JPH07173249A - Low-smoking flame-retardant compound - Google Patents

Low-smoking flame-retardant compound

Info

Publication number
JPH07173249A
JPH07173249A JP31809893A JP31809893A JPH07173249A JP H07173249 A JPH07173249 A JP H07173249A JP 31809893 A JP31809893 A JP 31809893A JP 31809893 A JP31809893 A JP 31809893A JP H07173249 A JPH07173249 A JP H07173249A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
flame
retardant
resin
low
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP31809893A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3471395B2 (en
Inventor
Hisanao Yamamoto
久尚 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Epoxy Co Ltd
Original Assignee
Asahi Ciba Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Ciba Ltd filed Critical Asahi Ciba Ltd
Priority to JP31809893A priority Critical patent/JP3471395B2/en
Publication of JPH07173249A publication Critical patent/JPH07173249A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3471395B2 publication Critical patent/JP3471395B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a compound having low-smoking properties, excelling in flame retardancy and mechanical and electrical properties and being useful as the material of semiconductor sealing, a flame retardant for synthetic resins or the like by giving thereto a specified structure in which the p-phenylene content is high and the weight-average molecular weight has a specified value. CONSTITUTION:This compound is one represented by formula I [wherein R1 and R2 are each H or a group of formula II or III (wherein Y and Z are each a 1-10C aliphatic or aromatic hydrocarbon group; and i and j are each 0-5 provided that i+j is 5 or less); A is a 1-5C (un)saturated hydrocarbon group; X1 to X4 are each H or a 1-10C aliphatic or aromatic hydrocarbon group; and m is an integer of 0 or greater] and having a p-phenylene selectivity of 40% or above and a weight-average molecular weight of 250000 or below. This compound, being a polycondensate of a bisphenol compound of a highp-phenylene content with an epihalohydrin, has low smoking properties and excels in flame retardancy and mechanical and electrical properties, and therefore it can desirably be used for lamiates, materials for semiconductor sealing, flame retardants for synthetic resins, materials for composite materials, castings, coating materials, etc.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、難燃性、低発煙性に優
れ、積層板、半導体用封止用材料、合成樹脂用難燃剤、
各種コンポジット用材料、注型品、塗料等に好適に使用
される難燃性化合物に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention is excellent in flame retardancy and low smoke emission, and has a laminated plate, a sealing material for semiconductors, a flame retardant for synthetic resins,
The present invention relates to a flame-retardant compound suitable for use in various composite materials, cast products, paints and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年のプラスチックの利用技術の発展は
めざましく、各種構造材料、自動車部品、事務用品、F
RP、電子部品、電気機器、各種塗料、接着剤等に広く
使用されている。しかしながら、プラスチックは一般に
燃えやすい性質があるため、電気機器、電子部品、各種
構造材料等のように難燃性が要求される用途には、プラ
スチックに難燃性を付与するために各種難燃剤を添加す
るなどさまざまな工夫がなされている。現在、プラスチ
ックの難燃化技術としては、臭素のようなハロゲン含有
物質を添加したり、あるいはプラスチックの構造中に臭
素原子を導入する方法が広く利用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of plastic utilization technology has been remarkable and various structural materials, automobile parts, office supplies, F
Widely used in RP, electronic parts, electric equipment, various paints, adhesives, etc. However, since plastics generally have a tendency to burn easily, various flame retardants may be used to impart flame retardancy to plastics in applications requiring flame retardancy, such as electrical equipment, electronic parts, and various structural materials. Various innovations have been made such as addition. At present, a method of adding a halogen-containing substance such as bromine or introducing a bromine atom into the structure of a plastic is widely used as a flame retardant technique for a plastic.

【0003】例えば、ポリスチレンなどの合成樹脂に難
燃性を付与する場合は、臭素系難燃剤を配合する技術が
一般的に用いられている。また、エポキシ樹脂は耐熱
性、接着性等にすぐれているので、各種コンポジット材
料に使用されている。一般的なエポキシ樹脂としてはビ
スフェノールAとエピクロルヒドリンとの重縮合物であ
るビスフェノールA型エポキシ樹脂が利用されている
が、ビスフェノールA型エポキシ樹脂は燃えやすい性質
を有するため、積層板用途など難燃性が求められる用途
には、樹脂骨格中に臭素原子が結合したタイプの臭素化
エポキシ樹脂が使用されている。
For example, when imparting flame retardancy to a synthetic resin such as polystyrene, a technique of blending a brominated flame retardant is generally used. Epoxy resins are used in various composite materials because they have excellent heat resistance and adhesiveness. As a general epoxy resin, a bisphenol A-type epoxy resin, which is a polycondensation product of bisphenol A and epichlorohydrin, is used. However, since the bisphenol A-type epoxy resin has a flammable property, it is flame-retardant such as for laminated boards. Brominated epoxy resins of the type in which a bromine atom is bonded to the resin skeleton are used for applications where is required.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、臭素化
エポキシ樹脂を合成樹脂の難燃剤として使用する場合、
その成型段階で臭素化エポキシ樹脂が分解し人体に有毒
なガスが発生したり、金型およびスクリューが腐食する
などの問題がある。また、臭素化エポキシ樹脂はその樹
脂中に腐食性の高い臭素を含むために、種々の問題点を
有している。例えば、臭素化エポキシ樹脂を製造するた
めにはガラスライニング加工を施した材質の反応器な
ど、生産ラインに耐腐食性の高い材質の設備を使用する
必要が生じたりして工業的に好ましくない。
However, when a brominated epoxy resin is used as a flame retardant for synthetic resins,
There are problems that the brominated epoxy resin is decomposed at the molding stage to generate toxic gas to the human body, and the mold and screw are corroded. Further, the brominated epoxy resin has various problems because it contains highly corrosive bromine. For example, in order to produce a brominated epoxy resin, it is necessary to use equipment of highly corrosion-resistant material in a production line such as a reactor made of glass-lined material, which is not industrially preferable.

【0005】また、臭素化エポキシ樹脂を積層版に使用
する場合、積層板をプリント配線基盤に仕上げる過程で
積層板にドリルで穴(スルーホール)をあける工程を経
るが、この時、臭素を含有する腐食性のガスが発生し、
ドリルが腐食したり、作業環境が悪化するなどの問題が
ある。さらには、臭素系化合物は難燃性に優れている反
面、燃焼時に有毒なガスおよび多量の煙を発生するとい
う欠点がある。
When a brominated epoxy resin is used for a laminated plate, a process of drilling holes (through holes) in the laminated plate is performed in the process of finishing the laminated plate into a printed wiring board. Corrosive gas is generated
There are problems such as corrosion of the drill and deterioration of the working environment. Further, the bromine-based compound is excellent in flame retardancy, but has a drawback that it emits toxic gas and a large amount of smoke during combustion.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討し
た結果、特定の化合物が上記課題を解決することを見出
し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、 1)下記一般式(I)
As a result of intensive studies, the present inventor has found that a specific compound solves the above problems, and has completed the present invention. That is, the present invention includes 1) the following general formula (I)

【0007】[0007]

【化3】 [Chemical 3]

【0008】〔式中、R1,R2[Wherein R 1 and R 2 are

【0009】[0009]

【化4】 [Chemical 4]

【0010】(Y、Zは炭素数1〜10の脂肪族または
芳香族の炭化水素で同一又は互いに異種の基であり、i
およびjは0〜5の整数で、i+jは5以下を満たす)
から選ばれた同一または異種の基であり、X1,X2,X
3,X4は互いに同一又は異なり、水素、あるいは炭素数
1〜10の脂肪族または芳香族の炭化水素であり、mは
0以上の整数である。〕で示される、p−フェニレン選
択率が40%以上の、重量平均分子量250000以下
の低発煙性難燃性化合物。 2)(1)一般式(I)で示される低発煙性難燃性化合
物及び、(2)硬化剤を含有することを特徴とする低発
煙性難燃樹脂組成物。 3)(1)繊維基材及び、(2)一般式(I)で示され
る低発煙性難燃性化合物を含有することを特徴とする低
発煙性難燃複合材料。 4)(1)合成樹脂100重量部、及び(2)一般式
(I)で示される低発煙性難燃性化合物5〜50重量部
を含有することを特徴とする低発煙性難燃合成樹脂組成
物である。
(Y and Z are aliphatic or aromatic hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, which are the same or different from each other, and i
And j is an integer of 0 to 5, and i + j satisfies 5 or less)
The same or different groups selected from X 1 , X 2 , X
3 , X 4 are the same or different from each other and are hydrogen or an aliphatic or aromatic hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms, and m is an integer of 0 or more. ] The low smoke generating flame-retardant compound of p-phenylene selectivity of 40% or more and the weight average molecular weight of 250,000 or less. 2) A low smoke-retardant flame-retardant resin composition comprising (1) a low smoke-retardant flame-retardant compound represented by the general formula (I) and (2) a curing agent. 3) A low-smoke-retardant composite material comprising (1) a fiber base material and (2) a low-smoke-retardant compound represented by the general formula (I). 4) Low smoke emitting flame retardant synthetic resin characterized by containing 100 weight parts of the synthetic resin (1) and 5 to 50 weight parts of the low smoke emitting flame retardant compound represented by the general formula (I). It is a composition.

【0011】本発明におけるp−フェニレン選択率と
は、一般式(I)においてベンゼン核に直接結合する炭
素原子(但し、式中のX1,X2,X3およびX4に含まれ
るものを除く)と酸素原子との位置関係について、下記
の(II)式、(III)式、(IV)式で示される全構造に
対する、(II)式で示される構造の割合(モル比)を意
味する。
The p-phenylene selectivity in the present invention means the carbon atom directly bonded to the benzene nucleus in the general formula (I) (provided that it is contained in X 1 , X 2 , X 3 and X 4 in the formula. Except) and the oxygen atom, the ratio (molar ratio) of the structure represented by the formula (II) to the total structure represented by the following formulas (II), (III) and (IV) is meant. To do.

【0012】[0012]

【化5】 [Chemical 5]

【0013】p−フェニレン選択率は高ければ高い程、
難燃性が高いため好ましく、40%以上100%以下、
好ましくは50%以上100%以下、より好ましくは6
0%以上100%以下、更に好ましくは70%以上10
0%以下、特に好ましくは80%以上100%以下、最
も好ましくは90%以上100%以下である。本発明の
低発煙性難燃性化合物の分子量は、重量平均分子量にし
て250000以下である。
The higher the p-phenylene selectivity, the more
High flame retardancy is preferable, and 40% or more and 100% or less,
Preferably 50% or more and 100% or less, more preferably 6
0% to 100%, more preferably 70% to 10
It is 0% or less, particularly preferably 80% or more and 100% or less, and most preferably 90% or more and 100% or less. The low smoke generating flame retardant compound of the present invention has a weight average molecular weight of 250,000 or less.

