JP2007059354A - Connecting device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、接続装置に関するものである。 The present invention relates to a connection device.
携帯機器などの小型化、薄型化、高性能化に伴って、携帯機器の器体内で2つの回路基板間(例えば、フレキシブル基板とプリント基板との間)を電気的に接続する接続装置としてのコネクタに対して、小型化、薄型化、相手側部材である相手側コネクタの複数の接続端子を各別に接続するコンタクトの数の増大、コンタクトの配列ピッチの狭ピッチ化などが望まれており、コンタクトの配列ピッチを0.5mmとしたコネクタが提供されている。なお、この種のコネクタでは、コンタクトの狭ピッチ化に伴い、配列ピッチの高精度化だけでなく、隣り合うコンタクト間の間隔の高精度化も必要となっている。 As a portable device is miniaturized, thinned, and enhanced in performance, as a connection device for electrically connecting two circuit boards (for example, between a flexible board and a printed board) in the body of the portable device. For connectors, there is a demand for downsizing, thinning, increasing the number of contacts that connect multiple connection terminals of the mating connector, which is the mating member, and narrowing the arrangement pitch of the contacts. A connector having a contact arrangement pitch of 0.5 mm is provided. In this type of connector, along with the narrowing of contacts, it is necessary not only to increase the accuracy of the arrangement pitch but also to increase the accuracy of the spacing between adjacent contacts.
また、近年、BGA(Ball Grid Array)やCSP(Chip Size Package)などの相手側部材において2次元アレイ状に配列された球状の接続端子それぞれと各別に接続される複数のコンタクト部を有する接続装置として、図13に示すように、複数のスパイラル状のコンタクト部102をガラスエポキシ製の絶縁基板からなるベース基板101の一表面側において2次元アレイ状に配列した構成のものが提案されている(例えば、特許文献1参照)。ここにおいて、コンタクト部102は、銅およびニッケルにより形成されている。また、ベース基板101には、当該ベース基板101の厚み方向へのコンタクト部102の変位を可能とするための貫通孔101bが貫設されている。なお、上記特許文献1では、相手側部材の接続端子の配列ピッチを0.4mmとした場合に、ベース基板101の厚みを1mm程度、貫通孔101bの内径を0.3mm程度とすることが記載されている。
Further, in recent years, a connection device having a plurality of contact portions respectively connected to spherical connection terminals arranged in a two-dimensional array on a counterpart member such as BGA (Ball Grid Array) or CSP (Chip Size Package). As shown in FIG. 13, a configuration is proposed in which a plurality of
ところで、上記特許文献1に開示された接続装置では、ベース基板101の上記一表面側のコンタクト部102とベース基板101の他表面側に設けられた外部接続電極107とが貫通孔101bの内面に形成された配線106を介して電気的に接続されている。ここにおいて、配線106は、スパッタ法などによって貫通孔101bの内面にシード層を形成してから、銅メッキを行うことで形成しているものと考えられる。
Incidentally, in the connection device disclosed in Patent Document 1, the
なお、上記特許文献1には、貫通孔101bの内側に弾性体を充填することも記載されている。
上記特許文献1に開示された接続装置では、ベース基板101の厚み方向に貫設された貫通孔101bの内面に均一な厚みのシード層を形成するのは難しく、銅メッキによってシード層から析出させる金属部の厚みも均一にならないので、配線106が断線してしまう恐れがあり、信頼性に問題があった。そこで、ベース基板101の上記一表面側から上記他表面側への配線として、貫通孔101bの形成部位から離間した適宜位置にベース基板101の厚み方向に貫通する貫通配線を形成することも考えられるが、ベース基板101において貫通孔101bの形成部位の側方に貫通配線を形成するためのスペースを必要とし、コンタクト部102の狭ピッチ化が難しくなってしまう。
In the connection device disclosed in Patent Document 1, it is difficult to form a seed layer having a uniform thickness on the inner surface of the
本発明は上記事由に鑑みて為されたものであり、その目的は、ベース基板の一表面側から他表面側への配線の信頼性が高く且つ省スペース化が可能な接続装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above reasons, and an object of the present invention is to provide a connection device that is highly reliable in wiring from one surface side to the other surface side of a base substrate and can save space. It is in.
