JP2007042367A - Electro-optic device and its manufacturing method - Google Patents
Electro-optic device and its manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007042367A JP2007042367A JP2005223934A JP2005223934A JP2007042367A JP 2007042367 A JP2007042367 A JP 2007042367A JP 2005223934 A JP2005223934 A JP 2005223934A JP 2005223934 A JP2005223934 A JP 2005223934A JP 2007042367 A JP2007042367 A JP 2007042367A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic
- light emitting
- main substrate
- sealing
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 156
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 121
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 46
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 37
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 37
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 31
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 30
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 8
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 8
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
本発明は、電気的な作用に応じて光学的な特性が変化する電気光学装置およびその製造方法に関する。 The present invention relates to an electro-optical device whose optical characteristics change according to an electrical action, and a manufacturing method thereof.
電気光学装置として有機EL(Electro luminescent)パネルがある。有機ELパネルでは、電気エネルギにより発光特性が変化する複数の発光素子として複数の有機EL素子が主基板上に配列される。有機ELパネルには、主基板上の全ての有機EL素子が同一色の光を発するものがある。この有機ELパネルでは、発光層を形成する有機EL材料は、主基板上の全ての有機EL素子で共通となる。したがって、有機EL材料を主基板上に一律に付着させることによって主基板上の全ての発光素子に共通する発光層を形成する、という製造方法を採ることができる。この製造方法では、主基板上の全ての有機EL素子の発光層が一括して形成される。 There is an organic EL (Electro luminescent) panel as an electro-optical device. In an organic EL panel, a plurality of organic EL elements are arranged on a main substrate as a plurality of light emitting elements whose light emission characteristics are changed by electric energy. In some organic EL panels, all organic EL elements on the main substrate emit light of the same color. In this organic EL panel, the organic EL material forming the light emitting layer is common to all the organic EL elements on the main substrate. Therefore, it is possible to adopt a manufacturing method in which a light emitting layer common to all light emitting elements on the main substrate is formed by uniformly adhering the organic EL material on the main substrate. In this manufacturing method, the light emitting layers of all the organic EL elements on the main substrate are collectively formed.
一方、有機ELパネルでは、有機EL素子を封止することにより、外気、特に水分および酸素から隔離してその劣化を抑制する必要がある。有機EL素子の封止方法は、封止基板を用いない方法と用いる方法に大別される。封止基板を用いない封止方法としては、有機EL素子を覆うようにCまたはSiを含有する無機アモルファス性膜を形成する方法(特許文献1参照)や、有機EL素子を覆うようにSiO膜さらには熱可塑性高分子膜を形成する方法(特許文献2参照)がある。封止基板を用いる方法には、缶封止(キャップ封止)とベタ封止(膜封止)がある。缶封止は封止基板の一面の一部を接着して封止基板と主基板との間に薄い空洞を形成する封止方法であり、ベタ封止は封止基板と主基板との間に接着剤を隙間なく充填して封止基板の一面全面を接着する封止方法である。
従来より、有機ELパネルには高精細化や大画面化の要請がある。この要請に応えるには、量産性やコストを考慮すると、発光層の形成には、材料の塗り分けによって有機EL素子ごとに形成する製造方法よりも、主基板上の全ての有機EL素子の発光層を一括して形成する製造方法を採用した方がよい。 Conventionally, there has been a demand for higher definition and larger screens for organic EL panels. To meet this demand, considering the mass productivity and cost, the light emitting layer is formed by emitting light from all the organic EL elements on the main substrate, rather than the manufacturing method in which each organic EL element is formed by coating different materials. It is better to adopt a manufacturing method in which the layers are formed in a lump.
また、有機ELパネルには高い封止性能が要求される。したがって、封止基板を用いない封止方法よりも、封止基板を用いる方法を採用するのが望ましい。封止基板を用いる方法には缶封止とベタ封止があるが、パネルサイズや基板サイズの大型化の要請に応えるには、ベタ封止の採用が望ましい。缶封止を採用した場合には、薄い空洞をその薄さを維持したまま広げるべきであり、空洞を広げれば広げるほど、その薄さの維持が困難となるからである。なお、空洞の薄さを維持しないのであれば缶封止の採用も可能となるが、それでは、有機ELパネルが厚くなり、有機ELパネルを用いる装置において不都合が生じる虞がある。 Moreover, high sealing performance is required for the organic EL panel. Therefore, it is desirable to adopt a method using a sealing substrate rather than a sealing method not using a sealing substrate. Methods using a sealing substrate include can sealing and solid sealing. However, in order to meet the demand for an increase in panel size and substrate size, it is desirable to use solid sealing. When can sealing is adopted, a thin cavity should be widened while maintaining its thinness, and the thinner the cavity, the more difficult it is to maintain the thinness. If the thinness of the cavity is not maintained, can sealing can be adopted. However, in that case, the organic EL panel becomes thick, and there is a possibility that inconvenience may occur in an apparatus using the organic EL panel.
以上より、主基板上の全ての有機EL素子の発光層を一括して形成する製造方法とベタ封止との組み合わせが望ましいことになる。しかし、この組み合わせでは、封止基板の接着時に発光層の膜剥がれや浮きが生じ易くなってしまう。以下、この問題の原因について具体的に述べる。なお、接着時とは、例えば、主基板上に接着剤を塗布する時や、この接着剤を用いて封止基板を主基板に貼り合わせる時、この接着剤が硬化する時などである。 From the above, a combination of a manufacturing method for collectively forming the light emitting layers of all the organic EL elements on the main substrate and solid sealing is desirable. However, with this combination, the light emitting layer is likely to peel off or float when the sealing substrate is bonded. The cause of this problem will be specifically described below. The term “adhesion” refers to, for example, when an adhesive is applied on the main substrate, when the sealing substrate is bonded to the main substrate using this adhesive, and when the adhesive is cured.
