JP2007067056A - Method of manufacturing wiring board - Google Patents

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JP2007067056A JP2005249210A JP2005249210A JP2007067056A JP 2007067056 A JP2007067056 A JP 2007067056A JP 2005249210 A JP2005249210 A JP 2005249210A JP 2005249210 A JP2005249210 A JP 2005249210A JP 2007067056 A JP2007067056 A JP 2007067056A
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Takehiro Yamashita
雄大 山下
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board along with its manufacturing method, in which a conductive pattern layer is efficiently formed in a precision pattern in a simple manufacturing process. <P>SOLUTION: The method of manufacturing a wiring board includes an adhesion process where a base material 1, a photosensitive adhesive layer 2 which is formed on the base material and whose adhesive force degrades under exposure, a base body 4, and a conductive material layer 5 are tightly contacted together; and an exposure process for exposing the photosensitive adhesive layer 2 in pattern, in a specified direction. It also includes a pealing process for separation into a photosensitive adhesive sheet side wiring substrate 8 having a first conductive pattern layer 7 formed on such adhesive region in the photosensitive adhesive layer as not exposed, the base body 4, and a conductive sheet side wiring substrate 10 that contains the conductive material layer 5 and has a second conductive pattern layer 9 formed in such exposure region in the base body as exposed. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機半導体等に用いられる、高精細な導電性パターン層を有する配線基板、およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a wiring board having a high-definition conductive pattern layer used for organic semiconductors and the like, and a method for manufacturing the same.

従来より、有機半導体等に用いられる配線基板の導電性パターン層の形成には、一般的にフォトリソグラフィー法等が用いられている。しかしながら、上記フォトリソグラフィー法においては、基板上へ導電性材料層を全面に形成する工程や、その導電性材料層上にフォトレジスト層を形成する工程、上記フォトレジスト層を露光する工程、上記フォトレジスト層を現像する工程、上記導電性材料層をエッチングする工程等、種々の工程を経る必要があり、製造方法が煩雑であるという問題があった。また、現像時に多量に生じる廃液は有害なものであり、外部に排出するためには処理を行う必要がある等の環境面での問題もあった。
なお、本発明に関する従来技術は見つかっていない。
Conventionally, a photolithography method or the like is generally used to form a conductive pattern layer of a wiring board used for an organic semiconductor or the like. However, in the photolithography method, a step of forming a conductive material layer on the entire surface of the substrate, a step of forming a photoresist layer on the conductive material layer, a step of exposing the photoresist layer, Various processes such as a step of developing the resist layer and a step of etching the conductive material layer need to be performed, and there is a problem that the manufacturing method is complicated. Further, a large amount of waste liquid generated during development is harmful, and there has been a problem in terms of the environment, such as the need to perform processing in order to discharge it to the outside.
In addition, the prior art regarding this invention has not been found.

そこで、簡易な製造工程で高精細なパターン状に効率よく導電性パターン層が形成された配線基板、およびその製造方法の提供が望まれている。   Therefore, it is desired to provide a wiring board on which a conductive pattern layer is efficiently formed in a high-definition pattern with a simple manufacturing process, and a manufacturing method therefor.

本発明は、基材、および上記基材上に形成され、露光により粘着力が低下する感光性粘着剤層を有する感光性粘着シートの上記感光性粘着剤層と、基体、および上記基体上に形成され、導電性材料を含有する導電性材料層を有する導電性シートの上記導電性材料層とを密着させる密着工程と、所定の方向から上記感光性粘着剤層をパターン状に露光する露光工程と、上記基材、上記基材上に形成された上記感光性粘着剤層、および上記導電性材料を含有し、上記感光性粘着剤層のうち露光されていない粘着領域上に形成された第1導電性パターン層を有する感光性粘着シート側配線基板と、上記基体、および上記導電性材料層を含有し、上記基体のうち露光された露光領域上に形成された第2導電性パターン層を有する導電性シート側配線基板とに剥離する剥離工程とを有することを特徴とする配線基板の製造方法を提供する。   The present invention provides a photosensitive adhesive sheet of a photosensitive adhesive sheet having a substrate and a photosensitive adhesive layer formed on the substrate, the adhesive strength of which decreases upon exposure, the substrate, and the substrate. An adhesion step of closely contacting the conductive material layer of the conductive sheet formed and having a conductive material layer containing a conductive material, and an exposure step of exposing the photosensitive adhesive layer in a pattern from a predetermined direction And the substrate, the photosensitive adhesive layer formed on the substrate, and the conductive material, the first formed on the unexposed adhesive region of the photosensitive adhesive layer A photosensitive adhesive sheet-side wiring board having one conductive pattern layer, the base, and the conductive material layer, and a second conductive pattern layer formed on the exposed exposed area of the base. Conductive sheet side wiring base To provide a method of manufacturing a wiring substrate characterized by having a peeling step of peeling and.

本発明においては、上記感光性粘着剤層と導電性材料層とを密着させた状態でパターン状に露光する。これにより、感光性粘着剤層が露光されていない領域においては、感光性粘着剤層が粘着性を有しており、剥離工程において導電性材料層が感光性粘着シート側に付着した状態で剥離される。一方、感光性粘着剤層が露光された領域においては、感光性粘着剤層の粘着力が低下しており、上記剥離工程において、導電性材料層が感光性粘着剤層側に付着せず、基体側に残るものとすることができる。したがって、本発明によれば、露光パターンと反転したパターン状に形成された第1導電性パターン層を有する感光性粘着シート側配線基板、および露光パターンと同様のパターン状に形成された第2導電性パターン層を有する粘着シート側配線基板の2種類の配線基板を同時に製造することができるのである。
また本発明によれば、上記第1導電性パターン層および第2導電性パターン層形成の際に、特別な装置や、複雑な工程等を必要とすることがなく、効率よく簡易な製造工程で配線基板を製造することができる、という利点を有する。
In this invention, it exposes in a pattern shape in the state which contact | adhered the said photosensitive adhesive layer and the electroconductive material layer. Thereby, in the area | region where the photosensitive adhesive layer is not exposed, the photosensitive adhesive layer has adhesiveness, and it peels in the state which the electroconductive material layer adhered to the photosensitive adhesive sheet side in the peeling process. Is done. On the other hand, in the area where the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer is exposed, the adhesive strength of the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer is reduced, and in the peeling step, the conductive material layer does not adhere to the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer side, It can remain on the substrate side. Therefore, according to the present invention, the photosensitive adhesive sheet-side wiring board having the first conductive pattern layer formed in a pattern reverse to the exposure pattern, and the second conductive formed in the same pattern as the exposure pattern. Two types of wiring boards, that is, the pressure-sensitive adhesive sheet-side wiring board having a conductive pattern layer, can be manufactured at the same time.
Further, according to the present invention, when forming the first conductive pattern layer and the second conductive pattern layer, there is no need for a special apparatus or a complicated process, and an efficient and simple manufacturing process. It has the advantage that a wiring board can be manufactured.

また、本発明は、基材と、上記基材上に形成され、露光により粘着力が低下する感光性粘着剤層と、上記感光性粘着剤層上にパターン状に形成された導電性パターン層とを有する配線基板であって、上記感光性粘着剤層は、露光により粘着力が低下した粘着力低下領域と、露光されていない粘着領域とを有し、上記導電性パターン層は、上記粘着領域上に形成されていることを特徴とする配線基板を提供する。   The present invention also includes a substrate, a photosensitive adhesive layer formed on the substrate and having reduced adhesive strength upon exposure, and a conductive pattern layer formed in a pattern on the photosensitive adhesive layer. The photosensitive pressure-sensitive adhesive layer has an adhesive strength-decreasing region where the adhesive strength is reduced by exposure and an unexposed adhesive region, and the conductive pattern layer is the adhesive substrate. Provided is a wiring board which is formed on a region.

