JP2007035919A - Mos transistor, control method thereof, and transimpedance amplifier - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、MOSトランジスタに関し、特に光受信回路において、受光素子が光電気変換した電流信号を受信し電圧信号に変換増幅するトランスインピーダンスアンプに好適なMOSトランジスタに関する。 The present invention relates to a MOS transistor, and more particularly to a MOS transistor suitable for a transimpedance amplifier that receives a current signal photoelectrically converted by a light receiving element and converts it into a voltage signal in an optical receiving circuit.
高速データ伝送を可能とする光伝送システム、光インターコネクション、パッシブオプティカルネットワーク(以下、PONという:Passive Optical Network)システム等の光伝送回路では、光信号を電気信号に変換する光受信回路において、トランスインピーダンスアンプを用いる。
トランスインピーダンスアンプは、受信した光信号を受光素子により光電気変換して得られた入力電流Iinを入力とし、帰還抵抗の値に比例するトランスインピーダンス利得によって、出力電圧Voutに変換して出力するものである。
In an optical transmission circuit such as an optical transmission system capable of high-speed data transmission, an optical interconnection, or a passive optical network (hereinafter referred to as PON) system, an optical receiving circuit that converts an optical signal into an electric signal includes a transformer. Use an impedance amplifier.
The transimpedance amplifier receives the input current Iin obtained by photoelectrically converting the received optical signal by the light receiving element, converts it into an output voltage Vout by a transimpedance gain proportional to the value of the feedback resistor, and outputs it. It is.
この種のトランスインピーダンスアンプでは、入力電流Iinが大きくなると出力電圧Voutの振幅が飽和し波形歪みが生じる。
したがって、従来のトランスインピーダンスアンプは、高感度と広ダイナミックレンジ特性を両立させるために、入力電流Iinが大きくなった場合に帰還抵抗の値を小さくしてトランスインピーダンス利得を下げることで、大電流入力時も歪みの少ない出力電圧Voutを得るようにしている。
In this type of transimpedance amplifier, when the input current Iin increases, the amplitude of the output voltage Vout is saturated and waveform distortion occurs.
Therefore, in order to achieve both high sensitivity and wide dynamic range characteristics, the conventional transimpedance amplifier reduces the value of the feedback resistor and lowers the transimpedance gain when the input current Iin increases, thereby increasing the large current input. The output voltage Vout with little distortion is obtained.
図16に、利得切替回路により複数の帰還抵抗を切替接続するよう構成した従来のトランスインピーダンスアンプ400の基本構成を示す(例えば、特許文献1など参照)。このトランスインピーダンスアンプ400は、トランスインピーダンスアンプコア回路410と、利得切替判断回路420とを備えている。トランスインピーダンスアンプコア回路410は、増幅回路411と利得切替回路412とを有し、受光素子100から出力された入力電流Iinを電圧変換して信号増幅を行う。利得切替判断回路420は、トランスインピーダンスアンプコア回路410からの出力電圧Voutに応じて利得切替回路412での利得切り替えを制御する。
FIG. 16 shows a basic configuration of a
このトランスインピーダンスアンプ400は、スイッチが直列接続された複数の帰還抵抗で利得切替回路412を構成し、増幅回路411からの出力電圧Voutの直流レベルを利得切替判断回路420によりモニタして得た利得切替信号SELによって、利得切替回路412のスイッチをオン/オフして帰還抵抗の値を切り替えている。
In this
従来、このようなトランスインピーダンスアンプの利得切替回路では、図17に示すように、帰還抵抗を切り替えるアナログスイッチとしてMOSトランジスタが用いられる。この利得切替回路1は、増幅回路の出力側に接続される端子TN1と、増幅回路の入力側に接続される端子TN2と、これら端子TN1,TN2間に接続された帰還抵抗RFaと、一端が端子TN1に接続された帰還抵抗RFbと、ドレイン端子が帰還抵抗RFbの他端に接続されソース端子が端子TN2に接続されゲート端子が利得切替信号SELに接続されたNMOSトランジスタ10とから構成されている。
Conventionally, in such a transimpedance amplifier gain switching circuit, a MOS transistor is used as an analog switch for switching a feedback resistor, as shown in FIG. This
利得切替信号SELが利得大の選択を指示する場合、トランジスタ10はオフ(開放)し、端子TN1,TN2間には、帰還抵抗RFaだけが接続された状態となる。利得切替信号SELが利得小の選択を指示する場合、トランジスタ10はオン(導通)し、帰還抵抗RFaに対して帰還抵抗RFbが並列接続される。
これにより、トランジスタ10のオン/オフに応じて、端子TN1,TN2間の合成抵抗すなわち帰還抵抗が変化し、増幅回路の利得が切り替えられる。
When the gain switching signal SEL instructs selection of a large gain, the
As a result, the combined resistance between the terminals TN1 and TN2, that is, the feedback resistance changes according to the on / off state of the
このようなMOSトランジスタからなるアナログスイッチで高周波信号を制御する場合、MOSトランジスタの低容量化が必要となる。一般的に、MOSトランジスタでは、ゲート電極やチャネルのサイズに応じた寄生容量が存在するため、従来、低容量化の方法としてMOSトランジスタのゲート電極幅を狭くした構成もあった。
しかしながら、このような従来技術では、MOSトランジスタの低容量化が実現されるものの、ゲート電極幅が狭い分だけオン抵抗が大きくなる傾向があり、高周波信号がアナログスイッチで減衰するという問題点があった。
When a high frequency signal is controlled by such an analog switch composed of a MOS transistor, it is necessary to reduce the capacity of the MOS transistor. In general, a MOS transistor has a parasitic capacitance corresponding to the size of a gate electrode or a channel. Therefore, conventionally, there has been a configuration in which the gate electrode width of the MOS transistor is narrowed as a method for reducing the capacitance.
However, although such a conventional technique can reduce the capacitance of the MOS transistor, it has a problem that the on-resistance tends to increase as the gate electrode width is narrow, and the high-frequency signal is attenuated by the analog switch. It was.
また、このようなMOSトランジスタのアナログスイッチをトランスインピーダンスアンプの利得切替回路において、帰還抵抗や負荷抵抗の切替接続に用いた場合、MOSトランジスタがオフ状態の際、その寄生容量が帰還抵抗や負荷抵抗の交流成分として影響し、利得の高周波特性が劣化するという問題点があった。一方、MOSトランジスタがオン状態の際、そのオン抵抗が帰還抵抗や負荷抵抗の直流成分として影響し、所望の利得が得られないという問題点があった。
本発明はこのような課題を解決するためのものであり、低容量でオン抵抗が低いMOSトランジスタ、MOSトランジスタの制御方法、およびトランスインピーダンスアンプを提供することを目的としている。
Further, when such an analog switch of a MOS transistor is used for switching connection of a feedback resistor or a load resistor in a gain switching circuit of a transimpedance amplifier, when the MOS transistor is in an OFF state, the parasitic capacitance is the feedback resistor or the load resistor. There is a problem in that the high frequency characteristics of the gain are deteriorated. On the other hand, when the MOS transistor is in an on state, the on resistance has an effect as a direct current component of the feedback resistance and the load resistance, and a desired gain cannot be obtained.
