JP2007052312A - Method for manufacturing liquid crystal device, and apparatus for manufacturing liquid crystal device - Google Patents

Method for manufacturing liquid crystal device, and apparatus for manufacturing liquid crystal device Download PDF

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Toshiyuki Nakatani
敏之 中谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a liquid crystal device capable of preventing a liquid crystal from leaking to the outside of a cell beyond a sealant and obtaining desired electrical characteristics and reliability, and an apparatus for manufacturing the liquid crystal device. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the liquid crystal device configured to arrange the liquid crystal between a pair of substrates stuck together via the sealant 52 includes a process of forming the sealant 52 on one substrate 10 of a pair of the substrates, a liquid crystal supply process of supplying the liquid crystal 50 on the one substrate 10, a comparison process for comparing the height H2 of the sealant 52 on the one substrate 10 and the height H1 of the liquid crystal 50, and a process of sticking together the other substrate via the sealant 52 to the one substrate 10 when the height H1 of the liquid crystal 50 is lower than the height H2 of the sealant 52. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶装置の製造方法及び液晶装置の製造装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal device manufacturing method and a liquid crystal device manufacturing apparatus.

一般に、液晶装置は、対向する一対の基板がそれぞれの基板の周縁部においてシール材を介して貼着され、これら一対の基板とシール材とによって囲まれた空間に液晶が封入された構成を有する。従来から、液晶装置を製造する方法として、2枚の基板を貼り合わせて空のパネルを作製した後、真空注入法などの手法を用いて基板間に液晶を注入する方法が用いられてきた(例えば特許文献1)。これに対して、近年、少なくとも一方の基板上に液晶を滴下した後、その液晶を挟持するように他方の基板を貼り合わせる方法も採用されている(以下、本明細書では、この方法のことを便宜的に「液晶滴下法」と呼ぶ)。
特開平10−115831号公報
In general, a liquid crystal device has a configuration in which a pair of opposing substrates are attached to each other at a peripheral portion of each substrate via a sealing material, and liquid crystal is sealed in a space surrounded by the pair of substrates and the sealing material. . Conventionally, as a method of manufacturing a liquid crystal device, a method of injecting liquid crystal between substrates using a technique such as a vacuum injection method after an empty panel is manufactured by bonding two substrates together ( For example, Patent Document 1). On the other hand, in recent years, a method of dropping a liquid crystal on at least one substrate and then bonding the other substrate so as to sandwich the liquid crystal has been adopted (hereinafter, this method is referred to as this method). Is called “liquid crystal dropping method” for convenience).
Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-115831

しかしながら、液晶滴下法では、基板上に供給された液晶がシール材の厚みに比べて大きく盛り上がっているため、基板を貼り合せる際に、液晶がシール材を乗り越えてセルの外部に漏れ出してしまう場合があった。液晶がシール材を乗り越えると、不足した液晶量によってセルギャップの厚みの均一性が低下したり、シール材の上部に付着した液晶によってシール材の接着強度が弱くなったりする等の問題を生じる場合があった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、液晶がシール材を乗り越えてセルの外部に漏れ出すことを防止し、所望の電気的特性及び信頼性を得ることのできる液晶装置の製造方法及び液晶装置の製造装置を提供することを目的とする。
However, in the liquid crystal dropping method, since the liquid crystal supplied on the substrate is greatly raised compared to the thickness of the sealing material, the liquid crystal gets over the sealing material and leaks outside the cell when the substrates are bonded. There was a case. If the liquid crystal gets over the sealing material, the lack of liquid crystal content will cause the uniformity of cell gap thickness to drop, or the liquid crystal adhering to the top of the sealing material will cause problems such as the adhesive strength of the sealing material weakening. was there.
The present invention has been made in view of such circumstances, and a liquid crystal device capable of preventing liquid crystal from leaking out of the cell over the sealing material and obtaining desired electrical characteristics and reliability. It is an object of the present invention to provide a manufacturing method and a liquid crystal device manufacturing apparatus.

本発明者は、上記の課題を解決するために、一方の基板上に他方の基板を貼り合わせる際に、他方の基板を伝ってシール材を乗り越える液晶の移動に着目した。そして、本発明者は、通常、一対の基板を貼り合せる前の一方の基板上における液晶の高さは、シール材の高さよりも高くなるが、液晶の高さがシール材の高さよりも低い場合には、一方の基板上に他方の基板を貼り合わせる際に、他方の基板を伝う液晶の移動がシール材で堰き止められることを見出し、本発明を想到した。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor paid attention to the movement of the liquid crystal over the sealing material through the other substrate when the other substrate is bonded onto the one substrate. Then, the present inventor usually has a height of the liquid crystal on one substrate before bonding the pair of substrates higher than the height of the sealing material, but the height of the liquid crystal is lower than the height of the sealing material. In some cases, when the other substrate is bonded onto one substrate, the movement of the liquid crystal along the other substrate is found to be blocked by the sealing material, and the present invention has been conceived.

本発明の液晶装置の製造方法は、シール材を介して貼り合わされた一対の基板の間に液晶を配置してなる液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板のうちの一方の基板上に前記シール材を形成する工程と、前記一方の基板上に液晶を供給する液晶供給工程と、前記一対の基板を貼り合せる前に、前記一方の基板上における前記シール材の高さと、前記液晶の高さとを比較する比較工程と、前記シール材の高さよりも前記液晶の高さが低い場合に、前記一方の基板に前記シール材を介して他方の基板を貼り合せる工程とを備えたことを特徴とする。   A method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is disposed between a pair of substrates bonded together with a sealant, and the method is provided on one of the pair of substrates. Forming the sealing material on the substrate, supplying a liquid crystal on the one substrate, supplying the liquid crystal onto the one substrate, before bonding the pair of substrates, the height of the sealing material on the one substrate, and the liquid crystal And a step of bonding the other substrate to the one substrate through the sealing material when the height of the liquid crystal is lower than the height of the sealing material. It is characterized by.

本発明の液晶装置の製造方法では、一対の基板を貼り合せる前に、一方の基板上におけるシール材の高さと液晶の高さとを比較し、シール材の高さよりも液晶の高さが低い場合に、2枚の基板の貼り合せを行なう。このため、一方の基板上に他方の基板を貼り合わせる際には、他方の基板とシール材とが接触してから他方の基板と液晶とが接触することになる。その結果、他方の基板に液晶が接触した時点では、既に他方の基板に接触しているシール材によって、他方の基板を伝う液晶の移動が堰き止められるようになっている。したがって、2枚の基板の貼り合せる際に、シール材を乗り越えて液晶がセルの外部に漏れ出すことを効果的に防止できる。よって、セルギャップの厚みの均一性が高く、所望の電気的特性を有する液晶装置を製造することができる。また、シール材の上部に液晶が付着しなくなるので、シール材の接着強度が高く、信頼性にも優れた液晶装置を提供することができる。   In the liquid crystal device manufacturing method of the present invention, before the pair of substrates are bonded, the height of the sealing material on one substrate is compared with the height of the liquid crystal, and the height of the liquid crystal is lower than the height of the sealing material. Then, the two substrates are bonded together. For this reason, when the other substrate is bonded to one substrate, the other substrate and the liquid crystal come into contact with each other after the other substrate and the sealing material come into contact with each other. As a result, when the liquid crystal comes into contact with the other substrate, the movement of the liquid crystal along the other substrate is blocked by the sealing material already in contact with the other substrate. Accordingly, when the two substrates are bonded, it is possible to effectively prevent the liquid crystal from leaking out of the cell over the sealing material. Therefore, a liquid crystal device having high cell gap thickness uniformity and desired electrical characteristics can be manufactured. In addition, since the liquid crystal does not adhere to the upper portion of the sealing material, it is possible to provide a liquid crystal device with high sealing material adhesive strength and excellent reliability.

本発明の液晶装置の製造方法では、前記液晶供給工程を行った後に、前記一方の基板を水平方向に対して傾斜させることができる。
一方の基板上でシール材の高さよりも液晶の高さを低くする方法としては、基板上に液晶を供給した後に放置しておく方法がある。しかし、液晶装置の大きさなどによっては、放置する時間が長時間となり液晶装置の生産性に支障を来たす虞が生じる。
これに対し、液晶供給工程を行った後に、一方の基板を水平方向に対して傾斜させると、液晶が一方の基板上で移動して液晶が広がり、液晶と一方の基板との接触面積が容易に拡大される。よって、一方の基板を水平にして放置した場合と比較して、短時間でシール材の高さよりも液晶の高さを低くすることができる。
In the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention, the one substrate can be inclined with respect to the horizontal direction after the liquid crystal supply step.
As a method of making the height of the liquid crystal lower than the height of the sealing material on one substrate, there is a method in which the liquid crystal is supplied to the substrate and left to stand. However, depending on the size of the liquid crystal device, the time for which it is left for a long time may cause a problem in the productivity of the liquid crystal device.
On the other hand, if one substrate is tilted with respect to the horizontal direction after the liquid crystal supply process is performed, the liquid crystal moves on the one substrate to spread the liquid crystal, and the contact area between the liquid crystal and one substrate is easy. Expanded to Therefore, the height of the liquid crystal can be made lower than the height of the sealing material in a short time compared with the case where one substrate is left horizontally.