有機EL材料は、低分子のものと高分子のものに大別される。低分子有機EL材料は一般に蒸着されて発光層を形成する。この発光層の密着性は比較的に低いため、封止基板の接着により生じる応力によって発光層の膜剥がれや浮きが生じる可能性が比較的に高い。有機EL素子内の発光層の膜剥がれや浮きは、輝度ムラや発光不良につながるため、その発生を防止すべきである。 Organic EL materials are roughly classified into low molecular weight materials and high molecular weight materials. A low molecular organic EL material is generally deposited to form a light emitting layer. Since the adhesion of the light emitting layer is relatively low, there is a relatively high possibility that the light emitting layer is peeled off or floated due to the stress generated by the adhesion of the sealing substrate. The peeling or floating of the light emitting layer in the organic EL element leads to uneven brightness and poor light emission, and should be prevented from occurring.
発光層を有機EL素子ごとに形成する製造方法を採る場合には、1つの有機EL素子内の発光層の膜剥がれや浮きにつながる応力は、当該有機EL素子内で生じた応力に限られる。したがって、缶封止はもとより、ベタ封止を採用しても、封止工程において発光層の膜剥がれや浮きが生じる可能性を低く抑えることができる。 In the case of adopting a manufacturing method in which a light emitting layer is formed for each organic EL element, the stress that leads to film peeling or floating of the light emitting layer in one organic EL element is limited to the stress generated in the organic EL element. Therefore, even if solid sealing is adopted as well as can sealing, the possibility that the light emitting layer is peeled off or floated in the sealing step can be kept low.
これに対して、主基板上の全ての有機EL素子の発光層を一括して形成する製造方法を採る場合には、発光層が全ての有機EL素子に共通して広がっているため、ベタ封止を採ると、封止基板の接着時に発光層の膜剥がれや浮きが生じ易くなってしまう。この傾向は、パネルサイズや基板サイズが大型化すればするほど顕著となる。 On the other hand, in the case of adopting a manufacturing method in which the light emitting layers of all the organic EL elements on the main substrate are formed at once, the light emitting layer spreads in common for all the organic EL elements, so If it stops, it will become easy to produce film peeling and a float of a light emitting layer at the time of adhesion | attachment of a sealing substrate. This tendency becomes more prominent as the panel size and the substrate size increase.
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであり、主基板上の全ての発光素子に共通する発光層を蒸着により一括して形成する製造方法により製造可能であり、ベタ封止を採用しながらも、封止基板の接着時における発光素子内の発光層の膜剥がれや浮きを防止することができる電気光学装置およびその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and can be manufactured by a manufacturing method in which a light emitting layer common to all light emitting elements on a main substrate is formed by vapor deposition, and employs solid sealing. However, an object of the present invention is to provide an electro-optical device and a method for manufacturing the same that can prevent film peeling and floating of the light-emitting layer in the light-emitting element when the sealing substrate is bonded.
本発明は、複数の発光素子が配列された主基板と、蒸着により形成可能であって、前記主基板上に配置され、前記主基板上の全ての前記発光素子に共通する発光層と、前記全ての発光素子上に配置され、前記全ての発光素子を覆い、前記主基板と協働して前記全ての発光素子を封止する無機封止膜と、樹脂から形成され、前記無機封止膜上に配置され、前記全ての発光素子を覆って保護する保護膜と、前記保護膜上に配置され、前記全ての発光素子を覆い、前記主基板と協働して前記全ての発光素子を封止する封止基板と、前記封止基板と前記主基板との間に隙間なく充填されて両者を接着する接着剤と、を備える電気光学装置を提供する。 The present invention provides a main substrate on which a plurality of light emitting elements are arranged, a light emitting layer that can be formed by vapor deposition and is disposed on the main substrate and is common to all the light emitting elements on the main substrate, An inorganic sealing film disposed on all the light emitting elements, covering all the light emitting elements, and sealing all the light emitting elements in cooperation with the main substrate; and the inorganic sealing film formed from a resin. A protective film disposed on and covering and protecting all the light emitting elements; and disposed on the protective film, covering all the light emitting elements and sealing all the light emitting elements in cooperation with the main substrate. There is provided an electro-optical device comprising: a sealing substrate to be stopped; and an adhesive that is filled between the sealing substrate and the main substrate without any gap and adheres to each other.
この電気光学装置では、発光層は主基板上の全ての発光素子に共通している。さらに、いわゆるベタ封止が採用されている。さらに、全ての発光素子が保護膜により覆われているから、接着剤側から発光層への力は保護膜を介して伝わることになり、発光層に生じる応力を十分に小さくすることができる。よって、この電気光学装置によれば、主基板上の全ての発光素子に共通する発光層を蒸着により一括して形成する製造方法により製造可能であり、ベタ封止を採用しながらも、封止基板の接着時における発光素子内の発光層の膜剥がれや浮きを防止することができる。 In this electro-optical device, the light emitting layer is common to all the light emitting elements on the main substrate. Furthermore, so-called solid sealing is employed. Furthermore, since all the light emitting elements are covered with the protective film, the force from the adhesive side to the light emitting layer is transmitted through the protective film, and the stress generated in the light emitting layer can be sufficiently reduced. Therefore, according to this electro-optical device, it can be manufactured by a manufacturing method in which light emitting layers common to all the light emitting elements on the main substrate are collectively formed by vapor deposition. It is possible to prevent film peeling and floating of the light emitting layer in the light emitting element when the substrate is bonded.
