JP2007018900A - 封止装置および封止方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 有機エレクトロルミネッセンス表示素子70がガラス20の一主面20Aに配置され、紫外線効果樹脂80が有機エレクトロルミネッセンス表示素子70を囲むように一主面20Aに塗布される。そして、周囲の圧力を大気圧よりも低い圧力に保持した状態でガラス30をガラス20に近づけてガラス30を紫外線硬化樹脂80に接触させる。その後、ガラス20,30間の距離を距離d1から距離d2へ短くしてガラス20,30および紫外線硬化樹脂80によって囲まれた領域REG内の圧力を略大気圧に設定する。そして、紫外線硬化樹脂80を紫外線により硬化させる。
【選択図】 図6
Description
図1は、この発明の実施の形態1による封止装置の概略図である。図1を参照して、この発明の実施の形態1による封止装置10は、洗浄ユニット1と、受付ユニット2と、搬送ユニット3と、塗布ユニット4と、貼合ユニット5と、ガス供給装置6と、ポンプ7〜9,11とを備える。
図12は、実施の形態2による封止装置の概略図である。図12を参照して、実施の形態2による封止装置10Aは、図1に示す封止装置10の貼合ユニット5を貼合ユニット5Aに代えたものであり、その他は、封止装置10と同じである。
Claims (18)
- 素子を第1および第2の基板間に封止する封止装置であって、
前記第1の基板の一主面上に配置された前記素子を囲むように前記一主面に樹脂を塗布する塗布手段と、
大気圧と異なる所定の圧力を有し、かつ、不活性ガスで満たされた雰囲気内において、前記樹脂が塗布された前記一主面に向かって前記第2の基板を移動させ、前記樹脂に前記第2の基板を接触させるとともに、前記第2の基板を前記一主面の法線方向に移動させて前記第1および第2の基板間の距離を所定の距離に設定する設定手段と、
前記第1および第2の基板間の距離が前記所定の距離に設定された状態で前記樹脂を硬化させる硬化手段とを備え、
前記所定の距離は、前記第1および第2の基板と前記樹脂とによって囲まれた領域の圧力が略大気圧になる距離である、封止装置。 - 前記素子を真空中または前記不活性ガス雰囲気中で加熱処理する加熱処理手段をさらに備え、
前記塗布手段は、前記加熱処理手段による加熱処理の後に前記樹脂を前記一主面に塗布する、請求項1に記載の封止装置。 - 前記所定の圧力は、前記大気圧よりも低い圧力である、請求項1または請求項2に記載の封止装置。
- 前記設定手段は、
前記雰囲気内において、前記第2の基板を前記一主面に近づけて前記第2の基板を前記樹脂に接触させる接触手段と、
前記雰囲気内において、前記第1および第2の基板間の距離が前記所定の距離になるように前記第1および第2の基板を相互に近づける移動手段とを含む、請求項3に記載の封止装置。 - 前記設定手段は、前記移動手段による前記第1または第2の基板の移動に連動して、前記第1および第2の基板と前記樹脂とによって囲まれた領域以外の領域の圧力を前記略大気圧まで加圧する加圧手段をさらに含む、請求項4に記載の封止装置。
- 前記所定の圧力は、前記大気圧よりも高い圧力である、請求項1または請求項2に記載の封止装置。
- 前記設定手段は、
前記雰囲気内において、前記第2の基板を前記一主面に近づけて前記第2の基板を前記樹脂に接触させる接触手段と、
前記雰囲気内において、前記第1および第2の基板間の距離が前記所定の距離になるように前記第1および第2の基板を相互に遠ざける移動手段とを含む、請求項6に記載の封止装置。 - 前記設定手段は、前記移動手段による前記第1または第2の基板の移動に連動して、前記第1および第2の基板と前記樹脂とによって囲まれた領域以外の領域の圧力を前記略大気圧まで減圧する減圧手段をさらに含む、請求項7に記載の封止装置。
- 前記樹脂は、紫外線硬化樹脂であり、
前記硬化手段は、前記紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する紫外線ランプである、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の封止装置。 - 前記素子は、有機エレクトロルミネッセンス表示素子である、請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の封止装置。
- 前記不活性ガスの水分含有率は、100ppm以下である、請求項10に記載の封止装置。
- 素子を第1および第2の基板間に封止する封止方法であって、
前記第1の基板の一主面上に配置された前記素子を囲むように前記一主面に樹脂を塗布する第1のステップと、
大気圧と異なる所定の圧力を有し、かつ、不活性ガスで満たされた雰囲気内において、前記樹脂が塗布された前記一主面に向かって前記第2の基板を移動させ、前記樹脂に前記第2の基板を接触させるとともに、前記第2の基板を前記一主面の法線方向に移動させて前記第1および第2の基板間の距離を所定の距離に設定する第2のステップと、
