° C.). Ten prismatic test pieces (total weight of about 2.7 g) are put in a 20 ml container, sealed, heated in a thermostat at 80 ° C. for 24 hours, and then taken out from the thermostat to room temperature. Air-cooled until. Next, 5 ml of distilled water was injected into the container with a syringe, and formaldehyde generated from the test piece was absorbed into the distilled water. The amount of formaldehyde in this aqueous solution was quantified according to JIS K0102, 29 (formaldehyde term), and the amount of formaldehyde generated (μg / g) per unit weight of the test piece was calculated.
[Polycarbonate resin molded product corrosion test]
Polyacetal resin molded product (the number of the prismatic test pieces cut into 2 mm length is the total number of 1.5 g) and water (0.1 ml) are put in a sealed container (capacity 20 ml) and baked out on it. The polyacetal resin molded product and the polycarbonate resin molded product were placed in a non-contact state by placing the used quartz wool and further placing a polycarbonate resin molded product (disc fragment) on the quartz wool. Subsequently, the container was held in a sealed space at a temperature of 120 ° C./saturated humidity, the occurrence of corrosion of the polycarbonate resin molded product was visually observed, and the time when the corrosion occurred was measured. The test was conducted for up to 200 hours. If no corrosion was observed at this point, it was determined that there was no corrosion.

この腐食試験は、ポリカーボネート樹脂成形品に代えて他樹脂の成形品を用いることにより、他樹脂成形品の腐食性評価にも適用できる。
実施例1〜13
ポリアセタール樹脂100重量部に、カルボン酸ヒドラジド化合物、酸化防止剤、耐熱安定剤、加工性改良剤を表1〜2に示す割合で混合した後、1ヶ所のベント口を有する30mm径の二軸押出機(シリンダー温度200℃)の主フィード口に供給し、溶融混練して押出すことによりペレット状の組成物を調製した。 得られたペレット状の組成物を用いて所定の試験片を射出成形し、前記評価法によりホルムアルデヒド発生量、ポリカーボネート樹脂成形品腐食試験の評価を行った。また、前記のヘッドスペースGC/MS測定法により、組成物の調製に用いたカルボン酸ヒドラジド化合物からのヒドラジン発生量を測定した。これらの結果を表1〜2に示す。
比較例1〜14
比較のために、カルボン酸ヒドラジド化合物を添加しない例、本発明で規定する要件を満たさないカルボン酸ヒドラジド化合を添加した例について、上記と同様にして評価を行った。結果を表1〜2に示す。
This corrosion test can also be applied to the corrosive evaluation of other resin molded products by using molded products of other resins instead of polycarbonate resin molded products.
Examples 1-13
After mixing a carboxylic acid hydrazide compound, an antioxidant, a heat stabilizer, and a processability improver in 100 parts by weight of a polyacetal resin in the ratios shown in Tables 1 and 2, 30 mm diameter twin screw extrusion having one vent port A pellet-shaped composition was prepared by feeding to a main feed port of a machine (cylinder temperature 200 ° C.), melt-kneading and extruding. Predetermined test pieces were injection molded using the obtained pellet-shaped composition, and the formaldehyde generation amount and the polycarbonate resin molded product corrosion test were evaluated by the above evaluation methods. Further, the amount of hydrazine generated from the carboxylic acid hydrazide compound used for the preparation of the composition was measured by the headspace GC / MS measurement method. These results are shown in Tables 1-2.
Comparative Examples 1-14
For comparison, an example in which no carboxylic acid hydrazide compound was added and an example in which a carboxylic acid hydrazide compound that did not satisfy the requirements defined in the present invention was added were evaluated in the same manner as described above. The results are shown in Tables 1-2.