また、この電気光学装置では、保護膜は封止基板に接しない。つまり、保護膜の形成時において樹脂が接する剛体は主基板側の部材のみである。したがって、保護膜の形成時に樹脂が封止基板にも接する態様と比較して、当該部材に生じる応力が小さくなる。よって、この電気光学装置によれば、保護膜の形成時に発光層に生じる応力を十分に小さくし、発光素子内の発光層の膜剥がれや浮きを防止することができる。
また、この電気光学装置は、主基板上の全ての発光素子が無機封止膜により封止されているため、封止性に優れたものとなっている。
In this electro-optical device, the protective film does not contact the sealing substrate. In other words, the rigid body with which the resin contacts when forming the protective film is only the member on the main substrate side. Therefore, compared with the aspect in which the resin also contacts the sealing substrate when forming the protective film, the stress generated in the member is reduced. Therefore, according to this electro-optical device, it is possible to sufficiently reduce the stress generated in the light emitting layer when forming the protective film, and to prevent the light emitting layer from peeling or floating in the light emitting element.
Further, this electro-optical device has excellent sealing properties because all the light emitting elements on the main substrate are sealed with an inorganic sealing film.
上記の電気光学装置において、前記保護膜は加熱により不可逆的に硬化する熱硬化性樹脂または2液混合型の接着剤から形成されていてもよい。保護膜を形成しうる材料としては他に光硬化性樹脂があるが、一般に、熱硬化性樹脂および2液混合型の接着剤の収縮応力は光硬化性樹脂の収縮応力よりも小さい。したがって、保護膜を熱硬化性樹脂または2液混合型の接着剤から形成することにより、その硬化時に発光層に生じる応力をより小さくすることができる。 In the electro-optical device, the protective film may be formed of a thermosetting resin that is irreversibly cured by heating or a two-component mixed adhesive. Other materials that can form the protective film include a photocurable resin. Generally, the shrinkage stress of the thermosetting resin and the two-component mixed adhesive is smaller than that of the photocurable resin. Therefore, by forming the protective film from a thermosetting resin or a two-component mixed adhesive, the stress generated in the light emitting layer at the time of curing can be further reduced.
また本発明は、主基板上に配列される全ての前記発光素子に共通する発光層を蒸着により一括して主基板上に一括して形成し、前記主基板と協働して前記全ての発光素子を封止する無機封止膜を前記発光層上に形成し、前記無機封止膜上に前記全ての発光素子を覆うように樹脂を塗布して硬化させることにより前記全ての発光素子を保護する保護膜を形成し、次に前記封止基板と前記主基板との間に隙間なく接着剤を充填して両者を接着する、電気光学装置の製造方法を提供する。 According to the present invention, a light-emitting layer common to all the light-emitting elements arranged on the main substrate is collectively formed on the main substrate by vapor deposition, and all the light-emitting elements cooperate with the main substrate. An inorganic sealing film that seals elements is formed on the light emitting layer, and all the light emitting elements are protected by applying and curing a resin so as to cover all the light emitting elements on the inorganic sealing film. An electro-optical device manufacturing method is provided, in which a protective film is formed, and then an adhesive is filled between the sealing substrate and the main substrate without any gap, and the both are bonded.
この製造方法では、主基板上の全ての発光素子に共通する発光層が蒸着により一括して形成される。さらに、ベタ封止が採用されている。さらに、全ての発光素子を覆って保護する保護膜を形成してからベタ封止が行われるため、接着剤側から発光層への力は保護膜を介して伝わることになり、発光層に生じる応力を十分に小さくすることができる。さらに、接着剤側からの力は保護膜を介して発光素子内の発光層に伝わるから、発光層に生じる応力を十分に小さくすることができる。よって、この製造方法によれば、主基板上の全ての発光素子に共通する発光層を蒸着により一括して形成する製造方法により電気光学装置を製造可能であり、ベタ封止を採用しながらも、封止基板の接着時における発光素子内の発光層の膜剥がれや浮きを防止することができる。 In this manufacturing method, the light emitting layer common to all the light emitting elements on the main substrate is collectively formed by vapor deposition. Further, solid sealing is adopted. Furthermore, since the solid sealing is performed after forming a protective film that covers and protects all the light emitting elements, the force from the adhesive side to the light emitting layer is transmitted through the protective film, and is generated in the light emitting layer. The stress can be made sufficiently small. Furthermore, since the force from the adhesive side is transmitted to the light emitting layer in the light emitting element through the protective film, the stress generated in the light emitting layer can be sufficiently reduced. Therefore, according to this manufacturing method, an electro-optical device can be manufactured by a manufacturing method in which a light emitting layer common to all the light emitting elements on the main substrate is formed by vapor deposition, while adopting solid sealing. Further, it is possible to prevent the light emitting layer in the light emitting element from peeling off or floating when the sealing substrate is bonded.
また、この製造方法では、保護膜は封止基板に接しない。つまり、保護膜の形成時において樹脂が接する剛体は主基板側の部材のみである。したがって、保護膜の形成時に樹脂が封止基板にも接する製造方法と比較して、当該部材に生じる応力が小さくなる。よって、この製造方法によれば、保護膜の形成時に発光層に生じる応力を十分に小さくし、発光素子内の発光層の膜剥がれや浮きを防止することができる。
また、この製造方法では、主基板上の全ての発光素子を無機封止膜により封止するから、封止性に優れた電気光学装置を製造することができる。
In this manufacturing method, the protective film does not contact the sealing substrate. In other words, the rigid body with which the resin contacts when forming the protective film is only the member on the main substrate side. Therefore, compared with the manufacturing method in which the resin also contacts the sealing substrate when forming the protective film, the stress generated in the member is reduced. Therefore, according to this manufacturing method, the stress generated in the light emitting layer when the protective film is formed can be sufficiently reduced, and the light emitting layer in the light emitting element can be prevented from peeling or floating.
Further, in this manufacturing method, since all the light emitting elements on the main substrate are sealed with the inorganic sealing film, an electro-optical device having excellent sealing properties can be manufactured.