An object of the present invention is to provide a MOS transistor having a low capacitance and a low on-resistance, a method for controlling the MOS transistor, and a transimpedance amplifier.
このような目的を達成するために、本発明にかかるMOSトランジスタは、ドレイン、ソース、ゲート、およびゲート絶縁膜からなるMOS構造が半導体基板に形成されているMOSトランジスタであって、半導体基板と電気的に接続されて、半導体基板に対して外部から任意の電位を印加するためのバックゲート端子を備えている。 In order to achieve such an object, a MOS transistor according to the present invention is a MOS transistor in which a MOS structure including a drain, a source, a gate, and a gate insulating film is formed on a semiconductor substrate. And a back gate terminal for applying an arbitrary potential to the semiconductor substrate from the outside.
また、本発明にかかる他のMOSトランジスタは、ドレイン、ソース、ゲート、およびゲート絶縁膜からなるMOS構造が半導体基板に形成されているMOSトランジスタであって、ゲートと半導体基板とを電気的に接続する配線を備えている。 Another MOS transistor according to the present invention is a MOS transistor in which a MOS structure including a drain, a source, a gate, and a gate insulating film is formed on a semiconductor substrate, and electrically connects the gate and the semiconductor substrate. Wiring is provided.
また、本発明にかかるMOSトランジスタの制御方法は、ドレイン、ソース、ゲート、およびゲート絶縁膜からなるMOS構造が形成されている半導体基板に対して外部から任意の電位を印加するためのバックゲート端子を備えるMOSトランジスタの制御方法であって、当該MOSトランジスタがオフ状態にある際、バックゲート端子により半導体基板の電位をドレイン端子およびソース端子の電位より低い第1の電位とするようにしたものである。 The MOS transistor control method according to the present invention includes a back gate terminal for applying an external potential to a semiconductor substrate on which a MOS structure including a drain, a source, a gate, and a gate insulating film is formed. A method of controlling a MOS transistor comprising: when the MOS transistor is in an OFF state, the back gate terminal sets the potential of the semiconductor substrate to a first potential lower than the potential of the drain terminal and the source terminal. is there.
この際、当該MOSトランジスタがオン状態にある際、バックゲート端子により半導体基板の電位をドレイン端子およびソース端子の電位より高い第2の電位とするようにしてもよい。 At this time, when the MOS transistor is in the ON state, the potential of the semiconductor substrate may be set to a second potential higher than the potentials of the drain terminal and the source terminal by the back gate terminal.
また、本発明にかかる他のMOSトランジスタの制御方法は、ドレイン、ソース、ゲート、およびゲート絶縁膜からなるMOS構造が形成されている半導体基板に対して外部から任意の電位を印加するためのバックゲート端子を備えるMOSトランジスタの制御方法であって、当該MOSトランジスタがオン状態にある際、バックゲート端子により半導体基板の電位をドレイン端子およびソース端子の電位より高い第2の電位とするようにしたものである。 In addition, another MOS transistor control method according to the present invention provides a back surface for applying an external potential to a semiconductor substrate on which a MOS structure including a drain, a source, a gate, and a gate insulating film is formed. A method for controlling a MOS transistor having a gate terminal, wherein the potential of the semiconductor substrate is set to a second potential higher than the potentials of the drain terminal and the source terminal by the back gate terminal when the MOS transistor is in an ON state. Is.
また、本発明にかかる他のMOSトランジスタの制御方法は、ドレイン、ソース、ゲート、およびゲート絶縁膜からなるMOS構造が形成されている半導体基板に対して外部から任意の電位を印加するためのバックゲート端子を備えるMOSトランジスタの制御方法であって、半導体基板とゲート端子とを電気的に接続する配線により、半導体基板とゲート端子を同一の電位とするようにしてもよい。 In addition, another MOS transistor control method according to the present invention provides a back surface for applying an external potential to a semiconductor substrate on which a MOS structure including a drain, a source, a gate, and a gate insulating film is formed. A method for controlling a MOS transistor having a gate terminal, wherein the semiconductor substrate and the gate terminal may be set to the same potential by wiring for electrically connecting the semiconductor substrate and the gate terminal.
また、本発明にかかるトランスインピーダンスアンプは、入力電流を電圧変換して信号増幅を行い入力電流に応じて変化する出力電圧を出力する増幅回路と、複数の帰還抵抗を切替接続することにより増幅回路の利得を切り替える利得切替回路と、利得切替回路に対し出力電圧の大きさに応じて利得の切り替えを指示する利得切替判断回路とを有するトランスインピーダンスアンプであって、利得切替回路に、所望の利得に応じて複数の帰還抵抗を切替接続するスイッチとして、前述したいずれかのMOSトランジスタを備えている。 In addition, the transimpedance amplifier according to the present invention includes an amplifier circuit that converts an input current into a voltage to perform signal amplification and outputs an output voltage that changes according to the input current, and an amplifier circuit by switching and connecting a plurality of feedback resistors. A transimpedance amplifier having a gain switching circuit that switches the gain of the signal and a gain switching determination circuit that instructs the gain switching circuit to switch the gain according to the magnitude of the output voltage. One of the MOS transistors described above is provided as a switch for switching and connecting a plurality of feedback resistors according to the above.
この際、利得切替判断回路により、前述したいずれかのMOSトランジスタの制御方法に基づきMOSトランジスタを制御するようにしてもよい。 At this time, the MOS transistor may be controlled by the gain switching determination circuit based on any of the aforementioned MOS transistor control methods.
本発明によれば、MOSトランジスタに、半導体基板に対して外部から任意の電位を印加するためのバックゲート端子を設けたので、MOSトランジスタの動作状態やそのときのドレイン電位やソース電位に応じた任意の電位をバックゲート端子から半導体基板に対して印加することができる。したがって、半導体基板の電位が固定されている場合と比較して、MOSトランジスタの動作状態やドレイン電位やソース電位に応じて、低容量化や低オン抵抗化を実現できる。 According to the present invention, since the MOS transistor is provided with the back gate terminal for applying an arbitrary potential to the semiconductor substrate from the outside, it corresponds to the operating state of the MOS transistor and the drain potential or source potential at that time. An arbitrary potential can be applied to the semiconductor substrate from the back gate terminal. Therefore, as compared with the case where the potential of the semiconductor substrate is fixed, a reduction in capacitance and a reduction in on-resistance can be realized according to the operating state of the MOS transistor, the drain potential, and the source potential.
これにより、例えばMOSトランジスタがオフ状態にある際、バックゲート端子により半導体基板の電位をドレイン端子およびソース端子の電位より低い第1の電位とすることができ、オフ状態においてMOSトランジスタ自体の低容量化を実現できる。
また、MOSトランジスタがオン状態にある際、バックゲート端子により半導体基板の電位をドレイン端子およびソース端子の電位より高い第2の電位とすることができ、オン状態においてMOSトランジスタの低オン抵抗化を実現できる。
Thereby, for example, when the MOS transistor is in the off state, the potential of the semiconductor substrate can be made the first potential lower than the potentials of the drain terminal and the source terminal by the back gate terminal. Can be realized.
