JP2007035898A - Uwb送信機 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】出力すべき信号系列のインパルス列により搬送波信号を変調するミキサーとして、高出力の変調信号をドレイン電極から出力可能なAlGaN/GaNデュアルゲートのHEMTミキサー素子10を用い、ドレイン電極からの前記変調信号により直接アンテナを駆動してRF信号として放射する。HEMTミキサー素子10は、SiC基板1、GaN層2、スペーサのAlGaN層3、キャリア供給源となるnドープしたAlGaN層4、キャップのAlGaN層5、ソース側およびドレイン側のTi/Alオーミック電極6a,6b、ソース側およびドレイン側のNi/Auゲート電極8a,8b、SiN表面保護膜7からなる。ソース側およびドレイン側のNi/Auゲート電極8a,8bは、いずれも、ゲート長0.7μm、ゲート幅300μmである。
【選択図】図1
Description
近藤ら、「準ミリ波帯広帯域インパルスレーダの開発」、電子情報通信学会2004年基礎・境界ソサイエティ大会論文集AS−4−2、2004年9月23日発表、p.S−30〜S−31 K.Shiojima eta1,「High power AlGaN/GaN dual−gate electron mobility transistor mixers on SiC substrates」,Electronics Letters,Vol.40,No.12,p.775−776(2004)
次に、本発明によるUWB送信機に適用する図1のAlGaN/GaNデュアルゲートのHEMTミキサー素子10の実験結果について、その一実施例を説明する。すなわち、図1に示すごときAlGaN/GaNデュアルゲートHEMT構造からなるHEMTミキサー素子10を作製して、UWB応用パルス変調実験を行った結果について説明する。図2は、本発明によるUSB送信機に適用するHEMTミキサー素子10のパルス変調実験を行った際の測定系構成の一例を示すブロック図である。
次に、図2に示す測定系構成において観測された、図1のAlGaN/GaNデュアルゲートからなるHEMTミキサー素子10の実験結果について説明する。
Claims (4)
- UWB通信用として用いられるUWB送信機において、出力すべき信号系列のインパルス列により搬送波信号を変調するミキサーとして、前記インパルス列と前記搬送波信号とをそれぞれゲート信号として入力するデュアルゲートを備え、高出力の変調信号をドレイン電極から出力することが可能なAlGaN/GaNデュアルゲートHEMT素子を用いていることを特徴とするUWB送信機。
- 前記ミキサーとして用いられるAlGaN/GaNデュアルゲートHEMT素子のドレイン電極をアンテナに直接接続して、前記ミキサーからの前記変調信号によって前記アンテナを直接駆動することを特徴とする請求項1に記載のUWB送信機。
- 前記ミキサーとして用いられるAlGaN/GaNデュアルゲートHEMT素子は、SiC基板上にGaN層を形成した後、複数のAlGaN層として、スペーサとなるAlGaN層、キャリア供給源となるn型AlGaN層、キャップのAlGaN層を順次形成し、さらに、前記キャップのAlGaN層の上にソース側およびドレイン側のTi/Alオーミック電極をそれぞれ形成した後、SiN表面保護膜を堆積し、しかる後、該SiN表面保護膜の一部をドライエッチングしたエッチング箇所にソース側およびドレイン側のNi/Auゲート電極をそれぞれ形成することを特徴とする請求項1または2に記載のUWB送信機。
- ゲート信号として、ソース側の前記Ni/Auゲート電極に入力される前記搬送波信号を、ソース側の前記Ni/Auゲート電極で形成されるFETのチャネルが常に通電状態になるようなDCバイアスを重畳して入力し、一方、ドレイン側の前記Ni/Auゲート電極に入力される前記インパルス列を、ドレイン側の前記Ni/Auゲート電極で形成されるFETのチャネルが前記インパルス列の正のパルスが印加されたときにのみ通電するようなDCバイアスを重畳して入力することを特徴とする請求項3に記載のUWB送信機。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7741632B2 (en) * | 2007-04-29 | 2010-06-22 | Lattice Power (Jiangxi) Corporation | InGaAIN light-emitting device containing carbon-based substrate and method for making the same |
KR100985470B1 (ko) * | 2008-04-18 | 2010-10-06 | 고려대학교 산학협력단 | 고 전자 이동도 트랜지스터 및 그 제조방법 |
CN102054891A (zh) * | 2010-10-13 | 2011-05-11 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 室温太赫兹波探测器 |
JP2012195506A (ja) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Toshiba Corp | 窒化物半導体装置 |
US9036679B2 (en) | 2012-08-14 | 2015-05-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus and method for generating Gaussian pulse and ultra wideband communication apparatus for generating Gaussian pulse |
CN118412273A (zh) * | 2024-07-03 | 2024-07-30 | 成都航天博目电子科技有限公司 | 一种GaN HEMT器件的栅极制备方法、栅极以及GaN HEMT器件 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005012773A (ja) * | 2003-06-19 | 2005-01-13 | Samsung Electronics Co Ltd | 超広帯域線形周波数変調信号を用いた超広帯域高速無線送受信機およびその無線送信方法 |
-
2005
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005012773A (ja) * | 2003-06-19 | 2005-01-13 | Samsung Electronics Co Ltd | 超広帯域線形周波数変調信号を用いた超広帯域高速無線送受信機およびその無線送信方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7741632B2 (en) * | 2007-04-29 | 2010-06-22 | Lattice Power (Jiangxi) Corporation | InGaAIN light-emitting device containing carbon-based substrate and method for making the same |
KR100985470B1 (ko) * | 2008-04-18 | 2010-10-06 | 고려대학교 산학협력단 | 고 전자 이동도 트랜지스터 및 그 제조방법 |
CN102054891A (zh) * | 2010-10-13 | 2011-05-11 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 室温太赫兹波探测器 |
JP2012195506A (ja) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Toshiba Corp | 窒化物半導体装置 |
US8729558B2 (en) | 2011-03-17 | 2014-05-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nitride semiconductor device |
US9036679B2 (en) | 2012-08-14 | 2015-05-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus and method for generating Gaussian pulse and ultra wideband communication apparatus for generating Gaussian pulse |
CN118412273A (zh) * | 2024-07-03 | 2024-07-30 | 成都航天博目电子科技有限公司 | 一种GaN HEMT器件的栅极制备方法、栅极以及GaN HEMT器件 |
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