JP2007016230A - ポリアリーレン - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下記式(1)で表される繰り返し単位のみからなる連鎖を含み、該連鎖を形成する繰り返し単位の数の平均値が3以上であり、該繰り返し単位どうしの間で形成された全結合のうち、頭と尾の間で形成された結合の割合が85%以上であることを特徴とする高分子化合物。
【選択図】なし
Description
高い割合で頭−尾結合を有する位置規則性のポリアリーレンとしては、繰り返し単位がチオフェン、ピリジン、キノリン、フランのようなヘテロ環のものは知られていた(非特許文献1参照)。
また、芳香環が芳香族炭化水素環である2価の芳香族基を繰り返し単位とするポリアリーレンとしては、非特許文献3に記載のポリフェニレンが知られているが、これらは頭−尾結合の位置規則性に関する記述が全くない。さらに、非特許文献3記載のポリフェニレンには置換基としてアルコキシメチル基やアシルオキシメチル基が存在するが、これらの置換基は酸化、還元両方の雰囲気下で容易に切断されてしまうなど、発光材料、電荷輸送材料、有機半導体材料、高分子電解質膜などとしての用途には不向きであった。
Adv. Mater. 1998, 10, 93 Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 4108 Polymeric Materials Science and Engineering 1999, 80, 229
(ここで、式(1)においてAr1は2価の芳香族基であり、芳香環は芳香族炭化水素環である(即ち、芳香環は炭素原子のみから構成される。)。R1はAr1上の置換基を表し、それぞれ独立に、炭化水素基、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アシル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭化水素オキシカルボニル基、アミノ基、アミノカルボニル基、イミドイル基、アゾ基、アシルオキシ基、ホスホン酸基又はスルホン酸基を表す。nは0から30の整数を表す。nが2以上の整数を表す場合には、複数あるR1は同一であっても異なっていてもよい。式(1)で表される繰り返し単位を2価の基としてIUPAC有機化学命名法により炭素原子の番号を付けたとき、遊離原子価が出ている2つの炭素原子のうち、該番号の小さい炭素原子を頭、該番号の大きい炭素原子を尾とする。式(1)で表される繰り返し単位は、頭と尾を結ぶ直線の中点において該直線と直交する2回対称軸をいかなる場合も持たない。)
2価の芳香族基としては、好ましくは式(1B-1)〜(1B-36)及び式(1C-1)〜(1C-37)の原子団であり、より好ましくは式(1B-1)〜(1B-13)及び式(1C-1)〜(1C-37)の原子団であり、さらに好ましくは式(1B-8)〜(1B-13)及び式(1C-1)〜(1C-37)の原子団であり、さらに好ましくは式(1C-1)〜(1C-37)の原子団であり、さらにより好ましくは、式(1C-4)〜(1C-12)の原子団である。
該炭化水素基としては、炭素数1〜30の炭化水素基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜22の炭化水素基であり、さらに好ましくは炭素数1〜16の炭化水素基である。
該炭化水素チオ基としては、炭素数1〜30が好ましく、より好ましくは炭素数1〜22であり、さらに好ましくは炭素数1〜16である。
該炭化水素オキシ基としては、好ましくは炭素数1〜40の炭化水素オキシ基であり、より好ましくは炭素数1〜30の炭化水素オキシ基であり、さらに好ましくは炭素数1〜20の炭化水素オキシ基である。
ここで、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子、アシル基、炭化水素オキシカルボニル基、アミノ基、アミノカルボニル基、イミドイル基、アゾ基としては、前記と同じものが挙げられる。
該炭化水素チオ基としては、炭素数1〜30が好ましく、より好ましくは炭素数1〜22であり、さらに好ましくは炭素数1〜16である。
ここで、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子、アシル基、炭化水素オキシカルボニル基、アミノ基、アミノカルボニル基、イミドイル基、アゾ基、としては、前記と同じものが挙げられる。
該アシル基としては、炭素数2〜30が好ましく、より好ましくは炭素数2〜22であり、さらに好ましくは炭素数2〜16である。
ここで、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子、アシル基、炭化水素オキシカルボニル基、アミノ基、アミノカルボニル基、イミドイル基、アゾ基、としては、前記と同じものが挙げられる。
該炭化水素オキシカルボニル基としては、炭素数2〜30が好ましく、より好ましくは炭素数2〜22であり、さらに好ましくは炭素数2〜16である。
ここで、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子、アシル基、炭化水素オキシカルボニル基、アミノ基、アミノカルボニル基、イミドイル基、アゾ基、としては、前記と同じものが挙げられる。
該アミノ基としては、炭素数0〜30が好ましく、より好ましくは炭素数0〜22であり、さらに好ましくは炭素数0〜16である。
該アミノカルボニル基としては、炭素数1〜30が好ましく、より好ましくは炭素数1〜22であり、さらに好ましくは炭素数1〜16である。
該イミドイル基としては、炭素数1〜30が好ましく、より好ましくは炭素数1〜22であり、さらに好ましくは炭素数1〜16である。
ここで、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子、アシル基、炭化水素オキシカルボニル基、アミノ基、アミノカルボニル基、イミドイル基、アゾ基、としては、前記と同じものが挙げられる。
該アゾ基としては、炭素数1〜30が好ましく、より好ましくは炭素数1〜22であり、さらに好ましくは炭素数1〜16である。
ここで、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子、アシル基、炭化水素オキシカルボニル基、アミノ基、アミノカルボニル基、イミドイル基、アゾ基、としては、前記と同じものが挙げられる。
該アシルオキシ基としては、炭素数2〜30が好ましく、より好ましくは炭素数2〜22であり、さらに好ましくは炭素数2〜16である。
ここで、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子、アシル基、炭化水素オキシカルボニル基、アミノ基、アミノカルボニル基、イミドイル基、アゾ基、としては、前記と同じものが挙げられる。
ここで、2回対称軸とは、アトキンス物理化学(上)(第4版、東京化学同人、1993年)第633頁に記載のとおり、ある物体をその軸のまわりに180°回転させたときに物体がもとと同じに見える軸である。
上記の2回対称軸の存在の有無を確認する際、R1で表される置換基のうちR2と異なる置換基と遊離原子価とを置き換えて考えればより確認しやすい。
平均連結数 = Mn / FW1 (A1)
(式(A1)において、Mnは本発明のポリアリーレンのSECで測定したポリスチレン換算の数平均分子量を表し、FW1は式(1)で表されるある1種類の繰り返し単位の式量を表す。)
平均連結数(NQ) = N1 / N2 (A2)
(式中、N1は本発明のポリアリーレンの単位量あたりに含まれる繰り返し単位Qの数であり、N2は本発明のポリアリーレンの単位量あたりに含まれる繰り返し単位Qで形成されるブロックの数である。ここで、繰り返し単位Qで形成されるブロックとは下記式(BR)で表される。)
(式中、Ar6は式(1)で表されるある1種類の繰り返し単位を表し、gは1以上の整数を表す。該ブロックにはAr6で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位又は末端基が隣接する。)
本発明のポリアリーレンにおける平均連結数の上限は、好ましくは5000であり、より好ましくは1000であり、さらに好ましくは500である。
式中、Ar2、Ar3、Ar4及びAr5はそれぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基又は金属錯体構造を有する2価の基を示す。Ar3が複数存在する場合には、同一であっても異なっていてもよい。X1、X2及びX3はそれぞれ独立に、−CRa=CRb−、−C≡C−、−N(Rc)−、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、又は−(SiRdRe)q−を示す。Ra及びRbは、それぞれ独立に、水素原子、1価の炭化水素基(アルキル基、アリール基等)、1価の複素環基、カルボキシル基、炭化水素オキシカルボニル基(置換カルボキシル基等)又はシアノ基を示す。Rc、Rd及びReは、それぞれ独立に、水素原子、1価の炭化水素基、(アルキル基、アリール基、アリールアルキル基等)、1価の複素環基を示す。pは1又は2を示す。qは1〜12の整数を示す。Ra、Rb、Rc、Rd及びReがそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。Ra、Rb、Rc、Rd及びReで表される1価の炭化水素基の具体例としては、式(1)におけるR1で表される1価の炭化水素基の例が挙げられる。Ra及びRbで表される炭化水素オキシカルボニル基の具体例としては、式(1)におけるR1で表される炭化水素オキシカルボニル基の例が挙げられる。
置換基としては、式(1)におけるR1で表される置換基及び1価の複素環基が挙げられ、好ましくは炭化水素基、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アシル基、カルボキシル基、ホスホン酸基、スルホン酸基であり、より好ましくは炭化水素基、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ニトロ基、シアノ基、アシル基であり、さらに好ましくは炭化水素基、炭化水素オキシ基である。
アリーレン基における置換基を除いた部分の炭素数は通常6〜60程度であり、好ましくは6〜20である。また、アリーレン基の置換基を含めた全炭素数は、通常6〜100程度である。
アリーレン基としては、フェニレン基(例えば、下式(9A-1)〜(9A-3))、ナフタレンジイル基(下式(9B-1)〜(9B-6))、アントラセン−ジイル基(下式(9C-1)〜(9C-5))、ビフェニル−ジイル基(下式(9D-1)〜(9D-6))、ターフェニル−ジイル基(下式(9E-1)〜(9E-3))、縮合環化合物基(下式(9F-1)〜(9F-6))、フルオレン−ジイル基(下式(9F-7)〜(9F-9))、スチルベン−ジイル(下式(9G-1)〜(9G-4))、ジスチルベン−ジイル(下式(9G-5),(9G-6))などが例示される。中でもフェニレン基、ビフェニレン基、フルオレン−ジイル基、及びスチルベン−ジイル基が好ましく、フェニレン基、ビフェニレン基及びフルオレン−ジイル基がより好ましく、フェニレン基、及びフルオレン−ジイル基がさらに好ましく、フルオレン−ジイル基がとりわけ好ましい。
ここに複素環化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する元素が炭素原子だけでなく、酸素、硫黄、窒素、リン、ホウ素、ヒ素などのヘテロ原子を環内に含むものをいう。2価の複素環基の中では、芳香族複素環基が好ましい。
置換基としては、式(1)におけるR1が表す置換基及び1価の複素環基が挙げられ、好ましくは炭化水素基、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アシル基、カルボキシル基、ホスホン酸基、スルホン酸基であり、より好ましくは炭化水素基、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ニトロ基、シアノ基、アシル基であり、さらに好ましくは炭化水素基、炭化水素オキシ基である。
2価の複素環基における置換基を除いた部分の炭素数は通常3〜60程度である。また、2価の複素環基の置換基を含めた全炭素数は、通常3〜100程度である。
ヘテロ原子として、窒素を含む2価の複素環基;ピリジンージイル基(下式(9H-1)〜(9H−6))、ジアザフェニレン基(下式(9H-7)〜(9H−10))、キノリンジイル基(下式(9I-1)〜(9I−15))、キノキサリンジイル基(下式(9I-16)〜(9I−20))、アクリジンジイル基(下式(9I-21)〜(9I−24))、ビピリジルジイル基(下式(9J-1)〜(9J−3))、フェナントロリンジイル基(下式(9J-4)〜(9J−6))など。
ヘテロ原子として酸素、ケイ素、窒素、硫黄、セレンなどを含みフルオレン構造を有する基(下式(9J-7)〜(9J−21))。
ヘテロ原子として酸素、ケイ素、窒素、硫黄、セレンなどを含む5員環複素環基(下式(9K-1)〜(9K−5))が挙げられる。
ヘテロ原子として酸素、ケイ素、窒素、硫黄、セレンなどを含む5員環縮合複素基(下式(9K-6)〜(9K−16))が挙げられる。
ヘテロ原子として酸素、ケイ素、窒素、硫黄、セレンなどを含む5員環複素環基でそのヘテロ原子のα位で結合し2量体やオリゴマーになっている基(下式(9L-1)〜(9L−2))が挙げられる。
ヘテロ原子として酸素、ケイ素、窒素、硫黄、セレンなどを含む5員環複素環基でそのヘテロ原子のα位でフェニル基に結合している基(下式(9L-3)〜(9L−9))が挙げられる。
ヘテロ原子として酸素、窒素、硫黄、などを含む5員環縮合複素環基にフェニル基やフリル基、チエニル基が置換した基(下式(9M-1)〜(9M−6))が挙げられる。
ヘテロ原子として酸素、窒素、硫黄、などを含む6員環複素環基にフェニル基が縮環した基(下式(9M-7)〜(9M−15))が挙げられる。
有機配位子を有する金属錯体の有機配位子から水素原子を2個除いた残りの2価の基である。
該有機配位子の炭素数は、通常4〜60程度であり、その例としては、8−キノリノール及びその誘導体、ベンゾキノリノール及びその誘導体、2−フェニル−ピリジン及びその誘導体、2−フェニル−ベンゾチアゾール及びその誘導体、2−フェニル−ベンゾキサゾール及びその誘導体、ポルフィリン及びその誘導体などが挙げられる。
また、該錯体の中心金属としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、ベリリウム、イリジウム、白金、金、ユーロピウム、テルビウムなどが挙げられる。
有機配位子を有する金属錯体としては、低分子の蛍光材料、燐光材料として公知の金属錯体、三重項発光錯体などが挙げられる。
前記式(5)で表される繰り返し単位の具体例は、Ar2、Ar3、Ar4及びAr5で表されるアリーレン基、2価の複素環基又は金属錯体構造を有する2価の基の具体例と同じであり、好ましくは式(9A-1)〜(9A-3)、(9B−1)〜(9B-6)、(9C-1)〜(9C-5)、(9D-1)〜(9D-6)、(9F-1)〜(9F-9)、(9G-1)〜(9G-6)、(9I-1)〜(9I-24)、(9J-7)〜(9J-21)、(9K-6)〜(9K-16)、(9L-3)〜(9L-9)、(9M−1)〜(9M-6)、及び(9M-7)〜(9M−15)で表される基であり、より好ましくは式(9A-1)〜(9A-3)、(9B−1)〜(9B-6)、(9C-1)〜(9C-5)、(9F-7)〜(9F-9)、(9G−1)〜(9G−4)、(9J-13)〜(9J-15)、(9J-19)〜(9J-21)、(9K-15)〜(9K-16)、(9L-3)〜(9L-9)、(9M−1)〜(9M-6)、及び(9M-7)〜(9M−12)で表される基であり、さらに好ましくは式(9A-1)〜(9A-3)、(9F-7)〜(9F-9)、(9J-13)〜(9J-15)、(9J-19)〜(9J-21)、(9K-15)〜(9K-16)、(9M−1)〜(9M-6)、及び(9M-7)〜(9M−12)で表される基であり、中でも好ましくは式(9F-7)〜(9F-9)、(9J-13)〜(9J-15)、(9J-19)〜(9J-21)、(9K-15)〜(9K-16)、(9M−1)〜(9M-6)、及び(9M-7)〜(9M−12)で表される基であり、とりわけ好ましくは式(9F-7)〜(9F-9)、及び(9M-7)〜(9M−12)で表される基であり、特に好ましくは式(9F-7)〜(9F-9)で表される基である。