Further, when the MOS transistor is in the on state, the potential of the semiconductor substrate can be set to the second potential higher than the potentials of the drain terminal and the source terminal by the back gate terminal. realizable.
次に、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
[第1の実施の形態]
まず、図1および図2を参照して、本発明の第1の実施の形態にかかるMOSトランジスタについて説明する。図1は、本発明の第1の実施の形態にかかるMOSトランジスタの構成を示す断面図である。図2は、本発明の第1の実施の形態にかかるMOSトランジスタの構成を示す回路図である。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[First Embodiment]
First, a MOS transistor according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1 and FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of the MOS transistor according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of the MOS transistor according to the first embodiment of the present invention.
このMOSトランジスタ10Aは、半導体基板11表面にN型の不純物を導入して形成したドレイン12およびソース13と、これらドレイン12とソース13の間の半導体基板11上に形成されたゲート絶縁膜14と、このゲート絶縁膜14上に形成されたゲート電極15とからなるMOS構造を有するN型のMOSトランジスタであり、これらが絶縁層16により覆い隠されている。
The
また、ドレイン12、ソース13、およびゲート電極15に対して、MOSトランジスタ10Aの外部から任意の電位を印加するための端子として、ドレイン端子D、ソース端子S、およびゲート端子Gが設けられており、ドレイン12、ソース13、およびゲート電極15とそれぞれの配線17D,17S,17Gを介して電気的に接続されている。
In addition, a drain terminal D, a source terminal S, and a gate terminal G are provided as terminals for applying an arbitrary potential from the outside of the
本実施の形態は、MOSトランジスタ10Aの半導体基板11に対して、MOSトランジスタ10Aの外部から任意の電位を印加するための端子としてバックゲート端子Bを設け、配線17Bを介して半導体基板11と電気的に接続したものである。
In the present embodiment, a back gate terminal B is provided as a terminal for applying an arbitrary potential from the outside of the
MOSトランジスタ10Aは、その動作に応じてバックゲート端子Bから半導体基板11の電位を制御する。なお、複数のMOSトランジスタ10Aに対して、それぞれの半導体基板11の電位を共通に制御する場合、これらMOSトランジスタを同一の半導体基板に形成し、共通のバックゲート端子Bを設けてもよい。あるいは、集積化された複数のMOSトランジスタ10Aに対して、トリプル・ウェル(Triple Well)基板、SOI(Silicon on Insulator)基板などの基板構造により活性領域を素子間分離することにより、MOSトランジスタごとに個別のバックゲート端子Bを設けてもよい。
また、図1では、バックゲート端子Bの配線17Bを、ドレイン端子D、ソース端子S、およびゲート端子Gの配線17D,17S,17Gと同様に、トランジスタ10Aの素子表面(絶縁層16上部)に引き出しているが、基板11の裏面へ引き出して電位を与えるようにしてもよい。
The
Further, in FIG. 1, the
[第1の実施の形態の動作]
次に、図3を参照して、本発明の第1の実施の形態にかかるMOSトランジスタの動作について説明する。図3は、本発明の第1の実施の形態にかかるMOSトランジスタの動作を示す信号波形図である。
[Operation of First Embodiment]
Next, the operation of the MOS transistor according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a signal waveform diagram showing the operation of the MOS transistor according to the first embodiment of the present invention.
時刻T以前の期間では、ゲート電位VGがLOWレベルを示す電位、例えば接地電位GNDに制御されており、MOSトランジスタ10Aはオフ状態にある。この際、バックゲート端子Bに対して、そのときのドレイン電位VDやソース電位VSより低い第1の電位VB1を印加する。
これにより、半導体基板11の電位VBは、ドレイン電位VDやソース電位VSより低い第1の電位VB1となり、半導体基板11とドレイン12およびソース13との間に生じる寄生ダイオードの容量すなちわ寄生容量が小さくなるため、オフ状態においてMOSトランジスタ10A自体の低容量化が実現される。
The time T earlier period, the potential showing the gate voltage V G is the LOW level, for example, is controlled to the ground potential GND,
As a result, the potential V B of the
一方、時刻T以降の期間では、ゲート電位VGがHIGHレベルを示す電位、例えば電源電位Vccに制御されており、MOSトランジスタ10Aはオン状態にある。この際、バックゲート端子Bに対して、そのときのドレイン電位VDやソース電位VSより高い第2の電位VB2を印加する。
これにより、半導体基板11の電位VBは、ドレイン電位VDやソース電位VSより高い第2の電位VB2となり、MOSトランジスタ10Aのしきい値を等価的に下げることができ、オン状態においてMOSトランジスタ10Aの低オン抵抗化が実現される。
Meanwhile, in the period after the time T, the potential showing the gate voltage V G is a HIGH level, which is controlled, for example, the power supply potential Vcc,
As a result, the potential V B of the
このように、本実施の形態では、MOSトランジスタに、半導体基板に対して外部から任意の電位を印加するためのバックゲート端子を設けたので、MOSトランジスタの動作状態やそのときのドレイン電位やソース電位に応じた任意の電位をバックゲート端子から半導体基板に対して印加することができる。したがって、半導体基板の電位が固定されている場合と比較して、MOSトランジスタの動作状態やドレイン電位やソース電位に応じて、低容量化や低オン抵抗化を実現できる。 Thus, in this embodiment, since the MOS transistor is provided with the back gate terminal for applying an arbitrary potential to the semiconductor substrate from the outside, the operating state of the MOS transistor, the drain potential at that time, and the source An arbitrary potential corresponding to the potential can be applied to the semiconductor substrate from the back gate terminal. Therefore, as compared with the case where the potential of the semiconductor substrate is fixed, a reduction in capacitance and a reduction in on-resistance can be realized according to the operating state of the MOS transistor, the drain potential, and the source potential.
これにより、例えばMOSトランジスタがオフ状態にある際、バックゲート端子により半導体基板の電位をドレイン端子およびソース端子の電位より低い第1の電位とすることができ、オフ状態においてMOSトランジスタ自体の低容量化を実現できる。
また、MOSトランジスタがオン状態にある際、バックゲート端子により半導体基板の電位をドレイン端子およびソース端子の電位より高い第2の電位とすることができ、オン状態においてMOSトランジスタの低オン抵抗化を実現できる。
Thereby, for example, when the MOS transistor is in the off state, the potential of the semiconductor substrate can be made the first potential lower than the potentials of the drain terminal and the source terminal by the back gate terminal. Can be realized.
Further, when the MOS transistor is in the on state, the potential of the semiconductor substrate can be set to the second potential higher than the potentials of the drain terminal and the source terminal by the back gate terminal. realizable.
