JP2007084788A - Ionization radiation-curable composition - Google Patents

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Masanori Yoshimune
壮基 吉宗
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ionization radiation-curable composition which can provide a cured product capable of sufficiently satisfying all of light resistance, transparency and curability and therefore can be useful in much more applications in addition to optical members, lighting members, and automobile members. <P>SOLUTION: The ionization radiation-curable composition is used after cured by ionization radiation energy, wherein a cured product produced by curing the curable composition by ionization radiation energy of 2J/cm<SP>2</SP>satisfies: an initial light transmittance of 80% or more at a wavelength of 380 nm, and a light transmittance retention of 90% or more after 200 hours of accelerated light resistance test. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、電離放射線硬化性組成物に関する。より詳しくは、光学部材、照明部材、自動車部材等の各種用途に広く用いられる電離放射線硬化性組成物に関する。 The present invention relates to an ionizing radiation curable composition. More specifically, the present invention relates to an ionizing radiation curable composition widely used for various uses such as an optical member, a lighting member, and an automobile member.

電離放射線硬化性組成物とは、電磁波、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、ガンマー線等の電離放射線エネルギーにより硬化させて用いる硬化性組成物であり、ガラス等の透明性無機材料に比べて成形加工性が良好であることから、例えば、光学部材、照明部材、自動車部材等の各種用途に広く好適に用いられている。これらの用途においては、硬化物が、可視光の短波長領域から紫外領域の発光波長分布を有する光源からの光に対して着色や変質、劣化を起こしにくいという性質、すなわち耐光性を有することが特に要求されるが、更に高外観を呈するとともに実用性に優れたものとするために高度の透明度や充分な硬化強度を有することもまた求められている。しかしながら、従来の硬化性組成物を用いた硬化物では、これらの要望を充分に満たすことのできるものはなかった。 An ionizing radiation curable composition is a curable composition used by being cured by ionizing radiation energy such as electromagnetic waves, ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, electron beams, gamma rays, etc., compared to transparent inorganic materials such as glass. Since the molding processability is good, it is widely used in various applications such as optical members, lighting members, and automobile members. In these applications, the cured product has a property that it is difficult to cause coloring, alteration, or deterioration with respect to light from a light source having a light emission wavelength distribution from the short wavelength region to the ultraviolet region of visible light, that is, light resistance. Although particularly required, it is also required to have a high degree of transparency and a sufficient curing strength in order to have a higher appearance and an excellent practicality. However, no cured product using a conventional curable composition can sufficiently satisfy these requirements.

従来の電離放射線硬化性組成物としては、硬化性(メタ)アクリル系組成物が知られており、具体的には、エチレンオキシドで変性されたビスフェノールAのジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸とネオペンチルグリコールとのエステルのジアクリレート及びフェノキシ(エトキシ)エチルアクリレートを含む硬化性(メタ)アクリル系組成物によって形成される光学部品が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、このような組成物を硬化させて得られる硬化物(透明性樹脂)は、耐光性が充分ではなく、ガラス等の透明性無機材料と比較して経時的な変色や変質という点では充分なものとはいえないことから、耐光性を充分に向上させることにより、例えば、太陽電池や屋外電光掲示板等の使用時に太陽光に直接曝露され得る光学部品や、可視光の短波長領域から紫外領域の発光波長分布を有する光源を利用する発光ダイオード、光ケーブル、表示装置等の光学部材等に好適なものとし、多くの用途に有用なものとするための工夫の余地があった。 As conventional ionizing radiation curable compositions, curable (meth) acrylic compositions are known, and specifically, bisphenol A dimethacrylate modified with ethylene oxide, hydroxypivalic acid and neopentyl glycol An optical component formed by a curable (meth) acrylic composition containing a diacrylate of an ester and phenoxy (ethoxy) ethyl acrylate is disclosed (for example, see Patent Document 1). However, a cured product (transparent resin) obtained by curing such a composition does not have sufficient light resistance, and is sufficient in terms of discoloration and alteration over time compared to transparent inorganic materials such as glass. Therefore, by sufficiently improving the light resistance, for example, optical components that can be directly exposed to sunlight when using solar cells, outdoor electric bulletin boards, etc. There is room for improvement to make it suitable for optical members such as light-emitting diodes, optical cables, and display devices using light sources having a light emission wavelength distribution in a region, and to be useful for many applications.

またアルキレン(オキシ)ジ(メタ)アクリレート、所定の光重合開始剤及び所定の紫外線吸収剤を所定の割合で含有する光硬化性組成物が開示されている(例えば、特許文献2参照。)。しかしながら、このような組成物を硬化させて得られる硬化物(透明性樹脂)は、耐光性、透過性及び硬化性の全てを充分に満足し得るものとはいえないため、この点を改善し、光学部材、照明部材、自動車部材等の他、多くの用途に好適に用いることができるようにするための工夫の余地があった。
特開平6−263831号公報(第2頁) 特開平4−180904号公報(第1頁)
Moreover, the photocurable composition containing alkylene (oxy) di (meth) acrylate, a predetermined photoinitiator, and a predetermined ultraviolet absorber in a predetermined ratio is disclosed (for example, refer to Patent Document 2). However, a cured product (transparent resin) obtained by curing such a composition cannot sufficiently satisfy all of light resistance, transparency and curability, and this point has been improved. In addition to optical members, illumination members, automobile members, etc., there was room for improvement in order to be able to be suitably used for many applications.
JP-A-6-263831 (page 2) JP-A-4-180904 (first page)

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、耐光性、透過性及び硬化性の全てを充分に満足し得る硬化物を与えることができ、例えば、光学部材、照明部材、自動車部材等の他、より多くの用途に有用な電離放射線硬化性組成物を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above-described present situation, and can provide a cured product that can sufficiently satisfy all of light resistance, transparency, and curability, such as an optical member, a lighting member, an automobile member, and the like. It is another object of the present invention to provide an ionizing radiation curable composition useful for more applications.

本発明者等は、電離放射線硬化性組成物について種々検討したところ、該硬化性組成物を特定の電離放射線エネルギーで硬化させて得られる硬化物における初期光線透過率及び光線透過率保持率を所定値に設定することにより、透明性に優れるとともに、可視光の短波長領域から紫外領域の発光波長分布を有する光源からの光に対しても着色や変質、劣化を起こしにくく、すなわち「耐光性」が高く、しかも充分な硬化強度を有する硬化物を与える硬化性組成物とすることができることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到した。ここで、通常の硬化性組成物に光重合開始剤を添加した場合、光重合開始剤の添加に起因して耐光性や可視光の短波長領域の透過率が充分とはならないことがあるが、本発明の硬化性組成物を用いることにより、光重合開始剤の添加量を充分に低減することが可能となるため、耐光性及び可視光の短波長領域の透過率がより向上され、多くの用途に好適なものとすることが可能となることを見いだしたものである。また、このような電離放射線硬化性組成物について、特定の(メタ)アクリル酸エステル化物を含有するものとしたり、スルホン酸(塩)及び/又はスルホン酸エステル含有率を特定したりすることによって、光重合開始剤の添加量を大幅に削減することができることを見いだし、これに起因して本発明の作用効果をより充分に発揮することが可能となることを見いだし、本発明に到達したものである。 As a result of various studies on the ionizing radiation curable composition, the present inventors have determined the initial light transmittance and light transmittance retention in a cured product obtained by curing the curable composition with specific ionizing radiation energy. By setting the value, it has excellent transparency, and it is difficult to cause coloring, alteration, or deterioration even for light from a light source having a light emission wavelength distribution from the short wavelength region to the ultraviolet region of visible light, that is, "light resistance" The present inventors have found that it is possible to obtain a curable composition that provides a cured product having a high hardness and sufficient curing strength, and have conceived that the above problems can be solved brilliantly. Here, when a photopolymerization initiator is added to a normal curable composition, light resistance and transmittance in the short wavelength region of visible light may not be sufficient due to the addition of the photopolymerization initiator. By using the curable composition of the present invention, it becomes possible to sufficiently reduce the amount of photopolymerization initiator added, so that the light resistance and transmittance in the short wavelength region of visible light are further improved. It has been found that it is possible to make it suitable for the application. Moreover, about such an ionizing radiation curable composition, it shall contain a specific (meth) acrylic acid ester, or specify a sulfonic acid (salt) and / or sulfonic acid ester content rate, It has been found that the amount of photopolymerization initiator added can be greatly reduced, and it has been found that the effects of the present invention can be fully exhibited due to this. is there.

すなわち本発明は、電離放射線エネルギーにて硬化させて用いる硬化性組成物であって、上記電離放射線硬化性組成物は、電離放射線エネルギー2J/cmで硬化させて得られる硬化物が、波長380nmでの初期光線透過率80%以上、かつ促進耐光性試験200時間後の光線透過率保持率90%以上を満たすものである電離放射線硬化性組成物である。
以下に本発明を詳述する。
That is, the present invention is a curable composition used by being cured with ionizing radiation energy, and the above-mentioned ionizing radiation curable composition is obtained by curing with an ionizing radiation energy of 2 J / cm 2. The ionizing radiation curable composition satisfies the initial light transmittance of 80% or more and a light transmittance retention of 90% or more after 200 hours of accelerated light resistance test.
The present invention is described in detail below.

本発明の電離放射線硬化性組成物(以下、「硬化性組成物」ともいう。)は、電離放射線エネルギーにて硬化させて用いる硬化性組成物であるが、電離放射線エネルギーとしては特に限定されず、例えば、電磁波、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、ガンマー線等が挙げられる。中でも、紫外線が特に好ましい。紫外線照射による硬化の場合には、波長150〜450nmの範囲内の光を含む光源を用いることが好適である。このような光源としては、太陽光線、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライド灯、ガリウム灯、キセノン灯、カーボンアーク灯等が好ましく、また、これらの光源とともに、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。 The ionizing radiation curable composition of the present invention (hereinafter also referred to as “curable composition”) is a curable composition that is used after being cured with ionizing radiation energy, but the ionizing radiation energy is not particularly limited. Examples thereof include electromagnetic waves, ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, electron beams, gamma rays, and the like. Among these, ultraviolet rays are particularly preferable. In the case of curing by ultraviolet irradiation, it is preferable to use a light source including light within a wavelength range of 150 to 450 nm. As such a light source, a solar ray, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a gallium lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, and the like are preferable. Heat combined with high frequency heating or the like is also possible.

また電子線照射による硬化の場合には、加速電圧が10〜500kVである電子線を用いることが好適である。より好ましくは、20〜300kVであり、更に好ましくは、30〜200kVである。電子線の照射量は、2〜500kGyであることが好ましく、より好ましくは、3〜300kGyであり、更に好ましくは、5〜200kGyである。なお、電子線とともに、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。 In the case of curing by electron beam irradiation, it is preferable to use an electron beam having an acceleration voltage of 10 to 500 kV. More preferably, it is 20-300 kV, More preferably, it is 30-200 kV. It is preferable that the irradiation amount of an electron beam is 2-500 kGy, More preferably, it is 3-300 kGy, More preferably, it is 5-200 kGy. In addition to the electron beam, it is possible to use heat by infrared rays, far infrared rays, hot air, high-frequency heating or the like.

本発明においては、上記硬化性組成物を電離放射線エネルギー2J/cmで硬化させて得られる硬化物が、波長380nmでの初期光線透過率80%以上を満たすことが適当である。上記初期光線透過率が80%未満であると、例えば、LED(発光ダイオード:light-emitting diode)封止剤、光ケーブル、光導波路、レンズシート等の光学部材のように高度の透明性が要求される分野において好適なものとすることができないため、より多くの用途に有用なものとするという本発明の作用効果を充分に発揮することができないおそれがある。好ましくは82%以上であり、より好ましくは85%以上である。
上記波長380nmでの初期光線透過率としては、例えば、以下のようにして測定することができる。
In the present invention, it is appropriate that a cured product obtained by curing the curable composition with an ionizing radiation energy of 2 J / cm 2 satisfies an initial light transmittance of 80% or more at a wavelength of 380 nm. When the initial light transmittance is less than 80%, a high degree of transparency is required, such as optical members such as LED (light-emitting diode) sealants, optical cables, optical waveguides, and lens sheets. Therefore, there is a possibility that the effect of the present invention, which is useful for more applications, cannot be sufficiently exhibited. Preferably it is 82% or more, More preferably, it is 85% or more.
The initial light transmittance at the wavelength of 380 nm can be measured, for example, as follows.

<波長380nmでの初期光線透過率>
1、硬化物(試験片)の作成
ガラス面に厚さ400μmの枠を設け、その中に硬化性組成物を流し込み、250μmのPET(ポリエチレンテレフタラート)フィルムを被せて、25℃雰囲気で、250W超高圧水銀ランプを用いて主波長365nm、照射強度43mJ/cm・秒の紫外線を46.5秒照射して充分硬化させた後、型から取り外して、試験片を得る。
2、初期光線透過率の測定
上記試験片について、分光光度計UV−3100(島津製作所製)を用いて380nmにおける光線透過率(%)を測定する。
<Initial light transmittance at a wavelength of 380 nm>
1. Preparation of cured product (test piece) A 400 μm-thick frame is provided on the glass surface, a curable composition is poured into the frame, and a 250 μm PET (polyethylene terephthalate) film is placed on the glass surface. Using an ultra-high pressure mercury lamp, UV light having a main wavelength of 365 nm and an irradiation intensity of 43 mJ / cm 2 · second is irradiated for 46.5 seconds to be sufficiently cured, and then removed from the mold to obtain a test piece.
2. Measurement of initial light transmittance The light transmittance (%) at 380 nm of the above test piece is measured using a spectrophotometer UV-3100 (manufactured by Shimadzu Corporation).

本発明においてはまた、上記硬化性組成物を電離放射線エネルギー2J/cmで硬化させて得られる硬化物が、促進耐光性試験200時間後の光線透過率保持率90%以上を満たすことが適当である。上記光線透過率保持率が90%未満であると、例えば、LED封止剤、光ケーブル、光導波路、レンズシート等の光学部材のように高度の耐光性が要望される分野において好適なものとすることができないため、より多くの用途に有用なものとするという本発明の作用効果を充分に発揮することができないおそれがある。好ましくは95%以上であり、より好ましくは、促進耐光性試験300時間後の光線透過率保持率が90%以上であることである。
上記促進耐光性試験200時間(又は300時間)後の光線透過率保持率としては、例えば、以下のようにして測定することができる。
In the present invention, it is also appropriate that a cured product obtained by curing the curable composition with ionizing radiation energy of 2 J / cm 2 satisfies a light transmittance retention of 90% or more after 200 hours of accelerated light resistance test. It is. When the light transmittance holding ratio is less than 90%, for example, an optical member such as an LED sealant, an optical cable, an optical waveguide, and a lens sheet is suitable in a field where high light resistance is required. Therefore, there is a possibility that the effect of the present invention, which is useful for more applications, cannot be sufficiently exhibited. Preferably, it is 95% or more, and more preferably, the light transmittance retention after 300 hours of the accelerated light resistance test is 90% or more.
The light transmittance retention after 200 hours (or 300 hours) of the accelerated light resistance test can be measured, for example, as follows.