請求項1の発明は、ベース基板と、ベース基板の一表面側において相手側部材の接続端子に対応する部位に配設され接続端子が接触するコンタクト部と、接続端子とコンタクト部との接続時に弾性変形して接続端子とコンタクト部との接圧を付与する接圧付与部とを備え、接圧付与部は、弾性および導電性を有する材料により形成され、ベース基板の一表面側から他表面側への配線の一部を構成していることを特徴とする。 According to the first aspect of the present invention, the base substrate, the contact portion disposed on the surface of the base substrate corresponding to the connection terminal of the mating member, the contact portion contacting the connection terminal, and the connection terminal and the contact portion are connected. A contact pressure applying portion that elastically deforms to apply a contact pressure between the connection terminal and the contact portion, and the contact pressure applying portion is formed of a material having elasticity and conductivity, and from one surface side of the base substrate to the other surface A part of the wiring to the side is configured.
この発明によれば、接続端子とコンタクト部との接続時に弾性変形して接続端子とコンタクト部との接圧を付与する接圧付与部を備え、接圧付与部が、弾性および導電性を有する材料により形成され、ベース基板の一表面側から他表面側への配線の一部を構成しているので、従来のようにスパイラル状のコンタクト部の変位を可能とするための貫通孔の内面に配線を形成する場合に比べて配線の信頼性を高めることが可能となり、しかも、ベース基板の一表面側から他表面側への配線を接圧付与部と別途に形成する場合のように配線を引きまわす必要がなく省スペース化が可能になる。 According to this invention, it is provided with the contact pressure imparting portion that elastically deforms when the connection terminal and the contact portion are connected to impart contact pressure between the connection terminal and the contact portion, and the contact pressure imparting portion has elasticity and conductivity. Since it is made of material and forms part of the wiring from one surface side to the other surface side of the base substrate, the inner surface of the through hole for enabling displacement of the spiral contact portion as in the prior art It is possible to increase the reliability of the wiring compared to the case of forming the wiring, and the wiring is formed as if the wiring from one surface side of the base substrate to the other surface side is formed separately from the contact pressure applying portion. Space-saving is possible without having to pull it around.
請求項2の発明は、請求項1の発明において、前記ベース基板は、前記接続端子に対応する部位に凹所が形成されるとともに当該凹所内に前記接圧付与部が配置され、前記凹所の内底面と前記他表面との間の部位に前記接圧付与部とともに前記配線を構成する貫通配線が形成されてなることを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the base substrate has a recess formed in a portion corresponding to the connection terminal, and the contact pressure applying portion is disposed in the recess. A through-wiring that constitutes the wiring together with the contact pressure applying portion is formed in a portion between the inner bottom surface of the substrate and the other surface.
この発明によれば、前記接圧付与部と貫通配線とで前記配線が構成され、前記接圧付与部は凹所内に配置すればよいから、凹所の深さ寸法を適宜設定することで所望の接圧を確保することが可能となる。 According to the present invention, the wiring is constituted by the contact pressure applying portion and the through wiring, and the contact pressure applying portion may be disposed in the recess. Therefore, it is desirable to appropriately set the depth dimension of the recess. It is possible to ensure the contact pressure of.
請求項3の発明は、請求項2の発明において、少なくとも前記凹所の内底面と前記接圧付与部との間に介在する金属層を備えてなることを特徴とする。 The invention of claim 3 is characterized in that, in the invention of claim 2, a metal layer interposed at least between the inner bottom surface of the recess and the contact pressure applying portion is provided.
この発明によれば、前記接圧付与部が、当該接圧付与部との接触面積が大きい金属層を介して前記貫通配線と接続されるので、前記配線の抵抗を低減することが可能となる。 According to this invention, since the contact pressure applying portion is connected to the through wiring via the metal layer having a large contact area with the contact pressure applying portion, the resistance of the wiring can be reduced. .