また、本発明の液晶装置の製造方法では、前記液晶供給工程を、前記一方の基板を水平方向に対して傾斜させて行なうことができる。
このような製造方法では、液晶供給工程を行なうだけで、容易にシール材の高さよりも液晶の高さを低くすることができるので、一方の基板を水平にして液晶供給工程を行う場合と比較して、基板上に液晶を供給してから2枚の基板を貼り合せるまでの時間を短時間とすることができる。
In the method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, the liquid crystal supplying step can be performed with the one substrate inclined with respect to the horizontal direction.
In such a manufacturing method, the height of the liquid crystal can be easily made lower than the height of the sealing material simply by performing the liquid crystal supply process, so that compared with the case where the liquid crystal supply process is performed with one substrate being horizontal. Thus, the time from supplying the liquid crystal to the substrate and bonding the two substrates can be shortened.

また、本発明の液晶装置の製造方法では、前記液晶供給工程を行う際、又は行った後に、前記一方の基板に振動を加えることができる。
このような製造方法では、容易にシール材の高さよりも液晶の高さを低くすることができるので、一方の基板に振動を加えない場合と比較して、基板上に液晶を供給してから2枚の基板を貼り合せるまでの時間を短時間とすることができる。
In the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, vibration can be applied to the one substrate during or after the liquid crystal supply step.
In such a manufacturing method, since the height of the liquid crystal can be easily made lower than the height of the sealing material, the liquid crystal is supplied onto the substrate as compared with the case where no vibration is applied to one substrate. The time until the two substrates are bonded can be shortened.

また、本発明の液晶装置の製造方法では、前記振動が、超音波振動である方法とすることができる。
このような製造方法では、一方の基板に容易に振動を加えることができ、容易にシール材の高さよりも液晶の高さを低くすることができる。
In the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention, the vibration may be ultrasonic vibration.
In such a manufacturing method, vibration can be easily applied to one substrate, and the height of the liquid crystal can be easily made lower than the height of the sealing material.

また、本発明の液晶装置の製造方法では、前記液晶供給工程は、前記液晶を複数箇所に供給する方法とすることができる。
このような製造方法では、液晶を複数箇所に分割して供給するので、液晶を供給した当初から広範囲に低い高さで液晶を供給することができる。
Moreover, in the manufacturing method of the liquid crystal device of the present invention, the liquid crystal supplying step may be a method of supplying the liquid crystal to a plurality of locations.
In such a manufacturing method, since the liquid crystal is divided and supplied to a plurality of locations, the liquid crystal can be supplied at a low height in a wide range from the beginning of supplying the liquid crystal.

上記の課題を解決するために、本発明の液晶装置の製造装置は、シール材を介して貼り合わされた一対の基板の間に液晶を配置してなる液晶装置の製造装置であって、前記シール材が形成され、当該シール材の内側の領域に液晶を供給する液晶供給装置と、前記液晶が供給された前記一対の基板のうちの一方の基板上における貼り合せる前の前記液晶の高さを測定する測定装置と、前記測定装置によって測定された前記液晶の高さと、貼り合せる前の前記一方の基板上における前記シール材の高さと比較する比較装置と、前記一方の基板上に前記シール材を介して他方の基板を貼り合せる基板貼り合わせ装置とを備え、前記基板貼り合わせ装置が、前記シール材の高さよりも前記液晶の高さが低い場合に貼り合わせを行なうものであることを特徴とする。   In order to solve the above problems, a liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention is a liquid crystal device manufacturing apparatus in which a liquid crystal is disposed between a pair of substrates bonded via a sealing material, the seal A liquid crystal supply device that supplies liquid crystal to an inner region of the sealing material, and a height of the liquid crystal before being bonded on one of the pair of substrates to which the liquid crystal is supplied A measuring device for measuring, a height of the liquid crystal measured by the measuring device, a comparison device for comparing the height of the sealing material on the one substrate before bonding, and the sealing material on the one substrate A substrate laminating apparatus for laminating the other substrate through the substrate, and the substrate laminating apparatus performs laminating when the height of the liquid crystal is lower than the height of the sealing material. And butterflies.

本発明の液晶装置の製造装置は、基板貼り合わせ装置が、前記シール材の高さよりも前記液晶の高さが低い場合に貼り合わせを行なうものであるので、2枚の基板の貼り合せる際に、他方の基板に液晶が接触した時点では、既に他方の基板に接触しているシール材によって、他方の基板を伝う液晶の移動が堰き止められるようになっている。したがって、2枚の基板の貼り合せる際に、シール材を乗り越えて液晶がセルの外部に漏れ出すことを効果的に防止できる。   In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, the substrate bonding apparatus performs bonding when the height of the liquid crystal is lower than the height of the sealing material. When the liquid crystal comes into contact with the other substrate, the movement of the liquid crystal along the other substrate is blocked by the sealing material already in contact with the other substrate. Accordingly, when the two substrates are bonded, it is possible to effectively prevent the liquid crystal from leaking out of the cell over the sealing material.

また、本発明の液晶装置の製造装置では、貼り合せる前の前記一方の基板を保持するテーブルを備え、前記テーブルが、前記一方の基板を水平方向に対して傾いた状態で保持できるものであることが望ましい。
このような液晶装置の製造装置とすることで、一方の基板を水平方向に対して傾斜させて、一方の基板上における液晶の接触面積の拡大を促進させることができるものとなる。よって、一方の基板を水平にのみ保持できるテーブルを備えた場合と比較して、短時間でシール材の高さよりも液晶の高さを低くすることができるものとなる。
Further, the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention includes a table for holding the one substrate before bonding, and the table can hold the one substrate in a state inclined with respect to the horizontal direction. It is desirable.
By setting it as the manufacturing apparatus of such a liquid crystal device, one board | substrate can be inclined with respect to a horizontal direction, and the expansion of the contact area of the liquid crystal on one board | substrate can be promoted. Therefore, the height of the liquid crystal can be made lower than the height of the sealing material in a short time as compared with the case where a table that can hold only one substrate horizontally is provided.

また、本発明の液晶装置の製造装置では、前記テーブルは、前記一方の基板の水平方向に対する傾きを変更可能なものであることが望ましい。
このような液晶装置の製造装置とすることで、例えば、一方の基板を水平方向に対する第1の角度に傾斜させて、液晶を一方の基板上の第1の方向に向かって広げることと、第1の角度とは異なる第2の角度に一方の基板を傾斜させて、第1の方向とは異なる第2の方向に向かって液晶を広げることとを、一回または複数回行う方法を用いて、効果的に一方の基板上における液晶の接触面積の拡大を促進させることができるものとなる。
In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, it is desirable that the table is capable of changing an inclination of the one substrate with respect to a horizontal direction.
By making such a liquid crystal device manufacturing apparatus, for example, one of the substrates is inclined at a first angle with respect to the horizontal direction, and the liquid crystal is spread in the first direction on the one substrate; The method in which one substrate is inclined at a second angle different from the first angle and the liquid crystal is spread in a second direction different from the first direction is performed once or a plurality of times. Thus, the expansion of the contact area of the liquid crystal on one substrate can be effectively promoted.

また、本発明の液晶装置の製造装置では、基板貼り合わせ装置が、略水平に保持された前記一方の基板上に前記他方の基板を貼り合せるものとすることができる。
このような液晶装置の製造装置とすることで、一方の基板を水平方向に対して傾いた状態で2枚の基板の貼り合せる装置と比較して、2枚の基板を貼り合わせる際に、他方の基板を一方の基板に容易に均一に押し付けることができ、2枚の基板を精度よく平行に貼り合わせることができるものとなる。よって、より一層、セルギャップの厚みの均一性に優れた液晶装置を製造できる。
In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, the substrate bonding apparatus can bond the other substrate onto the one substrate held substantially horizontally.
By making such a liquid crystal device manufacturing apparatus, compared with an apparatus for bonding two substrates in a state where one substrate is inclined with respect to the horizontal direction, The substrate can be easily pressed uniformly on one substrate, and the two substrates can be bonded in parallel with high accuracy. Therefore, a liquid crystal device excellent in the uniformity of the cell gap thickness can be manufactured.