本発明によれば、感光性粘着剤層が、粘着力を有する粘着領域と、粘着力が低下した粘着力低下領域とを有していることから、この感光性粘着剤層の粘着性を利用して、導電性パターン層が形成されたものとすることができる。したがって、上記導電性パターン層形成の際に、複雑な工程や特別な装置等が必要とされず、製造効率やコスト等の面から好ましい配線基板とすることができるのである。   According to the present invention, since the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer has a pressure-sensitive adhesive region and a pressure-sensitive adhesive strength reduced region, the adhesive property of this photosensitive pressure-sensitive adhesive layer is utilized. Thus, a conductive pattern layer can be formed. Therefore, when forming the conductive pattern layer, a complicated process, a special apparatus, or the like is not required, and a wiring board that is preferable in terms of manufacturing efficiency, cost, and the like can be obtained.

本発明によれば、導電性パターン層形成の際に、特別な装置や、複雑な工程等を必要とすることがなく、効率よく簡易な製造工程で二種類の配線基板を同時に製造することができるという効果を奏するものである。   According to the present invention, when forming a conductive pattern layer, two kinds of wiring boards can be simultaneously manufactured efficiently and with a simple manufacturing process without requiring a special apparatus or a complicated process. It has the effect of being able to do it.

本発明は、有機半導体等に用いられる、高精細な導電性パターン層を有する配線基板、およびその製造方法に関するものである。以下、それぞれについて説明する。   The present invention relates to a wiring board having a high-definition conductive pattern layer used for organic semiconductors and the like, and a method for manufacturing the same. Each will be described below.

A.配線基板の製造方法
まず、本発明の配線基板の製造方法について説明する。本発明の配線基板の製造方法は、基材、および上記基材上に形成され、露光により粘着力が低下する感光性粘着剤層を有する感光性粘着シートの上記感光性粘着剤層と、基体、および上記基体上に形成され、導電性材料を含有する導電性材料層を有する導電性シートの上記導電性材料層とを密着させる密着工程と、所定の方向から上記感光性粘着剤層をパターン状に露光する露光工程と、上記基材、上記基材上に形成された上記感光性粘着剤層、および上記導電性材料を含有し、上記感光性粘着剤層のうち露光されていない粘着領域上に形成された第1導電性パターン層を有する感光性粘着シート側配線基板と、上記基体、および上記導電性材料層を含有し、上記基体のうち露光された露光領域上に形成された第2導電性パターン層を有する導電性シート側配線基板とに剥離する剥離工程とを有することを特徴とする方法である。
A. First, a method for manufacturing a wiring board according to the present invention will be described. The method for producing a wiring board according to the present invention includes a substrate, the photosensitive adhesive layer of the photosensitive adhesive sheet formed on the substrate and having a photosensitive adhesive layer whose adhesive strength is reduced by exposure, and the substrate. And a step of closely contacting the conductive material layer of the conductive sheet formed on the substrate and having a conductive material layer containing a conductive material, and patterning the photosensitive adhesive layer from a predetermined direction. An exposure step that is exposed to the surface, the substrate, the photosensitive adhesive layer formed on the substrate, and the conductive material, and an adhesive region that is not exposed in the photosensitive adhesive layer A photosensitive adhesive sheet-side wiring board having a first conductive pattern layer formed thereon, the base, and the conductive material layer, the first formed on the exposed exposure area of the base Has two conductive pattern layers A method characterized in that it comprises a peeling step of peeling the conductive sheet side wiring board.

本発明の配線基板の製造方法の一例を、図1を用いて説明する。本発明の配線基板の製造方法は、基材1と、その基材1上に形成された上記感光性粘着剤層2とを有する感光性粘着シート3、および基体4と、その基体4上に形成された上記導電性材料層5とを有する導電性シート6を準備し(図1(a))、感光性粘着シート3の感光性粘着剤層2と、導電性シート6の導電性材料層5とを密着させる密着工程(図1(b))を行う。続いて、上記感光性粘着剤層2に所定の方向から、例えばフォトマスク11等を用いてパターン状に光12を照射する露光工程(図1(c))を行う。次いで、上記基材1、その基材1上に形成された感光性粘着剤層2、感光性粘着剤層2の露光されていない粘着領域(図中、aで示される領域)に形成された第1導電性パターン層7を有する感光性粘着シート側配線基板8と、基体4、およびその基体4のうち、感光性粘着剤層2が露光された露光領域(図中、bで示される領域)に形成された第2導電性パターン層9を有する導電性シート側配線基板10とに剥離する剥離工程(図1(d))を行うものである。   An example of a method for manufacturing a wiring board according to the present invention will be described with reference to FIG. The method for producing a wiring board according to the present invention includes a substrate 1 and a photosensitive adhesive sheet 3 having the photosensitive adhesive layer 2 formed on the substrate 1, a substrate 4, and the substrate 4. A conductive sheet 6 having the formed conductive material layer 5 is prepared (FIG. 1A), and the photosensitive adhesive layer 2 of the photosensitive adhesive sheet 3 and the conductive material layer of the conductive sheet 6 are prepared. 5 is performed (FIG. 1B). Subsequently, an exposure process (FIG. 1C) is performed in which the photosensitive adhesive layer 2 is irradiated with light 12 in a pattern using a photomask 11 or the like from a predetermined direction. Next, the base material 1, the photosensitive adhesive layer 2 formed on the base material 1, and an unexposed adhesive region (region indicated by a in the figure) of the photosensitive adhesive layer 2 were formed. The photosensitive adhesive sheet side wiring board 8 having the first conductive pattern layer 7, the base 4, and the exposed area of the base 4 where the photosensitive adhesive layer 2 is exposed (area indicated by b in the figure) The peeling process (FIG.1 (d)) which peels to the conductive sheet side wiring board 10 which has the 2nd conductive pattern layer 9 formed in FIG.

本発明においては、上記導電性シートの導電性材料層と感光性粘着シートの感光性粘着剤シートの感光性粘着剤層とを密着させた後、上記感光性粘着剤層に対してパターン状に露光を行うことから、感光性粘着剤層には、感光性粘着剤層の粘着力が高く、導電性材料層と接着されている粘着領域と、露光により感光性粘着剤層の粘着力が低下し、導電性材料層との接着力が弱い露光領域とが形成される。そのため、感光性粘着シート側と導電性シート側とに剥離する際、上記粘着領域では導電性材料層が基体から剥離して感光性粘着シート側に付着することとなり、上記露光領域では、基体から導電性材料層が剥離せず、導電性材料層が基体上に残ることとなる。   In this invention, after making the electroconductive material layer of the said electroconductive sheet and the photosensitive adhesive layer of the photosensitive adhesive sheet of a photosensitive adhesive sheet closely_contact | adhere, it is pattern-shaped with respect to the said photosensitive adhesive layer Since the exposure is performed, the photosensitive adhesive layer has a high adhesive strength of the photosensitive adhesive layer, the adhesive area bonded to the conductive material layer, and the adhesive strength of the photosensitive adhesive layer is reduced by the exposure. As a result, an exposure region having a weak adhesive force with the conductive material layer is formed. Therefore, when peeling to the photosensitive adhesive sheet side and the conductive sheet side, the conductive material layer peels off from the substrate in the adhesive region and adheres to the photosensitive adhesive sheet side. The conductive material layer does not peel and the conductive material layer remains on the substrate.

