JP2007091900A - Curing agent for rapidly curable epoxy resin and epoxy resin composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は新規なエポキシ樹脂用硬化剤およびエポキシ樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、低温速硬化性に優れるエポキシ樹脂用硬化剤となり、かつエポキシ樹脂との配合が容易であり、また、良好な潜在硬化性を有し、常温での貯蔵安定性に優れるエポキシ樹脂組成物およびそれを用いたエポキシ樹脂系材料に関する。 The present invention relates to a novel curing agent for epoxy resins and an epoxy resin composition. More specifically, it is an epoxy resin composition that is an epoxy resin curing agent with excellent low-temperature rapid curing properties, is easy to mix with epoxy resins, has good latent curing properties, and has excellent storage stability at room temperature. And an epoxy resin material using the same.
エポキシ樹脂は、その硬化物が、機械的特性、電気的特性、熱的特性、耐薬品性、接着性等の点で優れた性能を有することから、塗料、電気電子用絶縁材料、接着剤等の幅広い用途に利用されている。現在一般に使用されているエポキシ樹脂組成物は、使用時にエポキシ樹脂と硬化剤の二液を混合する、いわゆる二液性のものである。
二液性エポキシ樹脂組成物は室温で硬化しうる反面、エポキシ樹脂と硬化剤を別々に保管し、必要に応じて両者を計量、混合した後、使用する必要があるため、保管や取り扱いが煩雑である。
その上、可使用時間が限られているため、予め大量に混合しておくことができず、配合頻度が多くなり、能率の低下を免れない。
こうした二液性エポキシ樹脂配合品の問題を解決する目的で、これまでいくつかの一液性エポキシ樹脂組成物が提案されてきている。例えば、ジシアンジアミド、BF3−アミン錯体、アミン塩、変性イミダゾール化合物等の潜在性硬化剤をエポキシ樹脂に配合したものがある。
Epoxy resin has excellent performance in terms of mechanical properties, electrical properties, thermal properties, chemical resistance, adhesiveness, etc., and it can be used for paints, insulating materials for electrical and electronic materials, adhesives, etc. It is used for a wide range of applications. The epoxy resin composition generally used at present is a so-called two-component composition in which two components of an epoxy resin and a curing agent are mixed at the time of use.
The two-part epoxy resin composition can be cured at room temperature, but it is necessary to store the epoxy resin and the curing agent separately and weigh and mix them as necessary. It is.
In addition, since the usable time is limited, it cannot be mixed in a large amount in advance, the blending frequency increases, and a reduction in efficiency is inevitable.
In order to solve the problem of such a two-component epoxy resin compounded product, several one-component epoxy resin compositions have been proposed so far. For example, there is an epoxy resin blended with a latent curing agent such as dicyandiamide, BF 3 -amine complex, amine salt, or modified imidazole compound.
しかし、これらの潜在性硬化剤は、貯蔵安定性に優れているものは、硬化性が低く、硬化に高温または長時間必要であり、一方、硬化性が高い物は貯蔵安定性が低く、例えば−20℃等の低温で貯蔵する必要がある。例えば、ジシアンジアミドは、配合品の貯蔵安定性は、常温保存の場合に6ヵ月以上であるが、170℃以上の硬化温度が必要であり、この硬化温度を低下させるために、硬化促進剤を併用すると、例えば130℃での硬化が可能であるが、一方、室温での貯蔵安定性が不十分であり、低温での貯蔵を余儀なくされ、高い硬化性と優れた貯蔵安定性を両立し得る組成物が強く求められていた。また、フィルム状成形品や、基材にエポキシ樹脂を含浸した製品を得る場合、溶剤や反応性希釈剤等を含む配合品となる場合が多く、従来の潜在性硬化剤をかかる配合品の硬化剤として用いた場合、貯蔵安定性が極端に下がり、実質的に二液性とする必要がありその改善が求められていた。 However, these latent curing agents, which are excellent in storage stability, have low curability and require high temperature or long time for curing, while those having high curability have low storage stability, for example It is necessary to store at a low temperature such as -20 ° C. For example, the storage stability of dicyandiamide is 6 months or more when stored at room temperature, but a curing temperature of 170 ° C. or higher is required. In order to lower this curing temperature, a curing accelerator is used in combination. Then, for example, curing at 130 ° C. is possible, but on the other hand, storage stability at room temperature is insufficient, storage at low temperature is unavoidable, and high curability and excellent storage stability can be achieved at the same time. There was a strong demand for things. In addition, when obtaining a film-like molded product or a product in which a base material is impregnated with an epoxy resin, it is often a compounded product containing a solvent, a reactive diluent, etc., and the conventional latent curing agent is cured with such a compounded product. When used as an agent, the storage stability is drastically lowered, and it is necessary to make it substantially two-component.
その要求に対し、数多くの研究がなされ、例えば、特許文献1にイソシアネート化合物の反応物により表面が被覆されたエポキシ樹脂用硬化剤が記載されている。
しかし近年、特に電子機器分野において、回路の高密度化や接続信頼性の向上に対応するため、またモバイル機器の軽量化として耐熱性の低い材料を使用するために、あるいは生産性を大幅に改善する目的で、接続材料の一つとして用いられる一液性エポキシ樹脂組成物に対して、貯蔵安定性を損なわずに、硬化性の一層の向上が強く求められ、従来技術ではその達成は困難であった。
Numerous studies have been made to meet this requirement. For example, Patent Document 1 discloses a curing agent for epoxy resin whose surface is coated with a reaction product of an isocyanate compound.
However, in recent years, especially in the field of electronic equipment, to cope with higher circuit density and higher connection reliability, to use materials with low heat resistance as lighter mobile devices, or to greatly improve productivity. Therefore, the one-part epoxy resin composition used as one of the connection materials is strongly required to further improve the curability without impairing the storage stability, which is difficult to achieve with the conventional technology. there were.
本発明は、極めて高い速硬化性と常温での貯蔵安定性を得るエポキシ樹脂用硬化剤、およびエポキシ樹脂組成物、そして、貯蔵安定性が高く、低温あるいは短時間の硬化条件で
あっても、高い接続信頼性、高い封止性が得られる接着材料、導電材料、絶縁材料、封止材料、コーティング材料、塗料組成物、プリプレグ、構造用接着剤、熱伝導性材料等を提供することを目的とする。
The present invention is an epoxy resin curing agent and an epoxy resin composition that have extremely high fast curing properties and storage stability at room temperature, and high storage stability, even under low temperature or short time curing conditions. The purpose is to provide adhesive materials, conductive materials, insulating materials, sealing materials, coating materials, coating compositions, prepregs, structural adhesives, heat conductive materials, etc. that can provide high connection reliability and high sealing performance. And
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定分子量分布のアミンアダクトに特定比率の低分子アミン化合物を含有するエポキシ樹脂用硬化剤、および/または、その硬化剤をコアとして用い、硬化剤をマイクロカプセル化した硬化剤、および/または、そのマイクロカプセル化した硬化剤をエポキシ樹脂と配合したマスターバッチ型硬化剤を、好ましくは環状ホウ酸エステル化合物を含有させることによって、上記課題を解決することを見出し、本発明をなすに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a curing agent for an epoxy resin containing a low molecular weight amine compound in a specific ratio in an amine adduct having a specific molecular weight distribution and / or a curing agent thereof. By containing a curing agent in which a curing agent is microencapsulated and / or a masterbatch type curing agent in which the microencapsulated curing agent is blended with an epoxy resin, preferably a cyclic borate compound. The present inventors have found that the above problems can be solved, and have made the present invention.
即ち、本発明は、下記の通りである。
1)アミンアダクト(A)と低分子アミン化合物(B)を主成分とするエポキシ樹脂用硬化剤であって、アミンアダクト(A)の重量平均分子量と数平均分子量の比として定義される分子量分布が1を超えて7以下にあって、かつ、低分子アミン化合物(B)の含有量がアミンダクト(A)100質量部に対して、1質量部を超えて10質量部までにあり、エポキシ樹脂用硬化剤の140℃での溶融粘度が0.1mPa・sから30Pa・sまでにあることを特徴とするエポキシ樹脂用硬化剤。
2)25℃で固体状であることを特徴とする上記1)に記載のエポキシ樹脂用硬化剤。
That is, the present invention is as follows.
1) A curing agent for an epoxy resin mainly composed of an amine adduct (A) and a low molecular weight amine compound (B), the molecular weight distribution defined as the ratio of the weight average molecular weight and the number average molecular weight of the amine adduct (A) Is more than 1 and 7 or less, and the content of the low-molecular amine compound (B) is more than 1 part by mass and 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the amine duct (A). An epoxy resin curing agent, wherein the resin curing agent has a melt viscosity at 140 ° C. of from 0.1 mPa · s to 30 Pa · s.
2) The epoxy resin curing agent as described in 1) above, which is solid at 25 ° C.
3)アミンアダクト(A)がエポキシ樹脂(a1)とアミン化合物(b1)との反応により得られることを特徴とする上記1)又は2)に記載のエポキシ樹脂用硬化剤。
4)低分子アミン化合物(B)がイミダゾール類であることを特徴とする上記1)〜3)のいずれかに記載のエポキシ樹脂用硬化剤。
5)上記1)〜4)のエポキシ樹脂用硬化剤よりなる群より選ばれる少なくとも1種のエポキシ樹脂用硬化剤(C)からなるコアの表面を合成樹脂および/または無機酸化物からなるシェルによって被覆されている構造を持つことを特徴とするマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤。
3) The curing agent for epoxy resin according to 1) or 2) above, wherein the amine adduct (A) is obtained by a reaction between the epoxy resin (a1) and the amine compound (b1).
4) The curing agent for epoxy resin according to any one of 1) to 3) above, wherein the low molecular amine compound (B) is an imidazole.
5) The surface of the core composed of at least one epoxy resin curing agent (C) selected from the group consisting of the epoxy resin curing agents of 1) to 4) above is formed by a shell composed of a synthetic resin and / or an inorganic oxide. A microcapsule type epoxy resin curing agent characterized by having a coated structure.
6)マイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)は、上記1)〜4)のエポキシ樹脂用硬化剤よりなる群より選ばれる少なくとも1種のエポキシ樹脂用硬化剤(C)からなるコアを、イソシアネート化合物(G)と活性水素化合物(H)の反応により得られた皮膜(c1)および/またはエポキシ樹脂用硬化剤(C)とエポキシ樹脂(N)の反応より得られた皮膜(c2)からなるシェルで被覆した、波数1630〜1680cm−1の赤外線を吸収する結合基(x)と波数1680〜1725cm−1の赤外線を吸収する結合基(y)を少なくとも表面に有することを特徴とするマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤。
7)エポキシ樹脂(N)の全塩素量が2500ppm以下であることを特徴とする上記6)に記載のマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤。
6) The microcapsule type epoxy resin curing agent (D) has a core composed of at least one epoxy resin curing agent (C) selected from the group consisting of the epoxy resin curing agents 1) to 4) above. From the film (c1) obtained by the reaction of the isocyanate compound (G) and the active hydrogen compound (H) and / or the film (c2) obtained from the reaction of the epoxy resin curing agent (C) and the epoxy resin (N). And a bonding group (x) that absorbs infrared rays having a wave number of 1630 to 1680 cm −1 and a bonding group (y) that absorbs infrared rays having a wave number of 1680 to 1725 cm −1 , which are coated with a shell of Hardener for capsule type epoxy resin.
7) The microcapsule type epoxy resin curing agent as described in 6) above, wherein the total chlorine content of the epoxy resin (N) is 2500 ppm or less.
8)10〜50000重量部のエポキシ樹脂(E)に上記1)〜4)いずれかに記載のエポキシ樹脂用硬化剤(C)および/または上記5)〜7)いずれかに記載のマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)を、エポキシ樹脂用硬化剤(C)および/または(D)として100重量部を配合したことを特徴とするマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物。
9)上記8)記載のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)の全塩素量が2500ppm以下であることを特徴とするマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物。
10)エポキシ樹脂(E)の全塩素量が2500ppm以下であることを特徴とする上
記8)または9)に記載のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物。
8) The epoxy resin curing agent (C) according to any one of 1) to 4) above and / or the microcapsule type according to any one of 5) to 7) above in 10 to 50000 parts by weight of the epoxy resin (E). A curing agent composition for a masterbatch type epoxy resin, comprising 100 parts by weight of the curing agent for epoxy resin (D) as the curing agent for epoxy resin (C) and / or (D).
9) The masterbatch type epoxy resin curing agent composition according to 8) above, wherein the total chlorine content of the masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) is 2500 ppm or less.
10) The hardener composition for a masterbatch type epoxy resin according to 8) or 9) above, wherein the total chlorine content of the epoxy resin (E) is 2500 ppm or less.
11)エポキシ樹脂(E)のジオール末端不純成分が、エポキシ樹脂(E)の基本構造成分の0.001〜30質量%であることを特徴とする上記8)〜10)のいずれかに記載のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物。
12)さらに、環状ホウ酸エステル化合物(L)を含有することを特徴とする上記8)〜11)のいずれかに記載のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物。
13)前記の環状ホウ酸エステル化合物(L)は、2,2’−オキシビス(5,5’−ジメチル−1,3,2−オキサボリナン)である上記12)に記載のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物。
11) The diol terminal impure component of the epoxy resin (E) is 0.001 to 30% by mass of the basic structural component of the epoxy resin (E), according to any one of 8) to 10) above Hardener composition for masterbatch type epoxy resin.
12) The curing agent composition for a masterbatch type epoxy resin according to any one of 8) to 11), further comprising a cyclic borate ester compound (L).
13) The master batch type epoxy resin according to 12) above, wherein the cyclic borate compound (L) is 2,2′-oxybis (5,5′-dimethyl-1,3,2-oxaborinane). Hardener composition.
14)前記の環状ホウ酸エステル化合物(L)の配合量は、エポキシ樹脂(E)100質量部に対して0.001〜10質量部である上記12)または13)に記載のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物。
15)エポキシ樹脂(J)100質量部に対して、前記1)〜14)のいずれかに記載のエポキシ樹脂用硬化剤、マイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物から選ばれる少なくとも1種を0. 1〜1000質量部含有し、それらを主成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
16)エポキシ樹脂(J)100質量部に対して、酸無水物類、フェノール類、ヒドラジド類、およびグアニジン類よりなる群より選ばれる少なくとも1種の硬化剤(K)を1〜200質量部と、前記1)〜11)のいずれかに記載のエポキシ樹脂用硬化剤、マイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物から選ばれる少なくとも1種を、0.1〜200質量部を含有し、それらを主成分とするエポキシ樹脂組成物。
14) The masterbatch type epoxy according to 12) or 13) above, wherein the amount of the cyclic borate compound (L) is 0.001 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (E). Hardener composition for resin.
15) The epoxy resin curing agent according to any one of 1) to 14), the microcapsule type epoxy resin curing agent, and the masterbatch type epoxy resin curing agent composition with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (J). An epoxy resin composition comprising 0.1 to 1000 parts by mass of at least one selected from products and containing them as a main component.
16) 1 to 200 parts by mass of at least one curing agent (K) selected from the group consisting of acid anhydrides, phenols, hydrazides, and guanidines with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (J). And at least one selected from the curing agent for epoxy resins, the curing agent for microcapsule type epoxy resins, and the curing agent composition for masterbatch type epoxy resins according to any one of 1) to 11) above, The epoxy resin composition which contains 200 mass parts and has them as a main component.
17)さらに、環状ホウ酸エステル化合物(L)を含有することを特徴とする前記15)または16)に記載のエポキシ樹脂組成物。
18)前記の環状ホウ酸エステル化合物(L)は、2,2’−オキシビス(5,5’−ジメチル−1,3,2−オキサボリナン)であることを特徴とする前記15)または16)に記載のエポキシ樹脂組成物。
19)前記の環状ホウ酸エステル化合物(L)の配合量は、エポキシ樹脂(E)100質量部に対して0.001〜10質量部であることを特徴とする前記15)または16)に記載のエポキシ樹脂組成物。
20)前記8)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とするペースト状組成物。
21)前記8)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とするフィルム状組成物。
17) The epoxy resin composition as described in 15) or 16) above, which further contains a cyclic borate ester compound (L).
18) In the above 15) or 16), the cyclic borate compound (L) is 2,2′-oxybis (5,5′-dimethyl-1,3,2-oxaborinane). The epoxy resin composition as described.
19) The amount of the cyclic borate compound (L) is 0.001 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (E). Epoxy resin composition.
20) A paste-like composition comprising the epoxy resin composition according to any one of 8) to 19).
21) A film-like composition comprising the epoxy resin composition according to any one of 8) to 19).
22)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とする接着剤。
23)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とする接合用ペースト。
24)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とする接合用フィルム。
25)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とする導電性材料。
26)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とする異方導電性材料。
27)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とする異方導電性フィルム。
22) An adhesive comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
23) A bonding paste comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
24) A bonding film comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
25) A conductive material comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
26) An anisotropic conductive material comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
27) An anisotropic conductive film comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
28)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とする絶縁性材料。
29)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とする封止材料。
30)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とするコーティング用材料。
31)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とする塗料組成物。
32)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とするプリプレグ。
33)前記15)〜19)のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を含有することを特徴とする熱伝導性材料。
28) An insulating material comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
29) A sealing material comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
30) A coating material comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
31) A coating composition comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
32) A prepreg comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
33) A thermally conductive material comprising the epoxy resin composition according to any one of 15) to 19).
本発明のエポキシ樹脂用硬化剤およびエポキシ樹脂組成物は、極めて高い速硬化性と常温での貯蔵安定性の両立に効果を有するとともに、その硬化物が信頼性、耐水性、電気的特性に優れた特性を発現する。 The curing agent for epoxy resin and the epoxy resin composition of the present invention are effective in achieving both extremely high rapid curing properties and storage stability at room temperature, and the cured product has excellent reliability, water resistance, and electrical characteristics. Express the characteristics.
本発明について、以下具体的に説明する。
本発明は、アミンアダクト(A)を主成分とし、低分子アミン化合物(B)を特定比率で含有するエポキシ樹脂用硬化剤(C)からなるコアの表面を、シェルで被覆したマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)および、該マイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)をエポキシ樹脂(E)に分散させてマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤としたものである。
The present invention will be specifically described below.
The present invention relates to a microcapsule type epoxy in which the surface of a core made of an epoxy resin curing agent (C) containing an amine adduct (A) as a main component and containing a low molecular amine compound (B) in a specific ratio is coated with a shell. The curing agent for resin (D) and the curing agent for epoxy resin of microcapsule type (D) are dispersed in the epoxy resin (E) to obtain a curing agent for masterbatch type epoxy resin.
アミンアダクト(A)の説明を行う。
アミンアダクト(A)は、カルボン酸化合物、スルホン酸化合物、イソシアネート化合物、尿素化合物およびエポキシ樹脂(a1)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物とアミン化合物(b1)とを反応して得られるアミノ基を有する化合物である。アミンアダクト(A)の原料として用いられる、カルボン酸化合物、スルホン酸化合物、イソシアネート化合物、尿素化合物およびエポキシ樹脂(a1)を下記に示す。
カルボン酸化合物としては、例えば、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、ダイマー酸等が挙げられる。
スルホン酸化合物としては、例えば、エタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
The amine adduct (A) will be described.
The amine adduct (A) is obtained by reacting at least one compound selected from the group consisting of a carboxylic acid compound, a sulfonic acid compound, an isocyanate compound, a urea compound and an epoxy resin (a1) with the amine compound (b1). It is a compound having an amino group. The carboxylic acid compound, sulfonic acid compound, isocyanate compound, urea compound and epoxy resin (a1) used as the raw material for the amine adduct (A) are shown below.
Examples of the carboxylic acid compound include succinic acid, adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, and dimer acid.
Examples of the sulfonic acid compound include ethanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid.
イソシアネート化合物としては、例えば、脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、芳香族ジイソシアネート、脂肪族トリイソシアネート、ポリイソシアネートを挙げることができる。脂肪族ジイソシアネートの例としては、エチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等を挙げることができる。脂環式ジイソシアネートの例としては、イソホロンジイソシアネート、4−4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、1,4−イソシアナトシクロヘキサン、1,3−ビス(イソシアナトメチル)−シクロヘキサン、1,3−ビス(2−イソシアナトプロピル−2イル)−シクロヘキサン等を挙げることができる。芳香族ジイソシアネートの例としては、トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート等を挙げることができる。脂肪族トリイソシアネートの例としては、1,3,6−トリイソシ
アネートメチルヘキサン、2,6−ジイソシアナトヘキサン酸−2−イソシアナトエチル等を挙げることができる。ポリイソシアネートとしては、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネートや上記ジイソシアネート化合物より誘導されるポリイソシアネートが例示される。上記ジイソシアネートより誘導されるポリイソシアネートとしては、イソシアヌレート型ポリイソシアネート、ビュレット型ポリイソシアネート、ウレタン型ポリイソシアネート、アロハネート型ポリイソシアネート、カルボジイミド型ポリイソシアネート等がある。
尿素化合物としては、例えば、尿素、メチル尿素、ジメチル尿素、エチル尿素、t −ブチル尿素等が挙げられる。
Examples of the isocyanate compound include aliphatic diisocyanate, alicyclic diisocyanate, aromatic diisocyanate, aliphatic triisocyanate, and polyisocyanate. Examples of the aliphatic diisocyanate include ethylene diisocyanate, propylene diisocyanate, butylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and trimethylhexamethylene diisocyanate. Examples of alicyclic diisocyanates include isophorone diisocyanate, 4-4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, norbornane diisocyanate, 1,4-isocyanatocyclohexane, 1,3-bis (isocyanatomethyl) -cyclohexane, 1,3-bis. (2-isocyanatopropyl-2-yl) -cyclohexane and the like can be mentioned. Examples of the aromatic diisocyanate include tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, and the like. Examples of the aliphatic triisocyanate include 1,3,6-triisocyanate methylhexane, 2,6-diisocyanatohexanoic acid-2-isocyanatoethyl and the like. Examples of the polyisocyanate include polymethylene polyphenyl polyisocyanate and polyisocyanate derived from the diisocyanate compound. Examples of the polyisocyanate derived from the diisocyanate include isocyanurate type polyisocyanate, burette type polyisocyanate, urethane type polyisocyanate, allophanate type polyisocyanate, and carbodiimide type polyisocyanate.
Examples of the urea compound include urea, methylurea, dimethylurea, ethylurea, t-butylurea and the like.
エポキシ樹脂(a1)としては、モノエポキシ化合物、多価エポキシ化合物のいずれか又はそれらの混合物が用いられる。モノエポキシ化合物としては、ブチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、パラ−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、パラキシリルグリシジルエーテル、グリシジルアセテート、グリシジルブチレート、グリシジルヘキソエート、グリシジルベンゾエート等を挙げることができる。 多価エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールAD、テトラメチルビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA、テトラクロロビスフェノールA、テトラフルオロビスフェノールA等のビスフェノール類をグリシジル化したビスフェノール型エポキシ樹脂;ビフェノール、ジヒドロキシナフタレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等のその他の2価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4−(1−(4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル)エチリデン)ビスフェノール等のトリスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;1,1,2,2,−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等のテトラキスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノールAノボラック、臭素化フェノールノボラック、臭素化ビスフェノールAノボラック等のノボラック類をグリシジル化したノボラック型エポキシ樹脂等;多価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、グリセリンやポリエチレングリコール等の多価アルコールをグリシジル化した脂肪族エーテル型エポキシ樹脂;p−オキシ安息香酸、β−オキシナフトエ酸等のヒドロキシカルボン酸をグリシジル化したエーテルエステル型エポキシ樹脂;フタル酸、テレフタル酸のようなポリカルボン酸をグリシジル化したエステル型エポキシ樹脂;4,4−ジアミノジフェニルメタンやm−アミノフェノール等のアミン化合物のグリシジル化物やトリグリシジルイソシアヌレート等のアミン型エポキシ樹脂等のグリシジル型エポキシ樹脂と、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環族エポキサイド等が例示される。
アミンアダクト(A)の原料として用いられる、カルボン酸化合物、スルホン酸化合物、イソシアネート化合物、尿素化合物およびエポキシ樹脂(a1)のうち、エポキシ樹脂(a1)が高い硬化性と貯蔵安定性に優れており好ましい。
As the epoxy resin (a1), a monoepoxy compound, a polyvalent epoxy compound, or a mixture thereof is used. Monoepoxy compounds include butyl glycidyl ether, hexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, para-tert-butylphenyl glycidyl ether, ethylene oxide, propylene oxide, paraxyl glycidyl ether, glycidyl acetate, glycidyl butyrate, glycidyl Examples include hexoate and glycidyl benzoate. Examples of the polyvalent epoxy compound include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, tetramethyl bisphenol A, tetramethyl bisphenol F, tetramethyl bisphenol AD, tetramethyl bisphenol S, tetrabromobisphenol A, and tetrachlorobisphenol A. Bisphenol-type epoxy resin obtained by glycidylation of bisphenols such as tetrafluorobisphenol A; epoxy resin obtained by glycidylation of other dihydric phenols such as biphenol, dihydroxynaphthalene and 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene; 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) methane, 4,4- (1- (4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) pheny ) Ethylidene) Epoxy resin obtained by glycidylation of trisphenol such as bisphenol; Epoxy resin obtained by glycidylation of tetrakisphenol such as 1,1,2,2, -tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane; Phenol novolak, Cresol novolak , Novolak-type epoxy resins obtained by glycidylating novolaks such as bisphenol A novolak, brominated phenol novolak, brominated bisphenol A novolak, etc .; epoxy resins obtained by glycidylating polyhydric phenols, polyhydric alcohols such as glycerin and polyethylene glycol Glycidylated aliphatic ether type epoxy resin; ether ester type epoxy resin obtained by glycidylation of hydroxycarboxylic acid such as p-oxybenzoic acid and β-oxynaphthoic acid; phthalic acid, Ester-type epoxy resin obtained by glycidylation of polycarboxylic acid such as terephthalic acid; Glycidyl type such as amine-type epoxy resin such as glycidylated products of amine compounds such as 4,4-diaminodiphenylmethane and m-aminophenol and triglycidyl isocyanurate Examples include epoxy resins and alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate.