以下、添付の図面を参照しながら本発明に係る実施の形態を説明する。なお、図面においては、各部の寸法の比率は実際のものとは適宜に異ならせてある。 Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the ratio of dimensions of each part is appropriately changed from the actual one.
[有機ELパネル]
図1は本発明の実施の形態に係る有機ELパネル10の断面図である。有機ELパネル10は電気光学装置の一種であり、画像表示装置を構成する。画像表示装置は与えられた画像データに応じた画像を光学的な作用によって表示するものであり、電気光学装置の一種である。また有機ELパネル10は、与えられた電気エネルギにより発光特性が変化する発光素子が形成された主基板11を有する。また有機ELパネル10は、トップエミッションタイプであり、発光素子から主基板11を経ずに進行してきた光を外部に照射する。
[Organic EL panel]
FIG. 1 is a cross-sectional view of an
主基板11は、ある程度の剛性を有する平板であり、好ましくはガラスまたはプラスチックにより形成される。主基板11上に形成されている発光素子は有機EL素子Pである。主基板11において、有機EL素子Pは格子状のパターンで配列されている。なお、本実施の形態を変形し、複数の有機EL素子Pが格子状でない適切なパターンで配列されるようにしてもよい。
The
有機EL素子Pは、与えられた電気エネルギに応じた強度の白色光を発する素子であり、陽極12と、その上に成膜された発光寄与層13と、その上に成膜された陰極層14を有する。陽極12は例えばITOとアルミニウムの積層膜から形成されている。発光寄与層13は有機EL素子Pの発光に直接的に寄与する層であり、少なくとも発光層を含む。発光層は低分子有機EL材料を蒸着して形成されている。なお、発光寄与層13に含まれる他の層としては、例えば正孔注入層がある。陰極層14はLiF(フッ化リチウム)層と陰極を含み、陰極は例えばITO(Indium Tin Oxide)製である。
The organic EL element P is an element that emits white light having an intensity corresponding to applied electric energy, and includes an
図に示すように、陽極12は有機EL素子Pごとに分離して配置されている。陽極12間には、ITOの段差により陽極と陰極がショートするのを防止する隔壁15が配置されている。隔壁15はポリイミド等の絶縁材料を盛って形成されており、陽極12の外周を緩やかなテーパーで覆っている。主基板11、陽極12および隔壁15上には発光寄与層13が配置されている。発光寄与層13は主基板11上の全ての有機EL素子Pに共通している。陰極層14は主基板11上の全ての有機EL素子Pに共通している。凹部と有機EL素子Pは1対1で対応しており、1つの有機EL素子Pは対応する凹部の底をなす陽極12と当該凹部内の発光寄与層13と当該凹部内の陰極層14から構成されている。
As shown in the figure, the
主基板11上の全ての有機EL素子P上には、主基板11と協働して主基板11上の全ての有機EL素子Pを封止する無機封止膜16が配置されている。無機封止膜16は、ガスバリア性に優れた膜であり、主基板11上の全ての有機EL素子Pを覆っている。本実施形態では、これらの有機EL素子Pのみならず、発光寄与層13および陰極層14をも覆っている。なお、無機封止膜16としては、シリコン窒化膜やシリコン酸窒化膜が挙げられる。
An
無機封止膜16上には、全ての有機EL素子Pを保護する保護膜17が配置されている。保護膜17は、加熱すると不可逆的に硬化する光透過性の熱硬化性樹脂、より具体的には光透過性のエポキシ樹脂から形成されており、発光寄与層13、陰極層14および無機封止膜16を覆っている。
On the
保護膜17および主基板11上には、主基板11と協働して主基板11上の全ての有機EL素子Pを封止する封止基板18が配置されている。封止基板18は、ある程度の剛性を有する平板であり、例えばガラスや光透過性のプラスチックから形成されうる。封止基板18は、主基板11上の全ての有機EL素子Pを覆うように主基板11および保護膜17に接着されている。この接着は、封止基板18と主基板11との間に光透過性の接着剤19を隙間なく充填して行われ、封止基板18の一面のうち、後述のカラーフィルタ群20に覆われていない全ての部分が接着剤19に接している。接着剤19は、例えば熱硬化型接着剤または2液硬化型接着剤である。
A sealing
有機ELパネル10を備えた画像表示装置はカラー画像を表示可能であり、封止基板18の接着面側にはカラーフィルタ群20が取り付けられている。カラーフィルタ群20は、封止基板18側の面を除く全面が接着剤19に接している。カラーフィルタ群20は、互いに近接して配置された3色のカラーフィルタ20R、20G、20Bからなる組を繰り返し配列したものである。カラーフィルタ20R、20G、20Bは、それぞれ、入射光の赤色成分、緑色成分、青色成分のみを選択的に透過させる。カラーフィルタ群20を構成するカラーフィルタは主基板11上の全ての有機EL素子Pと1対1で対応しており、有機EL素子Pからの光が対応するカラーフィルタのみに入射するように、カラーフィルタ群20と主基板11上の全ての有機EL素子Pとの位置関係が定められている。
The image display device including the
なお、図示を略すが、主基板11上には、有機EL素子Pに電気エネルギを供給するための配線が設けられている。この配線は外部の電源と主基板11上の全ての有機EL素子Pの陽極12とを接続する。外部の電源は有機ELパネル10を備えた画像表示装置が備えていてもよい。また、主基板11上には、当該画像表示装置からの制御信号を受けて各有機EL素子Pへの電気エネルギの供給を制御する回路および配線が設けられている。
Although not shown, wiring for supplying electric energy to the organic EL element P is provided on the
[有機ELパネルの製造方法]
次に有機ELパネル10を製造する手順を説明する。
まず主基板11上に上述の配線(および回路)を形成する。次に図2に示すように、主基板11上に陽極12を例えばITO/アルミニウムの積層膜により形成し、陽極12間に感光性ポリイミド等の絶縁材料を盛って隔壁15を形成する。陽極12の形成は、陽極12の数および配置が、形成しようとする有機EL素子Pの数および配置に一致するように行われる。したがって、主基板11上には、陽極12の露出面を底とし隔壁15を壁とした凹部が、形成しようとする有機EL素子Pの数だけ、これらの有機EL素子Pが形成される位置に形成されることになる。なお、陽極12および隔壁15の形成方法は、公知のいずれの方法でもよい。