したがって、本発明によれば、露光パターンと反転したパターン状に形成された第1導電性パターン層を有する感光性粘着シート側配線基板、および露光パターンと同様のパターン状に形成された第2導電性パターン層を有する粘着シート側配線基板の2種類の配線基板を同時に製造することができるのである。   Therefore, according to the present invention, the photosensitive adhesive sheet-side wiring board having the first conductive pattern layer formed in a pattern reverse to the exposure pattern, and the second conductive formed in the same pattern as the exposure pattern. Two types of wiring boards, that is, the pressure-sensitive adhesive sheet-side wiring board having a conductive pattern layer, can be manufactured at the same time.

また、本発明においては、上記導電性材料層を第1導電性パターン層と第2導電性パターン層とにパターニングする際、特別な装置や薬品、複雑な工程等が必要ない。したがって、本発明によれば、製造効率やコスト等の面からも好ましい配線基板の製造方法とすることができる。またさらに、本発明によれば、エッチング工程等を行う必要がないことから、導電性材料に薬品に対する耐性等が必要とされず、導電性材料として種々の材料を選択することができる、という利点も有する。
以下、本発明における各工程ごとに詳しく説明する。
Further, in the present invention, when the conductive material layer is patterned into the first conductive pattern layer and the second conductive pattern layer, no special apparatus, chemicals, complicated processes, etc. are required. Therefore, according to this invention, it can be set as the preferable manufacturing method of a wiring board also from surfaces, such as manufacturing efficiency and cost. Furthermore, according to the present invention, since it is not necessary to perform an etching process or the like, the conductive material is not required to have resistance to chemicals and the like, and various materials can be selected as the conductive material. Also have.
Hereinafter, each step in the present invention will be described in detail.

1.密着工程
まず、本発明における密着工程について説明する。本発明の密着工程は、基材、および上記基材上に形成され、露光により粘着力が低下する感光性粘着剤層を有する感光性粘着シートの上記感光性粘着剤層と、基体、および上記基体上に形成され、導電性材料を含有する導電性材料層を有する導電性シートの上記導電性材料層とを密着させる工程である。
1. First, the adhesion process in the present invention will be described. The adhesion step of the present invention includes a substrate, and the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer of the photosensitive pressure-sensitive adhesive sheet having a photosensitive pressure-sensitive adhesive layer formed on the substrate and having reduced adhesive strength upon exposure, the substrate, and the above-mentioned This is a step of closely contacting the conductive material layer of a conductive sheet formed on a substrate and having a conductive material layer containing a conductive material.

本工程は、それぞれ感光性粘着シートおよび導電性シートを準備し、これらの感光性粘着剤層と導電性材料層とを対面させて密着させることにより行うことができる。本発明においては、上記感光性粘着剤層と導電性材料層とを密着させることが可能な方法であれば、その密着方法等は特に限定されるものではない。例えば、感光性粘着シートおよび導電性シートを真空状態で貼り合わせる方法や、感光性粘着シートおよび導電性シートを重ねあわせるだけの方法、また感光性粘着シートと導電性シートとを重ね合わせ、圧力をかける方法等が挙げられる。このような密着方法は、上記感光性粘着シートの形状や、導電性シートの形状、また感光性粘着剤層の種類等に合わせて適宜選択されるが、特に微細な形状に、第1導電性パターン層や第2導電性パターン層を形成する場合には、感光性粘着シートと導電性シートとを重ね合わせて圧着する方法、または感光性粘着シートおよび導電性シートを真空状態で貼り合わせる方法であることが好ましい。これにより、感光性粘着剤層と導電性材料層との密着性を良好なものとすることができ、後述する露光工程において微細なパターン状に露光し、剥離工程を行った場合であっても、感光性粘着シート側配線基板に形成される第1導電性パターンに欠け等のないものとすることができるからである。
以下、本工程に用いられる感光性粘着シート、および導電性シートについてそれぞれ説明する。
This step can be performed by preparing a photosensitive pressure-sensitive adhesive sheet and a conductive sheet, respectively, and bringing the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer and the conductive material layer into contact with each other and closely contacting each other. In the present invention, as long as the photosensitive adhesive layer and the conductive material layer can be adhered to each other, the adhesion method and the like are not particularly limited. For example, a method of laminating a photosensitive adhesive sheet and a conductive sheet in a vacuum state, a method of simply stacking a photosensitive adhesive sheet and a conductive sheet, or a method of superposing a photosensitive adhesive sheet and a conductive sheet and applying pressure. The method of applying etc. is mentioned. Such an adhesion method is appropriately selected according to the shape of the photosensitive pressure-sensitive adhesive sheet, the shape of the conductive sheet, the type of the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer, and the like. When forming the pattern layer or the second conductive pattern layer, a method in which the photosensitive adhesive sheet and the conductive sheet are overlapped and pressure-bonded, or the photosensitive adhesive sheet and the conductive sheet are bonded in a vacuum state. Preferably there is. Thereby, the adhesiveness between the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer and the conductive material layer can be improved, and even when the peeling process is performed by exposing to a fine pattern in the exposure process described later. This is because the first conductive pattern formed on the photosensitive adhesive sheet side wiring substrate can be free from chipping or the like.
Hereinafter, the photosensitive adhesive sheet and conductive sheet used in this step will be described.

(感光性粘着シート)
まず、本発明に用いられる感光性粘着シートについて説明する。本発明に用いられる感光性粘着シートは、基材と、その基材上に形成され、露光により粘着力が低下する感光性粘着剤層を有するものである。このような感光性粘着シートは、例えばロール状であってもよく、また平板状であってもよい。また、本発明においては、上記基材および感光性粘着剤層以外に、例えば基材と感光性粘着剤層との密着性を高めるための密着性向上層等、適宜他の層を有していてもよい。このような感光性粘着シートに用いられる基材、および感光性粘着剤層について以下説明する。
(Photosensitive adhesive sheet)
First, the photosensitive adhesive sheet used for this invention is demonstrated. The photosensitive pressure-sensitive adhesive sheet used in the present invention has a base material and a photosensitive pressure-sensitive adhesive layer which is formed on the base material and whose adhesive strength is reduced by exposure. Such a photosensitive adhesive sheet may be, for example, a roll or a flat plate. Further, in the present invention, in addition to the base material and the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer, other layers such as an adhesion improving layer for improving the adhesion between the base material and the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer are appropriately provided. May be. The base material used for such a photosensitive adhesive sheet and a photosensitive adhesive layer are demonstrated below.

a.感光性粘着剤層
本発明に用いられる感光性粘着剤層としては、導電性材料層に対する粘着力を有しており、後述する露光工程における露光により粘着力が低下する層であればよく、一般的に感光性粘着剤層として用いられる層とすることができる。
a. Photosensitive pressure-sensitive adhesive layer The photosensitive pressure-sensitive adhesive layer used in the present invention may be any layer that has a pressure-sensitive adhesive force to the conductive material layer and whose adhesive strength is reduced by exposure in an exposure step described later. In particular, the layer can be used as a photosensitive adhesive layer.