請求項4の発明は、請求項1の発明において、前記ベース基板は、前記接続端子に対応する部位に貫通穴が形成されるとともに当該貫通穴内に前記接圧付与部が配置されてなることを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the base substrate has a through hole formed in a portion corresponding to the connection terminal, and the contact pressure applying portion is disposed in the through hole. Features.
この発明によれば、請求項2の発明における貫通配線を形成する必要がなく、製造が容易になる。 According to this invention, it is not necessary to form the through wiring in the invention of claim 2, and the manufacture is facilitated.
請求項5の発明は、請求項1ないし請求項4の発明において、前記コンタクト部は、金属材料により形成され前記接圧付与部に重ねて配置されてなることを特徴とする。 According to a fifth aspect of the present invention, in the first to fourth aspects of the invention, the contact portion is formed of a metal material and is disposed so as to overlap the contact pressure applying portion.
この発明によれば、前記接圧付与部が前記コンタクト部を兼ねる場合に比べて、前記相手側部材の接続端子と前記コンタクト部との接触抵抗を低減することが可能となる。 According to this invention, it is possible to reduce the contact resistance between the connection terminal of the mating member and the contact portion as compared with the case where the contact pressure applying portion also serves as the contact portion.
請求項6の発明は、請求項5の発明において、前記コンタクト部は、突起状の形状に形成されてなることを特徴とする。 According to a sixth aspect of the invention, in the fifth aspect of the invention, the contact portion is formed in a protruding shape.
この発明によれば、前記相手側部材の前記接続端子の表面が平坦な場合でも前記接続端子と前記コンタクト部との接触信頼性を確保することができる。 According to this invention, even when the surface of the connection terminal of the counterpart member is flat, contact reliability between the connection terminal and the contact portion can be ensured.
請求項7の発明は、請求項1ないし請求項6の発明において、前記ベース基板は、前記接圧付与部と前記他表面との間に、前記接続端子と前記コンタクト部との接続時に前記接圧付与部の一部を逃がす空間からなる逃げ空間が形成されてなることを特徴とする。 According to a seventh aspect of the present invention, in the first to sixth aspects of the invention, the base substrate is connected between the contact pressure applying portion and the other surface when the connection terminal and the contact portion are connected. It is characterized in that an escape space composed of a space for releasing a part of the pressure applying portion is formed.
この発明によれば、前記接圧付与部が弾性変形しやすくなり、前記接続端子が突起状の形状である場合には前記接続端子の突出高さなどのばらつきや前記接続端子の傾きなどを許容することができる。 According to this invention, the contact pressure applying portion is easily elastically deformed, and when the connection terminal has a protruding shape, variation in the protrusion height of the connection terminal, inclination of the connection terminal, and the like are allowed. can do.
請求項1の発明では、ベース基板の一表面側から他表面側への配線の信頼性が高く且つ省スペース化が可能になるという効果がある。 According to the first aspect of the present invention, the reliability of the wiring from the one surface side to the other surface side of the base substrate is high and the space can be saved.
(実施形態1)
本実施形態では、接続装置として、回路基板間の電気的接続に利用可能なコネクタを例示する。
(Embodiment 1)
In this embodiment, the connector which can be utilized for the electrical connection between circuit boards is illustrated as a connection apparatus.