前記第1および第2の基板間の距離が前記所定の距離に設定された状態で前記樹脂を硬化させる第3のステップとを備え、
前記所定の距離は、前記第1および第2の基板と前記樹脂とによって囲まれた領域の圧力が略大気圧になる距離である、封止方法。 - 前記素子を真空中または前記不活性ガス雰囲気中で加熱処理する第4のステップをさらに備え、
前記第1から第3のステップは、前記第4のステップの後に実行される、請求項12に記載の封止方法。 - 前記所定の圧力は、前記大気圧よりも低い圧力であり、
前記第2のステップは、
前記素子が配置され、かつ、前記樹脂が塗布された前記第1の基板と、前記第2の基板とを前記不活性ガス中に搬入する第1のサブステップと、
前記搬入された前記第1および第2の基板の周囲を前記所定の圧力まで減圧する第2のサブステップと、
前記一主面に向かって前記第2の基板を近づけて前記樹脂に前記第2の基板を接触させる第3のサブステップと、
前記第1および第2の基板間の距離が前記所定の距離になるように前記第1および第2の基板を相互に近づける第4のサブステップとを含む、請求項12または請求項13に記載の封止方法。 - 前記第2のステップは、前記第4のサブステップにおける前記第1または第2の基板の移動に連動して、前記第1および第2の基板と前記樹脂とによって囲まれた領域以外の領域の圧力を略大気圧まで加圧する第5のサブステップをさらに含む、請求項14に記載の封止方法。
- 前記所定の圧力は、前記大気圧よりも高い圧力であり、
前記第2のステップは、
前記素子が配置され、かつ、前記樹脂が塗布された前記第1の基板と、前記第2の基板とを前記不活性ガス中に搬入する第1のサブステップと、
前記搬入された前記第1および第2の基板の周囲を前記所定の圧力まで加圧する第2のサブステップと、
前記一主面に向かって前記第2の基板を近づけて前記樹脂に前記第2の基板を接触させる第3のサブステップと、
前記第1および第2の基板間の距離が前記所定の距離になるように前記第1および第2の基板を相互に近づける第4のサブステップとを含む、請求項12または請求項13に記載の封止方法。 - 前記第2のステップは、前記第4のサブステップにおける前記第1または第2の基板の移動に連動して、前記第1および第2の基板と前記樹脂とによって囲まれた領域以外の領域の圧力を略大気圧まで減圧する第5のサブステップをさらに含む、請求項16に記載の封止方法。
- 前記樹脂は、紫外線硬化樹脂であり、
前記第3のステップは、紫外線を前記紫外線硬化樹脂に照射する、請求項12から請求項17のいずれか1項に記載の封止方法。
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JP2005199708A JP2007018900A (ja) | 2005-07-08 | 2005-07-08 | 封止装置および封止方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008023626A1 (fr) * | 2006-08-25 | 2008-02-28 | Konica Minolta Holdings, Inc. | dispositif électroluminescent organique ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION |
US7999467B2 (en) | 2007-08-08 | 2011-08-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof for minimizing inflow of oxygen and moisture from the outside |
Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JPH10233283A (ja) * | 1997-02-17 | 1998-09-02 | Tdk Corp | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製造方法 |
JP2000036384A (ja) * | 1998-07-17 | 2000-02-02 | Nec Corp | 有機薄膜elデバイスの製造方法 |
JP2004303631A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Optrex Corp | 有機elディスプレイ、有機elディスプレイの製造方法および製造装置 |
-
2005
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