式(6)で表される繰り返し単位の具体例としては、下記式(10A−1)〜(10A−7)で表される基、式(10B−1)〜(10B−7)で表される基、式(10C−1)〜(10C−8)で表される基、式(10D−1)〜(10D−5)で表される基、式(10E−1)〜(10E−4)で表される基、式(10F−1)〜(10F−6)で表される基、式(10G−1)〜(10G−6)で表される基、式(10H−1)〜(10H−6)で表される基、式(10I−1)〜(10I−6)で表される基、及び式(10J−1)〜(10J−6)で表される基が挙げられる。
式(6)で表される繰り返し単位としては、式(10A−1)〜(10A−7)で表される基、式(10B−1)〜(10B−7)で表される基、式(10C−1)〜(10C−8)で表される基、式(10D−1)〜(10D−5)で表される基、式(10E−1)〜(10E−4)で表される基、式(10F−1)〜(10F−6)で表される基、及び式(10J−1)〜(10J−6)で表される基が好ましく、式(10A−1)〜(10A−7)で表される基、式(10B−1)〜(10B−7)で表される基、式(10C−1)〜(10C−8)で表される基、式(10D−1)〜(10D−5)で表される基、及び式(10E−1)〜(10E−4)で表される基で表される基がより好ましく、式(10D−1)〜(10D−5)で表される基がさらに好ましく、さらに具体的には下記式(11A−1)〜(11A−5)で表される基が好ましい。
(式中、RA、Ra、Rb、Rc、Rd及びReは、前述と同じ意味を表す。)
式(7)で表される繰り返し単位の具体例としては、下記式(12A−1)〜(12A−7)で表される基、式(12B−1)〜(12B−7)で表される基、式(12C−1)〜(12C−8)で表される基、式(12D−1)〜(12D−4)で表される基、式(12E−1)〜(12E−4)で表される基、式(12F−1)〜(12F−6)で表される基、式(12G−1)〜(12G−6)で表される基、式(12H−1)〜(12H−6)で表される基、式(12I−1)〜(12I−6)で表される基、及び式(12J−1)〜(12J−6)で表される基が挙げられる。
式(7)で表される繰り返し単位としては、好ましくは式(12A−1)〜(12A−7)で表される基、式(12B−1)〜(12B−7)で表される基、式(12C−1)〜(12C−8)で表される基、式(12F−1)〜(12F−6)で表される基、及び式(12J−1)〜(12J−6)で表される基であり、より好ましくは式(12A−1)〜(12A−7)で表される基、及び式(12B−1)〜(12B−7)で表される基であり、さらに好ましくは式(12A−1)〜(12A−7)で表される基である。
(式中、RA、Ra、Rb、Rc、Rd及びReは、前述と同じ意味を表す。)
式(8)で表される繰り返し単位としては、好ましくは−CRa=CRb−、−C≡C−、−N(Rc)−、−SO2−、及び−(SiRdRe)q−であり、より好ましくは−CRa=CRb−、及び−N(Rc)−であり、さらに好ましくは−N(Rc)−である。
本発明のポリアリーレンとしては、例えば、
・ポリアリーレンa:式(1)で表される繰り返し単位1種類のみからなるもの、
・ポリアリーレンb:式(1)で表される繰り返し単位1種類と式(5)、(6)、(7)又は(8)で表される繰り返し単位1種類以上(中でも1種類以上10種類以下)とを含んでなるもの、
・ポリアリーレンb−1:式(1)で表される繰り返し単位1種類と式(5)又は(6)で表される繰り返し単位1種類以上10種類以下(中でも1種類以上5種類以下、とりわけ1種類以上3種類以下、特には1種類以上2種類以下)とを含んでなるもの、
・ポリアリーレンb−2:式(1)で表される繰り返し単位1種類と式(5)で表される繰り返し単位1種類とを含んでなるもの、
・ポリアリーレンb−3:式(1)で表される繰り返し単位1種類と式(6)で表される繰り返し単位1種類とを含んでなるもの、
・ポリアリーレンb−4:式(1)で表される繰り返し単位1種類と式(5)で表される繰り返し単位1種類と式(6)で表される繰り返し単位1種類とを含んでなるもの
等が挙げられ、好ましくはポリアリーレンa及びポリアリーレンbであり、より好ましくはポリアリーレンaである。ポリアリーレンbは、好ましくはポリアリーレンb−1であり、より好ましくはポリアリーレンb−2、ポリアリーレンb−3、ポリアリーレンb−4であり、さらに好ましくはポリアリーレンb−3、ポリアリーレンb−4である。
また、ポリアリーレンbにおいては、前記式(BR)で表されるブロックが複数存在し、複数存在する式(BR)中のgに分布があることが好ましい。
ポリアリーレンb−2、b−3、及びb−4は、高分子鎖一本あたりの前記式(BR)で表されるブロックの数が3以上であることが好ましい。即ち、下記式(BR−2)を満たすことが好ましい。
( Xn × b1 / NQ ) ≧ 3 式(BR−2)
(式(BR−2)中、NQは前記式(A2)で表される平均連結数を表し、Xnはポリアリーレンb−2、b−3又はb−4の数平均重合度を表し、下記式で表される。)
Xn = Mn’/{(b1 × M1)+(b2 × M2)+(b3 × M3)}
(式中、Mn’はポリアリーレンb−2、b−3又はb−4のSECで測定したポリスチレン換算の数平均分子量を表し、b1、b2及びb3はそれぞれ、ポリアリーレンb−2、b−3又はb−4における式(1)で表される繰り返し単位のモル分率、式(5)で表される繰り返し単位のモル分率、及び式(6)で表される繰り返し単位のモル分率を表す。M1、M2及びM3はそれぞれ、ポリアリーレンb−2、b−3又はb−4における式(1)で表される繰り返し単位の式量、式(5)で表される繰り返し単位の式量、及び式(6)で表される繰り返し単位の式量を表す。)
(式(A)においてAr1、R1、及びnは式(1)におけるAr1、R1、及びnと同じ意味を表す。式(A)においてY1はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、式(B)で表されるスルホネート基、又はメトキシ基を表す。式(A)においてY2はホウ酸エステル基、ホウ酸基、式(C)で表される基、式(D)で表される基、又は式(E)で表される基を表す。)
(式(B)においてR7は置換されていてもよい炭化水素基を表し、炭化水素基としては式(1)におけるR1が表す炭化水素基と同じものが挙げられる。該炭化水素基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシル基、アミノ基、及び炭化水素オキシカルボニル基などで置換されていてもよい。ハロゲン原子、アシル基、アミノ基、及び炭化水素オキシカルボニル基としては前記と同じものが挙げられる。)
(式(C)においてXAはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。)
(式(D)においてXAはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。)
(式(E)においてR8は置換されていてもよい炭化水素基を表し、炭化水素基としては式(1)におけるR1が表す炭化水素基と同じものが挙げられる。複数存在R8するは同一でも異なっていてもよい。該炭化水素基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシル基、アミノ基、炭化水素オキシカルボニル基などで置換されていてもよい。ハロゲン原子、アシル基、アミノ基、及び炭化水素オキシカルボニル基としては前記と同じものが挙げられる。)
式(1)で表される繰り返し単位1種類のみからなるポリアリーレンを合成する場合は、例えば、式(A)で表される単量体のみを縮重合させて合成することができる。
また、式(1)で表される繰り返し単位と式(5)又は(6)で表される繰り返し単位を含んでなるポリアリーレンを合成する場合は、例えば、式(A)で表される単量体と、下記式(F)で表される単量体、又は下記式(G)で表される単量体を適宜必要な種類だけ選んで縮重合することにより合成することができる。
Y3−Ar2−Y4 (F)
(式中、Ar2は前記式(5)において定義したとおりであり、Y3及びY4はそれぞれ独立に、前記式(A)におけるY1又はY2が表す基を示す。)
(式中、Ar3、Ar4、X1及びpはそれぞれ前記式(6)において定義したとおりであり、Y5及びY6はそれぞれ独立に、前記式(A)において定義したとおりである。)
該触媒としては、あらかじめ合成したものを用いることもできるし、反応系中で調製したものを用いることもできる。本発明においては、該触媒を単独で又は2種以上混合して使用することができる。
該触媒は任意の量で用いることができるが、一般的には式(A)で示される化合物に対する遷移金属化合物の量として0.001〜300モル%が好ましく、0.005〜50モル%がより好ましく、0.01〜20モル%がさらに好ましい。
該塩基は任意の量で用いることができるが、一般的には式(A)で示される化合物に対して0.5〜20当量が好ましく、1〜10当量がより好ましい。
使用する有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。これらの有機溶媒は単独で用いてもよいし、二種以上を混合して組み合わせてもよい。
有機溶媒の使用量は、通常、モノマーの濃度が0.1〜90重量%になるような割合で使用する。好ましい割合は1〜50重量%であり、より好ましい割合は2〜30重量%である。
有機溶媒としては、用いる化合物や反応によっても異なるが、一般的に副反応を抑制するために、脱酸素処理を行うことが望ましい。
反応時間は、反応温度などの反応条件で変わるが、通常、1時間以上、好ましくは2〜500時間である。
上記の後処理で得られた高分子化合物の純度が低い場合は、再結晶、ソックスレー抽出器による連続抽出、カラムクロマトグラフィーなどの通常の方法にて精製することが可能である。
有機層は、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層、インターレイヤー層等のいずれであってもよいが、有機層が発光層であることが好ましい。
ここに、発光層とは、発光する機能を有する層をいい、正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する層をいい、電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する層をいう。また、インターレイヤー層とは、発光層と陽極との間で発光層に隣接して存在し、発光層と陽極、又は発光層と、正孔注入層若しくは正孔輸送層とを隔離する役割をもつ層のことである。なお、電子輸送層と正孔輸送層を総称して電荷輸送層と呼ぶ。また、電子注入層と正孔注入層を総称して電荷注入層と呼ぶ。発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、及び電子注入層は、それぞれ独立に2層以上用いてもよい。
高分子化合物の正孔輸送性材料、電子輸送性材料及び発光性材料としては、WO99/13692、WO99/48160、GB2340304A、WO00/53656、WO01/19834、WO00/55927、GB2348316、WO00/46321、WO00/06665、WO99/54943、WO99/54385、US5777070、WO98/06773、WO97/05184、WO00/35987、WO00/53655、WO01/34722、WO99/24526、WO00/22027、WO00/22026、WO98/27136、US573636、WO98/21262、US5741921、WO97/09394、WO96/29356、WO96/10617、EP0707020、WO95/07955、特開平2001−181618、特開平2001−123156、特開平2001−3045、特開平2000−351967、特開平2000−303066、特開平2000−299189、特開平2000−252065、特開平2000−136379、特開平2000−104057、特開平2000−80167、特開平10−324870、特開平10−114891、特開平9−111233、特開平9−45478等に開示されているポリフルオレン、その誘導体及び共重合体、ポリアリーレン、その誘導体及び共重合体、ポリアリーレンビニレン、その誘導体及び共重合体、芳香族アミン及びその誘導体の(共)重合体が例示される。
具体的には、例えば特開昭57−51781号、同59−194393号公報に記載されているもの等、公知のものが使用可能である。
三重項発光錯体としては、例えば、イリジウムを中心金属とするIr(ppy)3、Btp2Ir(acac)、白金を中心金属とするPtOEP、ユーロピウムを中心金属とするEu(TTA)3phen等が挙げられる。
その正孔輸送材料、電子輸送材料、及び発光材料から選ばれる少なくとも1種類の材料と本発明の高分子化合物の含有比率は、用途に応じて決めればよいが、発光材料の用途の場合は、上記の発光層におけるのと同じ含有比率が好ましい。
該インク組成物中における本発明の高分子化合物の割合は、溶媒を除いた組成物の全重量に対して通常は20wt%〜100wt%であり、好ましくは40wt%〜100wt%である。
またインク組成物中に溶媒が含まれる場合の溶媒の割合は、組成物の全重量に対して1wt%〜99.9wt%であり、好ましくは60wt%〜99.5wt%であり、さらに好ましくは80wt%〜99.0wt%である。
インク組成物の粘度は印刷法によって異なるが、インクジェットプリント法などインク組成物中が吐出装置を経由するものの場合には、吐出時の目づまりや飛行曲がりを防止するために粘度が25℃において1〜20mPa・sの範囲であることが好ましい。
前記の高分子量の高分子化合物としては、本発明の高分子化合物と同じ溶媒に可溶性で、発光や電荷輸送を阻害しないものであればよい。例えば、高分子量のポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、又は本発明の高分子化合物のうち分子量が大きいものなどを用いることができる。重量平均分子量が50万以上が好ましく、100万以上がより好ましい。
貧溶媒を増粘剤として用いることもできる。すなわち、溶液中の固形分に対する貧溶媒を少量添加することで、粘度を高めることができる。この目的で貧溶媒を添加する場合、溶液中の固形分が析出しない範囲で、溶媒の種類と添加量を選択すればよい。保存時の安定性も考慮すると、貧溶媒の量は、溶液全体に対して50wt%以下であることが好ましく、30wt%以下であることが更に好ましい。