[Method for manufacturing organic EL panel]
Next, a procedure for manufacturing the
First, the above-described wiring (and circuit) is formed on the
次に図3に示すように、全ての陽極12および隔壁15を覆うように発光寄与層13を形成する。この形成において、発光層は、低分子有機EL材料を蒸着することにより形成される。この蒸着はマスクを用いることなく行われる。すなわち、全ての有機EL素子Pの発光層が一括して形成される。次に図4に示すように、陰極層14を例えばフッ化リチウムおよびアルミニウムにより形成する。
Next, as shown in FIG. 3, the light
次に図5に示すように、主基板11上の全ての有機EL素子Pを覆うように、好適には発光寄与層13および陰極層14を覆うように無機封止膜16を成膜する。この成膜には、例えばプラズマ蒸着法や、真空蒸着法、プラズマコーティング、スパッタ法、CVD法等の公知の方法を用いることができる。
Next, as shown in FIG. 5, an
次に図6に示すように、主基板11上の全ての有機EL素子Pを覆うように、好適には発光寄与層13、陰極層14および無機封止膜16を覆うように保護膜17を形成する。この形成は、光透過性のエポキシ樹脂をスクリーン印刷により塗布し、加熱して硬化させることにより行われる。この加熱は、例えば主基板11をホットプレートに載せて行われる。なお、エポキシ樹脂の塗布を露点管理された窒素雰囲気中や減圧下で行うことによって、封止性能の向上を図ってもよい。また、エポキシ樹脂の塗布方法は、スクリーン印刷に限らない。例えば、ディスペンサー描画や、スリットコーター、フレキソ版印刷等の他の公知の方法を採用可能である。
Next, as shown in FIG. 6, a
次に図7に示すように、カラーフィルタ群20が取り付けられた封止基板18を、カラーフィルタ群20が主基板11側となり、かつ、カラーフィルタ群20を構成するカラーフィルタと主基板11上の全ての有機EL素子Pとが1対1で正しく対応するように配置する。これに先立ち、カラーフィルタ群20を封止基板18に取り付けておく。
Next, as shown in FIG. 7, the sealing
次に図1に示すように、この対応関係を維持したまま、カラーフィルタ群20が取り付けられた封止基板18を主基板11に接着する。具体的には、カラーフィルタと有機EL素子Pが前述の位置関係となるように主基板11と封止基板18とを相対的に近づける一方、両者間に接着剤19を隙間なく充填して硬化させる。この硬化は、接着剤19の種類に応じた方法(例えば、加熱や紫外線の照射など)で行われる。こうして有機ELパネル10が製造される。
Next, as shown in FIG. 1, the sealing
なお、複数の有機ELパネル10を1つの主基板を用いて製造するようにしてもよい。この場合には、複数の封止基板18を主基板に接着した後に、主基板を切断(スクライブ)することにより、複数の有機ELパネル10が得られる。
Note that a plurality of
[効果]
以上説明したように、この有機ELパネル10では、発光層は蒸着により一括して形成される。また、ベタ封止が採用されている。よって、有機ELパネルの大型化や高精細化の要請に応えることが容易である。また、主基板11上の全ての有機EL素子Pは保護膜17により覆われているから、接着剤19側から有機EL素子Pへの力は保護膜17を介して伝わることになり、有機EL素子P内の発光層に生じる応力を十分に小さくすることができる。
[effect]
As described above, in the
また、保護膜17は封止基板18に接しない。つまり、保護膜17の形成時において熱硬化性樹脂が接する剛体は主基板11および無機封止膜16のみである。したがって、保護膜17の形成時に熱硬化性樹脂が封止基板18にも接する態様と比較して、主基板11および無機封止膜16に生じる応力が小さくなり、有機EL素子P内の発光層に生じる応力が小さくなる。
Further, the
まとめると、有機ELパネル10によれば、主基板11上の全ての有機EL素子Pに共通する発光層を一括して形成する上記の製造方法により製造可能であり、ベタ封止を採用しながらも、封止基板18の接着時における有機EL素子P内の発光層の膜剥がれや浮きを防止することができる。したがって、輝度ムラや発光不良が生じる可能性が低くなる。
In summary, according to the
ところで、低分子有機EL材料の蒸着により形成可能な発光層の密着性が低いことに起因して、従来は、封止基板の接着時以外でも問題が生じていた。例えば、エアガンから空気を噴射してゴミを払うエアブローや、主基板を固定するための真空吸着による反り変化、保護テープの貼り直しやピーリングテスト等によって、発光層の膜剥がれが発生していた。これに対して、有機ELパネル10によれば、主基板11上の全ての有機EL素子P内の発光層は保護膜17により覆われて主基板11への密着性が十分に高くなっているから、このような膜剥がれをも防止することができる。つまり、この有機ELパネル10によれば、封止基板18の接着時に限らず、有機EL素子P内の発光層の膜剥がれや浮きを防止することができる。
By the way, due to the low adhesion of the light-emitting layer that can be formed by vapor deposition of a low-molecular organic EL material, there has conventionally been a problem even when the sealing substrate is not adhered. For example, film peeling of the light emitting layer has occurred due to air blow that ejects air from an air gun to remove dust, warpage change due to vacuum suction for fixing the main substrate, re-attachment of a protective tape, peeling test, and the like. On the other hand, according to the
また、この有機ELパネル10では、主基板11上の全ての有機EL素子Pが無機封止膜16により覆われて封止されている。したがって、無機封止膜16を用いない態様に比較して封止性に優れている。