このような感光性粘着剤層に用いられる材料としては、従来公知のものが広く用いられ得るが、本発明においては特にアクリル系粘着剤が用いられることが好ましい。具体的には、アクリル酸エステルを主たる構成単量体単位とする単独重合体および共重合体から選ばれたアクリル系重合体、またアクリル酸エステルとその他の官能性単量体との共重合体、およびこれらの重合体の混合物等が用いられる。上記アクリル酸エステルとしては、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸ブチル、メタアクリル酸2−エチルヘキシル、メタアクリル酸グリシジル、メタアクリル酸2−ヒドロキシエチル等が挙げられる。また上記のメタクリル酸をアクリル酸に代えたもの等も好ましく使用できる。さらに後述するオリゴマー等との相溶性を高めるため、アクリル酸あるいはメタクリル酸、アクリロニトリル、酢酸ビニル等のモノマーを共重合させてもよい。また本発明においては、上記感光性粘着剤層中に放射線重合性化合物を含ませることによって、後述する露光工程において露光することにより、露光された領域の感光性粘着剤層の粘着力を低下させることができる。このような放射線重合性化合物としては、分子内に光照射によって三次元網状化し得る光重合性炭素ー炭素二重結合を少なくとも2個以上有する低分子量化合物が広く用いられる。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、あるいは1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレート等が用いられる。さらに放射線重合性化合物として、上記のようなアクリレート系化合物のほかに、ウレタンアクリレート系オリゴマーを用いることもできる。ウレタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエステル型またはポリエーテル型等のポリオール化合物と、多価イソシアネート化合物、例えば2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン4,4−ジイソシアネート等とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有するアクリレートあるいはメタクリレート、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレートや2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート等を反応させて得られるものである。このウレタンアクリレート系オリゴマーは、炭素ー炭素二重結合を少なくとも2個以上有する放射線重合性化合物である。また上記ウレタンアクリレート系オリゴマーを放射線重合性化合物として用いる場合には、分子内に光重合性炭素ー炭素二重結合を少なくとも2個以上有する低分子量化合物を用いた場合と比較して、感光性粘着剤層として極めて優れたものが得られる。すなわち感光性粘着剤層の露光前の接着力は十分に大きく、また露光後には接着力が十分に低下して導電性材料層と剥離された後に、導電性材料層上に感光性粘着剤層が残存することのないものとすることができるのである。   As materials used for such a photosensitive pressure-sensitive adhesive layer, conventionally known materials can be widely used. In the present invention, it is particularly preferable to use an acrylic pressure-sensitive adhesive. Specifically, an acrylic polymer selected from a homopolymer and a copolymer having an acrylate ester as a main constituent monomer unit, or a copolymer of an acrylate ester with another functional monomer , And a mixture of these polymers. Examples of the acrylic ester include ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, and the like. Moreover, what replaced said methacrylic acid with acrylic acid can be used preferably. Furthermore, monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, and vinyl acetate may be copolymerized in order to enhance compatibility with the oligomers described later. Moreover, in this invention, by including a radiation polymerizable compound in the said photosensitive adhesive layer, the adhesive force of the photosensitive adhesive layer of the exposed area | region is reduced by exposing in the exposure process mentioned later. be able to. As such a radiation polymerizable compound, a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds that can be three-dimensionally reticulated by light irradiation in the molecule is widely used. Specifically, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, or 1,4-butylene glycol diacrylate 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, commercially available oligoester acrylate, and the like are used. Further, as the radiation polymerizable compound, a urethane acrylate oligomer can be used in addition to the acrylate compound as described above. The urethane acrylate oligomer includes a polyol compound such as a polyester type or a polyether type, and a polyvalent isocyanate compound such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1, A terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting 4-xylylene diisocyanate, diphenylmethane 4,4-diisocyanate, etc. with an acrylate or methacrylate having a hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, 2- By reacting hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, polyethylene glycol acrylate, polyethylene glycol methacrylate, etc. It is as it is. This urethane acrylate oligomer is a radiation-polymerizable compound having at least two carbon-carbon double bonds. In addition, when the urethane acrylate oligomer is used as a radiation-polymerizable compound, it is more sensitive than a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule. An extremely excellent agent layer is obtained. That is, the adhesive strength of the photosensitive adhesive layer before exposure is sufficiently large, and after the exposure, the adhesive strength is sufficiently reduced and peeled off from the conductive material layer, and then the photosensitive adhesive layer is formed on the conductive material layer. It can be assumed that there is no remaining.

なお、上記材料は、後述する導電性シートの基体と導電性材料層との密着力等により適宜選択され、上記基体と導電性材料層との密着力より、感光性粘着剤層と導電性材料層との密着力が高くなるような材料が選択して用いられることとなる。   The material is appropriately selected depending on the adhesive force between the base of the conductive sheet described later and the conductive material layer, and the photosensitive adhesive layer and the conductive material are determined based on the adhesive force between the base and the conductive material layer. A material that has high adhesion to the layer is selected and used.

また、上記感光性粘着剤層の形成方法としては、上記材料を含有する組成物を、例えばコンマコーター、グラビアコータ−、グラビアリバースコーター、3本リバースコーター、スリットリバースコーター、ダイコーター等により後述する基材上に塗布し、乾燥させる方法等とすることができる。   In addition, as a method for forming the photosensitive adhesive layer, a composition containing the above materials will be described later with a comma coater, a gravure coater, a gravure reverse coater, a three reverse coater, a slit reverse coater, a die coater, or the like. A method of applying on a substrate and drying can be used.

このような感光性粘着剤層の膜厚としては、本発明により製造される感光性粘着シート側配線基板の用途等に応じて適宜選択されるものであるが、通常1μm〜100μm程度、中でも3μm〜20μm程度とすることができる。   The film thickness of such a photosensitive pressure-sensitive adhesive layer is appropriately selected according to the use of the photosensitive pressure-sensitive adhesive sheet-side wiring board produced according to the present invention, and is usually about 1 μm to 100 μm, especially 3 μm. It can be set to about ˜20 μm.

b.基材
また、本発明に用いられる基材としては、上記感光性粘着剤層を形成可能なものであれば特に限定されるものではなく、一般的な配線基板に基材として用いられるものを用いることができる。例えば紙基材の樹脂積層板や、ガラス布・ガラス不織布基材の樹脂積層板、セラミック、金属等が挙げられる。
b. Base material The base material used in the present invention is not particularly limited as long as it can form the photosensitive adhesive layer, and those used as a base material for a general wiring board are used. be able to. For example, a resin laminate of a paper substrate, a resin laminate of a glass cloth / glass nonwoven fabric substrate, ceramic, metal and the like can be mentioned.

本発明においては、後述する露光工程における露光が、基材側から行われる場合には、露光の際に照射される光に対して一定以上の透過性を有することが必要とされる。なお、基材の可撓性等については、感光性粘着シート側配線基板の用途等に応じて適宜選択される。   In the present invention, when exposure in an exposure step described later is performed from the substrate side, it is necessary to have a certain level of transparency to the light irradiated during the exposure. In addition, about the flexibility etc. of a base material, it selects suitably according to the use etc. of the photosensitive adhesive sheet side wiring board.

このような基材の膜厚としては、本発明により製造される感光性粘着シート側配線基板の用途等に応じて適宜選択されるものであるが、通常10μm〜300μm程度、中でも50μm〜150μm程度とすることができる。   The film thickness of such a substrate is appropriately selected according to the use of the photosensitive adhesive sheet-side wiring substrate produced according to the present invention, and is usually about 10 μm to 300 μm, and particularly about 50 μm to 150 μm. It can be.