また、本発明の液晶装置の製造装置では、貼り合せる前の前記一方の基板を保持するテーブルを備え、前記テーブルが、前記一方の基板に対して振動を加える振動発生装置を備えるものとすることができる。
このような液晶装置の製造装置では、振動発生装置により一方の基板に対して振動を加えることで、容易にシール材の高さよりも液晶の高さを低くすることができる。
The liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention includes a table that holds the one substrate before bonding, and the table includes a vibration generating device that applies vibration to the one substrate. Can do.
In such a liquid crystal device manufacturing apparatus, the height of the liquid crystal can be easily made lower than the height of the sealing material by applying vibration to one substrate by the vibration generator.

また、本発明の液晶装置の製造装置では、前記振動発生装置が、超音波振動を発生する超音波発生装置であるものとすることができる。
このような液晶装置の製造装置では、より一層容易にシール材の高さよりも液晶の高さを低くすることができる。
In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, the vibration generator may be an ultrasonic generator that generates ultrasonic vibrations.
In such a liquid crystal device manufacturing apparatus, the height of the liquid crystal can be reduced more easily than the height of the sealing material.

また、本発明の液晶装置の製造装置では、測定装置が、レーザ変位計であるものとすることができる。このような液晶装置の製造装置とすることで、貼り合せる前の一方の基板上における液晶の高さを高精度で測定することができる。   In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, the measuring device may be a laser displacement meter. By setting it as the manufacturing apparatus of such a liquid crystal device, the height of the liquid crystal on one board | substrate before bonding can be measured with high precision.

また、本発明の液晶装置の製造装置では、測定装置が、前記液晶と前記一方の基板との接触面積を測定して、前記接触面積に基づいて前記液晶の高さを算出する面積測定装置であるものとすることができる。このような液晶装置の製造装置とすることで、貼り合せる前の一方の基板上における液晶の高さを容易に測定することができる。また、シール材の高さよりも液晶の高さを低くすることで、液晶が必要以上に広がっていないかどうかを確認することができる。   In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present invention, the measuring device measures the contact area between the liquid crystal and the one substrate, and calculates the height of the liquid crystal based on the contact area. There can be. By setting it as the manufacturing apparatus of such a liquid crystal device, the height of the liquid crystal on one board | substrate before bonding can be measured easily. Further, by making the height of the liquid crystal lower than the height of the sealing material, it can be confirmed whether or not the liquid crystal spreads more than necessary.

以下、本発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。
図1は、本実施形態の液晶装置の製造方法に用いる材料供給装置および基板給除装置の概略構成図であり、図2は同、製造方法に用いる基板貼り合わせ装置の概略構成図である。また、図3〜図7は、本実施形態の製造プロセスを順を追って示す工程図であり、図8は、製造プロセスのフローチャートである。なお、以下の各図面において、各構成要素を見やすくするため、各構成要素の寸法、膜厚等の比率は適宜異ならせてある。また、以下の説明では、XY平面を水平方向とし、基板の表面に沿う方向をX方向(例えば図2中、左右方向)およびY方向(例えば図2中、紙面と垂直な方向)とし、XY平面と直交する方向をZ方向として説明する。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a material supply device and a substrate feeding / dispensing device used in the manufacturing method of the liquid crystal device of the present embodiment, and FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a substrate bonding device used in the manufacturing method. 3 to 7 are process diagrams sequentially showing the manufacturing process of this embodiment, and FIG. 8 is a flowchart of the manufacturing process. In the following drawings, the ratios of dimensions, film thickness, and the like of each component are appropriately changed in order to make each component easy to see. In the following description, the XY plane is the horizontal direction, the directions along the surface of the substrate are the X direction (for example, the left-right direction in FIG. 2) and the Y direction (for example, the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 2). The direction orthogonal to the plane will be described as the Z direction.

図1に示すように、シール材および液晶を塗布する材料供給装置63は、略水平なテーブル65と、液滴吐出ヘッド66と、シール材塗布部67とを主体に構成されている。テーブル65は、下基板(一方の基板)10を保持して、X方向、Y方向およびθ方向(Z軸と平行な軸周りの回転方向)に移動自在なものである。液滴吐出ヘッド66は、テーブル65の上方に配設されており、液晶材料を吐出、滴下するものである。シール材塗布部67は、シール材を塗布するものであり、液滴吐出ヘッド66の近傍に配設されている。なお、液晶材料を滴下させる手段として、液滴吐出ヘッド66の他、精密薬液吐出機(計量型ディスペンサ)など、滴下する液晶材料量を制御できるものであれば、どのような装置を用いてもよい。   As shown in FIG. 1, the material supply device 63 for applying a sealing material and liquid crystal mainly includes a substantially horizontal table 65, a droplet discharge head 66, and a sealing material application unit 67. The table 65 holds the lower substrate (one substrate) 10 and is movable in the X direction, the Y direction, and the θ direction (rotation direction around an axis parallel to the Z axis). The droplet discharge head 66 is disposed above the table 65 and discharges and drops a liquid crystal material. The sealing material application unit 67 applies a sealing material, and is disposed in the vicinity of the droplet discharge head 66. As a means for dropping the liquid crystal material, any apparatus can be used as long as it can control the amount of liquid crystal material to be dropped, such as a precision liquid discharger (measuring type dispenser) in addition to the liquid drop discharge head 66. Good.

また、図1に示す基板給除装置62は、材料供給装置63と後述する基板貼り合わせ装置64との間で下基板10を搬送するキャリアであり、下基板10を水平方向(XY平面)に対して傾いた状態に保持できるテーブル61(特許請求の範囲における「テーブル」に相当する)を備えたものである。テーブル61は、接着力、真空力、機械式保持等の保持方法により下基板10を保持するものであり、下基板10のXY平面に対する傾きを、±30°の範囲の任意の角度に変更可能なものである。
また、基板給除装置62には、下基板10上における液晶の高さを測定する測定装置51と、測定装置51によって測定された液晶の高さと下基板10上におけるシール材の高さとを比較する比較装置53と、比較装置53により比較された比較結果に基づいて基板給除装置62による搬送を制御する制御部54とが設けられている。そして、基板給除装置62は、制御部54に制御されることによって、下基板10上におけるシール材の高さよりも液晶の高さが低い場合に、材料供給装置63から受け取った下基板10を基板貼り合わせ装置64に搬送するようになっている。
1 is a carrier for transporting the lower substrate 10 between the material supply device 63 and a substrate laminating device 64 described later. The lower substrate 10 is moved in the horizontal direction (XY plane). It is provided with a table 61 (corresponding to “table” in the claims) that can be held in an inclined state. The table 61 holds the lower substrate 10 by a holding method such as adhesive force, vacuum force, mechanical holding, and the inclination of the lower substrate 10 with respect to the XY plane can be changed to any angle within a range of ± 30 °. It is a thing.
The substrate feeding / dispensing device 62 compares the height of the liquid crystal measured by the measuring device 51 with the height of the sealing material on the lower substrate 10 for measuring the height of the liquid crystal on the lower substrate 10. And a control unit 54 that controls the conveyance by the substrate feeding / dispensing device 62 based on the comparison result compared by the comparison device 53. The substrate feeding / dispensing device 62 controls the lower substrate 10 received from the material supply device 63 when the height of the liquid crystal is lower than the height of the sealing material on the lower substrate 10 by being controlled by the control unit 54. It is conveyed to the substrate bonding apparatus 64.

測定装置51としては、非接触で測定できるものが用いられ、レーザ変位計や、カメラによって撮影された下基板10上における液晶の面積(液晶と基板との接触面積)に基づいて下基板10上における液晶の高さを算出する画像処理装置(面積測定装置)を用いることが好ましい。
また、比較装置53および制御部54としては、PC(パーソナルコンピュータ)を用いることができる。比較装置53および制御部54としての機能は、これらの機能を実現するためのプログラムを、PCに備わるメモリにロードしてCPU(中央処理装置)が実行することによりその機能が実現されるものとする。比較装置53に入力される下基板10上におけるシール材の高さは、下基板10上における液晶の高さとともに測定装置51で測定された実測値とすることができるが、例えば、予めシール材の塗布量と基板上でのシール材の高さとの関係を求める実験を行ない、その実験結果に基づいて塗布量から算出される予測値であってもよい。
As the measuring device 51, a device that can be measured in a non-contact manner is used. Based on the area of the liquid crystal (contact area between the liquid crystal and the substrate) on the lower substrate 10 photographed by a laser displacement meter or a camera, It is preferable to use an image processing device (area measuring device) that calculates the height of the liquid crystal.
Further, as the comparison device 53 and the control unit 54, a PC (personal computer) can be used. The functions as the comparison device 53 and the control unit 54 are realized by loading a program for realizing these functions into a memory provided in the PC and executing it by a CPU (central processing unit). To do. The height of the sealing material on the lower substrate 10 input to the comparison device 53 can be an actual value measured by the measuring device 51 together with the height of the liquid crystal on the lower substrate 10. An estimated value calculated from the coating amount based on the experiment result obtained by conducting an experiment for obtaining the relationship between the coating amount and the height of the sealing material on the substrate.