[第2の実施の形態]
次に、図4および図5を参照して、本発明の第2の実施の形態にかかるMOSトランジスタ10Aの制御方法について説明する。図4は、本発明の第2の形態にかかるMOSトランジスタ10Aを利得切替回路に用いた構成例を示す回路図であり、前述した図17と同じまたは同等部分には同一符号を付してある。図5は、本発明の第2の形態にかかるMOSトランジスタ10Aの制御方法を示す説明図である。
[Second Embodiment]
Next, with reference to FIGS. 4 and 5, a method for controlling the
前述した第1の実施の形態では、MOSトランジスタ10Aのオフ状態おいて半導体基板電位VBを第1の電位VB1とし、オン状態において半導体基板電位VBを第2の電位VB2とする場合について説明した。
本実施の形態では、半導体基板電位VBの具体例として、第1の電位VB1として接地電位GNDを用い、第2の電位VB2として電源電位Vccを用いる場合について説明する。
In the first embodiment described above, the semiconductor substrate potential V B is set to the first potential V B1 while the
In this embodiment, as a specific example of the semiconductor substrate potential V B, a case where the ground potential GND is used as the first potential V B1 and the power supply potential Vcc is used as the second potential V B2 will be described.
図4において、利得切替回路1Aは、増幅回路2の出力端子OUTに接続される端子TN1と、増幅回路2の入力端子INに接続される端子TN2と、これら端子TN1,TN2間に接続された帰還抵抗RFaと、一端が端子TN1に接続された帰還抵抗RFbと、ドレイン端子が帰還抵抗RFbの他端に接続されソース端子が端子TN2に接続されゲート端子およびバックゲート端子Bが利得切替信号SELに接続されたNMOSトランジスタ10Aとから構成されている。
In FIG. 4, the gain switching circuit 1A is connected between the terminal TN1 connected to the output terminal OUT of the amplifier circuit 2, the terminal TN2 connected to the input terminal IN of the amplifier circuit 2, and the terminals TN1 and TN2. The feedback resistor RFa, the feedback resistor RFb whose one end is connected to the terminal TN1, the drain terminal is connected to the other end of the feedback resistor RFb, the source terminal is connected to the terminal TN2, and the gate terminal and the back gate terminal B are the gain switching signal SEL. And an
また、増幅回路2は、入力端子INから入力された入力電流Iinを増幅し増幅信号Saとして出力するエミッタ接地回路2Aと、増幅信号Saを電力増幅し出力電圧Vとして出力端子OUTから出力するエミッタフォロワ回路2Bとから構成されている。
The amplifier circuit 2 amplifies the input current Iin input from the input terminal IN and outputs the amplified signal Sa as an amplified signal Sa, and an emitter that amplifies the amplified signal Sa and outputs it as an output voltage V from the output terminal OUT. And a
エミッタ接地回路2Aには、入力段トランジスタQa、負荷抵抗RL、および抵抗REが設けられている。
トランジスタQaは、NPNトランジスタからなり、ベース端子は入力端子INに接続され、コレクタ端子は負荷抵抗RLを介して電源電位Vccに接続され、エミッタ端子は抵抗REを介して接地電位GNDに接続されている。トランジスタQaのコレクタ端子から増幅信号Saがエミッタフォロワ回路2Bへ出力される。
The grounded
The transistor Qa is an NPN transistor, the base terminal is connected to the input terminal IN, the collector terminal is connected to the power supply potential Vcc via the load resistor RL, and the emitter terminal is connected to the ground potential GND via the resistor RE. Yes. An amplified signal Sa is output from the collector terminal of the transistor Qa to the
エミッタフォロワ回路2Bには、出力段トランジスタQbと定電流源Ieが設けられている。
トランジスタQbは、NPNトランジスタからなり、ベース端子はエミッタ接地回路2Aからの増幅信号Saに接続され、コレクタ端子は電源電位Vccに接続され、エミッタ端子は出力端子OUTに接続されている。定電流源Ieの入力端子はトランジスタQbのエミッタ端子に接続され、定電流源Ieの出力端子は接地電位GNDに接続されている。
The
The transistor Qb comprises an NPN transistor, the base terminal is connected to the amplified signal Sa from the grounded
[第2の実施の形態の動作]
次に、図5を参照して、本発明の第2の実施形態にかかるMOSトランジスタ10Aの動作について説明する。
利得切替信号SELとして接地電位GNDが与えられた場合、MOSトランジスタ10Aはオフ(開放)状態となり、端子TN1,TN2間に帰還抵抗RFaだけが接続されて、利得大が選択される。また、MOSトランジスタ10Aのバックゲート端子Bにゲート端子Gと同じ接地電位GNDが印加される。
[Operation of Second Embodiment]
Next, the operation of the
When the ground potential GND is applied as the gain switching signal SEL, the
この際、増幅回路2の入力端子INや出力端子OUTの電位は、電源電位Vccより低く接地電位GNDより高い電位、例えば電源電位Vccと接地電位GNDとの中間電位となる。
したがって、バックゲート端子Bに接地電位GNDが印加された場合、半導体基板11の電位VBは、ドレイン電位やソース電位より低い接地電位GNDからなる第1の電位VB1となり、オフ状態においてMOSトランジスタ10A自体の低容量化が実現される。これにより、MOSトランジスタ10Aがオフ状態となる利得大選択時において、MOSトランジスタ10Aの寄生容量による帰還抵抗の交流成分としての影響を抑制することができ、利得の高周波特性が劣化しない良好な周波数特性が得られる。
At this time, the potential of the input terminal IN and the output terminal OUT of the amplifier circuit 2 is lower than the power supply potential Vcc and higher than the ground potential GND, for example, an intermediate potential between the power supply potential Vcc and the ground potential GND.
Therefore, when the ground potential GND is applied to the back gate terminal B, the potential V B of the
次に、利得切替信号SELとして電源電位Vccが与えられた場合、MOSトランジスタ10Aはオン(導通)状態となり、端子TN1,TN2間には帰還抵抗RFaと帰還抵抗RFbが並列接続されて、利得小が選択される。また、MOSトランジスタ10Aのバックゲート端子Bにゲート端子Gと同じ電源電位Vccが印加される。
Next, when the power supply potential Vcc is applied as the gain switching signal SEL, the
したがって、バックゲート端子Bに電源電位Vccが印加された場合、半導体基板11の電位VBは、ドレイン電位やソース電位より高い電源電位Vccからなる第2の電位VB2となり、オン状態においてMOSトランジスタ10Aの低オン抵抗化が実現される。これにより、MOSトランジスタ10Aがオン状態となる利得小選択時において、MOSトランジスタ10Aのオン抵抗による帰還抵抗の直流成分としての影響を抑制することができ、帰還抵抗RFaとRFbとの合成抵抗に応じた所望の利得が得られる。
Therefore, when the power supply potential Vcc is applied to the back gate terminal B, the potential V B of the
このように、本実施の形態では、半導体基板電位VBの具体例として、第1の電位VB1として接地電位GNDを用い、第2の電位VB2として電源電位Vccを用いるようにしたので、第1の電位VB1や第2の電位VB2として特別な電位を生成する必要がなくなり、これら電位を生成するための回路構成を追加することなく、第1の実施の形態と同様の作用効果が得られる。 Thus, in this embodiment, as a specific example of the semiconductor substrate potential V B , the ground potential GND is used as the first potential V B1 , and the power supply potential Vcc is used as the second potential V B2 . It is not necessary to generate special potentials as the first potential V B1 and the second potential V B2 , and the same effects as those of the first embodiment can be obtained without adding a circuit configuration for generating these potentials. Is obtained.