<促進耐光性試験200時間後の光線透過率保持率>
1、硬化物(試験片)の作成
上記波長380nmでの初期光線透過率の測定における硬化物(試験片)の作成方法と同様にして試験片を得る。
2、光線透過率保持率の測定
上記試験片について、まず、分光光度計UV−3100(島津製作所製)を用いて380nmにおける光線透過率(%)を測定し、これを「促進耐光性試験前の光線透過率(%)」とする。その後、この試験片について、超エネルギー照射試験機(スガ試験機社製)を用いて、照射強度90mW/cm、波長295〜450nm、湿度70%Rh、温度50℃にて照射を行う。200時間(又は300時間)照射後の試験片を再び分光光度計UV−3100(島津製作所製)を用いて380nmにおける光線透過率(%)を測定し、これを「促進耐光性試験後の光線透過率(%)」とする。その後、以下の式により光線透過率保持率(%)を求める。
光線透過率保持率(%)=(促進耐光性試験後の光線透過率/促進耐光性試験前の光線透過率)×100
<Light transmittance retention after 200 hours of accelerated light resistance test>
1. Preparation of cured product (test piece) A test piece is obtained in the same manner as the method for preparing a cured product (test piece) in the measurement of the initial light transmittance at the wavelength of 380 nm.
2. Measurement of light transmittance holding ratio For the above test piece, first, the light transmittance (%) at 380 nm was measured using a spectrophotometer UV-3100 (manufactured by Shimadzu Corporation). Light transmittance (%) ". Then, this test piece is irradiated at an irradiation intensity of 90 mW / cm 2 , a wavelength of 295 to 450 nm, a humidity of 70% Rh, and a temperature of 50 ° C. using a super energy irradiation tester (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.). The test piece after irradiation for 200 hours (or 300 hours) was again measured for light transmittance (%) at 380 nm using a spectrophotometer UV-3100 (manufactured by Shimadzu Corporation). Transmittance (%) ”. Thereafter, the light transmittance retention rate (%) is obtained by the following formula.
Light transmittance retention (%) = (light transmittance after accelerated light resistance test / light transmittance before accelerated light resistance test) × 100

本発明においては更に、上記硬化性組成物を電離放射線エネルギー2J/cmで硬化させて得られる硬化物が、B以上の鉛筆硬度を示すことが好適である。このように高度の硬化性を有する硬化物を与える硬化性組成物とすることによって、本発明の作用効果をより充分に発揮することが可能となる。より好ましくは、HB以上の鉛筆硬度を示すことである。
上記鉛筆硬度としては、例えば、以下のようにして測定することができる。
In the present invention, it is further preferable that a cured product obtained by curing the curable composition with ionizing radiation energy of 2 J / cm 2 exhibits a pencil hardness of B or higher. Thus, by setting it as the curable composition which gives the hardened | cured material which has high sclerosis | hardenability, it becomes possible to fully exhibit the effect of this invention. More preferably, it indicates a pencil hardness of HB or higher.
As said pencil hardness, it can measure as follows, for example.

<鉛筆硬度>
1、硬化物(試験片)の作成
上記波長380nmでの初期光線透過率の測定における硬化物(試験片)の作成方法と同様にして試験片を得る。
2、鉛筆硬度の測定
上記試験片について、JIS K5600−5−4:1999に準じて鉛筆硬度を測定する。
<Pencil hardness>
1. Preparation of cured product (test piece) A test piece is obtained in the same manner as the method for preparing a cured product (test piece) in the measurement of the initial light transmittance at the wavelength of 380 nm.
2. Measurement of pencil hardness Pencil hardness is measured according to JIS K5600-5-4: 1999 about the said test piece.

本発明の電離放射線硬化性組成物としては、例えば、1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物の(メタ)アクリル酸エステル化物(以下、「(メタ)アクリル酸エステル化物(A)」ともいう。)を含むものであることが好適である。このような(メタ)アクリル酸エステル化物(A)とは、1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物(以下、「ポリオール化合物」ともいう。)と、(メタ)アクリル酸(メタクリル酸及び/又はアクリル酸)とから生成し得るエステル化物を意味する。
上記(メタ)アクリル酸エステル化物(A)の含有量としては、例えば、上記電離放射線硬化性組成物の全量100質量%に対し、10〜95質量%であることが好適である。この範囲内に設定することにより、硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物において、耐熱性、寸法安定性及び成形性のバランスをより良好なものとすることができる。より好ましくは、20〜90質量%であり、更に好ましくは、30〜85質量%である。
As the ionizing radiation curable composition of the present invention, for example, a (meth) acrylic acid ester product (hereinafter referred to as “(meth) acrylic acid ester product (A)”) of a compound having two or more hydroxyl groups in one molecule. It is preferable that it contains. Such (meth) acrylic acid ester (A) is a compound having two or more hydroxyl groups in one molecule (hereinafter also referred to as “polyol compound”), (meth) acrylic acid (methacrylic acid and (Or acrylic acid).
The content of the (meth) acrylic acid ester (A) is, for example, preferably 10 to 95% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of the ionizing radiation curable composition. By setting within this range, the cured product obtained by curing the curable composition can have a better balance of heat resistance, dimensional stability, and moldability. More preferably, it is 20-90 mass%, More preferably, it is 30-85 mass%.

上記ポリオール化合物としては、芳香族炭化水素構造を有しないものであることが好適であり、これにより、上記硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物において、耐光性をより充分に向上させることが可能となる。
このようなポリオール化合物、すなわち芳香族炭化水素構造を有さず、かつ1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,11−ウンデカンジオール、1,12−ドデカンジオール、1,13−トリデカンジオール、1,14−テトラデカンジオール、1,15−ペンタデカンジオール、1,16−ヘキサデカンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、トリシクロデカンジメタノール、シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノールA、ネオペンチルグリコール、ブチルエチルプロパンジオール等のアルカンジオールや、ネオペンチルグリコールのヒドロキシピバリン酸とのエステル化物、β,β,β’,β’−テトラメチル−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン−3,9−ジエノール等の他、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、トリメチロールヘキサン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、グリセリン、ポリグリセリン等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。
The polyol compound preferably has no aromatic hydrocarbon structure, and thereby, the light resistance of the cured product obtained by curing the curable composition is more sufficiently improved. Is possible.
Examples of such a polyol compound, that is, a compound having no aromatic hydrocarbon structure and having two or more hydroxyl groups in one molecule include, for example, ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-butanediol, 1, 3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10 -Decanediol, 1,11-undecanediol, 1,12-dodecanediol, 1,13-tridecanediol, 1,14-tetradecanediol, 1,15-pentadecanediol, 1,16-hexadecanediol, 3-methyl -1,5-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 1,2 Of alkanediols such as cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, tricyclodecane dimethanol, cyclohexanedimethanol, hydrogenated bisphenol A, neopentyl glycol, butylethylpropane diol, and neopentyl glycol Esterified products with hydroxypivalic acid, β, β, β ′, β′-tetramethyl-2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane-3,9-dienol, etc., trimethylol Examples include ethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane, trimethylolhexane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, glycerin, polyglycerin, and the like. One or more of these can be used. That.

上記芳香族炭化水素構造を有さず、かつ1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物としてはまた、水酸基(すなわち、自身の有する水酸基)に対してβ−水素を含有しない化合物であることが好適である。これにより、上記硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物において、光による劣化や変色に対する耐性をより充分に向上させることが可能となる。
このようなポリオール化合物としては、例えば、ネオペンチルグリコール、ブチルエチルプロパンジオール、ネオペンチルグリコールのヒドロキシピバリン酸とのエステル化物、β,β,β’,β’−テトラメチル−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン−3,9−ジエノール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、トリメチロールヘキサン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。中でも、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパンが好適である。
なお、水酸基(すなわち、自身の有する水酸基)に対してβ−水素を有しないアルコールとは、言い換えれば、アルコール化合物(アルコール類)であって、自身の有する水酸基に対してβ−位の炭素原子等が結合するすべての原子が水素原子以外の炭素原子等である化合物である。これらのアルコール化合物は、β−位の炭素原子が結合するすべての原子が炭素原子であり、芳香族炭化水素構造を有しないものであり、1分子中に2個以上の水酸基を有するという点において共通する化学構造をもつことになり、本発明において同様の性能・効果を発現することになる。β−水素を有する骨格は光による劣化を受けやすく、β−水素が脱離することによって、目的物が変色するおそれがあるからである。したがって、上記硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物は優れたものとすることができる。
The compound having no aromatic hydrocarbon structure and having two or more hydroxyl groups in one molecule is also a compound not containing β-hydrogen with respect to the hydroxyl group (that is, the hydroxyl group possessed by itself). Is preferred. Thereby, in the hardened | cured material obtained by hardening the said curable composition, it becomes possible to fully improve the tolerance with respect to deterioration and discoloration by light.
Examples of such a polyol compound include neopentyl glycol, butyl ethyl propane diol, esterified product of neopentyl glycol with hydroxypivalic acid, β, β, β ′, β′-tetramethyl-2, 4, 8, Examples include 10-tetraoxaspiro [5,5] undecane-3,9-dienol, trimethylolethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane, trimethylolhexane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and the like. Of these, neopentyl glycol and trimethylolpropane are preferred.
In addition, the alcohol having no β-hydrogen relative to the hydroxyl group (that is, the hydroxyl group possessed by itself) is, in other words, an alcohol compound (alcohol), which is a β-position carbon atom with respect to the hydroxyl group possessed by itself. Is a compound in which all atoms to which etc. are bonded are carbon atoms other than hydrogen atoms. In these alcohol compounds, all atoms to which the carbon atoms at the β-position are bonded are carbon atoms, do not have an aromatic hydrocarbon structure, and have two or more hydroxyl groups in one molecule. It will have a common chemical structure and will exhibit the same performance and effects in the present invention. This is because a skeleton having β-hydrogen is easily deteriorated by light, and the target product may be discolored by the elimination of β-hydrogen. Therefore, the cured product obtained by curing the curable composition can be excellent.

上記(メタ)アクリル酸エステル化物(A)としては、市販品を用いてもよいし、自ら調整して用いてもよい。自ら調整する手法としては、例えば、上記ポリオール化合物と、(メタ)アクリル酸エステルとを触媒の存在下で脱アルコール反応させることにより製造する方法(エステル交換法)や、上記ポリオール化合物と(メタ)アクリル酸とを触媒の存在下で脱水反応させることにより製造する方法(脱水縮合法)を用いることが好ましい。 As said (meth) acrylic acid ester product (A), a commercial item may be used and it may adjust and use itself. As a method of adjusting itself, for example, a method of producing the above-described polyol compound and (meth) acrylic ester by dealcoholization reaction in the presence of a catalyst (transesterification method), the above-mentioned polyol compound and (meth) It is preferable to use a method (dehydration condensation method) for producing acrylic acid by dehydration reaction in the presence of a catalyst.

上記エステル交換法に使用可能な(メタ)アクリル酸エステルとしては特に限定されるものではないが、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート等が好適である。 Although it does not specifically limit as (meth) acrylic acid ester which can be used for the said transesterification method, For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate Etc. are suitable.

上記エステル交換法において、上記ポリオール化合物と(メタ)アクリル酸エステルとの仕込みモル比(ポリオール化合物中の水酸基:(メタ)アクリル酸エステル)としては、例えば、1:1〜1:20であることが好ましい。より好ましくは、1:1.5〜1:10であり、更に好ましくは、1:2〜1:5である。 In the transesterification method, the charged molar ratio of the polyol compound to the (meth) acrylic acid ester (hydroxyl group in the polyol compound: (meth) acrylic acid ester) is, for example, 1: 1 to 1:20. Is preferred. More preferably, it is 1: 1.5-1: 10, More preferably, it is 1: 2-1: 5.

上記エステル交換法に使用可能な触媒としては特に限定されないが、例えば、アルカリ金属アルコラート、マグネシウムアルコラート、アルミニウムアルコラート、チタンアルコラート、ジブチルスズオキシド、陰イオン交換樹脂等が挙げられる。触媒の使用量は、例えば、反応の総仕込量100質量%に対して、0.01〜10質量%であることが好ましい。より好ましくは、0.05〜5質量%であり、更に好ましくは、0.1〜3質量%である。なお、反応後には、通常の手法により触媒を除去することが好適である。 Although it does not specifically limit as a catalyst which can be used for the said transesterification method, For example, alkali metal alcoholate, magnesium alcoholate, aluminum alcoholate, titanium alcoholate, dibutyltin oxide, anion exchange resin etc. are mentioned. It is preferable that the usage-amount of a catalyst is 0.01-10 mass% with respect to 100 mass% of total preparation amounts of reaction, for example. More preferably, it is 0.05-5 mass%, More preferably, it is 0.1-3 mass%. After the reaction, it is preferable to remove the catalyst by a usual method.

上記エステル交換法に使用可能な溶媒としては特に限定されないが、例えば、ペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘプタン、オクタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、シメン等が挙げられる。溶媒の使用量は、例えば、反応の総仕込量100質量%に対して、1〜70質量%であることが好ましい。より好ましくは、5〜50質量%であり、更に好ましくは、10〜30質量%である。 Although it does not specifically limit as a solvent which can be used for the said transesterification method, For example, pentane, cyclopentane, hexane, cyclohexane, methylcyclohexane, heptane, cycloheptane, octane, isooctane, benzene, toluene, cymene etc. are mentioned. It is preferable that the usage-amount of a solvent is 1-70 mass% with respect to 100 mass% of total preparation amounts of reaction, for example. More preferably, it is 5-50 mass%, More preferably, it is 10-30 mass%.

上記エステル交換法における反応温度としては、例えば、50〜150℃とすることが好ましい。より好ましくは、70〜140℃であり、更に好ましくは、90〜130℃である。 As reaction temperature in the said transesterification method, it is preferable to set it as 50-150 degreeC, for example. More preferably, it is 70-140 degreeC, More preferably, it is 90-130 degreeC.

上記脱水縮合法において、上記ポリオール化合物と(メタ)アクリル酸との仕込みモル比(ポリオール化合物中の水酸基:(メタ)アクリル酸)としては、例えば、1:1〜1:5であることが好ましい。より好ましくは、1:1.01〜1:2であり、更に好ましくは、1:1.05〜1:1.5である。 In the dehydration condensation method, the molar ratio of the polyol compound and (meth) acrylic acid (hydroxyl group in the polyol compound: (meth) acrylic acid) is preferably, for example, 1: 1 to 1: 5. . More preferably, it is 1: 1.01-1: 2, More preferably, it is 1: 1.05-1: 1.5.