【0014】重量平均分子量が250000より高い
と、該低発煙性難燃性化合物を樹脂に配合して得られる
難燃性樹脂組成物の耐衝撃性や流動性が低下し、該低発
煙性難燃性化合物を難燃性複合材料や電子部品用封止材
料に適用した場合は該低発煙性難燃性化合物を硬化させ
て得られる硬化物の耐熱性が低下したり吸水率が上昇し
たりする。また、重量平均分子量が320未満の場合
は、該低発煙性難燃性化合物を合成樹脂に配合して得ら
れる難燃性樹脂組成物の耐熱性が低下することがある。
When the weight average molecular weight is higher than 250,000, the impact resistance and fluidity of the flame-retardant resin composition obtained by blending the low-smoke-resistant flame-retardant compound with a resin are lowered, and the low smoke-storing property is difficult. When a flame-retardant compound is applied to a flame-retardant composite material or a sealing material for electronic parts, the heat resistance of the cured product obtained by curing the low-smoke-resistant flame-retardant compound is lowered or the water absorption rate is increased. To do. When the weight average molecular weight is less than 320, the heat resistance of the flame-retardant resin composition obtained by blending the low-smoke-proof flame-retardant compound with a synthetic resin may decrease.

【0015】したがって、該低発煙性難燃性化合物を合
成樹脂に配合する場合の好ましい重量平均分子量の範囲
は320以上250000以下、より好ましくは100
0以上25000以下である。難燃性複合材料や半導体
封止材料に適用した場合、一般式(I)中のm=0であ
る最小単位の低発煙性難燃性化合物でも良く、好ましい
範囲は250000以下、より好ましくは100000
以下、さらに好ましくは50000以下、特に好ましく
は25000以下である。尚、本発明の低発煙性難燃性
化合物の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロ
マトグラフィーにより、ポリスチレンを標準物質とした
検量線をもとに測定して求められる。本発明の低発煙性
難燃性化合物の合成方法については特に制限されない
が、例えばp位選択率が40%以上で一般式(V)で示
されるビスフェノール化合物と、エピクロルヒドリンで
代表されるエピハロヒドリンとを重縮合反応させて得る
ことができる。
Therefore, when the low smoke generating flame-retardant compound is blended with a synthetic resin, the weight average molecular weight is preferably 320 or more and 250,000 or less, more preferably 100.
It is 0 or more and 25,000 or less. When applied to a flame-retardant composite material or a semiconductor encapsulating material, a low-smoke-resistant flame-retardant compound having a minimum unit of m = 0 in the general formula (I) may be used, and a preferable range is 250,000 or less, more preferably 100,000.
Or less, more preferably 50,000 or less, and particularly preferably 25,000 or less. The weight-average molecular weight of the low smoke-retardant flame-retardant compound of the present invention is determined by gel permeation chromatography based on a calibration curve using polystyrene as a standard substance. The method for synthesizing the low smoke-retardant compound of the present invention is not particularly limited. It can be obtained by a polycondensation reaction.

【0016】[0016]

【化6】 [Chemical 6]

【0017】〔式中、Aは炭素数1〜5の飽和又は不飽
和の炭化水素であり、X1,X2は同一又は互いに異なる
水素または炭素数1〜10の脂肪族または芳香族の炭化
水素〕 本発明の低発煙性難燃性化合物の具体的な合成方法は、
例えば垣内弘編著、新エポキシ樹脂(昭晃堂、昭和60
年発行、第29頁第6行目〜第31頁下から第7行目)
などに記載された方法のように既に公知のエポキシ樹脂
の種々の合成方法のうち、いずれの方法に準拠しても合
成することができる。その一例を示すと、p位選択率が
40%以上で一般式(V)で示されるビスフェノール化
合物を、該ビスフェノール化合物中の水酸基に対して5
倍モル当量のエピクロルヒドリンに溶解し、水の存在下
あるいは不存在下40℃ないし80℃に保持し、該ビス
フェノール化合物中の水酸基と当量のアルカリあるいは
アルカリ水溶液を一度にあるいは15分間ないし120
分間かけて徐々に添加し、アルカリの添加終了後、5分
間ないし60分間さらに反応させた後、水洗により副生
した塩を除去し、過剰のエピクロルヒドリンを留去する
ことにより本発明の低発煙性難燃性化合物を得ることが
できる。
[Wherein A is a saturated or unsaturated hydrocarbon having 1 to 5 carbon atoms, X 1 and X 2 are the same or different from each other, or an aliphatic or aromatic hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms] Hydrogen] A specific method for synthesizing the low-smoke-retardant compound of the present invention is
For example, a new epoxy resin (edited by Hiroshi Kakiuchi, Shokoido, Showa 60)
(Published annually, page 29, line 6 to page 31, bottom to line 7)
It can be synthesized according to any one of various known methods for synthesizing an epoxy resin which are already known, such as the method described in (1). As an example thereof, the bisphenol compound represented by the general formula (V) having a p-position selectivity of 40% or more is added to the bisphenol compound in an amount of 5% or less.
It is dissolved in a double molar equivalent of epichlorohydrin and kept at 40 ° C. to 80 ° C. in the presence or absence of water, and the hydroxyl group in the bisphenol compound and an equivalent amount of alkali or alkaline aqueous solution are added at once or for 15 minutes to 120 ° C.
It is gradually added over a period of 5 minutes, and after the addition of alkali is further reacted for 5 to 60 minutes, the salt produced as a by-product is removed by washing with water, and excess epichlorohydrin is distilled off to obtain the low smoke-producing property of the present invention. Flame-retardant compounds can be obtained.

【0018】また、低発煙性難燃性化合物のうち末端が
エポキシ基の該低発煙性難燃性化合物に下記のような反
応をさせることにより、より高分子量の低発煙性難燃性
化合物を合成することができる。例えば上記の方法によ
って得られた低発煙性難燃性化合物に、触媒存在下また
は不存在下で、上記の該難燃剤の原料と同一または互い
に異なる、p位選択率が40%以上または40%未満の
一般式(V)で示されるビスフェノール化合物を、生成
する難燃剤中のp−フェニレン選択率が40%以上とな
る条件を満たす配合条件で、反応させて得ることができ
る。また、この時、反応させる低発煙性難燃性化合物中
のエポキシ基とビスフェノール化合物中のフェノール性
水酸基の当量比を調整することにより任意の分子量の該
低発煙性難燃性化合物を合成でき、また、末端がエポキ
シ基のもの、あるいはフェノール性水酸基のものも合成
することができる。また、本願発明の低発煙性難燃性化
合物は、p位選択率が40%未満で一般式(V)で示さ
れるビスフェノール化合物をエピクロルヒドリンと重縮
合させて得られた樹脂に、触媒存在下または不存在下
で、p位選択率が40%以上の一般式(V)で示される
ビスフェノール化合物を、生成する低発煙性難燃性化合
物中のp−フェニレン選択率が40%以上となる条件を
満たす配合条件で、反応させることによっても得ること
ができる。
Further, a low-smoke-retardant compound having a higher molecular weight can be obtained by reacting the low-smoke-retardant compound having an epoxy group at the terminal among the low-smoke-retardant compound with the following reaction. Can be synthesized. For example, the low smoke generating flame-retardant compound obtained by the above method, in the presence or absence of a catalyst, the same or different from the raw material of the above flame retardant, p-position selectivity is 40% or more or 40% The bisphenol compound represented by the following general formula (V) can be obtained by reacting the bisphenol compound represented by the following general formula (V) under blending conditions satisfying a p-phenylene selectivity of 40% or more in the produced flame retardant. Further, at this time, the low smoke-retardant compound having an arbitrary molecular weight can be synthesized by adjusting the equivalent ratio of the epoxy group in the low smoke-retardant compound to be reacted and the phenolic hydroxyl group in the bisphenol compound, Also, those having an epoxy group or a phenolic hydroxyl group at the terminal can be synthesized. Further, the low smoke-retardant flame-retardant compound of the present invention has a p-position selectivity of less than 40% and is obtained by polycondensing a bisphenol compound represented by the general formula (V) with epichlorohydrin in the presence of a catalyst or In the absence of the bisphenol compound represented by the general formula (V) having a p-position selectivity of 40% or more, the low smoke-producing flame-retardant compound is produced under the condition that the p-phenylene selectivity is 40% or more. It can also be obtained by reacting under the compounding conditions that are satisfied.

【0019】あるいは、一般に固形エポキシ樹脂の一段
法と呼ばれる方法によっても合成することができる。す
なわち、p位選択率が40%以上で一般式(V)で示さ
れるビスフェノール化合物4モルと10wt%NaOH
水溶液6.43モルとを入れ、さらに、5モルのエピク
ロルヒドリンを加えて反応させても得ることができる。
本発明におけるp位選択率とは、該ビスフェノール化合
物に含まれる下記一般式(VI)、一般式(VII)、一般
式(VIII)で示される構造のものについて、ベンセン核
に直接結合する炭素原子(但し、式中のX1及びX2に含
まれるものを除く)と水酸基との位置関係について、互
いにp位にある構造の割合を示し、一般式(VI)、一般
式(VII)、一般式(VIII)のそれぞれのモル比をa,
b,cとした場合、次式により定義される。また、一般
式(VI)、一般式(VII)、一般式(VIII)のモル比
は、該ビスフェノール化合物をキャピラリーガスクロマ
トグラフィにてFID検出器を使用して分析した時の面
積比より求めることができる。
Alternatively, it can be synthesized by a method generally called a one-step method of a solid epoxy resin. That is, when the p-position selectivity is 40% or more, 4 mol of the bisphenol compound represented by the general formula (V) and 10 wt% NaOH
It can also be obtained by adding 6.43 mol of an aqueous solution and further adding 5 mol of epichlorohydrin to carry out the reaction.
The p-position selectivity in the present invention refers to a carbon atom directly bonded to a benzene nucleus in the structure represented by the following general formula (VI), general formula (VII) or general formula (VIII) contained in the bisphenol compound. Regarding the positional relationship between the hydroxyl groups (excluding those contained in X 1 and X 2 in the formula) and the hydroxyl group, the ratios of the structures in the p-positions relative to each other are shown in the general formula (VI), the general formula (VII), and the general formula (VII). The respective molar ratios of formula (VIII) are a,
When defined as b and c, they are defined by the following equation. The molar ratio of the general formula (VI), the general formula (VII), and the general formula (VIII) can be obtained from the area ratio when the bisphenol compound is analyzed by capillary gas chromatography using an FID detector. it can.

【0020】[0020]

【数1】 [Equation 1]

【0021】[0021]

【化7】 [Chemical 7]

【0022】また、該低発煙性難燃性化合物を合成樹脂
の難燃剤として使用した場合などには、末端基がエポキ
シ基の本願発明の低発煙性難燃性化合物に、例えば必要
に応じて、下記一般式(IX)で示されるフェノール化合
物と反応させることにより、合成樹脂との相溶性を向上
させ、その結果アイゾット衝撃強度を向上させることが
できる。
When the low smoke-retardant flame-retardant compound is used as a flame-retardant agent for synthetic resins, the low smoke-retardant flame-retardant compound having an epoxy group as an end group can be used, for example, if necessary. By reacting with a phenol compound represented by the following general formula (IX), compatibility with a synthetic resin can be improved, and as a result, Izod impact strength can be improved.