実施例および比較例で使用したポリアセタール樹脂、カルボン酸ヒドラジド化合物、酸化防止剤、耐熱安定剤、加工性改良剤は以下の通りである。なお、カルボン酸ヒドラジド化合物におけるヒドラジン含有量は、DMSO-d6を溶媒とするプロトンNMR(400MHz、30℃、積算384回)により測定した。ヒドラジン含有量の記載のない化合物は、NMRの検出感度(S/N)においてヒドラジンが検出されないことを表わす。
A.ポリアセタール樹脂
(a−1):ポリアセタール樹脂コポリマー(トリオキサンと1,3−ジオキソランとの共重合体、1,3−ジオキソランを3.8重量%共重合、メルトインデックス=9g/10min)
尚、上記メルトインデックスは、ASTM−D1238に準じ、190℃、荷重2.16kgの条件下で求めた値である。
B.カルボン酸ヒドラジド化合物
本発明の規定に該当するカルボン酸ヒドラジド化合物
(b−1):1−ナフトエ酸ヒドラジド
(b−2):2−ナフトエ酸ヒドラジド
本発明の規定を満たさないカルボン酸ヒドラジド化合物
(b−3):アジピン酸ジヒドラジド
(b−4):トリス(ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレート
(b−5):アジピン酸ジヒドラジド(ヒドラジン2000ppm含有)
(b−6):トリス(ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレート(ヒドラジン3000ppm含有)
(b−7):2−ナフトエ酸ヒドラジド(ヒドラジン2000ppm含有)
C.酸化防止剤
(c−1):トリエチレングリコールビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]
(c−2):ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]
D.耐熱安定剤
(d−1):ステアリン酸カルシウム
(d−2):12−ヒドロキシステアリン酸カルシウム
(d−3):クエン酸カルシウム
E.加工安定剤
(e−1):エチレンビスステアリルアミド
(e−2):ポリエチレンオキシド[分子量:35000]。
(e−3):モンタン酸エステル[東洋ペトロライト(株)製、LUZAWAX−EP]
The polyacetal resins, carboxylic acid hydrazide compounds, antioxidants, heat stabilizers, and processability improvers used in Examples and Comparative Examples are as follows. The hydrazine content in the carboxylic acid hydrazide compound was measured by proton NMR (400 MHz, 30 ° C., total 384 times) using DMSO-d6 as a solvent. A compound without a hydrazine content indicates that hydrazine is not detected in NMR detection sensitivity (S / N).
A. Polyacetal resin (a-1): Polyacetal resin copolymer (copolymer of trioxane and 1,3-dioxolane, 3.8% by weight copolymerization of 1,3-dioxolane, melt index = 9 g / 10 min)
In addition, the said melt index is the value calculated | required on the conditions of 190 degreeC and a load of 2.16 kg according to ASTM-D1238.
B. Carboxylic acid hydrazide compound Carboxylic acid hydrazide compound (b-1): 1-naphthoic acid hydrazide (b-2): 2-naphthoic acid hydrazide corresponding to the definition of the present invention (b) -3): adipic acid dihydrazide (b-4): tris (hydrazinocarbonylethyl) isocyanurate (b-5): adipic acid dihydrazide (containing hydrazine 2000 ppm)
(B-6): Tris (hydrazinocarbonylethyl) isocyanurate (containing hydrazine 3000 ppm)
(B-7): 2-naphthoic acid hydrazide (containing 2000 ppm of hydrazine)
C. Antioxidant (c-1): Triethylene glycol bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate]
(C-2): Pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate]
D. Heat stabilizer (d-1): calcium stearate (d-2): 12-hydroxycalcium stearate (d-3): calcium citrate Processing stabilizer (e-1): ethylenebisstearylamide (e-2): polyethylene oxide [molecular weight: 35000].
(E-3): Montanate ester [Toyo Petrolite Co., Ltd., LUZAWAX-EP]

Figure 2007091973
Figure 2007091973

Figure 2007091973
Figure 2007091973

表より明らかなように、実施例のポリアセタール樹脂組成物は、比較例に比べてホルムアルデヒドの発生量が極めて少なく、さらに、密閉空間において保存した成形品が、同密閉空間内の非接触のポリカーボネート樹脂成形品を実質的に腐食させないものであり、高品質で信頼性が高いものである。   As is apparent from the table, the polyacetal resin compositions of the examples have a much smaller amount of formaldehyde than the comparative examples, and the molded product stored in the sealed space is a non-contact polycarbonate resin in the sealed space. The molded product does not substantially corrode, and has high quality and high reliability.

比較例2、10の樹脂組成物に使用したカルボン酸ヒドラジド化合物b−3のGCチャートを示す。The GC chart of the carboxylic acid hydrazide compound b-3 used for the resin composition of the comparative examples 2 and 10 is shown. 比較例5、13の樹脂組成物に使用したカルボン酸ヒドラジド化合物b−6のGCチャートを示す。The GC chart of carboxylic acid hydrazide compound b-6 used for the resin composition of comparative examples 5 and 13 is shown.

Claims (10)