上記脱水縮合法に使用可能な触媒としては特に限定されないが、例えば、硫酸、塩酸、リン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、陽イオン交換樹脂等の酸触媒が挙げられる。触媒の使用量は、例えば、反応の総仕込量100質量%に対して、0.01〜10質量%であることが好ましい。より好ましくは、0.05〜5質量%であり、更に好ましくは、0.1〜3質量%である。なお、反応後は、通常の手法により触媒を除去することが好適である。
上記触媒の中でも、得られる硬化性組成物中のスルホン酸誘導体(硫黄成分)の含有量をより低減させるという観点からは、陽イオン交換樹脂が好適である。陽イオン交換樹脂としては、例えば、ローム・アンド・ハース社製のアンバーリスト(登録商標)やアンバーライト(登録商標)、三菱化学社製のダイヤイオン(登録商標)等が挙げられる。また、陽イオン交換樹脂を触媒として使用する場合には、使用前に、トルエン、メタノール等の有機溶媒や水で充分に洗浄し、スルホン酸誘導体(硫黄成分)の溶出を防止することが好ましい。
Although it does not specifically limit as a catalyst which can be used for the said dehydration condensation method, For example, sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, cation exchange resin etc. An acid catalyst is mentioned. It is preferable that the usage-amount of a catalyst is 0.01-10 mass% with respect to 100 mass% of total preparation amounts of reaction, for example. More preferably, it is 0.05-5 mass%, More preferably, it is 0.1-3 mass%. After the reaction, it is preferable to remove the catalyst by a usual method.
Among the above catalysts, a cation exchange resin is preferable from the viewpoint of further reducing the content of the sulfonic acid derivative (sulfur component) in the resulting curable composition. Examples of the cation exchange resin include Amberlist (registered trademark) and Amberlite (registered trademark) manufactured by Rohm and Haas, Diaion (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and the like. When a cation exchange resin is used as a catalyst, it is preferable to thoroughly wash with an organic solvent such as toluene or methanol or water before use to prevent elution of the sulfonic acid derivative (sulfur component).

上記脱水縮合法に使用可能な溶媒の種類や使用量としては特に限定されず、例えば、上記エステル交換法において上述した形態が好ましい形態として挙げられる。上記脱水縮合法における反応温度としてもまた、特に限定されないが、例えば、上記エステル交換法において上述したように設定することが好適である。 The type and amount of the solvent that can be used in the dehydration condensation method are not particularly limited, and for example, the above-described embodiment in the transesterification method may be mentioned as a preferable embodiment. The reaction temperature in the dehydration condensation method is not particularly limited. For example, the reaction temperature is preferably set as described above in the transesterification method.

上記エステル交換法及び脱水縮合法においては、エステル交換反応又は脱水縮合反応中の(メタ)アクリル酸エステルの重合を防止することを目的として、反応系に重合防止剤を添加することが好適である。重合防止剤としては、例えば、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル(4H−TEMPO)及びその誘導体(TEMPO誘導体);ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等のフェノール類;ベンゾキノン、ジフェニルベンゾキノン等のキノン類;フェノチアジン;銅塩等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。重合防止剤の使用量は、例えば、反応の総仕込量100質量%に対して、0.0001〜2質量%であることが好ましい。より好ましくは、0.005〜0.5質量%である。 In the transesterification method and dehydration condensation method, it is preferable to add a polymerization inhibitor to the reaction system for the purpose of preventing the polymerization of (meth) acrylic acid ester during the transesterification reaction or dehydration condensation reaction. . Examples of the polymerization inhibitor include 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl (4H-TEMPO) and its derivatives (TEMPO derivatives); phenols such as hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether; Examples include quinones such as benzoquinone and diphenylbenzoquinone; phenothiazines; copper salts and the like, and one or more of these can be used. It is preferable that the usage-amount of a polymerization inhibitor is 0.0001-2 mass% with respect to 100 mass% of total preparation amounts of reaction, for example. More preferably, it is 0.005-0.5 mass%.

上記(メタ)アクリル酸エステル化物(A)としてはまた、下記一般式(1); As the (meth) acrylic ester (A), the following general formula (1);

Figure 2007084788
Figure 2007084788

(式中、R、R及びRは、同一又は異なって、水素原子、メチル基及びエチル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を表す。但し、R、R及びRの合計炭素原子数は、0〜2である。nは、1〜100の数を表す。)で表されるエーテル構造を有するものであることが好適である。このようなエーテル構造を上記(メタ)アクリル酸エステル化物(A)中に存在させることによって、極少量の光重合開始剤でも硬化が効率よく進行することとなるため、耐光性、透過性及び硬化性の全てをより充分に満足し得る硬化物を得ることが可能となる。すなわち、上述したように光重合開始剤の添加に起因して耐光性や可視光の短波長領域の透過率が充分とはならないことがあるが、上記一般式(1)で表されるエーテル構造を有することにより、光重合開始剤の添加量を大幅に削減することができるため、黄変成分及び短波長の光を吸収する成分を充分に低減することが可能となり、本発明の作用効果をより充分に発揮することができることとなる。 (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same or different and represent at least one group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a methyl group and an ethyl group, provided that R 1 , R 2 and The total number of carbon atoms of R 3 is 0 to 2. n preferably represents an ether structure represented by 1 to 100. By allowing such an ether structure to be present in the (meth) acrylic acid ester (A), curing can proceed efficiently even with a very small amount of photopolymerization initiator, so that light resistance, transparency and curing can be achieved. It becomes possible to obtain a cured product that can more fully satisfy all of the properties. That is, as described above, due to the addition of the photopolymerization initiator, the light resistance and the transmittance in the short wavelength region of visible light may not be sufficient, but the ether structure represented by the above general formula (1) Since the amount of photopolymerization initiator added can be significantly reduced, the yellowing component and the component that absorbs light with a short wavelength can be sufficiently reduced, and the effects of the present invention can be reduced. It can be more fully demonstrated.

上記エーテル構造は、アルキレンオキシド単位を繰り返し単位とする構造であるが、当該アルキレンオキシド単位は、場合によっては、上述した条件を満たす側鎖を有するものであってもよい。このようなエーテル構造を生成するには、アルキレンオキシド単位を付加するための前駆体として、エチレンオキシド、プロピレンオキシド及びブチレンオキシド(1,2−ブチレンオキシド、2,3−ブチレンオキシド、イソブチレンオキシド)からなる群より選択される少なくとも1種のアルキレンオキシドを用いることが好適である。 The ether structure is a structure having an alkylene oxide unit as a repeating unit, but the alkylene oxide unit may have a side chain that satisfies the above-described conditions depending on circumstances. To produce such an ether structure, it consists of ethylene oxide, propylene oxide and butylene oxide (1,2-butylene oxide, 2,3-butylene oxide, isobutylene oxide) as precursors for adding alkylene oxide units. It is preferred to use at least one alkylene oxide selected from the group.

上記エーテル構造において、アルキレンオキシド単位の繰り返し数(上記一般式(1)中のn)は、1〜100の数である。nが小さ過ぎると充分な耐光性が得られないおそれがあり、また逆にnが大き過ぎると耐水性や硬度を充分なものとすることができないおそれがある。好ましくは、1〜15であり、より好ましくは、1〜10であり、更に好ましくは、1〜8である。なお、場合によっては、上記好適範囲を外れる数のアルキレンオキシド単位が付加された(メタ)アクリル酸エステル化物(A)を用いてもよい。 In the ether structure, the number of repeating alkylene oxide units (n in the general formula (1)) is 1 to 100. If n is too small, sufficient light resistance may not be obtained. Conversely, if n is too large, water resistance and hardness may not be sufficient. Preferably, it is 1-15, More preferably, it is 1-10, More preferably, it is 1-8. In some cases, a (meth) acrylic acid ester (A) to which a number of alkylene oxide units outside the above preferred range is added may be used.

上記エーテル構造を有する(メタ)アクリル酸エステル化物(A)としては、市販品を用いてもよいし、自ら調整して用いてもよい。自ら調整する手法としては、例えば、通常の手法によりポリオール化合物の水酸基にアルキレンオキシド単位を付加した後、当該化合物と、(メタ)アクリル酸(又は(メタ)アクリル酸エステル)とを上述したエステル交換法又は脱水縮合法でエステル化することにより、上記エーテル構造を有する(メタ)アクリル酸エステル化物(A)を得ることが好適である。なお、アルキレンオキシド単位が付加されたポリオール化合物が市販されている場合には、当該商品を用いてエステル化反応のみを自ら行ってもよい。
上記エーテル構造を有する(メタ)アクリル酸エステル化物(A)の特に好適な形態としては、芳香族炭化水素構造を有さず、かつ1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物に、アルキレンオキシドを付加して得られる化合物の(メタ)アクリル酸エステル化物であり、該アルキレンオキシドが、エチレンオキシド、プロピレンオキシド及びブチレンオキシドからなる群より選択される少なくとも1種のものである形態である。
As the (meth) acrylic acid ester product (A) having the ether structure, a commercially available product may be used, or it may be adjusted and used by itself. As a method for adjusting itself, for example, after adding an alkylene oxide unit to a hydroxyl group of a polyol compound by a usual method, the compound and (meth) acrylic acid (or (meth) acrylic acid ester) are exchanged as described above. It is preferable to obtain the (meth) acrylic acid ester product (A) having the above ether structure by esterification by a method or a dehydration condensation method. In addition, when the polyol compound to which the alkylene oxide unit is added is commercially available, only the esterification reaction may be performed by itself using the product.
As a particularly preferred form of the (meth) acrylic acid ester (A) having an ether structure, an alkylene oxide is added to a compound having no aromatic hydrocarbon structure and having two or more hydroxyl groups in one molecule. (Meth) acrylic acid ester product of a compound obtained by adding A, wherein the alkylene oxide is at least one selected from the group consisting of ethylene oxide, propylene oxide and butylene oxide.

上記エーテル構造の含有量としては、上記電離放射線硬化性組成物の全量100質量%に対し、5質量%以上であることが好ましい。5質量%未満であると、上記エーテル構造の存在により発揮される上述の効果が充分に得られないおそれがある。硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物が、可視光の短波長領域から紫外領域の発光波長分布を有する光源からの光に対して硬化物の変色や変質、劣化等を起こしにくい性能(すなわち、耐光性)を更に向上させるという観点からは、上記エーテル構造の含有量は大きいほど好ましく、具体的には、5質量%を超えるものであることが好ましい。より好ましくは、10質量%以上であり、更に好ましくは20質量%以上である。また、上記エーテル構造の含有量の上限は特に制限されないが、硬化物の耐水性を向上させるという観点から、上記電離放射線硬化性組成物の全量100質量%に対し、65質量%以下であることが好ましい。より好ましくは60質量%以下であり、更に好ましくは55質量%以下である。
上記エーテル構造の含有量は、例えば、以下のようにして求めることができる。
The content of the ether structure is preferably 5% by mass or more with respect to 100% by mass of the total amount of the ionizing radiation curable composition. If the amount is less than 5% by mass, the above-described effect exhibited by the presence of the ether structure may not be sufficiently obtained. The performance of the cured product obtained by curing the curable composition is less likely to cause discoloration, alteration, or deterioration of the cured product with respect to light from a light source having an emission wavelength distribution from the short wavelength region to the ultraviolet region ( That is, from the viewpoint of further improving the light resistance), the content of the ether structure is preferably as large as possible, and specifically, it is preferably more than 5% by mass. More preferably, it is 10 mass% or more, More preferably, it is 20 mass% or more. Moreover, the upper limit of the content of the ether structure is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the water resistance of the cured product, it is 65% by mass or less with respect to 100% by mass of the total amount of the ionizing radiation curable composition. Is preferred. More preferably, it is 60 mass% or less, More preferably, it is 55 mass% or less.
The content of the ether structure can be determined as follows, for example.

<エーテル構造の含有量>
硬化性組成物(15mg)及び48質量%臭化水素酸(200mg)を、5mLのアルミシールバイアル中に入れ、テフロン(登録商標)シリコンセプタムを介して封じ、オーブン中で150℃にて2時間加熱し、臭素酸分解反応を進行させた後、硬化性組成物中のエーテル構造を臭素化させる。反応終了後、反応液中の臭化物(例えば、1,2−ジブロモプロパン、1,2−ジブロモブタン、1,4−ジブロモブタン等)の含有量をガスクロマトグラフィーにより測定し、検量線との比較により定量する。定量された臭化物の含有量の値から、硬化性組成物中の上記エーテル構造の含有量を算出する。
<Content of ether structure>
The curable composition (15 mg) and 48% by weight hydrobromic acid (200 mg) were placed in a 5 mL aluminum sealed vial, sealed through a Teflon silicone septum, and oven oven at 150 ° C. for 2 hours. After heating and allowing the bromic acid decomposition reaction to proceed, the ether structure in the curable composition is brominated. After completion of the reaction, the content of bromide (for example, 1,2-dibromopropane, 1,2-dibromobutane, 1,4-dibromobutane, etc.) in the reaction solution is measured by gas chromatography and compared with a calibration curve. Quantify by The content of the ether structure in the curable composition is calculated from the determined bromide content.

上記エーテル構造の含有量を上述した範囲内とするためには、例えば、上記エーテル構造を有する(メタ)アクリル酸エステル化物(A)を製造する際のエーテル構造の前駆体(例えば、アルキレンオキシド)の使用量を調節する手法が好ましく採用され得る。 In order to make the content of the ether structure within the above-described range, for example, a precursor of an ether structure (for example, an alkylene oxide) when the (meth) acrylic acid ester (A) having the ether structure is produced. A method of adjusting the amount of use can be preferably employed.

上記電離放射線硬化性組成物としてはまた、該硬化性組成物に含まれ得るスルホン酸、スルホン酸塩及び/又はスルホン酸エステル(以下、単に「スルホン酸誘導体」ともいう。)の含有量が、該硬化性組成物全量に対し、硫黄分換算で100ppm以下であることが好適である。すなわち、上記硬化性組成物中のスルホン酸(塩)及び/又はスルホン酸エステル含有率が、硫黄分換算で100ppm以下であることが好適である。これにより、スルホン酸誘導体に起因する硬化物の着色や変質、劣化を充分に防止することが可能となる。より好ましくは50ppm以下であり、更に好ましくは30ppm以下であり、より更に好ましくは20ppm以下であり、特に好ましくは10ppm以下である。
なお、「スルホン酸(塩)」とは、スルホン酸及び/又はスルホン酸塩を意味する。
上記スルホン酸誘導体含有率としては、例えば、以下のようにして求めることができる。
As the ionizing radiation curable composition, the content of a sulfonic acid, a sulfonic acid salt and / or a sulfonic acid ester (hereinafter also simply referred to as “sulfonic acid derivative”) that can be contained in the curable composition is as follows. The total content of the curable composition is preferably 100 ppm or less in terms of sulfur content. That is, the sulfonic acid (salt) and / or sulfonic acid ester content in the curable composition is preferably 100 ppm or less in terms of sulfur content. This makes it possible to sufficiently prevent the cured product from being colored, altered, or deteriorated due to the sulfonic acid derivative. More preferably, it is 50 ppm or less, More preferably, it is 30 ppm or less, More preferably, it is 20 ppm or less, Especially preferably, it is 10 ppm or less.
The “sulfonic acid (salt)” means sulfonic acid and / or sulfonate.
The sulfonic acid derivative content can be determined, for example, as follows.

<スルホン酸誘導体含有率>
硬化性組成物をトルエンに溶解させ、水を添加後、分液ロートにて水層中にスルホン酸及びスルホン酸塩を抽出する。この水層を分離し、エバポレーターを用いて濃縮し、更に熱風乾燥機を用いて水分を除去する。その後、アセトンに溶解させ、ガスクロマトグラフィーによりスルホン酸の含有量を測定し、検量線との比較により定量する。
<Sulphonic acid derivative content>
The curable composition is dissolved in toluene, and after adding water, sulfonic acid and sulfonate are extracted into the aqueous layer with a separatory funnel. The aqueous layer is separated, concentrated using an evaporator, and water is removed using a hot air dryer. Thereafter, the sample is dissolved in acetone, the content of sulfonic acid is measured by gas chromatography, and quantified by comparison with a calibration curve.