また、有機ELパネル10では、発光層が全体的に保護膜17により覆われる。したがって、封止基板18の接着時において有機EL素子P内の発光層に生じる応力はより一層小さくなる。
In the
In the
また、有機ELパネル10では、保護膜17が熱硬化性樹脂から形成されている。一般に、熱硬化性樹脂の収縮応力は、光の作用で液体から固体に変化する光硬化性樹脂(例えば紫外線硬化性樹脂)や光と熱の複合タイプの硬化性樹脂の収縮応力よりも小さい。したがって、有機ELパネル10によれば、保護膜17の形成時に発光層に生じる応力をより小さくすることができる。
Further, in the
また、有機ELパネル10では、保護膜17を形成する樹脂としてエポキシ樹脂を採用している。エポキシ樹脂はアクリル樹脂やポリイミド樹脂等の他の樹脂に比較して透水性が低い。したがって、有機ELパネル10は、より高い封止性能を備えることになる。
In the
また、有機ELパネル10はトップエミッションタイプであり、十分な性能のものを現実的に製造可能である。この理由について説明する。ボトムエミッションの場合、有機EL素子から主基板を透過して進行してきた光が外部に照射されるから、白色光を発する複数の発光素子とカラーフィルタとを組み合わせてカラー画像の表示を行う場合には、カラーフィルタを陽極の下側に配置せねばならない。陽極の下側の位置としては、主基板上の位置と主基板下の位置が考えられる。しかし、主基板上には各種の配線や回路が設けられているからカラーフィルタを配置することが困難であるし、主基板下にカラーフィルタを配置すると発光層とカラーフィルタとの距離が主基板の厚さ(例えば0.5〜1.1mm)以上となってしまうために有機EL素子Pからの光が不適切なカラーフィルタに入射する可能性が高くなってしまう。つまり、現実的には製造が困難であったり、製造しても十分な性能に達しなかったりする。これに対して、有機ELパネル10では、カラーフィルタを接着剤19しか存在しない封止基板18側に配置すればよく、しかもベタ封止を採用しているから発光層とカラーフィルタとの距離を十分に短くすることができる。
Moreover, the
ところで、カラーフィルタを用いる場合、有機EL素子からの光が不適切なカラーフィルタに入射するのを防ぐために、カラーフィルタ間にブラックマトリクスを形成するのが一般的である。この形成は、封止基板から遠い方の端部において、ブラックマトリクスがカラーフィルタの縁に乗り上げるように行われる。したがって、これらの端部を連ねた部分、すなわちカラーフィルタ群の封止基板から遠い側に凹凸が生じる。このカラーフィルタ群は、封止基板による封止に先立って、アクリル層に覆われて保護されるが、このアクリル層にも凹凸が生じることになる。アクリル層の凹凸は、缶封止の場合に、有機EL素子からの光の屈折や散乱を招く。缶封止の場合には、アクリル層には空気が接し、この空気中を進行してきた光がアクリル層を通じてカラーフィルタに入射することになるが、アクリルの屈折率(1.5)と空気の屈折率(1.0)は大きく異なるため、両者の界面で上記の屈折や散乱が生じるのである。これに対し、ベタ封止の場合、アクリル層に接するのは空気ではなく樹脂(接着剤)となる。この樹脂として、アクリルと同じ屈折率のものを用いれば、上記の屈折や散乱を避けることができる。本実施形態ではベタ封止を採用しているから、エポキシ樹脂等の好適な樹脂を接着剤19として用いるだけで、上記の屈折や散乱を避けることができる。 By the way, when using a color filter, it is common to form a black matrix between the color filters in order to prevent light from the organic EL element from entering the inappropriate color filter. This formation is performed so that the black matrix runs on the edge of the color filter at the end far from the sealing substrate. Therefore, unevenness is generated on the portion where these end portions are connected, that is, on the side far from the sealing substrate of the color filter group. Prior to sealing with the sealing substrate, the color filter group is covered and protected by the acrylic layer, but the acrylic layer is also uneven. The unevenness of the acrylic layer causes refraction and scattering of light from the organic EL element in the case of can sealing. In the case of can sealing, air comes into contact with the acrylic layer, and the light traveling in the air enters the color filter through the acrylic layer, but the refractive index of acrylic (1.5) and the air Since the refractive index (1.0) differs greatly, the above refraction and scattering occur at the interface between the two. On the other hand, in the case of solid sealing, it is not air but resin (adhesive) that contacts the acrylic layer. If this resin has the same refractive index as that of acrylic, the above refraction and scattering can be avoided. Since solid sealing is employed in the present embodiment, the above-described refraction and scattering can be avoided only by using a suitable resin such as an epoxy resin as the adhesive 19.