【0023】[0023]

【化8】 [Chemical 8]

【0024】〔式中、Y,Zは炭素数1〜10の脂肪族
または芳香族の炭化水素で同一又は互いに異種の基であ
り、iおよびjは0〜5の整数で、i+jは5以下を満
たす〕 また、本発明の低発煙性難燃性化合物では、その製造工
程で用いたエピクロルヒドリンより塩素が残留する可能
性があるが、その易加水分解性塩素含有量、および全塩
素含有量の好ましい範囲は用途に応じて異なる。例え
ば、積層板あるいは電子部品用封止材料に用いる場合は
易加水分解性塩素含有量、及び全塩素含有量は低ければ
低いほど配線の腐食を生じさせることがなかったり、長
期間使用時における電気特性の低下が小さいので好まし
く、易加水分解性塩素含有量は好ましくは3000pp
m以下、より好ましくは1000ppm以下、さらに好
ましくは500ppm以下、特に好ましくは200pp
mのものが使用される。また、全塩素含有量は好ましく
は5000ppm以下、より好ましくは2000ppm
以下、さらに好ましくは1200ppm以下のものが使
用される。
[Wherein Y and Z are aliphatic or aromatic hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms and are the same or different from each other, i and j are integers of 0 to 5, and i + j is 5 or less. Satisfying] Further, in the low smoke-retardant flame retardant compound of the present invention, chlorine may remain from the epichlorohydrin used in the production process, but its easily hydrolyzable chlorine content and total chlorine content The preferred range depends on the application. For example, when used as a laminate or encapsulating material for electronic components, the lower the content of easily hydrolyzable chlorine and the total chlorine content, the less the corrosion of the wiring occurs, and the less the electrical resistance during long-term use. It is preferable because the deterioration of the characteristics is small, and the easily hydrolyzable chlorine content is preferably 3000 pp.
m or less, more preferably 1000 ppm or less, further preferably 500 ppm or less, particularly preferably 200 pp.
m is used. The total chlorine content is preferably 5000 ppm or less, more preferably 2000 ppm.
Below, more preferably 1200 ppm or less is used.

【0025】また、該低発煙性難燃性化合物を合成樹脂
用難燃剤として使用する場合は、易加水分解性塩素含有
量、および全塩素含有量が低いほど成形機のスクリュー
および金型に対する腐食性が低いため好ましい。従っ
て、易加水分解性塩素は5%、以下、好ましくは1%以
下、さらに好ましくは5000ppm以下、特に好まし
くは1000ppm以下、さらに特に好ましくは500
ppm以下のものが使用される。また、全塩素含有量は
5%以下、好ましくは1%以下、さらに好ましくは50
00ppm以下、特に好ましくは1000ppmのもの
が使用される。また、本発明のジオール末端基とは、下
記一般式(X)で示される構造を言い、ジオール末端基
含有量とは低発煙性難燃性化合物1kg中に含まれるジ
オール末端基の当量数で定義される。
When the low smoke generating flame retardant compound is used as a flame retardant for synthetic resins, the lower the easily hydrolyzable chlorine content and the total chlorine content, the more the corrosion of the screw and mold of the molding machine will occur. It is preferable because it has low property. Therefore, easily hydrolyzable chlorine is 5% or less, preferably 1% or less, more preferably 5000 ppm or less, particularly preferably 1000 ppm or less, and particularly preferably 500.
Those below ppm are used. The total chlorine content is 5% or less, preferably 1% or less, more preferably 50%.
The amount used is not more than 00 ppm, particularly preferably 1000 ppm. Further, the diol end group of the present invention refers to a structure represented by the following general formula (X), and the diol end group content is the equivalent number of diol end groups contained in 1 kg of a low smoke emitting flame retardant compound. Is defined.

【0026】[0026]

【化9】 [Chemical 9]

【0027】本発明の低発煙性難燃性化合物のジオール
末端基含有量の好ましい範囲は該難燃剤の用途に応じて
異なるが、例えば、積層板あるいは電子部品用封止材料
に用いる場合はその含有量が低いほどエポキシ硬化物の
難燃性が高く、また、吸水性が低く、体積抵抗率、比誘
電率などの電気特性が良好になったり、弾性率、ガラス
転移温度等の機械的強度や銅箔剥離強度が向上したりす
るなどの点で好ましく、好ましくは500meq./k
g、さらに好ましくは100meq./kg以下、特に
好ましくは60meq./kg以下、さらに特に好まし
くは30meq./kgのものが使用される。また、該
低発煙性難燃性化合物を合成樹脂用難燃剤として使用す
る場合は、ジオール末端基含有量が高すぎると合成樹脂
の難燃性や耐光性が低下したり、あるいは、該難燃剤と
合成樹脂の相溶性が悪くなり、該難燃剤を配合して得ら
れる合成樹脂のアイゾット強度が低下したりするので、
好ましくは2eq./kg、さらに好ましくは0.5e
q./kg以下、特に好ましくは0.1eq./kg以
下のものが使用される。
The preferred range of the diol terminal group content of the low smoke-retardant flame-retardant compound of the present invention varies depending on the use of the flame retardant, but, for example, when it is used for a laminate or a sealing material for electronic parts, The lower the content, the higher the flame retardancy of the epoxy cured product, the lower the water absorption, the better the electrical properties such as volume resistivity and relative permittivity, and the mechanical strength such as elastic modulus and glass transition temperature. And copper foil peel strength is improved, and the like, and preferably 500 meq. / K
g, more preferably 100 meq. / Kg or less, particularly preferably 60 meq. / Kg or less, more preferably 30 meq. / Kg is used. Further, when the low smoke emitting flame retardant compound is used as a flame retardant for a synthetic resin, if the diol end group content is too high, the flame retardancy and light resistance of the synthetic resin may be reduced, or the flame retardant may be used. And the compatibility of the synthetic resin is deteriorated, and the Izod strength of the synthetic resin obtained by blending the flame retardant is lowered.
Preferably 2 eq. / Kg, more preferably 0.5e
q. / Kg or less, particularly preferably 0.1 eq. / Kg or less is used.

【0028】また、本願発明の低発煙性難燃性化合物は
一般に用いられているエポキシ樹脂と混合して用いても
良い。本発明と混合して用いることのできるエポキシ樹
脂としては、例えばビスフェノールA、ビスフェノール
F、ビスフェノールS、ビスフェノールAD、テトラメ
チルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノール
F、テトラメチルビスフェノールAD、テトラメチルビ
スフェノールS、ビフェノール、テトラメチルビフェノ
ール、ジヒドロキシナフタレン、ナフトール等の2価フ
ェノール類とエピクロルヒドリン等のエピハロヒドリン
との反応により得られるエポキシ樹脂、トリスフェノー
ルメタン等の3価フェノール類とエピクロルヒドリン等
のエピハロヒドリンとの反応により得られるエポキシ樹
脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノ
ボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂等
が挙げられる。本発明の低発煙性難燃性化合物は、単独
で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いても良
い。本発明の低発煙性難燃性化合物は繊維基材と併用す
ることにより低発煙性難燃複合材料用のマトリックス用
材料としても使用することができる。
The low smoke generating flame retardant compound of the present invention may be used as a mixture with a generally used epoxy resin. Examples of the epoxy resin that can be mixed with the present invention include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, bisphenol AD, tetramethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, tetramethylbisphenol AD, tetramethylbisphenol S, biphenol, Epoxy resin obtained by reaction of dihydric phenols such as tetramethylbiphenol, dihydroxynaphthalene and naphthol with epihalohydrin such as epichlorohydrin, epoxy resin obtained by reaction of trivalent phenols such as trisphenolmethane with epihalohydrin such as epichlorohydrin , Novolac type epoxy resin such as phenol novolac epoxy resin and cresol novolac epoxy resin. The low smoke generating flame retardant compound of the present invention may be used alone or in combination of two or more kinds. The low smoke generating flame retardant compound of the present invention can also be used as a matrix material for a low smoke generating flame retardant composite material when used in combination with a fiber base material.

【0029】繊維基材とは、連続繊維、短繊維、パルプ
状繊維等を使用することができ、使用される繊維として
は、炭素繊維、黒鉛繊維、ガラス繊維、ガラス繊布、ガ
ラス不繊布、炭化ケイ素繊維、アルミナ繊維、チタニア
繊維、セラミック繊維、芳香族ポリアミド繊維、芳香族
ポリエステル繊維、ポリベンズイミダゾール繊維等、有
機質、無機質の繊維を例示できるが、これらに限定され
るものではない。
As the fiber base material, continuous fibers, short fibers, pulp fibers, etc. can be used, and as the fibers to be used, carbon fibers, graphite fibers, glass fibers, glass fiber cloth, glass fiber cloth, carbon fiber cloth and carbonized fiber can be used. Organic and inorganic fibers such as silicon fiber, alumina fiber, titania fiber, ceramic fiber, aromatic polyamide fiber, aromatic polyester fiber, and polybenzimidazole fiber can be exemplified, but not limited thereto.

【0030】本発明で得られる低発煙性難燃性化合物を
難燃性複合材料や電子部品用封止材料あるいは難燃性塗
料など従来のエポキシ樹脂の通常の利用分野に使用する
場合のように硬化物にして使用する場合、使用できる硬
化剤としては、アミン系硬化剤、ジシアンジアミド、ポ
リアミノアミド系硬化剤、酸及び酸無水系硬化剤、第3
アミン類、イミダゾール類、ルイス酸、ブレンステッド
酸塩、ポリメルカプタン系硬化剤、フェノール樹脂、レ
ゾール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、イソシアネー
ト化合物、およびブロックイソシアネート化合物、ノボ
ラックフェノール類等が挙げられる。
As in the case where the low-smoke-retardant compound obtained by the present invention is used in a usual application field of a conventional epoxy resin such as a flame-retardant composite material, a sealing material for electronic parts, or a flame-retardant paint. When used as a cured product, usable curing agents include amine curing agents, dicyandiamide, polyaminoamide curing agents, acid and acid anhydride curing agents, and third curing agents.
Examples thereof include amines, imidazoles, Lewis acids, Bronsted acid salts, polymercaptan curing agents, phenol resins, resole resins, urea resins, melamine resins, isocyanate compounds, blocked isocyanate compounds and novolac phenols.

【0031】アミン系硬化剤としては、例えば、エチレ
ンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジア
ミノプロパン、ヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメ
チルヘキサメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレ
ンジアミン、ジエチレントリアミン、イミノビスプロピ
ルアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエ
チレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタ
エチレンヘキサミン、アミノエチルエタノールアミン、
トリ(メチルアミノ)ヘキサン、ジメチルアミノプロピ
ルアミン、1,3,6−トリスアミノメチルヘキサン、
ポリメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジア
ミン、ジエチレングリコールビスプロピレンジアミン、
ジエチルアミノプロピルアミン、メチルイミノビスプロ
ピルアミン、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジア
ミン等の鎖状アミンが挙げられ、また、トリス(4−ア
ミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン、メンセンジ
アミン、イソホロンジアミン、ジアミノジシクロヘキシ
ルメタン、エチルアミノピペラジン、1,3,5−トリ
ス(アミノメチル)ベンゼンの水添物、アミノエチルピ
ペラジン等の環状アミンが挙げられる。
Examples of amine-based curing agents include ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminopropane, hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, trimethylhexamethylenediamine, diethylenetriamine and iminobis. Propylamine, bis (hexamethylene) triamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, aminoethylethanolamine,
Tri (methylamino) hexane, dimethylaminopropylamine, 1,3,6-trisaminomethylhexane,
Polymethylene diamine, trimethyl hexamethylene diamine, diethylene glycol bis propylene diamine,
Examples thereof include chain amines such as diethylaminopropylamine, methyliminobispropylamine, and 2,5-dimethyl-2,5-hexanediamine, and also tris (4-amino-3-methylcyclohexyl) methane, mensendiamine, Examples thereof include isophoronediamine, diaminodicyclohexylmethane, ethylaminopiperazine, hydrogenated products of 1,3,5-tris (aminomethyl) benzene, and cyclic amines such as aminoethylpiperazine.