上記硬化性組成物中のスルホン酸誘導体含有率を上述した範囲内とするためには、例えば、(1)硬化性組成物の製造工程においてスルホン酸誘導体を使用しないか、又は、(2)硬化性組成物の製造工程においてスルホン酸誘導体を使用した場合には、当該スルホン酸誘導体を除去する除去工程を更に行う、という手法を用いることが好適である。
上記(1)の手法による場合には、例えば、触媒として、通常用いられているスルホン酸誘導体(特に、p−トルエンスルホン酸)以外の化合物(例えば、陽イオン交換樹脂)を用いた脱水縮合法か、又は、触媒として金属アルコラート等を用いたエステル交換法により、上記(メタ)アクリル酸エステル化物(A)を製造することとすればよい。このような手法によると、スルホン酸誘導体含有率は理論上はゼロであり、除去工程を付加しなくてもよいため、製造コストの観点からも好適である。
上記(2)の手法による場合、スルホン酸誘導体を除去する手段としては、例えば、水又はアルカリ水溶液を用いた洗浄方法や、塩基性無機塩(例えば、MgO)又は陰イオン交換樹脂を用いた吸着ろ過方法を採用することができる。
In order to make the content of the sulfonic acid derivative in the curable composition within the above-mentioned range, for example, (1) Do not use a sulfonic acid derivative in the production process of the curable composition, or (2) cure When a sulfonic acid derivative is used in the production process of the composition, it is preferable to use a technique of further performing a removal step of removing the sulfonic acid derivative.
In the case of the above method (1), for example, a dehydration condensation method using a compound (for example, cation exchange resin) other than a sulfonic acid derivative (particularly, p-toluenesulfonic acid) that is usually used as a catalyst. Alternatively, the (meth) acrylic acid ester product (A) may be produced by a transesterification method using a metal alcoholate or the like as a catalyst. According to such a method, the content rate of the sulfonic acid derivative is theoretically zero and it is not necessary to add a removal step, which is preferable from the viewpoint of manufacturing cost.
In the case of the above method (2), as a means for removing the sulfonic acid derivative, for example, a washing method using water or an alkaline aqueous solution, an adsorption using a basic inorganic salt (for example, MgO) or an anion exchange resin is used. Filtration methods can be employed.

上記電離放射線硬化性組成物の特に好適な形態としては、該硬化性組成物中のスルホン酸(塩)及び/又はスルホン酸エステル含有率が、硫黄分換算で100ppm以下であって、該硬化性組成物は、芳香族炭化水素構造を有さず、かつ1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物の(メタ)アクリル酸エステル化物を含んでなり、該(メタ)アクリル酸エステル化物は、上記一般式(1)で表されるエーテル構造を有し、該エーテル構造は、該硬化性組成物100質量%に対して、5質量%以上である形態である。このような形態とすることによって、上記硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物において、可視光の短波長領域から紫外領域の発光波長分布を有する光源からの光による着色や変質、劣化が飛躍的に抑制され、本発明の作用効果を更に充分に発揮することが可能となる。 As a particularly preferred form of the ionizing radiation curable composition, the sulfonic acid (salt) and / or sulfonic acid ester content in the curable composition is 100 ppm or less in terms of sulfur content, and the curable composition The composition comprises a (meth) acrylate ester of a compound having no aromatic hydrocarbon structure and having two or more hydroxyl groups in one molecule, and the (meth) acrylate ester is It has an ether structure represented by the general formula (1), and the ether structure is in a form of 5% by mass or more with respect to 100% by mass of the curable composition. In such a form, in a cured product obtained by curing the curable composition, coloring, alteration, and deterioration due to light from a light source having a light emission wavelength distribution from the short wavelength region to the ultraviolet region of visible light. It is drastically suppressed and the effects of the present invention can be more fully exhibited.

本発明の電離放射線硬化性組成物としては、(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体を含有することが好適であり、これによって、充分な耐光性を保持したまま、その硬化時の収縮による成形不具合や寸法安定性等を充分に改善できることとなる。
このような重合体及び/又は共重合体としては、(メタ)アクリル酸エステル及び/又は(メタ)アクリル酸を、全単量体成分100モル%に対して50モル%以上含む単量体成分を重合して得られるものであることが好ましく、その具体的な形態は特に限定されるものではない。なお、このような重合体及び/又は共重合体は、1種又は2種以上含むことができる。
As the ionizing radiation curable composition of the present invention, it is preferable to contain a polymer and / or copolymer of (meth) acrylic acid ester, thereby curing the resin while maintaining sufficient light resistance. It is possible to sufficiently improve molding defects and dimensional stability due to shrinkage at the time.
As such a polymer and / or copolymer, a monomer component containing 50 mol% or more of (meth) acrylic acid ester and / or (meth) acrylic acid with respect to 100 mol% of all monomer components. It is preferable that it is obtained by polymerizing and the specific form is not particularly limited. In addition, such a polymer and / or copolymer can be contained in one kind or two or more kinds.

上記(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体を構成する単量体成分としては、例えば、下記の化合物等の1種又は2種以上を使用することができる。
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−ノニル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、アダマンチル(メタ)アクリレート、ノルボニル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、α−ヒドロキシメチルアクリル酸ブチル等の単官能(メタ)アクリレート;
N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド等の単官能(メタ)アクリルアミド;
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、n−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル等の単官能ビニルエーテル;
As a monomer component which comprises the polymer and / or copolymer of the said (meth) acrylic acid ester, 1 type (s) or 2 or more types, such as the following compound, can be used, for example.
Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) Monofunctional such as acrylate, cyclohexylmethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, adamantyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, α-hydroxymethyl butyl acrylate (Meth) acrylate;
Monofunctional (meth) acrylamides such as N, N-dimethyl (meth) acrylamide and N-methylol (meth) acrylamide;
Monofunctional vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-nonyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether;

N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニル−N−メチルホルムアミド、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド等の単官能N−ビニル化合物;
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、酢酸アリル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル等の単官能ビニル化合物;
無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、フマル酸、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、無水イタコン酸、イタコン酸、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、メチレンマロン酸、メチレンマロン酸ジメチル、メチレンマロン酸モノメチル、桂皮酸、桂皮酸メチル、桂皮酸エチル、クロトン酸、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル等の単官能α,β−不飽和化合物;
ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等の多官能ビニルエーテル;
ジビニルベンゼン等の多官能ビニル化合物等。
Monofunctional N-vinyl compounds such as N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, N-vinyl-N-methylformamide, N-vinylimidazole, N-vinylformamide, N-vinylacetamide;
Monofunctional vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, vinyl toluene, allyl acetate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate;
Maleic anhydride, maleic acid, dimethyl maleate, diethyl maleate, monomethyl maleate, monoethyl maleate, fumaric acid, dimethyl fumarate, diethyl fumarate, monomethyl fumarate, monoethyl fumarate, itaconic anhydride, itaconic acid, itacone Dimethyl acid, Diethyl itaconate, Monomethyl itaconate, Monoethyl itaconate, Methylenemalonic acid, Dimethyl methylenemalonate, Monomethyl methylenemalonate, Cinnamic acid, Methyl cinnamate, Ethyl cinnamate, Crotonic acid, Methyl crotonate, Ethyl crotonate Monofunctional α, β-unsaturated compounds such as
Polyfunctional vinyl ethers such as hexanediol divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, ditrimethylolpropane tetravinyl ether, glycerin trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether;
Polyfunctional vinyl compounds such as divinylbenzene.

上記(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体としてはまた、上記(メタ)アクリル酸エステル化物(A)と重合可能な官能基を有するものであることが好ましい。これにより、上記硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物の光学特性、例えば、硬化物の靱性や耐水性をより充分に向上させることが可能となる。
このような官能基を有する(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体の製造方法としては特に限定されないが、例えば、下記(1)〜(5)の製造方法等が挙げられる。なお、これら以外の方法を用いることもできる。
The polymer and / or copolymer of the (meth) acrylic acid ester preferably has a functional group capable of being polymerized with the (meth) acrylic acid ester (A). Thereby, it becomes possible to improve more sufficiently the optical characteristics of the cured product obtained by curing the curable composition, for example, the toughness and water resistance of the cured product.
Although it does not specifically limit as a manufacturing method of the polymer and / or copolymer of (meth) acrylic acid ester which have such a functional group, For example, the manufacturing method of following (1)-(5) etc. are mentioned. In addition, methods other than these can also be used.

(1)カルボキシル基を含有する重合性単量体と(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体と、グリシジル基を含有する重合性単量体とを反応させる方法、又は、グリシジル基を含有する重合性単量体と(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体と、カルボキシル基を含有する重合性単量体とを反応させる方法。
(2)水酸基を含有する重合性単量体と(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体と、イソシアネート基を含有する重合性単量体とを反応させる方法、又は、イソシアネート基を含有する重合性単量体と(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体と、水酸基を含有する重合性単量体とを反応させる方法。
(3)水酸基及び/又はカルボキシル基を含有する重合性単量体と(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体と、ビニルエーテル基及び他の重合性基を含有する重合性単量体とを反応させる方法、又は、ビニルエーテル基及び他の重合性基を含有する重合性単量体と(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体と、水酸基及び/又はカルボキシル基を含有する重合性単量体とを反応させる方法。
(4)水酸基を含有する重合性単量体と(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体と、酸無水物基を含有する重合性単量体とを反応させる方法、又は、酸無水物基を含有する重合性単量体と(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体と、水酸基を含有する重合性単量体とを反応させる方法。
(5)多官能単量体を含む単量体成分を部分的に重合させて、二重結合の一部を重合体の側鎖に残存させる方法。
(1) A method of reacting a copolymer of a polymerizable monomer containing a carboxyl group with a (meth) acrylic ester and a polymerizable monomer containing a glycidyl group, or containing a glycidyl group A method of reacting a copolymer of a polymerizable monomer and a (meth) acrylic acid ester with a polymerizable monomer containing a carboxyl group.
(2) A method of reacting a copolymer of a polymerizable monomer containing a hydroxyl group with a (meth) acrylic acid ester and a polymerizable monomer containing an isocyanate group, or polymerization containing an isocyanate group A method of reacting a copolymer of a polymerizable monomer and a (meth) acrylic acid ester with a polymerizable monomer containing a hydroxyl group.
(3) reacting a copolymer of a polymerizable monomer containing a hydroxyl group and / or a carboxyl group with a (meth) acrylic acid ester and a polymerizable monomer containing a vinyl ether group and another polymerizable group Or a copolymer of a polymerizable monomer containing a vinyl ether group and another polymerizable group and a (meth) acrylic acid ester, and a polymerizable monomer containing a hydroxyl group and / or a carboxyl group How to react.
(4) A method of reacting a copolymer of a polymerizable monomer containing a hydroxyl group with a (meth) acrylic ester and a polymerizable monomer containing an acid anhydride group, or an acid anhydride group A method of reacting a copolymer of a polymerizable monomer containing a methacrylic acid ester and a polymerizable monomer containing a hydroxyl group.
(5) A method in which a monomer component containing a polyfunctional monomer is partially polymerized to leave part of the double bond in the side chain of the polymer.

上記(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体の含有割合としては、例えば、上記電離放射線硬化性組成物の全量100質量%に対し、5〜50質量%であることが好ましい。これにより、特に硬化時の収縮がより充分に抑制され、更に良好な成形性が得られることとなる。より好ましくは、10〜40質量%であり、更に好ましくは、10〜30質量%である。 As a content rate of the polymer and / or copolymer of the said (meth) acrylic acid ester, it is preferable that it is 5-50 mass% with respect to 100 mass% of whole quantity of the said ionizing radiation-curable composition, for example. Thereby, especially the shrinkage | contraction at the time of hardening is suppressed more fully, and a further favorable moldability will be obtained. More preferably, it is 10-40 mass%, More preferably, it is 10-30 mass%.

上記電離放射線硬化性組成物としてはまた、上記(メタ)アクリル酸エステル以外の他の重合性単量体を含んでいてもよく、この場合には、硬化性組成物の粘度の低減や硬化速度の向上といった作用効果を得ることができる。
このような重合性単量体としては特に限定されず、例えば、上記(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体を得るための単量体成分として上述した化合物等の1種又は2種以上を使用することができる。
The ionizing radiation curable composition may also contain a polymerizable monomer other than the (meth) acrylic acid ester. In this case, the viscosity of the curable composition is reduced or the curing rate is increased. The effect of improvement can be obtained.
Such a polymerizable monomer is not particularly limited. For example, one or more of the above-described compounds as a monomer component for obtaining the polymer and / or copolymer of the (meth) acrylic acid ester or Two or more types can be used.

上記重合性単量体の含有量としては特に限定されず、例えば、上記電離放射線硬化性組成物の全量100質量%に対し、0.1〜50質量%であることが好適である。この範囲内に設定することにより、硬化性組成物の粘度の低減や硬化速度の向上といった作用効果を充分に得ることが可能となる。 It does not specifically limit as content of the said polymerizable monomer, For example, it is suitable that it is 0.1-50 mass% with respect to 100 mass% of whole quantity of the said ionizing radiation-curable composition. By setting within this range, it is possible to sufficiently obtain the effects such as reduction of the viscosity of the curable composition and improvement of the curing rate.

上記電離放射線硬化性組成物としてはまた、重合性オリゴマーを含んでいてもよく、この場合には、硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物の靭性の向上といった作用効果を得ることができる。
このような重合性オリゴマーとしては、例えば、下記の化合物等の1種又は2種以上を使用することができる。
飽和若しくは不飽和の多塩基酸又はその無水物酸(例えば、マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸等)と、飽和又は不飽和の多価アルコール(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールベンゼン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等)と、(メタ)アクリル酸との反応で得られるポリエステル(メタ)アクリレート;
多官能エポキシ化合物(例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキセニル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート等)と、(メタ)アクリル酸との反応で得られるエポキシ(メタ)アクリレート;
The ionizing radiation curable composition may also contain a polymerizable oligomer. In this case, an effect of improving the toughness of a cured product obtained by curing the curable composition can be obtained. .
As such a polymerizable oligomer, 1 type (s) or 2 or more types, such as the following compound, can be used, for example.
A saturated or unsaturated polybasic acid or anhydride thereof (eg, maleic acid, succinic acid, adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, etc.) and a saturated or unsaturated polyhydric alcohol ( For example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, 1,4-dimethylolbenzene Polyester (meth) acrylate obtained by reaction of (meth) acrylic acid with trimethylolpropane, pentaerythritol, etc .;
Polyfunctional epoxy compounds (for example, bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexenyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxylate, hexahydrophthalic acid diglycidyl ether, triglycidyl Epoxy (meth) acrylate obtained by reaction of isocyanurate and the like with (meth) acrylic acid;

多官能オキセタン化合物(例えば、4,4’−ビス[(3−エチニル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビフェニル、1,4−ベンゼンジカルボン酸のビス[(3−エチニル−3−オキセタニル)メチル]エステル、9,9−ビス[2−メチル−4−{2−(3−オキセタニル)}ブトキシフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4[2−{2−(3−オキセタニル)}ブトキシ]エトキシフェニル]フルオレン等)と、(メタ)アクリル酸との反応で得られるオキセタン(メタ)アクリレート;
飽和又は不飽和の多価アルコール(例えば、エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等)と、有機ポリイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等)と、水酸基含有(メタ)アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート等)との反応で得られるポリウレタン(メタ)アクリレート;
ポリシロキサンと(メタ)アクリル酸との反応によって得られるポリシロキサンポリ(メタ)アクリレート;
ポリアミドと(メタ)アクリル酸との反応によって得られるポリアミドポリ(メタ)アクリレート等。
Polyfunctional oxetane compounds (eg, 4,4′-bis [(3-ethynyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] biphenyl, bis [(3-ethynyl-3-oxetanyl) methyl] ester of 1,4-benzenedicarboxylic acid 9,9-bis [2-methyl-4- {2- (3-oxetanyl)} butoxyphenyl] fluorene, 9,9-bis [4 [2- {2- (3-oxetanyl)} butoxy] ethoxyphenyl ] Oxetane (meth) acrylate obtained by reaction of fluorene and the like with (meth) acrylic acid;
Saturated or unsaturated polyhydric alcohol (for example, ethylene glycol, neopentyl glycol, polytetramethylene glycol, polyester polyol, polycaprolactone polyol, etc.) and organic polyisocyanate (for example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, etc.) ) And a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, etc.)) (Meth) acrylate;
Polysiloxane poly (meth) acrylate obtained by reaction of polysiloxane with (meth) acrylic acid;
Polyamide poly (meth) acrylate obtained by reaction of polyamide and (meth) acrylic acid.