Of the carboxylic acid compound, sulfonic acid compound, isocyanate compound, urea compound, and epoxy resin (a1) used as a raw material for the amine adduct (A), the epoxy resin (a1) has high curability and storage stability. preferable.
エポキシ樹脂(a1)としては、エポキシ樹脂組成物の貯蔵安定性を高めることができるので、多価エポキシ化合物が好ましい。多価エポキシ化合物としては、アミン化合物の生産性が圧倒的に高いので、グリシジル型エポキシ樹脂が好ましく、より好ましくは、硬化物の接着性や耐熱性が優れるため多価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂であり、更に好ましくはビスフェノール型エポキシ樹脂である。ビスフェノールAをグリシジル化したエポキシ樹脂とビスフェノールFをグリシジル化したエポキシ樹脂が一層好ましい。ビスフェノールAをグリシジル化したエポキシ樹脂が更に一層好ましい。これらエポキシ樹脂は単独で使用しても併用しても良い。 As an epoxy resin (a1), since the storage stability of an epoxy resin composition can be improved, a polyvalent epoxy compound is preferable. As polyvalent epoxy compounds, amine compounds are overwhelmingly high in productivity, so glycidyl-type epoxy resins are preferable, and more preferably, epoxy having glycidylated polyhydric phenols because of excellent adhesion and heat resistance of cured products. Resin, more preferably bisphenol type epoxy resin. An epoxy resin obtained by glycidylating bisphenol A and an epoxy resin obtained by glycidylating bisphenol F are more preferable. An epoxy resin obtained by glycidylating bisphenol A is even more preferable. These epoxy resins may be used alone or in combination.
エポキシ樹脂(a1)の全塩素量は、硬化性と貯蔵安定性のバランスの取れたエポキシ樹脂組成物を得るためには、2500ppm以下が好ましい。
より好ましくは2000ppm以下であり、より好ましくは1500ppm以下であり、より好ましくは800ppm以下であり、より好ましくは400ppm以下であり、より好ましくは180ppm以下であり、より好ましくは100ppm以下であり、より好ましくは80ppm以下であり、さらに好ましくは50ppm以下である。
The total chlorine content of the epoxy resin (a1) is preferably 2500 ppm or less in order to obtain an epoxy resin composition having a balance between curability and storage stability.
More preferably, it is 2000 ppm or less, More preferably, it is 1500 ppm or less, More preferably, it is 800 ppm or less, More preferably, it is 400 ppm or less, More preferably, it is 180 ppm or less, More preferably, it is 100 ppm or less, More preferably Is 80 ppm or less, more preferably 50 ppm or less.
本発明において全塩素量とは、化合物中に含まれる有機塩素及び無機塩素の総量のことであり、化合物に対する質量基準の値である。全塩素量は、つぎの方法により測定されて得られる。エポキシ樹脂組成物を、キシレンを用いて、エポキシ樹脂が無くなるまで洗浄と濾過を繰り返す。次にろ液を100℃以下で減圧留去し、エポキシ樹脂を得る。得られたエポキシ樹脂試料1〜10gを滴定量が3〜7mlになるよう精秤し、25mlのエチレングリコールモノブチルエーテルに溶解し、これに1規定KOHのプロピレングリコール溶液25mlを加えて20分間煮沸したのち、硝酸銀水溶液で滴定した滴定量より計算して得られる。 In the present invention, the total chlorine amount is the total amount of organic chlorine and inorganic chlorine contained in the compound, and is a value based on the mass of the compound. The total chlorine amount is obtained by measuring by the following method. The epoxy resin composition is repeatedly washed and filtered with xylene until the epoxy resin is exhausted. Next, the filtrate is distilled off under reduced pressure at 100 ° C. or lower to obtain an epoxy resin. The obtained epoxy resin samples 1 to 10 g were precisely weighed so that the titration amount was 3 to 7 ml, dissolved in 25 ml of ethylene glycol monobutyl ether, added with 25 ml of 1N KOH propylene glycol solution and boiled for 20 minutes. After that, it is obtained by calculation from titration titrated with an aqueous silver nitrate solution.
全塩素量が2500ppm以下のエポキシ樹脂(a1)を用いることにより、硬化反応性の高い硬化剤を得ることができる。
また、シェル形成反応のコントロールを容易にするためには全塩素量は、0.01ppm以上が好ましい。より好ましくは0.02ppm以上であり、より好ましくは0.05ppm以上であり、より好ましくは0.1ppm以上であり、より好ましくは0.2ppm以上であり、さらに好ましくは0.5ppm以上である。全塩素量が0.1ppm以上であることにより、シェル形成反応が硬化剤表面で効率よく行われ、貯蔵安定性に優れたシェルを得ることができる。硬化剤のたとえば、全塩素量の好ましい範囲は0.1ppm以上200ppm以下であり、より好ましい範囲は0.2ppm以上80ppm以下であり、より好ましい範囲は0.5ppm以上50ppm以下である。
By using an epoxy resin (a1) having a total chlorine content of 2500 ppm or less, a curing agent having high curing reactivity can be obtained.
Further, in order to facilitate control of the shell formation reaction, the total chlorine amount is preferably 0.01 ppm or more. More preferably, it is 0.02 ppm or more, More preferably, it is 0.05 ppm or more, More preferably, it is 0.1 ppm or more, More preferably, it is 0.2 ppm or more, More preferably, it is 0.5 ppm or more. When the total chlorine amount is 0.1 ppm or more, the shell forming reaction is efficiently performed on the surface of the curing agent, and a shell having excellent storage stability can be obtained. For example, a preferable range of the total amount of chlorine in the curing agent is 0.1 ppm to 200 ppm, a more preferable range is 0.2 ppm to 80 ppm, and a more preferable range is 0.5 ppm to 50 ppm.
全塩素の内、1、2−クロロヒドリン基に含まれる塩素は一般に加水分解性塩素と呼ばれるが、また、アミンアダクトの原料として用いられるエポキシ樹脂中の加水分解性塩素量は、好ましくは50ppm以下、より好ましくは0.01 から20ppm、更に好ましくは、0.05から1 0ppmである。加水分解性塩素は、つぎの方法により測定されて得られる。試料3gを50mlのトルエンに溶解し、これに0.1規定KOHのメタノール溶液20mlを加えて15分間煮沸した後、硝酸銀水溶液で滴定した滴定量より計算して得られる。
加水分解性塩素量が50ppm以下で、高い硬化性と貯蔵安定性の両立に対し有利であり、優れた電気特性を示し好ましい。
これらエポキシ樹脂は単独で使用しても併用しても良い。
Among the total chlorine, chlorine contained in the 1,2-chlorohydrin group is generally referred to as hydrolyzable chlorine, and the amount of hydrolyzable chlorine in the epoxy resin used as a raw material for the amine adduct is preferably 50 ppm or less. More preferably, it is 0.01 to 20 ppm, and still more preferably 0.05 to 10 ppm. Hydrolyzable chlorine is obtained by measurement by the following method. 3 g of a sample is dissolved in 50 ml of toluene, 20 ml of a 0.1 N KOH methanol solution is added thereto, and the mixture is boiled for 15 minutes, and then calculated by titration titrated with an aqueous silver nitrate solution.
A hydrolyzable chlorine content of 50 ppm or less is advantageous for achieving both high curability and storage stability, and exhibits excellent electrical properties.
These epoxy resins may be used alone or in combination.
アミン化合物(b1)としては、少なくとも1 個の一級アミノ基および/または二級アミノ基を有するが三級アミノ基を有さない化合物と、少なくとも1個の三級アミノ基と少なくとも1個の活性水素基を有する化合物が挙げられる。
少なくとも1 個の一級アミノ基および/または二級アミノ基を有するが三級アミノ基を有さない化合物としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、エタノールアミン、プロパノールアミン、シクロヘキシルアミン、イソホロンジアミン、アニリン、トルイジン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等の三級アミノ基を有さない第一アミン類、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジメタノールアミン、ジエタノールアミン、ジプロパノールアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、ピペリジン、ピペリドン、ジフェニルアミン、フェニルメチルアミン、フェニルエチルアミン等の三級アミノ基を有さない第二アミン類を挙げることができる。
少なくとも1個の三級アミノ基と少なくとも1個の活性水素基を有する化合物において、活性水素基としては一級アミノ基、二級アミノ基、水酸基、チオール基、カルボン酸、ヒドラジド基が例示される。
The amine compound (b1) includes at least one primary amino group and / or secondary amino group but no tertiary amino group, at least one tertiary amino group and at least one activity. Examples thereof include compounds having a hydrogen group.
Examples of the compound having at least one primary amino group and / or secondary amino group but not having a tertiary amino group include, for example, methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, Primary amines having no tertiary amino group such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, ethanolamine, propanolamine, cyclohexylamine, isophoronediamine, aniline, toluidine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, such as dimethylamine, diethylamine, Dipropylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, dimethanolamine, diethanolamine, dipropanolamine, dicyclohexylamine, Perijin, piperidone, diphenylamine, phenylmethylamine, mention may be made of secondary amines having no tertiary amino group such as phenylethylamine.
In the compound having at least one tertiary amino group and at least one active hydrogen group, examples of the active hydrogen group include a primary amino group, a secondary amino group, a hydroxyl group, a thiol group, a carboxylic acid, and a hydrazide group.
少なくとも1個の三級アミノ基と少なくとも1個の活性水素基を有する化合物としては、例えば、2−ジメチルアミノエタノール、1−メチル−2−ジメチルアミノエタノール、1−フェノキシメチル−2−ジメチルアミノエタノール、2−ジエチルアミノエタノール、1−ブトキシメチル−2−ジメチルアミノエタノール、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−β−ヒドロキシエチルモルホリン等のアミノアルコール類;2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等のアミノフェノール類;2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−アミノエチル−2−メチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)−2−メチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシ−3−ブトキシプロピル)−2−メチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシ−3−ブトキシプロピル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類;1−(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)−2−フェニルイミダゾリン、1−(2−ヒドロキシ−3−ブトキシプロピル)−2−メチルイミダゾリン、2−メチルイミダゾリン、2,4−ジメチルイミダゾリン、2−エチルイミダゾリン、2−エチル−4−メチルイミダゾリン、2−ベンジルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2−(o−トリル)−イミダゾリン、テトラメチレン−ビス−イミダゾリン、1,1,3−トリメチル−1,4−テトラメチレン−ビス−イミダゾリン、1,3,3−トリメチル−1,4−テトラメチレン−ビス−イミダゾリン、1,1,3−トリメチル−1,4−テトラメチレン−ビス−4−メチルイミダゾリン、1,3,3−トリメチル−1,4−テトラメチレン−ビス−4−メチルイミダゾリン、1,2−フェニレン−ビス−イミダゾリン、1,3−フェニレン−ビス−イミダゾリン、1,4−フェニレン−ビス−イミダゾリン、1,4−フェニレン−ビス−4−メチルイミダゾリン等のイミダゾリン類、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ジプロピルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノプロピルアミン、ジメチルアミノエチルアミン、ジエチルアミノエチルアミン、ジプロピルアミノエチルアミン、ジブチルアミノエチルアミン、N−メチルピペラジン、N−アミノエチルピペラジン、ジエチルアミノエチルピペラジン等の三級アミノアミン類;2−ジメチルアミノエタンチオール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトピリジン、4−メルカプトピリジン等のアミノメルカプタン類;N,N−ジメチルアミノ安息香酸、N,N−ジメチルグリシン、ニコチン酸、イソニコチン酸、ピコリン酸等のアミノカルボン酸類;N,N−ジメチルグリシンヒドラジド、ニコチン酸ヒドラジド、イソニコチン酸ヒドラジド等のアミノヒドラジド類を挙げることができる。
アミン化合物(b1)としては、貯蔵安定性と硬化性のバランスが優れているので、少なくとも1個の三級アミノ基と少なくとも1個の活性水素基を有する化合物が好ましく、イミダゾール類が更に好ましく、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールが一層好ましい。
Examples of the compound having at least one tertiary amino group and at least one active hydrogen group include 2-dimethylaminoethanol, 1-methyl-2-dimethylaminoethanol, 1-phenoxymethyl-2-dimethylaminoethanol. Amino alcohols such as 2-diethylaminoethanol, 1-butoxymethyl-2-dimethylaminoethanol, methyldiethanolamine, triethanolamine, N-β-hydroxyethylmorpholine; 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4, Aminophenols such as 6-tris (dimethylaminomethyl) phenol; 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-amino Ethyl-2-methylimidazole, 1- (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) -2-methylimidazole, 1- (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 1- ( Imidazoles such as 2-hydroxy-3-butoxypropyl) -2-methylimidazole and 1- (2-hydroxy-3-butoxypropyl) -2-ethyl-4-methylimidazole; 1- (2-hydroxy-3- Phenoxypropyl) -2-phenylimidazoline, 1- (2-hydroxy-3-butoxypropyl) -2-methylimidazoline, 2-methylimidazoline, 2,4-dimethylimidazoline, 2-ethylimidazoline, 2-ethyl-4- Methyl imidazoline, 2-benzyl imidazoline, 2-phenyl imidazoline 2- (o-tolyl) -imidazoline, tetramethylene-bis-imidazoline, 1,1,3-trimethyl-1,4-tetramethylene-bis-imidazoline, 1,3,3-trimethyl-1,4-tetra Methylene-bis-imidazoline, 1,1,3-trimethyl-1,4-tetramethylene-bis-4-methylimidazoline, 1,3,3-trimethyl-1,4-tetramethylene-bis-4-methylimidazoline, Imidazolines such as 1,2-phenylene-bis-imidazoline, 1,3-phenylene-bis-imidazoline, 1,4-phenylene-bis-imidazoline, 1,4-phenylene-bis-4-methylimidazoline, dimethylaminopropyl Amine, diethylaminopropylamine, dipropylaminopropylamine, dibutylaminopropyl Tertiary aminoamines such as amine, dimethylaminoethylamine, diethylaminoethylamine, dipropylaminoethylamine, dibutylaminoethylamine, N-methylpiperazine, N-aminoethylpiperazine, diethylaminoethylpiperazine; 2-dimethylaminoethanethiol, 2-mercapto Aminomercaptans such as benzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptopyridine, 4-mercaptopyridine; N, N-dimethylaminobenzoic acid, N, N-dimethylglycine, nicotinic acid, isonicotinic acid, picolinic acid, etc. And amino hydrazides such as N, N-dimethylglycine hydrazide, nicotinic acid hydrazide and isonicotinic acid hydrazide.
The amine compound (b1) is preferably a compound having at least one tertiary amino group and at least one active hydrogen group, more preferably an imidazole, since it has an excellent balance between storage stability and curability. 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole are more preferable.
本発明においては、アミンアダクト(A)の分子量分布を特定範囲にすることで一液性エポキシ樹脂組成物の貯蔵安定性を損なうことなく、エポキシ樹脂用硬化剤としての高い速硬化性を発揮することができる。
即ち、本発明に用いられるアミンアダクト(A)の分子量分布は1を超えて7以下にす
ることである。ここで分子量分布は重量平均分子量と数平均分子量の比として定義され、ゲルパーミッションクロマトグラフィー(以下GPCと称す)法を用いてポリスチレン換算で求めた分子量より計算される。アミンアダクト(A)の分子量分布は1.01以上6.50以下が好ましく、さらに好ましくは1.20以上5.75以下が好ましく、1.30以上5.00以下にすることが一層好ましい。アミンアダクト(A)の分子量分布を1から7までにすることで、硬化性が高く、かつ貯蔵安定性に優れたエポキシ樹脂組成物が得られる。
In the present invention, by exhibiting the molecular weight distribution of the amine adduct (A) within a specific range, it exhibits high fast curability as a curing agent for epoxy resins without impairing the storage stability of the one-component epoxy resin composition. be able to.
That is, the molecular weight distribution of the amine adduct (A) used in the present invention is more than 1 and 7 or less. Here, the molecular weight distribution is defined as the ratio of the weight average molecular weight to the number average molecular weight, and is calculated from the molecular weight determined in terms of polystyrene using a gel permeation chromatography (hereinafter referred to as GPC) method. The molecular weight distribution of the amine adduct (A) is preferably from 1.01 to 6.50, more preferably from 1.20 to 5.75, and even more preferably from 1.30 to 5.00. By setting the molecular weight distribution of the amine adduct (A) from 1 to 7, an epoxy resin composition having high curability and excellent storage stability can be obtained.
本発明に用いられるアミンアダクト(A)は、例えばエポキシ樹脂(a1)とアミン化合物(b1)を、エポキシ樹脂(a1)のエポキシ基1当量に対して、アミン化合物(b1)中の活性水素基が好ましくは0.8当量〜10当量(更に好ましくは0.9当量〜5当量、一層好ましくは0.95当量〜4当量)の範囲で、必要に応じて溶剤の存在下において、例えば50〜250℃の温度で0.1〜10時間反応させることで得られる。エポキシ基に対する活性水素基の当量比が0.8以上にすることで分子量分布が7以下のアミンアダクト(A)を得るのに有利であり、当量比が10以下で、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤に含まれる低分子アミン化合物(B)の含量を所望の値にするために行う、未反応のアミン化合物(b1)の回収が経済的にでき、有利である。 The amine adduct (A) used in the present invention comprises, for example, an epoxy resin (a1) and an amine compound (b1) in an active hydrogen group in the amine compound (b1) with respect to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin (a1). Is preferably in the range of 0.8 equivalents to 10 equivalents (more preferably 0.9 equivalents to 5 equivalents, more preferably 0.95 equivalents to 4 equivalents), for example, 50 to It is obtained by reacting at a temperature of 250 ° C. for 0.1 to 10 hours. When the equivalent ratio of active hydrogen groups to epoxy groups is 0.8 or more, it is advantageous to obtain an amine adduct (A) having a molecular weight distribution of 7 or less, and the equivalent ratio is 10 or less, for the epoxy resin of the present invention. The recovery of the unreacted amine compound (b1), which is carried out in order to bring the content of the low molecular amine compound (B) contained in the curing agent to a desired value, is advantageous because it is economical.
エポキシ樹脂(a1)とアミン化合物(b1)によりアミンアダクト(A)を得る反応において、必要に応じて用いられる溶剤としては、特別に制限するものではないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ミネラルスピリット、ナフサ等の炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類、メタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール等のアルコール類、水等であり、これらの溶剤は併用しても構わない。用いられた溶剤は蒸留等により除去されることが好ましい。 In the reaction for obtaining the amine adduct (A) from the epoxy resin (a1) and the amine compound (b1), the solvent used as necessary is not particularly limited. For example, benzene, toluene, xylene, cyclohexane , Hydrocarbons such as mineral spirits, naphtha, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, methanol, isopropanol, n-butanol, Examples thereof include alcohols such as butyl cellosolve and butyl carbitol, water, and the like, and these solvents may be used in combination. The solvent used is preferably removed by distillation or the like.
本発明に用いられる低分子アミン化合物(B)は、一級、二級および/または三級アミノ基を有する化合物が挙げられる。これらは併用することができる。
一級アミノ基を有する化合物としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、エタノールアミン、プロパノールアミン、シクロヘキシルアミン、イソホロンジアミン、アニリン、トルイジン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等を挙げることができる。
二級アミノ基を有する化合物としては、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジメタノールアミン、ジエタノールアミン、ジプロパノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピペリジン、ピペリドン、ジフェニルアミン、フェニルメチルアミン、フェニルエチルアミン等を挙げることができる。
Examples of the low molecular amine compound (B) used in the present invention include compounds having primary, secondary and / or tertiary amino groups. These can be used in combination.
Examples of the compound having a primary amino group include methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, ethanolamine, propanolamine, cyclohexylamine, isophoronediamine, aniline, Toluidine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone and the like can be mentioned.
Examples of the compound having a secondary amino group include dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, dimethanolamine, diethanolamine, dipropanolamine, dicyclohexylamine, piperidine, piperidone, diphenylamine, phenyl Examples thereof include methylamine and phenylethylamine.
三級アミノ基を有する化合物としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、べンジルジメチルアミン、N,N' −ジメチルピペラジン、トリエチレンジアミン、1、8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7、1、5−ジアザビシクロ(4,3,0)−ノネン−5等の三級アミン類;2−ジメチルアミノエタノール、1−メチル−2−ジメチルアミノエタノール、1−フェノキシメチル−2−ジメチルアミノエタノール、2−ジエチルアミノエタノール、1−ブトキシメチル−2−ジメチルアミノエタノール、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−β−ヒドロキシエチルモルホリン等のアミノアルコール類;2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等のアミノフェノール類;2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプ
タデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−アミノエチル−2−メチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)−2−メチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシ−3−ブトキシプロピル)−2−メチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシ−3−ブトキシプロピル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類;1−(2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル)−2−フェニルイミダゾリン、1−(2−ヒドロキシ−3−ブトキシプロピル)−2−メチルイミダゾリン、2−メチルイミダゾリン、2,4−ジメチルイミダゾリン、2−エチルイミダゾリン、2−エチル−4−メチルイミダゾリン、2−ベンジルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2−(o−トリル)−イミダゾリン、テトラメチレン−ビス−イミダゾリン、1,1,3−トリメチル1,4―テトラメチレンビスイミダゾリン、1,3,3トリメチル1,4―テトラメチレンビスイミダゾリン、1,1,3トリメチル1,4―テトラメチレンビス4メチルイミダゾリン、1,3,3トリメチル1,4―テトラメチレンビス4メチルイミダゾリン、1,2フェニレンビスイミダゾリン、1,3フェニレンビスイミダゾリン、1,4フェニレンビスイミダゾリン、1,4フェニレンビス4メチルイミダゾリン等のイミダゾリン類、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ジプロピルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノプロピルアミン、ジメチルアミノエチルアミン、ジエチルアミノエチルアミン、ジプロピルアミノエチルアミン、ジブチルアミノエチルアミン、N−メチルピペラジン、N−アミノエチルピペラジン、ジエチルアミノエチルピペラジン等の三級アミノアミン類;2−ジメチルアミノエタンチオール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトピリジン、4−メルカプトピリジン等のアミノメルカプタン類;N,N−ジメチルアミノ安息香酸、N,N−ジメチルグリシン、ニコチン酸、イソニコチン酸、ピコリン酸等のアミノカルボン酸類;N,N−ジメチルグリシンヒドラジド、ニコチン酸ヒドラジド、イソニコチン酸ヒドラジド等のアミノヒドラジド類を挙げることができる。
低分子アミン化合物(B)としては、貯蔵安定性の優れたエポキシ樹脂組成物が得られるため、三級アミノ基を有する化合物が好ましく、イミダゾール類が更に好ましく、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールが一層好ましい。
Examples of the compound having a tertiary amino group include trimethylamine, triethylamine, benzyldimethylamine, N, N′-dimethylpiperazine, triethylenediamine, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) -undecene-7, Tertiary amines such as 1,5-diazabicyclo (4,3,0) -nonene-5; 2-dimethylaminoethanol, 1-methyl-2-dimethylaminoethanol, 1-phenoxymethyl-2-dimethylaminoethanol, Amino alcohols such as 2-diethylaminoethanol, 1-butoxymethyl-2-dimethylaminoethanol, methyldiethanolamine, triethanolamine, N-β-hydroxyethylmorpholine; 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6 -Tris (dimethylaminomethyl) Aminophenols such as phenol; 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-aminoethyl-2-methylimidazole, 1- (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) -2-methylimidazole, 1- (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 1- (2-hydroxy-3-butoxypropyl) Imidazoles such as 2-methylimidazole and 1- (2-hydroxy-3-butoxypropyl) -2-ethyl-4-methylimidazole; 1- (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) -2-phenylimidazoline, 1- (2-hydroxy-3-butoxypropyl)- -Methylimidazoline, 2-methylimidazoline, 2,4-dimethylimidazoline, 2-ethylimidazoline, 2-ethyl-4-methylimidazoline, 2-benzylimidazoline, 2-phenylimidazoline, 2- (o-tolyl) -imidazoline, Tetramethylene-bis-imidazoline, 1,1,3-trimethyl 1,4-tetramethylene bis-imidazoline, 1,3,3 trimethyl 1,4-tetramethylene bis-imidazoline, 1,1,3 trimethyl 1,4-tetramethylene Bis 4 methyl imidazoline, 1,3,3 trimethyl 1,4-tetramethylene bis 4 methyl imidazoline, 1,2 phenylene bis imidazoline, 1,3 phenylene bis imidazoline, 1,4 phenylene bis imidazoline, 1,4 phenylene bis 4 methyl Imidazoline etc. Dazolines, dimethylaminopropylamine, diethylaminopropylamine, dipropylaminopropylamine, dibutylaminopropylamine, dimethylaminoethylamine, diethylaminoethylamine, dipropylaminoethylamine, dibutylaminoethylamine, N-methylpiperazine, N-aminoethylpiperazine, Tertiary aminoamines such as diethylaminoethylpiperazine; aminomercaptans such as 2-dimethylaminoethanethiol, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptopyridine, 4-mercaptopyridine; N, N-dimethyl Aminocarboxylic acids such as aminobenzoic acid, N, N-dimethylglycine, nicotinic acid, isonicotinic acid and picolinic acid; N, N-dimethylglycy And aminohydrazides such as hydrazide, nicotinic acid hydrazide and isonicotinic acid hydrazide.