(導電性シート)
次に、本発明に用いられる導電性シートについて説明する。本発明に用いられる導電性シートとしては、基体と、上記基体導電性材料を含有する導電性材料層とを有するものであれば、特に限定されるものではない。このような導電性シートとしては、例えばロール状のものであってもよく、また平板状のものであってもよい。
(Conductive sheet)
Next, the conductive sheet used in the present invention will be described. The conductive sheet used in the present invention is not particularly limited as long as it has a base and a conductive material layer containing the base conductive material. Such a conductive sheet may be, for example, a roll or a flat plate.

本発明に用いられる導電性シートは、上記基体、および導電性材料層以外に、必要に応じて適宜必要な層を有していてもよい。このような層としては、例えば後述する剥離工程において、粘着領域とされる部分に形成される剥離層等が挙げられる。このような剥離層が形成されている場合には、上記剥離工程において、粘着領域の導電性材料層のみを基体から容易に剥離させることが可能となり、高精細に第1導電性パターンや第2導電性パターンを形成することが可能となるからである。また例えば基体と導電性材料層との密着性を向上させるために、露光領域とされる部分に形成される密着性向上層等も挙げられる。この場合、剥離工程において、露光領域の導電性材料層が、基体から剥離されにくいものとすることができ、第1導電性パターンや第2導電性パターンを高精細に形成することができるからである。以下、このような導電性シートに用いられる基体および導電性材料層について説明する。   The conductive sheet used in the present invention may have necessary layers as needed in addition to the base and the conductive material layer. As such a layer, for example, a peeling layer formed in a portion to be an adhesive region in a peeling step to be described later can be cited. When such a release layer is formed, only the conductive material layer in the adhesive region can be easily peeled from the substrate in the release step, and the first conductive pattern and the second conductive layer can be precisely separated. This is because a conductive pattern can be formed. Moreover, in order to improve the adhesiveness of a base | substrate and an electroconductive material layer, the adhesive improvement layer etc. which are formed in the part used as an exposure area | region are mentioned, for example. In this case, in the peeling step, the conductive material layer in the exposed region can be made difficult to peel off from the substrate, and the first conductive pattern and the second conductive pattern can be formed with high definition. is there. Hereinafter, the base | substrate and electroconductive material layer which are used for such an electroconductive sheet are demonstrated.

a.導電性材料層
本発明に用いられる導電性材料層としては、導電性材料を含有する層であり、後述する剥離工程において、上記粘着領域と、露光領域との境界で容易に切断されるものとされる。
a. Conductive material layer The conductive material layer used in the present invention is a layer containing a conductive material, and is easily cut at the boundary between the adhesive region and the exposed region in the peeling step described later. Is done.

このような導電性材料層に含有される導電性材料としては、例えば金、銀、白金等の貴金属や、ニッケルや銅、アルミニウム等の導電率が高い金属材料、またカーボンや導電性高分子材料、電荷移動錯体、イオン導電体等を用いることができ、本発明においては上記の中でもカーボンまたは導電性高分子材料を用いることが、剥離工程における導電性材料層の切断性等の面から好ましい。   Examples of the conductive material contained in such a conductive material layer include noble metals such as gold, silver and platinum, metal materials having high conductivity such as nickel, copper and aluminum, and carbon and conductive polymer materials. , Charge transfer complexes, ionic conductors, and the like can be used, and in the present invention, among these, carbon or a conductive polymer material is preferably used from the viewpoint of the cutting ability of the conductive material layer in the peeling step.

また、上記導電性材料層の形成方法としては、導電性材料層を形成可能な方法であれば、特に限定されるものではなく、一般的な配線基板の製造方法に用いられる導電性材料層の形成方法と同様とすることができる。本発明においては特に、上述した導電性材料の微粒子に、必要に応じて溶媒や添加剤等を加えた組成物を、後述する基体上に塗布して導電性材料層を形成する方法、または上記導電性材料を用いて真空蒸着法により導電性材料層を形成する方法を用いることが好ましい。このような方法を用いることにより、導電性材料層が、後述する剥離工程において、上記粘着領域と露光領域との境界で容易に切断されるものとすることができるからである。   Further, the method for forming the conductive material layer is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the conductive material layer, and the conductive material layer used in a general method for manufacturing a wiring board is not limited. It can be the same as the formation method. In the present invention, in particular, a method of forming a conductive material layer by applying a composition obtained by adding a solvent, an additive, or the like to the above-described fine particles of the conductive material on a substrate to be described later, or the above It is preferable to use a method of forming a conductive material layer by a vacuum vapor deposition method using a conductive material. This is because by using such a method, the conductive material layer can be easily cut at the boundary between the adhesive region and the exposure region in the peeling step described later.

なお、上述したような導電性材料層の膜厚としては、本発明により製造される感光性粘着シート側配線基板や、導電性シート側配線基板の用途、導電性材料の抵抗率等に応じて適宜選択される。   In addition, as the film thickness of the conductive material layer as described above, depending on the photosensitive adhesive sheet side wiring substrate manufactured according to the present invention, the use of the conductive sheet side wiring substrate, the resistivity of the conductive material, and the like. It is selected appropriately.

b.基体
次に、本発明に用いられる基体について説明する。本発明に用いられる基体としては、上記導電性材料層を形成可能なものであれば、特に限定されるものではない。このような基体としては、上述した感光性粘着シートに用いられる基材と同様とすることができる。また、基体の光透過性や可撓性等については、後述する露光工程における露光方向や、導電性シート側配線基板の用途等により適宜選択される。
b. Substrate Next, the substrate used in the present invention will be described. The substrate used in the present invention is not particularly limited as long as the conductive material layer can be formed. Such a substrate can be the same as the substrate used for the photosensitive adhesive sheet described above. Further, the light transmittance and flexibility of the substrate are appropriately selected depending on the exposure direction in the exposure process described later, the use of the conductive sheet side wiring board, and the like.

2.露光工程
次に、本発明における露光工程について説明する。本発明における露光工程は、所定の方向から上記感光性粘着剤層をパターン状に露光する工程である。本工程における感光性粘着剤層の露光方法としては、上記感光性粘着剤層にパターン状に露光することが可能な方法であれば、特に限定されるものではない。このような露光方法としては、例えばフォトマスク等を用い、光を照射する方法や、レーザ等を用いて光を描画照射する方法等とすることができる。
2. Exposure Step Next, the exposure step in the present invention will be described. The exposure process in this invention is a process of exposing the said photosensitive adhesive layer in a pattern form from a predetermined direction. The exposure method of the photosensitive adhesive layer in this step is not particularly limited as long as it is a method capable of exposing the photosensitive adhesive layer in a pattern. As such an exposure method, for example, a method of irradiating light using a photomask or the like, a method of drawing and irradiating light using a laser or the like can be used.

また、光の照射方向としては、上記感光性粘着剤層にパターン状に露光を行い、上記感光性粘着剤層の粘着性をパターン状に低下させることが可能な方向であればよい。このような光の照射方向としては、上記感光性粘着シートの光透過性や、導電性シートの光透過性等に応じて適宜選択される。   Further, the light irradiation direction may be any direction in which the photosensitive adhesive layer is exposed in a pattern and the adhesiveness of the photosensitive adhesive layer can be reduced in a pattern. Such light irradiation direction is appropriately selected according to the light transmittance of the photosensitive adhesive sheet, the light transmittance of the conductive sheet, and the like.