また、バックゲート端子Bに印加する電位を、MOSトランジスタ10Aの動作状態に応じて電源電位Vccと接地電位GNDとの間で切替制御する制御回路を別途設けてもよいが、MOSトランジスタのバックゲート端子とゲート端子とを接続し、半導体基板に対してゲート端子と同じ電位を印加するようにしたので、上記制御回路を追加することなく、極めて簡素な回路構成で、第1の実施の形態と同様の作用効果が得られる。
Further, a control circuit for switching the potential applied to the back gate terminal B between the power supply potential Vcc and the ground potential GND according to the operating state of the
なお、本実施の形態では、MOSトランジスタ10Aのバックゲート端子Bとゲート端子Gとを、MOSトランジスタ10Aのパッケージ外部に設けた配線、例えばMOSトランジスタ10Aを実装する印刷回路基板に設けた配線で接続してもよい。あるいは、この配線をMOSトランジスタ10Aのパッケージ内部に予め設けた配線、例えばMOSトランジスタ10Aの半導体基板11やバックゲート端子Bとゲート端子Gとを結ぶ配線で接続してもよく、パッケージ外部の配線を省くことができる。
In the present embodiment, the back gate terminal B and the gate terminal G of the
[第3の実施の形態]
次に、図6〜図9を参照して、本発明の第3の実施の形態にかかるトランスインピーダンスアンプについて説明する。図6は、一般的なPONシステムの構成例である。図7は、一般的なPONシステムの上りデータとして送信されるパケットの構成例である。図8は、一般的なPONシステムの下りデータとして送信されるパケットの構成例である。図9は、本発明の第3の実施の形態にかかるトランスインピーダンスアンプの構成を示すブロック図である。
[Third Embodiment]
Next, a transimpedance amplifier according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 6 is a configuration example of a general PON system. FIG. 7 is a configuration example of a packet transmitted as uplink data of a general PON system. FIG. 8 is a configuration example of a packet transmitted as downlink data of a general PON system. FIG. 9 is a block diagram showing a configuration of a transimpedance amplifier according to the third exemplary embodiment of the present invention.
通常、高速データ伝送を可能とする光伝送システム、特にPONシステムにおいては、高感度で広入力ダイナミックレンジ、かつバースト応答性が要求される。図6にPONシステムの構成を示す。このPONシステムは、1台の局側装置(OLT:Optical Line Terminal)501と複数台の宅側装置(ONU:Optical Network Unit)511〜51nとからなり、光カプラ502などのパッシブデバイスと光ファイバ503を介して接続されている。
Usually, an optical transmission system that enables high-speed data transmission, particularly a PON system, requires high sensitivity, a wide input dynamic range, and burst response. FIG. 6 shows the configuration of the PON system. This PON system is composed of one station side device (OLT: Optical Line Terminal) 501 and a plurality of home side devices (ONU: Optical Network Units) 511 to 51n, and a passive device such as an
この際、各宅側装置511〜51nから局側装置501への上り(ONUからOLTへ)のデータすなわちパケット521〜52nは、それぞれの経路の違いにより、局側装置501への到達時の光パワーが異なってくる。このため、局側装置501の光受信回路で用いられるトランスインピーダンスアンプ(TIA:TransImpedance Amp)には広いダイナミックレンジが要求される。
At this time, the uplink data (from ONU to OLT) from each of the
図6のPONシステムでは、ある宅側装置がパケットを送出している間(パケット期間)は、他の宅側装置はパケットを送出できないので、伝送効率を高めるには、パケット間の時間を短くする必要がある。したがって、図7に示すように、パケット520の先頭には、プリアンブル52xと呼ばれる特定ビットが用意され、局側装置501でパケットの同期に使用される。
In the PON system of FIG. 6, while a certain home-side device is sending packets (packet period), other home-side devices cannot send packets, so to increase transmission efficiency, shorten the time between packets. There is a need to. Therefore, as shown in FIG. 7, a specific bit called a
前述したように、局側装置501への到達時の光パワーの差Pdに起因して、各パケット520の信号振幅はパケットごとに異なっている。また、伝送効率を高めるためには、短いプリアンブル52xでパケットを同期させて後続のペイロード52yを受信しなければならず、短いプリアンブル52xで、瞬時に利得を切り替えることができる光受信回路が必要となる。このため、光受信回路には、瞬時応答が可能で、広ダイナミックレンジを有するトランスインピーダンスアンプが要求される。
As described above, the signal amplitude of each packet 520 varies from packet to packet due to the optical power difference Pd when reaching the station-
一方、局側装置501から各宅側装置511〜51nへの下り(OLTからONUへ)のデータすなわちパケット531〜53nは、図8に示すように、伝送効率を高めるためにそれぞれ所定の時間位置に設けられたペイロード53yにそれぞれ連続してパケット530として格納されて、プリアンブルやパケット間隔のないストリームとして局側装置501から送出され、光カプラ502で各宅側装置511〜51nへ分配される。
On the other hand, downstream data (from OLT to ONU), that is,
この際、前述した上りデータと同様に、各宅側装置511〜51nまでの経路の違いにより、宅側装置511〜51nへの到着時の光パワーが異なってくる。このため、設置状況に応じた経路の違いに対応するためには、局側装置501と同様に宅側装置511〜51nの光受信回路で用いられるトランスインピーダンスアンプにも広いダイナミックレンジが要求される。
At this time, similarly to the above-described uplink data, the optical power upon arrival at the
本実施の形態にかかるトランスインピーダンスアンプ200は、図9に示すように、トランスインピーダンスアンプ200は、主な回路構成として、第1のトランスインピーダンスアンプコア回路210、第2のトランスインピーダンスアンプコア回路220、中間段バッファ回路230、出力バッファ回路240、および利得切替判断回路250を備えている。
As shown in FIG. 9, the
第1のトランスインピーダンスアンプコア回路210は、入力端子が受光素子100の出力端子に接続されて、受光素子100から出力された入力電流Iinを電圧変換して信号増幅を行い、入力電流Iinに応じて変化する出力電圧V1を出力端子から出力する増幅回路211と、この増幅回路211の入力端子と出力端子との間に接続されて、利得切替判断回路250からの利得切替信号SELに応じて増幅回路211のトランスインピーダンス利得を切り替える利得切替回路212とを有している。
The first transimpedance amplifier core circuit 210 has an input terminal connected to the output terminal of the
第2のトランスインピーダンスアンプコア回路220は、第1のトランスインピーダンスアンプコア回路210の増幅回路211と同様であるものの入力端子が開放されており、出力電圧V1の参照電圧として入力電流Iinに応じて変化しない一定の出力電圧V2を出力端子から出力する増幅回路221と、第1のトランスインピーダンスアンプコア回路210の利得切替回路212と同様の利得切替回路222を有している。