As the low molecular amine compound (B), an epoxy resin composition having excellent storage stability is obtained, and therefore a compound having a tertiary amino group is preferable, imidazoles are more preferable, 2-methylimidazole, 2-ethyl- 4-methylimidazole is more preferred.
本発明では、アミンアダクト(A)に特定量の低分子アミン化合物を含有させることで貯蔵安定性の高いエポキシ樹脂組成物が得られることを見出した。
即ち、本発明において、アミンアダクト(A)100質量部に対する低分子アミン化合物(B)の量は、常温で貯蔵安定性の高いエポキシ樹脂組成物を得るために、1質量部を超えて10質量部以下の範囲である。好ましくは、1.01質量部以上8質量部以下、一層好ましくは、1.2質量部以上6質量部以下、更に一層好ましくは1.8質量部以上5質量部以下である。
In the present invention, it was found that an epoxy resin composition having high storage stability can be obtained by containing a specific amount of a low molecular amine compound in the amine adduct (A).
That is, in the present invention, the amount of the low molecular weight amine compound (B) with respect to 100 parts by mass of the amine adduct (A) exceeds 10 parts by mass to obtain an epoxy resin composition having high storage stability at room temperature. Part or less. Preferably, it is 1.01 to 8 parts by mass, more preferably 1.2 to 6 parts by mass, and even more preferably 1.8 to 5 parts by mass.
低分子アミン化合物(B)の含有量が1質量部を超えて含有することにより、高い速硬化性を実現するエポキシ樹脂用硬化剤(C)を得ることができる。
低分子アミン化合物(B)の含有量が10質量部より多く含有すると、常温でのカプセル膜の間を抜けて溶出する量が増加し、潜在性を損なうこととなる。
低分子アミン化合物(B)は、アミンアダクト(A)の製造後にアミンアダクト(A)に混合しても構わないし、アミンアダクト(A)の製造前および/または製造中に混合しても構わない。また、アミンアダクト(A)の原料であるアミン化合物(b1)の未反応物を低分子アミン化合物(B) として用いても構わない。
When the content of the low-molecular amine compound (B) exceeds 1 part by mass, a curing agent for epoxy resin (C) that realizes high rapid curability can be obtained.
If the content of the low molecular amine compound (B) is more than 10 parts by mass, the amount of elution through the capsule membrane at room temperature increases, and the potential is impaired.
The low molecular amine compound (B) may be mixed with the amine adduct (A) after the production of the amine adduct (A), or may be mixed before and / or during the production of the amine adduct (A). . Moreover, you may use the unreacted substance of the amine compound (b1) which is a raw material of an amine adduct (A) as a low molecular amine compound (B).
エポキシ樹脂用硬化剤(C)の140℃での溶融粘度は、0.1mPa・s以上30Pa・s以下が好ましい。更に好ましくは20Pa・s以下、一層好ましくは12Pa・s以下、より一層好ましくは、8Pa・s以下、さらに好ましくは5Pa・s以下である。エポキシ樹脂用硬化剤の140℃での溶融粘度を30Pa・s以下にすることで、短時間
での硬化性に優れたエポキシ樹脂用硬化剤が得られる。また、貯蔵安定性の高いマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤を得るためには、140℃での溶融粘度は0.1mPa・s以下が好ましい。
エポキシ樹脂用硬化剤(C)の形態としては、25℃で固体状であること、即ち、軟化点が25℃を超えることが好ましい。より好ましくは、軟化点が40℃以上、一層好ましくは軟化点が60℃以上である。25℃で固体状であるエポキシ樹脂用硬化剤(C)を用いることで、貯蔵安定性の高いエポキシ樹脂組成物が得られる。
The melt viscosity at 140 ° C. of the epoxy resin curing agent (C) is preferably from 0.1 mPa · s to 30 Pa · s. More preferably, it is 20 Pa.s or less, More preferably, it is 12 Pa.s or less, More preferably, it is 8 Pa.s or less, More preferably, it is 5 Pa.s or less. By setting the melt viscosity at 140 ° C. of the epoxy resin curing agent to 30 Pa · s or less, an epoxy resin curing agent having excellent curability in a short time can be obtained. Further, in order to obtain a microcapsule type epoxy resin curing agent having high storage stability, the melt viscosity at 140 ° C. is preferably 0.1 mPa · s or less.
As a form of the hardening | curing agent for epoxy resins (C), it is preferable that it is solid at 25 degreeC, ie, a softening point exceeds 25 degreeC. More preferably, the softening point is 40 ° C. or higher, more preferably the softening point is 60 ° C. or higher. By using the epoxy resin curing agent (C) which is solid at 25 ° C., an epoxy resin composition having high storage stability can be obtained.
固体状のエポキシ樹脂用硬化剤(C)としては、更に、塊状、顆粒状、粉末状、などが挙げられるが、好ましくは顆粒状または粉末状であり、さらに好ましくは粉末状である。本発明において粉末状とは、特別に制限するものではないが、0.1〜50μmの平均粒径が好ましく、さらに好ましくは0.5〜10μmの平均粒径である。50μm以下にすることで、均質な硬化物を得ることができる。本発明でいう粒径とは、光散乱法で測定されるストークス径を指すものである。また平均粒径は、メディアン径を指すものである。また、その形状は特に制限は無く、球状、不定形いずれでも良く、一液性エポキシ樹脂組成物の低粘度化のためには、球状が好ましい。ここで球状とは、真球は勿論の事、不定形の角が丸みを帯びた形状をも包含する。 Examples of the solid curing agent for epoxy resin (C) further include a lump, granule, powder, and the like, preferably a granule or powder, and more preferably a powder. In the present invention, the powder form is not particularly limited, but an average particle diameter of 0.1 to 50 μm is preferable, and an average particle diameter of 0.5 to 10 μm is more preferable. By setting the thickness to 50 μm or less, a homogeneous cured product can be obtained. The particle size referred to in the present invention refers to the Stokes diameter measured by the light scattering method. Moreover, an average particle diameter refers to a median diameter. The shape thereof is not particularly limited, and may be either spherical or indeterminate, and spherical is preferable for reducing the viscosity of the one-component epoxy resin composition. Here, the term “spherical” includes not only a true sphere but also a shape in which an irregular corner is rounded.
本発明のエポキシ樹脂用硬化剤(C)の全塩素量は2500ppm以下が好ましい。より好ましくは2000ppm以下であり、より好ましくは1500ppm以下であり、より好ましくは800ppm以下であり、より好ましくは400ppm以下であり、より好ましくは180ppm以下であり、より好ましくは100ppm以下であり、より好ましくは80ppm以下であり、さらに好ましくは50ppm以下である。全塩素量が2500ppm以下で硬化性と貯蔵安定性のバランスの高いエポキシ樹脂組成物を得ることができる。 The total amount of chlorine in the epoxy resin curing agent (C) of the present invention is preferably 2500 ppm or less. More preferably, it is 2000 ppm or less, More preferably, it is 1500 ppm or less, More preferably, it is 800 ppm or less, More preferably, it is 400 ppm or less, More preferably, it is 180 ppm or less, More preferably, it is 100 ppm or less, More preferably Is 80 ppm or less, more preferably 50 ppm or less. An epoxy resin composition having a high balance between curability and storage stability with a total chlorine content of 2500 ppm or less can be obtained.
また、シェル形成反応のコントロールを容易にするためにはエポキシ樹脂用硬化剤(C)の全塩素量は、0.01ppm以上が好ましい。より好ましくは0.02ppm以上であり、より好ましくは0.05ppm以上であり、より好ましくは0.1ppm以上であり、より好ましくは0.2ppm以上であり、さらに好ましくは0.5ppm以上である。全塩素量が0.1ppm以上であることにより、シェル形成反応が硬化剤表面で効率よく行われ、貯蔵安定性に優れたシェルを得ることができる。
本発明に記載のマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)は、エポキシ樹脂用硬化剤(C)からなるコアの表面を、合成樹脂または無機酸化物からなるシェルによって被覆されている構造を持つものである。これらの中でも膜の安定性と加熱時の破壊しやすさ、および硬化物の均一性の観点から、合成樹脂の方が好ましい。
In order to facilitate the control of the shell formation reaction, the total chlorine content of the epoxy resin curing agent (C) is preferably 0.01 ppm or more. More preferably, it is 0.02 ppm or more, More preferably, it is 0.05 ppm or more, More preferably, it is 0.1 ppm or more, More preferably, it is 0.2 ppm or more, More preferably, it is 0.5 ppm or more. When the total chlorine amount is 0.1 ppm or more, the shell forming reaction is efficiently performed on the surface of the curing agent, and a shell having excellent storage stability can be obtained.
The microcapsule type epoxy resin curing agent (D) according to the present invention has a structure in which the surface of the core made of the epoxy resin curing agent (C) is covered with a shell made of a synthetic resin or an inorganic oxide. Is. Among these, a synthetic resin is preferable from the viewpoints of film stability, ease of destruction during heating, and uniformity of a cured product.
合成樹脂としては、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられ、モノまたは多価アルコールとモノまたは多価イソシアネートの付加生成物であるウレタン系樹脂、アミン系硬化剤とエポキシ樹脂との反応生成物、フェノール樹脂が望ましく、中でも膜の安定性と加熱時の破壊しやすさの観点から、アミン系硬化剤とエポキシ樹脂との反応生成物が好ましい。
無機物の例としては、酸化ホウ素、ホウ酸エステル等のホウ素化合物、二酸化珪素、酸化カルシウムが等挙げられ、膜の安定性と加熱時の破壊しやすさの観点から、酸化ホウ素が好ましい。
Synthetic resins include epoxy resins, polyester resins, polyethylene resins, nylon resins, polystyrene resins, urethane resins, and the like. Urethane resins that are addition products of mono- or polyhydric alcohols and mono- or polyisocyanates, amine-based resins A reaction product of a curing agent and an epoxy resin and a phenol resin are desirable, and among them, a reaction product of an amine curing agent and an epoxy resin is preferable from the viewpoint of film stability and ease of destruction during heating.
Examples of the inorganic substance include boron compounds such as boron oxide and boric acid ester, silicon dioxide, and calcium oxide. Boron oxide is preferable from the viewpoint of film stability and ease of destruction during heating.
また、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤(C)をコアとして使用する場合は、波数1630〜1680cm−1の赤外線を吸収する結合基(x)と波数1680〜1725cm−1の赤外線を吸収する結合基(y)を少なくともその表面に有するものが、貯蔵安定性と反応性のバランスの観点から好ましい。
結合基(x)と結合基(y)は、フーリエ変換式赤外分光光度計(FT−IRと称す)を用いて測定することができる。また、結合基(x)およびまたは結合基(y)がエポキシ樹脂用硬化剤(C)の少なくとも表面に有することは、顕微FT−IRを用いて測定することができる。
結合基(x)のうち、特に有用なものとして、ウレア結合を挙げることができる。結合基(y)のうち、特に有用なものとして、ビュレット結合を挙げることができる。
In the case of using an epoxy resin curing agent (C) of the present invention as the core absorbs bonded group that absorbs infrared wave number 1630~1680Cm -1 (x) and the infrared wave number 1680~1725Cm -1 bond What has group (y) on the surface at least is preferable from a viewpoint of the balance of storage stability and reactivity.
The bonding group (x) and the bonding group (y) can be measured using a Fourier transform infrared spectrophotometer (referred to as FT-IR). Moreover, it can be measured using microscopic FT-IR that the bonding group (x) and / or the bonding group (y) has at least the surface of the curing agent for epoxy resin (C).
Among the bonding groups (x), urea bonds can be mentioned as particularly useful. Among the linking groups (y), buret bonds can be mentioned as particularly useful.
このウレア結合、ビュレット結合を有するものは、イソシアネート化合物(G)と活性水素化合物(H)の反応により生成される反応生成物である。結合基(x)の代表であるウレア結合、及び結合基(y)の代表であるビュレット結合を生成するために用いられるイソシアネート化合物(G)としては、1分子中に1個以上のイソシアネート基を有する化合物であればよいが、好ましくは1分子中に2個以上のイソシアネート基を有する化合物を用いることであり、好ましいイソシアネートとしては、脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、芳香族ジイソシアネート、低分子トリイソシアネート、ポリイソシアネートを挙げることができる。脂肪族ジイソシアネートの例としては、エチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等を挙げることができる。脂環式ジイソシアネートの例としては、イソホロンジイソシアネート、4−4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、1,4−イソシアナトシクロヘキサン、1,3−ビス(イソシアナトメチル)−シクロヘキサン、1,3−ビス(2−イソシアナトプロピル−2イル)−シクロヘキサン等を挙げることができる。芳香族ジイソシアネートの例としては、トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート等を挙げることができる。低分子トリイソシアネートの例としては、1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、2,6−ジイソシアナトヘキサン酸−2−イソシアナトエチル、2,6−ジイソシアナトヘキサン酸−1−メチル−2−イソシアネートエチル等の脂肪族トリイソシアネート化合物、トリシクロヘキシルメタントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート等の脂環式トリイソシアネート化合物、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオホスフェート等の芳香族トリイソシアネート化合物等を挙げることができる。ポリイソシアネートとしては、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネートや上記ジイソシアネート、低分子トリイソシアネートより誘導されるポリイソシアネートが例示される。上記ジイソシアネート、トリイソシアネートより誘導されるポリイソシアネートとしては、イソシアヌレート型ポリイソシアネート、ビュレット型ポリイソシアネート、ウレタン型ポリイソシアネート、アロハネート型ポリイソシアネート、カルボジイミド型ポリイソシアネート等がある。これらイソシアネート化合物(G)は併用して用いることができる。 What has this urea bond and burette bond is a reaction product produced | generated by reaction of an isocyanate compound (G) and an active hydrogen compound (H). As an isocyanate compound (G) used to generate a urea bond that is representative of the linking group (x) and a burette bond that is representative of the linking group (y), one or more isocyanate groups are present in one molecule. However, it is preferable to use a compound having two or more isocyanate groups in one molecule, and preferred isocyanates include aliphatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates, aromatic diisocyanates, low molecular weight triisins. An isocyanate and a polyisocyanate can be mentioned. Examples of the aliphatic diisocyanate include ethylene diisocyanate, propylene diisocyanate, butylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and trimethylhexamethylene diisocyanate. Examples of alicyclic diisocyanates include isophorone diisocyanate, 4-4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, norbornane diisocyanate, 1,4-isocyanatocyclohexane, 1,3-bis (isocyanatomethyl) -cyclohexane, 1,3-bis. (2-isocyanatopropyl-2-yl) -cyclohexane and the like can be mentioned. Examples of the aromatic diisocyanate include tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, and the like. Examples of low molecular weight triisocyanates include 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyloctane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, 2,6-diisocyanatohexane Aliphatic triisocyanate compounds such as acid-2-isocyanatoethyl and 2,6-diisocyanatohexanoic acid-1-methyl-2-isocyanatoethyl, alicyclic triisocyanates such as tricyclohexylmethane triisocyanate and bicycloheptane triisocyanate Examples thereof include aromatic triisocyanate compounds such as isocyanate compounds, triphenylmethane triisocyanate, and tris (isocyanatephenyl) thiophosphate. Examples of the polyisocyanate include polymethylene polyphenyl polyisocyanate, polyisocyanate derived from the above diisocyanate, and low molecular triisocyanate. Examples of the polyisocyanate derived from the diisocyanate and triisocyanate include isocyanurate type polyisocyanate, burette type polyisocyanate, urethane type polyisocyanate, allophanate type polyisocyanate, carbodiimide type polyisocyanate and the like. These isocyanate compounds (G) can be used in combination.
結合基(x)および(y)の代表であるウレア結合またはビュレット結合を生成させるための活性水素化合物(H)としては、水、1分子中に1個以上の一級および/または二級アミノ基を有する化合物、1分子中に1個以上の水酸基を有する化合物が例示される。これらは併用する事もできる。水、1分子中に1個以上の水酸基を有する化合物が好ましい。1分子中に1個以上の一級および/または二級アミノ基を有する化合物としては、脂肪族アミン、脂環式アミン、芳香族アミンを使用することができる。脂肪族アミンの例としては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン等のアルキルアミン。エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等のアルキレンジアミン。ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等のポリアルキレンポリアミン、ポリオキシプロピレンジアミン、ポリオキシエチレンジアミン等のポリオキシアルキレンポリアミン類等を挙
げることができる。脂環式アミンの例としては、シクロプロピルアミン、シクロブチルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、イソホロンジアミン等を挙げることができる。芳香族アミンとしては、アニリン、トルイジン、べンジルアミン、ナフチルアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等を挙げることができる。
The active hydrogen compound (H) for generating a urea bond or a burette bond, which is representative of the bonding groups (x) and (y), includes water, one or more primary and / or secondary amino groups in one molecule. And a compound having one or more hydroxyl groups in one molecule. These can be used in combination. Water and a compound having one or more hydroxyl groups in one molecule are preferable. As the compound having one or more primary and / or secondary amino groups in one molecule, aliphatic amines, alicyclic amines, and aromatic amines can be used. Examples of the aliphatic amine include alkylamines such as methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, and dibutylamine. Alkylene diamines such as ethylene diamine, propylene diamine, butylene diamine and hexamethylene diamine; Examples include polyalkylene polyamines such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, and tetraethylenepentamine, and polyoxyalkylene polyamines such as polyoxypropylene diamine and polyoxyethylene diamine. Examples of the alicyclic amine include cyclopropylamine, cyclobutylamine, cyclopentylamine, cyclohexylamine, and isophoronediamine. Examples of the aromatic amine include aniline, toluidine, benzylamine, naphthylamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone and the like.
活性水素化合物(H)として用いられる1分子中に1個以上の水酸基を有する化合物としては、アルコール化合物とフェノール化合物が例示される。アルコール化合物としては、メチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、アミルアルコール、ヘキシルアルコール、ヘプチルアルコール、オクチルアルコール、ノニルアルコール、デシルアルコール、ウンデシルアルコール、ラウリルアルコール、ドテシルアルコール、ステアリルアルコール、エイコシルアルコール、アリルアルコール、クロチルアルコール、プロパルギルアルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、べンジルアルコール、シンナミルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチル等のモノアルコール類、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、水添ビスフェノールA、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多価アルコール類を挙げることができる。また、1分子中に1個以上のエポキシ基を有する化合物と、1分子中に1個以上の水酸基、カルボキシル基、一級または二級アミノ基、メルカプト基を有する化合物との反応により得られる二級水酸基を1分子中に2個以上有する化合物も多価アルコール類として例示される。これらのアルコール化合物においては、第一、第二、または第三アルコールのいずれでもよい。フェノール化合物としては、石炭酸、クレゾール、キシレノール、カルバクロール、モチール、ナフトール等のモノフェノール類、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ピロガロール、フロログルシン等の多価フェノール類を挙げることができる。これら1分子中に1個以上の水酸基を有する化合物としては、多価アルコール類や多価フェノール類等が好ましい。多価アルコール類が更に好ましい。 Examples of the compound having one or more hydroxyl groups in one molecule used as the active hydrogen compound (H) include alcohol compounds and phenol compounds. Examples of alcohol compounds include methyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, amyl alcohol, hexyl alcohol, heptyl alcohol, octyl alcohol, nonyl alcohol, decyl alcohol, undecyl alcohol, lauryl alcohol, dodecyl alcohol, stearyl alcohol, eicosyl alcohol, Monoalcohols such as allyl alcohol, crotyl alcohol, propargyl alcohol, cyclopentanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, cinnamyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl , Ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene Recall, polypropylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, hydrogenated bisphenol A, neopentyl glycol, glycerin, trimethylol propane, may be mentioned polyhydric alcohols such as pentaerythritol. A secondary compound obtained by a reaction between a compound having one or more epoxy groups in one molecule and a compound having one or more hydroxyl groups, carboxyl groups, primary or secondary amino groups, or mercapto groups in one molecule. Compounds having two or more hydroxyl groups in one molecule are also exemplified as polyhydric alcohols. These alcohol compounds may be any of primary, secondary, or tertiary alcohols. Examples of the phenol compound include monophenols such as carboxylic acid, cresol, xylenol, carvacrol, motil, and naphthol, and polyhydric phenols such as catechol, resorcin, hydroquinone, bisphenol A, bisphenol F, pyrogallol, and phloroglucin. As the compound having one or more hydroxyl groups in one molecule, polyhydric alcohols and polyhydric phenols are preferable. Polyhydric alcohols are more preferred.
エポキシ樹脂用硬化剤(C)からなるコアの表面において、結合基(x)および結合基(y)は、それぞれ1〜1000meq/kgおよび1〜1000meq/kgの範囲の濃度を有していることが好ましい。ここで言う濃度はエポキシ樹脂用硬化剤(C)に対する値である。結合基(x)の濃度が1meq/kg以上で、機械的剪断力に対して高い耐性を有するカプセル型硬化剤を得るのに有利である。また、1000meq/kg以下で、高い硬化性を得るのに有利である。さらに好ましい結合基(x)の濃度範囲は10〜300meq/kgである。 On the surface of the core made of the epoxy resin curing agent (C), the bonding group (x) and the bonding group (y) have a concentration in the range of 1 to 1000 meq / kg and 1 to 1000 meq / kg, respectively. Is preferred. The density | concentration said here is a value with respect to the hardening | curing agent (C) for epoxy resins. It is advantageous to obtain a capsule-type curing agent having a bonding group (x) concentration of 1 meq / kg or more and high resistance to mechanical shearing force. Moreover, it is advantageous for obtaining high curability at 1000 meq / kg or less. A more preferable concentration range of the linking group (x) is 10 to 300 meq / kg.