[画像表示装置]
次に、有機ELパネル10を備えた画像表示装置について説明する。この画像表示装置は、有機ELパネル10に電気エネルギおよび制御信号を供給するための配線と、外部の装置から与えられた画像データに応じた光像を有機ELパネル10に形成させるための制御信号を生成する回路を備える。有機ELパネル10を備えた画像表示装置は様々な形態を採りうるが、ここでは、2つの例を挙げて説明する。
[Image display device]
Next, an image display device including the
図8に、有機ELパネル10を表示部31として用いたパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ30は、表示ユニットとしての表示部31と本体部32を備える。本体部32には、電源スイッチ33及びキーボード34が設けられている。パーソナルコンピュータ30によれば、有機ELパネル10を表示部31として用いているから、高精細化および大画面化の要請に応えても十分に高い品質で画像を表示することができる。
FIG. 8 shows a configuration of a personal computer using the
図9に、有機ELパネル10を表示部41として用いた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機40は、複数の操作ボタン42及びスクロールボタン43、並びに表示ユニットとしての表示部41を備える。スクロールボタン43を操作することによって、表示部41に表示される画面がスクロールされる。携帯電話機40によれば、有機ELパネル10を表示部41として用いているから、高精細化および大画面化の要請に応えても十分に高い品質で画像を表示することができる。
FIG. 9 shows a configuration of a mobile phone using the
[変形例]
なお、保護膜を形成する樹脂としてエポキシ樹脂を例示したが、封止性能がある程度低下してもよいのであれば、これに限らない。例えば、アクリル樹脂やポリイミド樹脂であってもよい。ただし、実験の結果から、保護膜17を形成する樹脂としては有機材料から組成されているものが好ましいことが判明している。
[Modification]
In addition, although the epoxy resin was illustrated as resin which forms a protective film, if sealing performance may fall to some extent, it will not restrict to this. For example, an acrylic resin or a polyimide resin may be used. However, as a result of experiments, it has been found that the resin forming the
また、保護膜を形成する樹脂として熱硬化性樹脂を例示したが、2液混合型の接着剤である硬化性樹脂を用いてもよい。また、ある程度の収縮応力を許容するのであれば、光硬化性樹脂や混合タイプの硬化性樹脂を用いてもよい。すなわち、有機EL素子内の発光層の膜剥がれや浮きを招かない程度の収縮応力の硬化性樹脂であれば、任意の樹脂を保護膜の形成に用いることができる。 Moreover, although thermosetting resin was illustrated as resin which forms a protective film, you may use curable resin which is a 2 liquid mixing type adhesive agent. If a certain amount of shrinkage stress is allowed, a photocurable resin or a mixed type curable resin may be used. That is, any resin can be used for forming the protective film as long as it is a curable resin having a shrinkage stress that does not cause film peeling or floating of the light emitting layer in the organic EL element.
また、カラー画像の表示を行わない場合には、カラーフィルタを設ける必要がないから、ボトムエミッションタイプとしてもよい。ボトムエミッションタイプの場合には、陽極および主基板は光を透過させるものでなければならず、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)製の陽極や、ガラスまたは光透過性のプラスチックから形成された主基板を用いることになる。もちろん、陰極、無機封止膜、保護膜、接着剤および封止基板の材料として、光を透過させない材料を用いてよいことになる。そのような陰極の材料としてはアルミニウムが、そのような封止基板の材料としてはセラミックや金属が挙げられる。 Further, when no color image is displayed, it is not necessary to provide a color filter, so that a bottom emission type may be used. In the case of the bottom emission type, the anode and the main substrate must transmit light, for example, an anode made of ITO (Indium Tin Oxide), a main substrate made of glass or light-transmitting plastic Will be used. Of course, materials that do not transmit light may be used as materials for the cathode, the inorganic sealing film, the protective film, the adhesive, and the sealing substrate. Examples of such a cathode material include aluminum, and examples of such a sealing substrate material include ceramic and metal.
また、上述した実施の形態では、白色光を発する複数の発光素子とカラーフィルタとを組み合わせてカラー画像の表示を可能としたが、カラーフィルタに代えて光の色を変換する色変換層を用いるようにしてもよい。この場合には、発光素子は白色以外の色の光を発するものであってもよい。 In the above-described embodiment, a color image can be displayed by combining a plurality of light emitting elements that emit white light and a color filter, but a color conversion layer that converts the color of light is used instead of the color filter. You may do it. In this case, the light emitting element may emit light of a color other than white.
また、有機ELパネル10を用いて照明装置を構成してもよい。照明装置は、与えられた電気エネルギに応じて発光特性が変化する装置であるから、電気光学装置の一種である。もちろん、有機ELパネル10そのものではなく、有機ELパネル10からカラーフィルタと有機EL素子Pへの電気エネルギの供給を制御する回路を除去したものを用いて照明装置を構成するようにしてもよい。
Moreover, you may comprise an illuminating device using the
10…有機ELパネル(電気光学装置)、11…主基板、12…陽極、13…発光寄与層(発光層を含む)、14…陰極層、15…隔壁、16…無機封止膜、17…保護膜、18…封止基板、19…接着剤、20…カラーフィルタ群、30,40…画像表示装置(電気光学装置)、P…有機EL素子(発光素子)。
DESCRIPTION OF
Claims (3)
蒸着により形成可能であって、前記主基板上に配置され、前記主基板上の全ての前記発光素子に共通する発光層と、
前記全ての発光素子上に配置され、前記全ての発光素子を覆い、前記主基板と協働して前記全ての発光素子を封止する無機封止膜と、
樹脂から形成され、前記無機封止膜上に配置され、前記全ての発光素子を覆って保護する保護膜と、
前記保護膜上に配置され、前記全ての発光素子を覆い、前記主基板と協働して前記全ての発光素子を封止する封止基板と、
前記封止基板と前記主基板との間に隙間なく充填されて両者を接着する接着剤と、
を備える電気光学装置。 A main substrate on which a plurality of light emitting elements are arranged;
A light emitting layer that can be formed by vapor deposition and is disposed on the main substrate and is common to all the light emitting elements on the main substrate;
An inorganic sealing film disposed on all the light-emitting elements, covering all the light-emitting elements, and sealing all the light-emitting elements in cooperation with the main substrate;
A protective film formed from a resin, disposed on the inorganic sealing film, covering and protecting all the light emitting elements;
A sealing substrate that is disposed on the protective film, covers all the light emitting elements, and seals all the light emitting elements in cooperation with the main substrate;
An adhesive that is filled without a gap between the sealing substrate and the main substrate and bonds them together,
An electro-optical device.
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 1, wherein the protective film is formed of a thermosetting resin that is irreversibly cured by heating or a two-component mixed adhesive.