これらのうち、高分子化合物等の溶解性、成膜時の均一性、粘度特性等の観点から、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒が好ましく、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン、n−ブチルベンゼン、イソブチルベンゼン、s−ブチルベンゼン、n−ヘキシルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、1−メチルナフタレン、テトラリン、アニソール、エトキシベンゼン、シクロヘキサン、ビシクロヘキシル、シクロヘキセニルシクロヘキサノン、n−ヘプチルシクロヘキサン、n−ヘキシルシクロヘキサン、デカリン、安息香酸メチル、シクロヘキサノン、2−プロピルシクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−オクタノン、2−ノナノン、2−デカノン、ジシクロヘキシルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノンが好ましい。
溶液中に2種類の溶媒が含まれる場合、そのうちの1種類の溶媒は25℃において固体状態でもよい。成膜性の観点から、1種類の溶媒は沸点が180℃以上の溶媒であることが好ましく、200℃以上の溶媒であることがより好ましい。また、粘度の観点から、2種類の溶媒ともに、60℃において1wt%以上の芳香族重合体が溶解することが好ましく、2種類の溶媒のうちの1種類の溶媒には、25℃において1wt%以上の芳香族重合体が溶解することが好ましい。
溶液中に2種類以上の溶媒が含まれる場合、粘度及び成膜性の観点から、最も沸点が高い溶媒が、溶液中の全溶媒の重量の40〜90wt%であることが好ましく、50〜90wt%であることがより好ましく、65〜85wt%であることがさらに好ましい。
溶液中に含まれる本発明の芳香族重合体は、1種類でも2種類以上でもよく、素子特性等を損なわない範囲で本発明の芳香族重合体以外の高分子化合物を含んでいてもよい。
本発明の溶液には、水、金属及びその塩を1〜1000ppmの範囲で含んでいてもよい。金属としては、具体的にはリチウム、ナトリウム、カルシウム、カリウム、鉄、銅、ニッケル、アルミニウム、亜鉛、クロム、マンガン、コバルト、白金、イリジウム等が挙げられる。また、ケイ素、リン、フッ素、塩素、及び/又は臭素を1〜1000ppmの範囲で含んでいてもよい。
本発明の有機半導体薄膜は、電子移動度又は正孔移動度のいずれか大きい方が、10-5cm2/V/秒以上であることが好ましい。より好ましくは、10-3cm2/V/秒以上であり、さらに好ましくは、10-1cm2/V/秒以上である。
SiO2などの絶縁膜とゲート電極とを形成したSi基板上に該有機半導体薄膜を形成し、Auなどでソース電極とドレイン電極を形成することにより、有機トランジスタとすることができる。
例えば、具体的には、以下のa)〜d)の構造が例示される。
a)陽極/発光層/陰極
b)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極
c)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
d)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(ここで、/は各層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。)
またこれら構造の各一について、発光層と陽極との間に、発光層に隣接してインターレイヤー層を設ける構造も例示される。すなわち、以下のa’)〜d’)の構造が例示される。
a’)陽極/インターレイヤー層/発光層/陰極
b’)陽極/正孔輸送層/インターレイヤー層/発光層/陰極
c’)陽極/インターレイヤー層/発光層/電子輸送層/陰極
d’)陽極/正孔輸送層/インターレイヤー層/発光層/電子輸送層/陰極
本発明の高分子発光素子が正孔輸送層を有する場合、使用される正孔輸送性材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、又はポリ(2,5−チエニレンビニレン)若しくはその誘導体などが例示される。
これらの中で、正孔輸送層に用いる正孔輸送性材料として、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、又はポリ(2,5−チエニレンビニレン)若しくはその誘導体等の高分子正孔輸送性材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。
ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体は、例えばビニルモノマーからカチオン重合又はラジカル重合によって得られる。
ポリシラン若しくはその誘導体としては、ケミカル・レビュー(Chem.Rev.)第89巻、1359頁(1989年)、英国特許GB2300196号公開明細書に記載の化合物等が例示される。合成方法もこれらに記載の方法を用いることができるが、特にキッピング法が好適に用いられる。
ポリシロキサン若しくはその誘導体は、シロキサン骨格構造には正孔輸送性がほとんどないので、側鎖又は主鎖に上記低分子正孔輸送性材料の構造を有するものが好適に用いられる。特に正孔輸送性の芳香族アミンを側鎖又は主鎖に有するものが例示される。
これらのうち、オキサジアゾール誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、又は8−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体が好ましく、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス(8−キノリノール)アルミニウム、ポリキノリンがさらに好ましい。
電子輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、該電子輸送層の膜厚としては、例えば1nmから1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。
さらに電極との密着性向上や電極からの電荷注入の改善のために、電極に隣接して前記の電荷注入層又は膜厚2nm以下の絶縁層を設けてもよく、また、界面の密着性向上や混合の防止等のために電荷輸送層や発光層の界面に薄いバッファー層を挿入してもよい。
積層する層の順番や数、及び各層の厚さについては、発光効率や素子寿命を勘案して適宜用いることができる。
例えば、具体的には、以下のe)〜p)の構造が挙げられる。
e)陽極/電荷注入層/発光層/陰極
f)陽極/発光層/電荷注入層/陰極
g)陽極/電荷注入層/発光層/電荷注入層/陰極
h)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
i)陽極/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
j)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
k)陽極/電荷注入層/発光層/電子輸送層/陰極
l)陽極/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
m)陽極/電荷注入層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
n)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
o)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
p)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
またこれら構造の各一について、発光層と陽極との間に、発光層に隣接してインターレイヤー層を設ける構造も例示される。なおこの場合、インターレイヤー層が正孔注入層及び/又は正孔輸送層を兼ねてもよい。
上記電荷注入層が導電性高分子を含む層の場合、該導電性高分子の電気伝導度は、10-5S/cm以上103S/cm以下であることが好ましく、発光画素間のリーク電流を小さくするためには、10-5S/cm以上102S/cm以下がより好ましく、10-5S/cm以上101S/cm以下がさらに好ましい。
ドープするイオンの種類は、正孔注入層であればアニオン、電子注入層であればカチオンである。アニオンの例としては、ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、樟脳スルホン酸イオンなどが例示され、カチオンの例としては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンなどが例示される。
具体的には、例えば、以下のq)〜ab)の構造が挙げられる。
q)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/陰極
r)陽極/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
s)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
t)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/陰極
u)陽極/正孔輸送層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
v)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
w)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/電子輸送層/陰極
x)陽極/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
y)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
z)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
aa)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
ab)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
またこれら構造の各一について、発光層と陽極との間に、発光層に隣接してインターレイヤー層を設ける構造も例示される。なおこの場合、インターレイヤー層が正孔注入層及び/又は正孔輸送層を兼ねてもよい。
インターレイヤー層に用いる材料として、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリアリーレン誘導体、アリールアミン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体などの、芳香族アミンを含むポリマーが例示される。
インターレイヤー層の成膜の方法に制限はないが、例えば高分子材料を用いる場合においては溶液からの成膜による方法が例示される。
インターレイヤー層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよい。例えば1nmから1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。
通常本発明の高分子発光素子が有する陽極及び陰極の少なくとも一方が透明又は半透明である。陽極側が透明又は半透明であることが好ましい。
また、陽極上に、電荷注入を容易にするために、フタロシアニン誘導体、導電性高分子、カーボンなどからなる層、又は金属酸化物、金属フッ化物、有機絶縁材料等からなる平均膜厚2nm以下の層を設けてもよい。
該保護層としては、高分子化合物、金属酸化物、金属フッ化物、金属ホウ化物などを用いることができる。また、保護カバーとしては、金属板、ガラス板、表面に低透水率処理を施したプラスチック板などを用いることができ、該カバーを熱硬化樹脂や光硬化樹脂で素子基板と貼り合わせて密閉する方法が好適に用いられる。スペーサーを用いて空間を維持すれば、素子が傷付くのを防ぐことが容易である。該空間に窒素やアルゴンのような不活性なガスを封入すれば、陰極の酸化を防止することができ、さらに酸化バリウム等の乾燥剤を該空間内に設置することにより、製造工程で吸着した水分又は硬化樹脂を通り抜けて浸入する微量の水分が素子にダメージを与えるのを抑制することが容易となる。これらのうち、いずれか1つ以上の方策を採ることが好ましい。
本発明の高分子発光素子を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。また、パターン状の発光を得るためには、前記面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部の有機物層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極又は陰極のいずれか一方、又は両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にON/OFFできるように配置することにより、数字や文字、簡単な記号などを表示できるセグメントタイプの表示素子が得られる。更に、ドットマトリックス素子とするためには、陽極と陰極をともにストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる高分子蛍光体を塗り分ける方法や、カラーフィルター又は蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス素子は、パッシブ駆動も可能であるし、TFTなどと組み合わせてアクティブ駆動してもよい。これらの表示素子は、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、ビデオカメラのビューファインダーなどの表示装置として用いることができる。
さらに、前記面状の発光素子は、自発光薄型であり、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、あるいは面状の照明用光源として好適に用いることができる。また、フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源や表示装置としても使用できる。
NMR測定は、下記条件にて行った。
装置 : ブルカー社製Avance600(商品名)核磁気共鳴装置
測定溶媒 : 重水素化テトラヒドロフラン
サンプル濃度 : 約1重量%
測定温度 : 30℃
ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)、及び重量平均分子量(Mw)はSECにより下記のSEC条件1にて求めた。
<SEC条件1>
装置: ポリマーラボラトリー社製PL-GPC210システム(商品名)(RI検出)
カラム: ポリマーラボラトリー社製PLgel 10um MIXED-B(商品名)3本
移動相: o-ジクロロベンゼン
熱重量測定は、Rigaku社THERMOFLEX TAS200 TG8101D(商品名)を用い、毎分80ccの大気気流下、毎分10℃ずつ昇温させて20℃から400℃まで昇温した後の重量減少率を測定した。
<高分子化合物1の合成>