結合基(y)の濃度が1meq/kg以上で、機械的剪断力に対して高い耐性を有するカプセル型硬化剤を得るのに有利である。また、1000meq/kg以下で、高い硬化性を得るのに有利である。さらに好ましい結合基(y)の範囲は10〜200meq/kgである。
また、アミンアダクト(A)と低分子アミン化合物(B)を主成分としてなるエポキシ樹脂用硬化剤(C)からなるコアの表面は、結合基(x)および結合基(y)の他に、波数が1730〜1755cm−1の赤外線を吸収する結合基(z)を有することが好ましい。結合基(z)についても、フーリエ変換式赤外分光光度計(FT−IR)を用いて測定することができる。また、結合基(z)がエポキシ樹脂用硬化剤(C)の少なくとも表面に有することは、顕微FT−IRを用いて測定することができる。
この結合基(z)のうち、特に有用なものは、ウレタン結合である。このウレタン結合は、イソシアネート化合物(G)と1分子中に1個以上の水酸基を有する化合物との反応
により生成される。ここで用いられるイソシアネート化合物(G)としては、ウレア結合、ビュレット結合を生成するために用いられるイソシアネート化合物(G)が使用できる。
It is advantageous to obtain a capsule-type curing agent having a bonding group (y) concentration of 1 meq / kg or more and high resistance to mechanical shearing force. Moreover, it is advantageous for obtaining high curability at 1000 meq / kg or less. A more preferable range of the linking group (y) is 10 to 200 meq / kg.
In addition to the bonding group (x) and the bonding group (y), the surface of the core made of the epoxy resin curing agent (C) mainly composed of the amine adduct (A) and the low molecular amine compound (B) It preferably has a bonding group (z) that absorbs infrared rays having a wave number of 1730 to 1755 cm −1 . The bonding group (z) can also be measured using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR). Moreover, it can be measured using microscopic FT-IR that the bonding group (z) has at least the surface of the curing agent for epoxy resin (C).
Of these linking groups (z), a particularly useful one is a urethane bond. This urethane bond is generated by a reaction between the isocyanate compound (G) and a compound having one or more hydroxyl groups in one molecule. As an isocyanate compound (G) used here, the isocyanate compound (G) used in order to produce | generate a urea bond and a burette bond can be used.
結合基(z)の代表であるウレタン結合を生成するために用いられる1分子中に1個以上の水酸基を有する化合物としては、脂肪族飽和アルコール、脂肪族不飽和アルコール、脂肪式アルコール、芳香族アルコール等のアルコール化合物、フェノール化合物を用いることができる。脂肪族アルコールとしては、メチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、アミルアルコール、ヘキシルアルコール、ヘプチルアルコール、オクチルアルコール、ノニルアルコール、デシルアルコール、ウンデシルアルコール、ラウリルアルコール、ドテシルアルコール、ステアリルアルコール、エイコシルアルコール等のモノアルコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール等の二価アルコール類;グリセリン、トリメチロール、プロパン等の三価アルコール類;ペンタエリスリトール等の四価アルコール類を挙げることができる。脂肪族不飽和アルコールとしては、アリルアルコール、クロチルアルコール、プロパルギルアルコール等を挙げることができる。脂環式アルコールとしては、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができる。芳香族アルコールとしては、べンジルアルコール、シンナミルアルコール等のモノアルコール類を挙げることができる。これらのアルコールにおいては、第一、第二、または第三アルコールのいずれでもよい。また、1分子中に1個以上のエポキシ基を有する化合物と、1分子中に1個以上の水酸基、カルボキシル基、1級または2級アミノ基、メルカプト基を有する化合物との反応により得られる2級水酸基を1分子中に1個以上有する化合物もアルコール化合物として用いることができる。フェノール化合物としては、石炭酸、クレゾール、キシレノール、カルバクロール、モチール、ナフトール等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、ビスフェノールA、ビスフェノールF等の二価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の三価フェノールを挙げることができる。これら1分子中に1個以上の水酸基を有する化合物として好ましいのは、二価以上の水酸基を有するアルコール化合物またはフェノール化合物である。 Examples of the compound having one or more hydroxyl groups in one molecule used to form a urethane bond that is representative of the bonding group (z) include aliphatic saturated alcohols, aliphatic unsaturated alcohols, aliphatic alcohols, and aromatics. Alcohol compounds such as alcohol and phenol compounds can be used. Aliphatic alcohols include methyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, amyl alcohol, hexyl alcohol, heptyl alcohol, octyl alcohol, nonyl alcohol, decyl alcohol, undecyl alcohol, lauryl alcohol, dodecyl alcohol, stearyl alcohol, eicosyl alcohol Monoalcohols such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monohexyl ether; ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, 1, Divalent, such as 3-butanediol and neopentyl glycol Alcohols like; it may be mentioned tetravalent alcohols such as pentaerythritol; glycerol, trimethylol, trihydric alcohols such as propane. Examples of the aliphatic unsaturated alcohol include allyl alcohol, crotyl alcohol, propargyl alcohol and the like. Examples of the alicyclic alcohol include cyclopentanol, cyclohexanol, and cyclohexanedimethanol. Examples of the aromatic alcohol include monoalcohols such as benzyl alcohol and cinnamyl alcohol. These alcohols may be primary, secondary, or tertiary alcohols. Also obtained by reaction of a compound having one or more epoxy groups in one molecule with a compound having one or more hydroxyl groups, carboxyl groups, primary or secondary amino groups, or mercapto groups in one molecule. A compound having one or more secondary hydroxyl groups in one molecule can also be used as the alcohol compound. Examples of phenolic compounds include monohydric phenols such as carboxylic acid, cresol, xylenol, carvacrol, motile, naphthol, dihydric phenols such as catechol, resorcin, hydroquinone, bisphenol A, bisphenol F, and trivalent phenols such as pyrogallol and phloroglucin. be able to. A compound having one or more hydroxyl groups in one molecule is preferably an alcohol compound or a phenol compound having a divalent or higher hydroxyl group.
エポキシ樹脂用硬化剤(C)からなるコアの表面の結合基(z)の好ましい濃度範囲は、1〜200meq/kgである。ここで言う濃度はエポキシ樹脂用硬化剤(C)に対する値である。結合基(z)の濃度が1meq/kg以上で、機械的剪断力に対して高い耐性を有するシェルを形成するのに有利であり、200meq/kg以下で、高い硬化性を得るのに有利である。さらに好ましい結合基(z)の濃度範囲は、5〜100meq/kgである。結合基(x)、結合基(y)および結合基(z)の濃度の定量は、特許文献1に開示された方法で行うことができる。
エポキシ樹脂用硬化剤(C)からなるコアの表面の結合基(x)、結合基(y)および結合基(z)の存在域の合計厚みは、平均層厚で5〜1000nmが好ましい。5nm以上で貯蔵安定性が得られ、1000nm以下で、実用的な硬化性が得られる。ここでいう層の厚みは、透過型電子顕微鏡により測定することができる。特に好ましいエポキシ樹脂硬化剤(C)からなるコア表面の結合基の合計厚みは、平均層厚で10〜100nmである。
A preferable concentration range of the bonding group (z) on the surface of the core made of the epoxy resin curing agent (C) is 1 to 200 meq / kg. The density | concentration said here is a value with respect to the hardening | curing agent (C) for epoxy resins. When the concentration of the linking group (z) is 1 meq / kg or more, it is advantageous for forming a shell having high resistance to mechanical shearing force, and when it is 200 meq / kg or less, it is advantageous for obtaining high curability. is there. A more preferable concentration range of the linking group (z) is 5 to 100 meq / kg. The quantification of the concentration of the linking group (x), the linking group (y), and the linking group (z) can be performed by the method disclosed in Patent Document 1.
The total thickness of the bonding groups (x), bonding groups (y), and bonding groups (z) existing on the surface of the core made of the epoxy resin curing agent (C) is preferably 5 to 1000 nm in terms of the average layer thickness. Storage stability is obtained at 5 nm or more, and practical curability is obtained at 1000 nm or less. The thickness of a layer here can be measured with a transmission electron microscope. The total thickness of the bonding groups on the core surface made of a particularly preferable epoxy resin curing agent (C) is 10 to 100 nm in average layer thickness.
エポキシ樹脂用硬化剤(C)からなるコアに対する該表面の結合基の比は、質量比で100/1〜100/100である。この範囲において貯蔵安定性と硬化性が両立する。好ましくは100/2〜100/80、より好ましくは100/5〜100/60、一層好ましくは100/10〜100/50である。
エポキシ樹脂用硬化剤(C)からなるコアの表面に結合基を存在させる方法としては、結合基の成分を溶解し、エポキシ樹脂用硬化剤(C)を分散させた分散媒中で、結合基の成分の溶解度を下げて、エポキシ樹脂用硬化剤(C)の表面に析出させる方法、エポキシ樹脂用硬化剤(C)を分散させた分散媒中で、結合基の形成反応を行い、エポキシ樹脂用硬化剤(C)の表面に結合基を析出させる、あるいはエポキシ樹脂用硬化剤(C)の表面を反応の場として、そこで結合基を生成させる方法等が挙げられる。後者の方法が反応と被覆を同時に行うことができ好ましい。
The ratio of the bonding group on the surface to the core made of the epoxy resin curing agent (C) is 100/1 to 100/100 in terms of mass ratio. Within this range, storage stability and curability are compatible. Preferably it is 100 / 2-100 / 80, More preferably, it is 100 / 5-100 / 60, More preferably, it is 100 / 10-100 / 50.
As a method for causing a bonding group to exist on the surface of the core made of the epoxy resin curing agent (C), the bonding group component is dissolved in a dispersion medium in which the epoxy resin curing agent (C) is dispersed. A method of lowering the solubility of the components of the epoxy resin and precipitating it on the surface of the curing agent for epoxy resin (C), and forming a bonding group in a dispersion medium in which the curing agent for epoxy resin (C) is dispersed, Examples include a method in which a bonding group is precipitated on the surface of the curing agent (C), or the surface of the curing agent (C) for the epoxy resin is used as a reaction field to generate a bonding group there. The latter method is preferable because the reaction and the coating can be performed simultaneously.
ここで分散媒としては、溶媒、可塑剤、樹脂類等が例示される。また、エポキシ樹脂を分散媒として用いることもできる。
溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ミネラルスピリット、ナフサ等の炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、プロピレングリコールモノメチルエチルエーテルアセテート等のエステル類;メタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール等のアルコール類;水、等が例示される。可塑剤としては、フタル酸ジブチル、フタル酸ジ(2−エチルヘキシシル)等のフタル酸ジエステル系、アジピン酸ジ(2−エチルヘキシシル)等の脂肪族二塩基酸エステル系、リン酸トリクレジル等のリン酸トリエステル系、ポリエチレングリコールエステル等のグリコールエステル系等が例示される。樹脂類としては、シリコーン樹脂類、エポキシ樹脂類、フェノール樹脂類等が例示される。
Here, examples of the dispersion medium include a solvent, a plasticizer, and resins. Moreover, an epoxy resin can also be used as a dispersion medium.
Examples of the solvent include hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane, mineral spirit, and naphtha; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; ethyl acetate, n-butyl acetate, propylene glycol monomethyl ethyl ether Examples include esters such as acetate; alcohols such as methanol, isopropanol, n-butanol, butyl cellosolve, and butyl carbitol; water, and the like. Plasticizers include dibutyl phthalate, di (2-ethylhexyl) phthalate diesters, aliphatic dibasic acid esters such as di (2-ethylhexyl) adipate, and tricresyl phosphate triphosphates. Examples include ester series and glycol ester series such as polyethylene glycol ester. Examples of the resins include silicone resins, epoxy resins, phenol resins and the like.
結合基でエポキシ樹脂用硬化剤(C)を被覆する方法において、分散媒として使用できるエポキシ樹脂としては例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールAD、テトラメチルビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA、テトラクロロビスフェノールA、テトラフルオロビスフェノールA等のビスフェノール類をグリシジル化したビスフェノール型エポキシ樹脂;ビフェノール、ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゼン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等のその他の2価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4−(1−(4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル)エチリデン)ビスフェノール等のトリスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;1,1,2,2,−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等のテトラキスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノールAノボラック、臭素化フェノールノボラック、臭素化ビスフェノールAノボラック等のノボラック類をグリシジル化したノボラック型エポキシ樹脂等;多価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、グリセリンやポリエチレングリコール等の多価アルコールをグリシジル化した脂肪族エーテル型エポキシ樹脂;p−オキシ安息香酸、β−オキシナフトエ酸等のヒドロキシカルボン酸をグリシジル化したエーテルエステル型エポキシ樹脂;フタル酸、テレフタル酸のようなポリカルボン酸をグリシジル化したエステル型エポキシ樹脂;4,4−ジアミノジフェニルメタンやm−アミノフェノール等のアミン化合物のグリシジル化物やトリグリシジルイソシアヌレート等のアミン型エポキシ樹脂等のグリシジル型エポキシ樹脂と、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環族エポキサイド等が例示される。 Examples of the epoxy resin that can be used as a dispersion medium in the method of coating the epoxy resin curing agent (C) with a bonding group include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, tetramethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, Bisphenol type epoxy resin obtained by glycidylation of bisphenols such as tetramethylbisphenol AD, tetramethylbisphenol S, tetrabromobisphenol A, tetrachlorobisphenol A, tetrafluorobisphenol A; biphenol, dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzene, 9,9-bis Epoxy resin obtained by glycidylation of other dihydric phenols such as (4-hydroxyphenyl) fluorene; 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) Nyl) methane, epoxy resin obtained by glycidylation of trisphenols such as 4,4- (1- (4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) phenyl) ethylidene) bisphenol; Epoxy resins obtained by glycidylating tetrakisphenols such as 2,2, -tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane; novolaks such as phenol novolak, cresol novolak, bisphenol A novolak, brominated phenol novolak, brominated bisphenol A novolak Glycidylated novolac epoxy resin, etc .; epoxy resin obtained by glycidylation of polyhydric phenols, aliphatic ether type epoxy resin obtained by glycidylation of polyhydric alcohols such as glycerin and polyethylene glycol; p-oxybenzoic acid, β-oxy Ether ester type epoxy resin obtained by glycidylation of hydroxycarboxylic acid such as naphthoic acid; ester type epoxy resin obtained by glycidylation of polycarboxylic acid such as phthalic acid and terephthalic acid; 4,4-diaminodiphenylmethane, m-aminophenol, etc. Glycidyl-type epoxy resins such as amine-type epoxy resins such as glycidylated amine compounds and triglycidyl isocyanurate, and alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate Illustrated.
それらの中で、エポキシ樹脂組成物の貯蔵安定性が高いので、グリシジル型エポキシ樹脂が好ましく、より好ましくは、硬化物の接着性や耐熱性が優れるため多価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂であり、更に好ましくはビスフェノール型エポキシ樹脂である。ビスフェノールAをグリシジル化したエポキシ樹脂とビスフェノールFをグリシジル化したエポキシ樹脂が一層好ましい。ビスフェノールAをグリシジル化したエポキシ
樹脂が更に一層好ましい。
Among them, the glycidyl type epoxy resin is preferable because the storage stability of the epoxy resin composition is high. Yes, more preferably a bisphenol type epoxy resin. An epoxy resin obtained by glycidylating bisphenol A and an epoxy resin obtained by glycidylating bisphenol F are more preferable. An epoxy resin obtained by glycidylating bisphenol A is even more preferable.
エポキシ樹脂用硬化剤(C)の表面を反応の場として、そこで結合基を生成させる方法において、イソシアネート化合物(G)と活性水素化合物(H)の反応は、通常−10℃〜150℃の温度範囲で、10分〜12時間の反応時間で行われる。
イソシアネート化合物(G)と活性水素化合物(H)との量比は、特に制限は無いが通常、イソシアネート化合物(G)中のイソシアネート基と活性水素化合物(H)中の活性水素との当量比が1:0.1〜1:1000の範囲で用いられる。
In the method in which the surface of the epoxy resin curing agent (C) is used as a reaction field and a bonding group is generated there, the reaction between the isocyanate compound (G) and the active hydrogen compound (H) is usually at a temperature of -10 ° C to 150 ° C. In the range of 10 minutes to 12 hours of reaction time.
The amount ratio of the isocyanate compound (G) and the active hydrogen compound (H) is not particularly limited, but usually the equivalent ratio of the isocyanate group in the isocyanate compound (G) and the active hydrogen in the active hydrogen compound (H) is It is used in the range of 1: 0.1 to 1: 1000.
本発明に記載のマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)のシェルとして、エポキシ樹脂用硬化剤(C)とエポキシ樹脂(N)との反応生成物からなる反応生成物を用いる場合の反応は、通常0℃〜150℃、好ましくは10℃〜100℃の温度範囲で、1〜168時間、好ましくは2時間〜72時間の反応時間で行われ、分散媒中で行なうこともできる。分散媒としては、溶媒、可塑剤等が例示される。また、エポキシ樹脂(N)自体を分散媒として用いることもできる。また、この場合、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)におけるエポキシ樹脂(E)と、シェル形成反応に用いるエポキシ樹脂(N)は、同じエポキシ樹脂であってもよい。 As the shell of the microcapsule type epoxy resin curing agent (D) according to the present invention, the reaction in the case of using a reaction product comprising a reaction product of the epoxy resin curing agent (C) and the epoxy resin (N) is as follows: The reaction is usually performed at a temperature range of 0 ° C. to 150 ° C., preferably 10 ° C. to 100 ° C., for a reaction time of 1 to 168 hours, preferably 2 hours to 72 hours, and can also be performed in a dispersion medium. Examples of the dispersion medium include a solvent and a plasticizer. Moreover, epoxy resin (N) itself can also be used as a dispersion medium. In this case, the epoxy resin (E) in the masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) and the epoxy resin (N) used in the shell forming reaction may be the same epoxy resin.
溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ミネラルスピリット、ナフサ等の炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、プロピレングリコールモノメチルエチルエーテルアセテート等のエステル類;メタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール等のアルコール類;水、等が例示される。可塑剤としては、フタル酸ジブチル、フタル酸ジ(2−エチルヘキシシル)等のフタル酸ジエステル系、アジピン酸ジ(2−エチルヘキシシル)等の脂肪族二塩基酸エステル系、リン酸トリクレジル等のリン酸トリエステル系、ポリエチレングリコールエステル等のグリコールエステル系等が例示される。
エポキシ樹脂用硬化剤(C)とエポキシ樹脂(N)とを反応させる時の質量比は、特に制限は無いが通常、1:0.001〜1:1000の範囲、好ましくは1:0.01〜1:100の範囲で用いられる。
Examples of the solvent include hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane, mineral spirit, and naphtha; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; ethyl acetate, n-butyl acetate, propylene glycol monomethyl ethyl ether Examples include esters such as acetate; alcohols such as methanol, isopropanol, n-butanol, butyl cellosolve, and butyl carbitol; water, and the like. Plasticizers include dibutyl phthalate, di (2-ethylhexyl) phthalate diesters, aliphatic dibasic acid esters such as di (2-ethylhexyl) adipate, and tricresyl phosphate triphosphates. Examples include ester series and glycol ester series such as polyethylene glycol ester.
The mass ratio when the epoxy resin curing agent (C) and the epoxy resin (N) are reacted is not particularly limited, but is usually in the range of 1: 0.001 to 1: 1000, preferably 1: 0.01. Used in the range of ˜1: 100.
エポキシ樹脂用硬化剤(C)とエポキシ樹脂(N)との反応生成物からなるシェルでコアを被覆する方法としては、シェル成分を溶解し、エポキシ樹脂用硬化剤(C)を分散させた分散媒中で、シェル成分の溶解度を下げて、エポキシ樹脂用硬化剤(C)の表面にシェルを析出させる方法、エポキシ樹脂用硬化剤(C)を分散させた分散媒中で、シェルの形成反応を行い、エポキシ樹脂用硬化剤(C)の表面にシェルを析出させる方法、またはエポキシ樹脂用硬化剤(C)からなるコアの表面を反応の場として、そこでシェルを生成させる方法等が挙げられる。後2者の方法が反応と被覆を同時に行うことができ好ましい。
また、後者の場合、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤は、本コア中のアミン化合物を使用してもよいし、別途添加しても構わない。
As a method of covering the core with a shell made of a reaction product of the epoxy resin curing agent (C) and the epoxy resin (N), the shell component is dissolved and the epoxy resin curing agent (C) is dispersed. The method of lowering the solubility of the shell component in the medium to deposit the shell on the surface of the curing agent for epoxy resin (C), the formation reaction of the shell in the dispersion medium in which the curing agent for epoxy resin (C) is dispersed And a method of depositing a shell on the surface of the curing agent for epoxy resin (C), or a method of generating a shell there by using the surface of the core made of the curing agent for epoxy resin (C) as a reaction field. . The latter two methods are preferable because the reaction and the coating can be performed simultaneously.
In the latter case, the curing agent for epoxy resin of the present invention may use the amine compound in the core or may be added separately.
本発明のエポキシ樹脂用硬化剤(C)の表面を被覆するシェルの厚みは、平均層厚で5〜1000nmが好ましい。5nm以上で貯蔵安定性が得られ、1000nm以下で、実用的な硬化性が得られる。ここでいう層の厚みは、透過型電子顕微鏡により観察される。特に好ましいシェルの厚みは、平均層厚で50〜700nmである。
本発明のエポキシ樹脂(N)については本発明の目的とする効果を損なわない範囲内において特に制限されない。そのようなエポキシ樹脂(N)の一例を挙げると、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールA
D、テトラメチルビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA、テトラクロロビスフェノールA、テトラフルオロビスフェノールA等のビスフェノール類をグリシジル化したビスフェノール型エポキシ樹脂;ビフェノール、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等のその他の2価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4−(1−(4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル)エチリデン)ビスフェノール等のトリスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;1,1,2,2,−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等のテトラキスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノールAノボラック、臭素化フェノールノボラック、臭素化ビスフェノールAノボラック等のノボラック類をグリシジル化したノボラック型エポキシ樹脂等;多価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、グリセリンやポリエチレングリコール等の多価アルコールをグリシジル化した脂肪族エーテル型エポキシ樹脂;p−オキシ安息香酸、β−オキシナフトエ酸等のヒドロキシカルボン酸をグリシジル化したエーテルエステル型エポキシ樹脂;フタル酸、テレフタル酸のようなポリカルボン酸をグリシジル化したエステル型エポキシ樹脂;4,4−ジアミノジフェニルメタンやm−アミノフェノール等のアミン化合物のグリシジル化物やトリグリシジルイソシアヌレート等のアミン型エポキシ樹脂等のグリシジル型エポキシ樹脂と、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環族エポキサイド等が例示される。
これらエポキシ樹脂は単独で使用しても併用しても良い。
The average thickness of the shell covering the surface of the epoxy resin curing agent (C) of the present invention is preferably 5 to 1000 nm. Storage stability is obtained at 5 nm or more, and practical curability is obtained at 1000 nm or less. The thickness of the layer here is observed with a transmission electron microscope. A particularly preferable shell thickness is 50 to 700 nm as an average layer thickness.
The epoxy resin (N) of the present invention is not particularly limited as long as the effects intended by the present invention are not impaired. An example of such an epoxy resin (N) is, for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, tetramethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, tetramethylbisphenol A.
D, bisphenol type epoxy resin obtained by glycidylation of bisphenols such as tetramethylbisphenol S, tetrabromobisphenol A, tetrachlorobisphenol A, tetrafluorobisphenol A; biphenol, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, etc. Epoxy resin obtained by glycidylation of other dihydric phenols; 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) methane, 4,4- (1- (4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1- Epoxy resin obtained by glycidylation of trisphenols such as methylethyl) phenyl) ethylidene) bisphenol; epoxy resin obtained by glycidylation of tetrakisphenols such as 1,1,2,2, -tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane; phenol Novolac Novolak type epoxy resin obtained by glycidylation of novolaks such as cresol novolak, bisphenol A novolak, brominated phenol novolak, brominated bisphenol A novolak, etc .; Aliphatic ether type epoxy resin obtained by glycidylation of alcohol; ether ester type epoxy resin obtained by glycidylation of hydroxycarboxylic acid such as p-oxybenzoic acid and β-oxynaphthoic acid; polycarboxylic acid such as phthalic acid and terephthalic acid Glycidylated ester-type epoxy resins; glycidylated amine compounds such as 4,4-diaminodiphenylmethane and m-aminophenol, and amine-type epoxy resins such as triglycidyl isocyanurate Examples thereof include glycidyl type epoxy resins and alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate.
These epoxy resins may be used alone or in combination.
本発明のエポキシ樹脂(N)の全塩素量は2500ppm以下が好ましい。より好ましくは2000ppm以下であり、より好ましくは1500ppm以下であり、より好ましくは800ppm以下であり、より好ましくは400ppm以下であり、より好ましくは180ppm以下であり、より好ましくは100ppm以下であり、より好ましくは80ppm以下であり、さらに好ましくは50ppm以下である。全塩素量が2500ppm以下で硬化性と貯蔵安定性のバランスの高いエポキシ樹脂組成物を得ることができる。 The total chlorine content of the epoxy resin (N) of the present invention is preferably 2500 ppm or less. More preferably, it is 2000 ppm or less, More preferably, it is 1500 ppm or less, More preferably, it is 800 ppm or less, More preferably, it is 400 ppm or less, More preferably, it is 180 ppm or less, More preferably, it is 100 ppm or less, More preferably Is 80 ppm or less, more preferably 50 ppm or less. An epoxy resin composition having a high balance between curability and storage stability with a total chlorine content of 2500 ppm or less can be obtained.