前記主基板と協働して前記全ての発光素子を封止する無機封止膜を前記発光層上に形成し、
前記無機封止膜上に前記全ての発光素子を覆うように樹脂を塗布して硬化させることにより前記全ての発光素子を保護する保護膜を形成し、
次に前記封止基板と前記主基板との間に隙間なく接着剤を充填して両者を接着する、
電気光学装置の製造方法。 A light emitting layer common to all the light emitting elements arranged on the main substrate is collectively formed on the main substrate by vapor deposition,
Forming an inorganic sealing film on the light emitting layer to seal all the light emitting elements in cooperation with the main substrate,
Forming a protective film for protecting all the light emitting elements by applying and curing a resin so as to cover all the light emitting elements on the inorganic sealing film,
Next, an adhesive is filled between the sealing substrate and the main substrate without any gap, and the two are bonded together.
Manufacturing method of electro-optical device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005223934A JP2007042367A (en) | 2005-08-02 | 2005-08-02 | Electro-optic device and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005223934A JP2007042367A (en) | 2005-08-02 | 2005-08-02 | Electro-optic device and its manufacturing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007042367A true JP2007042367A (en) | 2007-02-15 |
Family
ID=37800166
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005223934A Withdrawn JP2007042367A (en) | 2005-08-02 | 2005-08-02 | Electro-optic device and its manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007042367A (en) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009081122A (en) * | 2007-09-06 | 2009-04-16 | Fujifilm Corp | Method of manufacturing organic el device sealed with gas barrier film and organic el device sealed with gas barrier film |
KR100970397B1 (en) | 2008-12-17 | 2010-07-15 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Organic light emitting apparatus and method of manufacturing thereof |
JP2011192567A (en) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Rohm Co Ltd | Organic el device |
JPWO2010143430A1 (en) * | 2009-06-11 | 2012-11-22 | パナソニック株式会社 | Organic electroluminescence device and method for manufacturing the same |
JP2013025961A (en) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Pioneer Electronic Corp | Organic el module |
CN101533788B (en) * | 2008-03-13 | 2013-08-07 | 株式会社东进世美肯 | Electric element having light-transmitting portion, method for sealing electric element, and thermosetting resin composition for sealing electric element |
JP2015019377A (en) * | 2009-03-26 | 2015-01-29 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Mobile phone |
US9112179B2 (en) | 2009-07-28 | 2015-08-18 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting diode display |
JP2018088346A (en) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Display device |
-
2005
- 2005-08-02 JP JP2005223934A patent/JP2007042367A/en not_active Withdrawn
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009081122A (en) * | 2007-09-06 | 2009-04-16 | Fujifilm Corp | Method of manufacturing organic el device sealed with gas barrier film and organic el device sealed with gas barrier film |
CN101533788B (en) * | 2008-03-13 | 2013-08-07 | 株式会社东进世美肯 | Electric element having light-transmitting portion, method for sealing electric element, and thermosetting resin composition for sealing electric element |
TWI476840B (en) * | 2008-03-13 | 2015-03-11 | Dongjin Semichem Co Ltd | Sealing method of electric device with transparent part, electric device with transparent part and thermosetting resin composition for sealing |
KR100970397B1 (en) | 2008-12-17 | 2010-07-15 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Organic light emitting apparatus and method of manufacturing thereof |
US8049245B2 (en) | 2008-12-17 | 2011-11-01 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Organic light emitting apparatus and method of manufacturing the same |
JP2015019377A (en) * | 2009-03-26 | 2015-01-29 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Mobile phone |
JPWO2010143430A1 (en) * | 2009-06-11 | 2012-11-22 | パナソニック株式会社 | Organic electroluminescence device and method for manufacturing the same |
US9112179B2 (en) | 2009-07-28 | 2015-08-18 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting diode display |
JP2011192567A (en) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Rohm Co Ltd | Organic el device |
JP2013025961A (en) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Pioneer Electronic Corp | Organic el module |
JP2018088346A (en) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Display device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007042367A (en) | Electro-optic device and its manufacturing method | |
WO2019137086A1 (en) | Display panel and display device | |
KR102334815B1 (en) | Light-emitting device and peeling method | |
JP2019149388A (en) | Light-emitting device | |
EP2704196B1 (en) | Organic light emitting display and method for manufacturing the same | |
TWI396464B (en) | Organic electroluminescent display device and method for fabricating thereof | |
US8446093B2 (en) | Organic electro-luminescent display device and manufacturing method thereof | |
WO2016086535A1 (en) | Oled packaging structure and packaging method therefor | |
US7291976B2 (en) | Light emitting device having a particular sealing structure | |
WO2015169040A1 (en) | Oled display panel and preparation method therefor, and display device | |
KR101960388B1 (en) | Organic light emitting diode display device | |
US7982398B2 (en) | Backlight unit and liquid crystal display device including the same | |
TW200417281A (en) | Organic electroluminescent device and method of manufacturing the same | |
CN109087935A (en) | Display base plate and preparation method thereof, display panel | |
JP2011128481A (en) | Electrooptical device, method of manufacturing the same, and electronic equipment | |
JP2012216454A (en) | Light-emitting device and electronic apparatus | |
JP2010055918A (en) | Electro-optical device, manufacturing method of electro-optical device and electronic device | |
JP2010243930A (en) | Electrooptical device, manufacturing method therefor, and electronic equipment | |
JP2010033734A (en) | Organic electroluminescent device | |
WO2019127702A1 (en) | Oled panel and manufacturing method therefor | |
KR20120133141A (en) | flat display device | |
JP2010027428A (en) | Surface emitter and display device using the same, and lighting device | |
KR20190070446A (en) | Display apparatus | |
JP2006253097A (en) | Spontaneous light-emitting panel and its manufacturing method | |
CN111540839A (en) | Display panel manufacturing method and display panel |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070405 |
|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20081007 |