(A)ポリアセタール樹脂100重量部に対して(B)カルボン酸ヒドラジド化合物0.01〜5.0重量部を含んでなり、該カルボン酸ヒドラジド化合物(B)は200℃で10分間の加熱によるヘッドスペースGC/MS法においてヒドラジンの発生量が10ppm以下であることを特徴とするポリアセタール樹脂組成物。   (A) 0.01 to 5.0 parts by weight of (B) carboxylic acid hydrazide compound per 100 parts by weight of polyacetal resin, and the carboxylic acid hydrazide compound (B) is a headspace GC / MS by heating at 200 ° C. for 10 minutes. A polyacetal resin composition characterized in that the amount of hydrazine generated in the method is 10 ppm or less. カルボン酸ヒドラジド化合物(B)のヒドラジンの含有量が10ppm以下である請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。   The polyacetal resin composition according to claim 1, wherein the hydrazine content of the carboxylic acid hydrazide compound (B) is 10 ppm or less. カルボン酸ヒドラジド化合物(B)が、下記一般式(1)で表わされるカルボン酸ヒドラジド化合物から選択された少なくとも一種である請求項1または2記載のポリアセタール樹脂組成物。
Figure 2007091973
[式中、Xは芳香族環を示し、R1は炭素数1〜30の炭化水素基を示し、R2は水素原子、または炭素数1〜30のアルキル基もしくはアシル基を示す。aは0〜4の整数を示し、bは0〜4の整数を示す。]
The polyacetal resin composition according to claim 1 or 2, wherein the carboxylic acid hydrazide compound (B) is at least one selected from carboxylic acid hydrazide compounds represented by the following general formula (1).
Figure 2007091973
[Wherein, X represents an aromatic ring, R 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and R 2 represents a hydrogen atom, or an alkyl group or acyl group having 1 to 30 carbon atoms. a represents an integer of 0 to 4, and b represents an integer of 0 to 4. ]
カルボン酸ヒドラジド化合物(B)が、一般式(1)においてXがナフタレン環、aが0〜2の整数、bが0〜2の整数で表されるものである請求項1〜3のいずれか1項記載のポリアセタール樹脂組成物。   The carboxylic acid hydrazide compound (B) is represented by the general formula (1) wherein X is a naphthalene ring, a is an integer of 0-2, and b is an integer of 0-2. The polyacetal resin composition according to 1. ポリアセタール樹脂(A)がポリアセタールコポリマーである請求項1〜4のいずれか1項記載のポリアセタール樹脂組成物。   The polyacetal resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the polyacetal resin (A) is a polyacetal copolymer. ポリアセタール樹脂(A)が、トリオキサン(a-1)と、環状エーテル及び環状ホルマールから選ばれた化合物(a-2)の1種以上とを、前者(a-1)/後者(a-2)=99.9/0.1〜80.0/20.0の割合(重量比)で共重合させてなるポリアセタールコポリマーである請求項1〜4のいずれか1項記載のポリアセタール樹脂組成物。   When the polyacetal resin (A) is trioxane (a-1) and at least one compound (a-2) selected from cyclic ether and cyclic formal, the former (a-1) / the latter (a-2) The polyacetal resin composition according to any one of claims 1 to 4, which is a polyacetal copolymer copolymerized at a ratio (weight ratio) of 99.9 / 0.1 to 80.0 / 20.0. さらに、酸化防止剤、耐熱安定剤、加工性改良剤、耐候(光)安定剤、耐衝撃性改良剤、摺動性改良剤、光沢性制御剤、充填剤及び着色剤から選択された少なくとも一種を含む請求項1〜6のいずれか1項記載のポリアセタール樹脂組成物。   Further, at least one selected from an antioxidant, a heat stabilizer, a processability improver, a weather resistance (light) stabilizer, an impact resistance improver, a slidability improver, a gloss control agent, a filler, and a colorant. The polyacetal resin composition according to any one of claims 1 to 6, comprising: 請求項1〜7のいずれか1項記載のポリアセタール樹脂組成物で形成された成形品。   The molded article formed with the polyacetal resin composition of any one of Claims 1-7. (1)温度60℃で飽和湿度の密閉空間に厚さ2mmの成形品を3時間保存した時に発生するホルムアルデヒド量が、成形品の単位重量当り2.0μg/g以下、及び/又は
(2)温度80℃の密閉空間に厚さ2mmの成形品を24時間保存した時に発生するホルムアルデヒド量が、成形品の単位重量当り2.0μg/g以下である請求項8記載の成形品。
(1) The amount of formaldehyde generated when a molded product with a thickness of 2 mm is stored for 3 hours in a sealed space at a temperature of 60 ° C. and saturated humidity is 2.0 μg / g or less per unit weight of the molded product, and / or (2) The molded product according to claim 8, wherein the amount of formaldehyde generated when a molded product having a thickness of 2 mm is stored for 24 hours in a sealed space at a temperature of 80 ° C is 2.0 µg / g or less per unit weight of the molded product.
温度120℃で飽和湿度の密閉空間に成形品を200時間保存したとき、同密閉空間内に非接触状態で共存させたポリカーボネート樹脂成形品を実質的に腐食させないものである請求項8または9記載の成形品。
10. The molded product of polycarbonate resin coexisting in a non-contact state in the sealed space when the molded product is stored for 200 hours in a sealed space at a temperature of 120 ° C. and saturated humidity. Molded products.
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