これら利得切替回路212,222として前述の第1または第2の実施の形態で説明した利得切替回路1Aおよびその制御方法が用いられる。また、増幅回路211,221として、前述の第1または第2の実施の形態で説明した増幅回路2を用いてもよい。
The second transimpedance amplifier core circuit 220 is similar to the amplifier circuit 211 of the first transimpedance amplifier core circuit 210, but has an input terminal open, and according to the input current Iin as a reference voltage of the output voltage V1. It has an amplification circuit 221 that outputs a constant output voltage V2 that does not change from the output terminal, and a gain switching circuit 222 similar to the
As these
中間段バッファ回路230は、第1および第2のトランスインピーダンスアンプコア回路210,220の出力端子が差動入力端子に接続されて、この差動入力端子に入力された出力電圧V1,V2を差動増幅し(例えば、利得=1)、出力電圧V3(非反転出力)および出力電圧V4(反転出力)からなる差動出力信号として差動出力端子から出力するバッファ回路である。
出力バッファ回路240は、中間段バッファ回路230の差動出力端子が差動入力端子に接続されて、この差動入力端子に入力された出力電圧V3,V4を差動増幅し(例えば、利得=1)、出力電圧Voutp(非反転出力)およびVoutn(反転出力)を、トランスインピーダンスアンプ200の出力電圧Voutとして出力するバッファ回路である。
In the intermediate
In the
利得切替判断回路250は、中間段バッファ回路230の出力電圧V3,V4からなる比較入力電圧Vc(=V4−V3)を入力として、第1および第2のトランスインピーダンスアンプコア回路210,220の利得切替回路212,222へ利得切替信号SELを出力することにより、受光素子100からの入力電流Iinに応じて第1および第2のトランスインピーダンスアンプコア回路210,220の利得を切り替える判断回路である。
The gain
[第3の実施の形態の動作]
次に、図10〜図13を参照して、本発明の第3の実施の形態にかかるトランスインピーダンスアンプの動作について説明する。図10は、本発明の第3の実施の形態にかかるトランスインピーダンスアンプの各部における信号波形例である。図11は、本発明の第3の実施の形態にかかるトランスインピーダンスアンプで用いられる利得切替コンパレータのヒステリシス特性例である。図12は、利得切替コンパレータの動作特性例である。図13は、本発明の第3の実施の形態にかかるトランスインピーダンスアンプの動作例を示すタイミングチャート図である。
[Operation of Third Embodiment]
Next, the operation of the transimpedance amplifier according to the third exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is an example of a signal waveform in each part of the transimpedance amplifier according to the third exemplary embodiment of the present invention. FIG. 11 is an example of hysteresis characteristics of the gain switching comparator used in the transimpedance amplifier according to the third embodiment of the present invention. FIG. 12 is an example of operating characteristics of the gain switching comparator. FIG. 13 is a timing chart showing an operation example of the transimpedance amplifier according to the third exemplary embodiment of the present invention.
まず、図10を参照して、第1のトランスインピーダンスアンプコア回路210、第2のトランスインピーダンスアンプコア回路220、中間段バッファ回路230、および出力バッファ回路240の動作について説明する。
光ファイバを介して局側装置(OLT)から送信された光信号は、光カプラで分配されて宅側装置(ONU)に到達し、その光受信回路の受光素子100により光電気変換され、入力電流Iinとしてトランスインピーダンスアンプ200へ入力される。
First, operations of the first transimpedance amplifier core circuit 210, the second transimpedance amplifier core circuit 220, the intermediate
The optical signal transmitted from the station side device (OLT) via the optical fiber is distributed by the optical coupler, reaches the home side device (ONU), is photoelectrically converted by the
トランスインピーダンスアンプ200の第1のトランスインピーダンスアンプコア回路210は、入力された入力電流Iinを増幅回路211で電圧変換して信号増幅を行い、この入力電流Iinに応じて変化する出力電圧V1を出力する。
一方、第2のトランスインピーダンスアンプコア回路220は、常時、出力電圧V1の参照電圧として入力電流Iinに応じて変化しない一定の出力電圧V2を出力している。
The first transimpedance amplifier core circuit 210 of the
On the other hand, the second transimpedance amplifier core circuit 220 always outputs a constant output voltage V2 that does not change according to the input current Iin as a reference voltage of the output voltage V1.
中間段バッファ回路230には、これら第1のトランスインピーダンスアンプコア回路210の出力電圧V1と、第2のトランスインピーダンスアンプコア回路220の出力電圧V2が入力され、入力電流Iinが大きくなると出力電圧V3,V4との間の電位差(V4−V3)が大きくなるような差動出力信号が得られる。これら出力電圧V3,V4は、所定の中心電位V0を中心として上下に対称な振幅を持つ信号波形となる。
中間段バッファ回路230の差動出力信号は、出力バッファ回路240に入力され、出力電圧Voutp(非反転出力)およびVoutn(反転出力)からなるトランスインピーダンスアンプ200の出力電圧Voutとして出力される。
The intermediate
The differential output signal of the intermediate
次に、図11〜図13を参照して、利得切替判断回路250の動作について説明する。
中間段バッファ回路230の差動出力信号は、比較入力電圧Vcとして利得切替判断回路250へ供給され、利得切替判断回路250の利得切替コンパレータ251へ入力される。
Next, the operation of the gain
The differential output signal of the intermediate
図11に示すように、利得切替コンパレータ251は、比較入力電圧Vcの増大を検出する電圧検出レベルVh1と、常に比較入力電圧Vcより低い電圧検出レベルVh2とからなるヒステリシス特性を有している。ヒステリシスコンパレータの立ち上がり動作や立ち下がり動作が行われる時点における差動入力端子の入力電圧すなわち比較入力電圧を電圧検出レベルという。
As shown in FIG. 11, the
トランスインピーダンスアンプ200の構成では、常に、受光素子100から入力電流Iinが入力されるため、出力電圧V2>出力電圧V1となり、比較入力電圧Vc(=V4−V3)>0である。したがって、図12に示すように、入力電流Iinが増加して電流I1を超えて比較入力電圧Vcが電圧検出レベルVh1を超えた時点で、利得切替コンパレータ251からの出力すなわち利得切替信号SELの論理が反転する。
In the configuration of the
この際、利得切替コンパレータ251では、一旦利得が反転した場合、そのヒステリシス特性の立ち下がり動作まで比較入力電圧Vcが変化しない限り、出力論理はリセットされない。本実施の形態では、比較入力電圧Vc>0であり、立ち下がり動作を行う電圧検出レベルVh2が常に比較入力電圧Vcより低く設定してあるため、結果として一旦反転した場合には、その論理が保持される。
At this time, in the
本実施の形態では、パケットを受信する前に、利得切替信号SELの論理を「利得大」に初期化しておき、利得切替コンパレータ251のヒステリシス特性における立ち上がり動作に応じて、利得切替信号SELの論理を「利得大」(第1の利得)から「利得小」(第2の利得)へ切り替えている。