5,9-Dibromo-7,7-dioctyl-7H-benzo[c]fluorene (化合物A)9.875g、及び2,2’−ビピリジル 6.958gを脱水したテトラヒドロフラン1188mLに溶解した後、窒素雰囲気下において60℃まで昇温し、この溶液に、ビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2} 12.253gを加え、3時間反応させた。反応後、この反応液を室温まで冷却し、25%アンモニア水59ml/メタノール1188ml/イオン交換水1188mlの混合溶液中に滴下して30分攪拌した後、析出した沈殿をろ過して2時間減圧乾燥した。続いて、スケールを1.09倍にした以外は上記と同条件で操作を2バッチ行い、それぞれ沈殿物を得た。計3バッチで得られた沈殿物をまとめてトルエン1575mlに溶解させた。溶解後、ラヂオライト6.30gを加えて30分攪拌し、不溶解物を濾過した。得られた濾液をアルミナカラムを通して精製を行った。次に5.2%塩酸水3098mLを加え3時間攪拌した後に水層を除去した。つづいて4%アンモニア水3098mLを加え、2時間攪拌した後に水層を除去した。さらに有機層にイオン交換水約3098mLを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。その後、有機層をメタノール4935mlに注加して1時間攪拌し、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥した。得られた重合体(以後、高分子化合物1と呼ぶ)は下記(繰り返し単位A)のみからなる高分子化合物であり、収量は15.460gであった。また、SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=72000、Mw=495000であった。該重合体の繰り返し単位の式量FW1は438.7であり、平均連結数は164であった。
高分子化合物1につき1H検出1H−13C二次元相関スペクトル(HMQCスペクトル)の測定を行ったところ、2連子を表す式(a)においてHA1、HB1及びHC1で示されるプロトンの化学シフトは、それぞれ7.67ppm、7.39ppm、及び7.80ppmであり、式(a)においてCA1、CB1、及びCC1で示される炭素13の化学シフトは、それぞれ128.1ppm、125.4ppm、及び123.9ppmで、HA1とCA1、HB1とCB1、及びHC1とCC1で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。一方、2連子を表す式(b)においてHA2、HB2及びHC2で示されるプロトンの化学シフトは、それぞれ8.23ppm、7.55ppm、及び7.78ppmであり、式(b)においてCA2、CB2、及びCC2で示される炭素13の化学シフトは、それぞれ127.8ppm、125.4ppm、及び122.5ppmで、HA2とCA2、HB2とCB2、及びHC2とCC2で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。
<高分子化合物2の合成>
アルゴン雰囲気下、ジムロートを接続した 25 ml 二口フラスコに 2-(9-Bromo-7,7-dioctyl-7H-benzo[c]fluoren-5-yl)-4,4,5,5-tetramethyl-[1,3,2]dioxaborolane (化合物B) 200 mg (0.31 mmol), 酢酸パラジウム 3.5 mg (0.015mmol) 、及びトリシクロヘキシルホスフィン 8.7 mg(0.031mmol)を加えた後、アルゴンガスにより容器内を置換した。ここに トルエン 12.4 ml、4−t−ブチルヨードベンゼン5.9 mg (0.023mmol)、及びn−オクチルベンゼン (内部標準物質) 120 μLを加え、110 ℃ で 10 分間攪拌した。この淡黄色溶液に 20重量%水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液 1.4 ml を注加して反応を開始し、110℃で17hr攪拌して、反応を続けた。高速液体クロマトグラフィーにて化合物Bが消失したのを確認した後、反応混合物を H2O 10 ml を加えよく攪拌し、有機層を水層と分離した。有機層を濃縮後、クロロホルム 9 ml を加え、この溶液をエタノール 72 ml に滴下してポリマーを沈殿させた。沈殿物をろ過で回収し、減圧乾燥し黄色粉末を91.8mg得た。この粉末をトルエン 6.5 ml に溶解させ、シリカゲルとアルミナのカラムに通液させた。トルエン 13 ml で溶出させた溶液を約 2 ml に濃縮後、メタノール25 ml に滴下し沈澱させた。沈殿物をろ過後乾燥し、上記(繰り返し単位A)のみからなる重合体(以後、高分子化合物2と呼ぶ)を51.2 mg (収率38%) 得た。また、SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=9000、Mw=17000であった。該重合体の繰り返し単位の式量FW1は438.7であり、平均連結数は21であった。
<高分子化合物2の2連子ピークの帰属>
高分子化合物2につき高分子化合物1と同様に1H検出1H−13C二次元相関スペクトル(HMQCスペクトル)の測定を行い、高分子化合物1と同じ範囲を積分することにより積分強度を求めた。さらに高分子化合物1と同様な計算により2連子(a)と2連子(b)の比率、及び2連子(c)と2連子(d)を求めた結果を表3に示す。
上の結果をもとに、高分子化合物1と同様な計算により2連子(a)、2連子(b)(又は2連子(c))、及び2連子(d)の比率を求めたところ4:96:0であることがわかった。高分子化合物2における頭−尾結合は、2連子(b)(又は2連子(c))における二つの繰り返し単位の間で形成される結合であり、以上のことから、高分子化合物2において、(繰り返し単位A)どうしの間で形成された全結合数に対する頭と尾の間で形成された結合数の割合が96%であることがわかった。
<高分子化合物3の合成>
化合物Aより高分子化合物1の合成法と同様の方法により上記(繰り返し単位A)のみからなる重合体(以後、高分子化合物3と呼ぶ)を得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=17000、Mw=78000であった。該重合体の繰り返し単位の式量FW1は438.7であり、平均連結数は39であった。
上記化合物C(5.511g)、上記化合物D(3.115g)、及び2,2’−ビピリジル(3.865g)を脱水したテトラヒドロフラン1320mLに溶解した後、窒素雰囲気下において60℃まで昇温後、この溶液に、ビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}(6.807g)を加え、攪拌し、3時間反応させた。反応後、室温まで冷却し、この反応液を25%アンモニア水33mL/メタノール1320mL/イオン交換水1320mLの混合溶液中に滴下して1時間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥し、トルエン275mlに溶解させた。溶解後、ラヂオライト11gを加えて30分攪拌し、不溶解物を濾過した。得られた濾液をアルミナカラムを通して精製を行った。得られた精製液を4%アンモニア水541mLを加え、2時間攪拌した後に水層を除去した。続いてイオン交換水約541mLを加え1時間攪拌した後、水層を除去した。その後、有機層をメタノール862mlに注加して0.5時間攪拌し、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥した。得られた重合体(以後、高分子化合物4と呼ぶ)の収量は5.48gであった。また、ポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=20000、Mw=170000であった。
(溶液の調製)
上記で得た高分子化合物3を50重量%、高分子化合物4を50重量%の比率でトルエンに溶解し、ポリマー濃度2.0重量%のトルエン溶液を作製した。
(EL素子の作製)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(Bayer製、BaytronP AI4083)の懸濁液を0.2μmメンブランフィルターで濾過した液を用いて、スピンコートにより70nmの厚みで薄膜を形成し、ホットプレート上で200℃、10分間乾燥した。次に、上記で得たトルエン溶液を用いて、スピンコートにより2000rpmの回転速度で成膜した。成膜後の膜厚は約78nmであった。さらに、これを減圧下80℃で1時間乾燥した後、フッ化リチウムを約4nm蒸着し、陰極としてカルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着してEL素子を作製した。なお真空度が1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
(EL素子の性能)
得られた素子に電圧を印加することにより、この素子から465nmにピークを有するEL発光が得られた。8.0V印加時におけるEL発光色をC.I.E.色座標値で示すとx=0.157、y=0.220であった。EL発光の強度は電流密度にほぼ比例していた。また該素子は3.1Vから発光開始が見られ、最大発光効率は1.47cd/Aであった。
(寿命測定)
上記で得られたEL素子を150mA/cm2の定電流で駆動し、輝度の時間変化を測定したところ、該素子は初期輝度が2150cd/m2、輝度半減時間が11.3時間であった。これを輝度−寿命の加速係数が2乗であると仮定して、初期輝度400cd/m2の値に換算したところ、半減寿命は327時間となった。また、駆動に要した電圧は、初期が8.64V、輝度半減後が9.47Vであり、駆動中の電圧変化は0.83Vであった。なおこの換算半減寿命より電圧上昇率を計算すると、2.54mV/時間となった。
駆動後のスペクトル
上記で得られたEL素子を、上記寿命測定とは別に、150mA/cm2の定電流で78時間駆動した。駆動終了後の輝度は初期輝度の10.0%であった。このようにして得られた駆動後の素子に8.0Vの電圧を印加してELスペクトルを測定したところ、ピーク波長は465nmであり、EL発光色のC.I.E.色座標値はx=0.195、y=0.270であった。また該ELスペクトルを駆動前のELスペクトルと比較したところ、図1に示すように、550nm及び590nmにショルダーピークを有する発光が新たに観測された。
<高分子化合物5の合成>
4−t−ブチルヨードベンゼンを用いなかったこと以外は、高分子化合物2の合成法と同様の方法により、化合物Bから上記(繰り返し単位A)のみからなる重合体(以後、高分子化合物5と呼ぶ)を得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=15000、Mw=31000であった。該重合体の繰り返し単位の式量FW1は438.7であり、平均連結数は34であった。
(溶液の調製)
上記で得た高分子化合物5を50重量%、高分子化合物4を50重量%の比率でトルエンに溶解し、ポリマー濃度2.0重量%のトルエン溶液を作製した。
(EL素子の作製)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(Bayer製、BaytronP AI4083)の懸濁液を0.2μmメンブランフィルターで濾過した液を用いて、スピンコートにより70nmの厚みで薄膜を形成し、ホットプレート上で200℃、10分間乾燥した。次に、上記で得たトルエン溶液を用いて、スピンコートにより1500rpmの回転速度で成膜した。成膜後の膜厚は約74nmであった。さらに、これを減圧下80℃で1時間乾燥した後、フッ化リチウムを約4nm蒸着し、陰極としてカルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着してEL素子を作製した。なお真空度が1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
(EL素子の性能)
得られた素子に電圧を印加することにより、この素子から465nmにピークを有するEL発光が得られた。8.0V印加時におけるEL発光色をC.I.E.色座標値で示すとx=0.154、y=0.209であった。EL発光の強度は電流密度にほぼ比例していた。また該素子は3.0Vから発光開始が見られ、最大発光効率は1.51cd/Aであった。
(寿命測定)
上記で得られたEL素子を150mA/cm2の定電流で駆動し、輝度の時間変化を測定したところ、該素子は初期輝度が2090cd/m2、輝度半減時間が37.4時間であった。これを輝度−寿命の加速係数が2乗であると仮定して、初期輝度400cd/m2の値に換算したところ、半減寿命は1021時間となった。また、駆動に要した電圧は、初期が7.81V、輝度半減後が8.16Vであり、駆動中の電圧変化は0.35Vであった。なおこの換算半減寿命より電圧上昇率を計算すると、0.34mV/時間となった。
(駆動後のスペクトル)
上記で得られたEL素子を、上記寿命測定とは別に、150mA/cm2の定電流で81時間駆動した。駆動終了後の輝度は初期輝度の34.4%であった。このようにして得られた駆動後の素子に8.0Vの電圧を印加してELスペクトルを測定したところ、ピーク波長は465nmであり、EL発光色のC.I.E.色座標値はx=0.160、y=0.215であった。また該ELスペクトルを駆動前のELスペクトルと比較したところ、図2に示すように、駆動前後でのスペクトル変化はほとんど見られなかった。
以上のように、比較例2の高分子化合物3と比べて、高分子化合物5を用いた高分子発光素子においては、輝度半減寿命が長く、駆動によるスペクトル変化が小さいために駆動前後での色変化が抑えられ、かつ駆動時の電圧上昇率も小さいことがわかる。このように、本願発明にかかる高分子化合物は高分子発光素子に用いる材料として優れた性質を有するものである。
<高分子化合物6の合成>
化合物Aより高分子化合物1の合成法と同様の方法により上記(繰り返し単位A)のみからなる重合体(以後、高分子化合物6と呼ぶ)を得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=55000、Mw=119000であった。該重合体の繰り返し単位の式量FW1は438.7であり、平均連結数は125であった。
窒素雰囲気下、化合物E 195.37g、化合物D 239.44g、2,2’−ビピリジル 232.89gを脱水したテトラヒドロフラン46.26kgに溶解した後、60℃まで昇温し、この溶液に、ビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2} 410.15gを加え、5時間反応させた。反応後、この反応液を室温まで冷却し、25%アンモニア水8.52kg/メタノール16.88kg/イオン交換水31.98kgの混合液中に滴下して2時間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥した。乾燥後、トルエン16.22kgに溶解し、溶解後、ラヂオライト830gを加えて不溶解物を濾過した。得られた濾液をアルミナカラムを通して精製を行い、次にイオン交換水13.52kg/25%アンモニア水2.04kg混合液中に精製液を加え、0.5時間攪拌した後、水層を除去した。さらに有機層にイオン交換水13.52kgを加え0.5時間攪拌した後、水層を除去した。得られた有機層の一部について減圧濃縮を実施後、有機層をメタノール34.18kgに注加して1時間攪拌し、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥した。得られた重合体の収量は234.54gであった。ポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=12000、Mw=77000であった。
該重合体の0.5%のトルエン溶液を作成し、0.45μのフィルターで濾過した。濾過して得られた溶液を下記条件にて繰り返しSECにより分取した。
カラム:TSKgel GMHHR−H(TOSOH製GPCカラム、21.5mmI.D.×30cm)
カラム温度 60℃
移動相: トルエン
流速 6ml/min.