図2に示す基板貼り合わせ装置64は、シール材の高さよりも液晶の高さが低い場合に貼り合わせを行なうものである。基板貼り合わせ装置64は、基板を保持してX方向、Y方向、Z軸と平行な軸周りの回転方向であるθ方向に移動自在なテーブル68と、テーブル68上に設置された下チャック部69と、下チャック部69の上方に配置された真空チャンバ70と、真空チャンバ70内に下チャック部69と対向配置された上チャック部71と、上チャック部71をZ方向に移動自在に支持し、且つ下チャック部69に向けて加圧する下降機構72と、から概略構成されている。真空チャンバ70には、覗き窓70aと排気部76とが設けられている。覗き窓70aの上方には、覗き窓70aを介して基板上のアライメントマークを拡大、観測する貼り合わせ用顕微鏡74が配置され、貼り合わせ用顕微鏡74には、拡大されたアライメントマークの画像を取り込むCCDカメラ81が備えられている。排気部76には、収容空間70b内の気体を排気(真空引き)するための真空ポンプ等の吸引装置78が接続されている。また、真空チャンバ70には、シール材を仮硬化させる紫外線を照射する水銀ランプ等のUVランプからファイバなどを経路として使用したUV照射ユニット82が備えられている。なお、UV照射ユニット82は、シール材の粘度を高める程度のエネルギーを供給できればよい。また、シール材にエネルギーを与える手段は、UVランプに限られることなく、加熱・冷却装置や、可視光照射装置など、シール材の性質によりさまざまな装置を用いることができる。   The substrate bonding apparatus 64 shown in FIG. 2 performs bonding when the height of the liquid crystal is lower than the height of the sealing material. The substrate bonding apparatus 64 includes a table 68 that holds the substrate and is movable in the θ direction, which is a rotational direction around an axis parallel to the X direction, the Y direction, and the Z axis, and a lower chuck portion installed on the table 68. 69, a vacuum chamber 70 disposed above the lower chuck portion 69, an upper chuck portion 71 disposed opposite to the lower chuck portion 69 in the vacuum chamber 70, and an upper chuck portion 71 movably supported in the Z direction. And a lowering mechanism 72 that pressurizes the lower chuck portion 69. The vacuum chamber 70 is provided with a viewing window 70 a and an exhaust part 76. A bonding microscope 74 for magnifying and observing the alignment mark on the substrate through the sighting window 70a is disposed above the sighting window 70a. The bonding microscope 74 captures an image of the enlarged alignment mark. A CCD camera 81 is provided. The exhaust unit 76 is connected to a suction device 78 such as a vacuum pump for exhausting (evacuating) the gas in the accommodation space 70b. Further, the vacuum chamber 70 is provided with a UV irradiation unit 82 that uses a fiber or the like as a path from a UV lamp such as a mercury lamp that irradiates ultraviolet rays that temporarily cure the sealing material. In addition, the UV irradiation unit 82 should just supply the energy of the grade which raises the viscosity of a sealing material. The means for applying energy to the sealing material is not limited to the UV lamp, and various devices such as a heating / cooling device and a visible light irradiation device can be used depending on the properties of the sealing material.

さらに、基板貼り合わせ装置64には、CCDカメラ81により取り込まれた画像を処理する画像処理部83と、画像処理部83により処理されたデータに基づいてテーブル68と下降機構72とを制御する制御部84が設けられている。また、下チャック部69および上チャック部71には、互いに対向する保持面69a、71aでそれぞれ基板を保持するための保持機構(図示せず)が備えられている。なお、下チャック部69および上チャック部71には、静電気力や粘着力を用いたチャック機構、または機械的に基板を保持する機械的保持機構など、略真空雰囲気においても基板を保持できる機構であれば、どのような保持機構が備えられていてもよい。例えば、基板に石英ガラスを用いた場合、静電気力による保持方法を用いると、保持力が弱く、基板の相対位置を十分な精度で調整することができない。その一方、接着力、分子間力、真空力、機械式保持等の保持方法であれば、石英ガラスでも十分な保持力を発揮することができるため、下チャック部69および上チャック部71の保持機構に用いて好適である。   Further, the substrate bonding apparatus 64 includes an image processing unit 83 that processes an image captured by the CCD camera 81, and a control that controls the table 68 and the lowering mechanism 72 based on the data processed by the image processing unit 83. A portion 84 is provided. Further, the lower chuck portion 69 and the upper chuck portion 71 are provided with holding mechanisms (not shown) for holding the substrate by holding surfaces 69a and 71a facing each other. The lower chuck portion 69 and the upper chuck portion 71 are mechanisms that can hold the substrate even in a substantially vacuum atmosphere, such as a chuck mechanism using electrostatic force or adhesive force, or a mechanical holding mechanism that mechanically holds the substrate. Any holding mechanism may be provided as long as it is present. For example, when quartz glass is used for the substrate, if a holding method using electrostatic force is used, the holding force is weak and the relative position of the substrate cannot be adjusted with sufficient accuracy. On the other hand, a holding method such as an adhesive force, an intermolecular force, a vacuum force, or a mechanical holding method can exert a sufficient holding force even with quartz glass, so that the lower chuck portion 69 and the upper chuck portion 71 can be held. It is suitable for use in a mechanism.

続いて、上記の製造装置を用いて薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor, 以下、TFTと略記する)をスイッチング素子としたアクティブマトリクス方式の液晶装置100を製造する手順について、図3〜図8を用いて説明する。
まず、ガラス基板上にTFTを形成し、さらに画素電極および配向膜等を形成してTFTアレイ基板を作製する(図8中のステップS1)。また、別のガラス基板上に遮光膜、対向電極、配向膜等を形成して対向基板を作製する(図8中のステップS2)。
なお、以下の説明においては、TFTアレイ基板を下基板10と称し、対向基板を上基板20(他方の基板)と称して説明する。
Subsequently, a procedure for manufacturing an active matrix liquid crystal device 100 using a thin film transistor (hereinafter abbreviated as TFT) as a switching element using the above manufacturing apparatus will be described with reference to FIGS. To do.
First, a TFT is formed on a glass substrate, and further a pixel electrode and an alignment film are formed to produce a TFT array substrate (step S1 in FIG. 8). Further, a light shielding film, a counter electrode, an alignment film, and the like are formed on another glass substrate to produce a counter substrate (step S2 in FIG. 8).
In the following description, the TFT array substrate is referred to as the lower substrate 10 and the counter substrate is referred to as the upper substrate 20 (the other substrate).

TFT等が形成された下基板10は、図3に示すように、基板給除装置62により運搬され、材料供給装置63のテーブル65上に給材される(図1参照)。そして、テーブル65を移動させつつ、シール材塗布部67からシール材52を供給させることで、下基板10上にシール材52が閉じた枠状に塗布される(図8中のステップS3)。
本実施形態において用いられるシール材52としては、下基板10を傾斜させても平面形状が変化しない程度に低い流動性を有するものであれば従来からシール材として用いられているいかなるものであってもよく、例えば、UV硬化型樹脂や熱硬化樹脂等を用いることができる。また、本実施形態においては、シール材52として、図3に示すように、略球形状のギャップ制御材(スペーサー)52aが含まれているもの用いることができる。ギャップ制御材52aは、セル厚を一定に保持するためのものであり、ギャップ制御材52aの直径は、セルギャップと略同じ寸法(直径3〜5μm)とされている。なお、ギャップ制御材52aとしては、図3に示すように、シール材52に含有された略球形状のものを用いることができるが、シール材に含有された繊維形状のものや、シール材に含有されず基板から柱状に突出して形成されたもの等、種々のものを使用することができる。
As shown in FIG. 3, the lower substrate 10 on which the TFT and the like are formed is transported by the substrate feeding / unloading device 62 and fed onto the table 65 of the material feeding device 63 (see FIG. 1). Then, the sealing material 52 is supplied from the sealing material application unit 67 while moving the table 65, so that the sealing material 52 is applied in a closed frame shape on the lower substrate 10 (step S3 in FIG. 8).
As the sealing material 52 used in the present embodiment, any sealing material conventionally used as a sealing material can be used as long as it has low fluidity so that the planar shape does not change even when the lower substrate 10 is inclined. For example, a UV curable resin or a thermosetting resin can be used. In the present embodiment, as the sealing material 52, as shown in FIG. 3, a material including a substantially spherical gap control material (spacer) 52a can be used. The gap control material 52a is for keeping the cell thickness constant, and the diameter of the gap control material 52a is approximately the same as the cell gap (diameter 3 to 5 μm). As the gap control material 52a, as shown in FIG. 3, a substantially spherical shape contained in the sealing material 52 can be used. Various things, such as what was not contained but protruded in the column shape from the board | substrate, can be used.