上記重合性オリゴマーの含有量としては特に限定されず、例えば、上記電離放射線硬化性組成物の全量100質量%に対し、0.1〜50質量%であることが好適である。この範囲内に設定することにより、硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物の靭性の向上といった作用効果を充分に得ることが可能となる。 It does not specifically limit as content of the said polymeric oligomer, For example, it is suitable that it is 0.1-50 mass% with respect to 100 mass% of whole quantity of the said ionizing radiation-curable composition. By setting within this range, it is possible to sufficiently obtain the effect of improving the toughness of the cured product obtained by curing the curable composition.

上記電離放射線硬化性組成物としては更に、上述した(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体以外の他の重合体を含んでいてもよい。
このような重合体としては、例えば、ポリカーボネート、ポリスチレン、ケイ素樹脂、ポリイミド、ポリアミド、飽和ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、AS樹脂、EVA樹脂等の1種又は2種以上を使用することができる。このような重合体が硬化性組成物中に配合されることにより、硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物の光学特性や力学特性の向上といった作用効果を得ることができる。
The ionizing radiation curable composition may further contain a polymer other than the above-described (meth) acrylic acid ester polymer and / or copolymer.
Examples of such polymers include one or two of polycarbonate, polystyrene, silicon resin, polyimide, polyamide, saturated polyester, polyvinyl acetate, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, AS resin, EVA resin, and the like. The above can be used. By blending such a polymer in the curable composition, it is possible to obtain an effect such as improvement of optical properties and mechanical properties of a cured product obtained by curing the curable composition.

上記他の重合体の含有量としては特に限定されず、例えば、上記電離放射線硬化性組成物の全量100質量%に対し、0.1〜50質量%であることが好適である。この範囲内に設定することにより、硬化性組成物を硬化させて得られる光学特性や力学特性の向上といった作用効果を充分に得ることが可能となる。 It does not specifically limit as content of said other polymer, For example, it is suitable that it is 0.1-50 mass% with respect to 100 mass% of whole quantity of the said ionizing radiation-curable composition. By setting within this range, it is possible to sufficiently obtain the effects such as improvement of optical characteristics and mechanical characteristics obtained by curing the curable composition.

本発明の電離放射線硬化性組成物は、重合開始剤を含むことが好適であり、硬化性組成物中に重合開始剤が配合されることにより、所定の重合開始要因に応じて重合(硬化)が開始されることになる。
上記重合開始剤としては、通常使用されるものを用いればよく、例えば、光重合開始剤や熱重合開始剤等が挙げられる。中でも、少なくとも光重合開始剤を用いることが好適であり、これにより、本発明の硬化性組成物を用いた光学部品等の製造効率が向上され得る。なお、通常の硬化性組成物に光重合開始剤を添加した場合、光重合開始剤の添加に起因して耐光性や可視光の短波長領域の透過率が充分とはならないことがあるが、本発明の硬化性組成物を用いることにより、光重合開始剤の添加量を充分に低減することが可能となるため、耐光性及び可視光の短波長領域がより向上され、光学部材、照明部材、自動車部材等の他、種々の用途により好適なものとすることが可能となる。また、光重合開始剤と熱重合開始剤とを併用してもよく、この場合には、更に光重合開始剤の添加量を低減することができるため、好適である。
The ionizing radiation curable composition of the present invention preferably contains a polymerization initiator. When the polymerization initiator is blended in the curable composition, polymerization (curing) is performed according to a predetermined polymerization initiation factor. Will be started.
What is necessary is just to use what is normally used as said polymerization initiator, For example, a photoinitiator, a thermal-polymerization initiator, etc. are mentioned. Among them, it is preferable to use at least a photopolymerization initiator, and thereby the production efficiency of an optical component or the like using the curable composition of the present invention can be improved. In addition, when a photopolymerization initiator is added to a normal curable composition, light resistance and transmittance in the short wavelength region of visible light may not be sufficient due to the addition of the photopolymerization initiator, By using the curable composition of the present invention, it is possible to sufficiently reduce the amount of photopolymerization initiator added, so that the light resistance and the short wavelength region of visible light are further improved, and an optical member and an illumination member In addition to automobile members, etc., it can be made more suitable for various uses. Moreover, you may use together a photoinitiator and a thermal-polymerization initiator, and since the addition amount of a photoinitiator can be reduced further in this case, it is suitable.

上記光重合開始剤としては特に限定されず、例えば、下記の化合物等の1種又は2種以上を使用することができる。
ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノンオリゴマー等のアセトフェノン類;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類;
It does not specifically limit as said photoinitiator, For example, 1 type (s) or 2 or more types, such as the following compound, can be used.
Diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl Phenylketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2-hydroxy-2-methyl- Acetophenones such as 1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone oligomer; benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether;

ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−N−[2−(1−オキソ−2−プロペニルオキシ)エチル]ベンゼンメタナミニウムブロミド、(4−ベンゾイルベンジル)トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類;
2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−(3−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシ)−3,4−ジメチル−9H−チオキサントン−9−オンメソクロリド等のチオキサントン類;
2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフォンオキサイド類等。
Benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyl-diphenyl sulfide, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4 , 6-trimethylbenzophenone, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyloxy) ethyl] benzenemethananium bromide, (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium chloride, etc. Benzophenones;
2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2- (3-dimethylamino-2-hydroxy) -3,4- Thioxanthones such as dimethyl-9H-thioxanthone-9-one mesochloride;
2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenyl Acyl phosphine oxides such as phosphine oxide.

上記熱重合開始剤としては特に限定されず、例えば、下記の有機過酸化物系開始剤やアゾ系開始剤等の1種又は2種以上を使用することができる。
メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルアセトアセテートパーオキサイド、アセチルアセテートパーオキサイド、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン、p−メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ヘキシルハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、
The thermal polymerization initiator is not particularly limited, and for example, one or more of the following organic peroxide initiators and azo initiators can be used.
Methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, methyl acetoacetate peroxide, acetyl acetate peroxide, 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- Bis (t-hexylperoxy) -cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane 1,1-bis (t-butylperoxy) -cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane, 1,1-bis (t-butylperoxy) butane, 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) pro , P-menthane hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-hexyl hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, α , Α′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t -Butyl peroxide,

2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、イソブチリルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシン酸パーオキサイド、m−トルオイルベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−3−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ−s−ブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、α,α’−ビス(ネオデカノイルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノオエート、 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexyne-3, isobutyryl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide Oxide, succinic acid peroxide, m-toluoylbenzoyl peroxide, benzoyl peroxide, di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di 2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyhexyl peroxydicarbonate, di-3-methoxybutyl peroxydicarbonate, di-s-butyl peroxydicarbonate, di (3-methyl- -Methoxybutyl) peroxydicarbonate, α, α'-bis (neodecanoylperoxy) diisopropylbenzene, cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypi Valet, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate,

2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、t−ブチルパーオキシマレート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメトルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシ−m−トルイルベンゾエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ビス(t−ブチルパーオキシ)イソフタレート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(m−トルイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシアリルモノカーボネート、t−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、3,3´,4,4´−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン等の有機過酸化物系開始剤; 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexa Noate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxyisobutyrate, t-butylperoxymalate, t-butylperoxy-3, 5,5-trimethyl hexanoate, t-butyl peroxylaurate, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-butyl peroxyacetate, t-butyl peroxy Oxy-m-toluylbenzoate, t-butyl par Xylbenzoate, bis (t-butylperoxy) isophthalate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (m-toluylperoxy) hexane, t-hexylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5 -Bis (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxyallyl monocarbonate, t-butyltrimethylsilyl peroxide, 3,3 ', 4,4'-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,3- Organic peroxide initiators such as dimethyl-2,3-diphenylbutane;

2−フェニルアゾ−4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)ジヒドロクロリド、2,2’−アゾビス(2−メチル−N−フェニルプロピオンアミジン)ジヒドロクロリド、2,2’−アゾビス[N−(4−クロロフェニル)−2−メチルプロピオンアミジン]ジヒドリドクロリド、2,2’−アゾビス[N−(4−ヒドロフェニル)−2−メチルプロピオンアミジン]ジヒドロクロリド、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(フェニルメチル)プロピオンアミジン]ジヒドロクロリド、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−プロペニル)プロピオンアミジン]ジヒドロクロリド、2,2’−アゾビス[N−(2−ヒドロキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン]ジヒドロクロリド、2,2’−アゾビス[2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジヒドロクロリド、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジヒドロクロリド、 2-phenylazo-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, 1-[(1-cyano-1-methylethyl) azo] formamide, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2, 2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2- Methylpropionamidine) dihydrochloride, 2,2′-azobis (2-methyl-N-phenylpropionamidine) dihydrochloride, 2,2′-azobis [N- (4-chlorophenyl) -2-methylpropionamidine] dihydride Chloride, 2,2′-azobis [N- (4-hydrophenyl) -2-methylpropionamidine] dihydrochloride, 2 2'-azobis [2-methyl-N- (phenylmethyl) propionamidine] dihydrochloride, 2,2'-azobis [2-methyl-N- (2-propenyl) propionamidine] dihydrochloride, 2,2'- Azobis [N- (2-hydroxyethyl) -2-methylpropionamidine] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (5-methyl-2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2 '-Azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride,

2,2’−アゾビス[2−(4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−ジアゼピン−2−イル)プロパン]ジヒドロクロリド、2,2’−アゾビス[2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン]ジヒドロクロリド、2,2’−アゾビス[2−(5−ヒドロキシ−3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン]ジヒドロクロリド、2,2’−アゾビス[2−[1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル]プロパン]ジヒドロクロリド、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)エチル]プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロパン)、ジメチル−2,2−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)、2,2’−アゾビス[2−(ヒドロキシメチル)プロピオニトリル]等のアゾ系開始剤等。
これらの重合開始剤の中でも、芳香族炭化水素構造を含まないものが好適に用いられ得る。
2,2′-azobis [2- (4,5,6,7-tetrahydro-1H-1,3-diazepin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (3,4) , 5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (5-hydroxy-3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane] dihydrochloride 2,2′-azobis [2- [1- (2-hydroxyethyl) -2-imidazolin-2-yl] propane] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) ) Propane], 2,2'-azobis [2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl] propionamide], 2,2'-azobis [2-methyl-N- [1 , 1-bis (hydroxymethyl) ethyl] propionamide], 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2′-azobis (2-methylpropionamide) 2,2′-azobis (2,4,4-trimethylpentane), 2,2′-azobis (2-methylpropane), dimethyl-2,2-azobis (2-methylpropionate), 4,4 Azo initiators such as' -azobis (4-cyanopentanoic acid), 2,2'-azobis [2- (hydroxymethyl) propionitrile], and the like.
Among these polymerization initiators, those not containing an aromatic hydrocarbon structure can be suitably used.

なお、上記熱重合開始剤とともに、熱重合促進剤を含んでいてもよく、例えば、コバルト、銅、錫、亜鉛、マンガン、鉄、ジルコニウム、クロム、バナジウム、カルシウム、カリウム等の金属石鹸;1級、2級、3級のアミン化合物;4級アンモニウム塩;チオ尿素化合物;ケトン化合物等の1種又は2種以上を使用することができる。中でも、アセチルアセトン、アセト酢酸メチルが好適である。 The thermal polymerization initiator may contain a thermal polymerization accelerator, for example, a metal soap such as cobalt, copper, tin, zinc, manganese, iron, zirconium, chromium, vanadium, calcium, potassium; One kind or two or more kinds of secondary, tertiary amine compounds; quaternary ammonium salts; thiourea compounds; ketone compounds can be used. Of these, acetylacetone and methyl acetoacetate are preferable.

上記重合開始剤の配合量(光重合開始剤と熱重合開始剤との合計量)としては、例えば、上記電離放射線硬化性組成物の全量100質量%に対し、0.001〜10質量%であることが好ましい。0.001質量%未満であると、重合性が充分とはならないおそれがあり、10質量%を超えると、充分な耐光性を発揮できる硬化物を得ることができないおそれがある。より好ましくは、0.001〜5質量%であり、更に好ましくは、0.001〜3質量%であり、特に好ましくは、0.005〜1質量%であり、最も好ましくは、0.01〜0.5質量%である。 The blending amount of the polymerization initiator (total amount of photopolymerization initiator and thermal polymerization initiator) is, for example, 0.001 to 10% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of the ionizing radiation curable composition. Preferably there is. If it is less than 0.001% by mass, the polymerizability may not be sufficient. If it exceeds 10% by mass, a cured product that can exhibit sufficient light resistance may not be obtained. More preferably, it is 0.001-5 mass%, More preferably, it is 0.001-3 mass%, Most preferably, it is 0.005-1 mass%, Most preferably, it is 0.01- 0.5% by mass.

また上記重合開始剤として光重合開始剤と熱重合開始剤とを併用する場合、これらの配合量の質量比(熱重合開始剤/光重合開始剤)としては、例えば、1〜100/1であることが好ましい。熱重合開始剤の割合が1未満であると、より充分に耐候性を向上させることができないおそれがあり、100を超えると、硬化性を充分なものとすることができないおそれがある。より好ましくは、2〜100/1であり、更に好ましくは、2〜50/1であり、より更に好ましくは、2〜30/1であり、特に好ましくは、3〜20/1であり、最も好ましくは、5〜20/1である。 Moreover, when using together a photoinitiator and a thermal polymerization initiator as said polymerization initiator, as mass ratio (thermal polymerization initiator / photoinitiator) of these compounding quantities, it is 1-100 / 1, for example. Preferably there is. If the ratio of the thermal polymerization initiator is less than 1, the weather resistance may not be sufficiently improved, and if it exceeds 100, the curability may not be sufficient. More preferably, it is 2-100 / 1, More preferably, it is 2-50 / 1, More preferably, it is 2-30 / 1, Especially preferably, it is 3-20 / 1, The most Preferably, it is 5-20 / 1.