サンプル注入量 2ml
分取時間: 11.0〜11.5min.
得られたフラクションの溶液をエバポレーターで濃縮し、メタノールに再沈して高分子量体(以後、高分子化合物7と呼ぶ)を得た。ポリスチレン換算でMn=6800、Mw=8900であった。
(溶液の調製)
上記で得た高分子化合物6を80重量%、高分子化合物7を20重量%の比率でトルエンに溶解し、ポリマー濃度2.0重量%のトルエン溶液を作製した。
(EL素子の作製)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(Bayer製、BaytronP AI4083)の懸濁液を0.2μmメンブランフィルターで濾過した液を用いて、スピンコートにより70nmの厚みで薄膜を形成し、ホットプレート上で200℃、10分間乾燥した。次に、上記で得たトルエン溶液を用いて、スピンコートにより1500rpmの回転速度で成膜した。成膜後の膜厚は約83nmであった。さらに、これを減圧下80℃で1時間乾燥した後、フッ化リチウムを約4nm蒸着し、陰極としてカルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着してEL素子を作製した。なお真空度が1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
(EL素子の性能)
得られた素子に電圧を印加することにより、この素子から470nmにピークを有するEL発光が得られた。8.0V印加時におけるEL発光色をC.I.E.色座標値で示すとx=0.157、y=0.212であった。EL発光の強度は電流密度にほぼ比例していた。また該素子は3.0Vから発光開始が見られ、最大発光効率は1.52cd/Aであった。
(寿命測定)
上記で得られたEL素子を150mA/cm2の定電流で駆動し、輝度の時間変化を測定したところ、該素子は初期輝度が1863cd/m2、輝度半減時間が6.32時間であった。これを輝度−寿命の加速係数が2乗であると仮定して、初期輝度400cd/m2の値に換算したところ、半減寿命は137時間となった。また、駆動に要した電圧は、初期が8.99V、輝度半減後が9.74Vであり、駆動中の電圧変化は0.75Vであった。なおこの換算半減寿命より電圧上昇率を計算すると、5.47mV/時間となった。
駆動後のスペクトル
上記で得られたEL素子を、上記寿命測定とは別に、150mA/cm2の定電流で81時間駆動した。駆動終了後の輝度は初期輝度の10.7%であった。このようにして得られた駆動後の素子に8.0Vの電圧を印加してELスペクトルを測定したところ、ピーク波長は470nmであり、EL発光色のC.I.E.色座標値はx=0.230、y=0.310であった。また該ELスペクトルを駆動前のELスペクトルと比較したところ、図3に示すように、550nm及び590nmにショルダーピークを有する発光が新たに観測された。
<高分子化合物5による発光素子の作成>
(溶液の調製)
上記で得た高分子化合物5を80重量%、高分子化合物7を20重量%の比率でトルエンに溶解し、ポリマー濃度2.0重量%のトルエン溶液を作製した。
(EL素子の作製)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(Bayer製、BaytronP AI4083)の懸濁液を0.2μmメンブランフィルターで濾過した液を用いて、スピンコートにより70nmの厚みで薄膜を形成し、ホットプレート上で200℃、10分間乾燥した。次に、上記で得たトルエン溶液を用いて、スピンコートにより600rpmの回転速度で成膜した。成膜後の膜厚は約89nmであった。さらに、これを減圧下80℃で1時間乾燥した後、フッ化リチウムを約4nm蒸着し、陰極としてカルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着してEL素子を作製した。なお真空度が1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
(EL素子の性能)
得られた素子に電圧を印加することにより、この素子から475nmにピークを有するEL発光が得られた。8.0V印加時におけるEL発光色をC.I.E.色座標値で示すとx=0.159、y=0.224であった。EL発光の強度は電流密度にほぼ比例していた。また該素子は2.9Vから発光開始が見られ、最大発光効率は1.59cd/Aであった。
(寿命測定)
上記で得られたEL素子を150mA/cm2の定電流で駆動し、輝度の時間変化を測定したところ、該素子は初期輝度が2130cd/m2、輝度半減時間が22.9時間であった。これを輝度−寿命の加速係数が2乗であると仮定して、初期輝度400cd/m2の値に換算したところ、半減寿命は648時間となった。また、駆動に要した電圧は、初期が8.64V、輝度半減後が9.47Vであり、駆動中の電圧変化は1.03Vであった。なおこの換算半減寿命より電圧上昇率を計算すると、1.59mV/時間となった。
(駆動後のスペクトル)
上記で得られたEL素子を、上記寿命測定とは別に、150mA/cm2の定電流で81時間駆動した。駆動終了後の輝度は初期輝度の22.7%であった。このようにして得られた駆動後の素子に8.0Vの電圧を印加してELスペクトルを測定したところ、ピーク波長は475nmであり、EL発光色のC.I.E.色座標値はx=0.184、y=0.254であった。また該ELスペクトルを駆動前のELスペクトルと比較したところ、図4に示すように、500nmを超える領域で若干長波長成分が増大したが、スペクトルの形状そのものにはほとんど変化は見られなかった。
以上のように、比較例3の高分子化合物6と比べて、高分子化合物5を用いた高分子発光素子においては、輝度半減寿命が長く、駆動によるスペクトル変化が小さいために駆動前後での色変化が抑えられ、かつ駆動時の電圧上昇率も小さいことがわかる。このように、本願発明にかかる高分子化合物は高分子発光素子に用いる材料として優れた性質を有するものである。
<高分子化合物3の熱重量測定>
上記高分子化合物3の熱重量測定を実施したところ、毎分10℃ずつ昇温させて20℃から400℃まで昇温した後の重量減少率は10.4%であった。
<高分子化合物5の熱重量測定>
上記高分子化合物5の熱重量測定を実施したところ、毎分10℃ずつ昇温させて20℃から400℃まで昇温した後の重量減少率は4.2%であった。比較例4の高分子化合物3と比べ、本願発明にかかる高分子化合物5は耐熱性に優れる性質を有するものである。
<高分子化合物8の合成>
四つ口フラスコに2,2’−ビピリジル1.04g(6.7mmol)、及び1,4−ジブロモ−2−ヘキシルオキシベンゼン1.19g(3.55mmol)を加え、フラスコ内をアルゴンガスで置換し、脱水処理したテトラヒドロフランを128mL加えた。40℃に昇温後、ビス(1、5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2} 1.67g(6.06mmol)を加え、40℃で1時間攪拌を続け反応を行った。
反応後、この反応液を室温まで冷却し、25%アンモニア水12ml/メタノール110ml/水110ml混合溶液中に滴下して1.5時間攪拌した後、析出した沈殿をろ過して減圧乾燥した。次いで、沈殿にトルエン95mL、ラヂオライト6.30gを加えて40分攪拌し、不溶解物を濾過した。得られた濾液をアルミナカラムを通して精製を行い、約60mLまで濃縮した後、メタノール300mLに滴下した。析出した沈殿をろ過して減圧乾燥した。得られた重合体(以後、高分子化合物8と呼ぶ)は(繰り返し単位B)のみからなる高分子化合物であり、収量は0.39gであった。また、SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=16000、Mw=39000であった。該重合体の繰り返し単位の式量FW1は176.27であり、平均連結数は91であった。
高分子化合物8につき1H検出1H−13C二次元相関スペクトル(HMQCスペクト
ル)の測定を行ったところ、3連子を表す式(e)においてHE1に示されるプロトンの
化学シフトは7.30ppm、CE1に示される炭素13の化学シフトは122.3pp
mに観測された。3連子を表す式(f)においてHE2に示されるプロトンの化学シフト
は7.37ppm、CE2に示される炭素13の化学シフトは119.6ppmに観測さ
れた。3連子を表す式(g)においてHE3に示されるプロトンの化学シフトは7.25
ppm、CE3に示される炭素13の化学シフトは121.3ppmに観測された。3連
子を表す式(h)においてHE4に示されるプロトンの化学シフトは7.31ppm、C
E4に示される炭素13の化学シフトは118.7ppmに観測された。
強度の積分値を表4に示す。
びHE4の数を考慮すると、高分子化合物8に含まれる頭−頭結合、頭−尾結合、及び尾
−尾結合の相対的な数は、表4の中に示した積分値(I1)、(I2)、(I3)、及び(I4)を用いて、次のように計算される。
頭−頭結合 =(I3+I4)/2
頭−尾結合 = I1+I2
尾−尾結合 =(I2+I4)/2
上の式を用いて高分子化合物8に含まれる頭−頭結合、頭−尾結合、及び尾−尾結合の割合を計算した結果につき、表5に示す。
<化合物Fの合成>
不活性ガス雰囲気下、200mL四つ口フラスコに1,4−ジブロモ−2−ヘキシルオキシベンゼン2.0g(6.0mmol)を脱水処理したメチル−t−ブチルエーテル60mLに溶解させ、−70℃まで冷却した。次いで、1.6mol/L のn−ブチルリチウムのヘキサン溶液を−70℃で6分かけて滴下し、−70℃で2時間攪拌した。次いで、2−イソプロポキシ−4,4,5,5,−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン1.5mLを−70℃にて1分かけて滴下し、攪拌しながら1時間15分かけて室温まで昇温し、10時間攪拌を続けた。次いで、0℃で水30mLを加え、室温まで昇温した後30分攪拌を行い、酢酸エチルを加えて攪拌した後、有機層を水層と分離した。該有機層を濃縮し−5℃で一晩静置し固体2.3gを得た。得られた固体のうち、1.1gを40℃でメタノール2mLに溶解させ、室温まで冷却して結晶を析出させた。得られた結晶を濾過、乾燥することにより、化合物F(0.5g、LC面百値99.6%)を得た。
GC−MS: [M+] = 382
アルゴン雰囲気下、ジムロートを接続した100ml 二口フラスコに化合物F 300.2 mg (1.06 mmol)、酢酸パラジウム 11.9 mg (0.053mmol) 、及びトリシクロヘキシルホスフィン 22.9mg (0.11mmol) を加えた後、アルゴンガスにより容器内を置換した。ここにトルエン 42.6mlを加え攪拌し、110℃に昇温した。次いで、110℃にて20重量%水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液5.7mLを加え、110℃にて18.5hr攪拌を続けて反応を行った。次いで、反応溶液を室温に冷却した後、エタノール400mLを加え、析出した固体を濾過、乾燥した。得られた固体にクロロホルムに溶解し、シリカゲルとアルミナを充填したカラムを通液させ、得られた溶液を濃縮乾固し固体を得た。次いで、該固体にクロロホルム3mLを加えて溶解させた溶液を、エタノール50mLに滴下し固体を析出させ、濾過、乾燥することにより、(繰り返し単位B)のみからなる重合体(以後、高分子化合物9と呼ぶ)を78.4mg得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=3300、Mw=5200であった。該重合体の繰り返し単位の式量FW1は176.27であり、平均連結数は19であった。
高分子化合物9につき高分子化合物8と同様に1H検出1H−13C二次元相関スペク
トル(HMQCスペクトル)の測定を行い、高分子化合物8と同じ範囲を積分することにより積分強度を求めた。その結果を表6に示す。
<高分子化合物10の合成>
アルゴン雰囲気下、ジムロートを接続した200ml 三口フラスコに前記化合物B 1400.0 mg (2.17mmol)、前記化合物A 72.1 mg (0.12mmol)、下記化合物G 83.4 mg (0.12mmol)を加え、アルゴンガスにより容器内を置換した。ここにトルエン 17mlを加え攪拌し、45℃に昇温した。次いで、[トリス(ジベンジリデンアセトン)]ジパラジウム 3.3mg、トリス(o−メトキシフェニル)ホスフィン 10.1mg、トルエン4mLを加え10分間攪拌し、30重量%炭酸セシウム水溶液11mLを加え、115℃まで昇温し、40分攪拌を行った。次いで、反応溶液を室温に冷却した後、有機層から水層を除去し、メタノール300mLに有機層を滴下し、析出した固体を濾過、乾燥した。得られた固体をトルエン72mLに溶解し、シリカゲルとアルミナを充填したカラムを通液させ、得られた溶液をメタノール720mLに滴下し、析出した固体を濾過、乾燥することにより、上記繰り返し単位Aのみからなる重合体(以後、高分子化合物10と呼ぶ)を864.9mg得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=180000、Mw=439000であった。該重合体の繰り返し単位の式量FW1は438.7であり、平均連結数は410であった。
<高分子化合物10の2連子ピークの帰属>
