JP2007086050A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4683416B2 (ja) * 2005-06-10 2011-05-18 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク用ガラス基板の欠陥検査方法、マスクブランク用ガラス基板、マスクブランク、露光用マスク、マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法
WO2009031605A1 (ja) * 2007-09-07 2009-03-12 Nikon Corporation ワーク欠陥検査装置およびそれを用いた光学部材の製造方法
JP5090379B2 (ja) * 2009-01-09 2012-12-05 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用フォトマスクの製造方法
JP5028437B2 (ja) * 2009-01-27 2012-09-19 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用フォトマスクの製造方法
KR101692087B1 (ko) 2009-01-09 2017-01-02 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크용 글래스 기판의 제조 방법, 마스크 블랭크의 제조 방법 및 노광용 포토마스크의 제조 방법
JP5346243B2 (ja) * 2009-06-04 2013-11-20 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法及びパターン転写方法
JP5786211B2 (ja) * 2011-01-21 2015-09-30 Hoya株式会社 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法
JP5651032B2 (ja) * 2011-02-03 2015-01-07 Hoya株式会社 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法
JP5684028B2 (ja) * 2011-03-31 2015-03-11 Hoya株式会社 転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法
WO2016090311A1 (en) 2014-12-05 2016-06-09 Kla-Tencor Corporation Apparatus, method and computer program product for defect detection in work pieces
JP7154572B2 (ja) * 2018-09-12 2022-10-18 Hoya株式会社 マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03221848A (ja) * 1990-01-26 1991-09-30 Canon Inc 異物検査装置
JP3101459B2 (ja) * 1992-11-16 2000-10-23 キヤノン株式会社 検査装置とこれを用いたシステム

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