これにより、利得切り替えが行われる電流I1付近で入力電流Iinが変動しても、利得切替コンパレータ251の比較動作は安定するため、トランスインピーダンスアンプコア回路210,220の利得を安定させることができ、振幅変動の小さい出力信号Voutが得られる。
In the present embodiment, the logic of the gain switching signal SEL is initialized to “high gain” before receiving the packet, and the logic of the gain switching signal SEL is set in accordance with the rising operation in the hysteresis characteristic of the
Thereby, even if the input current Iin fluctuates in the vicinity of the current I1 at which gain switching is performed, the comparison operation of the
したがって、図13に示すように、パケットの受信が開始されて入力電流Iinが増加し、時刻Tにおいて比較入力電圧Vcが電圧検出レベルVh1へ到達した場合、利得切替コンパレータ251からの利得切替信号SELが「利得大」から「利得小」へ反転する。これにより、第1および第2のトランスインピーダンスアンプコア回路210,220の利得が小さくなる。
Therefore, as shown in FIG. 13, when the reception of the packet is started and the input current Iin increases and the comparison input voltage Vc reaches the voltage detection level Vh1 at time T, the gain switching signal SEL from the
その後、利得切り替えが行われる電流I1付近で入力電流Iinが変動しても、利得切替コンパレータ251の比較動作は安定するため、トランスインピーダンスアンプコア回路210,220の利得を安定させることができ、振幅変動の小さい出力信号Voutが得られる。
Thereafter, even if the input current Iin fluctuates in the vicinity of the current I1 at which gain switching is performed, the comparison operation of the
このように、本実施の形態では、トランスインピーダンスアンプコア回路210,220の利得切替回路212,222として、前述の第1または第2の実施の形態で説明した利得切替回路1Aを用いるようにしたので、受光素子100からの入力電流Iinの大きさに応じて利得を切り替えた場合でも、MOSトランジスタ10Aの寄生容量やオン抵抗に影響されない、所望の平坦な周波数特性を得ることができ、広入力ダイナミックレンジが要求されるようなPONシステムなどの光伝送システムにおいて、良好な通信品質が得られる。
Thus, in the present embodiment, the gain switching circuit 1A described in the first or second embodiment is used as the
[第4の実施の形態]
次に、図14および図15を参照して、本発明の第4の実施の形態にかかるトランスインピーダンスアンプで用いられるトランスインピーダンスアンプコア回路の具体例について説明する。図14は、本発明の第4の実施の形態にかかるトランスインピーダンスアンプで用いられるトランスインピーダンスアンプコア回路の主要部構成例を示す回路図である。図15は、図14のトランスインピーダンスアンプコア回路の利得切替制御を示す説明図である。
[Fourth Embodiment]
Next, a specific example of the transimpedance amplifier core circuit used in the transimpedance amplifier according to the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 14 is a circuit diagram showing a configuration example of a main part of a transimpedance amplifier core circuit used in the transimpedance amplifier according to the fourth embodiment of the present invention. FIG. 15 is an explanatory diagram showing gain switching control of the transimpedance amplifier core circuit of FIG.
図14のトランスインピーダンスアンプコア回路210,220には、利得を「利得大」、「利得中」、および「利得小」の2段切り替えを行う利得切替回路212,222として、トランスインピーダンス利得を決める帰還抵抗RF1,RF2,RF3、開ループ利得を決める負荷抵抗RL1,RL2,RL3が設けられており、それら帰還抵抗および負荷抵抗を、前述した第1または第2の実施の形態にかかるMOSトランジスタ10AからなるNMOSトランジスタMN1〜MN4をスイッチとして所望の抵抗値に切り替える。なお、帰還抵抗および負荷抵抗を切り替えるスイッチとしてのNMOSトランジスタMN1〜MN4は切替信号の論理を反転すればPMOSトランジスタでも実現可能である。
The transimpedance amplifier core circuits 210 and 220 in FIG. 14 determine the transimpedance gain as the
図15には、利得切替信号とNMOSトランジスタMN1〜MN4のゲート電位(H=HIGHレベル、L=LOWレベル)の関係が示されている。この場合、利得切替回路212,222のNMOSトランジスタMN1,MN3のゲート端子に利得切替信号SEL1が供給されるとともに、NMOSトランジスタMN2,MN4のゲート端子に利得切替信号SEL2が供給される。これにより、帰還抵抗RF1,RF2,RF3さらには負荷抵抗RL1,RL2,RL3の切り替えが行われ、利得を「利得大」、「利得中」、および「利得小」に切り替えることができ、さらに選択したトランスインピーダンス利得に適切な開ループ利得が自動的に選択される。
FIG. 15 shows the relationship between the gain switching signal and the gate potentials (H = HIGH level, L = LOW level) of the NMOS transistors MN1 to MN4. In this case, the gain switching signal SEL1 is supplied to the gate terminals of the NMOS transistors MN1 and MN3 of the
このように、本実施の形態では、トランスインピーダンスアンプコア回路で、帰還抵抗や負荷抵抗を切り替えるアナログスイッチとして、前述した第1または第2の実施の形態にかかるMOSトランジスタ10Aを用い、半導体基板に対して外部から任意の電位を印加するためのバックゲート端子を設けたので、MOSトランジスタの動作やそのときのドレイン電位やソース電位に応じた電位をバックゲート端子から半導体基板に対して任意の電位を印加することができる。これにより、オフ状態においてMOSトランジスタ10A自体の低容量化を実現でき、オン状態においてMOSトランジスタ10Aの低オン抵抗化を実現できる。
As described above, in the present embodiment, the
したがって、受光素子100からの入力電流Iinの大きさに応じて利得を切り替えた場合でも、MOSトランジスタ10Aの寄生容量やオン抵抗に影響されない、所望の平坦な周波数特性を得ることができ、広入力ダイナミックレンジが要求されるようなPONシステムなどの光伝送システムにおいて、良好な通信品質が得られる。
また、MOSトランジスタ10Aにおいて、バックゲート端子から半導体基板に対してゲート端子と同じ電位を印加するようにしたので、極めて簡素な回路構成で低容量化および低オン抵抗化を実現できる。
Therefore, even when the gain is switched according to the magnitude of the input current Iin from the
Further, in the
[実施の形態の拡張]
以上で説明した各実施の形態では、NMOSトランジスタを例として説明したが、PMOSトランジスタについても、その制御論理がNMOSトランジスタと反転するものの前述と同様にして各実施の形態を適用でき、同様の作用効果が得られる。
[Extended embodiment]
In each of the embodiments described above, the NMOS transistor has been described as an example. However, although the control logic of the PMOS transistor is inverted from that of the NMOS transistor, each embodiment can be applied in the same manner as described above, and the same operation can be performed. An effect is obtained.