上記電離放射線硬化性組成物としてはまた、例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、無機充填材、消泡剤、増粘剤、揺変化剤、レベリング剤、ヒンダードアミン系光安定剤、離型剤等の各種添加剤を含んでいてもよく、これらの添加剤は通常の使用形態により用いられ得る。なお、離型剤の選択は、精密な光学材料等を成形する際には重要となる。
上記無機充填材としては、光学特性を損なわないという観点から金属酸化物からなる微粒子が好ましい。上記微粒子に用いられる金属酸化物としては、例えば、ケイ素、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、亜鉛、鉄、アンチモン、スズ、インジウム、セリウム、アルミニウム、タングステン、ニオブ、クロム、ルテニウム、ランタン、イッテルビウム、スカンジウム、イットリウム等の酸化物及びこれらの複合酸化物が挙げられる。粒径は光学特性を損なわない範囲で規定されるが、好ましくは、1nm〜10μmの範囲である。
Examples of the ionizing radiation curable composition include plasticizers, ultraviolet absorbers, antioxidants, inorganic fillers, antifoaming agents, thickeners, thixotropic agents, leveling agents, hindered amine light stabilizers, release agents. Various additives such as a mold may be contained, and these additives can be used according to ordinary usage forms. The selection of the release agent is important when molding a precise optical material or the like.
As said inorganic filler, the microparticles | fine-particles which consist of a metal oxide from a viewpoint that an optical characteristic is not impaired are preferable. Examples of the metal oxide used in the fine particles include silicon, titanium, zirconium, hafnium, zinc, iron, antimony, tin, indium, cerium, aluminum, tungsten, niobium, chromium, ruthenium, lanthanum, ytterbium, scandium, yttrium. And oxides such as these and complex oxides thereof. The particle size is defined in a range that does not impair the optical properties, but is preferably in the range of 1 nm to 10 μm.

上記酸化防止剤としては、特に限定されないが、例えば、リン系酸化防止剤、又は、フェノール系酸化防止剤の1種又は2種以上を使用することができる。
上記フェノール系酸化防止剤としては特に限定されず、例えば、スミライザーGM、スミライザーGS、スミライザーBHT、スミライザーS、スミライザーGA−80、スミライザーWX−R(いずれも商品名、住友化学工業社製);アデカスタブAO−20、アデカスタブAO−30、アデカスタブAO−40、アデカスタブAO−50、アデカスタブAO−60、アデカスタブAO−70、アデカスタブAO−330(いずれも商品名、旭電化工業社製);アンテージDBH、アンテージDAH、アンテージW−400、アンテージW−500(いずれも商品名、川口化学工業社製)、IRGANOX1010、IRGANOX1035、IRGANOX1076、IRGANOX1135(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)等挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、長期間における着色防止効果の高い点で、アデカスタブAO−60、IRGANOX1010を用いることが好ましい。上記フェノール系酸化防止剤の配合量としては、例えば、上記電離放射線硬化性組成物全量100質量%に対し、フェノール系酸化防止剤0.01〜10質量%含むことが好ましい。より好ましくは、0.1〜5質量%である。
Although it does not specifically limit as said antioxidant, For example, the 1 type (s) or 2 or more types of a phosphorus antioxidant or a phenolic antioxidant can be used.
The phenol-based antioxidant is not particularly limited, and for example, Sumilizer GM, Sumilizer GS, Sumilizer BHT, Sumilizer S, Sumilizer GA-80, Sumilizer WX-R (all trade names, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.); AO-20, ADK STAB AO-30, ADK STAB AO-40, ADK STAB AO-50, ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-70, ADK STAB AO-330 (all trade names, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.); ANTAGE DBH, ANTAGE DAH, ANTAGE W-400, ANTAGE W-500 (all trade names, manufactured by Kawaguchi Chemical Industry Co., Ltd.), IRGANOX 1010, IRGANOX 1035, IRGANOX 1076, IRGANOX 1135 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) And the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use ADK STAB AO-60 and IRGANOX1010 because they have a high effect of preventing coloration over a long period of time. As a compounding quantity of the said phenolic antioxidant, it is preferable to contain 0.01-10 mass% of phenolic antioxidants with respect to 100 mass% of said ionizing radiation curable compositions whole quantity, for example. More preferably, it is 0.1-5 mass%.

上記リン系酸化防止剤としては特に限定されず、例えば、アデカスタブPEP−4C、アデカスタブPEP−8、アデカスタブPEP−11C、アデカスタブPEP−24G、アデカスタブPEP−36、アデカスタブHP−10、アデカスタブ2112、アデカスタブ260、アデカスタブ522A、アデカスタブ329K、アデカスタブ1178、アデカスタブ1500、アデカスタブC、アデカスタブ135A、アデカスタブ3010、アデカスタブTPP(いずれも商品名、旭電化工業社製)等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、長期間における着色防止効果の高い点で、アデカスタブ2112を用いることが好ましい。上記リン系酸化防止剤の配合量としては、例えば、上記電離放射線硬化性組成物全量100質量%に対し、リン系酸化防止剤0.01〜10質量%含むことが好ましい。より好ましくは、0.1〜5質量%である。 The phosphorus antioxidant is not particularly limited, and for example, ADK STAB PEP-4C, ADK STAB PEP-8, ADK STAB PEP-11C, ADK STAB PEP-24G, ADK STAB PEP-36, ADK STAB HP-10, ADK STAB 2112 and ADK STAB 260. , Adeka tub 522A, ADEKA STAB 329K, ADEKA STAB 1178, ADEKA STAB 1500, ADEKA STAB C, ADEKA STAB 135A, ADEKA STAB 3010, ADEKA STAB TPP (all trade names, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use ADK STAB 2112 because it has a high effect of preventing coloration over a long period of time. As a compounding quantity of the said phosphorus antioxidant, it is preferable to contain 0.01-10 mass% of phosphorus antioxidant with respect to 100 mass% of said ionizing radiation curable compositions whole quantity, for example. More preferably, it is 0.1-5 mass%.

上記ヒンダードアミン系光安定剤としては特に限定されず、例えば、アデカスタブLA−52、アデカスタブLA−57、アデカスタブLA−62、アデカスタブLA−67、アデカスタブLA−63P、アデカスタブLA−68LD、アデカスタブLA−77、アデカスタブLA−82、アデカスタブLA−87((いずれも商品名、旭電化工業社製);チヌビン111FDL、チヌビン144、チヌビン123、チヌビン292(以上チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、長期間における着色防止効果の高い点で、アデカスタブLA−52、アデカスタブLA−62、チヌビン111FDL、チヌビン292を用いることが好ましい。
上記ヒンダードアミン系光安定剤の配合量としては、例えば、上記電離放射線硬化性組成物全量100質量%に対し、ヒンダードアミン系光安定剤0.01〜10質量%含むことが好ましい。より好ましくは、0.1〜5質量%である。
The hindered amine light stabilizer is not particularly limited. For example, ADK STAB LA-52, ADK STAB LA-57, ADK STAB LA-62, ADK STAB LA-67, ADK STAB LA-63P, ADK STAB LA-68LD, ADK STAB LA-77, Examples include ADK STAB LA-82, ADK STAB LA-87 (all trade names, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.); Tinuvin 111FDL, Tinuvin 144, Tinuvin 123, Tinuvin 292 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.) May be used alone, or two or more of them may be used in combination, and among them, Adeka Stub LA-52, Adeka Stub LA-62, Tinuvin 111FDL, and Tinuvin 292 are used because of high anti-coloring effect over a long period of time. It is preferable.
As a compounding quantity of the said hindered amine light stabilizer, it is preferable to contain 0.01-10 mass% of hindered amine light stabilizers with respect to 100 mass% of said ionizing radiation curable compositions whole quantity, for example. More preferably, it is 0.1-5 mass%.

上記離型剤としては、例えば、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸ナトリウム等の金属石鹸;カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、ミリストレイン酸、パルミトレイン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、12−ヒドロキシステアリン酸、リシノール酸等の脂肪酸;ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール等の高級アルコール;メチルステアレート、ステアリルステアレート、ベヘニルベヘネート、ソルビタンモノステアレート等の脂肪酸エステル;KF96、KF965、KF410、KF412、KF4701、KF54、KS61、KM244F、KS702、KF725、KS707、KS800P(いずれも商品名、信越化学工業社製)等のシリコーン系離型剤;ポリフォックスPF−136A、PF−156A、PF−151N、PF−636、PF−6320、PF−656、PF−6520、PF−651、PF−652、PF−3320(いずれも商品名、オムノバ社製)等のフッ素系界面活性剤等の1種又は2種以上を使用することができる。中でも、充分な透明性を保持したまま離型性を発現できるという観点からは、脂肪酸、高級アルコール、脂肪酸エステル、フッ素系界面活性剤が好適である。 Examples of the mold release agent include metal soaps such as zinc stearate, calcium stearate, magnesium stearate, lithium stearate, barium stearate, sodium stearate; caproic acid, caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid. Fatty acids such as palmitic acid, stearic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, myristoleic acid, palmitoleic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, 12-hydroxystearic acid, ricinoleic acid; lauryl alcohol, stearyl alcohol, Higher alcohols such as behenyl alcohol; fatty acid esters such as methyl stearate, stearyl stearate, behenyl behenate, sorbitan monostearate; KF96, KF965, KF410, KF41 , KF4701, KF54, KS61, KM244F, KS702, KF725, KS707, KS800P (all trade names, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like; Polyfox PF-136A, PF-156A, PF-151N, One or two fluorine surfactants such as PF-636, PF-6320, PF-656, PF-6520, PF-651, PF-652, PF-3320 (all trade names, manufactured by Omninova) or the like More than seeds can be used. Among these, fatty acids, higher alcohols, fatty acid esters, and fluorine-based surfactants are preferable from the viewpoint that release properties can be expressed while maintaining sufficient transparency.

本発明の電離放射線硬化性組成物としては、上述したように上記(メタ)アクリル酸エステル化物(A)を含有することが好適であるが、このような硬化性組成物の製造方法としては特に限定されず、例えば、上記(メタ)アクリル酸エステル化物(A)及び必要に応じてその他の成分を混合することにより得ることができる。また、更に上記(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体を含む硬化性組成物とする場合には、例えば、上記(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体を部分重合することによって(メタ)アクリル系重合体及び/又は共重合体と(メタ)アクリル系単量体との混合物を調製し、この混合物に上記(メタ)アクリル酸エステル化物(A)及び必要に応じてその他の成分を添加することによって製造することができる。更に、官能基を有する(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体を部分重合により調製し、該官能基と反応しうる別の官能基を有するメタクリレートを混合して反応させることによって、上記(メタ)アクリル酸エステル化物(A)、(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体、並びに、必要に応じてその他の成分を含有する混合物を製造してもよい。 As described above, the ionizing radiation curable composition of the present invention preferably contains the (meth) acrylic acid ester (A), and particularly as a method for producing such a curable composition. It is not limited, For example, it can obtain by mixing the said (meth) acrylic ester ester (A) and another component as needed. Further, when a curable composition containing a polymer and / or copolymer of the (meth) acrylic acid ester is used, for example, the polymer and / or copolymer of the (meth) acrylic acid ester is used. A mixture of a (meth) acrylic polymer and / or copolymer and a (meth) acrylic monomer is prepared by partial polymerization, and the (meth) acrylic acid ester (A) and the necessary product are added to this mixture. Depending on the case, it can be produced by adding other components. Furthermore, by preparing a polymer and / or copolymer of a (meth) acrylic acid ester having a functional group by partial polymerization, and mixing and reacting with a methacrylate having another functional group capable of reacting with the functional group The (meth) acrylic acid ester product (A), a polymer and / or copolymer of (meth) acrylic acid ester, and, if necessary, a mixture containing other components may be produced.

本発明の電離放射線硬化性組成物は、上述したように電離放射線エネルギーを用いて硬化することにより硬化物となるが、このような硬化物は、耐光性や透過性、硬化強度等の各種物性に優れることから、例えば、LED封止剤、光ケーブル、光導波路、プリズムシートやレンチキュラーレンズシート等のレンズシート、光学フィルム、光学レンズ等の光学部材、照明カバー、装飾材等の照明部材、ヘッドランプ部品、インパネ部品等の自動車部材等に特に好適に用いることが可能である。これらの中でも、レンズシートとして用いることが好適である。
本発明の電離放射線硬化性組成物を用いたレンズシートとしては、少なくとも基材の一方の面に電離放射線硬化性組成物の硬化物からなる多数のレンズ列又はマイクロレンズアレイを配列したフィルム又はシート状のものであることが好ましい。レンズ列又はマイクロレンズアレイの形状は目的に応じて種々の形状のものが使用される。レンズ列としては、例えば、プリズム形状、レンチキュラーレンズ形状、波型形状等である。レンズ列の断面形状としては、二等辺三角形、不等辺三角形、台形、半円、楕円、多角形等が挙げられる。レンズシートの厚さは0.1〜3mm、レンズ列のピッチは10μm〜0.5mmとすることが好ましい。
上記レンズシートの基材としては、光透過率が高く、屈折率が比較的高い材料を用いたシート又はフィルムであることが好ましく、例えば、ガラス板、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、MS(アクリル−スチレン共重合体)樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、TAC(セルローストリアセテート)、シクロポリオレフィン系樹脂等が挙げられる。基材と電離放射線硬化性組成物の密着性を上げるためにコロナ放電処理やオゾン処理又はプライマー処理等の表面処理を施した基材を用いることが好ましい。
上記レンズシートの製造方法としては、例えば、所定のレンズパターンを形成したレンズ型に電離放射線硬化性組成物を注入し、基材を重ね合わせた後、電離放射線を照射して硬化させ、型から取り出す方法が挙げられる。
上記レンズシートにおいては、必要に応じて基材及び/又は電離放射線硬化性組成物中に酸化防止剤、黄変防止剤、光安定剤、ブルーイング剤、蛍光増白剤、拡散剤、顔料等の添加剤を添加することもできる。
また導光板、光等方拡散性を有する拡散シート、反射型偏光性シート(住友スリーエム社製のDBEF等)等の光学シート・フィルムの少なくとも一方の面に上記レンズシートと同様のレンズ形状を形成させることも好ましい使用形態のひとつである。
The ionizing radiation curable composition of the present invention becomes a cured product by curing using ionizing radiation energy as described above. Such a cured product has various physical properties such as light resistance, transparency, and curing strength. For example, LED sealing agents, optical cables, optical waveguides, lens sheets such as prism sheets and lenticular lens sheets, optical members such as optical films and optical lenses, illumination members such as illumination covers and decorative materials, and headlamps It can be particularly suitably used for automobile parts such as parts and instrument panel parts. Among these, it is preferable to use as a lens sheet.
The lens sheet using the ionizing radiation curable composition of the present invention is a film or sheet in which a large number of lens arrays or microlens arrays made of a cured product of an ionizing radiation curable composition are arranged on at least one surface of a substrate. It is preferable that it is in a shape. The lens array or the microlens array has various shapes depending on the purpose. Examples of the lens array include a prism shape, a lenticular lens shape, and a wave shape. Examples of the cross-sectional shape of the lens array include an isosceles triangle, an unequal triangle, a trapezoid, a semicircle, an ellipse, and a polygon. The thickness of the lens sheet is preferably 0.1 to 3 mm, and the pitch of the lens rows is preferably 10 μm to 0.5 mm.
The substrate of the lens sheet is preferably a sheet or film using a material having a high light transmittance and a relatively high refractive index. For example, a glass plate, an acrylic resin, a polycarbonate resin, polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate. Examples thereof include polyester resins such as phthalates, MS (acryl-styrene copolymer) resins, vinyl chloride resins, polystyrene resins, TAC (cellulose triacetate), and cyclopolyolefin resins. In order to increase the adhesion between the base material and the ionizing radiation curable composition, it is preferable to use a base material that has been subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, ozone treatment or primer treatment.
As a method for producing the lens sheet, for example, an ionizing radiation curable composition is injected into a lens mold in which a predetermined lens pattern is formed, and after overlapping the base material, it is cured by irradiation with ionizing radiation. The method of taking out is mentioned.
In the lens sheet, an antioxidant, an anti-yellowing agent, a light stabilizer, a bluing agent, a fluorescent whitening agent, a diffusing agent, a pigment, etc. in the substrate and / or ionizing radiation curable composition as necessary These additives can also be added.
Also, a lens shape similar to the above lens sheet is formed on at least one surface of an optical sheet or film such as a light guide plate, a light diffusive sheet, a reflective polarizing sheet (such as DBEF manufactured by Sumitomo 3M), etc. It is also one of the preferable usage forms.