また、シェル形成反応のコントロールを容易にするためにはエポキシ樹脂(N)の全塩素量は、0.01ppm以上が好ましい。より好ましくは0.02ppm以上であり、より好ましくは0.05ppm以上であり、より好ましくは0.1ppm以上であり、より好ましくは0.2ppm以上であり、さらに好ましくは0.5ppm以上である。全塩素量が0.1ppm以上であることにより、シェル形成反応が硬化剤表面で効率よく行われ、貯蔵安定性に優れたシェルを得ることができる。 In order to facilitate control of the shell formation reaction, the total chlorine content of the epoxy resin (N) is preferably 0.01 ppm or more. More preferably, it is 0.02 ppm or more, More preferably, it is 0.05 ppm or more, More preferably, it is 0.1 ppm or more, More preferably, it is 0.2 ppm or more, More preferably, it is 0.5 ppm or more. When the total chlorine amount is 0.1 ppm or more, the shell forming reaction is efficiently performed on the surface of the curing agent, and a shell having excellent storage stability can be obtained.
本発明のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)は、10〜50000重量部のエポキシ樹脂(E)にエポキシ樹脂用硬化剤(C)および/またはマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)をエポキシ樹脂用硬化剤(C)としてとして100重量部を配合したことを特徴とする。エポキシ樹脂(E)が50000重量部より多いと、硬化性が低下してしまい、10重量部より小さいとマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物の粘度が高まり、作業性が低下する。このような観点から、エポキシ樹脂(E)の配合量は好ましくは、エポキシ樹脂用硬化剤(C)および/またはマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)100重量部に対して100〜5000であり、より好ましくは120〜1000であり、特に好ましくは150〜400であることが望ましい。 The masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) of the present invention comprises 10 to 50000 parts by weight of epoxy resin (E), epoxy resin curing agent (C) and / or microcapsule type epoxy resin curing agent ( 100 weight part was mix | blended considering D) as a hardening | curing agent for epoxy resins (C), It is characterized by the above-mentioned. When the amount of the epoxy resin (E) is more than 50000 parts by weight, the curability is lowered, and when it is less than 10 parts by weight, the viscosity of the curing agent composition for the masterbatch type epoxy resin is increased and workability is lowered. From such a viewpoint, the amount of the epoxy resin (E) is preferably 100 to 5000 with respect to 100 parts by weight of the curing agent for epoxy resin (C) and / or the curing agent for microcapsule type epoxy resin (D). Yes, more preferably 120 to 1000, and particularly preferably 150 to 400.
本発明のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)の全塩素量は、高い硬化性と貯蔵安定性の両立のためには、2500ppm以下であることが望ましい。
より好ましくは1500ppm以下であり、より好ましくは800ppm以下であり、より好ましくは400ppm以下であり、より好ましくは200ppm以下であり、より好ましくは100ppm以下であり、より好ましくは80ppm以下であり、さらに好ま
しくは50ppm以下である。
エポキシ樹脂(E)の全塩素量は、高い硬化性と貯蔵安定性の両立のためには、2500ppm以下であることが望ましい。
より好ましくは1500ppm以下であり、より好ましくは800ppm以下であり、より好ましくは400ppm以下であり、より好ましくは200ppm以下であり、より好ましくは100ppm以下であり、より好ましくは80ppm以下であり、さらに好ましくは50ppm以下である。
The total chlorine content of the masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) of the present invention is desirably 2500 ppm or less in order to achieve both high curability and storage stability.
More preferably, it is 1500 ppm or less, More preferably, it is 800 ppm or less, More preferably, it is 400 ppm or less, More preferably, it is 200 ppm or less, More preferably, it is 100 ppm or less, More preferably, it is 80 ppm or less, More preferably Is 50 ppm or less.
The total chlorine content of the epoxy resin (E) is desirably 2500 ppm or less in order to achieve both high curability and storage stability.
More preferably, it is 1500 ppm or less, More preferably, it is 800 ppm or less, More preferably, it is 400 ppm or less, More preferably, it is 200 ppm or less, More preferably, it is 100 ppm or less, More preferably, it is 80 ppm or less, More preferably Is 50 ppm or less.
また、エポキシ樹脂(E)とエポキシ樹脂(N)が同じ場合、シェル形成反応のコントロールを容易にするためには、エポキシ樹脂(E)の全塩素量は、0.01ppm以上が好ましい。より好ましくは0.02ppm以上であり、より好ましくは0.05ppm以上であり、より好ましくは0.1ppm以上であり、より好ましくは0.2ppm以上であり、さらに好ましくは0.5ppm以上である。たとえば、全塩素量の好ましい範囲は0.1ppm以上200ppm以下であり、より好ましい範囲は0.2ppm以上80ppm以下であり、より好ましい範囲は0.5ppm以上50ppm以下である。 When the epoxy resin (E) and the epoxy resin (N) are the same, the total chlorine content of the epoxy resin (E) is preferably 0.01 ppm or more in order to facilitate control of the shell formation reaction. More preferably, it is 0.02 ppm or more, More preferably, it is 0.05 ppm or more, More preferably, it is 0.1 ppm or more, More preferably, it is 0.2 ppm or more, More preferably, it is 0.5 ppm or more. For example, the preferable range of the total chlorine amount is 0.1 ppm to 200 ppm, the more preferable range is 0.2 ppm to 80 ppm, and the more preferable range is 0.5 ppm to 50 ppm.
本発明のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)を製造する方法として、先に製造されたエポキシ樹脂用硬化剤(C)および/またはマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)を、例えば、三本ロール等を用いてエポキシ樹脂(E)中に分散させる方法や、エポキシ樹脂(E)の中でエポキシ樹脂用硬化剤(C)の被覆反応を行い、硬化剤を得ると同時に、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤(F)を得る方法等が例示される。後者が、生産性が高く好ましい。
また、本発明のエポキシ樹脂(E)のジオール末端不純成分が、エポキシ樹脂(E)の基本構造成分の0.001〜30質量%であることが望ましい。
As a method for producing the masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) of the present invention, the epoxy resin curing agent (C) and / or the microcapsule type epoxy resin curing agent (D) produced previously is used. For example, a method of dispersing in an epoxy resin (E) using a three-roll or the like, or a coating reaction of an epoxy resin curing agent (C) in the epoxy resin (E) to obtain a curing agent The method etc. which obtain the hardening agent (F) for masterbatch type epoxy resins are illustrated. The latter is preferable because of high productivity.
Moreover, it is desirable that the diol terminal impurity component of the epoxy resin (E) of the present invention is 0.001 to 30% by mass of the basic structural component of the epoxy resin (E).
本発明において、エポキシ樹脂(E)の基本構造成分とは、末端のすべてにエポキシ基が存在する構造を言う。エポキシ樹脂(E)のジオール末端不純成分とは、末端のエポキシ基のうち、すくなくとも1つのエポキシ基が、α−グリコール末端の構造をとるものである。参考とする文献として、エポキシ樹脂技術協会刊行の「総説 エポキシ樹脂 第1巻基礎編I」を挙げる。
エポキシ樹脂(E)の基本構造成分およびジオール末端不純成分の分析方法については、同じくエポキシ樹脂技術協会刊行の「総説 エポキシ樹脂 第1巻基礎編I」において引用されている文献に記載の方法を参考に分析を行う。
In the present invention, the basic structural component of the epoxy resin (E) refers to a structure in which an epoxy group is present at all terminals. The diol terminal impure component of the epoxy resin (E) is such that at least one epoxy group of the terminal epoxy groups has a structure of α-glycol terminal. As a reference document, mention is made of “Review Epoxy Resin Vol. 1 Basic I” published by the Epoxy Resin Technology Association.
For the analysis method of the basic structural component and the diol terminal impurity component of the epoxy resin (E), refer to the method described in the literature cited in “Review: Epoxy Resin Vol. Perform an analysis.
エポキシ樹脂(E)のジオール末端不純成分についてのエポキシ樹脂(E)基本構造成分に対する比率が30質量%よりも大きいと、硬化物の耐水性が低下することがあり、0.001質量%よりも小さいと、エポキシ樹脂組成物の硬化性が低下してしまうことがある。このような観点からエポキシ樹脂(E)のジオール末端不純成分についてのエポキシ樹脂(E)の基本構造成分に対する比率は好ましくは、0.01〜25質量%であり、より好ましくは0.1〜20質量%であり、特に好ましくは、0.5〜18質量%であり、殊に好ましくは1.2〜15質量%である。 When the ratio of the epoxy resin (E) diol terminal impurity component to the epoxy resin (E) basic structure component is larger than 30% by mass, the water resistance of the cured product may be lowered, and may be less than 0.001% by mass. When small, the sclerosis | hardenability of an epoxy resin composition may fall. From such a viewpoint, the ratio of the epoxy resin (E) to the basic structural component of the diol terminal impure component of the epoxy resin (E) is preferably 0.01 to 25% by mass, more preferably 0.1 to 20%. % By weight, particularly preferably 0.5 to 18% by weight, particularly preferably 1.2 to 15% by weight.
本発明のエポキシ樹脂(E)のジオール末端不純成分についてのエポキシ樹脂(E)の基本構造成分に対する比率は実施例の項に記載の方法により求められる。
マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)は全塩素量が2500ppm以下であることが望ましい。全塩素量が低いほど反応性が高まり、また、該エポキシ樹脂組成物を電子材料に使用した場合、信頼性が高いという観点から望ましく、より好ましくは1500ppm、より好ましくは1000ppm以下であり、より好ましくは800ppm以下であり、より好ましくは500ppm、より好ましくは300ppm以下であり、より好ましくは200ppm以下であり、より好ましくは100ppm以下であり、さらに
好ましくは50ppm以下である。本発明において全塩素量とは、化合物中に含まれる有機塩素及び無機塩素の総量のことであり、化合物に対する質量基準の値である。
The ratio of the epoxy resin (E) to the basic structural component of the epoxy resin (E) with respect to the diol terminal impure component of the epoxy resin (E) of the present invention can be determined by the method described in the Examples section.
The masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) preferably has a total chlorine content of 2500 ppm or less. The lower the total chlorine content, the higher the reactivity, and when the epoxy resin composition is used as an electronic material, it is desirable from the viewpoint of high reliability, more preferably 1500 ppm, more preferably 1000 ppm or less, and more preferably. Is 800 ppm or less, more preferably 500 ppm, more preferably 300 ppm or less, more preferably 200 ppm or less, more preferably 100 ppm or less, and even more preferably 50 ppm or less. In the present invention, the total chlorine amount is the total amount of organic chlorine and inorganic chlorine contained in the compound, and is a value based on the mass of the compound.
本発明のエポキシ樹脂組成物は室温で液状又は25℃での粘度が1000万mPa・s以下のペースト状が好ましい。粘度が低いほど作業性が高く、容器への付着量を下げて廃棄物の低減が可能であり好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂用硬化剤(C)および/またはマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)、エポキシ樹脂(E)、および環状ホウ酸エステル化合物(L)を含有することが望ましい。
これにより、エポキシ樹脂組成物の貯蔵安定性、特に高温時における貯蔵安定性を向上させることができる。
The epoxy resin composition of the present invention is preferably in the form of a paste that is liquid at room temperature or has a viscosity at 25 ° C. of 10 million mPa · s or less. The lower the viscosity, the higher the workability, and the lower the amount of adhesion to the container, which can reduce waste, which is preferable.
The epoxy resin composition of the present invention contains an epoxy resin curing agent (C) and / or a microcapsule type epoxy resin curing agent (D), an epoxy resin (E), and a cyclic borate ester compound (L). It is desirable.
Thereby, the storage stability of an epoxy resin composition, especially the storage stability at the time of high temperature can be improved.
上記環状ホウ酸エステル化合物(L)とは、ホウ酸と脂肪族あるいは芳香族ジオールから得られたホウ素が環式構造に含まれる化合物のことである。そのような環状ホウ酸エステル化合物としては、トリス−o−フェニレンビスボレート、ビス−ジメチルトリメチレンビロボレート、ビス−ジメチルエチレンビロボレート、ビス−ジエチルエチレンビロボレートなどがある。特に2,2’−オキシビス(5,5’−ジメチル−1,3,2−オキサボリナン)が好ましい。
上記環状ホウ酸エステル化合物(L)の含有量としては、エポキシ樹脂(E)100質量部に対して0.001〜10質量部、好ましくは0.01〜2質量部、さらに好ましくは0.05〜0.9質量部である。この範囲で用いることで組成物の高温時の貯蔵安定性に優れた硬化を与え、かつ、本来の短時間硬化性、耐熱性、接着性、接続信頼性を損なわない、優れた硬化物を得ることができる。
The cyclic borate ester compound (L) is a compound in which boron obtained from boric acid and an aliphatic or aromatic diol is contained in a cyclic structure. Examples of such cyclic borate compounds include tris-o-phenylene bisborate, bis-dimethyltrimethylene boroborate, bis-dimethylethylene boroborate, and bis-diethylethylene boroborate. In particular, 2,2′-oxybis (5,5′-dimethyl-1,3,2-oxaborinane) is preferable.
As content of the said cyclic borate ester compound (L), 0.001-10 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins (E), Preferably it is 0.01-2 mass parts, More preferably, it is 0.05. It is -0.9 mass part. By using in this range, the composition is cured with excellent storage stability at high temperatures, and an excellent cured product that does not impair the original short-time curability, heat resistance, adhesiveness, and connection reliability is obtained. be able to.
本発明のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)は、エポキシ樹脂用硬化剤(C)および/またはマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)とエポキシ樹脂(E)より構成されるが、その機能を低下させない範囲で、その他の成分を含有することができる。その他の成分の含有量は、好ましくは30質量%未満である。
エポキシ樹脂(J)に、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤(C)、マイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)から選ばれる1種以上を混合して一液性エポキシ樹脂組成物が得られる。
The masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) of the present invention comprises an epoxy resin curing agent (C) and / or a microcapsule type epoxy resin curing agent (D) and an epoxy resin (E). However, it can contain other components as long as the function is not deteriorated. The content of other components is preferably less than 30% by mass.
One or more selected from the epoxy resin curing agent (C), the microcapsule type epoxy resin curing agent (D), and the masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) for the epoxy resin (J). Are mixed to obtain a one-component epoxy resin composition.
本発明のエポキシ樹脂組成物に用いられるエポキシ樹脂(J)は、平均して1分子当たり2個以上のエポキシ基を有するものであればよく、エポキシ樹脂(E)と同じであってもよい。例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールAD、テトラメチルビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA、テトラクロロビスフェノールA、テトラフルオロビスフェノールA等のビスフェノール類をグリシジル化したビスフェノール型エポキシ樹脂;ビフェノール、ジヒドロキシナフタレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等のその他の2価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4−(1−(4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル)エチリデン)ビスフェノール等のトリスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;1,1,2,2,−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等のテトラキスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノールAノボラック、臭素化フェノールノボラック、臭素化ビスフェノールAノボラック等のノボラック類をグリシジル化したノボラック型エポキシ樹脂等;多価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;グリセリンやポリエチレングリコールのような多価アルコールをグリシジル化した脂肪族エーテル型エポキシ樹脂;p−オキシ安息香酸、β−オキシナフトエ酸のようなヒドロキシカルボン酸をグリシジル化した
エーテルエステル型エポキシ樹脂;フタル酸、テレフタル酸のようなポリカルボン酸をグリシジル化したエステル型エポキシ樹脂;4,4−ジアミノジフェニルメタンやm−アミノフェノール等のアミン化合物のグリシジル化物やトリグリシジルイソシアヌレート等のアミン型エポキシ樹脂と、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環族エポキサイド等が例示される。
The epoxy resin (J) used for the epoxy resin composition of this invention should just have an average of two or more epoxy groups per molecule, and may be the same as an epoxy resin (E). For example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, tetramethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, tetramethylbisphenol AD, tetramethylbisphenol S, tetrabromobisphenol A, tetrachlorobisphenol A, tetrafluorobisphenol A, etc. Bisphenol type epoxy resin obtained by glycidylation of bisphenols; Epoxy resin obtained by glycidylation of other dihydric phenols such as biphenol, dihydroxynaphthalene and 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene; 1,1,1-tris (4-Hydroxyphenyl) methane, 4,4- (1- (4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) phenyl) ethylidene) bisphenol Epoxy resin obtained by glycidylation of trisphenol such as 1, epoxy resin obtained by glycidylation of tetrakisphenol such as 1,1,2,2, -tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane; phenol novolak, cresol novolak, bisphenol A novolak , Novolak epoxy resins obtained by glycidylation of novolaks such as brominated phenol novolak and brominated bisphenol A novolac; epoxy resins obtained by glycidylation of polyhydric phenols; polyhydric alcohols such as glycerin and polyethylene glycol were glycidylated Aliphatic ether type epoxy resins; ether ester type epoxy resins obtained by glycidylation of hydroxycarboxylic acids such as p-oxybenzoic acid and β-oxynaphthoic acid; such as phthalic acid and terephthalic acid Ester-type epoxy resin obtained by glycidylation of polycarboxylic acid; amine-type epoxy resin such as glycidylated product of amine compounds such as 4,4-diaminodiphenylmethane and m-aminophenol, triglycidyl isocyanurate, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl Examples include alicyclic epoxides such as -3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate.
本発明のエポキシ樹脂用硬化剤(C)、マイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)から選ばれる1種以上とエポキシ樹脂(J)との混合比は、硬化性、硬化物の特性の面から決定されるものであるが、好ましくはエポキシ樹脂(J)100質量部に対して、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤(C)、マイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)から選ばれる1種以上が0.1〜1000質量部となる量で用いればよい。より好ましくは、0.2〜200質量部、更に好ましくは、0.5〜30質量部である。0.1質量部以上で実用的に満足し得る硬化性能を得ることができ、100質量部以下で、本発明のエポキシ樹脂組成物が偏在することなく、バランスの良い硬化性能を有する硬化剤を与える。
また、本発明に用いられるマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)には、エポキシ樹脂の高分子量体で、自己成膜性を有する一般にフェノキシ樹脂と呼ばれる樹脂をも混合することができる。
One or more selected from the curing agent for epoxy resin (C), the curing agent for microcapsule type epoxy resin (D), and the curing agent composition for masterbatch type epoxy resin (F) of the present invention, and the epoxy resin (J) The mixing ratio is determined from the viewpoints of curability and properties of the cured product, but preferably 100 parts by mass of the epoxy resin (J), the curing agent for epoxy resin (C) of the present invention, micro What is necessary is just to use 1 or more types chosen from the hardening | curing agent for capsule type epoxy resins (D) and the hardening | curing agent composition for masterbatch type epoxy resins (F) in the quantity used as 0.1-1000 mass parts. More preferably, it is 0.2-200 mass parts, More preferably, it is 0.5-30 mass parts. Curing performance that is practically satisfactory at 0.1 parts by mass or more can be obtained, and a curing agent having well-balanced curing performance at 100 parts by mass or less without uneven distribution of the epoxy resin composition of the present invention. give.
Further, the masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) used in the present invention can be mixed with a high molecular weight epoxy resin and a resin generally called a phenoxy resin having a self-film forming property. .
本発明に用いられるエポキシ樹脂用硬化剤(C)、マイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)から選ばれる1種以上は、酸無水物類、フェノール類、ヒドラジド類、およびグアニジン類よりなる群より選ばれる少なくとも1種の硬化剤(K)を併用する事ができる。
酸無水物類としては、例えば、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水−3−クロロフタル酸、無水−4−クロロフタル酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、無水コハク酸、無水メチルコハク酸、無水ジメチルコハク酸、無水ジクロールコハク酸、メチルナジック酸、ドテシルコハク酸、無水クロレンデックク酸、無水マレイン酸等;フェノール類としては、例えば、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノールAノボラック等;ヒドラジン類としては、例えば、コハク酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、フタル酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジドテレフタル酸ジヒドラジド、p−オキシ安息香酸ヒドラジド、サリチル酸ヒドラジド、フェニルアミノプロピオン酸ヒドラジド、マレイン酸ジヒドラジド等;グアニジン類としては、例えば、ジシアンジアミド、メチルグアニジン、エチルグアニジン、プロピルグアニジン、ブチルグアニジン、ジメチルグアニジン、トリメチルグアニジン、フェニルグアニジン、ジフェニルグアニジン、トルイルグアニジン等が例示される。
One or more selected from the curing agent for epoxy resin (C), the curing agent for microcapsule type epoxy resin (D), and the curing agent composition for masterbatch type epoxy resin (F) used in the present invention are an acid anhydride. At least one curing agent (K) selected from the group consisting of phenols, phenols, hydrazides, and guanidines can be used in combination.
Examples of acid anhydrides include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, -3-chlorophthalic anhydride, -4-chlorophthalic anhydride, and benzophenone anhydride. Tetracarboxylic acid, succinic anhydride, methyl succinic anhydride, dimethyl succinic anhydride, dichlor succinic anhydride, methyl nadic acid, dodecyl succinic anhydride, chlorendec succinic anhydride, maleic anhydride, etc .; phenols include, for example, phenol novolac, cresol Examples of hydrazines include succinic acid dihydrazide, adipic acid dihydrazide, phthalic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide terephthalic acid dihydrazide, p-oxybenzoic acid hydrazide, Luric acid hydrazide, phenylaminopropionic acid hydrazide, maleic acid dihydrazide, etc .; Examples of guanidines include dicyandiamide, methylguanidine, ethylguanidine, propylguanidine, butylguanidine, dimethylguanidine, trimethylguanidine, phenylguanidine, diphenylguanidine, toluylguanidine Etc. are exemplified.
硬化剤(K)の中で好ましいのは、グアニジン類および酸無水物類である。さらに好ましくは、ジシアンジアミド、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水メチルナジック酸である。
硬化剤(K)を使用する場合、硬化剤(K)を1〜200質量部に対して、本発明のエポキシ樹脂用硬化剤(C)および/またはマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)および/またはマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)が0.1〜200質量部となる量で用いるのが好ましい。
この範囲で用いることで硬化性と貯蔵安定性に優れた組成物を与え、耐熱性、耐水性に優れた硬化物を得ることができる。
Of the curing agents (K), guanidines and acid anhydrides are preferred. More preferred are dicyandiamide, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, and methylnadic anhydride.
When using a hardening | curing agent (K), the hardening | curing agent (K) for epoxy resin of this invention and / or the hardening | curing agent for microcapsule type epoxy resins (D) of this invention with respect to 1-200 mass parts of hardening | curing agents (K). And / or the masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) is preferably used in an amount of 0.1 to 200 parts by mass.
By using in this range, a composition excellent in curability and storage stability can be obtained, and a cured product excellent in heat resistance and water resistance can be obtained.
本発明に用いられるマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)には、所望によって、増量剤、補強材、充填材、導電微粒子、顔料、有機溶剤、反応性希釈剤、非反応
性希釈剤、樹脂類、結晶性アルコール、カップリング剤等を添加することができる。充填剤の例としては、例えば、コールタール、ガラス繊維、アスベスト繊維、ほう素繊維、炭素繊維、セルロース、ポリエチレン粉、ポリプロピレン粉、石英紛、鉱物性ケイ酸塩、雲母、アスベスト粉、スレート粉、カオリン、酸化アルミニウム三水和物、水酸化アルミニウム、チョーク粉、石こう、炭酸カルシウム、三酸化アンチモン、ペントン、シリカ、エアロゾル、リトポン、バライト、二酸化チタン、カーボンブラック、グラファイト、カーボンナノチューブ、フラーレン、酸化鉄、金、銀、アルミニウム粉、鉄粉、ナノサイズの金属結晶、金属間化合物等を挙げることができ、これらはいずれもその用途に応じて有効に用いられる。有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。反応性希釈剤としては、例えば、ブチルグリシジルエーテル、N,N’−グリシジル−o−トルイジン、フェニルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル等が挙げられる。非反応性希釈剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルアジベート、石油系溶剤等が挙げられる。樹脂類としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテル樹脂、メラミン樹脂やウレタン変性エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、アルキッド変性エポキシ樹脂等の変性エポキシ樹脂が挙げられる。結晶性アルコールとしては、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ショ糖、トリメチロールプロパンが挙げられる。
For the masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) used in the present invention, a filler, a reinforcing material, a filler, conductive fine particles, a pigment, an organic solvent, a reactive diluent, a non-reactive dilution, if desired. Agents, resins, crystalline alcohols, coupling agents and the like can be added. Examples of the filler include, for example, coal tar, glass fiber, asbestos fiber, boron fiber, carbon fiber, cellulose, polyethylene powder, polypropylene powder, quartz powder, mineral silicate, mica, asbestos powder, slate powder, Kaolin, aluminum oxide trihydrate, aluminum hydroxide, chalk powder, gypsum, calcium carbonate, antimony trioxide, penton, silica, aerosol, lithopone, barite, titanium dioxide, carbon black, graphite, carbon nanotube, fullerene, iron oxide , Gold, silver, aluminum powder, iron powder, nano-sized metal crystals, intermetallic compounds, and the like, all of which can be used effectively depending on the application. Examples of the organic solvent include toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate and the like. Examples of the reactive diluent include butyl glycidyl ether, N, N′-glycidyl-o-toluidine, phenyl glycidyl ether, styrene oxide, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, and 1,6-hexanediol diester. Examples thereof include glycidyl ether. Examples of non-reactive diluents include dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl adipate, and petroleum solvents. Examples of the resins include polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins, polyether resins, melamine resins, urethane-modified epoxy resins, rubber-modified epoxy resins, alkyd-modified epoxy resins, and other modified epoxy resins. Examples of the crystalline alcohol include 1,2-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, pentaerythritol, sorbitol, sucrose, and trimethylolpropane.