また、第3の実施の形態では、第1および第2の実施の形態にかかるMOSトランジスタが、PONシステムなど高感度で広入力ダイナミックレンジかつバースト応答性が要求される光伝送システムにおいて、宅側装置(ONU)や局側装置(OLT)のトランスインピーダンスアンプで用いられる場合について説明したが、これに限定されるものではなく、第1および第2の実施の形態にかかるMOSトランジスタを他の回路装置で用いてもよく、前述と同様の作用効果が得られる。 In the third embodiment, the MOS transistor according to the first and second embodiments is used in an optical transmission system such as a PON system that requires high sensitivity, a wide input dynamic range, and burst response. The case where the device is used in the transimpedance amplifier of the device (ONU) or the station side device (OLT) has been described, but the present invention is not limited to this, and the MOS transistors according to the first and second embodiments are replaced with other circuits. You may use with an apparatus and the effect similar to the above is acquired.
本MOSトランジスタおよびトランスインピーダンスアンプは、高速データ伝送を可能とする光伝送システム、光インターコネクション、パッシブオプティカルネットワーク,(以下、PONと称する)システム等の光伝送回路において、光信号を電気信号に変換する光受信回路に好適である。 This MOS transistor and transimpedance amplifier convert optical signals into electrical signals in optical transmission circuits such as optical transmission systems, optical interconnections, passive optical networks, and (PON) systems that enable high-speed data transmission. It is suitable for an optical receiving circuit.
10A…MOSトランジスタ、11…半導体基板、12…ドレイン、13…ソース、14…ゲート絶縁膜、15…ゲート電極、16…絶縁層、1A…利得切替回路、2…増幅回路、2A…エミッタ接地回路、2B…エミッタフォロワ回路、100…受光素子、200…トランスインピーダンスアンプ、210…第1のトランスインピーダンスアンプコア回路、211…増幅回路、212…利得切替回路、220…第2のトランスインピーダンスアンプコア回路、221…増幅回路、222…利得切替回路、230…中間段バッファ回路、240…出力バッファ回路、250…利得切替判断回路、251…利得切替コンパレータ、501…局側装置(OLT)、502…光カプラ、503…光ファイバ、511〜51n…宅側装置(ONU)、520,521〜52n,530,531〜53n…パケット、T1,T2…端子、D…ドレイン端子、S…ソース端子、G…ゲート端子、B…バックゲート端子、VD…ドレイン電位、VS…ソース電位、VG…ゲート電位、VB…半導体基板電位、VB1…第1の電位、VB2…第2の電位、RF,RFa,RFb…帰還抵抗、Qa…入力段トランジスタ(エミッタ接地回路)、RL…負荷抵抗(エミッタ接地回路)、RE…抵抗(エミッタ接地回路)、Qb…出力段トランジスタ(エミッタフォロワ回路)、Ie…定電流源(エミッタフォロワ回路)、Iin…入力電流、Sa…増幅信号、IN…入力端子(増幅回路)、OUT…出力端子(増幅回路)、Vcc…電源電位、GND…接地電位、V,V1,V2…出力電圧、V3…出力電圧(非反転出力)、V4…出力電圧(反転出力)、Vc…比較入力電圧、Vh1…検出レベル電圧、Vh2…検出レベル電圧、SEL…利得切替信号、Vout…出力電圧、Voutp…出力電圧(非反転出力)、Voutn…出力電圧(反転出力)。
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記半導体基板と電気的に接続されて、前記半導体基板に対して外部から任意の電位を印加するためのバックゲート端子を備えることを特徴とするMOSトランジスタ。 A MOS transistor in which a MOS structure including a drain, a source, a gate, and a gate insulating film is formed on a semiconductor substrate,
A MOS transistor comprising a back gate terminal electrically connected to the semiconductor substrate and for applying an arbitrary potential to the semiconductor substrate from the outside.
前記ゲートと前記半導体基板とを電気的に接続する配線を備えることを特徴とするMOSトランジスタ。 A MOS transistor in which a MOS structure including a drain, a source, a gate, and a gate insulating film is formed on a semiconductor substrate,
A MOS transistor comprising a wiring for electrically connecting the gate and the semiconductor substrate.
当該MOSトランジスタがオフ状態にある際、前記バックゲート端子により前記半導体基板の電位をドレイン端子およびソース端子の電位より低い第1の電位とすることを特徴とするMOSトランジスタの制御方法。 A method of controlling a MOS transistor having a back gate terminal for applying an arbitrary potential from the outside to a semiconductor substrate on which a MOS structure including a drain, a source, a gate, and a gate insulating film is formed,
A method for controlling a MOS transistor, wherein when the MOS transistor is in an off state, the potential of the semiconductor substrate is set to a first potential lower than that of a drain terminal and a source terminal by the back gate terminal.
当該MOSトランジスタがオン状態にある際、前記バックゲート端子により前記半導体基板の電位をドレイン端子およびソース端子の電位より高い第2の電位とすることを特徴とするMOSトランジスタの制御方法。 The method of controlling a MOS transistor according to claim 3,
A method for controlling a MOS transistor, characterized in that, when the MOS transistor is in an ON state, the potential of the semiconductor substrate is set to a second potential higher than the potentials of the drain terminal and the source terminal by the back gate terminal.
当該MOSトランジスタがオン状態にある際、前記バックゲート端子により前記半導体基板の電位をドレイン端子およびソース端子の電位より高い第2の電位とすることを特徴とするMOSトランジスタの制御方法。 A method of controlling a MOS transistor having a back gate terminal for applying an arbitrary potential from the outside to a semiconductor substrate on which a MOS structure including a drain, a source, a gate, and a gate insulating film is formed,
A method for controlling a MOS transistor, characterized in that, when the MOS transistor is in an ON state, the potential of the semiconductor substrate is set to a second potential higher than the potentials of the drain terminal and the source terminal by the back gate terminal.
半導体基板とゲート端子とを電気的に接続する配線により、前記半導体基板と前記ゲート端子を同一の電位とすることを特徴とするMOSトランジスタの制御方法。 A MOS transistor control method in which a MOS structure including a drain, a source, a gate, and a gate insulating film is formed on a semiconductor substrate,
A method for controlling a MOS transistor, characterized in that the semiconductor substrate and the gate terminal are set to the same potential by wiring for electrically connecting the semiconductor substrate and the gate terminal.
前記利得切替回路は、所望の利得に応じて複数の帰還抵抗を切替接続するスイッチとして、請求項1または請求項2のいずれかに記載したMOSトランジスタを備えることを特徴とするトランスインピーダンスアンプ。 An amplifier circuit that converts an input current into a voltage to perform signal amplification and outputs an output voltage that changes according to the input current; a gain switching circuit that switches a gain of the amplifier circuit by switching and connecting a plurality of feedback resistors; A transimpedance amplifier having a gain switching determination circuit that instructs the gain switching circuit to switch the gain according to the magnitude of the output voltage;
3. The transimpedance amplifier according to claim 1, wherein the gain switching circuit includes the MOS transistor according to claim 1 as a switch for switching and connecting a plurality of feedback resistors according to a desired gain.
前記利得切替判断回路は、請求項3〜請求項5のいずれかに記載したMOSトランジスタの制御方法に基づき前記MOSトランジスタを制御することを特徴とするトランスインピーダンスアンプ。
The transimpedance amplifier according to claim 7,
6. The transimpedance amplifier, wherein the gain switching determination circuit controls the MOS transistor based on the MOS transistor control method according to any one of claims 3 to 5.
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