本発明の電離放射線硬化性組成物は、上述のような構成からなり、耐光性、透過性及び硬化性の全てを充分に満足し得る硬化物を与えることができ、例えば、光学部材、照明部材、自動車部材等の他、より多くの用途に有用なものである。 The ionizing radiation curable composition of the present invention has the above-described configuration, and can provide a cured product that can sufficiently satisfy all of light resistance, transparency and curability. For example, an optical member, an illumination member In addition to automobile members and the like, it is useful for more applications.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples.

合成例1
(M−1:NPG−2EOのジメタクリレート)
攪拌装置、温度計、コンデンサー、空気と窒素の混合ガス導入管を備えたフラスコに、ネオペンチルグリコールのエチレンオキシド2モル付加物(以下、「NPG−2EO」と略す。)192g、メタクリル酸メチル(以下、「MMA」と略す。)400g、ジブチルスズオキシド(以下、「DBTO」と略す。)3.84g及び4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル(以下、「4H−TEMPO」と略す。)19.2mgを入れて攪拌し、110℃に昇温した。反応によって生成するメタノールのみを留去し、6時間かけてエステル交換反応を行った。得られた反応液からMMAを留去し、ネオペンチルグリコールへのエチレンオキシド2モル付加物のジメタクリレートを得た。これを化合物(M−1)とした。
得られた化合物(M−1)に含まれる硫黄原子の含有率を誘導結合プラズマ分析(Inductively Coupled Plasma:以下、「ICP」と略す。)によって測定したところ、硫黄原子は観測されなかった。
Synthesis example 1
(M-1: NPG-2EO dimethacrylate)
In a flask equipped with a stirrer, thermometer, condenser, air and nitrogen mixed gas introduction tube, 192 g of neopentyl glycol ethylene oxide 2-mole adduct (hereinafter abbreviated as “NPG-2EO”), methyl methacrylate (hereinafter referred to as “NPG-2EO”) , "MMA") 400 g, dibutyltin oxide (hereinafter abbreviated as "DBTO") 3.84 g and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl (hereinafter "4H"). -Abbreviated as “TEMPO”.) 19.2 mg was added and stirred, and the temperature was raised to 110 ° C. Only the methanol produced | generated by reaction was distilled off and transesterification was performed over 6 hours. MMA was distilled off from the obtained reaction liquid, and dimethacrylate of ethylene oxide 2 mol adduct to neopentyl glycol was obtained. This was made into the compound (M-1).
When the content rate of the sulfur atom contained in the obtained compound (M-1) was measured by inductively coupled plasma analysis (hereinafter referred to as “ICP”), no sulfur atom was observed.

合成例2
(M−2:NPG−4EOのジメタクリレート)
攪拌装置、温度計、コンデンサー、空気と窒素の混合ガス導入管を備えたフラスコに、ネオペンチルグリコールのエチレンオキシド4モル付加物(以下、「NPG−4EO」と略す。)280g、MMA400g、DBTO5.60g及び4H−TEMPO28.0mgを入れて攪拌し、110℃に昇温した。反応によって生成するメタノールのみを留去し、6時間かけてエステル交換反応を行った。得られた反応液からMMAを留去し、ネオペンチルグリコールへのエチレンオキシド4モル付加物のジメタクリレートを得た。これを化合物(M−2)とした。
得られた化合物(M−2)に含まれる硫黄原子の含有率をICPによって測定したところ、硫黄原子は観測されなかった。
Synthesis example 2
(M-2: NPG-4EO dimethacrylate)
In a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser, and a mixed gas introduction tube of air and nitrogen, 280 g of neopentyl glycol ethylene oxide 4 mol adduct (hereinafter abbreviated as “NPG-4EO”), MMA 400 g, DBTO 5.60 g And 4H-TEMPO28.0mg was put and stirred, and it heated up at 110 degreeC. Only the methanol produced | generated by reaction was distilled off and transesterification was performed over 6 hours. MMA was distilled off from the obtained reaction liquid, and dimethacrylate of ethylene oxide 4 mol adduct to neopentyl glycol was obtained. This was made into the compound (M-2).
When the content rate of the sulfur atom contained in the obtained compound (M-2) was measured by ICP, the sulfur atom was not observed.

合成例3
(M−3:NPG−6EOのジメタクリレート)
攪拌装置、温度計、コンデンサー、空気と窒素の混合ガス導入管を備えたフラスコに、ネオペンチルグリコールのエチレンオキシド6モル付加物(以下、「NPG−6EO」と略す。)368g、MMA400g、DBTO7.36g及び4H−TEMPO36.8mgを入れて攪拌し、110℃に昇温した。反応によって生成するメタノールのみを留去し、6時間かけてエステル交換反応を行った。得られた反応液からMMAを留去し、ネオペンチルグリコールへのエチレンオキシド6モル付加物のジメタクリレートを得た。これを化合物(M−3)とした。
得られた化合物(M−3)に含まれる硫黄原子の含有率をICPによって測定したところ、硫黄原子は観測されなかった。
Synthesis example 3
(M-3: NPG-6EO dimethacrylate)
A flask equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser, and a mixed gas introduction tube of air and nitrogen was added with 368 g of neopentyl glycol ethylene oxide 6 mol adduct (hereinafter abbreviated as “NPG-6EO”), MMA 400 g, DBTO 7.36 g. 4H-TEMPO 36.8 mg was added and stirred, and the temperature was raised to 110 ° C. Only the methanol produced | generated by reaction was distilled off and transesterification was performed over 6 hours. MMA was distilled off from the resulting reaction solution to obtain dimethacrylate of adduct of 6 mol of ethylene oxide to neopentyl glycol. This was made into the compound (M-3).
When the content rate of the sulfur atom contained in the obtained compound (M-3) was measured by ICP, the sulfur atom was not observed.

合成例4
(M−4:NPG−2EOのジアクリレート)
攪拌装置、温度計、コンデンサー、空気と窒素の混合ガス導入管を備えたフラスコに、NPG−2EO192g、アクリル酸エチル400g、DBTO3.84g及び4H−TEMPO19.2mgを入れて攪拌し、110℃に昇温した。反応によって生成するエタノールのみを留去し、6時間かけてエステル交換反応を行った。得られた反応液からアクリル酸エチルを留去し、ネオペンチルグリコールへのエチレンオキシド2モル付加物のジアクリレートを得た。これを化合物(M−4)とした。
得られた化合物(M−4)に含まれる硫黄原子の含有率をICPによって測定したところ、硫黄原子は観測されなかった。
Synthesis example 4
(M-4: NPG-2EO diacrylate)
NPG-2EO192g, ethyl acrylate 400g, DBTO 3.84g and 4H-TEMPO 19.2mg were put in a flask equipped with a stirrer, thermometer, condenser, and mixed gas introduction tube of air and nitrogen, and the temperature was raised to 110 ° C. Warm up. Only ethanol produced by the reaction was distilled off, and transesterification was carried out over 6 hours. Ethyl acrylate was distilled off from the resulting reaction solution to obtain a diacrylate of an ethylene oxide 2-mol adduct to neopentyl glycol. This was made into the compound (M-4).
When the content rate of the sulfur atom contained in the obtained compound (M-4) was measured by ICP, the sulfur atom was not observed.

合成例5
(M−5:TMP−3EOのトリメタクリレート)
攪拌装置、温度計、コンデンサー、空気と窒素の混合ガス導入管を備えたフラスコに、トリメチロールプロパンのエチレンオキシド3モル付加物(以下、「TMP−3EO」と略す。)266g、MMA600g、DBTO5.32g及び4H−TEMPO26.6mgを入れて攪拌し、110℃に昇温した。反応によって生成するメタノールのみを留去し、6時間かけてエステル交換反応を行った。得られた反応液からMMAを留去し、トリメチロールプロパンへのエチレンオキシド3モル付加物のトリメタクリレートを得た。これを化合物(M−5)とした。
得られた化合物(M−5)に含まれる硫黄原子の含有率をICPによって測定したところ、硫黄原子は観測されなかった。
Synthesis example 5
(M-5: TMP-3EO trimethacrylate)
To a flask equipped with a stirrer, thermometer, condenser, and mixed gas introduction tube of air and nitrogen, trimethylolpropane ethylene oxide 3-mol adduct (hereinafter abbreviated as “TMP-3EO”) 266 g, MMA 600 g, DBTO 5.32 g And 4H-TEMPO26.6mg was put and stirred, and it heated up at 110 degreeC. Only the methanol produced | generated by reaction was distilled off and transesterification was performed over 6 hours. MMA was distilled off from the resulting reaction solution to obtain trimethacrylate of adduct of 3 mol of ethylene oxide to trimethylolpropane. This was made into the compound (M-5).
When the content rate of the sulfur atom contained in the obtained compound (M-5) was measured by ICP, the sulfur atom was not observed.

合成例6
(M−6:NPG−2EOのジメタクリレート(カリウムブトキシド触媒))
攪拌装置、温度計、コンデンサー、空気と窒素の混合ガス導入管を備えたフラスコに、NPG−2EO192g、MMA400g、カリウムt−ブトキシド3.84g及び4H−TEMPO19.2mgを入れて攪拌し、110℃に昇温した。反応によって生成するメタノールのみを留去し、6時間かけてエステル交換反応を行った。得られた反応液からMMAを留去し、水洗によって触媒を除去してネオペンチルグリコールへのエチレンオキシド2モル付加物のジメタクリレートを得た。これを化合物(M−6)とした。
得られた化合物(M−6)に含まれる硫黄原子の含有率をICPによって測定したところ、硫黄原子は観測されなかった。
Synthesis Example 6
(M-6: NPG-2EO dimethacrylate (potassium butoxide catalyst))
NPG-2EO192g, MMA400g, potassium t-butoxide 3.84g and 4H-TEMPO19.2mg were put into a flask equipped with a stirrer, thermometer, condenser, and mixed gas introduction tube of air and nitrogen, and stirred at 110 ° C. The temperature rose. Only the methanol produced | generated by reaction was distilled off and transesterification was performed over 6 hours. MMA was distilled off from the resulting reaction liquid, and the catalyst was removed by washing with water to obtain dimethacrylate of an ethylene oxide 2-mol adduct to neopentyl glycol. This was made into the compound (M-6).
When the content rate of the sulfur atom contained in the obtained compound (M-6) was measured by ICP, the sulfur atom was not observed.

合成例7
(M−7:1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート)
攪拌装置、温度計、コンデンサー、空気と窒素の混合ガス導入管を備えたフラスコに、1,6−ヘキサンジオール118g、MMA400g、DBTO2.36g及び4H−TEMPO11.8mgを入れて攪拌し、110℃に昇温した。反応によって生成するメタノールのみを留去し、6時間かけてエステル交換反応を行った。得られた反応液からMMAを留去し、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレートを得た。これを化合物(M−7)とした。
得られた化合物(M−7)に含まれる硫黄原子の含有率をICPによって測定したところ、硫黄原子は観測されなかった。
Synthesis example 7
(M-7: 1,6-hexanediol dimethacrylate)
In a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser, and a mixed gas introduction tube of air and nitrogen, 118 g of 1,6-hexanediol, 400 g of MMA, 2.36 g of DBTO and 11.8 mg of 4H-TEMPO were added and stirred, and the mixture was heated to 110 ° C. The temperature rose. Only the methanol produced | generated by reaction was distilled off and transesterification was performed over 6 hours. MMA was distilled off from the resulting reaction solution to obtain 1,6-hexanediol dimethacrylate. This was made into the compound (M-7).
When the content rate of the sulfur atom contained in the obtained compound (M-7) was measured by ICP, the sulfur atom was not observed.

合成例8
(M−8:NPGジメタクリレート)
攪拌装置、温度計、コンデンサー、空気と窒素の混合ガス導入管を備えたフラスコに、十分に脱水したネオペンチルグリコール135g、MMA400g、カリウムt−ブトキシド1.35g及び4H−TEMPO13.5mgを入れて攪拌し、110℃に昇温した。反応によって生成するメタノールのみを留去し、4時間かけてエステル交換反応を行った。得られた反応液から未反応のMMAを留去した後、水洗によって未反応のネオペンチルグリコール、ネオペンチルグリコールモノメタクリレート及び触媒を除去してネオペンチルグリコールジメタクリレートを得た。これを化合物(M−8)とした。
得られた化合物(M−8)に含まれる硫黄原子の含有率をICPによって測定したところ、硫黄原子は観測されなかった。
Synthesis example 8
(M-8: NPG dimethacrylate)
In a flask equipped with a stirrer, thermometer, condenser, and mixed gas introduction tube of air and nitrogen, 135 g of fully dehydrated neopentyl glycol, 400 g of MMA, 1.35 g of potassium t-butoxide and 13.5 mg of 4H-TEMPO were stirred. The temperature was raised to 110 ° C. Only methanol produced by the reaction was distilled off, and transesterification was carried out over 4 hours. After removing unreacted MMA from the obtained reaction solution, unreacted neopentyl glycol, neopentyl glycol monomethacrylate and catalyst were removed by washing with water to obtain neopentyl glycol dimethacrylate. This was made into the compound (M-8).
When the content rate of the sulfur atom contained in the obtained compound (M-8) was measured by ICP, the sulfur atom was not observed.