次に、図3に示すように、テーブル65を移動させつつ液滴吐出ヘッド66から液晶50を吐出、滴下して、下基板10上のシール材52で囲まれた位置に液晶50を配置する((液晶供給工程)図8中のステップS4)。なお、図3では、液晶50は、シール材52で囲まれた領域の1箇所に滴下するように図示しているが、1箇所に滴下するものに限られることなく、複数の箇所に滴下してもよい。     Next, as shown in FIG. 3, the liquid crystal 50 is discharged and dropped from the droplet discharge head 66 while moving the table 65, and the liquid crystal 50 is disposed at a position surrounded by the sealing material 52 on the lower substrate 10. ((Liquid Crystal Supply Process) Step S4 in FIG. 8). In FIG. 3, the liquid crystal 50 is shown to be dropped at one place in the region surrounded by the sealing material 52, but the liquid crystal 50 is not limited to being dropped at one place, and is dropped at a plurality of places. May be.

図3に示すように、シール材52が形成され、液晶50が供給された下基板10は、材料供給装置63から取り出され、基板給除装置62のテーブル61上に載置されて保持される。本実施形態では、テーブル61のXY平面に対する傾きを変更させることで、下基板10を水平方向に対して傾斜させる(図8中のステップS5)。ここで、図4を用いて、本実施形態において下基板10を傾斜させたときの液晶の変化を説明する。   As shown in FIG. 3, the lower substrate 10 on which the sealing material 52 is formed and the liquid crystal 50 is supplied is taken out from the material supply device 63 and placed and held on the table 61 of the substrate supply / removal device 62. . In the present embodiment, the lower substrate 10 is tilted with respect to the horizontal direction by changing the tilt of the table 61 with respect to the XY plane (step S5 in FIG. 8). Here, the change of the liquid crystal when the lower substrate 10 is tilted in the present embodiment will be described with reference to FIG.

図4は、基板給除装置62の一部を拡大して示した図であり、テーブル61に保持された下基板10上の液晶の状態を説明するための側面図である。図4(a)は、液晶50を滴下した直後の下基板10を示した側面図であり、シール材52の高さH2よりも液晶50の高さH1が高くなっている。図4(b)に示すように、図4(a)に示す下基板10の水平方向に対する角度を、テーブル61のXY平面に対する傾きθ1を変更させることにより傾斜させて所定の時間保持させると、液晶50が下基板10上の傾斜に沿って流れて広がり、下基板10上における液晶50の接触面積が拡大される。
テーブル61のXY平面に対する傾きθ1は、5°〜40°の範囲とすることが望ましく、15°〜30°の範囲とすることがより望ましい。傾きθ1が15°未満であると、液晶50の下基板10上の傾斜に沿う流れが生じにくく、液晶50が下基板10上に広がる効果が十分に得られない場合が生じる。また、傾きθ1が30°を越えると、液晶50の下基板10上の傾斜に沿う流れが速くなりすぎて、液晶50が下基板10上に広がりすぎる虞が生じ、下基板10上における液晶50の接触面積を所望の面積とすることが困難となる場合がある。
FIG. 4 is an enlarged view of a part of the substrate feeding / dispensing device 62, and is a side view for explaining the state of the liquid crystal on the lower substrate 10 held by the table 61. FIG. 4A is a side view showing the lower substrate 10 immediately after the liquid crystal 50 is dropped, and the height H1 of the liquid crystal 50 is higher than the height H2 of the sealing material 52. FIG. As shown in FIG. 4B, when the angle with respect to the horizontal direction of the lower substrate 10 shown in FIG. 4A is inclined by changing the inclination θ1 with respect to the XY plane of the table 61 and held for a predetermined time, The liquid crystal 50 flows and spreads along the inclination on the lower substrate 10, and the contact area of the liquid crystal 50 on the lower substrate 10 is expanded.
The inclination θ1 of the table 61 with respect to the XY plane is preferably in the range of 5 ° to 40 °, and more preferably in the range of 15 ° to 30 °. If the inclination θ1 is less than 15 °, a flow along the inclination of the liquid crystal 50 on the lower substrate 10 is difficult to occur, and the effect of spreading the liquid crystal 50 on the lower substrate 10 may not be sufficiently obtained. In addition, when the inclination θ1 exceeds 30 °, the flow along the inclination of the liquid crystal 50 on the lower substrate 10 becomes too fast, and there is a possibility that the liquid crystal 50 spreads over the lower substrate 10. It may be difficult to make the contact area of the desired area.

そして、所定の時間経過後、図4(c)に示すように、テーブル61のXY平面に対する傾きθ1を0°に変更させて下基板10を略水平に保持させ、下基板10上における液晶50の高さH1とシール材52の高さH2とを、測定装置51によって測定させる(図8中のステップS6)。図4(c)に示す下基板10上における液晶50の高さH1は、図4(a)および図4(c)に示すように、下基板10を傾斜させる前よりも低くなるが、シール材52の高さは、ほとんど変化しない。
なお、本実施形態においては、液晶50の高さH1とシール材52の高さH2とを、下基板10を略水平とした状態で測定装置51によって測定したが、例えば、測定装置として、テーブル61と対向配置した状態でテーブル61の傾斜に連動して移動するものを用い、液晶50の高さH1とシール材52の高さH2とを、下基板10の水平方向に対する角度を傾斜させた状態で測定してもよい。
Then, after a predetermined time has elapsed, as shown in FIG. 4C, the inclination θ1 of the table 61 with respect to the XY plane is changed to 0 ° to hold the lower substrate 10 substantially horizontally, and the liquid crystal 50 on the lower substrate 10 is held. The height H1 and the height H2 of the sealing material 52 are measured by the measuring device 51 (step S6 in FIG. 8). The height H1 of the liquid crystal 50 on the lower substrate 10 shown in FIG. 4C is lower than that before the lower substrate 10 is tilted as shown in FIGS. 4A and 4C. The height of the material 52 hardly changes.
In the present embodiment, the height H1 of the liquid crystal 50 and the height H2 of the sealing material 52 are measured by the measuring device 51 in a state where the lower substrate 10 is substantially horizontal. The liquid crystal 50 height H1 and the sealing material 52 height H2 are tilted at an angle with respect to the horizontal direction of the lower substrate 10 using the one that moves in conjunction with the tilt of the table 61 in a state of being opposed to the head 61. You may measure in a state.

測定装置51によって測定された液晶50の高さH1とシール材52の高さH2の測定データが、比較装置53に入力されると、比較装置53によってシール材52の高さH2と液晶50の高さH1とが比較される((比較工程)図8中のステップS7)。比較した結果、シール材52の高さH2よりも液晶50の高さH1が高い場合には、図8中のステップS5に戻り、比較した結果がシール材52の高さH2よりも液晶50の高さH1が低くなるまで、図8中のステップS5から図8中のステップS7までの工程が繰り返される。一方、図4(c)に示すように、比較した結果、シール材52の高さH2よりも液晶50の高さH1が低い場合には、基板給除装置62によって基板貼り合わせ装置64に下基板10が搬送される。  When the measurement data of the height H1 of the liquid crystal 50 and the height H2 of the sealing material 52 measured by the measuring device 51 is input to the comparison device 53, the height H2 of the sealing material 52 and the height of the liquid crystal 50 are measured by the comparison device 53. The height H1 is compared ((comparison process) step S7 in FIG. 8). As a result of comparison, when the height H1 of the liquid crystal 50 is higher than the height H2 of the sealing material 52, the process returns to step S5 in FIG. 8, and the comparison result shows that the liquid crystal 50 is higher than the height H2 of the sealing material 52. Steps S5 in FIG. 8 to step S7 in FIG. 8 are repeated until the height H1 is lowered. On the other hand, as shown in FIG. 4C, when the comparison result shows that the height H1 of the liquid crystal 50 is lower than the height H2 of the sealing material 52, the substrate feeding / unloading device 62 lowers the substrate bonding device 64. The substrate 10 is transferred.