また、本工程の露光に用いられる光としては、上記感光性粘着剤層の粘着力を低下させることが可能な光であれば、特に限定されるものではなく、感光性粘着剤の種類に応じて適宜選択される。通常280nm〜400nm程度の波長を有する紫外光を用いることができる。   The light used for the exposure in this step is not particularly limited as long as it can reduce the adhesive strength of the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer, and depends on the type of the photosensitive pressure-sensitive adhesive. Are appropriately selected. Usually, ultraviolet light having a wavelength of about 280 nm to 400 nm can be used.

なお、本工程における露光時間としては、上記感光性粘着剤層の粘着性を低下させるのに必要な時間とされる。また、本工程における露光パターンについては、感光性粘着シート側配線基板、および導電性シート側配線基板の用途等に応じて適宜選択されることとなる。   In addition, as exposure time in this process, it is set as time required in order to reduce the adhesiveness of the said photosensitive adhesive layer. In addition, the exposure pattern in this step is appropriately selected according to the use of the photosensitive adhesive sheet side wiring substrate and the conductive sheet side wiring substrate.

3.剥離工程
次に、本発明における剥離工程について説明する。本発明における剥離工程は、上記基材、上記基材上に形成された上記感光性粘着剤層、および上記導電性材料を含有し、上記感光性粘着剤層のうち露光されていない粘着領域上に形成された第1導電性パターン層を有する感光性粘着シート側配線基板と、上記基体、および上記導電性材料層を含有し、上記基体のうち露光された露光領域上に形成された第2導電性パターン層を有する導電性シート側配線基板とに剥離する工程である。
3. Next, the peeling process in the present invention will be described. The peeling step in the present invention includes the above-mentioned base material, the above-mentioned photosensitive pressure-sensitive adhesive layer formed on the above-mentioned base material, and the above-mentioned conductive material, and on the unexposed pressure-sensitive adhesive layer of the above-mentioned photosensitive pressure-sensitive adhesive layer. A photosensitive adhesive sheet-side wiring board having a first conductive pattern layer formed on the substrate, the substrate, and the conductive material layer, and a second layer formed on the exposed exposed region of the substrate. This is a step of peeling off the conductive sheet side wiring substrate having the conductive pattern layer.

本工程により、上記導電性材料層は、上記感光性粘着剤層が露光されていない領域であって、感光性粘着剤層が粘着力を有する粘着領域に形成されている部分と、上記感光性粘着剤層が露光され、感光性粘着剤層が粘着性を有しない露光領域に形成されている部分とに切断される。   By this step, the conductive material layer is a region where the photosensitive adhesive layer is not exposed, and the photosensitive adhesive layer is formed in an adhesive region having adhesive force, and the photosensitive property layer. The pressure-sensitive adhesive layer is exposed, and the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer is cut into portions that are formed in an exposed region that does not have adhesiveness.

ここで、上記感光性粘着シート側配線基板と、上記導電性シート側配線基板とに剥離する方法としては、例えば上記感光性粘着シート側配線基板の一部と、上記導電性シート側配線基板の一部とを掴み、反対方向にそれぞれ引っ張る方法や、上記感光性粘着シート側配線基板の全面と、上記導電性シート側配線基板の全面とを掴み、それぞれ反対方向に引っ張る方法等とすることができる。また、上記感光性粘着シート側配線基板、および導電性シート側配線基板のうちいずれか一方を、所定の方向に引っ張る方法等とすることができる。   Here, as a method of peeling the photosensitive adhesive sheet side wiring substrate and the conductive sheet side wiring substrate, for example, a part of the photosensitive adhesive sheet side wiring substrate and the conductive sheet side wiring substrate A method of grasping a part and pulling in the opposite direction, a method of grasping the entire surface of the photosensitive adhesive sheet side wiring substrate and the entire surface of the conductive sheet side wiring substrate, and pulling in the opposite direction, etc. it can. Moreover, it can be set as the method of pulling any one of the said photosensitive adhesive sheet side wiring board and a conductive sheet side wiring board in a predetermined direction.

4.その他
本発明においては、上記密着工程、露光工程、および剥離工程以外にも必要に応じて、例えば感光性粘着シートを形成する工程や、導電性シートを形成する工程等、必要に応じて適宜有していてもよい。
4). Other In the present invention, in addition to the adhesion step, the exposure step, and the peeling step, if necessary, for example, a step of forming a photosensitive adhesive sheet, a step of forming a conductive sheet, etc. You may do it.

なお、本発明においては、上記感光性粘着シート側配線基板、および上記導電性シート側配線基板をそれぞれ配線基板として使用することが可能である。また、本発明により製造された感光性粘着シート側配線基板、および導電性シート側配線基板は、例えば有機半導体やトランジスタ等、種々の用途に用いることが可能である。   In the present invention, the photosensitive adhesive sheet side wiring board and the conductive sheet side wiring board can each be used as a wiring board. Moreover, the photosensitive adhesive sheet side wiring board manufactured by this invention and the electroconductive sheet side wiring board can be used for various uses, such as an organic semiconductor and a transistor, for example.

B.配線基板
次に、本発明の配線基板の製造方法について説明する。本発明の配線基板は、基材と、上記基材上に形成され、露光により粘着力が低下する感光性粘着剤層と、上記感光性粘着剤層上にパターン状に形成された導電性パターン層とを有する配線基板であって、上記感光性粘着剤層は、露光により粘着力が低下した粘着力低下領域と、露光されていない粘着領域とを有し、上記導電性パターン層は、上記粘着領域上に形成されていることを特徴とするものである。
B. Next, a method for manufacturing a wiring board according to the present invention will be described. The wiring board of the present invention includes a base material, a photosensitive adhesive layer formed on the base material, the adhesive strength of which is reduced by exposure, and a conductive pattern formed in a pattern on the photosensitive adhesive layer. The photosensitive adhesive layer has an adhesive strength-reduced region where the adhesive strength is reduced by exposure, and an unexposed adhesive region, and the conductive pattern layer is It is formed on the adhesive region.

本発明の配線基板は、例えば図2に示すように、基材1と、その基材1上に形成された感光性粘着剤層2と、その感光性粘着剤層2上に形成された導電性パターン層21とを有する配線基板であって、上記感光性粘着剤層2は、露光され、粘着力が低下した粘着力低下領域22と、露光されておらず、粘着力を有する粘着領域23とを有し、上記導電性パターン層21は、上記粘着領域23上に形成されているものである。   For example, as shown in FIG. 2, the wiring board of the present invention includes a base material 1, a photosensitive adhesive layer 2 formed on the base material 1, and a conductive material formed on the photosensitive adhesive layer 2. The photosensitive adhesive layer 2 is exposed to a reduced adhesive strength region 22 where the adhesive strength is reduced, and is not exposed to an adhesive region 23 having an adhesive strength. The conductive pattern layer 21 is formed on the adhesive region 23.