本発明に用いられるエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂用硬化剤(C)および/またはマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)とエポキシ樹脂(E)と、必要に応じてエポキシ樹脂(J)および硬化剤(K)が主成分である。本発明のエポキシ樹脂組成物は、加熱により硬化することで所望の性能が発現されるが、ここで言う主成分とは、加熱による硬化反応の主体をなす成分であることを意味し、加熱硬化性成分の60%以上である事が好ましい。更に好ましくは70%以上である。
一液性エポキシ樹脂組成物の内、硬化に関与しない成分としては、例えば、増量剤、補強材、充填材、導電材料、顔料、有機溶剤、樹脂類等が挙げられるが、これらの成分は一液性エポキシ樹脂組成物全体に対して0〜90質量%の範囲で使用されるのが好ましい。
The epoxy resin composition used in the present invention comprises an epoxy resin curing agent (C) and / or a microcapsule type epoxy resin curing agent (D) and an epoxy resin (E), and if necessary, an epoxy resin (J). And a hardening | curing agent (K) is a main component. The epoxy resin composition of the present invention exhibits desired performance when cured by heating, but the main component mentioned here means a component that forms the main component of the curing reaction by heating, and is cured by heating. It is preferable that it is 60% or more of the sex component. More preferably, it is 70% or more.
Among the one-part epoxy resin compositions, examples of components that do not participate in curing include extenders, reinforcing materials, fillers, conductive materials, pigments, organic solvents, resins, and the like. It is preferably used in the range of 0 to 90% by mass with respect to the entire liquid epoxy resin composition.
本発明のエポキシ樹脂組成物は、接着剤および/または接合用ペースト、接合用フィルムの他に、導電材料、異方導電材料、絶縁材料、封止材、コーティング材、塗料組成物、プリプレグ、熱伝導性材料等として有用である。
接着剤および/または接合用ペースト、接合用フィルムとしては、液状接着剤やフィルム状接着剤、ダイボンディング材等として有用である。フィルム状接着剤の製造方法としては、例えば、特開昭62−141083号や、特開平05−295329号などに記載された方法がある。より具体的には、固形エポキシ樹脂、液状エポキシ樹脂、さらに固形のウレタン樹脂を、50重量%になるようにトルエンに溶解・混合・分散させた溶液を作成する。これに本発明のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)を溶液に対して30重量%添加・分散させたワニスを調製する。この溶液、例えば厚さ50μmの剥離用ポリエチレンテレフタレート基材にトルエンが乾燥後に厚さ30μmとなるように塗布する。トルエンを乾燥させることにより、常温では不活性であり、加熱することにより潜在性硬化剤の作用により接着性を発揮する、接合用フィルムを得ることができる。
The epoxy resin composition of the present invention includes a conductive material, an anisotropic conductive material, an insulating material, a sealing material, a coating material, a coating composition, a prepreg, a heat, in addition to an adhesive and / or a bonding paste and a bonding film. It is useful as a conductive material.
The adhesive and / or bonding paste and bonding film are useful as liquid adhesives, film adhesives, die bonding materials, and the like. Examples of the method for producing the film adhesive include methods described in JP-A-62-141083 and JP-A-05-295329. More specifically, a solution is prepared by dissolving, mixing, and dispersing solid epoxy resin, liquid epoxy resin, and solid urethane resin in toluene so as to be 50% by weight. A varnish is prepared by adding and dispersing 30% by weight of the curing agent composition for masterbatch type epoxy resin (F) of the present invention to the solution. This solution, for example, is applied to a polyethylene terephthalate substrate for peeling having a thickness of 50 μm so that the toluene has a thickness of 30 μm after drying. By drying toluene, it is possible to obtain a bonding film that is inactive at normal temperature and exhibits adhesiveness by the action of the latent curing agent when heated.
導電材料としては導電フィルム、導電ペースト等がある。異方導電材料としては、異方導電性フィルム、異方導電性ペースト等がある。その製造方法としては、例えば、特開平01−113480号に記載された方法がある。より具体的には、例えば、前述の接合用フィルムの製造において、ワニスの調製時に導電材料や異方導電材料を混合・分散して、
剥離用の基材に塗布後、乾燥することにより製造することができる。導電粒子としては半田粒子、ニッケル粒子、ナノサイズの金属結晶、金属の表面を他の金属で被覆した粒子、銅と銀の傾斜粒子等の金属粒子や、例えば、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂等の樹脂粒子に金、ニッケル、銀、銅、半田などの導電性薄膜で被覆を施した粒子等が使用される。一般に導電粒子は1〜20μm程度の球形の微粒子である。フィルムにする場合の基材としては、例えば、ポリエステル、ポリエチレン、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン等の基材に塗布後、溶剤を乾燥させる方法等がある。
Examples of the conductive material include a conductive film and a conductive paste. Examples of anisotropic conductive materials include anisotropic conductive films and anisotropic conductive pastes. As the manufacturing method, for example, there is a method described in JP-A-01-113480. More specifically, for example, in the production of the bonding film described above, the conductive material and the anisotropic conductive material are mixed and dispersed during the preparation of the varnish,
It can manufacture by drying after apply | coating to the base material for peeling. Conductive particles include solder particles, nickel particles, nano-sized metal crystals, metal particles coated with other metals, metal particles such as copper and silver inclined particles, and styrene resins, urethane resins, melamine resins, etc. Particles obtained by coating resin particles such as epoxy resin, acrylic resin, phenol resin, and styrene-butadiene resin with a conductive thin film such as gold, nickel, silver, copper, and solder are used. In general, the conductive particles are spherical fine particles of about 1 to 20 μm. As a base material in the case of forming a film, for example, there is a method of drying a solvent after coating on a base material such as polyester, polyethylene, polyimide, polytetrafluoroethylene and the like.
絶縁材料としては、絶縁接着フィルム、絶縁接着ペーストがある。前述の接合用フィルムを用いることで、絶縁材料である絶縁接着フィルムを得ることができる。また、封止材料を用いる他、前述の充填剤のうち、絶縁性の充填剤を配合することで、絶縁接着ペーストを得ることができる。
封止材としては、固形封止材や液状封止材、フィルム状封止材等として有用であり、液状封止材としては、アンダーフィル材、ポッティング材、ダム材等として有用である。封止材の製造方法としては、例えば、特開平5−43661号、特開2002−226675号などにおいて、電気・電子部品の封止・含浸用成形材料としての記載がある。より具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、硬化剤として例えば酸無水物硬化剤として無水メチルヘキサヒドロフタル酸、さらに球状溶融シリカ粉末を加えて均一に混合し、それに本発明で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)を加え均一に混合し、封止材料を得ることができる。
Examples of the insulating material include an insulating adhesive film and an insulating adhesive paste. By using the bonding film described above, an insulating adhesive film that is an insulating material can be obtained. In addition to using a sealing material, an insulating adhesive paste can be obtained by blending an insulating filler among the aforementioned fillers.
As a sealing material, it is useful as a solid sealing material, a liquid sealing material, a film-like sealing material, etc., and as a liquid sealing material, it is useful as an underfill material, a potting material, a dam material, or the like. As a method for producing a sealing material, for example, in JP-A-5-43661 and JP-A-2002-226675, there is a description as a molding material for sealing / impregnating electric / electronic parts. More specifically, a bisphenol A type epoxy resin, methylhexahydrophthalic anhydride as an acid anhydride curing agent as a curing agent, and spherical fused silica powder are added and mixed uniformly, and the master obtained in the present invention is mixed. The curing agent composition for batch type epoxy resin (F) can be added and mixed uniformly to obtain a sealing material.
コーティング用材料としては、例えば電子材料のコーティング材、プリント配線版のカバー用のオーバーコート材、プリント基板の層間絶縁用樹脂組成物などがあげられる。コーティング用材料の製造方法としては、例えば、特公平4−6116号や、特開平7−304931号、特開平8−64960号、さらに特開2003−246838などに記載の各種方法がある。より具体的には、充填剤からシリカ等を選定してフィラーとして、ビスフェノールA型エポキシ樹脂のほかフェノキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂などを配合し、さらに本発明のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)を配合し、MEKで50%の溶液を調製する。これをポリイミドフィルム上に50μmの厚さでコーティングし、銅箔を重ねて、60〜150℃でラミネートし、当該ラミネートを180〜200℃で加熱硬化させることにより、層間をエポキシ樹脂組成物によりコーティングされた積層板を得ることができる。 Examples of the coating material include an electronic material coating material, an overcoat material for a printed wiring board cover, and a resin composition for interlayer insulation of a printed board. Examples of the method for producing the coating material include various methods described in JP-B-4-6116, JP-A-7-304931, JP-A-8-64960, and JP-A-2003-246838. More specifically, silica or the like is selected from the filler, and as a filler, phenoxy resin, rubber-modified epoxy resin, etc. are blended in addition to bisphenol A type epoxy resin, and further the masterbatch type epoxy resin curing agent composition of the present invention. Compound (F) is prepared and a 50% solution is prepared with MEK. This is coated on a polyimide film with a thickness of 50 μm, and a copper foil is overlaid, laminated at 60 to 150 ° C., and the laminate is heated and cured at 180 to 200 ° C. to coat the interlayer with an epoxy resin composition. A laminated sheet can be obtained.
塗料組成物の製造方法としては、例えば特開平11−323247号、特開2005−113103号などに記載された方法がある。より具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂に、二酸化チタン、タルク等を配合し、混合溶剤としてMIBK/キシレンの1:1混合溶剤を添加、攪拌、混合して主剤とする。これに本発明のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)を添加、均一に分散させることにより、エポキシ塗料組成物を得ることができる。 Examples of the method for producing the coating composition include the methods described in JP-A Nos. 11-323247 and 2005-113103. More specifically, titanium dioxide, talc, and the like are blended with a bisphenol A type epoxy resin, and a 1: 1 mixed solvent of MIBK / xylene is added as a mixed solvent, stirred, and mixed to obtain a main agent. An epoxy coating composition can be obtained by adding and uniformly dispersing the curing agent composition (F) for masterbatch type epoxy resin of the present invention.
プリプレグの製造方法としては、例えば、特開平09−71633号、WO98/44017号などに記載された方法のように、エポキシ樹脂組成物を補強基材に含浸し、加熱して得ることができる。なお、含浸させるワニスの溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、エチルセルソルブ、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどがあげられ、これらの溶剤はプリプレグ中に残存しないことが好ましい。なお、補強基材の種類は特に限定しないが、例えば、紙、ガラス布、ガラス不織布、アラミド布、液晶ポリマーなどが例としてあげられる。樹脂組成物分と補強基材の割合も特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が20〜80重量%となるように調製するのが好ましい。 As a method for producing the prepreg, for example, as in the methods described in JP-A Nos. 09-71633 and WO98 / 44017, the reinforcing base material can be impregnated into a reinforcing substrate and heated. Examples of the varnish solvent to be impregnated include methyl ethyl ketone, acetone, ethyl cellosolve, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and the like. It is preferable that these solvents do not remain in the prepreg. In addition, although the kind of reinforcement base material is not specifically limited, For example, paper, a glass cloth, a glass nonwoven fabric, an aramid cloth, a liquid crystal polymer etc. are mention | raise | lifted as an example. The ratio of the resin composition and the reinforcing substrate is not particularly limited, but it is usually preferable that the resin component in the prepreg is prepared at 20 to 80% by weight.
熱伝導性材料の製造方法としては、例えば、特開平06−136244号、特開平10−237410号、特開2000−3987号などがある。より具体的には、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂、硬化剤としてフェノールノボラック硬化剤、さらに熱伝導フィラーとしてグラファイト粉末を配合して均一に混練する。これに本発明のマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)を配合して熱伝導性樹脂ペーストを得ることができる。 Examples of the method for producing the heat conductive material include Japanese Patent Laid-Open Nos. 06-136244, 10-237410, and 2000-3987. More specifically, an epoxy resin as a thermosetting resin, a phenol novolac curing agent as a curing agent, and graphite powder as a heat conductive filler are blended and uniformly kneaded. The masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) of the present invention can be blended into this to obtain a heat conductive resin paste.
本発明を実施例に基づき、更に詳しく説明するが本発明の技術範囲およびその実施態様はこれらに限定されるものではない。実施例及び比較例中の「部」または「%」は特記しない限り質量基準である。
以下に述べる手法により、本実施例および比較例に係る樹脂およびその硬化物の物性評価試験を行った。
(1)エポキシ当量
1当量のエポキシ基を含むエポキシ樹脂の質量(g)であり、JIS K−7236に準拠して求めた。
The present invention will be described in more detail based on examples, but the technical scope and embodiments of the present invention are not limited thereto. “Part” or “%” in Examples and Comparative Examples is based on mass unless otherwise specified.
The physical property evaluation test of the resin and its cured product according to this example and the comparative example was performed by the method described below.
(1) Epoxy equivalent It is the mass (g) of the epoxy resin containing 1 equivalent of an epoxy group, and was determined based on JIS K-7236.
(2)全塩素量
試料1gを25mlのエチレングリコールモノブチルエーテルに溶解し、これに1規定KOHのプロピレングリコール溶液25mlを加えて20分間煮沸したのち、硝酸銀水溶液で滴定した。
(3)エポキシ樹脂(N)・(E)およびマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物(F)の全塩素量
エポキシ樹脂またはエポキシ樹脂組成物を、キシレンを用いて、エポキシ樹脂が無くなるまで洗浄と濾過を繰り返す。次にろ液を100℃以下で減圧留去し、エポキシ樹脂を得る。得られたエポキシ樹脂試料1〜10gを滴定量が3〜7mlになるよう精秤し、25mlのエチレングリコールモノブチルエーテルに溶解し、これに1規定KOHのプロピレングリコール溶液25mlを加えて20分間煮沸したのち、硝酸銀水溶液で滴定した。
(2) Total chlorine amount 1 g of a sample was dissolved in 25 ml of ethylene glycol monobutyl ether, 25 ml of a 1N KOH propylene glycol solution was added thereto and boiled for 20 minutes, and then titrated with an aqueous silver nitrate solution.
(3) Total chlorine content of epoxy resin (N) / (E) and masterbatch type epoxy resin curing agent composition (F) Wash the epoxy resin or epoxy resin composition with xylene until the epoxy resin is gone Repeat filtration. Next, the filtrate is distilled off under reduced pressure at 100 ° C. or lower to obtain an epoxy resin. 1-10 g of the obtained epoxy resin sample was precisely weighed so that the titration amount was 3-7 ml, dissolved in 25 ml of ethylene glycol monobutyl ether, added with 25 ml of 1N KOH propylene glycol solution and boiled for 20 minutes. After that, it was titrated with an aqueous silver nitrate solution.
(4)加水分解性塩素量
試料3gを50mlのトルエンに溶解し、これに0.1規定KOHのメタノール溶液20mlを加えて15分間煮沸した後、硝酸銀水溶液で滴定した。
(5)粘度
25℃でBM型粘度計を使用して測定した。
(6)溶融粘度
東機産業(株)製のRE−550H型粘度計(ローターR−H HH4)を用い、回転数20rpm、測定温度140℃の条件で測定した。
(7)軟化点
JIS K−7234(環球法)に準拠した。
(4) Hydrolyzable chlorine amount 3 g of a sample was dissolved in 50 ml of toluene, 20 ml of a 0.1 N KOH methanol solution was added thereto and boiled for 15 minutes, and then titrated with an aqueous silver nitrate solution.
(5) Viscosity The viscosity was measured at 25 ° C. using a BM viscometer.
(6) Melt viscosity Using RE-550H type viscometer (rotor R-H HH4) manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., the viscosity was measured under the conditions of a rotation speed of 20 rpm and a measurement temperature of 140 ° C.
(7) Softening point Conforms to JIS K-7234 (ring and ball method).
(8)FT−IR測定
日本分光(株)社製FT/IR−410を使用し吸光度を測定した。
(9)分子量分布
東ソー(株)製HLC8220GPC(検出器:RI)を用い、カラム:PLgel3μMIXED−E(ポリマーラボラトリー社製)2本、溶離液:ジメチルホルムアミド1%リチウムブロマイド溶液、検量線:ポリスチレンの条件でゲルパーミッションクロマトグラフィーを行い、重量平均分子量を数平均分子量で割った値で分子量分布を示した。
(10)ゲルタイム測定
(株)テイ・エスエンジニアリング社製のキュラストメーターV型を使用し、JIS K6300に準拠して求めた。
(8) FT-IR measurement Absorbance was measured using FT / IR-410 manufactured by JASCO Corporation.
(9) Molecular weight distribution Using Tosoh Co., Ltd. HLC8220GPC (detector: RI), two columns: PLgel 3 μMIXED-E (Polymer Laboratories), eluent: dimethylformamide 1% lithium bromide solution, calibration curve: polystyrene Gel permeation chromatography was performed under the conditions, and the molecular weight distribution was shown by the value obtained by dividing the weight average molecular weight by the number average molecular weight.
(10) Gel time measurement A curast meter type V manufactured by TS Engineering Co., Ltd. was used, and the gel time was measured according to JIS K6300.
(11)エポキシ樹脂(E)の基本構造成分の定量
エポキシ樹脂組成物を、キシレンを用いてエポキシ樹脂が無くなるまで洗浄と濾過を繰り返す。次にろ液を100℃以下で減圧留去し、エポキシ樹脂を得る。
得られたエポキシ樹脂を、以下の方法で分析して定量する。東ソー製高速液体クロマトグラフィ(AS−8021、検出器UV−8020、以下HPLC)で、カラムはミリポア社製のノバパックC−18を使用する。移動相は水/アセトニトリル=70/30〜0/100にグラジェントをかける。尚、検出波長を254nmとした。HPLC分析して両方の末端構造の違いによる分離条件を選定して、分離液について切り替え弁を使用して分取する。分取した分離液をフラクションごとに減圧、留去し残渣をMSで分析する。MSスペクトルにより、基準ピークの質量数に18の差があるもの同士について、18小さいものを基本構造成分と認める。この基本構造成分について、HPLC分析チャート上のピーク強度より、その面積比率でエポキシ樹脂(E)の基本構造成分含有量を求める。
(11) Determination of basic structural components of epoxy resin (E) The epoxy resin composition is repeatedly washed and filtered using xylene until the epoxy resin is eliminated. Next, the filtrate is distilled off under reduced pressure at 100 ° C. or lower to obtain an epoxy resin.
The obtained epoxy resin is analyzed and quantified by the following method. Tosoh high performance liquid chromatography (AS-8021, detector UV-8020, hereinafter HPLC), the column uses Novapack C-18 manufactured by Millipore. The mobile phase is gradient from water / acetonitrile = 70/30 to 0/100. The detection wavelength was 254 nm. The separation conditions based on the difference in both terminal structures are selected by HPLC analysis, and the separation liquid is fractionated using a switching valve. The separated separated liquid is distilled off under reduced pressure for each fraction, and the residue is analyzed by MS. According to the MS spectrum, those having a difference of 18 in the mass number of the reference peak are recognized as basic structural components having a smaller value. About this basic structural component, basic structural component content of an epoxy resin (E) is calculated | required by the area ratio from the peak intensity on a HPLC analysis chart.
(12)エポキシ樹脂(E)のジオール末端不純成分の定量
エポキシ樹脂(E)の基本構造成分の定量と同様にして、分離液をMSで分析する。MSスペクトルにより、基準ピークの質量数に18の差があるもの同士について、18大きいものをジオール末端不純成分と認める。HPLC分析チャート上のジオール末端不純成分ピークの強度を示す面積と、基本構造成分を示すピーク強度の面積比でエポキシ樹脂(E)中の基本構造成分に対する、ジオール末端不純成分の含有量を求める。尚、検出波長を254nmとした。
ここでいうジオール末端不純成分の構造とは、どちらか一方、または両方の末端のエポキシ基が開環して、1,2−グリコールを形成した構造をいう。
(12) Quantification of the diol terminal impurity component of the epoxy resin (E) The separation liquid is analyzed by MS in the same manner as the quantification of the basic structural component of the epoxy resin (E). According to the MS spectrum, those having a difference of 18 in the mass number of the reference peak are recognized as those having a larger value of 18 as a diol terminal impurity component. The content of the diol terminal impure component with respect to the basic structural component in the epoxy resin (E) is determined by the area ratio of the area indicating the intensity of the diol terminal impure component peak on the HPLC analysis chart and the peak intensity indicating the basic structural component. The detection wavelength was 254 nm.
As used herein, the structure of the diol terminal impurity component refers to a structure in which one or both terminal epoxy groups are ring-opened to form 1,2-glycol.
(13)マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤(F)からのマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)の分離
マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤(F)を、キシレンを用いて、エポキシ樹脂が無くなるまで洗浄と濾過を繰り返す。次に、キシレンが無くなるまでシクロヘキサンで洗浄と濾過を繰り返す。シクロヘキサンを濾別し、50℃以下の温度でシクロヘキサンを完全に除去乾燥する。
(14)マイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)からのカプセル膜の分離
マイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤(D)を、メタノールを用いて、エポキシ樹脂用硬化剤が無くなるまで洗浄と濾過を繰り返し、50℃以下の温度でメタノールを完全に除去乾燥する。
(13) Separation of the microcapsule type epoxy resin curing agent (D) from the masterbatch type epoxy resin curing agent (F) The masterbatch type epoxy resin curing agent (F) was prepared by using xylene. Repeat washing and filtering until no longer present. Next, washing and filtration with cyclohexane are repeated until the xylene disappears. Cyclohexane is filtered off, and the cyclohexane is completely removed and dried at a temperature of 50 ° C. or lower.
(14) Separation of capsule membrane from microcapsule-type epoxy resin curing agent (D) Wash and filter microcapsule-type epoxy resin curing agent (D) with methanol until the epoxy resin curing agent disappears. Repeatedly, methanol is completely removed and dried at a temperature of 50 ° C. or lower.
(15)一液性エポキシ樹脂組成物の硬化性
実施例または比較例で製造したマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤(F)30部を、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量189g/当量、全塩素量1200ppm:以下エポキシ樹脂(M)と称す)100部と混合、一液性エポキシ樹脂組成物を製造してゲルタイムを測定し、ゲルタイムが20分未満となる温度が90℃未満の場合は◎、90℃を超えて100℃未満の場合は○、100℃を超えて110℃未満の場合は△、110℃を超えて120℃未満の場合は×、120℃を超える場合は××とした。
(15) Curability of one-part epoxy resin composition 30 parts of the masterbatch type epoxy resin curing agent (F) produced in the examples or comparative examples was replaced with bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 189 g / equivalent, total chlorine). Amount 1200 ppm: hereinafter referred to as epoxy resin (M)) 100 parts, mixed to produce a one-part epoxy resin composition and measure the gel time. When the temperature at which the gel time is less than 20 minutes is less than 90 ° C., When it exceeded 90 degreeC and less than 100 degreeC, it was set as (circle), when exceeding 100 degreeC and less than 110 degreeC, (triangle | delta), when exceeding 110 degreeC and less than 120 degreeC, it was set as x.