図1(a),(b)に示した本実施形態のコネクタAは、図2に示すようにプリント基板30に実装され、図3に示すようにフレキシブル基板40に実装された相手側部材たるコネクタ(以下、相手側コネクタと称す)Bと電気的に接続される。
The connector A of the present embodiment shown in FIGS. 1A and 1B is a counterpart member mounted on a printed
ここにおいて、相手側コネクタBは、樹脂基板を用いて形成した矩形板状のコネクタボディ21と、コネクタボディ21の一表面上に所定の配列ピッチ(例えば、500μm)でマトリクス状(2次元アレイ状)に配列された複数(例えば、100個)の突起状(ここでは、球状)の接続端子23とを備えており、コネクタボディ21の上記一表面上で各接続端子23それぞれに接続された金属配線24がコネクタボディ21の厚み方向に貫設した貫通配線(図示せず)を介してフレキシブル基板40の導体パターン(図示せず)と電気的に接続可能となっている。
Here, the mating connector B is a rectangular plate-
コネクタAは、半導体基板(例えば、シリコン基板)からなるベース基板11を備え、ベース基板11の一表面側において相手側コネクタBの各接続端子23それぞれに対応する各部位に凹所11aが形成され、各凹所11a内に、接続端子23とのコンタクト部13と、接続端子23とコンタクト部13との接続時に弾性変形して接続端子23とコンタクト部13との接圧を付与する接圧付与部12とが配置されている。要するに、相手側コネクタBの複数の接続端子23とコネクタAの複数のコンタクト部13とは一対一で対応している。
The connector A includes a
ここにおいて、本実施形態では、接圧付与部12が、シリコーン系導電性接着剤(例えば銀粉末を含んだシリコーン樹脂)により形成されており、接圧付与部12がコンタクト部13を兼ねている。接圧付与部12の材料は特に限定するものではなく、弾性および導電性を有する材料であればよい。
Here, in this embodiment, the contact
また、ベース基板11は、各凹所11aそれぞれの内底面と他表面との間の各部位それぞれに、接圧付与部12とともにベース基板11の上記一表面側から上記他表面側への配線を構成する貫通配線16が形成されている。要するに、本実施形態では、接圧付与部12が、ベース基板11の上記一表面側から上記他表面側への配線の一部を構成している。
In addition, the
ここで、コネクタAは、接圧付与部12が貫通配線16を介してベース部11の上記他表面の外部接続電極17と電気的に接続されており、図1(b)に示すように各外部接続電極17それぞれが半田ボール18を介してプリント基板30の導体パターン33と電気的に接続可能となっている。なお、各接圧付与部12および各貫通配線16および各外部接続電極17は、図示しない絶縁膜(例えば、シリコン酸化膜)を介してベース基板11と電気的に絶縁されている。
Here, in the connector A, the contact
なお、本実施形態のコネクタAでは、ベース基板11としてシリコン基板を用いているので、ベース基板11における各凹所11aは、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を利用して精度良く形成することができる。ここにおいて、凹所11aは内底面に近づくにつれて開口面積が徐々に小さくなる断面逆台形状に形成されているので、各凹所11aを形成するエッチングに際しては、アルカリ系溶液(例えば、KOH水溶液、TMAH溶液など)を用いた異方性エッチングを行うようにしている。また、本実施形態のコネクタAでは、各貫通配線16用の各スルーホールも、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を利用して精度良く形成することができる。ここにおいて、各スルーホールを形成するエッチングに際しては、垂直深掘が可能なドライエッチング装置(例えば、誘導結合プラズマ型のドライエッチング装置など)を用いている。また、接圧付与部12の形成にあたっては、ベース基板11に凹所11aおよび貫通配線16を形成した後で、凹所11aに接圧付与部12の材料を充填すればよい(埋設すればよい)。また、各外部接続電極17の形成にあたっては、各外部接続電極17の基礎となる金属膜を例えばスパッタ法などによって成膜した後で、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を利用して適宜パターニングすることでそれぞれ上記金属膜の一部からなる外部接続電極17を形成すればよい。
In the connector A of the present embodiment, since the silicon substrate is used as the
コネクタAの各コンタクト部13それぞれと相手側コネクタBの各接続端子23とを電気的に接続する際には、プリント基板30に実装したコネクタAとフレキシブル基板40に実装した相手側コネクタBとを対向させてから、図1(b)に示すように、コネクタAに相手側コネクタBを近づければよい。ここにおいて、コネクタAは各凹所11a内に配置された接圧付与部12が弾性変形することができるので、球状の接続端子23の突出高さなどのばらつきや接続端子23の傾きなどを許容することができるとともに、所望の接圧を満足することが可能となる。なお、コネクタAと相手側コネクタBとの電気的接続状態を維持するためのロック機構は、例えば、プリント基板30およびフレキシブル基板40を収納する機器(例えば、携帯機器など)の器体や、各基板30,40に設ければよいが、各コネクタA,Bに設けてもよい。
When electrically connecting each
以上説明した本実施形態のコネクタAは、相手側コネクタBの接続端子23とコンタクト部13との接続時に弾性変形して接続端子23とコンタクト部13との接圧を付与する接圧付与部12を備え、接圧付与部12が、弾性および導電性を有する材料により形成され、ベース基板11の上記一表面側から上記他表面側への配線の一部を構成しているので、図13に示した従来構成のようにスパイラル状のコンタクト部102の変位を可能とするための貫通孔101bの内面に配線106を形成する場合に比べて配線の信頼性を高めることが可能となり、しかも、ベース基板11の上記一表面側から上記他表面側への配線を接圧付与部12と別途に形成する場合のように配線を引きまわす必要がなく省スペース化が可能になる。しかして、本実施形態のコネクタAでは、図13に示した従来構成に比べて、コンタクト部13の配列ピッチの狭ピッチ化が可能になる。