高分子化合物10につき1H検出1H−13C二次元相関スペクトル(HMQCスペクトル)の測定を行ったところ、2連子を表す式(a)においてHB1、HC1で示されるプロトンの化学シフトは、それぞれ7.39ppm、7.81ppmであり、式(a)においてCB1、CC1で示される炭素13の化学シフトは、それぞれ125.4ppm、123.8ppmで、HB1とCB1、HC1とCC1で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。一方、2連子を表す式(b)においてHB2、HC2で示されるプロトンの化学シフトは、それぞれ7.54ppm、7.79ppmであり、式(b)においてCB2、CC2で示される炭素13の化学シフトは、それぞれ125.2ppm、及び122.5ppmで、HB2とCB2、HC2とCC2で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。
<高分子化合物11の合成>
実施例6の<高分子化合物10の合成>において化合物B 1400.0 mg (2.17mmol)、化合物A 72.1 mg (0.12mmol)、化合物G 83.4 mg (0.12mmol)を用いる代わりに、化合物B 1076mg(1.67mmol)のみを用いて同様の処方により、上記繰り返し単位Aのみからなる重合体(以後、高分子化合物11と呼ぶ)627mgを得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=109000、Mw=384000であった。該重合体の繰り返し単位の式量FW1は438.7であり、平均連結数は248であった。
<高分子化合物11の2連子ピークの帰属>
高分子化合物11につき高分子化合物10と同様に1H検出1H−13C二次元相関スペクトル(HMQCスペクトル)の測定を行い、高分子化合物10と同じ範囲を積分することにより積分強度を求めた。さらに高分子化合物10と同様な計算により2連子(a)と2連子(b)の比率、及び2連子(c)と2連子(d)を求めた結果を表10に示す。
<高分子化合物12の合成>
実施例6の<高分子化合物10の合成>において化合物B 1400.0 mg (2.17mmol)、化合物A 72.1 mg (0.12mmol)、化合物G 83.4 mg (0.12mmol)を用いる代わりに、化合物B 1400.0 mg (2.17mmol)、化合物A 192.3 mg (0.32mmol)、化合物G 222.5 mg (0.32mmol)を用いて同様の処方により、上記繰り返し単位Aのみからなる重合体(以後、高分子化合物12と呼ぶ)1030mgを得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=151000、Mw=388000であった。該重合体の繰り返し単位の式量はFW1438.7であり、平均連結数は344であった。
<高分子化合物12の2連子ピークの帰属>
高分子化合物12につき1H検出1H−13C二次元相関スペクトル(HMQCスペクトル)の測定を行ったところ、2連子を表す式(a)においてHB1、HC1で示されるプロトンの化学シフトは、それぞれ7.39ppm、7.81ppmであり、式(a)においてCB1、CC1で示される炭素13の化学シフトは、それぞれ125.4ppm、123.8ppmで、HB1とCB1、HC1とCC1で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。一方、2連子を表す式(b)においてHB2、HC2で示されるプロトンの化学シフトは、それぞれ7.54ppm、7.79ppmであり、式(b)においてCB2、CC2で示される炭素13の化学シフトは、それぞれ125.2ppm、及び122.5ppmで、HB2とCB2、HC2とCC2で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。
<高分子化合物13の合成>
実施例6の<高分子化合物10の合成>において化合物B 1400.0 mg (2.17mmol)、化合物A 72.1 mg (0.12mmol)、化合物G 83.4 mg (0.12mmol)を用いる代わりに、化合物A と化合物G をモル比で50:50の比で用いて同様の処方により、上記繰り返し単位Aのみからなる重合体(以後、高分子化合物13と呼ぶ)を得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=155000、Mw=372000であった。該重合体の繰り返し単位の式量FW1は438.7であり、平均連結数は353であった。
<高分子化合物13の2連子ピークの帰属>
高分子化合物13につき重合体高分子化合物10と同様に1H検出1H−13C二次元相関スペクトル(HMQCスペクトル)の測定を行い、高分子化合物10と同じ範囲を積分することにより積分強度を求めた。さらに高分子化合物13と同様な計算により2連子(a)と2連子(b)の比率、及び2連子(c)と2連子(d)を求めた結果を表13に示す。
<高分子化合物10による発光素子の作成>
(溶液の調製)
実施例6で得た高分子化合物10を濃度1.3重量%の比率でキシレンに溶解した。
(EL素子の作製)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(Bayer製、BaytronP AI4083)の懸濁液を0.2μmメンブランフィルターで濾過した液を用いて、スピンコートにより70nmの厚みで薄膜を形成し、ホットプレート上で200℃、10分間乾燥した。次に、上記で得た高分子化合物10のキシレン溶液を用いて、スピンコートにより2700rpmの回転速度で成膜した。成膜後の膜厚は約119nmであった。さらに、これを酸素濃度及び水分濃度が10ppm以下の窒素雰囲気下で90℃1時間乾燥した後、フッ化リチウムを約4nm蒸着し、陰極としてカルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着してEL素子を作製した。なお真空度が1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
(EL素子の性能)
得られた素子に電圧を印加することにより、この素子から470nmにピークを有するEL発光が得られた。100cd/m2時におけるEL発光色をC.I.E.色座標値で示すとx=0.16、y=0.18であった。EL発光の強度は電流密度にほぼ比例していた。また1cd/m2到達時の電圧は4.6Vであり、最大発光効率は0.15cd/Aであった。
(素子駆動前後のスペクトルの変化)
上記で得られたEL素子を50mA/cm2の定電流で駆動し、1.5時間後のELスペクトルを測定したところ、550nm及び590nmに小さなショルダーピークを観測した。それぞれの発光強度を470nmのピーク強度で規格化し、550nm及び590nmの発光強度の増加率を求めたところ、550nmの発光強度は3.5%、590nmの発光強度は2.6%の若干の増加があった。
<高分子化合物11による発光素子の作成>
(溶液の調製)
実施例7で得た高分子化合物11を濃度1.3重量%の比率でキシレンに溶解した。
(EL素子の作製)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(Bayer製、BaytronP AI4083)の懸濁液を0.2μmメンブランフィルターで濾過した液を用いて、スピンコートにより70nmの厚みで薄膜を形成し、ホットプレート上で200℃、10分間乾燥した。次に、上記で得た高分子化合物11のキシレン溶液を用いて、スピンコートにより2000rpmの回転速度で成膜した。成膜後の膜厚は約116nmであった。さらに、これを酸素濃度及び水分濃度が10ppm以下の窒素雰囲気下で90℃1時間乾燥した後、フッ化リチウムを約4nm蒸着し、陰極としてカルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着してEL素子を作製した。なお真空度が1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
(EL素子の性能)
得られた素子に電圧を印加することにより、この素子から470nmにピークを有するEL発光が得られた。100cd/m2時におけるEL発光色をC.I.E.色座標値で示すとx=0.16、y=0.18であった。EL発光の強度は電流密度にほぼ比例していた。また1cd/m2到達時の電圧は3.8Vであり、最大発光効率は0.22cd/Aであった。
(素子駆動前後のスペクトルの変化)
上記で得られたEL素子を50mA/cm2の定電流で駆動し、1.5時間後のELスペクトルを測定したところ、実施例8で観測された550nm及び590nmにショルダーピークはほとんど観測されなかった。発光強度を470nmのピーク強度で規格化し、550nm及び590nmの発光強度の増加率を求めたところ、550nmの発光強度は0.1%、590nmの発光強度は1.2%の増加であった。
<高分子化合物12による発光素子の作成>
(溶液の調製)
比較例6で得た高分子化合物12を濃度1.3重量%の比率でキシレンに溶解した。
(EL素子の作製)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(Bayer製、BaytronP AI4083)の懸濁液を0.2μmメンブランフィルターで濾過した液を用いて、スピンコートにより70nmの厚みで薄膜を形成し、ホットプレート上で200℃、10分間乾燥した。次に、上記で得た高分子化合物12のキシレン溶液を用いて、スピンコートにより3200rpmの回転速度で成膜した。成膜後の膜厚は約119nmであった。さらに、これを酸素濃度及び水分濃度が10ppm以下の窒素雰囲気下で90℃1時間乾燥した後、フッ化リチウムを約4nm蒸着し、陰極としてカルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着してEL素子を作製した。なお真空度が1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
(EL素子の性能)
得られた素子に電圧を印加することにより、この素子から470nmにピークを有するEL発光が得られた。100cd/m2時におけるEL発光色をC.I.E.色座標値で示すとx=0.16、y=0.19であった。EL発光の強度は電流密度にほぼ比例していた。また1cd/m2到達時の電圧は5.4Vであり、最大発光効率は0.15cd/Aであった。
(素子駆動前後のスペクトルの変化)
上記で得られたEL素子を50mA/cm2の定電流で駆動し、1.5時間後のELスペクトルを測定したところ、550nm及び590nmに大きなショルダーピークを観測した。それぞれの発光強度を470nmのピーク強度で規格化し、550nm及び590nmの発光強度の増加率を求めたところ、550nmの発光強度は14%、590nmの発光強度は8.9%の増加があった。
<高分子化合物13による発光素子の作成>
(溶液の調製)
比較例7で得た高分子化合物13を濃度1.3重量%の比率でキシレンに溶解した。
(EL素子の作製)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(Bayer製、BaytronP AI4083)の懸濁液を0.2μmメンブランフィルターで濾過した液を用いて、スピンコートにより70nmの厚みで薄膜を形成し、ホットプレート上で200℃、10分間乾燥した。次に、上記で得た高分子化合物13のキシレン溶液を用いて、スピンコートにより3200rpmの回転速度で成膜した。成膜後の膜厚は約117nmであった。さらに、これを酸素濃度及び水分濃度が10ppm以下の窒素雰囲気下で90℃1時間乾燥した後、フッ化リチウムを約4nm蒸着し、陰極としてカルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着してEL素子を作製した。なお真空度が1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
(EL素子の性能)
得られた素子に電圧を印加することにより、この素子から460nmにピークを有するEL発光が得られた。100cd/m2時におけるEL発光色をC.I.E.色座標値で示すとx=0.15、y=0.17であった。EL発光の強度は電流密度にほぼ比例していた。また1cd/m2到達時の電圧は3.6Vであり、最大発光効率は0.32cd/Aであった。
(素子駆動前後のスペクトルの変化)
上記で得られたEL素子を50mA/cm2の定電流で駆動し、1.5時間後のELスペクトルを測定したところ、550nm及び590nmに大きなショルダーピークを観測した。それぞれの発光強度を460nmのピーク強度で規格化し、550nm及び590nmの発光強度の増加率を求めたところ、550nmの発光強度は22%、590nmの発光強度は13%の増加があった。
<高分子化合物14の合成>
実施例6の<高分子化合物10の合成>において化合物B 1400.0 mg (2.17mmol)、化合物A 72.1 mg (0.12mmol)、化合物G 83.4 mg (0.12mmol)を用いる代わりに、化合物A 2.464g(4.12mmol) 、化合物G 3.117g(4.50mmol)、化合物D 0.332g(0.45mmol)を用いて同様の処方により、下記(繰り返し単位A)と下記(繰り返し単位C)からなる重合体(以後、高分子化合物14と呼ぶ)を得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=62000、Mw=175000であった。