(16)一液性エポキシ樹脂組成物の貯蔵安定性
実施例または比較例で製造したマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤(F)30部をエポキシ樹脂(M)100部と混合、一液性エポキシ樹脂組成物を製造し、30℃で1週間貯蔵し、貯蔵後の粘度を貯蔵前粘度割った値(以下粘度倍率と称す)により貯蔵安定性を評価した。粘度倍率が1.5倍未満を◎、2倍未満を○、2倍以上3倍未満を△、3倍以上を×、貯蔵途中でゲル化したものを××とした。
(16) Storage stability of a one-part epoxy resin composition 30 parts of a masterbatch type epoxy resin curing agent (F) produced in the examples or comparative examples is mixed with 100 parts of an epoxy resin (M) to produce a one-part epoxy. A resin composition was produced, stored at 30 ° C. for 1 week, and the storage stability was evaluated by a value obtained by dividing the viscosity after storage by the viscosity before storage (hereinafter referred to as viscosity magnification). The viscosity ratio was less than 1.5 times, ◎, less than 2 times, ◯, 2 times or more and less than 3 times, Δ, 3 times or more, x, and gelation during storage as xx.
[製造例1]
(アミンアダクト(A−1)の製造)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量185g/当量、全塩素量1900ppm:以下エポキシ樹脂a1−1と称す)1.5当量と、2−メチルイミダゾール1当量(活性水素換算)を、n−ブタノールとトルエンの1/1混合溶媒中(樹脂分50%)、80℃で反応させた。その後減圧下で2−メチルイミダゾールの含有量が10ppm未満になるまで溶剤と共に留去し、25℃で固体状のアミンアダクトA−1を得た。得られたアミンアダクトの分子量分布は3.7であった。
[Production Example 1]
(Production of amine adduct (A-1))
Bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 185 g / equivalent, total chlorine amount 1900 ppm: hereinafter referred to as epoxy resin a1-1) 1.5 equivalent, 2-methylimidazole 1 equivalent (in terms of active hydrogen), n-butanol and toluene In a 1/1 mixed solvent (resin content: 50%). Thereafter, the solvent was distilled off together with the solvent under reduced pressure until the content of 2-methylimidazole was less than 10 ppm, and solid amine adduct A-1 was obtained at 25 ° C. The resulting amine adduct had a molecular weight distribution of 3.7.
[製造例2]
(アミンアダクト(A−2)の製造)
以下エポキシ樹脂a1−1を2当量とビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量470g/当量、全塩素量1300ppm:以下エポキシ樹脂a1−2と称す)1当量と、トリエチレンテトラミン2当量を2−プロパノールとキシレンの1/2混合溶媒中(樹脂分50%)、80℃で反応させた。その後、減圧下で溶剤と未反応低分子アミン化合物を留去し、トリエチレンテトラミンが2.3%(樹脂分100%に対して)になった時点で蒸留を終了し、25℃で固体状のアミンアダクトA−2を得た。得られたアミンアダクトの分子量分布は4.3であった。溶融粘度は14.2Pa・sであった。
[Production Example 2]
(Production of amine adduct (A-2))
Hereinafter, 2 equivalents of epoxy resin a1-1, 1 equivalent of bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 470 g / equivalent, total chlorine amount 1300 ppm: hereinafter referred to as epoxy resin a1-2), 2 equivalents of triethylenetetramine and 2-propanol The reaction was carried out at 80 ° C. in a 1/2 mixed solvent of xylene (resin content: 50%). Thereafter, the solvent and the unreacted low molecular amine compound were distilled off under reduced pressure, and when the triethylenetetramine was 2.3% (based on the resin content of 100%), the distillation was terminated and solid at 25 ° C. The amine adduct A-2 was obtained. The molecular weight distribution of the obtained amine adduct was 4.3. The melt viscosity was 14.2 Pa · s.
[製造例3]
(アミンアダクト(A−3)の製造)
エポキシ樹脂a1−2を1.5当量とクレゾールノバラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量215g/当量、全塩素量1500ppm:以下エポキシ樹脂a1−3と称す)1当量と、N―メチルピペラジン1.5当量とした以外は製造例2と同様に反応させた後、蒸留留去して25℃で固体状のアミンアダクトA−3を得た。得られたアミンアダクトに含有されるN−メチルピペラジンは3.8%(樹脂分100%に対して)、分子量分布は4.9であった。溶融粘度は13.8Pa・sであった。
[Production Example 3]
(Production of amine adduct (A-3))
1.5 equivalents of epoxy resin a1-2, 1 equivalent of cresol novalak type epoxy resin (epoxy equivalent 215 g / equivalent, total chlorine amount 1500 ppm: hereinafter referred to as epoxy resin a1-3), and 1.5 equivalents of N-methylpiperazine The reaction was carried out in the same manner as in Production Example 2 except that the product was distilled off to obtain a solid amine adduct A-3 at 25 ° C. N-methylpiperazine contained in the resulting amine adduct was 3.8% (relative to 100% resin content), and the molecular weight distribution was 4.9. The melt viscosity was 13.8 Pa · s.
[製造例4]
(アミンアダクト(A−4)の製造)
エポキシ樹脂a1−1を1当量と、2−メチルイミダゾール0.9当量とし、溶剤を製造例1と同様にした以外は製造例2と同様に反応させた後、蒸留留去して25℃で固体状のアミンアダクトA−4を得た。得られたアミンアダクトに含有される2−メチルイミダゾールは2.5%(樹脂分100%に対して)で、分子量分布は1.5であった。溶融粘度は8.9Pa・sであった。
[Production Example 4]
(Production of amine adduct (A-4))
Epoxy resin a1-1 was changed to 1 equivalent and 2-methylimidazole 0.9 equivalent, and the reaction was carried out in the same manner as in Production Example 2 except that the solvent was the same as in Production Example 1, followed by distillation at 25 ° C. Solid amine adduct A-4 was obtained. The 2-methylimidazole contained in the obtained amine adduct was 2.5% (based on 100% resin content), and the molecular weight distribution was 1.5. The melt viscosity was 8.9 Pa · s.
[製造例5]
(アミンアダクト(A−5)の製造)
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量165g/当量、全塩素量300ppm :以下エポキシ樹脂a14と称す)1当量と、2メチルイミダゾール1当量を、製造例4と同様に反応させた後、蒸留留去して25℃で固体状のアミンアダクトA−5を得た。得られたアミンアダクトに含有される2−メチルイミダゾールは6.0%(樹脂分100%に対して)で、分子量分布は2.2であった。溶融粘度は5.3Pa・sであった。
[Production Example 5]
(Production of amine adduct (A-5))
After reacting 1 equivalent of bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent 165 g / equivalent, total chlorine amount 300 ppm: hereinafter referred to as epoxy resin a14) and 1 equivalent of 2 methylimidazole in the same manner as in Production Example 4, it was distilled off. Thus, a solid amine adduct A-5 was obtained at 25 ° C. The 2-methylimidazole contained in the obtained amine adduct was 6.0% (based on the resin content of 100%), and the molecular weight distribution was 2.2. The melt viscosity was 5.3 Pa · s.
[製造例6]
(アミンアダクト(A−6)の製造)
エポキシ樹脂a1−1を2当量と、2−メチルイミダゾール1当量を、製造例4と同様に反応させた後、蒸留留去して25℃で固体状のアミンアダクトA−6を得た。得られたアミンアダクトに含有される2−メチルイミダゾールは2.1%(樹脂分100%に対して)で、分子量分布は6.1であった。溶融粘度は21.5Pa・sであった。
[Production Example 6]
(Production of amine adduct (A-6))
2 equivalents of epoxy resin a1-1 and 1 equivalent of 2-methylimidazole were reacted in the same manner as in Production Example 4 and then distilled off to obtain a solid amine adduct A-6 at 25 ° C. The 2-methylimidazole contained in the obtained amine adduct was 2.1% (based on the resin content of 100%), and the molecular weight distribution was 6.1. The melt viscosity was 21.5 Pa · s.
[製造例7]
(アミンアダクト(A−7)の製造)
エポキシ樹脂a1−1を5当量と、2−メチルイミダゾール1当量を、製造例4と同様に反応させた後、蒸留留去して25℃で固体状のアミンアダクトA−7を得た。得られたアミンアダクトに含有される2−メチルイミダゾールは0.1%(樹脂分100%に対して)で、分子量分布は9.5であった。溶融粘度は42.0Pa・sであった。
[Production Example 7]
(Production of amine adduct (A-7))
5 equivalents of epoxy resin a1-1 and 1 equivalent of 2-methylimidazole were reacted in the same manner as in Production Example 4, and then distilled off to obtain a solid amine adduct A-7 at 25 ° C. The 2-methylimidazole contained in the obtained amine adduct was 0.1% (relative to 100% resin content), and the molecular weight distribution was 9.5. The melt viscosity was 42.0 Pa · s.
[製造例8]
(アミンアダクト(A−8)の製造)
エポキシ樹脂a1−1を1当量と、2−メチルイミダゾール2.5当量を、製造例4と同様に反応させた後、蒸留留去して25℃で固体状のアミンアダクトA−8を得た。得られたアミンアダクトに含有される2−メチルイミダゾールは12%(樹脂分100%に対して)で、分子量分布は1.5であった。溶融粘度は2.9Pa・sであった。
[Production Example 8]
(Production of amine adduct (A-8))
1 equivalent of epoxy resin a1-1 and 2.5 equivalent of 2-methylimidazole were reacted in the same manner as in Production Example 4 and then distilled off to obtain a solid amine adduct A-8 at 25 ° C. . The 2-methylimidazole contained in the obtained amine adduct was 12% (based on the resin content of 100%), and the molecular weight distribution was 1.5. The melt viscosity was 2.9 Pa · s.
[実施例1]
製造例1で得たアミンアダクトA−1の100質量部を溶融し、これに2.5質量部の2−エチル−4−メチルイミダゾールを均一に混合し、室温に冷却後粉砕して、25℃で固体状の平均粒径2.5μmのエポキシ樹脂用硬化剤C−1を得た。溶融粘度は12.5Pa・sであった。200質量部のエポキシ樹脂E−1に、エポキシ樹脂用硬化剤C−1を100質量部、水1質量部、トリレンジイソシアネート8質量部を加えて、40℃で攪拌しながら3時間反応を続けた。その後、シェル形成反応を50℃で6時間行い、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−1を得た。
[Example 1]
100 parts by mass of the amine adduct A-1 obtained in Production Example 1 was melted, 2.5 parts by mass of 2-ethyl-4-methylimidazole was uniformly mixed therein, cooled to room temperature, and pulverized. An epoxy resin curing agent C-1 having a solid average particle diameter of 2.5 μm at a temperature of 0 ° C. was obtained. The melt viscosity was 12.5 Pa · s. Add 100 parts by weight of epoxy resin curing agent C-1, 1 part by weight of water and 8 parts by weight of tolylene diisocyanate to 200 parts by weight of epoxy resin E-1, and continue the reaction for 3 hours while stirring at 40 ° C. It was. Then, shell formation reaction was performed at 50 degreeC for 6 hours, and the hardening agent F-1 for masterbatch type epoxy resins was obtained.
マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−1からキシレンを用いてマイクロカプセル型エポキシ樹脂用硬化剤を分離し、FTIR測定により、結合基(x)、(y)、(z)を有することが確認された。
更に、100部のエポキシ樹脂(M)に、得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−1を30部配合したときの一液性エポキシ樹脂組成物の硬化性と貯蔵安定性を評価した。得られた結果を表−1に示す。
Separating microcapsule type epoxy resin curing agent from masterbatch type epoxy resin curing agent F-1 using xylene and confirming that it has bonding groups (x), (y) and (z) by FTIR measurement. It was done.
Furthermore, the curability and storage stability of the one-part epoxy resin composition were evaluated when 30 parts of the obtained masterbatch type epoxy resin curing agent F-1 was blended with 100 parts of the epoxy resin (M). . The obtained results are shown in Table-1.
[実施例2〜6]
製造例2〜6で得たアミンアダクトA−2〜6を粉砕して、表−1記載のエポキシ樹脂用硬化剤C−2〜6を得た。得られたエポキシ樹脂用硬化剤の特性を表−1に示す。
更に、表−1で示した配合で、実施例1と同様にしてマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−2〜6を得た。何れも実施例1と同様にして結合基(x)、(y)、(z)を有することを確認し、実施例1と同様にしてマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−2〜6を硬化剤としたときの一液性エポキシ樹脂組成物の硬化性と貯蔵安定性を評価した。評価結果を表−1に示す。
[Examples 2 to 6]
The amine adducts A-2 to A-6 obtained in Production Examples 2 to 6 were pulverized to obtain epoxy resin curing agents C-2 to C-6 described in Table 1. The properties of the resulting epoxy resin curing agent are shown in Table 1.
Furthermore, masterbatch type epoxy resin curing agents F-2 to 6 were obtained in the same manner as in Example 1 with the formulation shown in Table-1. Each was confirmed to have bonding groups (x), (y), (z) in the same manner as in Example 1, and the masterbatch type epoxy resin curing agents F-2 to 6 were added in the same manner as in Example 1. The curability and storage stability of the one-part epoxy resin composition when used as a curing agent were evaluated. The evaluation results are shown in Table-1.
[実施例7]
製造例4で得たアミンアダクトA−4を粉砕して25℃で固体状の平均粒径2.4μmのエポキシ樹脂用硬化剤C−4を得た。得られたエポキシ樹脂用硬化剤C−4を100質量部、水2.5質量部、MR−200を10質量部加えて、40℃で攪拌しながら3時間反応を続けた。その後、環状ホウ酸エステル化合物(L)を0.17部加えて、さらにシェル形成反応を50℃で6時間行い、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−7を得た。実施例1と同様にして結合基(x)、(y)、(z)を有することを確認し、実施例1と同様にしてマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−7の一液性エポキシ樹脂組成物の硬化性と貯蔵安定性を評価した。評価結果を表−1に示す。
[Example 7]
The amine adduct A-4 obtained in Production Example 4 was pulverized to obtain an epoxy resin curing agent C-4 having an average particle size of 2.4 μm at 25 ° C. 100 parts by mass of the resulting epoxy resin curing agent C-4, 2.5 parts by mass of water, and 10 parts by mass of MR-200 were added, and the reaction was continued for 3 hours while stirring at 40 ° C. Thereafter, 0.17 part of a cyclic borate ester compound (L) was added, and a shell formation reaction was further performed at 50 ° C. for 6 hours to obtain a masterbatch type epoxy resin curing agent F-7. In the same manner as in Example 1, it was confirmed that it had bonding groups (x), (y), and (z). The curability and storage stability of the resin composition were evaluated. The evaluation results are shown in Table-1.
[比較例1]
製造例8で得たアミンアダクトA−8を粉砕して、表−1記載のエポキシ樹脂用硬化剤C−7を得た。得られたエポキシ樹脂用硬化剤の特性を表−1に示す。
更に、表−1で示した配合で、実施例1と同様にしてマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−8を得た。実施例1と同様にしてマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−8を硬化剤としたときの一液性エポキシ樹脂組成物の硬化性と貯蔵安定性を評価した。評価結果を表−1に示す。
[Comparative Example 1]
The amine adduct A-8 obtained in Production Example 8 was pulverized to obtain a curing agent C-7 for epoxy resin described in Table-1. The properties of the resulting epoxy resin curing agent are shown in Table 1.
Further, a masterbatch type epoxy resin curing agent F-8 was obtained in the same manner as in Example 1 with the formulation shown in Table-1. In the same manner as in Example 1, the curability and storage stability of the one-part epoxy resin composition when the curing agent F-8 for masterbatch type epoxy resin was used as a curing agent were evaluated. The evaluation results are shown in Table-1.
[比較例2]
製造例8で得たアミンアダクトA−8を粉砕して得た表−1記載のエポキシ樹脂用硬化剤C−7を用いて、更に表−1で示した配合で、実施例7と同様にしてマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−9を得た。実施例1と同様にしてマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−9を硬化剤としたときの一液性エポキシ樹脂組成物の硬化性と貯蔵安定性を評価した。評価結果を表−1に示す。
[Comparative Example 2]
Using the epoxy resin curing agent C-7 shown in Table-1 obtained by pulverizing the amine adduct A-8 obtained in Production Example 8, and using the same formulation as shown in Table-1, as in Example 7. Thus, a masterbatch type epoxy resin curing agent F-9 was obtained. In the same manner as in Example 1, the curability and storage stability of the one-part epoxy resin composition when the curing agent F-9 for masterbatch type epoxy resin was used as a curing agent were evaluated. The evaluation results are shown in Table-1.
[比較例3]
製造例7で得たアミンアダクトA−7を粉砕して、表−1記載のエポキシ樹脂用硬化剤C−8を得た。得られたエポキシ樹脂用硬化剤の特性を表−1に示す。
更に、表−1で示した配合で、実施例1と同様にしてマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−10を得た。実施例1と同様にしてマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−10を硬化剤としたときの一液性エポキシ樹脂組成物の硬化性と貯蔵安定性を評価した。評価結果を表−1に示す。
[Comparative Example 3]
The amine adduct A-7 obtained in Production Example 7 was pulverized to obtain a curing agent C-8 for epoxy resin described in Table-1. The properties of the resulting epoxy resin curing agent are shown in Table 1.
Further, a masterbatch type epoxy resin curing agent F-10 was obtained in the same manner as in Example 1 with the formulation shown in Table-1. In the same manner as in Example 1, the curability and storage stability of the one-pack epoxy resin composition when the curing agent F-10 for masterbatch type epoxy resin was used as a curing agent were evaluated. The evaluation results are shown in Table-1.
[比較例4]
製造例7得たアミンアダクトA−7の100質量部を溶融し、これに3.9質量部の2メチルイミダゾールを均一に混合し2−メチルイミダゾール含有量は合計で4.0部となるようにし、室温に冷却後粉砕して、25℃で固体状の平均粒径3.5μmのエポキシ樹脂用硬化剤C−9を得た。溶融粘度は24.5Pa・sであった。200質量部のエポキシ樹脂E−1に、エポキシ樹脂用硬化剤C−9を100質量部、水2質量部、MR−200を7質量部を加えて、40℃で攪拌しながら3時間反応を続けた。その後、シェル形成反応を50℃で6時間行い、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−11を得た。
[Comparative Example 4]
Production Example 7 100 parts by mass of the amine adduct A-7 obtained was melted, and 3.9 parts by mass of 2-methylimidazole was uniformly mixed therein, so that the content of 2-methylimidazole was 4.0 parts in total. And cooled to room temperature and pulverized to obtain a curing agent C-9 for epoxy resin having an average particle size of 3.5 μm and a solid state at 25 ° C. The melt viscosity was 24.5 Pa · s. Add 100 parts by mass of epoxy resin curing agent C-9, 2 parts by mass of water, and 7 parts by mass of MR-200 to 200 parts by mass of epoxy resin E-1, and react for 3 hours while stirring at 40 ° C. Continued. Then, shell formation reaction was performed at 50 degreeC for 6 hours, and the hardening agent F-11 for masterbatch type epoxy resins was obtained.
マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−11からキシレンを用いてエポキシ樹脂用マイクロカプセル型硬化剤を分離し、FT−IR測定により、結合基(x)、(y)、(z)を有することが確認された。
更に、100部のエポキシ樹脂(M)に、得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−11を30部配合したときの一液性エポキシ樹脂組成物の硬化性と貯蔵安定性を評価した。得られた結果を表−2に示す。
The microcapsule type curing agent for epoxy resin is separated from the masterbatch type curing agent for epoxy resin F-11 using xylene, and has bonding groups (x), (y), (z) by FT-IR measurement. Was confirmed.
Furthermore, the curability and storage stability of the one-part epoxy resin composition were evaluated when 30 parts of the obtained masterbatch type epoxy resin curing agent F-11 was blended with 100 parts of the epoxy resin (M). . The obtained results are shown in Table-2.
[比較例5]
比較例4と同じエポキシ樹脂用硬化剤C−9を用いて、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−12を製造する際、実施例7と同様に、環状ホウ酸エステル化合物(L)を0.1部加えて、さらにシェル形成反応を50℃で6時間行い、マスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−12を得た。更に、100部のエポキシ樹脂(M)に、得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−12を30部配合したときの一液性エポキシ樹脂組成物の硬化性と貯蔵安定性を評価した。得られた結果を表−2に示す。
[Comparative Example 5]
When producing the masterbatch type epoxy resin curing agent F-12 using the same epoxy resin curing agent C-9 as in Comparative Example 4, the cyclic borate ester compound (L) was changed to 0 as in Example 7. In addition, 1 part was added and a shell forming reaction was further performed at 50 ° C. for 6 hours to obtain a masterbatch type epoxy resin curing agent F-12. Furthermore, the curability and storage stability of the one-part epoxy resin composition were evaluated when 30 parts of the obtained masterbatch type epoxy resin curing agent F-12 was blended with 100 parts of the epoxy resin (M). . The obtained results are shown in Table-2.
[比較例6]
製造例1で得たアミンアダクトA−1をそのまま粉砕して、表−2載のエポキシ樹脂用硬化剤C−10を得た。得られたエポキシ樹脂用硬化剤の特性を表−2に示す。更に、表−2で示した配合で、実施例1と同様にしてマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−13を得た。更に、100部のエポキシ樹脂(M)に、得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−13を30部配合したときの一液性エポキシ樹脂組成物の硬化性と貯蔵安定性を評価した。得られた結果を表−2に示す。
[Comparative Example 6]
The amine adduct A-1 obtained in Production Example 1 was pulverized as it was to obtain a curing agent C-10 for epoxy resin listed in Table-2. The properties of the resulting epoxy resin curing agent are shown in Table 2. Further, a masterbatch type epoxy resin curing agent F-13 was obtained in the same manner as in Example 1 with the formulation shown in Table-2. Furthermore, the curability and storage stability of the one-part epoxy resin composition were evaluated when 30 parts of the obtained masterbatch type epoxy resin curing agent F-13 was blended with 100 parts of the epoxy resin (M). . The obtained results are shown in Table-2.
[導電性フィルムの作製の実施例]
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ製AER−2603)15部、フェノールノボラック樹脂(昭和高分子社製、商品名「BRG−558」)6部、合成ゴム(日本ゼオン社製商品名「ニポール1072」、重量平均分子量30万)4部を、メチルエチルケトンとブチルセロソルブアセテートの1:1(重量比)混合溶剤20部に溶解した
。この溶液に銀粉末74部を混合し、さらに三本ロールにより混練した。これにさらに実施例2で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−2を30部加えて、さらに均一に混合させて、導電性接着剤を得た。得られた導電性接着剤を用いて、厚さ40μm のポリプロピレンフィルム上にキャストして、80℃で60分間、乾燥半硬化させ厚さ35μm の導電性接着剤層を有する導電性フィルムを得た。この導電性フィルムを用い、80℃のヒートブロック上でシリコンウェハー裏面に導電性接着剤層を導電性フィルムを転写させた。さらにシリコンウェハーをフルダイシングし、ヒートブロック上でリードフレームに導電性接着剤付半導体チップを、200 ℃、2分間の条件で接着硬化させたところ、チップの導電性の問題がなかった。
[Example of production of conductive film]
15 parts of bisphenol A type epoxy resin (AER-2603 manufactured by Asahi Kasei Chemicals), 6 parts of phenol novolac resin (trade name “BRG-558” manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), synthetic rubber (trade name “Nipol 1072” manufactured by ZEON Corporation) 4 parts of a weight average molecular weight of 300,000) was dissolved in 20 parts of a 1: 1 (weight ratio) mixed solvent of methyl ethyl ketone and butyl cellosolve acetate. This solution was mixed with 74 parts of silver powder and further kneaded with a three-roll. To this, 30 parts of the masterbatch type epoxy resin curing agent F-2 obtained in Example 2 was further added and mixed uniformly to obtain a conductive adhesive. Using the obtained conductive adhesive, it was cast on a polypropylene film having a thickness of 40 μm and dried and semi-cured at 80 ° C. for 60 minutes to obtain a conductive film having a conductive adhesive layer having a thickness of 35 μm. . Using this conductive film, the conductive film was transferred onto the back surface of the silicon wafer on the heat block at 80 ° C. Furthermore, when the silicon wafer was fully diced and the semiconductor chip with a conductive adhesive was bonded and cured on the lead frame on the heat block at 200 ° C. for 2 minutes, there was no problem with the conductivity of the chip.