【0032】また、テトラクロロ−p−キシレンジアミ
ン、m−キシレンジアミン、p−キシレンジアミン等の
芳香環を有する脂肪族アミンがあげられ、さらに、m−
フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、p−フ
ェニレンジアミン、2,4−ジアミノアニゾール、2,
4−トルエンジアミン、2,4−ジアミノジフェニルメ
タン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,4−
ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−ジアミノジ
フェニルスルフォン、ジアミノジキシリルスルフォン、
3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノジフェニルメ
タン、2,6−ジアミノピリジン、m−アミノフェノー
ル、m−アミノベンジルアミン、4−クロロ−オルトフ
ェニレンジアミン等の芳香族アミンが挙げられる。ま
た、第2,3アミンとしては例えばトリエチルアミン、
ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチ
ル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノ
メチル)フェノール、テトラメチルグアニジン、トリエ
タノールアミン、N,N−ジメチルピペラジン、1,4
−ジアザジシクロ(2,2,2)オクタン(トリエチレ
ンジアミン)、ピリジン、ピコリン、ピペリジン、ピロ
リジン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール−
トリス−エチルヘキシル酸塩等が挙げられる。
Further, there may be mentioned aliphatic amines having an aromatic ring such as tetrachloro-p-xylenediamine, m-xylenediamine, p-xylenediamine and the like.
Phenylenediamine, o-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-diaminoanisole, 2,
4-toluenediamine, 2,4-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,4-
Diaminodiphenyl sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, diaminodixylyl sulfone,
Aromatic amines such as 3,3′-diethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, 2,6-diaminopyridine, m-aminophenol, m-aminobenzylamine, 4-chloro-orthophenylenediamine and the like can be mentioned. The secondary and tertiary amines are, for example, triethylamine,
Benzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, tetramethylguanidine, triethanolamine, N, N-dimethylpiperazine, 1,4
-Diazadicyclo (2,2,2) octane (triethylenediamine), pyridine, picoline, piperidine, pyrrolidine, tris (dimethylaminomethyl) phenol-
Tris-ethylhexylate and the like can be mentioned.

【0033】ポリアミノアミド系硬化剤としては、市販
されているものとして、トーマイド(富士化成)、バー
サミド、ジエナミド(ヘンケル白水)、ラッカーマイド
(大日本インキ)、サンマイド(三和化学)、ポリマイ
ド(三洋化成)等が挙げられる。酸および酸無水物系硬
化剤としては、ドデセニル無水コハク酸、ポリアジピン
酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバシン酸無
水物、ポリ(エチルオクタデカン二酸)無水物、メチル
テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フ
タル酸、無水メチルハイミック酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテト
ラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボ
ン酸無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水
ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水
物、エチレングリコールビストリメリテート、無水ヘッ
ト酸、テトラブロモ無水フタル酸等が挙げられる。
As the polyaminoamide-based curing agent, there are commercially available ones such as Thomaide (Fuji Kasei), Versamide, Dienamide (Henkel White Water), Lacqueramide (Dainippon Ink), Sunmide (Sanwa Kagaku), Polymide (Sanyo). Chemical formation) and the like. Examples of the acid and acid anhydride-based curing agents include dodecenyl succinic anhydride, polyadipic acid anhydride, polyazelaic acid anhydride, polysebacic acid anhydride, poly (ethyloctadecanedioic acid) anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, and methylhexahexahydrate. Hydrophthalic anhydride, methylhymic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, methylcyclohexenedicarboxylic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone Examples thereof include tetracarboxylic acid anhydride, ethylene glycol bis trimellitate, het anhydride, and tetrabromophthalic anhydride.

【0034】第3アミン類としては、トリス(ジメチル
アミノメチル)フェノール、ジメチルベンジルアミン、
1,8−ジアザシクロ(5,4,0)ウンデカン等が挙
げられる。イミダゾール類としては、2−メチルイミダ
ゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウ
ンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾー
ル、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メ
チルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミ
ダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチル
イミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミ
ダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾ
リウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−エチル
−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フ
ェニルイミダゾリウムトリメリテート、2−メチルイミ
ダゾリウムイソシアヌレート、2−フェニルイミダゾリ
ウムイソシアヌレート、2,4−ジアミノ−6−〔2−
メチルイミダゾリル−(1)〕−エチル−S−トリアジ
ン、2,4−ジアミノ−6−〔2−エチル−4−メチル
イミダゾリル−(1)〕−エチル−S−トリアジン、
2,4−ジアミノ−6−〔2−ウンデシルイミダゾリル
−(1)〕−エチル−S−トリアジン、2−フェニル−
4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニ
ル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、
1−シアノエチル−2−フェニル−4,5−ジ(シアノ
エトキシメチル)イミダゾール、1−ドデシル−2−メ
チル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、1,3
−ジベンジル−2−メチルイミダゾリウムクロライド等
が挙げられる。
The tertiary amines include tris (dimethylaminomethyl) phenol, dimethylbenzylamine,
1,8-diazacyclo (5,4,0) undecane and the like can be mentioned. Examples of the imidazoles include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2. -Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4 -Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2-methylimidazolium isocyanurate, 2-phenylimidazolium isocyanurate, 2,4-diamino-6- [2-
Methylimidazolyl- (1)]-ethyl-S-triazine, 2,4-diamino-6- [2-ethyl-4-methylimidazolyl- (1)]-ethyl-S-triazine,
2,4-Diamino-6- [2-undecylimidazolyl- (1)]-ethyl-S-triazine, 2-phenyl-
4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole,
1-cyanoethyl-2-phenyl-4,5-di (cyanoethoxymethyl) imidazole, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 1,3
-Dibenzyl-2-methylimidazolium chloride and the like.

【0035】ルイス酸およびブレンステッド酸塩として
は、三フッ化ホウ素−アミン錯体、五フッ化砒素−アミ
ン錯体、五フッ化アンチモン−アミン錯体等が挙げられ
る。ポリメルカプタン系硬化剤としては、市販されてい
るものとして、Capcure,Epomate〔以上
油化シェルエポキシ(株)〕、アデカハードナー〔旭電
化工業(株)〕等が挙げられる。ノボラック類として
は、フェノールノボラックやクレゾールノボラック、ビ
スフェノールAノボラック等が挙げられる。
Examples of the Lewis acid and Bronsted acid salt include boron trifluoride-amine complex, arsenic pentafluoride-amine complex, antimony pentafluoride-amine complex and the like. As the polymercaptan-based curing agent, commercially available ones include Capcure, Epomate [above Kayoka Shell Epoxy Co., Ltd.], ADEKA HARDNER [Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.] and the like. Examples of novolaks include phenol novolac, cresol novolac, and bisphenol A novolac.

【0036】これらの硬化剤は上記に挙げられたものに
限定されるものではなく、また、硬化剤は1種単独で、
または2種以上組み合わせて使用される。硬化剤の使用
量の量としては、使用する硬化剤により、適正な量を用
いることができる、硬化剤の使用量が多すぎたり少なす
ぎたりすると硬化物の硬化が不十分となり、耐熱性や機
械的強度が低下する。また、本発明で得られる低発煙性
難燃性化合物を積層板や電子部品用封止材料として使用
する場合のように硬化物にする場合、イミダゾール類、
第三級アミン類、ホスフィン類、トリアゾール類等の硬
化促進剤を使用することができる。
These hardeners are not limited to those mentioned above, and one kind of hardener may be used alone.
Alternatively, they may be used in combination of two or more. As the amount of the curing agent used, an appropriate amount can be used depending on the curing agent used. If the amount of the curing agent used is too large or too small, curing of the cured product will be insufficient and heat resistance and Mechanical strength is reduced. Further, when a low smoke generating flame retardant compound obtained in the present invention is a cured product such as when used as a sealing material for laminated plates and electronic parts, imidazoles,
Curing accelerators such as tertiary amines, phosphines and triazoles can be used.

【0037】本発明の低発煙性難燃性化合物を積層板や
電子部品用封止材料のように硬化物にして使用する場合
は、必要に応じて種々の添加物を添加できる。各種添加
剤としては、希釈剤、難燃助剤、熱安定剤、充填剤、補
強剤、着色剤等が挙げられる。使用できる難燃助剤とし
ては、Sb23、リン系化合物、テトラブロモビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、低臭素化エポキシ樹脂、塩素
化ポリエチレン化合物があげられ、リン系化合物として
は、たとえば、赤リン、樹脂あるいは金属酸化物等で表
面処理された赤リン、トリフェニルホスフェート、クレ
ジルジフェニルホスフェート、トリスジクロロプロピル
ホスフェート、あるいは、ハイドロキノン、レゾルシノ
ール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェ
ニルスルホン、ジハイドロキシジフェニルオキシド、ジ
ハイドロオキシビフェニルおよびこれらのハロゲン化物
等の2価のフェノールとオキシ塩化リンを反応して得ら
れるようなポリリン酸エステルオリゴマー、下記一般式
(XI)で示されるフェノール化合物あるい該フェノール
化合物のグリシジルエーテル化物等が挙げられる。
When the low-smoke-retardant and flame-retardant compound of the present invention is used as a cured product such as a laminated plate or a sealing material for electronic parts, various additives can be added if necessary. Examples of various additives include diluents, flame retardant aids, heat stabilizers, fillers, reinforcing agents, and colorants. Examples of flame retardant aids that can be used include Sb 2 O 3 , phosphorus compounds, tetrabromobisphenol A type epoxy resins, low brominated epoxy resins, and chlorinated polyethylene compounds. Examples of phosphorus compounds include red phosphorus. , Red phosphorus, triphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, tris dichloropropyl phosphate surface-treated with resin or metal oxide, or hydroquinone, resorcinol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenyl sulfone, dihydroxydiphenyl oxide, Polyphosphoric acid ester oligomers obtained by reacting dihydric phenols such as dihydroxybiphenyl and their halides with phosphorus oxychloride; phenol compounds represented by the following general formula (XI) Glycidyl ethers such as Nord compounds.

【0038】[0038]

【化10】 [Chemical 10]

【0039】〔式中、X5,X6,X7は同一かまたは異
なり、水素原子または炭素数1〜10の脂肪族基を表
す。〕 希釈剤としては、トルエン、キシレン等の有機溶媒、あ
るいはブチルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエ
ーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、炭素
数12ないし13のアルコールのグリシジルエーテル、
フェニルグリシジルエーテル、多価アルコールグリシジ
ルエーテル等の反応性希釈剤があげられる。充填剤とし
ては、アルミナ、シリカ、珪酸カルシウム、酸化マグネ
シウム、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アル
ミニウム、タルク、マイカ等があげられる。
[In the formula, X 5 , X 6 and X 7 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms. As the diluent, an organic solvent such as toluene or xylene, or butyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, glycidyl ether of an alcohol having 12 to 13 carbon atoms,
Examples thereof include reactive diluents such as phenyl glycidyl ether and polyhydric alcohol glycidyl ether. Examples of the filler include alumina, silica, calcium silicate, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, talc, mica and the like.