高分子化合物14につき1H検出1H−13C二次元相関スペクトル(HMQCスペクトル)の測定を行ったところ、2連子を表す式(a)においてHC1で示されるプロトンの化学シフトは7.76ppmであり、式(a)においてCC1で示される炭素13の化学シフトは123.8ppmで、HC1とCC1で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。一方、2連子を表す式(b)においてHC2で示されるプロトンの化学シフトは7.73ppmであり、式(b)においてCC2で示される炭素13の化学シフトは122.4ppmで、HC2とCC2で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。さらに、2連子を表す式(e)においてHC4で示されるプロトンの化学シフトは7.56ppmであり、式(e)においてCC4で示される炭素13の化学シフトは122.4ppmで、HC4とCC4で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。
高分子化合物14における(繰り返し単位A)の平均連結数(NA)は、前述の式(A2)を変形することにより、下式(A2−1)にて求められる。
平均連結数(NA) = N1’ / N2’ (A2−1)
(式中、N1’は高分子化合物14の単位量あたりに含まれる全ての2連子の数に対する(繰り返し単位A)の数の割合であり、N2’は高分子化合物14の単位量あたりに含まれる全ての2連子の数に対する(繰り返し単位A)で形成されるブロックの数の割合である。ここで、(繰り返し単位A)で形成されるブロックとは下記式(BR−3)で表される。)
(式中、gは1以上の整数を表す。該ブロックには(繰り返し単位A)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位又は末端基が隣接する。)
N1’ = ([2連子(a)]+[2連子(b)]+[2連子(e)]
+[2連子(c)]+[2連子(d)]+[2連子(f)])
N2’ = ([2連子(e)]+[2連子(f)])
(ただし、上の2式において、[2連子(a)]、[2連子(b)]、[2連子(e)]、[2連子(c)]、[2連子(d)]、及び[2連子(f)]は、高分子化合物14に含まれるすべての2連子の数に対する、それぞれ2連子(a)、2連子(b)、2連子(e)、2連子(c)、2連子(d)、及び2連子(f)の数の割合を示す。)
と表せる。また、表15及び表16に記載の記号c1、c2、c4、d2、d3、d5を用いると、
c1=[2連子(a)]/([2連子(a)]+[2連子(b)]+[2連子(e)])
=C[2連子(a)]
c2=[2連子(b)]/([2連子(a)]+[2連子(b)]+[2連子(e)])
=C[2連子(b)]
c4=[2連子(e)]/([2連子(a)]+[2連子(b)]+[2連子(e)])
=C[2連子(e)]
(ただし、上の3式においてC=1/([2連子(a)]+[2連子(b)]+[2連子(e)])である)
d2=[2連子(c)]/([2連子(c)]+[2連子(d)]+[2連子(f)])
=D[2連子(c)]
d3=[2連子(d)]/([2連子(c)]+[2連子(d)]+[2連子(f)])
=D[2連子(d)]
d5=[2連子(f)]/([2連子(c)]+[2連子(d)]+[2連子(f)])
=D[2連子(f)]
(ただし、上の3式においてD=1/([2連子(c)]+[2連子(d)]+[2連子(f)])である)
と置き換えることができるから、前述の式(A2−1)に代入すると、式(A2−1)はc1、c2、c4、d2、d3、d5とC、Dを用いて、
NA = N1’ / N2’
=(c1/C+c2/C+c4/C+d2/D+d3/D+d5/D)/(c4/C+d5/D)
={c1+c2+c4+(d2+d3+d5)・C/D}/(c4+d5・C/D)
......式(A2−2)
で表せる。
[2連子(b)]=[2連子(c)]
である。本式はc2、d2とC、Dを用いて、
c2/C=d2/D
と書き換えられるから、本式を変形して、
C/D=c2/d2 (A2−3)
式(A2−2)と式(A2−3)より、
NA = {d2(d1+d2+d4)+c2(d2+d3+d5)}/(d2・c4+c2・d5)
......式(A2−4)
が得られる。
<高分子化合物15の合成>
実施例6の<高分子化合物10の合成>において化合物B 1400.0 mg (2.17mmol)、化合物A 72.1 mg (0.12mmol)、化合物G 83.4 mg (0.12mmol)を用いる代わりに、化合物B 1000mg(1.55mmol) 、化合物D 30.1mg(0.04mmol)、下記化合物H 34.0mg(0.04mmol)を用いて同様の処方により、上記(繰り返し単位A)と上記(繰り返し単位C)からなる重合体(以後、高分子化合物15と呼ぶ)を得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=81000、Mw=187000であった。
高分子化合物15につき高分子化合物14と同様にHMQCスペクトルの測定を行い、高分子化合物14と同じ範囲を積分することにより積分強度を求めた。さらに高分子化合物14と同様な計算により2連子(a)、2連子(b)、及び2連子(e)の比率、及び2連子(c)、2連子(d)、及び2連子(f)を求めた結果を表17に示す。
上の結果をもとに、高分子化合物14と同様な計算により2連子(a)、2連子(b)(又は2連子(c))、及び2連子(d)の比率を求めたところ1:98:1であることがわかった。以上のことから、高分子化合物15において、(繰り返し単位A)どうしの間で形成された全結合数に対する頭と尾の間で形成された結合数の割合が98%であることがわかった。
高分子化合物15における(繰り返し単位A)の平均連結数は、高分子化合物14における(繰り返し単位A)の平均連結数と同様に、式(A2−4)を用いて表17の値から計算すると、15であった。
<高分子化合物16の合成>
実施例6の<高分子化合物10の合成>において化合物B 1400.0 mg (2.17mmol)、化合物A 72.1 mg (0.12mmol)、化合物G 83.4 mg (0.12mmol)を用いる代わりに、化合物B 700.0mg(1.08mmol) 、化合物D 171.7mg(0.23mmol)、下記化合物H 193.5mg(0.23mmol)を用いて同様の処方により、上記(繰り返し単位A)と上記(繰り返し単位C)からなる重合体(以後、高分子化合物16と呼ぶ)を得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=45000、Mw=99000であった。
<高分子化合物16の2連子ピークの帰属>
高分子化合物16につき高分子化合物14と同様にHMQCスペクトルの測定を行い、高分子化合物14と同じ範囲を積分することにより積分強度を求めた。さらに高分子化合物14と同様な計算により2連子(a)、2連子(b)、及び2連子(e)の比率、及び2連子(c)、2連子(d)、及び2連子(f)を求めた結果を表18に示す。
上の結果をもとに、高分子化合物14と同様な計算により2連子(a)、2連子(b)(又は2連子(c))、及び2連子(d)の比率を求めたところ0:100:0であることがわかった。以上のことから、高分子化合物16において、(繰り返し単位A)どうしの間で形成された全結合数に対する頭と尾の間で形成された結合数の割合が100%であることがわかった。
高分子化合物16における(繰り返し単位A)の平均連結数は、高分子化合物14における(繰り返し単位A)の平均連結数と同様に、式(A2−4)を用いて表18の値から計算すると、4であった。
<高分子化合物17の合成>
実施例6の<高分子化合物10の合成>において化合物B 1400.0 mg (2.17mmol)、化合物A 72.1 mg (0.12mmol)、化合物G 83.4 mg (0.12mmol)を用いる代わりに、化合物A 500.0 mg (0.84mmol)、化合物G 578.6 mg (0.84mmol)、化合物D 16.2 mg (0.02mmol)、化合物H 18.3 mg (0.02mmol)、下記化合物I 10.4mg(0.02mmol)、下記化合物J 12.5mg(0.02mmol)を用いて同様の処方により、上記(繰り返し単位A)と上記(繰り返し単位C)と下記(繰り返し単位D)からなる重合体(以後、高分子化合物17と呼ぶ)を得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=77000、Mw=420000であった。
高分子化合物17につきHMQCスペクトルの測定を行ったところ、2連子を表す式(a)においてHC1で示されるプロトンの化学シフトは7.81ppmであり、式(a)においてCC1で示される炭素13の化学シフトは123.9ppmで、HC1とCC1で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。一方、2連子を表す式(b)においてHC2で示されるプロトンの化学シフトは7.77ppmであり、式(b)においてCC2で示される炭素13の化学シフトは122.5ppmで、HC2とCC2で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。さらに、2連子を表す式(e)においてHC4で示されるプロトンと2連子を表す式(g)においてHC6で示されるプロトンとの化学シフトは共に7.60ppmであり、式(e)においてCC4で示される炭素13と式(g)においてCC6で示される炭素13の化学シフトは共に122.3ppmで、HC4とCC4及びHC6とCC6で示されるプロトンと炭素の対に対してプロトン−炭素13相関ピークが観測された。
高分子化合物17における(繰り返し単位A)の平均連結数(NB)は、前述の式(A2)を変形することにより、下式(A2−5)にて求められる。
平均連結数(NB) = N1’’ / N2’’ (A2−5)
(式中、N1’’は高分子化合物17の単位量あたりに含まれる全ての2連子の数に対する(繰り返し単位A)の数の割合であり、N2’’は高分子化合物17の単位量あたりに含まれる全ての2連子の数に対する(繰り返し単位A)で形成されるブロックの数の割合である。ここで、(繰り返し単位A)で形成されるブロックとは上記式(BR−3)で表される。)
NB = ([2連子(a)]+[2連子(b)]+[2連子(e)+(g)]
+[2連子(c)]+[2連子(d)]+[2連子(f)+(h)])
/([2連子(e)+(g)]+[2連子(f)+(h)])
....(A2−6)
(ただし、上の2式において、[2連子(a)]、[2連子(b)]、[2連子(e)+(g)]、[2連子(c)]、[2連子(d)]、及び[2連子(f)+(h)]は、高分子化合物17に含まれるすべての2連子の数に対する、それぞれ2連子(a)、2連子(b)、2連子(e)+(g)、2連子(c)、2連子(d)、及び2連子(f)+(h)の数の割合を示す)
と表せる。また、表19及び表20に記載の記号c1、c2、c4_6、d2、d3、d5_7を用いると、
c1=[2連子(a)]/([2連子(a)]+[2連子(b)]+[2連子(e)+(g)])
=C’[2連子(a)]
c2=[2連子(b)]/([2連子(a)]+[2連子(b)]+[2連子(e)+(g)])
=C’[2連子(b)]
c4_6=[2連子(e)+(g)]/([2連子(a)]+[2連子(b)]+[2連子(e)+(g)])
=C’[2連子(e)+(g)]
(ただし、上の3式においてC’=1/([2連子(a)]+[2連子(b)]+[2連子(e)+(g)])である)
d2=[2連子(c)]/([2連子(c)]+[2連子(d)]+[2連子(f)+(h)])
=D’[2連子(c)]
d3=[2連子(d)]/([2連子(c)]+[2連子(d)]+[2連子(f)+(h)])
=D’[2連子(d)]
d5_7=[2連子(f)+(h)]/([2連子(c)]+[2連子(d)]+[2連子(f)+(h)])
=D’[2連子(f)+(h)]
(ただし、上の3式においてD’=1/([2連子(c)]+[2連子(d)]+[2連子(f)+(h)])である)
と置き換えることができるから、前述の式(A2−6)に代入すると、式(A2−6)はc1、c2、c4_6、d2、d3、d5_7とC、Dを用いて、
NB =(c1/C’+c2/C’+c4_6/C’+d2/D’+d3/D’
+d5_7/D’)/(c4_6/C’+d5_7/D’)
={c1+c2+c4_6+(d2+d3+d5_7)・C’/D’}
/(c4_6+d5_7・C’/D’)
......式(A2−7)
で表せる。
[2連子(b)]=[2連子(c)]
である。本式はc2、d2とC’、D’を用いて、
c2/C’=d2/D’
と書き換えられるから、本式を変形して、
C’/D’=c2/d2
......式(A2−8)
式(A2−7)と式(A2−8)より、
NB = {d2(d1+d2+d4_6)+c2(d2+d3+d5_7)}
/(d2・c4_6+c2・d5_7)
......式(A2−9)
が得られる。
<高分子化合物18の合成>