[導電性ペーストの作製の実施例]
100部のエポキシ樹脂(M)に、実施例1で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−1を30部に、平均粒子径が14μm、アスペクト比が11の鱗片状銀粉(徳力化学研究所(株)製)150g及び平均粒子径が10μm、アスペクト比が9の鱗片状ニッケル粉(高純度化学(株)製、商品名「NI110104」)60gを添加し、均一になるまで撹拌後、三本ロールで均一に分散して導電ペーストとした。得られた導電ペーストを、厚さ1.4mmのポリイミドフィルム基板上にスクリーン印刷した後、200℃で1時間、加熱硬化させた。得られた配線板の導電性を測定した結果、導電性ペーストとして有用なものであった。
[Example of production of conductive paste]
100 parts of epoxy resin (M), 30 parts of the masterbatch type epoxy resin curing agent F-1 obtained in Example 1, scaly silver powder having an average particle diameter of 14 μm and an aspect ratio of 11 (Tokuroku Chemical) 150 g of Research Laboratory Co., Ltd.) and 60 g of scaly nickel powder having an average particle size of 10 μm and an aspect ratio of 9 (trade name “NI110104”, manufactured by High Purity Chemical Co., Ltd.) are added and stirred until uniform. The conductive paste was uniformly dispersed with three rolls. The obtained conductive paste was screen-printed on a polyimide film substrate having a thickness of 1.4 mm and then cured by heating at 200 ° C. for 1 hour. As a result of measuring the conductivity of the obtained wiring board, it was useful as a conductive paste.
[異方導電性フィルムの作製の実施例]
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ製AER6097、エポキシ当量42500g/eq)40重量部、フェノキシ樹脂(東都化成製、YP−50)30重量部を酢酸エチル30部に溶解し、それに、実施例2で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−2を30部に、粒径8μmの導電粒子(金メッキを施した架橋ポリスチレン)5部とを加え均一に混合し、一液性エポキシ樹脂組成物を得た。これをポリエステルフィルム上に塗布し、70℃で酢酸エチルを乾燥除去し、異方導電性フィルムを得た。
得られた異方導電性フィルムをICチップと電極間に挟み、200℃のホットプレート上で30kg/cm2、20秒間熱圧着を行った結果、電極間が接合し、導通がとれ、異方導電性材料として有用であった。
[Example of production of anisotropic conductive film]
40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (AER6097 manufactured by Asahi Kasei Chemicals, epoxy equivalent 42500 g / eq) and 30 parts by weight of phenoxy resin (manufactured by Toto Kasei, YP-50) were dissolved in 30 parts of ethyl acetate. 30 parts of the obtained masterbatch type epoxy resin curing agent F-2 is added to 5 parts of conductive particles (cross-linked polystyrene plated with gold) with a particle size of 8 μm and mixed uniformly to obtain a one-part epoxy resin composition. Got. This was applied onto a polyester film, and ethyl acetate was removed by drying at 70 ° C. to obtain an anisotropic conductive film.
The obtained anisotropic conductive film was sandwiched between the IC chip and the electrode and subjected to thermocompression bonding on a hot plate at 200 ° C. for 30 seconds at 30 kg / cm 2. It was useful as a sex material.
[異方導電性ペーストの作製の実施例]
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ製AER6091、エポキシ当量480g/eq)50重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ製AER2603)50重量部と導電粒子としてミクロパールAu−205(積水化学製、比重2.67)5重量部を混合後、実施例2で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−2を30部加えて、さらに均一に混合させて、異方導電性ペーストを得た。得られた異方導電性ペーストを、ITO電極を有する低アルカリガラス上に塗布した。230℃のセラミックツールで、30秒間、2MPaの圧力にて試験用TAB(Tape Automated Bonding)フィルムと圧着し貼り合わせを行った。隣接するITO電極間の抵抗値を測定したところ、異方導電性ペーストとして有用であった。
[Example of production of anisotropic conductive paste]
50 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (AER6091 manufactured by Asahi Kasei Chemicals, epoxy equivalent 480 g / eq), 50 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (AER2603 manufactured by Asahi Kasei Chemicals) and micropearl Au-205 (manufactured by Sekisui Chemical, specific gravity) 2.67) After mixing 5 parts by weight, 30 parts of the masterbatch type epoxy resin curing agent F-2 obtained in Example 2 was added and mixed uniformly to obtain an anisotropic conductive paste. . The obtained anisotropic conductive paste was applied on a low alkali glass having an ITO electrode. Using a 230 ° C. ceramic tool, the test TAB (Tape Automated Bonding) film was pressed and bonded for 30 seconds at a pressure of 2 MPa. When the resistance value between adjacent ITO electrodes was measured, it was useful as an anisotropic conductive paste.
[絶縁性ペーストの作製の実施例]
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ株式会社製、商品名「YL983U」)100重量部、ジシアンジアミドを4重量部、シリカ粉末100重量部、希釈剤としてフェニルグリシジルエーテル10重量部、および有機リン酸エステル(日本化薬社製、商品名「PM−2」)1重量部を十分混合した後、さらに三本ロールで混練する。さらに、そこに実施例2で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−2を30部加えて、さらに均一に混合させて、減圧脱泡および遠心脱泡処理を行い、絶縁性ペーストを製造した。得られた絶縁性ペーストを用いて、半導体チップを樹脂基板に200℃で1
時間加熱硬化させて接着したところ、絶縁性ペーストとして有用であった。
[Example of production of insulating paste]
100 parts by weight of bisphenol F type epoxy resin (trade name “YL983U” manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), 4 parts by weight of dicyandiamide, 100 parts by weight of silica powder, 10 parts by weight of phenylglycidyl ether as a diluent, and organic phosphoric acid After fully mixing 1 part by weight of an ester (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “PM-2”), the mixture is further kneaded with three rolls. Further, 30 parts of the masterbatch type epoxy resin curing agent F-2 obtained in Example 2 was added thereto, and further uniformly mixed, and subjected to vacuum defoaming and centrifugal defoaming treatment. Manufactured. Using the obtained insulating paste, a semiconductor chip is placed on a resin substrate at 200 ° C.
When it was heated and cured for a period of time, it was useful as an insulating paste.
[絶縁性フィルムの作製の実施例]
フェノキシ樹脂(東都化成株式会社製、商品名「YP−50」)180重量部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量200g/eq、日本化薬株式会社製商品名「EOCN−1020−80」)40重量部、球状シリカ(平均粒径:2μm、アドマテック株式会社製、商品名 SE−5101)300重量部、メチルエチルケトン200重量部を調合し均一分散させた後、これに実施例1で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−1を250重量部加えてさらに攪拌・混合してエポキシ樹脂組成物を含む溶液を得る。得られた溶液を、離型処理を施したポリエチレンテレフタレート上に、乾燥後の厚さが50μmになるように塗布し、熱風循環式乾燥機の中で加熱乾燥を行い、半導体接着用の絶縁性フィルムを得た。得られた半導体接着用の絶縁性フィルムを5インチのウェハサイズよりも大きく支持基材ごと切断し、バンプ電極付きウェハの電極部側に樹脂フィルムを合わせる。次に離型処理付き支持基材を上に挟み、70℃、1MPa、加圧時間10秒で真空中加熱圧着し接着樹脂付きウェハを得る。続いて、ダイシングソー(DISCO製DAD−2H6M)を用いてスピンドル回転数30,000rpm、カッティングスピード20mm/secで切断分離した個片の接着フィルム付き半導体素子の樹脂剥がれがないことを観察した。得られたフィルムは絶縁性フィルムとして有用なものであった。
[Example of production of insulating film]
180 parts by weight of phenoxy resin (trade name “YP-50” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), 40 cresol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent 200 g / eq, trade name “EOCN-1020-80” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Part by weight, spherical silica (average particle size: 2 μm, manufactured by Admatech Co., Ltd., trade name SE-5101) and 200 parts by weight of methyl ethyl ketone were prepared and uniformly dispersed, and then the master obtained in Example 1 was prepared. 250 parts by weight of the curing agent F-1 for batch type epoxy resin is added and further stirred and mixed to obtain a solution containing the epoxy resin composition. The obtained solution is applied onto polyethylene terephthalate that has been subjected to mold release treatment so that the thickness after drying is 50 μm, and is dried by heating in a hot-air circulating dryer to provide insulating properties for semiconductor adhesion. A film was obtained. The obtained insulating film for adhering semiconductors is cut together with the supporting substrate larger than the wafer size of 5 inches, and the resin film is aligned with the electrode part side of the wafer with bump electrodes. Next, a support substrate with a release treatment is sandwiched between them, and heat-pressed in vacuum at 70 ° C., 1 MPa, and a pressurization time of 10 seconds to obtain a wafer with an adhesive resin. Subsequently, it was observed that the resin element of the semiconductor element with the adhesive film was cut and separated using a dicing saw (DAD-2H6M manufactured by DISCO) at a spindle rotation speed of 30,000 rpm and a cutting speed of 20 mm / sec. The obtained film was useful as an insulating film.
[封止材の作製の実施例]
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ製AER6091、エポキシ当量480g/eq)50重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ製AER2603)50重量部、硬化剤として無水フタル酸を主成分とするHN−2200(日立化成工業(株)製)を40重量部、平均粒径16μmの球状溶融シリカを80重量部を均一に分散、配合させる。これに実施例1で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−1を5重量部加えてエポキシ樹脂組成物を得る。得られたエポキシ樹脂組成物をプリント配線基板上に厚さ60μmになるように1cm角に塗布し、110℃10分、オーブンで加熱して半硬化させた。その後、厚さ370μm、1cm角のシリコンチップを半硬化させたエポキシ樹脂組成物の上に乗せ、荷重を加えてバンプとチップの電極を接触・保持しつつ220℃で1時間、完全硬化処理を行った。得られたエポキシ樹脂組成物からなる封止材は、外観およびチップの導通に問題のない有用なものであった。
[Example of production of sealing material]
50 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (AER6091 manufactured by Asahi Kasei Chemicals, epoxy equivalent 480 g / eq), 50 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (AER2603 manufactured by Asahi Kasei Chemicals), HN-2200 mainly composed of phthalic anhydride as a curing agent 40 parts by weight (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) and 80 parts by weight of spherical fused silica having an average particle diameter of 16 μm are uniformly dispersed and blended. 5 parts by weight of the masterbatch type epoxy resin curing agent F-1 obtained in Example 1 is added thereto to obtain an epoxy resin composition. The obtained epoxy resin composition was applied to a printed wiring board in a 1 cm square so as to have a thickness of 60 μm, and was semi-cured by heating in an oven at 110 ° C. for 10 minutes. Thereafter, the silicon chip having a thickness of 370 μm and a 1 cm square silicon chip is placed on the semi-cured epoxy resin composition, and a full curing process is performed at 220 ° C. for 1 hour while applying and applying a load to contact and hold the bump and the chip electrode. went. The obtained sealing material composed of the epoxy resin composition was useful without any problem in appearance and chip conduction.
[コーティング材の作製の実施例]
30部のエポキシ樹脂(M)、フェノキシ樹脂としてYP−50を30部(東都化成製)、メトキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂のメチルエチルケトン溶液(荒川化学工業(株)製、商品名「コンポセランE103」)を50部、これに実施例1で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−1を30部加えて、メチルエチルケトンで50重量%に希釈・混合させた溶液を調製した。調製した溶液を、剥離PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(パナック(株)製SG―1)上に、ロールコーターを用いて塗布し、150℃で15分、乾燥、硬化させ、剥離フィルム付き半硬化樹脂(ドライフィルム)膜厚100μmを作製した。これらのドライフィルムを先の銅張り積層板上に120℃で、10分間、6MPaで加熱圧着した後、室温に戻して剥離フィルムを除去し、200℃で2時間硬化させたところ、層間絶縁用のコーティング材として有用なものが得られた。
[Example of production of coating material]
30 parts of epoxy resin (M), 30 parts of YP-50 as a phenoxy resin (manufactured by Tohto Kasei), methyl ethyl ketone solution of methoxy group-containing silane-modified epoxy resin (Arakawa Chemical Industries, Ltd., trade name "COMPOCERAN E103") 50 parts of this, 30 parts of the masterbatch type epoxy resin curing agent F-1 obtained in Example 1 was added thereto, and a solution diluted to 50% by weight with methyl ethyl ketone was prepared. The prepared solution was applied onto a release PET (polyethylene terephthalate) film (SG-1 manufactured by Panac Co., Ltd.) using a roll coater, dried and cured at 150 ° C. for 15 minutes, and a semi-cured resin with a release film (Dry film) A film thickness of 100 μm was prepared. These dry films were thermocompression bonded at 120 ° C. for 10 minutes at 6 MPa on the above copper-clad laminate, then returned to room temperature to remove the release film and cured at 200 ° C. for 2 hours. A useful coating material was obtained.
[塗料組成物の作製の実施例]
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ製AER6091、エポキシ当量480g/eq)50重量部に、二酸化チタン30重量部、タルク70重量部を配合し、混合溶剤としてMIBK/キシレンの1:1混合溶剤140重量部を添加、攪拌、混合し
て主剤とする。これに実施例1で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤F−1を30重量部添加、均一に分散させることにより、エポキシ塗料組成物として有用なものが得られた。
[Example of preparation of coating composition]
30 parts by weight of titanium dioxide and 70 parts by weight of talc are blended with 50 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (AER6091, manufactured by Asahi Kasei Chemicals, epoxy equivalent of 480 g / eq), and a 1: 1 mixed solvent of MIBK / xylene as a mixed solvent is 140 weights. Add part, stir and mix to make main ingredient. By adding 30 parts by weight of the curing agent F-1 for masterbatch type epoxy resin obtained in Example 1 to this and dispersing it uniformly, a useful epoxy coating composition was obtained.
[プリプレグの作製の実施例]
プリプレグの実施例
130℃のオイルバス中のフラスコ内にノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業製のEPICLON N−740)を15部、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(JER製のエピコート4005)を40部、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ製AER2603)30部を溶解・混合し80℃まで冷やす。さらに実施例1で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物F−1を15部加えて、十分、攪拌して混合する。室温に冷ました前記樹脂組成物を離型紙上にドクターナイフを用いて樹脂目付162g/m2で塗布し、樹脂フィルムとした。次にこの樹脂フィルム上に弾性率24トン/mm2の炭素繊維を12.5本/インチで平織りした三菱レイヨン製CFクロス(型番:TR3110、目付200g/m2)を重ねて樹脂組成物を炭素繊維クロスに含浸させた後、ポリプロピレンフィルムを重ねて表面温度90℃のロール対の間を通して、クロスプリプレグを作製した。樹脂の含有率は45重量%だった。得られたプリプレグを、繊維方向を揃えてさらに積層し、硬化条件150℃×1時間で成形を行い、炭素繊維を補強繊維とするFRP成形体を得ることができ、作製したプリプレグは有用なものであった。
[Examples of prepreg production]
Example of prepreg In a flask in an oil bath at 130 ° C., 15 parts of a novolac type epoxy resin (EPICLON N-740 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals) and 40 parts of bisphenol F type epoxy resin (Epicoat 4005 manufactured by JER) Then, 30 parts of bisphenol A type liquid epoxy resin (AER2603 manufactured by Asahi Kasei Chemicals) is dissolved and mixed and cooled to 80 ° C. Further, 15 parts of the masterbatch type epoxy resin curing agent composition F-1 obtained in Example 1 is added, and sufficiently stirred and mixed. The resin composition cooled to room temperature was applied onto a release paper with a resin basis weight of 162 g / m 2 using a doctor knife to obtain a resin film. Next, a CF cloth made by Mitsubishi Rayon (model number: TR3110, weight per unit area: 200 g / m2) obtained by plain weaving of carbon fiber having an elastic modulus of 24 ton / mm2 at 12.5 pieces / inch is layered on the resin film, and the resin composition is carbon fiber. After impregnating the cloth, a polypropylene film was overlaid and passed between a pair of rolls having a surface temperature of 90 ° C. to prepare a cloth prepreg. The resin content was 45% by weight. The obtained prepreg is further laminated with the fiber direction aligned, and can be molded under curing conditions of 150 ° C. for 1 hour to obtain an FRP molded body using carbon fiber as a reinforcing fiber. The produced prepreg is useful. Met.
[熱伝導性エポキシ樹脂組成物の作製の実施例]
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ製AER2603)100部、エポキシ樹脂用硬化剤としてフェノールノボラック樹脂(荒川化学工業(株)製、商品名「タマノル759」)のメチルエチルケトン50%溶液を40重量部、鱗片状グラファイト粉末(ユニオンカーバイト社製の商品名HOPG)15重量部を均一になるまで攪拌後、3本ロールで均一に分散させた。これにさらに、実施例1で得られたマスターバッチ型エポキシ樹脂用硬化剤組成物F−1を15部加えて、十分、攪拌して混合する。得られた導電ペーストを、用いてCuリードフレーム上に半導体チップ(1.5mm角、厚み0.8mm)をマウントし、かつ、150℃、30分で加熱硬化させて評価用サンプルを得た。得られたサンプルの熱伝導性についてレーザフラッシュ法により測定する。すなわち、測定した熱拡散率α、比熱Cp、密度σから、以下の式、K=α×Cp×σ より熱伝導率Kを求めたところ、Kが5×10−3Cal/cm・sec・℃以上あり、熱伝導性ペーストとして、有用なものであった。
[Example of production of thermally conductive epoxy resin composition]
100 parts of bisphenol A type epoxy resin (AER2603 manufactured by Asahi Kasei Chemicals), 40 parts by weight of 50% methyl ethyl ketone solution of phenol novolac resin (trade name “Tamanol 759” manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) as a curing agent for epoxy resin, scaly 15 parts by weight of graphite powder (trade name HOPG manufactured by Union Carbide Corporation) was stirred until uniform and dispersed uniformly with three rolls. Further, 15 parts of the curing agent composition F-1 for masterbatch type epoxy resin obtained in Example 1 is added and sufficiently stirred and mixed. The obtained conductive paste was used to mount a semiconductor chip (1.5 mm square, thickness 0.8 mm) on a Cu lead frame, and heat cured at 150 ° C. for 30 minutes to obtain an evaluation sample. The thermal conductivity of the obtained sample is measured by a laser flash method. That is, when the thermal conductivity K was determined from the measured thermal diffusivity α, specific heat Cp, and density σ using the following equation, K = α × Cp × σ, K was 5 × 10 −3 Cal / cm · sec · It was higher than ° C. and was useful as a heat conductive paste.
本発明によれば、低温硬化性と貯蔵安定性を両立し、更に電気特性、機械的強度、耐熱性、耐湿性等の性能もバランス良く有する硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物が得られる。本発明のカプセル型硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成物は、接着剤、封止材、充填材、絶縁材料、導電材料、プリプレグ、フィルム状接着剤、異方導電性フィルム、異方導電性ペースト、絶縁接着フィルム、絶縁接着ペースト、アンダーフィル材、ポッティング材、ダイボンディング材、導電ペースト、ソルダーレジスト等として優れた性能を発揮する。 According to the present invention, it is possible to obtain an epoxy resin composition that provides a cured product having both low temperature curability and storage stability, and also having properties such as electrical properties, mechanical strength, heat resistance, and moisture resistance in a well-balanced manner. The epoxy resin composition using the capsule-type curing agent of the present invention includes an adhesive, a sealing material, a filler, an insulating material, a conductive material, a prepreg, a film adhesive, an anisotropic conductive film, and an anisotropic conductive paste. Excellent performance as insulating adhesive film, insulating adhesive paste, underfill material, potting material, die bonding material, conductive paste, solder resist, etc.
Claims (33)
する導電性材料。 A conductive material comprising the epoxy resin composition according to any one of claims 15 to 19.
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009038097A1 (en) * | 2007-09-20 | 2009-03-26 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Microcapsule-type latent curing agent for epoxy resin and process for production thereof, and one-pack-type epoxy resin composition and cured product thereof |
JP2009102610A (en) * | 2007-10-05 | 2009-05-14 | Hitachi Chem Co Ltd | Microcapsule type latent curing agent for epoxy resin, method for producing the same, one-component epoxy resin composition, and epoxy resin cured product |
WO2010098431A1 (en) * | 2009-02-27 | 2010-09-02 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Microencapsulated hardener for epoxy resin, masterbatch type hardener composition for epoxy resin, one-pack epoxy resin composition, and processed article |
JP2011231146A (en) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Asahi Kasei E-Materials Corp | Anisotropic conductive film |
JP2012052051A (en) * | 2010-09-02 | 2012-03-15 | Asahi Kasei E-Materials Corp | Curing agent composition for epoxy resin and one-pack epoxy resin composition |
JP2012518056A (en) * | 2009-02-16 | 2012-08-09 | サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン | Co-curing conductive surface film for lightning and electromagnetic interference shielding of thermosetting composites |
JP5258018B2 (en) * | 2005-09-29 | 2013-08-07 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Highly stable microcapsule-type epoxy resin curing agent and epoxy resin composition |
JP2015174967A (en) * | 2014-03-17 | 2015-10-05 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | thermosetting resin composition |
JP2018168310A (en) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | 田岡化学工業株式会社 | One-liquid type epoxy resin composition |
WO2023044701A1 (en) * | 2021-09-24 | 2023-03-30 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Thermally conductive adhesive composition, preparation method and use thereof |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04314724A (en) * | 1991-04-12 | 1992-11-05 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Curative for epoxy resin |
JPH04320416A (en) * | 1991-03-11 | 1992-11-11 | W R Grace & Co | Hardener masterbatch for epoxy resin |
JPH06207152A (en) * | 1992-10-02 | 1994-07-26 | W R Grace & Co | Low-viscosity solventless one-pack epoxy resin adhesive composition |
JPH07173249A (en) * | 1993-12-17 | 1995-07-11 | Asahi Chiba Kk | Low-smoking flame-retardant compound |
JP2004115729A (en) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | One-pack type epoxy resin composition |
WO2004037885A1 (en) * | 2002-10-25 | 2004-05-06 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Capsule type hardener and composition |
-
2005
- 2005-09-29 JP JP2005283590A patent/JP4877716B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04320416A (en) * | 1991-03-11 | 1992-11-11 | W R Grace & Co | Hardener masterbatch for epoxy resin |
JPH04314724A (en) * | 1991-04-12 | 1992-11-05 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Curative for epoxy resin |
JPH06207152A (en) * | 1992-10-02 | 1994-07-26 | W R Grace & Co | Low-viscosity solventless one-pack epoxy resin adhesive composition |
JPH07173249A (en) * | 1993-12-17 | 1995-07-11 | Asahi Chiba Kk | Low-smoking flame-retardant compound |
JP2004115729A (en) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | One-pack type epoxy resin composition |
WO2004037885A1 (en) * | 2002-10-25 | 2004-05-06 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Capsule type hardener and composition |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5258018B2 (en) * | 2005-09-29 | 2013-08-07 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Highly stable microcapsule-type epoxy resin curing agent and epoxy resin composition |
WO2009038097A1 (en) * | 2007-09-20 | 2009-03-26 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Microcapsule-type latent curing agent for epoxy resin and process for production thereof, and one-pack-type epoxy resin composition and cured product thereof |
JP5158088B2 (en) * | 2007-09-20 | 2013-03-06 | 日立化成株式会社 | Microcapsule type latent curing agent for epoxy resin and method for producing the same, and one-part epoxy resin composition and cured product thereof |
JP2009102610A (en) * | 2007-10-05 | 2009-05-14 | Hitachi Chem Co Ltd | Microcapsule type latent curing agent for epoxy resin, method for producing the same, one-component epoxy resin composition, and epoxy resin cured product |
JP2012518056A (en) * | 2009-02-16 | 2012-08-09 | サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン | Co-curing conductive surface film for lightning and electromagnetic interference shielding of thermosetting composites |
JP5534615B2 (en) * | 2009-02-27 | 2014-07-02 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Microcapsule type epoxy resin curing agent, masterbatch type epoxy resin curing agent composition, one-part epoxy resin composition, and processed product |
JPWO2010098431A1 (en) * | 2009-02-27 | 2012-09-06 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Microcapsule type epoxy resin curing agent, masterbatch type epoxy resin curing agent composition, one-part epoxy resin composition, and processed product |
WO2010098431A1 (en) * | 2009-02-27 | 2010-09-02 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Microencapsulated hardener for epoxy resin, masterbatch type hardener composition for epoxy resin, one-pack epoxy resin composition, and processed article |
JP2011231146A (en) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Asahi Kasei E-Materials Corp | Anisotropic conductive film |
JP2012052051A (en) * | 2010-09-02 | 2012-03-15 | Asahi Kasei E-Materials Corp | Curing agent composition for epoxy resin and one-pack epoxy resin composition |
JP2015174967A (en) * | 2014-03-17 | 2015-10-05 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | thermosetting resin composition |
JP2018168310A (en) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | 田岡化学工業株式会社 | One-liquid type epoxy resin composition |
WO2023044701A1 (en) * | 2021-09-24 | 2023-03-30 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Thermally conductive adhesive composition, preparation method and use thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4877716B2 (en) | 2012-02-15 |
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