合成例9
(M−9:パラトルエンスルホン酸を用いて脱水縮合で合成したNPG−2EOのジメタクリレート)
攪拌装置、温度計、コンデンサー、空気と窒素の混合ガス導入管を備えたフラスコに、NPG−2EO192g、メタクリル酸(以下、「MAA」と略す。)189g、p−トルエンスルホン酸(以下、「PTS」と略す。)7.5g、トルエン50g及び4H−TEMPO19.2mgを入れて攪拌し、110℃に昇温した。反応によって生成する水を留去し、6時間かけて脱水エステル化反応を行った。反応終了後、水洗、静置し水層部を分離する操作を3回繰り返し、加熱減圧によってトルエン及び未反応のMAAを除去してネオペンチルグリコールへのエチレンオキシド2モル付加物のジメタクリレートを得た。これを化合物(M−9)とした。
得られた化合物(M−9)に含まれる硫黄原子の含有率をICPによって測定したところ、硫黄原子含有率は400ppmであった。
Synthesis Example 9
(M-9: NPG-2EO dimethacrylate synthesized by dehydration condensation using para-toluenesulfonic acid)
In a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser, and a mixed gas introduction tube of air and nitrogen, 192 g of NPG-2EO, 189 g of methacrylic acid (hereinafter abbreviated as “MAA”), p-toluenesulfonic acid (hereinafter “PTS”) Abbreviated as “.) 7.5 g, 50 g of toluene and 19.2 mg of 4H-TEMPO were added and stirred, and the temperature was raised to 110 ° C. Water generated by the reaction was distilled off, and dehydration esterification reaction was performed over 6 hours. After completion of the reaction, the operation of washing with water and allowing to stand and separating the aqueous layer portion was repeated three times, and toluene and unreacted MAA were removed by heating and depressurization to obtain dimethacrylate of ethylene oxide 2 mol adduct to neopentyl glycol. . This was made into the compound (M-9).
When the content rate of the sulfur atom contained in the obtained compound (M-9) was measured by ICP, the sulfur atom content rate was 400 ppm.

合成例10
(P−1)
攪拌装置、温度計、コンデンサー、窒素ガス導入管を備えたフラスコに、MMA190g、MAA8.6g、トルエン463gを入れて窒素置換し、70℃に昇温した。次に2,2´−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬社製、V−65)0.99gをトルエン50gで希釈した溶液を発熱に注意しながらゆっくり滴下した。70℃で3時間反応を行った後、90℃で2時間反応を行ってラジカル重合を完結させた。
次に、メトキノン0.68g、メタクリル酸グリシジル156g、テトラフェニルホスフォニウムブロミド2.71gを添加して、空気と窒素との混合ガスを吹き込みながら100℃に昇温し、酸価が5以下になるまで反応を行った。得られたポリマー溶液をn−ヘキサンで再沈後、減圧にてn−ヘキサンを除去して化合物(P−1)得た。
得られた化合物(P−1)の分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)にて測定したところ、数平均分子量(Mn)は35000、重量平均分子量(Mw)は78000であった。
また得られた化合物(P−1)に含まれる硫黄原子の含有率をICPによって測定したところ、硫黄原子は観測されなかった。
Synthesis Example 10
(P-1)
MMA 190g, MAA 8.6g and toluene 463g were put into a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser and a nitrogen gas introduction tube, and the temperature was raised to 70 ° C. Next, a solution obtained by diluting 0.99 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., V-65) with 50 g of toluene was slowly added dropwise while paying attention to heat generation. After reacting at 70 ° C. for 3 hours, the reaction was performed at 90 ° C. for 2 hours to complete radical polymerization.
Next, 0.68 g of methoquinone, 156 g of glycidyl methacrylate, and 2.71 g of tetraphenylphosphonium bromide are added, and the temperature is raised to 100 ° C. while blowing a mixed gas of air and nitrogen, so that the acid value becomes 5 or less. The reaction was continued until The obtained polymer solution was reprecipitated with n-hexane, and then n-hexane was removed under reduced pressure to obtain compound (P-1).
When the molecular weight of the obtained compound (P-1) was measured by gel permeation chromatography (GPC), the number average molecular weight (Mn) was 35000, and the weight average molecular weight (Mw) was 78000.
Moreover, when the content rate of the sulfur atom contained in the obtained compound (P-1) was measured by ICP, the sulfur atom was not observed.

実施例1〜8、比較例1〜6
表1、2に示す配合により、実施例1〜8及び比較例1〜6の電離放射線硬化性組成物を調整した。この組成物を調整する際には、まず、各成分を95℃にて充分に加熱混合し、均一な溶液とした後、常温まで冷却することにより、各成分が良好に相溶した透明な組成物を調整した。得られた電離放射線硬化性組成物のそれぞれについて、上述したようにして、組成物中のエーテル基含有量(質量%)、組成物中のスルホン酸誘導体含有率(ppm)、鉛筆硬度、波長380nmでの初期光線透過率、並びに、促進耐光性試験200時間及び300時間後の光線透過率保持率を求めた。結果を表1、2に示す。
Examples 1-8, Comparative Examples 1-6
The ionizing radiation curable compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6 were prepared according to the formulations shown in Tables 1 and 2. When preparing this composition, first, each component is sufficiently heated and mixed at 95 ° C. to obtain a uniform solution, and then cooled to room temperature, so that each component is well compatible with each other. I adjusted things. For each of the obtained ionizing radiation curable compositions, as described above, the ether group content (% by mass) in the composition, the sulfonic acid derivative content (ppm) in the composition, the pencil hardness, and the wavelength of 380 nm. And the light transmittance retention after 200 hours and 300 hours of the accelerated light resistance test were obtained. The results are shown in Tables 1 and 2.

実施例9〜16
表1に示す配合により、実施例9〜16の電離放射線硬化性組成物を調整した。この組成物を調整する際には、まず、各成分を95℃にて充分に加熱混合し、均一な溶液とした後、常温まで冷却することにより、各成分が良好に相溶した透明な組成物を調整した。得られた電離放射線硬化性組成物のそれぞれについて、上述したようにして、組成物中のエーテル基含有量(質量%)、組成物中のスルホン酸誘導体含有率(ppm)、鉛筆硬度、波長380nmでの初期光線透過率、並びに、促進耐光性試験200時間及び300時間後の光線透過率保持率を求めた。結果を表1に示す。
Examples 9-16
The ionizing radiation curable compositions of Examples 9 to 16 were prepared according to the formulation shown in Table 1. When preparing this composition, first, each component is sufficiently heated and mixed at 95 ° C. to obtain a uniform solution, and then cooled to room temperature, so that each component is well compatible with each other. I adjusted things. For each of the obtained ionizing radiation curable compositions, as described above, the ether group content (% by mass) in the composition, the sulfonic acid derivative content (ppm) in the composition, the pencil hardness, and the wavelength of 380 nm. And the light transmittance retention after 200 hours and 300 hours of the accelerated light resistance test were obtained. The results are shown in Table 1.

Figure 2007084788
Figure 2007084788

Figure 2007084788
Figure 2007084788

表1、2中の記載は以下の通りである。
「PMMA」:ポリメタクリル酸メチル(商品名「スミペックスLG−6A」、住友化学工業社製)
「D−1173」:2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(光重合開始剤、商品名「ダロキュア1173」、チバ スペシャリティ ケミカルズ社製)
「PEG400」:平均分子量400のポリエチレングリコール(和光純薬工業社製)
「※注」:硬化物がゲル状(硬化不充分)であるため測定できなかったことを示す。
The descriptions in Tables 1 and 2 are as follows.
“PMMA”: polymethyl methacrylate (trade name “SUMIPEX LG-6A”, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
“D-1173”: 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (photopolymerization initiator, trade name “Darocur 1173”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
“PEG400”: Polyethylene glycol having an average molecular weight of 400 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
“* Note”: Indicates that the cured product was gel-like (insufficiently cured) and could not be measured.

表1及び2中、実施例1〜16と比較例3及び5とでは、初期光線透過率に大きな差がみられる。すなわち、実施例1〜16では初期光線透過率が80%以上であるのに対し、比較例3及び5では、初期光線透過率が50及び55%である。実施例1〜15の電離放射線硬化性組成物は、エーテル構造を(メタ)アクリル酸エステル化物中に有するものである。一方、比較例3及び5の電離放射線硬化性組成物は、エーテル構造が(メタ)アクリル酸エステル化物中に存在しないものである。このことから、エーテル構造含有化合物に(メタ)アクリロイル基があることにより透過率をより充分に向上させることができることがいえる。比較例3及び5においては、(メタ)アクリロイル基がないエーテル構造含有化合物は硬化時に相分離して透過率を落とすと考えられる。 In Tables 1 and 2, Examples 1-16 and Comparative Examples 3 and 5 show a large difference in initial light transmittance. That is, in Examples 1 to 16, the initial light transmittance is 80% or more, while in Comparative Examples 3 and 5, the initial light transmittance is 50 and 55%. The ionizing radiation curable compositions of Examples 1 to 15 have an ether structure in the (meth) acrylic acid ester. On the other hand, in the ionizing radiation curable compositions of Comparative Examples 3 and 5, the ether structure does not exist in the (meth) acrylic acid ester. From this, it can be said that the transmittance can be more sufficiently improved by the presence of the (meth) acryloyl group in the ether structure-containing compound. In Comparative Examples 3 and 5, it is considered that an ether structure-containing compound having no (meth) acryloyl group is phase-separated at the time of curing to lower the transmittance.

実施例17(レンズシートの実施例)
断面形状が頂角90度の二等辺三角形であるプリズム列をピッチ50μmにて切削したプリズムシート作成用レンズ型を用意し、実施例9に示した配合にて作成した組成物を型に注入し、厚さ200μmのアクリル樹脂シートで覆って、ロールで均一に展延した。
上記硬化物(試験片)の作成と同様に照射強度43mJ/cm・秒の紫外線を46.5秒照射して充分硬化させた後、型から取り出してプリズムシートを作成した。
図1のような光源、光源リフレクタ、反射板、導光板、拡散シートを配置した液晶バックライト用装置に上記プリズムシートを載置し、出射光の正面輝度を測定した後、上記プリズムシートについて同様に超エネルギー照射試験機を用いて照射強度90mW/cm、波長295〜450nm、湿度70%Rh、温度50℃にて促進耐光性試験を200時間実施した。試験後のプリズムシートを上記液晶バックライト用装置に載置し、出射光の正面輝度を測定したところ、輝度は試験前と全く変化がなかった。また、試験後のプリズムシートに黄変は全く見られなかった。
Example 17 (Example of lens sheet)
Prepare a prism sheet-making lens mold by cutting a prism array whose cross-sectional shape is an isosceles triangle having an apex angle of 90 degrees at a pitch of 50 μm, and inject the composition prepared by the formulation shown in Example 9 into the mold. Then, it was covered with an acrylic resin sheet having a thickness of 200 μm and uniformly spread with a roll.
In the same manner as in the preparation of the cured product (test piece), after ultraviolet rays having an irradiation intensity of 43 mJ / cm 2 · second were irradiated for 46.5 seconds and sufficiently cured, the prism sheet was prepared from the mold.
The prism sheet is placed on a liquid crystal backlight device having a light source, a light source reflector, a reflector, a light guide plate, and a diffusion sheet as shown in FIG. 1, and the front luminance of the emitted light is measured. The accelerated light resistance test was conducted for 200 hours at an irradiation intensity of 90 mW / cm 2 , a wavelength of 295 to 450 nm, a humidity of 70% Rh, and a temperature of 50 ° C. using a super energy irradiation tester. The prism sheet after the test was placed on the liquid crystal backlight device and the front luminance of the emitted light was measured. As a result, the luminance was not changed at all. Further, no yellowing was observed on the prism sheet after the test.

実施例17の促進耐光性試験に用いた液晶バックライト用装置を示した概略図である。FIG. 18 is a schematic view showing a liquid crystal backlight device used in an accelerated light resistance test of Example 17.

符号の説明Explanation of symbols

1 光源
2 光源リフレクタ
3 反射板
4 導光板
5 拡散シート
6 プリズムシート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light source 2 Light source reflector 3 Reflector plate 4 Light guide plate 5 Diffusion sheet 6 Prism sheet

Claims (5)

電離放射線エネルギーにて硬化させて用いる硬化性組成物であって、
該電離放射線硬化性組成物は、電離放射線エネルギー2J/cmで硬化させて得られる硬化物が、波長380nmでの初期光線透過率80%以上、かつ促進耐光性試験200時間後の光線透過率保持率90%以上を満たすものである
ことを特徴とする電離放射線硬化性組成物。
A curable composition used by being cured with ionizing radiation energy,
In the ionizing radiation curable composition, a cured product obtained by curing with ionizing radiation energy of 2 J / cm 2 has an initial light transmittance of 80% or more at a wavelength of 380 nm, and a light transmittance after 200 hours of accelerated light resistance test. An ionizing radiation curable composition satisfying a retention rate of 90% or more.
前記電離放射線硬化性組成物は、該硬化性組成物中のスルホン酸(塩)及び/又はスルホン酸エステル含有率が、硫黄分換算で100ppm以下であって、
該硬化性組成物は、芳香族炭化水素構造を有さず、かつ1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物の(メタ)アクリル酸エステル化物を含んでなり、
該(メタ)アクリル酸エステル化物は、下記一般式(1);
Figure 2007084788
(式中、R、R及びRは、同一又は異なって、水素原子、メチル基及びエチル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を表す。但し、R、R及びRの合計炭素原子数は、0〜2である。nは、1〜100の数を表す。)で表されるエーテル構造を有し、
該エーテル構造は、該硬化性組成物100質量%に対して、5質量%以上である
ことを特徴とする請求項1に記載の電離放射線硬化性組成物。
The ionizing radiation curable composition has a sulfonic acid (salt) and / or sulfonic acid ester content in the curable composition of 100 ppm or less in terms of sulfur content,
The curable composition comprises a (meth) acrylic ester of a compound having no aromatic hydrocarbon structure and having two or more hydroxyl groups in one molecule;
The (meth) acrylic ester product is represented by the following general formula (1);
Figure 2007084788
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same or different and represent at least one group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a methyl group and an ethyl group, provided that R 1 , R 2 and The total number of carbon atoms of R 3 is 0 to 2. n represents an ether structure represented by the following formula:
The ionizing radiation curable composition according to claim 1, wherein the ether structure is 5% by mass or more with respect to 100% by mass of the curable composition.
前記芳香族炭化水素構造を有さず、かつ1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物は、水酸基に対してβ−水素を含有しない化合物である
ことを特徴とする請求項2に記載の電離放射線硬化性組成物。
3. The compound according to claim 2, wherein the compound having no aromatic hydrocarbon structure and having two or more hydroxyl groups in one molecule is a compound not containing β-hydrogen with respect to the hydroxyl group. Ionizing radiation curable composition.
前記(メタ)アクリル酸エステル化物は、芳香族炭化水素構造を有さず、かつ1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物に、アルキレンオキシドを付加して得られる化合物の(メタ)アクリル酸エステル化物であり、
該アルキレンオキシドは、エチレンオキシド、プロピレンオキシド及びブチレンオキシドからなる群より選択される少なくとも1種のものである
ことを特徴とする請求項2又は3に記載の電離放射線硬化性組成物。
The (meth) acrylic acid ester product is a (meth) acrylic acid compound obtained by adding alkylene oxide to a compound having no aromatic hydrocarbon structure and having two or more hydroxyl groups in one molecule. An esterified product,
The ionizing radiation-curable composition according to claim 2 or 3, wherein the alkylene oxide is at least one selected from the group consisting of ethylene oxide, propylene oxide, and butylene oxide.
前記電離放射線硬化性組成物は、(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び/又は共重合体を含有する
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の電離放射線硬化性組成物。
The ionizing radiation curable composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the ionizing radiation curable composition contains a polymer and / or copolymer of a (meth) acrylic acid ester.
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