基板給除装置62により運搬されて基板貼り合わせ装置64の下チャック部69に給材された下基板10(なお、以下の説明では便宜上、液晶50およびシール材52の図示を省略する)は、図5に示すように、保持機構により保持される。また、対向電極等が形成された上基板20が、基板給除装置62により運搬されて基板貼り合わせ装置64の上チャック部71に給材され、図5に示すように、保持機構により保持される。
そして、図6(a)に示すように、真空チャンバ70を下降させて下チャック部69に当接させ、収容空間70bを密封状態に閉塞する。収容空間70bが密封状態となったら、排気部76から負圧吸引して収容空間70b内を略真空状態(1.33Pa〜1.33×10−2Pa)とする。
The lower substrate 10 transported by the substrate feeding / unloading device 62 and fed to the lower chuck portion 69 of the substrate bonding device 64 (note that the liquid crystal 50 and the sealing material 52 are not shown in the following description for the sake of convenience) As shown in FIG. 5, it is held by a holding mechanism. Further, the upper substrate 20 on which the counter electrode and the like are formed is transported by the substrate feeding / unloading device 62 and supplied to the upper chuck portion 71 of the substrate bonding device 64, and is held by the holding mechanism as shown in FIG. The
Then, as shown in FIG. 6A, the vacuum chamber 70 is lowered and brought into contact with the lower chuck portion 69 to close the housing space 70b in a sealed state. When the storage space 70b is in a sealed state, negative pressure is sucked from the exhaust part 76 to bring the inside of the storage space 70b into a substantially vacuum state (1.33 Pa to 1.33 × 10 −2 Pa).

収容空間70b内が略真空状態となったら、図6(b)に示すように、上基板20と下基板10とに形成されたアライメントマーク(図示せず)を貼り合わせ用顕微鏡74を用いて拡大してCCDカメラ81に取り込む。CCDカメラ81に取り込まれたアライメントマークの画像データは、画像処理部83に入力され上基板20と下基板10との相対位置が検出される。制御部84は、画像処理部83により検出された相対位置に基づき、テーブル68を駆動して上基板20と下基板10との相対位置のズレが許容範囲以内になるように粗位置決めする。なお、上記収容空間70b内の真空引きと、基板10、20の粗位置決めとは同時に併行して実施してもよいし、粗位置決めを先に実施して真空引きを後から実施してもよい。真空引きと粗位置決めとを同時に実施した場合は、製造時間を短縮することができる。また、上チャック部71には、貼り合わせ用顕微鏡74および覗き窓70aの直下の位置に貫通孔71bが形成されており、この貫通孔71bを介して各基板10、20のアライメントマークを検出することができる。   When the inside of the accommodation space 70b is in a substantially vacuum state, as shown in FIG. 6B, alignment marks (not shown) formed on the upper substrate 20 and the lower substrate 10 are used using a bonding microscope 74. The image is enlarged and taken into the CCD camera 81. The image data of the alignment mark captured by the CCD camera 81 is input to the image processing unit 83, and the relative position between the upper substrate 20 and the lower substrate 10 is detected. Based on the relative position detected by the image processing unit 83, the control unit 84 drives the table 68 to roughly position the relative position between the upper substrate 20 and the lower substrate 10 within an allowable range. Note that the evacuation in the housing space 70b and the rough positioning of the substrates 10 and 20 may be performed concurrently, or the rough positioning may be performed first and the evacuation may be performed later. . When evacuation and rough positioning are performed at the same time, the manufacturing time can be shortened. Further, a through hole 71b is formed in the upper chuck portion 71 at a position directly below the bonding microscope 74 and the viewing window 70a, and the alignment marks of the substrates 10 and 20 are detected through the through hole 71b. be able to.

基板10、20が粗位置決めされたら、図6(c)に示すように、下降機構72により上チャック部71を下降(相対移動)させて対向する基板10、20を貼り合わせる(図8中のステップS8)。さらに上チャック部71を下チャック部69に向けて下降させ、基板10、20に加圧してシール材52を押しつぶす。基板10、20の貼り合わせが完了すると、UV照射ユニット82により紫外線を照射してシール材52を仮硬化させ、シール材の粘度を高める(図8中のステップS9)。
なお、基板10、20を貼り合わせた後の加圧は、製造のプロセスおよびシール材52などの選択によっては実施しなくてもよい。また、UV照射ユニット82によるシール材52の仮硬化も同様にシール材52によっては実施しなくてもよい。
また、貼り合わせ後から精密位置合わせまでの間にズレの発生が予想され、そのズレ量、方向が統計的に予想される場合には、ズレ発生後の基板10、20の位置関係が上述した範囲内に収まるように、あらかじめオフセットさせて粗位置決めしてもよい。
When the substrates 10 and 20 are roughly positioned, as shown in FIG. 6C, the lower chuck 72 lowers (relatively moves) the upper chuck portion 71 and bonds the opposing substrates 10 and 20 together (in FIG. 8). Step S8). Further, the upper chuck portion 71 is lowered toward the lower chuck portion 69, and pressurizes the substrates 10 and 20 to crush the sealing material 52. When the bonding of the substrates 10 and 20 is completed, the UV irradiation unit 82 irradiates ultraviolet rays to temporarily cure the sealing material 52 and increase the viscosity of the sealing material (step S9 in FIG. 8).
Note that the pressurization after bonding the substrates 10 and 20 may not be performed depending on the manufacturing process and the selection of the sealing material 52 and the like. Similarly, the temporary curing of the sealing material 52 by the UV irradiation unit 82 may not be performed depending on the sealing material 52.
Further, when a deviation is expected between the pasting and the precise positioning, and the amount and direction of the deviation are predicted statistically, the positional relationship between the substrates 10 and 20 after the occurrence of the deviation is described above. Rough positioning may be performed by offsetting in advance so as to be within the range.

この後、収容空間70b内に大気が導入され、略真空状態から大気圧に戻される。真空チャンバ70の収容空間70bが大気圧になると、圧力差により両基板10、20は押圧されてシール材52はさらに押しつぶされる(図8中のステップS10)。このとき、シール材52とともに液晶50が加圧されることによって、さらに液晶50の高さが低くなってシール材52の内側全域に拡がり、所定のセルギャップとなる。その後、図7に示すように、上チャック部71と下チャック部69との保持を解除し、真空チャンバ70を上昇させる。そして、下チャック部69に非保持状態で載置されている基板(この場合は基板10、20が貼り合わされた液晶装置100)を基板給除装置62により除材する。その後、精密アライメント、UVランプによるシール材52の本硬化が行われ(図8中のステップS11)、液晶装置100の製造が完了する。   Thereafter, the atmosphere is introduced into the accommodation space 70b, and the pressure is returned from the substantially vacuum state to the atmospheric pressure. When the accommodation space 70b of the vacuum chamber 70 becomes atmospheric pressure, the substrates 10 and 20 are pressed by the pressure difference, and the sealing material 52 is further crushed (step S10 in FIG. 8). At this time, when the liquid crystal 50 is pressurized together with the sealing material 52, the height of the liquid crystal 50 is further reduced and spreads over the entire inner area of the sealing material 52, thereby forming a predetermined cell gap. Thereafter, as shown in FIG. 7, the holding of the upper chuck portion 71 and the lower chuck portion 69 is released, and the vacuum chamber 70 is raised. Then, the substrate placed in the non-holding state on the lower chuck portion 69 (in this case, the liquid crystal device 100 to which the substrates 10 and 20 are bonded) is removed by the substrate feeding / unloading device 62. Thereafter, precision alignment and main curing of the sealing material 52 using a UV lamp are performed (step S11 in FIG. 8), and the manufacture of the liquid crystal device 100 is completed.

本実施形態の液晶装置の製造装置では、比較装置53で比較した結果、シール材52の高さH2よりも液晶50の高さH1が低い場合に、基板給除装置62によって基板貼り合わせ装置64に下基板10が搬送されて基板10、20の貼り合わせが行われるものであるので、基板10、20の貼り合せを行なう際に、上基板20に液晶50が接触した時点で既に上基板20に接触しているシール材52によって、上基板20を伝う液晶50の移動は堰き止められる。したがって、基板10、20を貼り合せる際に、シール材52を乗り越えて液晶50がセルの外部に漏れ出すことを効果的に防止できる。
また、本実施形態の液晶装置の製造方法では、液晶供給工程を行った後に、下基板10を水平方向に対して傾斜させているので、液晶50が下基板10上で移動して広がり、液晶50と下基板10との接触面積が容易に拡大される。よって、例えば、2インチの基板上にセルギャップが5μmとなるように液晶を供給した際に、シール材の高さよりも液晶の高さを低くするのに要する時間は、放置するだけでは5分以上かかるが、一方の基板を水平方向に対して傾斜させた場合、2分程度で済み、基板を水平にして放置した場合と比較して、短時間でシール材52の高さよりも液晶50の高さを低くすることができる。
In the liquid crystal device manufacturing apparatus of this embodiment, as a result of comparison by the comparison device 53, when the height H1 of the liquid crystal 50 is lower than the height H2 of the sealing material 52, the substrate bonding device 64 is used by the substrate feeding / dispensing device 62. Therefore, when the substrates 10 and 20 are bonded together, the upper substrate 20 is already bonded when the liquid crystal 50 comes into contact with the upper substrate 20. The movement of the liquid crystal 50 along the upper substrate 20 is blocked by the sealing material 52 in contact with the upper substrate 20. Therefore, when the substrates 10 and 20 are bonded together, it is possible to effectively prevent the liquid crystal 50 from leaking outside the cell over the sealing material 52.
In the liquid crystal device manufacturing method of the present embodiment, since the lower substrate 10 is tilted with respect to the horizontal direction after the liquid crystal supplying step, the liquid crystal 50 moves and spreads on the lower substrate 10, and the liquid crystal The contact area between 50 and the lower substrate 10 is easily enlarged. Therefore, for example, when liquid crystal is supplied on a 2 inch substrate so that the cell gap is 5 μm, the time required to make the liquid crystal height lower than the sealing material is 5 minutes if it is left alone. As described above, when one substrate is inclined with respect to the horizontal direction, it takes about 2 minutes. Compared with the case where the substrate is left in a horizontal position, the liquid crystal 50 has a shorter time than the height of the sealing material 52. The height can be lowered.