【0040】本発明の低発煙性難燃性化合物に硬化剤な
どを混合する場合には、ニーダー、押出し機、ブラベン
ダーミキサー、ボールミル、タンブラーミキサー、スー
パーミキサー、バンバリーミキサー、ロール等を使用す
ることができ、また、溶媒に該低発煙性難燃性化合物等
を溶解することによってワニスを調製することもでき
る。この場合使用できる溶剤には、特に制限はないが、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、メ
チルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、キシレン、トルエン、セロソルブアセテート、P
GM等があげられ、樹脂の溶解性が優れる点で、N,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド等の極性溶媒が好ましい。
When the curing agent is mixed with the low smoke generating flame retardant compound of the present invention, use of a kneader, an extruder, a Brabender mixer, a ball mill, a tumbler mixer, a super mixer, a Banbury mixer, a roll, etc. Alternatively, the varnish can be prepared by dissolving the low smoke-producing flame-retardant compound or the like in a solvent. The solvent that can be used in this case is not particularly limited,
Acetone, methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, methyl isobutyl ketone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, xylene, toluene, cellosolve acetate, P
GM and the like, N, N in terms of excellent resin solubility
A polar solvent such as -dimethylformamide or N, N-dimethylacetamide is preferable.

【0041】本発明の低発煙性難燃性化合物が適用でき
る合成樹脂としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレ
ン樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン・ブタジエン共重
合体、スチレン・ブタジエン・アクリロニトリル共重合
体、スチレン・ブタジエン・アクリロニトリル・無水マ
レイン酸共重合体、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリ
メタクリル酸樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリブテン樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、飽和ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステ
ル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ジ
アリルフタレート樹脂、ポリブタジエン樹脂、AAS樹
脂、AES樹脂、AS樹脂、ABS・PVC系樹脂、ポ
リブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタ
レート樹脂、ACS樹脂、MBS樹脂、ケトン樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート
樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリイミド樹
脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケ
トン樹脂、ポリエチレンオキサイド樹脂、ポリサルホン
樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、あるいは、酢酸セ
ルロース、ビスコースレーヨン等の再生繊維、また、ア
クリロニトリル・ブタジエンラバー等の弾性体等も挙げ
られる。
As the synthetic resin to which the low smoke-retardant compound of the present invention can be applied, polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, styrene / butadiene copolymer, styrene / butadiene / acrylonitrile copolymer, styrene / butadiene. Acrylonitrile / maleic anhydride copolymer, ethylene vinyl acetate copolymer, polymethacrylic acid resin, polyvinyl acetate resin, polybutene resin, polyamide resin, polyacetal resin, polycarbonate resin, saturated polyester resin, unsaturated polyester resin, phenol resin, Epoxy resin, polyurethane resin, alkyd resin, melamine resin, urea resin, diallyl phthalate resin, polybutadiene resin, AAS resin, AES resin, AS resin, ABS / PVC resin, polybutylene terephthalate resin Rate resin, polyethylene terephthalate resin, ACS resin, MBS resin, ketone resin, phenoxy resin, polyamideimide resin, polyarylate resin, thermoplastic polyimide resin, thermosetting polyimide resin, polyetherimide resin, polyetheretherketone resin, polyethylene Examples thereof include oxide resins, polysulfone resins, polyphenylene ether resins, regenerated fibers such as cellulose acetate and viscose rayon, and elastic bodies such as acrylonitrile / butadiene rubber.

【0042】本発明の低発煙性難燃性化合物は、樹脂1
00重量部に対し、1〜50重量部、好ましくは5〜4
0重量部、さらに好ましくは10〜35重量部配合され
る。該低発煙性難燃性化合物の配合量が1重量部より少
ないと十分な難燃性が発揮されず、50重量部よりも多
い場合は樹脂のアイゾット強度など機械的物性が低下し
て実用上好ましくない。本発明の低発煙性難燃性化合物
を合成樹脂用の難燃剤に使用する時にも、必要に応じて
本発明の目的を損なわない範囲で、種々の添加剤を添加
できる。各種添加剤としては、紫外線吸収剤、立体障害
アミン系耐光性安定剤、可塑剤、難燃助剤、滑剤、熱安
定剤、充填剤、補強剤、着色剤等が挙げられる。
The low smoke generating flame retardant compound of the present invention is a resin 1
1 to 50 parts by weight, preferably 5 to 4 parts by weight with respect to 00 parts by weight
0 parts by weight, and more preferably 10 to 35 parts by weight are blended. When the amount of the low smoke generating flame retardant compound is less than 1 part by weight, sufficient flame retardancy is not exhibited, and when it is more than 50 parts by weight, mechanical properties such as Izod strength of the resin are deteriorated and practically used. Not preferable. Even when the low smoke-retarding flame-retardant compound of the present invention is used as a flame retardant for a synthetic resin, various additives can be added, if necessary, within a range not impairing the object of the present invention. Examples of various additives include an ultraviolet absorber, a sterically hindered amine-based light resistance stabilizer, a plasticizer, a flame retardant aid, a lubricant, a heat stabilizer, a filler, a reinforcing agent, and a colorant.

【0043】本発明の難燃性樹脂組成物に難燃助剤とし
ては、Sb23、リン系化合物、テトラブロモビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、塩素化ポリエチレン化合物が
あげられ、リン系化合物としては、たとえば、赤リン、
樹脂あるいは金属酸化物等で表面処理された赤リン、ト
リフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェ
ート、トリスジクロロプロピルホスフェート、あるい
は、ハイドロキノン、レゾルシノール、ビスフェノール
A、ビスフェノールF、ビスフェニルスルホン、ジハイ
ドロキシジフェニルオキシド、ジハイドロオキシビフェ
ニル、およびこれらのハロゲン化物等の2価のフェノー
ルとオキシ塩化リンを反応して得られるようなポリリン
酸エステルオリゴマー等が挙げられる。本発明の難燃性
樹脂組成物は、合成樹脂に本発明の低発煙性難燃性化合
物を、必要に応じて難燃助剤等の添加剤を配合すること
によって得られるが、その配合方法は特に制限がなく、
タンブラーミキサー、スーパーミキサー、バンバリーミ
キサー、ニーダー、ロール、単軸押出機、二軸押出機、
ブラベンダーミキサー等の方法がある。
Examples of the flame retardant aid in the flame retardant resin composition of the present invention include Sb 2 O 3 , phosphorus compounds, tetrabromobisphenol A type epoxy resins and chlorinated polyethylene compounds. Examples of phosphorus compounds are , For example, red phosphorus,
Red phosphorus, triphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, trisdichloropropyl phosphate surface-treated with resin or metal oxide, or hydroquinone, resorcinol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenyl sulfone, dihydroxydiphenyl oxide, di Examples thereof include hydroxybiphenyl, and polyphosphate ester oligomers obtained by reacting divalent phenols such as halides with phosphorus oxychloride. The flame-retardant resin composition of the present invention can be obtained by blending the low-smoke-proof flame-retardant compound of the present invention with a synthetic resin, and if necessary, an additive such as a flame-retardant auxiliary agent. Is not particularly limited,
Tumbler mixer, super mixer, Banbury mixer, kneader, roll, single screw extruder, twin screw extruder,
There is a method such as Brabender mixer.

【0044】[0044]

【実施例】次に実施例および比較例をあげて本発明を具
体的に説明する。なお、実施例に示す物性、性状は次の
測定法による。 <p位選択率>キャピラリーガスクロマトグラフィにて
FIDを用いて分析し、各成分の面積比より求めた。 使用カラム:ヒューレットパッカート社製、ウルトラ1 <エポキシ当量>1g当量のエポキシ基を含有する樹脂
の質量であり、JIS K−7236に準拠して求め
た。
EXAMPLES Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The physical properties and properties shown in the examples are based on the following measuring methods. <P-position selectivity> The p-position selectivity was analyzed by FID using a capillary gas chromatography and determined from the area ratio of each component. Column to be used: Ultra 1 manufactured by Hewlett-Packard Company <Epoxy equivalent> The mass of a resin containing 1 g equivalent of an epoxy group, which was determined according to JIS K-7236.

【0045】<重量平均分子量>ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーにより、ポリスチレンを標準物質と
した検量線をもとに測定した。 溶媒 :THF カラム :重量平均分子量が2000未満の場合 昭和電工社製KF803Lを3本直列に連結 重量平均分子量が2000以上の場合 昭和電工社製KF806Lを3本直列に連結したものを
使用した。 標準物質:ポリスチレン標準物質 分子量:560、800、2000、4200、104
00、91000、23000、230000、560
000 <軟化点>JIS K−7234(環球法)に準拠し
た。
<Weight Average Molecular Weight> The weight average molecular weight was measured by gel permeation chromatography based on a calibration curve using polystyrene as a standard substance. Solvent: THF column: When weight average molecular weight is less than 2000 When three KF803L manufactured by Showa Denko are connected in series When when weight average molecular weight is 2000 or more KF806L manufactured by Showa Denko was connected in series. Standard substance: polystyrene standard substance Molecular weight: 560, 800, 2000, 4200, 104
00, 91000, 23000, 230000, 560
000 <Softening point> Based on JIS K-7234 (ring and ball method).

【0046】<易加水分解性塩素含有量>試料1gを5
0mlのトルエンに溶解し、これに0.1NKOH−メ
タノール溶液20mlを加えて15分間煮沸したのち、
硝酸銀水溶液で滴定する。 <全塩素含有量>試料1gを25mlのエチレングリコ
ールモノブチルエーテルに溶解し、これに1NKOH−
プロピレングリコール溶液25mlを加えて20分間煮
沸したのち、硝酸銀水溶液で滴定する。 <ジオール末端基含有量>試料3gを25mlのクロロ
ホルムに溶解し、ベンジルトリメチル過沃素酸アンモニ
ウム溶液25mlを加え、2.5時間半反応させ、2N
硫酸水溶液5ml、20%沃化カリウム水溶液15ml
を加え、0.1Nチオ硫酸ナトリウム溶液で滴定した。
<Easily hydrolyzable chlorine content> 5 g of 1 g of sample
After dissolving in 0 ml of toluene, adding 20 ml of 0.1 NKOH-methanol solution and boiling for 15 minutes,
Titrate with aqueous silver nitrate solution. <Total chlorine content> 1 g of the sample was dissolved in 25 ml of ethylene glycol monobutyl ether, and 1 NKOH-
After adding 25 ml of a propylene glycol solution and boiling for 20 minutes, titration is performed with an aqueous silver nitrate solution. <Diol end group content> 3 g of the sample was dissolved in 25 ml of chloroform, 25 ml of ammonium benzyltrimethyl periodate solution was added, and the reaction was carried out for 2.5 hours and a half.
Sulfuric acid aqueous solution 5 ml, 20% potassium iodide aqueous solution 15 ml
Was added and titrated with a 0.1N sodium thiosulfate solution.

【0047】<体積抵抗率、比誘電率、誘電正接>JI
S C−6481に準拠した。 <ガラス転移温度(Tg)>TMA(セイコー電子社製
SSC5200 TMA/SS120)にて測定した。 <難燃性>米国UL規格のUL94に規定されている垂
直燃焼性試験および水平燃焼性試験に準拠した。 <酸素指数(OI)>該難燃剤にジシアンジアミドを配
合し、ガラスクロスに含浸して加熱硬化し積層板を作成
し、JIS K7201に準拠してA−1号試験片を用
いて測定した。
<Volume resistivity, relative permittivity, dielectric loss tangent> JI
According to S C-6481. <Glass transition temperature (Tg)> Measured with TMA (SSC5200 TMA / SS120 manufactured by Seiko Instruments Inc.). <Flame Retardancy> It was based on the vertical flammability test and horizontal flammability test specified in UL94 of the US UL standard. <Oxygen Index (OI)> Dicyandiamide was added to the flame retardant, which was impregnated into glass cloth and heat-cured to prepare a laminated plate, which was measured according to JIS K7201 using a No. A-1 test piece.