The connector A of the present embodiment described above is elastically deformed when the
ところで、図13に示した構成の接続装置では、ベース基板101の基礎となる絶縁基板に貫通孔101bを形成する工程において、ドリル加工により各貫通孔101bを個別に形成しているので、貫通孔101bの配列ピッチおよび貫通孔101b間の間隔それぞれの高精度化が難しいとともに、貫通孔101bのより一層の狭ピッチ化が難しく、接続装置全体としてのより一層の小型化が難しかった。
By the way, in the connection apparatus having the configuration shown in FIG. 13, each through
これに対して、本実施形態のコネクタAは、一般的な半導体プロセスにより形成することができるので、従来に比べて薄型化、小型化、狭ピッチ化が可能になる。 On the other hand, since the connector A of the present embodiment can be formed by a general semiconductor process, it can be made thinner, smaller, and narrower than conventional ones.
また、本実施形態では、接圧付与部12と貫通配線16とでベース基板11の上記一表面側から上記他表面側への配線が構成され、接圧付与部12を凹所11a内に配置すればよいから、凹所11aの深さ寸法を適宜設定することで所望の接圧を確保することが可能となる。また、コンタクト部13を図13に示した従来構成のようなスパイラル状の形状に形成する必要もないので、相手側コネクタBの突起状の接続端子23の突出高さのばらつきに起因したコンタクト部13の破損が起こりにくくなる。
In the present embodiment, the contact
(実施形態2)
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態1と略同じであって、図4(a),(b)に示すように、ベース基板11において相手側コネクタBの各接続端子23それぞれに対応する各部位それぞれに厚み方向に貫通する貫通穴11bが形成されており、ベース基板11の上記他表面側において貫通穴11bが外部接続電極17によって閉塞されるとともに、貫通穴11bの内側に接圧付与部12が配置され、接圧付与部12と外部接続電極17とが実施形態1にて説明した貫通配線16を設けることなく電気的に接続されている点などが相違する。なお、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 2)
The basic configuration of the connector A exemplified as a connection device in the present embodiment is substantially the same as that of the first embodiment, and as shown in FIGS. 4A and 4B, each connection of the mating connector B on the
本実施形態のコネクタAでは、各貫通穴11b内に配置された接圧付与部12が弾性変形することができるので、球状の接続端子23の突出高さなどのばらつきや接続端子23の傾きなどを許容することができるとともに、所望の接圧を満足することが可能となる。
In the connector A of the present embodiment, the contact
しかして、本実施形態のコネクタAでは、実施形態1のコネクタAにおける貫通配線16を形成する必要がなく、製造が容易になる。
Therefore, in the connector A of the present embodiment, it is not necessary to form the through
(実施形態3)
実施形態2のコネクタAでは、相手側コネクタBの接続端子23とコンタクト部13との接続時に各貫通穴11b内に配置された接圧付与部12が弾性変形するが、外部接続電極17が貫通穴11bを閉塞するように配置され、外部接続電極17の中央部に半田ボール18が形成されているので、接圧付与部12の弾性変形によるコンタクト部13の変位量が制限されやすく、外部接続電極17にストレスがかかりやすくなってしまう。
(Embodiment 3)
In the connector A of the second embodiment, when the
これに対して、本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態2と略同じであって、図5(a),(b)に示すように、外部接続電極17がベース基板11の上記他表面側で貫通穴11bを閉塞しないように配置され、外部接続電極17の中央部に半田ボール18が形成されている点が相違する。なお、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
On the other hand, the basic configuration of the connector A exemplified as the connection device in this embodiment is substantially the same as that of the second embodiment, and the
しかして、本実施形態のコネクタAでは、実施形態2のコネクタAに比べて、接圧付与部12の弾性変形によるコンタクト部13の変位量が制限されにくくなり、外部接続電極17にかかるストレスを低減できる。
Therefore, in the connector A of the present embodiment, compared to the connector A of the second embodiment, the displacement amount of the