また、本実施形態の液晶装置の製造装置では、液晶供給工程よりも前に、シール材52を形成する工程を行なうので、液晶50がシール材52を形成した下基板10に対して供給されることになり、シール材52の高さよりも液晶50の高さを低くする際に、シール材52が土手となって液晶50が必要以上に広がることを防止できる。   In the liquid crystal device manufacturing apparatus of the present embodiment, the step of forming the sealing material 52 is performed before the liquid crystal supplying step, so that the liquid crystal 50 is supplied to the lower substrate 10 on which the sealing material 52 is formed. In other words, when the height of the liquid crystal 50 is made lower than the height of the sealing material 52, it is possible to prevent the liquid crystal 50 from spreading more than necessary by using the sealing material 52 as a bank.

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。上述した実施形態では、下基板10を水平方向に対する第1の角度(テーブル61のXY平面に対する傾きθ1)に傾斜させる方法としたが、例えば、下基板10を、図4(b)に示すテーブル61のXY平面に対する傾きθ1(第1の角度)と、第1の角度θ1で傾けたときの下基板10の上端を下端に下端を上端にした図9に示す第2の角度θ2とに、交互に傾斜させて、第1の方向と、第1の方向の逆方向との2方向に向かって効率よく均一に液晶50を広げる方法としてもよい。また、図9に示す例においては、第2の角度θ2が第1の角度θ1と同程度の角度とされている。この場合、第1の角度θ1で傾けておく時間と、第2の角度θ2で傾けておく時間とを同一にすることで、容易に均一に液晶50を広げることができる。なお、図9に示す例においては、第2の角度θ2と第1の角度θ1とを同程度の角度としたが、第2の角度θ2と第1の角度θ1とは、異なっていてもよい。   In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above. In the above-described embodiment, the lower substrate 10 is inclined at the first angle with respect to the horizontal direction (inclination θ1 with respect to the XY plane of the table 61). For example, the lower substrate 10 is formed on the table shown in FIG. An inclination θ1 (first angle) of 61 with respect to the XY plane and a second angle θ2 shown in FIG. 9 with the upper end of the lower substrate 10 at the lower end and the lower end at the upper end when tilted at the first angle θ1, Alternatively, the liquid crystal 50 may be efficiently and uniformly spread in two directions of the first direction and the opposite direction of the first direction by alternately inclining. In the example shown in FIG. 9, the second angle θ <b> 2 is approximately the same as the first angle θ <b> 1. In this case, the liquid crystal 50 can be easily and uniformly spread by making the time for tilting at the first angle θ1 equal to the time for tilting at the second angle θ2. In the example shown in FIG. 9, the second angle θ2 and the first angle θ1 are set to the same degree, but the second angle θ2 and the first angle θ1 may be different. .

また、上述した実施形態では、基板給除装置62のテーブル61を、下基板10を水平方向に対して傾いた状態に保持できるものとし、図3に示すように、略水平な材料供給装置63のテーブル65上で、液晶50を吐出、滴下する方法としたが、例えば、材料供給装置63のテーブル65を、下基板10を水平方向に対して傾いた状態で保持できるものとし、水平方向に対して傾斜させた下基板10上に、液晶50を吐出、滴下する方法としてもよい。   In the above-described embodiment, the table 61 of the substrate feeding / dispensing device 62 can be held in a state where the lower substrate 10 is tilted with respect to the horizontal direction, and as shown in FIG. The liquid crystal 50 is discharged and dropped on the table 65. For example, the table 65 of the material supply device 63 can be held in a state where the lower substrate 10 is inclined with respect to the horizontal direction, and the horizontal direction is set. Alternatively, the liquid crystal 50 may be discharged and dropped onto the lower substrate 10 inclined with respect to the substrate 10.

また、本発明では、液晶供給工程において、液晶50を1箇所に供給してもよいが、図10(a)に示すように、液晶50を複数箇所に分割して供給してもよい。
この場合、図10(a)に示すように、下基板10上に供給された液晶50a、50b、50cは、下基板10上に供給された当初から、液晶50を1箇所に供給した場合と比較して、低い高さになるとともに、下基板10と液晶との接触面積が広範囲となる。このため、液晶50を複数箇所に分割して供給した場合、液晶50を1箇所に供給した場合と比較して、シール材52の高さH2よりも液晶50の高さH1を低くする時間を短時間とすることができる。
In the present invention, in the liquid crystal supply step, the liquid crystal 50 may be supplied to one place, but as shown in FIG. 10A, the liquid crystal 50 may be divided and supplied to a plurality of places.
In this case, as shown in FIG. 10A, the liquid crystals 50a, 50b, and 50c supplied onto the lower substrate 10 are supplied from the beginning when the liquid crystal 50 is supplied onto the lower substrate 10. In comparison, the height becomes low and the contact area between the lower substrate 10 and the liquid crystal becomes wide. For this reason, when the liquid crystal 50 is divided and supplied to a plurality of locations, the time for lowering the height H1 of the liquid crystal 50 than the height H2 of the sealing material 52 is shorter than when the liquid crystal 50 is supplied to one location. It can be a short time.

また、上述した実施形態では、シール材52の高さH2よりも液晶50の高さH1を低くする時間を短時間とするために、基板給除装置62のテーブル61を、下基板10を水平方向に対して傾いた状態に保持できるものとしたが、例えば、図10(b)に示すように、基板給除装置62のテーブル61を、下基板10に対して超音波振動を加える振動発生装置11(超音波発生装置)を備えるものとしてもよい。
この場合、液晶供給工程を行う際、又は行った後に、下基板10に超音波振動を加えることによって液晶50を広がりやすくすることができ、容易にシール材52の高さH2よりも液晶50の高さH1を低くすることができる。よって、例えば、下基板10に超音波振動を加えない場合と比較して、基板上に液晶を供給してから2枚の基板を貼り合せるまでの時間を短時間とすることができる。なお、図10(b)に示す例においては、振動発生装置11として超音波振動を加えるものとしたが、振動発生装置は、液晶50を広がりやすくすることができる振動であれば超音波でなくてもよい。
In the above-described embodiment, the table 61 of the substrate feeding / dispensing device 62 is placed horizontally with the lower substrate 10 in order to shorten the time for the height H1 of the liquid crystal 50 to be lower than the height H2 of the sealing material 52. Although it can be held in a state inclined with respect to the direction, for example, as shown in FIG. 10B, the table 61 of the substrate feeding / dispensing device 62 generates vibrations that apply ultrasonic vibration to the lower substrate 10 The apparatus 11 (ultrasonic generator) may be provided.
In this case, the liquid crystal 50 can be easily spread by applying ultrasonic vibration to the lower substrate 10 during or after the liquid crystal supplying step, and the liquid crystal 50 can be easily expanded beyond the height H2 of the sealing material 52. The height H1 can be lowered. Therefore, for example, as compared with the case where ultrasonic vibration is not applied to the lower substrate 10, the time from supplying the liquid crystal onto the substrate to bonding the two substrates can be shortened. In the example shown in FIG. 10B, ultrasonic vibration is applied as the vibration generating device 11, but the vibration generating device is not ultrasonic if it can vibrate the liquid crystal 50 easily. May be.

[電子機器]
以下、上記実施の形態の液晶装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
図11は、携帯電話の一例を示した斜視図である。
図11において、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記実施の形態の液晶装置を用いた表示部を示している。
図11に示す携帯電話1000は、上記の液晶装置を用いた表示部1001を備えているので、所望の電気的特性を有し、信頼性に優れた表示部を有する電子機器を実現することができる。
[Electronics]
Hereinafter, specific examples of electronic devices including the liquid crystal device of the above embodiment will be described.
FIG. 11 is a perspective view showing an example of a mobile phone.
In FIG. 11, reference numeral 1000 denotes a mobile phone main body, and reference numeral 1001 denotes a display unit using the liquid crystal device of the above embodiment.
Since the cellular phone 1000 illustrated in FIG. 11 includes the display portion 1001 using the above liquid crystal device, an electronic device having a display portion with desired electrical characteristics and excellent reliability can be realized. it can.

なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば上記実施の形態では、電気光学装置の例としてTFTをスイッチング素子としたアクティブマトリクス型液晶装置の例を挙げたが、薄膜ダイオード(Thin Film Diode,TFD)をスイッチング素子としたアクティブマトリクス型の液晶装置、パッシブマトリクス型の液晶装置でも良い。   The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above-described embodiment, an example of an active matrix liquid crystal device using a TFT as a switching element is given as an example of an electro-optical device. However, an active matrix liquid crystal device using a thin film diode (TFD) as a switching element. A device or a passive matrix liquid crystal device may be used.

本実施形態の液晶装置の製造方法に用いる材料供給装置および基板給除装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the material supply apparatus and board | substrate supply / discharge apparatus used for the manufacturing method of the liquid crystal device of this embodiment. 同、製造方法に用いる基板貼り合わせ装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the board | substrate bonding apparatus used for a manufacturing method equally. 同、製造プロセスを示す工程図である。It is process drawing which shows a manufacturing process equally. 同、工程図の続きである。It is a continuation of the process diagram. 同、工程図の続きである。It is a continuation of the process diagram. 同、工程図の続きである。It is a continuation of the process diagram. 同、工程図の続きである。It is a continuation of the process diagram. 同、製造プロセスのフローチャートである。2 is a flowchart of the manufacturing process. 本発明の他の例を説明するための図であり、下基板上の液晶の状態を説明するための側面図である。It is a figure for demonstrating the other example of this invention, and is a side view for demonstrating the state of the liquid crystal on a lower board | substrate. 本発明の他の例を説明するための図であり、下基板上の液晶の状態を説明するための側面図である。It is a figure for demonstrating the other example of this invention, and is a side view for demonstrating the state of the liquid crystal on a lower board | substrate. 電子機器の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

10…下基板(一方の基板)、11…振動発生装置、20…上基板、50、50a、50b、50c…液晶、52…シール材、62…基板給除装置、51…測定装置、53…比較装置、54…制御部、63…材料供給装置、64…基板貼り合わせ装置、61、65、68…テーブル、66…液滴吐出ヘッド、67…シール材塗布部、69…下チャック部、70…真空チャンバ、70b…収容空間、100…液晶装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Lower board | substrate (one board | substrate), 11 ... Vibration generator, 20 ... Upper board | substrate, 50, 50a, 50b, 50c ... Liquid crystal, 52 ... Sealing material, 62 ... Substrate feeding / discharging apparatus, 51 ... Measuring apparatus, 53 ... Comparative device 54... Control unit 63. Material supply device 64. Substrate bonding device 61, 65, 68. Table 66 66 Droplet discharge head 67 67 Seal material application unit 69 69 Lower chuck unit 70 ... Vacuum chamber, 70b ... Accommodating space, 100 ... Liquid crystal device

Claims (14)

シール材を介して貼り合わされた一対の基板の間に液晶を配置してなる液晶装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうちの一方の基板上に前記シール材を形成する工程と、
前記一方の基板上に液晶を供給する液晶供給工程と、
前記一対の基板を貼り合せる前に、前記一方の基板上における前記シール材の高さと、前記液晶の高さとを比較する比較工程と、
前記シール材の高さよりも前記液晶の高さが低い場合に、前記一方の基板に前記シール材を介して他方の基板を貼り合せる工程とを備えたことを特徴とする、液晶装置の製造方法。
A method for manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is disposed between a pair of substrates bonded via a sealing material,
Forming the sealing material on one of the pair of substrates;
A liquid crystal supply step for supplying liquid crystal on the one substrate;
A comparison step of comparing the height of the sealing material on the one substrate and the height of the liquid crystal before bonding the pair of substrates;
And a step of bonding the other substrate to the one substrate via the sealing material when the height of the liquid crystal is lower than the height of the sealing material. .
前記液晶供給工程を行った後に、前記一方の基板を水平方向に対して傾斜させることを特徴とする、請求項1に記載の液晶装置の製造方法。   The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein the one substrate is inclined with respect to a horizontal direction after the liquid crystal supply step. 前記液晶供給工程において、前記一方の基板を水平方向に対して傾斜させて前記液晶の供給を行なうことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の液晶装置の製造方法。   3. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein, in the liquid crystal supply step, the liquid crystal is supplied while the one substrate is inclined with respect to a horizontal direction. 前記液晶供給工程を行う際、又は行った後に、前記一方の基板に振動を加えることを特徴とする、請求項1に記載の液晶装置の製造方法。  2. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein vibration is applied to the one substrate during or after the liquid crystal supply step. 前記振動が、超音波振動であることを特徴とする、請求項4に記載の液晶装置の製造方法。   The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 4, wherein the vibration is ultrasonic vibration. 前記液晶供給工程は、前記液晶を複数箇所に供給することを特徴とする、請求項1に記載の液晶装置の製造方法。  The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal supplying step supplies the liquid crystal to a plurality of locations. シール材を介して貼り合わされた一対の基板の間に液晶を配置してなる液晶装置の製造装置であって、
前記シール材が形成され、当該シール材の内側の領域に液晶を供給する液晶供給装置と、
前記液晶が供給された前記一対の基板のうちの一方の基板上における貼り合せる前の前記液晶の高さを測定する測定装置と、
前記測定装置によって測定された前記液晶の高さと、貼り合せる前の前記一方の基板上における前記シール材の高さとを比較する比較装置と、
前記一方の基板上に前記シール材を介して他方の基板を貼り合せる基板貼り合わせ装置とを備え、
前記基板貼り合わせ装置が、前記シール材の高さよりも前記液晶の高さが低い場合に貼り合わせを行なうものであることを特徴とする、液晶装置の製造装置。
An apparatus for manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is disposed between a pair of substrates bonded via a sealing material,
A liquid crystal supply device that forms the sealing material and supplies liquid crystal to a region inside the sealing material;
A measuring device for measuring the height of the liquid crystal before being bonded on one of the pair of substrates supplied with the liquid crystal;
A comparison device for comparing the height of the liquid crystal measured by the measurement device with the height of the sealing material on the one substrate before bonding;
A substrate laminating apparatus for laminating the other substrate on the one substrate via the sealing material;
The apparatus for manufacturing a liquid crystal device, wherein the substrate bonding apparatus performs bonding when the height of the liquid crystal is lower than the height of the sealing material.
貼り合せる前の前記一方の基板を保持するテーブルを備え、
前記テーブルが、前記一方の基板を水平方向に対して傾いた状態で保持できるものであることを特徴とする、請求項7に記載の液晶装置の製造装置。
A table for holding the one substrate before being bonded;
The liquid crystal device manufacturing apparatus according to claim 7, wherein the table is capable of holding the one substrate in a state inclined with respect to a horizontal direction.
前記テーブルは、前記一方の基板の水平方向に対する傾きを変更可能なものであることを特徴とする、請求項8に記載の液晶装置の製造装置。   The liquid crystal device manufacturing apparatus according to claim 8, wherein the table is capable of changing an inclination of the one substrate with respect to a horizontal direction. 前記基板貼り合わせ装置が、略水平に保持された前記一方の基板上に前記他方の基板を貼り合せるものであることを特徴とする、請求項7から請求項9のいずれかに記載の液晶装置の製造装置。   10. The liquid crystal device according to claim 7, wherein the substrate bonding apparatus bonds the other substrate onto the one substrate held substantially horizontally. Manufacturing equipment. 貼り合せる前の前記一方の基板を保持するテーブルを備え、
前記テーブルが、前記一方の基板に対して振動を加える振動発生装置を備えることを特徴とする請求項7に記載の液晶装置の製造装置。
A table for holding the one substrate before being bonded;
The liquid crystal device manufacturing apparatus according to claim 7, wherein the table includes a vibration generating device that applies vibration to the one substrate.
前記振動発生装置が、超音波振動を発生する超音波発生装置であることを特徴とする請求項11に記載の液晶装置の製造装置。   The apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to claim 11, wherein the vibration generator is an ultrasonic generator that generates ultrasonic vibrations. 前記測定装置が、レーザ変位計であることを特徴とする、請求項7から請求項12のいずれかに記載の液晶装置の製造装置。   13. The apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to claim 7, wherein the measuring device is a laser displacement meter. 前記測定装置が、前記液晶と前記一方の基板との接触面積を測定して、前記接触面積に基づいて前記液晶の高さを算出する面積測定装置であることを特徴とする、請求項7から請求項12のいずれかに記載の液晶装置の製造装置。
The measurement apparatus is an area measurement apparatus that measures a contact area between the liquid crystal and the one substrate and calculates a height of the liquid crystal based on the contact area. The apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to claim 12.
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