【0048】<発煙性>JIS D 1201に準拠し
た。
<Smoke Emission Property> According to JIS D 1201.

【0049】サンプルサイズ 3.1*6.0*127
(mm) <銅箔剥離強度>引張試験機(島津製作所製、オートグ
ラフAG−5000D)で銅箔を積層板から垂直に引き
剥がす時の強度を測定した。 <アイゾット強度>ASTM D 256に準拠した。
試験厚み6.4mm、ノッチ付 <加熱変形温度(HDT)>ASTM D 648に準
拠した。
Sample size 3.1 * 6.0 * 127
(Mm) <Copper foil peeling strength> The strength when the copper foil was vertically peeled off from the laminate was measured by a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, Autograph AG-5000D). <Izod strength> According to ASTM D 256.
Test thickness 6.4 mm, with notch <Heat deformation temperature (HDT)> According to ASTM D648.

【0050】試験厚み:6.4mm,アニールなし 曲げ応力:18.6kg/cm2 <メルトフローレート>ISO R 1133に準拠し
た。温度200℃、荷重5kg <金属腐食性>樹脂製の平板(10cm×10cm×5
cm)上に表面を脱脂処理した金属片(圧延鋼板SS4
00、3cm×5cm×2mm)を置き、さらに金属片
をガラス製ペトリ皿で覆い、オーブン内で250℃、8
時間加熱処理し、金属片の表面の腐食状況を観察する。
Test thickness: 6.4 mm, no annealing Bending stress: 18.6 kg / cm 2 <Melt flow rate> According to ISO R 1133. Temperature 200 ° C, load 5 kg <Metallic corrosivity> Resin flat plate (10 cm x 10 cm x 5
cm) degreased metal piece (rolled steel plate SS4)
00, 3 cm × 5 cm × 2 mm), and further cover the metal piece with a glass Petri dish, and in an oven at 250 ° C. for 8 hours.
After heat treatment for a period of time, the corrosion state of the surface of the metal piece is observed.

【0051】評価は、○:変化なし、△:部分腐食が認
められる、×:全面腐食が認められる。
The evaluation is as follows: ○: no change, Δ: partial corrosion is recognized, ×: general corrosion is recognized.

【0052】<吸水率>厚さ3mm、直径50mmの円
盤(硬化物)の試験片を使用し、耐湿試験後の試験片の
重量増加率より求める。 耐湿試験:120℃/2気圧、200時間 <引張強度>JIS K−6911に準拠した。 <弾性率>JIS K−6911に準拠した。 <ハンダ耐熱性>積層板を規定温度のハンダ浴に30秒
間浸し、積層板表面のフクレを見た。評価は、○:フク
レなし、△:フクレ面積10%未満、×:フクレ面積1
0%以上とした。 <耐光性>キセノンアークウエザオメーターの300時
間後の試験片の変色度合を色差計で測定し、未暴露サン
プルとの差で示す。
<Water Absorption> Using a disk (cured product) test piece having a thickness of 3 mm and a diameter of 50 mm, the water absorption rate is determined from the weight increase rate of the test piece after the moisture resistance test. Moisture resistance test: 120 ° C./2 atmosphere, 200 hours <Tensile strength> In accordance with JIS K-6911. <Elastic modulus> Based on JIS K-6911. <Solder heat resistance> The laminate was immersed in a solder bath at a specified temperature for 30 seconds, and blister on the surface of the laminate was observed. Evaluation: ○: no blistering, Δ: blistering area less than 10%, x: blistering area 1
It was set to 0% or more. <Light resistance> The degree of discoloration of the test piece after 300 hours using a xenon arc weatherometer was measured with a color difference meter and is shown by the difference from the unexposed sample.

【0053】[0053]

【実施例】【Example】

実施例1 アルカリ水溶液を連続して滴下できる滴下ろうと、撹拌
羽根、温度計、凝縮液の水相を適時系外へ排出し、有機
相を系内にもどすラインを接続したコンデンサーを備え
た2リットルのガラス製リアクターにp位選択率が10
0%のビスフェノールF200g、エピクロルヒドリン
925gを入れ、均一に溶解した後、60℃で162g
の48.5%NaOH水溶液を90分かけて連続して滴
下し、更に30分反応させた。その間、系内を減圧に保
ち、エピクロルヒドリンと水を共沸させエピクロルヒド
リンは常時系内へもどし、水相は適時系外へ排出した。
その後水洗により副生した食塩を除去し、過剰のエピク
ロルヒドリンを減圧留去し、加水分解性塩素含有量30
00ppmの粗レジンを得た。得られた粗レジン100
gとメチルイソブチルケトン100gを500mlのガ
ラスリアクターに加え、均一に溶解したのち50℃に設
定し、48.5%NaOH水溶液0.7gを加えて2時
間反応させた。ついで、水洗したのちメチルイソブチル
ケトンを減圧留去し化合物Aを得た。
Example 1 2 liters equipped with a dropping funnel capable of continuously dropping an alkaline aqueous solution, a stirring blade, a thermometer, and a condenser connected to a line for discharging the aqueous phase of the condensate out of the system in a timely manner and returning the organic phase into the system. P-selectivity of 10 for glass reactor
200 g of 0% bisphenol F and 925 g of epichlorohydrin were added and uniformly dissolved, then 162 g at 60 ° C.
48.5% NaOH aqueous solution was continuously added dropwise over 90 minutes, and the reaction was further continued for 30 minutes. During that time, the system was kept at a reduced pressure, epichlorohydrin and water were azeotroped, epichlorohydrin was constantly returned to the system, and the aqueous phase was discharged to the outside of the system in a timely manner.
Then, the salt produced as a by-product is removed by washing with water, and excess epichlorohydrin is distilled off under reduced pressure to obtain a hydrolyzable chlorine content of 30.
00 ppm of crude resin was obtained. The obtained crude resin 100
g and 100 g of methyl isobutyl ketone were added to a 500 ml glass reactor, uniformly dissolved and then set to 50 ° C., 0.7 g of 48.5% NaOH aqueous solution was added, and the reaction was carried out for 2 hours. Then, after washing with water, methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure to obtain a compound A.

【0054】実施例2 p位選択率が100%のビスフェノールFのかわりに、
p位選択率が75%のビスフェノールFを用いた以外は
実施例1と同様に行い、加水分解性塩素含有量2900
ppmの粗レジンを得た。得られた粗レジンを実施例1
と同様にして処理し、化合物Bを得た。 実施例3 p位選択率が100%のビスフェノールFのかわりに、
p位選択率が50%のビスフェノールFを用いた以外は
実施例1と同様に行い、加水分解性塩素含有量3100
ppmの粗レジンを得た。得られた粗レジンを実施例1
と同様にして処理し、化合物Cを得た。
Example 2 Instead of bisphenol F having a p-position selectivity of 100%,
A hydrolyzable chlorine content of 2900 was obtained in the same manner as in Example 1 except that bisphenol F having a p-position selectivity of 75% was used.
ppm of crude resin was obtained. The obtained crude resin was used in Example 1.
Compound B was obtained by treating in the same manner as. Example 3 Instead of bisphenol F having a p-position selectivity of 100%,
A hydrolyzable chlorine content of 3100 was obtained in the same manner as in Example 1 except that bisphenol F having a p-position selectivity of 50% was used.
ppm of crude resin was obtained. The obtained crude resin was used in Example 1.
Compound C was obtained by treating in the same manner as.

【0055】実施例4 アルカリ水溶液を連続して滴下できる滴下ろうと、撹拌
羽根、温度計、凝縮液の水相を適時系外へ排出し、有機
相を系内にもどすラインを接続したコンデンサーを備え
た2リットルのガラス製リアクターにp位選択率が10
0%のビスフェノールF200g、エピクロルヒドリン
925g、グリシドール53gを入れ、均一に溶解した
後、60℃で162gの48.5%NaOH水溶液を9
0分かけて連続して滴下し、更に30分反応させた。そ
の間、系内を減圧に保ち、エピクロルヒドリンと水を共
沸させエピクロルヒドリンは常時系内へもどし、水相は
適時系外へ排出した。その後水洗により副生した食塩を
除去し、過剰のエピクロルヒドリンを減圧留去し、加水
分解性塩素含有量3100ppmの粗レジンを得た。得
られた粗レジン100gとメチルイソブチルケトン10
0gを500mlのガラスリアクターに加え、均一に溶
解したのち50℃に設定し、48.5%NaOH水溶液
0.7gを加えて2時間反応させた。ついで、水洗した
のちメチルイソブチルケトンを減圧留去し化合物Dを得
た。
Example 4 A dropping funnel capable of continuously dropping an alkaline aqueous solution, a stirring blade, a thermometer, and a condenser connected to a line for discharging the aqueous phase of the condensate to the outside of the system in a timely manner and returning the organic phase to the inside of the system. A 2-liter glass reactor has a p-position selectivity of 10
After 200 g of 0% bisphenol F, 925 g of epichlorohydrin and 53 g of glycidol were added and uniformly dissolved, 162 g of 48.5% NaOH aqueous solution was added at 60 ° C.
The solution was continuously added dropwise over 0 minutes, and the reaction was continued for 30 minutes. During that time, the system was kept at a reduced pressure, epichlorohydrin and water were azeotroped, epichlorohydrin was constantly returned to the system, and the aqueous phase was discharged to the outside of the system in a timely manner. Then, the salt produced as a by-product was removed by washing with water, and excess epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure to obtain a crude resin having a hydrolyzable chlorine content of 3100 ppm. 100 g of the obtained crude resin and 10 methyl isobutyl ketone
0 g was added to a 500 ml glass reactor, uniformly dissolved and then set to 50 ° C., 0.7 g of 48.5% NaOH aqueous solution was added, and the reaction was carried out for 2 hours. Then, after washing with water, methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure to obtain a compound D.

【0056】実施例5 グリシドール53gの代りに、グリシドール200gを
使用する以外はすべて実施例4と同様に行い、加水分解
性塩素含有量3000ppmの粗レジンを得た。得られ
た粗レジンを実施例1と同様にして処理し、化合物Eを
得た。 実施例6 一段目の反応において滴下する48.5%NaOH水溶
液を165gとした以外は実施例1の粗レジンを得る方
法と同様にして、化合物Fを得た。 実施例7 一段目の反応において滴下する48.5%NaOH水溶
液を132gとした以外は実施例1の粗レジンを得る方
法と同様にして、化合物Gを得た。
Example 5 A crude resin having a hydrolyzable chlorine content of 3000 ppm was obtained in the same manner as in Example 4 except that 200 g of glycidol was used instead of 53 g of glycidol. The obtained crude resin was treated in the same manner as in Example 1 to obtain compound E. Example 6 Compound F was obtained in the same manner as in the method for obtaining the crude resin in Example 1 except that 165 g of 48.5% NaOH aqueous solution was added dropwise in the first step reaction. Example 7 Compound G was obtained in the same manner as in the method for obtaining the crude resin of Example 1, except that 132 g of 48.5% NaOH aqueous solution added dropwise in the first reaction was used.