(実施形態4)
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態1と略同じであって、図6(a),(b)に示すように、凹所11aの内面と接圧付与部12との間に介在する金属層15を備え、接圧付与部12と金属層15と貫通配線16とで、ベース基板11の上記一表面側から上記他表面側への配線を構成している点が相違する。ここにおいて、金属層15は、ベース基板11の上記一表面側における凹所11aの周部まで延設されている。また、金属層15は、図示しない絶縁膜によりベース基板11と電気的に絶縁されている。なお、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 4)
The basic configuration of the connector A exemplified as a connection device in this embodiment is substantially the same as that of the first embodiment, and as shown in FIGS. 6A and 6B, the inner surface of the
しかして、本実施形態のコネクタAでは、接圧付与部12が、当該接圧付与部12との接触面積が大きい金属層15を介して貫通配線16と接続されるので、配線の抵抗を低減することが可能となる。なお、本実施形態のコネクタAでは、金属層15が凹所11aの内面の全体にわたって形成されているが、少なくとも凹所11aの内底面に形成してあればよい。要するに、金属層15は、少なくとも凹所11aの内底面と接圧付与部12との間に介在すればよい。
Therefore, in the connector A of the present embodiment, the contact
(実施形態5)
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態4と略同じであって、図7(a),(b)に示すように、凹所11aの開口面積が略一定である点が相違する。なお、実施形態4と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 5)
The basic configuration of the connector A exemplified as a connection device in the present embodiment is substantially the same as that of the fourth embodiment, and the opening area of the
実施形態4では実施形態1と同様に凹所11aがアルカリ系溶液を用いた異方性エッチングにより形成されているのに対して、本実施形態では、凹所11aを垂直深掘が可能なドライエッチング装置(例えば、誘導結合プラズマ型のドライエッチング装置など)を用いたドライエッチングにより形成している。
In the fourth embodiment, the
しかして、本実施形態のコネクタAでは、実施形態4のコネクタAに比べて、凹所11aの開口面積を小さくすることができるとともに凹所11aの配列ピッチを短縮することができ、ベース基板11の平面サイズの小型化を図れる。
Thus, in the connector A of the present embodiment, the opening area of the
(実施形態6)
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態1と略同じであって、図8(a),(b)に示すように、コンタクト部13が金属材料により形成され、接圧付与部12に重ねて配置されている点が相違する。すなわち、本実施形態では、コンタクト部13が、接圧付与部12の形成後に接圧付与部12上に形成した金属薄膜により構成されている。なお、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 6)
The basic configuration of the connector A exemplified as a connection device in the present embodiment is substantially the same as that of the first embodiment. As shown in FIGS. 8A and 8B, the
しかして、本実施形態のコネクタAでは、実施形態1のように接圧付与部12がコンタクト部13を兼ねる場合に比べて、相手側コネクタBの接続端子23とコンタクト部13との接触抵抗を低減することが可能となる。
Therefore, in the connector A of the present embodiment, the contact resistance between the
(実施形態7)
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態2と略同じであって、図9(a),(b)に示すように、コンタクト部13が金属材料により形成され、接圧付与部12に重ねて配置されている点が相違する。すなわち、本実施形態では、コンタクト部13が、接圧付与部12の形成後に接圧付与部12上に形成した金属薄膜により構成されている。なお、実施形態2と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 7)
The basic configuration of the connector A exemplified as a connection device in the present embodiment is substantially the same as that of the second embodiment. As shown in FIGS. 9A and 9B, the
しかして、本実施形態のコネクタAでは、実施形態2のように接圧付与部12がコンタクト部13を兼ねる場合に比べて、相手側コネクタBの接続端子23とコンタクト部13との接触抵抗を低減することが可能となる。
Therefore, in the connector A of the present embodiment, the contact resistance between the
(実施形態8)