本発明によれば、感光性粘着剤層が、粘着力を有する粘着領域と、粘着力が低下した粘着力低下領域とを有していることから、この感光性粘着剤層の粘着性を利用して、導電性パターン層が形成されたものとすることができる。したがって、上記導電性パターン層形成の際に、複雑な工程や特別な装置等が必要とされず、製造効率やコスト等の面から好ましい配線基板とすることができるのである。またさらに、本発明によれば、導電性パターン層が形成される際、エッチング工程等が行われないことから、導電性材料に薬品に対する耐性等が必要とされず、種々の導電性材料を含む導電性パターンを有する配線基板とすることができる、という利点も有する。以下、本発明の各構成ごとに詳しく説明する。   According to the present invention, since the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer has a pressure-sensitive adhesive region and a pressure-sensitive adhesive strength reduced region, the adhesive property of this photosensitive pressure-sensitive adhesive layer is utilized. Thus, a conductive pattern layer can be formed. Therefore, when forming the conductive pattern layer, a complicated process, a special apparatus, or the like is not required, and a wiring board that is preferable in terms of manufacturing efficiency, cost, and the like can be obtained. Furthermore, according to the present invention, when the conductive pattern layer is formed, the etching process or the like is not performed. Therefore, the conductive material does not need chemical resistance or the like, and includes various conductive materials. There is also an advantage that it can be a wiring board having a conductive pattern. Hereinafter, each configuration of the present invention will be described in detail.

1.感光性粘着剤層
まず、本発明に用いられる感光性粘着剤層について説明する。本発明に用いられる感光性粘着剤層は、露光により粘着力が低下するものであって、露光により粘着力が低下した粘着力低下領域と、露光されていない粘着領域とを有するものである。ここで、上記粘着力低下領域とは、感光性粘着剤層において、露光されることにより粘着性が低下した領域であり、後述する導電性パターン層を形成する導電性材料と接着性を有しない程度、粘着性が低下している領域をいうこととする。また、上記粘着領域とは、感光性粘着剤層において、露光されておらず、粘着性を有する領域をいうこととする。
1. Photosensitive adhesive layer First, the photosensitive adhesive layer used in the present invention will be described. The photosensitive adhesive layer used in the present invention has an adhesive strength that is reduced by exposure, and has an adhesive strength reduced region in which the adhesive strength has been reduced by exposure, and an unexposed adhesive region. Here, the adhesive strength-decreasing region is a region where the adhesiveness is reduced by exposure in the photosensitive adhesive layer, and does not have adhesiveness with the conductive material forming the conductive pattern layer described later. The area where the degree of adhesiveness is reduced is said. Moreover, the said adhesion area | region shall say the area | region which is not exposed in the photosensitive adhesive layer and has adhesiveness.

このような感光性粘着剤層としては、露光により粘着力が低下する粘着剤層を用いることができ、一般的に感光性粘着剤層として用いられる層と同様とすることができる。具体的には、「A.配線基板の製造方法」の項で説明したもの等と同様のものとすることができる。   As such a photosensitive adhesive layer, an adhesive layer whose adhesive strength is reduced by exposure can be used, and it can be the same as a layer generally used as a photosensitive adhesive layer. Specifically, it may be the same as that described in the section of “A. Manufacturing method of wiring board”.

また上記粘着領域、および粘着力低下領域の形成は、感光性粘着剤層に対して、フォトマスク等を用いて露光する方法や、レーザ等を用いて感光性粘着剤層に光を描画照射する方法等が挙げられる。このような露光に用いられる光等については、上述した「A.配線基板の製造方法」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。   In addition, the above-mentioned adhesive region and the adhesive strength-decreasing region are formed by exposing the photosensitive adhesive layer to light using a photomask or the like, or irradiating the photosensitive adhesive layer with light using a laser or the like. Methods and the like. The light and the like used for such exposure can be the same as that described in the above-mentioned section “A. Method of manufacturing a wiring board”, and thus detailed description thereof is omitted here.

このような感光性粘着剤層の膜厚としては、本発明により製造される感光性粘着シート側配線基板の用途等に応じて適宜選択されるものであるが、通常1μm〜100μm程度、中でも1μm〜30μm程度とすることができる。   The film thickness of such a photosensitive pressure-sensitive adhesive layer is appropriately selected according to the use of the photosensitive pressure-sensitive adhesive sheet-side wiring board produced according to the present invention, and is usually about 1 μm to 100 μm, and more preferably 1 μm. It can be set to about 30 μm.

2.導電性パターン層
次に、本発明に用いられる導電性パターン層について説明する。本発明に用いられる導電性パターン層は、導電性材料を含有する層であって、上記感光性粘着剤層の粘着パターン上に形成されているものである。
2. Next, the conductive pattern layer used in the present invention will be described. The conductive pattern layer used in the present invention is a layer containing a conductive material, and is formed on the adhesive pattern of the photosensitive adhesive layer.

本発明においては、上記導電性パターン層は、導電性材料を含有し、かつ導電性を有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えば「A.配線基板の製造方法」の導電性材料層の項で説明したものと同様の材料を含有するものとすることができる。   In the present invention, the conductive pattern layer is not particularly limited as long as it contains a conductive material and has conductivity. For example, the conductive pattern layer has a conductive property of “A. Method of manufacturing a wiring board”. The same material as that described in the section of the material layer can be contained.

このような導電性パターン層の形成方法としては、特に限定されるものではなく、例えば上記粘着領域および粘着力低下領域が形成された感光性粘着剤層上に、上記導電性材料を含有する導電性材料層を密着させた後、この導電性材料層を剥離することにより、上記粘着領域上にのみ導電性材料層を付着させて形成したもの等であってもよい。本発明においては、特に「A.配線基板の製造方法」で説明したように、全面に粘着性を有する感光性粘着剤層と、基体および導電性材料層を有する導電性シートの導電性材料層とを密着させた後、感光性粘着剤層を露光して粘着領域および粘着力低下領域を形成させ、導電性シートを剥離することにより導電性パターン層を形成する方法とすることが好ましい。これにより、感光性粘着剤層側だけでなく、剥離された導電性シート側にも、導電性パターン層が形成されたものとすることができ、導電性シート側も配線基板として用いることが可能となるからである。   The method for forming such a conductive pattern layer is not particularly limited. For example, a conductive material containing the conductive material is formed on the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer in which the adhesive region and the adhesive strength-decreasing region are formed. The conductive material layer may be formed by attaching the conductive material layer only on the adhesive region by peeling the conductive material layer after the adhesive material layer is adhered. In the present invention, as described in “A. Method for producing wiring board”, in particular, a photosensitive adhesive layer having adhesiveness on the entire surface, and a conductive material layer of a conductive sheet having a substrate and a conductive material layer. It is preferable to use a method of forming a conductive pattern layer by exposing the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer to form a pressure-sensitive adhesive region and a pressure-sensitive adhesive strength-reduced region and peeling the conductive sheet. As a result, the conductive pattern layer can be formed not only on the photosensitive adhesive layer side but also on the peeled conductive sheet side, and the conductive sheet side can also be used as a wiring board. Because it becomes.

3.基材
次に、本発明に用いられる基材としては、上記感光性粘着剤層が形成可能な層であれば特に限定されるものではなく、一般的な配線基板に基材として用いられるものと同様とすることができる。
3. Substrate Next, the substrate used in the present invention is not particularly limited as long as the above-mentioned photosensitive adhesive layer can be formed, and is used as a substrate for a general wiring board. The same can be said.

このような基材としては、「A.配線基板の製造方法」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。   Such a base material can be the same as that described in the section of “A. Manufacturing method of wiring board”, and therefore detailed description thereof is omitted here.