【0057】実施例8 冷却管、流量調整可能な窒素流入ラインを装着した2リ
ットルのガラス製セパラブルフラスコに化合物Aを1k
g仕込み、80℃に温度設定したのち、10wt%Na
OH水溶液0.2g、およびp位選択率が100%のビ
スフェノールF330gを加え、徐々に180℃まで昇
温し、5時間反応させ化合物Hを得た。 実施例9 化合物Aのかわりに化合物B、p位選択率が100%の
ビスフェノールFのかわりに、p位選択率が75%のビ
スフェノールFを用いた以外は実施例9と同様にして化
合物Iを得た。
Example 8 1 k of Compound A was placed in a 2 liter glass separable flask equipped with a cooling tube and a nitrogen inflow line with adjustable flow rate.
After charging and setting the temperature to 80 ° C, 10 wt% Na
0.2 g of an OH aqueous solution and 330 g of bisphenol F having a p-position selectivity of 100% were added, the temperature was gradually raised to 180 ° C., and the reaction was performed for 5 hours to obtain a compound H. Example 9 Compound I was prepared in the same manner as in Example 9 except that compound B was used instead of compound A, and bisphenol F having a p-position selectivity of 100% was used instead of compound B. Obtained.

【0058】実施例10 化合物Aのかわりに化合物C、p位選択率が100%の
ビスフェノールFのかわりに、p位選択率が50%のビ
スフェノールFを用いた以外は実施例8と同様にして化
合物Jを得た。 実施例11 化合物Aのかわりに化合物Dを用いた以外は実施例8と
同様にして化合物Kを得た。 実施例12 化合物Aのかわりに化合物Eを用いた以外は実施例8と
同様にして化合物Lを得た。 実施例13 化合物Aのかわりに化合物Fを用いた以外は実施例8と
同様にして化合物Mを得た。
Example 10 In the same manner as in Example 8 except that Compound C was used instead of Compound A, and bisphenol F having a p-position selectivity of 100% was used instead of Bisphenol F having a p-position selectivity of 100%. Compound J was obtained. Example 11 A compound K was obtained in the same manner as in Example 8 except that the compound D was used instead of the compound A. Example 12 A compound L was obtained in the same manner as in Example 8 except that the compound E was used instead of the compound A. Example 13 A compound M was obtained in the same manner as in Example 8 except that the compound F was used instead of the compound A.

【0059】実施例14 化合物Aのかわりに化合物Gを用いた以外は実施例8と
同様にして化合物Nを得た。 実施例15 p位選択率が100%のビスフェノールFの使用量を5
30gにし、反応時間を8時間にした以外は実施例8と
同様にして化合物Oを得た。 実施例16 化合物Aのかわりに化合物B、p位選択率が100%の
ビスフェノールFのかわりに、p位選択率が75%のビ
スフェノールFを用いた以外は実施例15と同様にして
化合物Pを得た。 実施例17 化合物Aのかわりに化合物C、p位選択率が100%の
ビスフェノールFのかわりに、p位選択率が50%のビ
スフェノールFを用いた以外は実施例15と同様にして
化合物Qを得た。 実施例18 p位選択率が100%のビスフェノールF使用量を59
2gにし、反応時間を10時間にした以外は実施例8と
同様にして化合物Rを得た。
Example 14 A compound N was obtained in the same manner as in Example 8 except that the compound G was used in place of the compound A. Example 15 The amount of bisphenol F having a p-position selectivity of 100% was 5
Compound O was obtained in the same manner as in Example 8 except that the reaction time was 8 hours and the reaction time was 30 g. Example 16 A compound P was prepared in the same manner as in Example 15 except that the compound B was used instead of the compound A, and the bisphenol F having a p-position selectivity of 100% was used instead of the bisphenol F having a p-position selectivity of 100%. Obtained. Example 17 A compound Q was prepared in the same manner as in Example 15 except that the compound C was used instead of the compound A, and the bisphenol F having a p-position selectivity of 100% was used instead of the bisphenol F having a p-position selectivity of 100%. Obtained. Example 18 The p-position selectivity was 100% and the amount of bisphenol F used was 59.
Compound R was obtained in the same manner as in Example 8 except that the reaction time was changed to 2 g and the reaction time was changed to 10 hours.

【0060】比較例1 p位選択率が100%のビスフェノールFのかわりに、
p位選択率が75%のビスフェノールFを用いた以外は
実施例1と同様に行い、加水分解性塩素含有量2900
ppmの粗レジンを得た。得られた粗レジンを実施例1
と同様にして処理し、化合物Sを得た。 比較例2 化合物Aのかわりに化合物、p位選択率が100%のビ
スフェノールFのかわりに、p位選択率が30%のビス
フェノールFを用いた以外は実施例8と同様にして化合
物Tを得た。
Comparative Example 1 Instead of bisphenol F having a p-position selectivity of 100%,
A hydrolyzable chlorine content of 2900 was obtained in the same manner as in Example 1 except that bisphenol F having a p-position selectivity of 75% was used.
ppm of crude resin was obtained. The obtained crude resin was used in Example 1.
Compound S was obtained by treating in the same manner as. Comparative Example 2 A compound T was obtained in the same manner as in Example 8 except that instead of the compound A, bisphenol F having a p-position selectivity of 100% was used, and bisphenol F having a p-position selectivity of 30% was used. It was

【0061】比較例3 化合物Aのかわりに化合物S、p位選択率が100%の
ビスフェノールFのかわりに、p位選択率が30%のビ
スフェノールFを用いた以外は実施例15と同様にして
化合物Uを得た。 比較例4 p位選択率が100%のビスフェノールF使用量を61
0gにし、反応時間を18時間にした以外は実施例8と
同様にして化合物Vを得た。化合物A〜Vの物性、性状
を表1〜5に示す。
Comparative Example 3 In the same manner as in Example 15 except that the compound S was used in place of the compound A, and the bisphenol F having a p-position selectivity of 30% was used in place of the bisphenol F having a p-position selectivity of 100%. Compound U was obtained. Comparative Example 4 When the p-position selectivity was 100%, the amount of bisphenol F used was 61%.
Compound V was obtained in the same manner as in Example 8 except that the reaction time was set to 0 g and the reaction time was set to 18 hours. Tables 1 to 5 show the physical properties and properties of the compounds A to V.

【0062】[0062]

【表1】 [Table 1]

【0063】[0063]

【表2】 [Table 2]

【0064】[0064]

【表3】 [Table 3]

【0065】[0065]

【表4】 [Table 4]

【0066】[0066]

【表5】 [Table 5]

【0067】表1〜5に示した性状の低発煙性難燃性化
合物等を用いて以下の実施例、および比較例を行った。
The following examples and comparative examples were carried out using the low smoke emitting flame retardant compounds having the properties shown in Tables 1 to 5.

【0068】実施例19〜22、比較例5〜7 硬化剤としてトリエチレンテトラミンを用いて、表6に
示した割合で配合し、硬化させて得られた硬化物を評価
した。 硬化条件:室温×24時間+160℃×2時間
Examples 19 to 22 and Comparative Examples 5 to 7 Triethylenetetramine was used as a curing agent, compounded in the proportions shown in Table 6, and cured to obtain a cured product, which was evaluated. Curing conditions: room temperature x 24 hours + 160 ° C x 2 hours

【0069】[0069]

【表6】 [Table 6]

【0070】実施例23〜26、比較例8〜10 硬化剤としてフェノールノボラックを使用し、表7に示
した割合で低発煙性難燃性化合物等および硬化剤等を配
合し、トランスファー成形により得られた試験片を評価
した。 トランスファー成形条件:150℃×180秒 ポストキュア条件 :160℃×2Hr+180℃
×8Hr
Examples 23 to 26, Comparative Examples 8 to 10 Phenol novolac was used as a curing agent, and a low smoke generating flame retardant compound and a curing agent were blended in the proportions shown in Table 7 to obtain by transfer molding. The obtained test pieces were evaluated. Transfer molding condition: 150 ° C. × 180 seconds Post cure condition: 160 ° C. × 2 Hr + 180 ° C.
× 8 Hr

【0071】[0071]

【表7】 [Table 7]

【0072】実施例27〜43、比較例11〜15 表8〜10に示した配合でエポキシ樹脂ワニスを調製し
た。このワニスをガラスクロス(旭シュエーベル社製2
16L AS450処理厚さ0.1mm)に含浸塗布
し、160℃で乾燥させて樹脂分約40%のプリプレグ
を得た。このプリプレグ8枚を重ねた両面に35μの銅
箔を重ねて170℃×30kg/cm2の加熱加圧下で
60分間成形し、銅張り積層板を得て評価した。ただ
し、銅箔剥離強度以外は銅箔を剥離した後に評価した。
Examples 27 to 43, Comparative Examples 11 to 15 Epoxy resin varnishes were prepared according to the formulations shown in Tables 8 to 10. Use this varnish with a glass cloth (made by Asahi Schebel 2
16 L AS450 treatment thickness 0.1 mm) was impregnated and coated, and dried at 160 ° C. to obtain a prepreg having a resin content of about 40%. A copper foil having a thickness of 35 μ was placed on both sides of the eight prepregs and molded under heat and pressure of 170 ° C. × 30 kg / cm 2 for 60 minutes to obtain a copper clad laminate and evaluated. However, except for the peel strength of the copper foil, it was evaluated after peeling the copper foil.

【0073】[0073]

【表8】 [Table 8]

【0074】[0074]

【表9】 [Table 9]

【0075】[0075]

【表10】 [Table 10]

【0076】実施例44〜60、比較例16〜20 ABS樹脂〔旭化成工業(株)製<登録商標>スタイラ
ック783〕に対して、表11〜14に示した割合で低
発煙性難燃性化合物等を配合し、タンブラーミキサーで
混合後、2軸押出機を用いてペレット化した。次いで、
加圧成形機で試験片を作成し物性を測定した。
Examples 44 to 60, Comparative Examples 16 to 20 Low smoke generating and flame retardancy in proportions shown in Tables 11 to 14 with respect to ABS resin [<Trademark> Stylac 783 manufactured by Asahi Kasei Kogyo KK]. The compounds and the like were blended, mixed with a tumbler mixer, and then pelletized using a twin-screw extruder. Then
A test piece was prepared with a pressure molding machine and its physical properties were measured.

【0077】[0077]

【表11】 [Table 11]

【0078】[0078]

【表12】 [Table 12]

【0079】[0079]

【表13】 [Table 13]

【0080】[0080]

【表14】 [Table 14]

【0081】実施例61〜63、比較例21〜23 耐衝撃性ポリスチレン〔旭化成工業(株)製<登録商標
>スタイロン495〕に対して、表15に示した割合で
低発煙性難燃性化合物等を配合し、タンブラーミキサー
で混合後、2軸押出機を用いてペレット化した。次い
で、加圧成形機で試験片を作成し物性を測定した。
Examples 61 to 63, Comparative Examples 21 to 23 Low smoke emitting flame retardant compounds at a ratio shown in Table 15 with respect to impact-resistant polystyrene [<Trademark> Stylon 495 manufactured by Asahi Chemical Industry Co., Ltd.]. And the like were mixed and mixed with a tumbler mixer, and then pelletized using a twin-screw extruder. Then, a test piece was prepared with a pressure molding machine and its physical properties were measured.