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態6と略同じであって、図10(a),(b)に示すように、コンタクト部13が突起状の形状に形成されている点が相違する。ここにおいて、コンタクト部13は半球状のバンプ(金属突起)により構成されている。なお、実施形態6と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 8)
The basic configuration of the connector A exemplified as a connection device in the present embodiment is substantially the same as that of the sixth embodiment, and as shown in FIGS. 10A and 10B, the
しかして、本実施形態のコネクタAでは、相手側部材たる相手側コネクタBの接続端子23の表面が図10(b)に示すように平坦な場合でも接続端子23とコンタクト部13との接触信頼性を確保することができる。
Thus, in the connector A of the present embodiment, the contact reliability between the
(実施形態9)
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態7と略同じであって、図11(a),(b)に示すように、コンタクト部13が突起状の形状に形成されている点が相違する。ここにおいて、コンタクト部13は半球状のバンプ(金属突起)により構成されている。なお、実施形態7と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 9)
The basic configuration of the connector A exemplified as a connection device in the present embodiment is substantially the same as that of the seventh embodiment, and as shown in FIGS. 11A and 11B, the
しかして、本実施形態のコネクタAでは、相手側部材たる相手側コネクタBの接続端子23の表面が図11(b)に示すように平坦な場合でも接続端子23とコンタクト部13との接触信頼性を確保することができる。
Therefore, in the connector A of the present embodiment, the contact reliability between the
(実施形態10)
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態1と略同じであって、図12(a),(b)に示すように、凹所11aの内周面に段差部11cが形成されており、接圧付与部12と凹所11aの内底面との間に接続端子23とコンタクト部13との接続時に接圧付与部12の一部を逃がす空間からなる逃げ空間19が形成されている点、凹所11aの内面と接圧付与部12との間に介在する金属層15を備え、接圧付与部12と金属層15と貫通配線16とで、ベース基板11の上記一表面側から上記他表面側への配線を構成している点などが相違する。ここにおいて、金属層15は、ベース基板11の上記一表面側における凹所11aの周部まで延設されている。また、金属層15は、図示しない絶縁膜によりベース基板11と電気的に絶縁されている。なお、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 10)
The basic configuration of the connector A exemplified as a connection device in the present embodiment is substantially the same as that of the first embodiment. As shown in FIGS. 12A and 12B, a
しかして、本実施形態のコネクタAでは、接圧付与部12とベース基板11の上記他表面との間に、接続端子23とコンタクト部13との接続時に接圧付与部12の一部を逃がす空間からなる逃げ空間19が形成されているので、接圧付与部12が弾性変形しやすくなり、突起状の接続端子23の突出高さなどのばらつきや接続端子23の傾きなどを許容することができる。また、本実施形態のコネクタAでは、接圧付与部12が、当該接圧付与部12との接触面積が大きい金属層15を介して貫通配線16と接続されるので、配線の抵抗を低減することが可能となる。
Therefore, in the connector A of the present embodiment, a part of the contact
上記各実施形態では、接続装置として、回路基板間の電気的な接続に用いるコネクタAを例示したが、接続装置は、回路基板間の電気的な接続に用いるコネクタに限定するものではなく、接続装置の相手側部材も相手側コネクタBに限らず、例えば、BGAやCSPやベアチップなどでもよい。 In each of the above embodiments, the connector A used for electrical connection between circuit boards is illustrated as the connection device. However, the connection device is not limited to the connector used for electrical connection between circuit boards. The counterpart member of the apparatus is not limited to the counterpart connector B, and may be, for example, a BGA, a CSP, a bare chip, or the like.
A コネクタ
B 相手側コネクタ
11 ベース基板
11a 凹所
12 接圧付与部
13 コンタクト部
16 貫通配線
17 外部接続電極
23 接続端子
A connector
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