4.配線基板
本発明の配線基板は、上記基材、感光性粘着剤層、および導電性パターン層を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば遮光部等、必要に応じて適宜他の層を有していてもよい。
また、本発明の配線基板は、例えば有機半導体やトランジスタ等、種々の用途に用いることが可能である。
4). Wiring board The wiring board of the present invention is not particularly limited as long as it has the base material, the photosensitive adhesive layer, and the conductive pattern layer. It may have a layer.
The wiring board of the present invention can be used for various applications such as organic semiconductors and transistors.

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下に実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。
(密着工程)
基材として、A4サイズのポリエチレンテレフタレートフィルム(可塑剤30%含有、厚さ80μm)を用いた。この基材表面に、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンを3重量部含有するアクリル系樹脂をスクリーン印刷により、一面に印刷した。
次に、アクリル系ポリマー(n−ブチルアクリレートとアクリル酸との共重合体)100重量部と、分子量8000のウレタンアクリレート系オリゴマー100重量部と、硬化剤(芳香族イソシアネート系)10重量部とからなる組成物(感光性粘着剤)を、シリコーン処理したポリエチレンテレフタレートフィルム(38μm)からなる剥離材上にキャストした後、上記基材と貼りあわせ、感光性粘着剤層を有する感光性粘着シートを作製した。
続いて厚さ25μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ社製、商品名;ルミラー)に、変性ポリエステル樹脂10重量部とカーボンブラック7重量部とを含有する厚さ0.5μmの導電性材料層を形成し、導電性シートを作製した。その後、上記感光性粘着シートの感光性粘着剤層と、上記導電性シートの導電性材料層とを密着させた。
The following examples illustrate the present invention more specifically.
(Adhesion process)
As a base material, an A4 size polyethylene terephthalate film (containing 30% plasticizer, thickness 80 μm) was used. An acrylic resin containing 3 parts by weight of 2,4-dihydroxybenzophenone was printed on one surface of the substrate surface by screen printing.
Next, from 100 parts by weight of an acrylic polymer (copolymer of n-butyl acrylate and acrylic acid), 100 parts by weight of a urethane acrylate oligomer having a molecular weight of 8000, and 10 parts by weight of a curing agent (aromatic isocyanate type). The resulting composition (photosensitive adhesive) was cast on a release material comprising a silicone-treated polyethylene terephthalate film (38 μm), and then bonded to the substrate to produce a photosensitive adhesive sheet having a photosensitive adhesive layer. did.
Subsequently, a conductive material layer having a thickness of 0.5 μm containing 10 parts by weight of a modified polyester resin and 7 parts by weight of carbon black was formed on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 μm (trade name; Lumirror manufactured by Toray Industries, Inc.). A conductive sheet was prepared. Then, the photosensitive adhesive layer of the said photosensitive adhesive sheet and the electroconductive material layer of the said electroconductive sheet were stuck.

(露光工程)
100μmのライン&スペースの遮光パターンを有するフォトマスク(基板SiO、東京プロセスサービス(株)製)を感光性粘着シートの側に密着させて、照度1000mW/cmの紫外線を5秒間照射した。
(Exposure process)
A photomask (substrate SiO 2 , manufactured by Tokyo Process Service Co., Ltd.) having a light-shielding pattern of 100 μm lines and spaces was brought into close contact with the photosensitive adhesive sheet side and irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 1000 mW / cm 2 for 5 seconds.

(剥離工程)
その後、感光性粘着シートと導電性シートとを剥離したところ、未露光部の導電性材料層が付着した感光性粘着シート側配線基板、および露光部の導電性材料層が付着した導電性シート側配線基板が得られた。これらはそれぞれ、100μmのライン&スペースからなる導電性パターンを有するものであった。
(Peeling process)
Then, when the photosensitive adhesive sheet and the conductive sheet were peeled off, the photosensitive adhesive sheet side wiring substrate to which the conductive material layer of the unexposed part was attached, and the conductive sheet side to which the conductive material layer of the exposed part was attached A wiring board was obtained. Each of these had a conductive pattern consisting of 100 μm lines and spaces.

本発明の配線基板の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the wiring board of this invention. 本発明の配線基板の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the wiring board of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 …基材
2 …感光性粘着剤層
3 …感光性粘着シート
4 …基体
5 …導電性材料層
6 …導電性シート
7 …第1導電性パターン層
8 …感光性粘着シート側配線基板
9 …第2導電性パターン層
10…導電性シート側配線基板
12…光
21…導電性パターン層
22…粘着力低下領域
23…粘着領域
a …粘着領域
b …露光領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material 2 ... Photosensitive adhesive layer 3 ... Photosensitive adhesive sheet 4 ... Base | substrate 5 ... Conductive material layer 6 ... Conductive sheet 7 ... 1st conductive pattern layer 8 ... Photosensitive adhesive sheet side wiring board 9 ... Second conductive pattern layer 10 ... conductive sheet side wiring board 12 ... light 21 ... conductive pattern layer 22 ... adhesive strength reduction area 23 ... adhesive area a ... adhesive area b ... exposure area

Claims (2)

基材、および前記基材上に形成され、露光により粘着力が低下する感光性粘着剤層を有する感光性粘着シートの前記感光性粘着剤層と、基体、および前記基体上に形成され、導電性材料を含有する導電性材料層を有する導電性シートの前記導電性材料層とを密着させる密着工程と、
所定の方向から前記感光性粘着剤層をパターン状に露光する露光工程と、
前記基材、前記基材上に形成された前記感光性粘着剤層、および前記導電性材料を含有し、前記感光性粘着剤層のうち露光されていない粘着領域上に形成された第1導電性パターン層を有する感光性粘着シート側配線基板と、前記基体、および前記導電性材料層を含有し、前記基体のうち露光された露光領域上に形成された第2導電性パターン層を有する導電性シート側配線基板とに剥離する剥離工程と
を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
The photosensitive adhesive layer of the photosensitive pressure-sensitive adhesive sheet having the base material and the photosensitive pressure-sensitive adhesive layer formed on the base material, the adhesive strength of which is reduced by exposure, the base, and the conductive adhesive formed on the base. An adhesion step of closely adhering the conductive material layer of the conductive sheet having a conductive material layer containing a conductive material;
An exposure step of exposing the photosensitive adhesive layer in a pattern from a predetermined direction;
1st electroconductivity formed on the adhesion area | region which contains the said base material, the said photosensitive adhesive layer formed on the said base material, and the said electroconductive material, and is not exposed among the said photosensitive adhesive layers. A conductive adhesive sheet-side wiring board having a conductive pattern layer, the base, and the conductive material layer, and a second conductive pattern layer formed on the exposed exposed area of the base. A method for producing a wiring board, comprising: a peeling step for peeling off the conductive sheet side wiring board.
基材と、前記基材上に形成され、露光により粘着力が低下する感光性粘着剤層と、前記感光性粘着剤層上にパターン状に形成された導電性パターン層とを有する配線基板であって、
前記感光性粘着剤層は、露光により粘着力が低下した粘着力低下領域と、露光されていない粘着領域とを有し、前記導電性パターン層は、前記粘着領域上に形成されていることを特徴とする配線基板。
A wiring board having a base material, a photosensitive adhesive layer formed on the base material, the adhesive strength of which decreases when exposed to light, and a conductive pattern layer formed in a pattern on the photosensitive adhesive layer There,
The photosensitive pressure-sensitive adhesive layer has an adhesive strength-reduced region where the adhesive strength is reduced by exposure and an unexposed adhesive region, and the conductive pattern layer is formed on the adhesive region. A characteristic wiring board.
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