【0082】[0082]

【表15】 [Table 15]

【0083】表6,表7より、p−フェニレン選択率が
40%以上の本願発明の低発煙性難燃性化合物は硬化剤
を用いて硬化物とした場合、p−フェニレン選択率が4
0%未満のマトリックス用樹脂に比較して難燃性が優れ
ている。また、重量平均分子量が250000以下の該
低発煙性難燃性化合物は250000より大きい樹脂に
比較して、耐熱性が高く、吸水性が低く、また、UL9
4試験から見た難燃性も高い。また、臭素系難燃剤に比
較して発煙性、金属腐食性において格段に優れている。
From Tables 6 and 7, the low smoke-retardant flame-retardant compound of the present invention having a p-phenylene selectivity of 40% or more has a p-phenylene selectivity of 4 when it is used as a cured product using a curing agent.
The flame retardancy is excellent as compared with the matrix resin of less than 0%. Further, the low smoke generating flame-retardant compound having a weight average molecular weight of 250,000 or less has higher heat resistance and lower water absorption than the resin having a weight average molecular weight of more than 250,000, and has a UL9
The flame retardancy seen from 4 tests is also high. In addition, it is far superior to the brominated flame retardant in smoke emission and metal corrosion.

【0084】表8〜10より、本願発明の低発煙性難燃
性化合物を用いて積層板を作成した場合、p−フェニレ
ン選択率が40%未満に比較して難燃性が優れている。
また、重量平均分子量が250000以下の該低発煙性
難燃性化合物は250000より大きい樹脂に比較し
て、耐熱性、電気特性が高く、吸水性が低く、また、U
L94試験から見た難燃性も高い。また、臭素系難燃剤
に比較して発煙性において格段に優れている。表11〜
15より、本願発明の低発煙性難燃性化合物を合成樹脂
用の難燃剤として使用した場合、p−フェニレン選択率
が40%未満に比較して難燃性が優れている。また、重
量平均分子量が250000以下の該低発煙性難燃性化
合物は250000より大きい樹脂に比較して、衝撃強
度、流動性が高い。また、臭素系難燃剤に比較して発煙
性、金属腐食性において格段に優れている。
From Tables 8 to 10, when the laminated plate was prepared using the low smoke-producing flame-retardant compound of the present invention, the flame retardancy was excellent as compared with p-phenylene selectivity of less than 40%.
In addition, the low smoke-retardant flame-retardant compound having a weight average molecular weight of 250,000 or less has higher heat resistance and electrical characteristics, lower water absorption, and U than the resin having a weight average molecular weight of more than 250,000.
The flame retardancy seen from the L94 test is also high. Further, it is significantly superior in smoke emission property to the brominated flame retardant. Table 11-
According to 15, when the low smoke generating flame retardant compound of the present invention is used as a flame retardant for a synthetic resin, p-phenylene selectivity is superior to that of less than 40%. Further, the low smoke generating flame retardant compound having a weight average molecular weight of 250,000 or less has higher impact strength and fluidity as compared with a resin having a weight average molecular weight of more than 250,000. In addition, it is far superior to the brominated flame retardant in smoke emission and metal corrosion.

【0085】[0085]

【発明の効果】以上から明らかなように、本願発明の低
発煙性難燃性化合物は難燃性、低発煙性、機械的、電気
的物性に優れているため、積層板、半導体用封止材料、
合成樹脂用難燃剤、各種コンポジット用材料、注型品、
塗料等に好適に使用することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION As is clear from the above, the low-smoke-retardant compound of the present invention is excellent in flame-retardancy, low-smoke-emission property, mechanical and electrical properties, so that it can be used for encapsulating laminates and semiconductors. material,
Flame retardants for synthetic resins, various composite materials, cast products,
It can be suitably used for paints and the like.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】 〔式中、R1,R2は 【化2】 (Y,Zは炭素数1〜10の脂肪族または芳香族の炭化
水素で同一又は互いに異種の基であり、iおよびjは0
〜5の整数で、i+jは5以下を満たす)から選ばれた
同一または異種の基であり、Aは炭素数1〜5の飽和ま
たは不飽和の炭化水素であり、X1,X2,X3,X4は同
一又は互いに異なる、水素、炭素数1〜10の脂肪族ま
たは芳香族の炭化水素を示し、mは0以上の整数であ
る。〕で示される、p−フェニレン選択率が40%以上
で、重量平均分子量が250000以下の低発煙性難燃
性化合物。
1. The following general formula (I): [Wherein R 1 and R 2 are as follows: (Y and Z are aliphatic or aromatic hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms and are the same or different from each other, and i and j are 0.
Is an integer of 5 to 5, i + j is the same or different group selected from 5 or less), A is a saturated or unsaturated hydrocarbon having 1 to 5 carbon atoms, and X 1 , X 2 , X 3 , X 4 are the same or different from each other and represent hydrogen, an aliphatic or aromatic hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms, and m is an integer of 0 or more. ] The low smoke generating flame-retardant compound which is shown by these, and whose p-phenylene selectivity is 40% or more and whose weight average molecular weight is 250,000 or less.
【請求項2】 (1)請求項1に記載の低発煙性難燃性
化合物及び、(2)硬化剤を含有することを特徴とする
低発煙性難燃樹脂組成物。
2. A low smoke emitting flame retardant resin composition comprising (1) the low smoke emitting flame retardant compound according to claim 1 and (2) a curing agent.
【請求項3】 (1)繊維基材及び、(2)請求項1に
記載の低発煙性難燃性化合物を必須の構成成分とする低
発煙性難燃複合材料。
3. A low-smoke-retardant composite material comprising (1) a fiber substrate and (2) the low-smoke-retardant compound according to claim 1 as an essential component.
【請求項4】 (1)合成樹脂100重量部、及び
(2)請求項1に記載の低発煙性難燃性化合物5〜50
重量部を含有することを特徴とする低発煙性難燃合成樹
脂組成物。
4. (1) 100 parts by weight of a synthetic resin, and (2) a low smoke generating flame retardant compound 5 to 50 according to claim 1.
A low-smoke-retardant flame-retardant synthetic resin composition, characterized by containing parts by weight.
JP31809893A 1993-12-17 1993-12-17 Low smoke emitting flame retardant compound Expired - Lifetime JP3471395B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31809893A JP3471395B2 (en) 1993-12-17 1993-12-17 Low smoke emitting flame retardant compound

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31809893A JP3471395B2 (en) 1993-12-17 1993-12-17 Low smoke emitting flame retardant compound

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07173249A true JPH07173249A (en) 1995-07-11
JP3471395B2 JP3471395B2 (en) 2003-12-02

Family

ID=18095468

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31809893A Expired - Lifetime JP3471395B2 (en) 1993-12-17 1993-12-17 Low smoke emitting flame retardant compound

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3471395B2 (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001310939A (en) * 2000-04-27 2001-11-06 Toto Kasei Co Ltd Thermoplastic polyhydroxy polyether resin and insulating film produced therefrom
JP2005350552A (en) * 2004-06-10 2005-12-22 Nippon Kayaku Co Ltd Liquid epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP2006002020A (en) * 2004-06-17 2006-01-05 Nippon Kayaku Co Ltd Epoxy resin, epoxy resin composition and its cured product
JP2007091900A (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Curing agent for rapidly curable epoxy resin and epoxy resin composition
JP2007091899A (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Highly stable curing agent for epoxy resin and epoxy resin composition
JP2007091901A (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Curing agent for mildly reactive epoxy resin and epoxy resin composition
JP2007204670A (en) * 2006-02-03 2007-08-16 Asahi Kasei Chemicals Corp Highly water- and solvent-containing curing agent for epoxy resin, and epoxy resin composition
JP2008094863A (en) * 2006-10-06 2008-04-24 Taiyo Yuden Co Ltd Flame retardant for resin, flame-retardant resin composition and method for producing flame retardant for resin
JP2011140637A (en) * 2009-12-07 2011-07-21 Dic Corp Cellulose ester resin composition, optical film using the same and polarizing plate for liquid crystal display device

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001310939A (en) * 2000-04-27 2001-11-06 Toto Kasei Co Ltd Thermoplastic polyhydroxy polyether resin and insulating film produced therefrom
JP2005350552A (en) * 2004-06-10 2005-12-22 Nippon Kayaku Co Ltd Liquid epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP2006002020A (en) * 2004-06-17 2006-01-05 Nippon Kayaku Co Ltd Epoxy resin, epoxy resin composition and its cured product
JP2007091900A (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Curing agent for rapidly curable epoxy resin and epoxy resin composition
JP2007091899A (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Highly stable curing agent for epoxy resin and epoxy resin composition
JP2007091901A (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Curing agent for mildly reactive epoxy resin and epoxy resin composition
JP2007204670A (en) * 2006-02-03 2007-08-16 Asahi Kasei Chemicals Corp Highly water- and solvent-containing curing agent for epoxy resin, and epoxy resin composition
JP2008094863A (en) * 2006-10-06 2008-04-24 Taiyo Yuden Co Ltd Flame retardant for resin, flame-retardant resin composition and method for producing flame retardant for resin
JP2011140637A (en) * 2009-12-07 2011-07-21 Dic Corp Cellulose ester resin composition, optical film using the same and polarizing plate for liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3471395B2 (en) 2003-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4285491B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, novel epoxy resin, novel phenol resin, and semiconductor sealing material
JP3476780B2 (en) Flame retardant resin and composition of the resin
JP4259536B2 (en) Method for producing phenol resin and method for producing epoxy resin
WO2009048117A1 (en) Epoxy compound composition
CN110885428B (en) Halogen-free thermosetting resin composition, prepreg using same, laminated board and printed circuit board
JP2003137968A (en) Phosphorus- and silicon-modified flame-retardant epoxy resin
JP6022230B2 (en) High molecular weight epoxy resin, resin composition and cured product using the same
US9546262B1 (en) Phosphorous containing compounds and process for synthesis
JP3471395B2 (en) Low smoke emitting flame retardant compound
JP2006248912A (en) Polyvalent hydroxy compound, epoxy resin, method for producing the same, epoxy resin composition and cured product
TW201623362A (en) Halogen-Free Thermosetting Resin Composition, Prepreg and Laminate for Printed Circuit Prepared From the Same
JPH05140265A (en) Epoxy resin composition
JP2006335797A (en) Epoxy resin composition, its cured product, new epoxy resin and method for producing the same
JP5153000B2 (en) Epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
JPH0543657A (en) Epoxy resin composition
JP5967401B2 (en) High molecular weight urethane resin, epoxy resin composition containing the urethane resin, and cured product thereof
WO2016107068A1 (en) Halogen-free thermosetting resin composition, and prepreg and printed circuit laminate using same
JP2009084361A (en) Epoxy resin composition and cured product thereof
WO2022234776A1 (en) Phenolic resin, epoxy resin, curable resin composition, cured article, fiber-reinforced composite material, and fiber-reinforced resin molded article
KR20010023189A (en) Polyhydric phenol compounds, epoxy resins, epoxy resin compositions and cured products thereof
JP5012290B2 (en) Epoxy resin composition, cured product thereof, varnish for printed circuit board, novel epoxy resin and production method thereof
JPH1045871A (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product therefrom
US6576690B1 (en) Phosphorous-containing flame retarding epoxy resin and an epoxy resin composition containing the same
JP3226515B2 (en) Resin composition of phosphorus-containing compound containing epoxy group and use thereof
JP2001192432A (en) Flame-retardant epoxy resin, epoxy resin composition and its cured product

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030826

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090912

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100912

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130912

Year of fee payment: 10

EXPY Cancellation because of completion of term