実施例6の<高分子化合物10の合成>において化合物B 1400.0 mg (2.17mmol)、化合物A 72.1 mg (0.12mmol)、化合物G 83.4 mg (0.12mmol)を用いる代わりに、化合物B 1050.0 mg (1.63mmol)、化合物D 15.8 mg (0.02mmol)、化合物H 17.8 mg (0.02mmol)、化合物I 10.1mg(0.02mmol)、化合物J 12.1mg(0.02mmol)を用いて同様の処方により、上記(繰り返し単位A)と上記(繰り返し単位C)と上記(繰り返し単位D)からなる重合体(以後、高分子化合物18と呼ぶ)を得た。SEC条件1によるポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量は、それぞれMn=65000、Mw=457000であった。
高分子化合物18につき高分子化合物17と同様にHMQCスペクトルの測定を行い、高分子化合物17と同じ範囲を積分することにより積分強度を求めた。さらに高分子化合物17と同様な計算により2連子(a)、2連子(b)及び2連子(e)+(g)の比率、及び2連子(c)と2連子(d)及び2連子(f)+(h)の比率を求めた結果を表21に示す。
上の結果をもとに、高分子化合物17と同様な計算により2連子(a)、2連子(b)(又は2連子(c))、及び2連子(d)の比率を求めたところ2:98:0であることがわかった。以上のことから、高分子化合物18において、(繰り返し単位A)どうしの間で形成された全結合数に対する頭と尾の間で形成された結合数の割合が98%であることがわかった。
高分子化合物18における(繰り返し単位A)の平均連結数は、高分子化合物17における(繰り返し単位A)の平均連結数と同様に、式(A2−9)を用いて表22の値から計算すると、12であった。
<高分子化合物17による発光素子の作成>
(溶液の調製)
比較例11で得た高分子化合物17を濃度1.0重量%の比率でキシレンに溶解した。
(EL素子の作製)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(Bayer製、BaytronP AI4083(商品名))の懸濁液を0.2μmメンブランフィルターで濾過した液を用いて、スピンコートにより70nmの厚みで薄膜を形成し、ホットプレート上で200℃、10分間乾燥した。次に、上記で得た高分子化合物17のキシレン溶液を用いて、スピンコートにより2500rpmの回転速度で成膜した。成膜後の膜厚は約101nmであった。さらに、これを酸素濃度及び水分濃度が10ppm以下の窒素雰囲気下で90℃1時間乾燥した後、フッ化リチウムを約4nm蒸着し、陰極としてカルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着してEL素子を作製した。なお真空度が1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
(EL素子の性能)
得られた素子に電圧を印加することにより、この素子から470nmにピークを有するEL発光が得られた。100cd/m2時におけるEL発光色をC.I.E.色座標値で示すとx=0.15、y=0.25であった。EL発光の強度は電流密度にほぼ比例していた。また1cd/m2到達時の電圧は5.4Vであり、最大発光効率は2.74cd/Aであった。
(素子駆動前後のスペクトルの変化)
上記で得られたEL素子を50mA/cm2の定電流で駆動し、5時間後のELスペクトルを測定したところ、550nm及び590nmにショルダーピークを観測した。それぞれの発光強度を470nmのピーク強度で規格化し、550nm及び590nmの発光強度の増加率を求めたところ、550nmの発光強度は8.6%、590nmの発光強度は5.3%の増加があった。
<高分子化合物18による発光素子の作成>
(溶液の調製)
実施例12で得た高分子化合物18をポリマー濃度1.0重量%の比率でキシレンに溶解した。
(EL素子の作製)
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(Bayer製、BaytronP AI4083)の懸濁液を0.2μmメンブランフィルターで濾過した液を用いて、スピンコートにより70nmの厚みで薄膜を形成し、ホットプレート上で200℃、10分間乾燥した。次に、上記で得た高分子化合物18のキシレン溶液を用いて、スピンコートにより2500rpmの回転速度で成膜した。成膜後の膜厚は約111nmであった。さらに、これを酸素濃度及び水分濃度が10ppm以下の窒素雰囲気下で90℃1時間乾燥した後、フッ化リチウムを約4nm蒸着し、陰極としてカルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着してEL素子を作製した。なお真空度が1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
(EL素子の性能)
得られた素子に電圧を印加することにより、この素子から470nmにピークを有するEL発光が得られた。100cd/m2時におけるEL発光色をC.I.E.色座標値で示すとx=0.15、y=0.28であった。EL発光の強度は電流密度にほぼ比例していた。また1cd/m2到達時の電圧は5.8Vであり、最大発光効率は2.74cd/Aであった。
(素子駆動前後のスペクトルの変化)
上記で得られたEL素子を50mA/cm2の定電流で駆動し、5時間後のELスペクトルを測定したところ、550nm及び590nmにショルダーピークはほとんど観測されなかった。それぞれの発光強度を475nmのピーク強度で規格化し、550nm及び590nmの発光強度の増加率を求めたところ、550nmの発光強度は0.1%、590nmの発光強度は0.7%の増加があった。
以上のように、比較例12に比べ、本願発明にかかる高分子化合物は、駆動後のELスペクトル変化が少なく、化学的安定性に優れるものである。
<置換基の安定性試験>
200mL四つ口フラスコに、n−ブチルベンゼン102.1mg(0.76mmol)、n−ブチルオキシベンゼン115.9mg(0.77mmol)、n−ブチルオキシメチルベンゼン124.8mg(0.76mmol)、及び安息香酸ベンジル162.6mg(0.77mmol)を加え、フラスコ内をアルゴンガスで置換した。次いで、テトラヒドロフラン42mL、1.0規定水素化アルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液15mL(15mmol)、及び内部標準物質であるn−オクチルベンゼン102.1mgを加えた。70℃に昇温して10時間攪拌し、さらに1.0規定水素化アルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液15mL(15mmol)を加え70℃で8時間攪拌した後、高速液体クロマトグラフィーにより各化合物の残存率(仕込み量に対して分解しなかった量の割合)を測定したところ、表22のような結果を得た。
上記の結果より、アルコキシメチル基、及びアシルオキシメチル基は還元雰囲気下で容易に分解してしまい、本発明におけるポリアリーレンの置換基としては好ましくないことが判明した。
Claims (29)
- 下記式(1)で表される繰り返し単位のみからなる連鎖を含み、該連鎖を形成する繰り返し単位の数の平均値が3以上であり、該繰り返し単位どうしの間で形成された全結合のうち、頭と尾の間で形成された結合の割合が85%以上であることを特徴とする高分子化合物。
(ここで、式(1)においてAr1は2価の芳香族基であり、芳香環は芳香族炭化水素環である。R1はAr1上の置換基を表し、それぞれ独立に、炭化水素基、炭化水素オキシ基、炭化水素チオ基、トリアルキルシリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アシル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭化水素オキシカルボニル基、アミノ基、アミノカルボニル基、イミドイル基、アゾ基、アシルオキシ基、ホスホン酸基又はスルホン酸基を表す。nは0から30の整数を表す。nが2以上の整数を表す場合には、複数あるR1は同一であっても異なっていてもよい。式(1)で表される繰り返し単位を2価の基としてIUPAC有機化学命名法により炭素原子の番号を付けたとき、遊離原子価が出ている2つの炭素原子のうち、該番号の小さい炭素原子を頭、該番号の大きい炭素原子を尾とする。式(1)で表される繰り返し単位は、頭と尾を結ぶ直線の中点において該直線と直交する2回対称軸をいかなる場合も持たない。) - 前記Ar1が、芳香環を1つ以上含む縮合環から芳香環の炭素原子に結合している水素原子を2個取り除いた残りの原子団である請求項1に記載の高分子化合物。
- 前記式(1)で表される繰り返し単位のみからなる連鎖を含み、該連鎖を形成する繰り返し単位の数の平均値が5以上である請求項1又は2に記載の高分子化合物。
- 前記式(1)で表される繰り返し単位1種類のみからなる請求項1〜3のいずれか一項に記載の高分子化合物。
- 前記式(1)で表される繰り返し単位1種類と、下記式(5)、(6)、(7)又は(8)で表される繰り返し単位1種類以上とを含んでなる請求項1〜3のいずれか一項に記載の高分子化合物。
(式中、Ar2、Ar3、Ar4及びAr5はそれぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基又は金属錯体構造を有する2価の基を示す。X1、X2及びX3はそれぞれ独立に、−CRa=CRb−、−C≡C−、−N(Rc)−、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、又は−(SiRdRe)q−を示す。Ra及びRbは、それぞれ独立に、水素原子、1価の炭化水素基、1価の複素環基、カルボキシル基、炭化水素オキシカルボニル基、又はシアノ基を示す。Rc、Rd及びReは、それぞれ独立に、水素原子、1価の炭化水素基、1価の複素環基を示す。pは1又は2を示す。qは1〜12の整数を示す。Ra、Rb、Rc、Rd及びReがそれぞれ複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。) - 前記式(1)で表される繰り返し単位1種類と、前記式(5)又は(6)で表される繰り返し単位1種類以上10種類以下とを含んでなる請求項5に記載の高分子化合物。
- 前記式(1)で表される繰り返し単位どうしの間で形成された全結合のうち、頭と尾の間で形成された結合の割合が90%以上である請求項1〜6のいずれか一項に記載の高分子化合物。
- 前記式(1)で表される繰り返し単位どうしの間で形成された全結合のうち、頭と尾の間で形成された結合の割合が95%以上である請求項1〜7のいずれか一項に記載の高分子化合物。
- 下記式(A)で示される化合物を原料の一つとして縮合重合することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の高分子化合物の製造方法。
(式(A)においてAr1、R1、及びnは前記式(1)におけるAr1、R1、及びnと同じ意味を表す。
式(A)においてY1はそれぞれ独立にハロゲン原子、式(B)で表されるスルホネート基、又はメトキシ基を表す。式(A)においてY2はホウ酸エステル基、ホウ酸基、式(C)で表される基、式(D)で表される基、又は式(E)で表される基を表す。)
(式(B)においてR7は置換されていてもよい炭化水素基を表す。)
(式(C)においてXAは、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子からなる群から選ばれるハロゲン原子を表す。)
(式(D)においてXAは、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子からなる群から選ばれるハロゲン原子を表す。)
(式(E)においてR8は置換されていてもよい炭化水素基を表す。複数存在するR8は同一でも異なっていてもよい。) - 正孔輸送材料、電子輸送材料及び発光材料からなる群から選ばれる少なくとも1種類の材料と、請求項1〜8のいずれか一項に記載の高分子化合物とを含有することを特徴とする高分子組成物。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の高分子化合物を含有することを特徴とする溶液。
- 請求項10に記載の高分子組成物を含有することを特徴とする溶液。
- 2種類以上の有機溶媒を含有する請求項11又は12に記載の溶液。
- 25℃において1〜20mPa・sの粘度を有する請求項11〜13のいずれか一項に記載の溶液。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の高分子化合物、又は請求項10に記載の高分子組成物を含有する発光性薄膜。
- 蛍光の量子収率が50%以上である請求項15記載の発光性薄膜。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の高分子化合物、又は請求項10に記載の高分子組成物を含有する導電性薄膜。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の高分子化合物、又は請求項10に記載の高分子組成物を含有する有機半導体薄膜。
- 請求項18に記載の有機半導体薄膜を有することを特徴とする有機トランジスタ。
- インクジェット法を用いることを特徴とする請求項15〜18のいずれか一項に記載の薄膜の製膜方法。
- 陽極及び陰極からなる電極間に、有機層を有し、該有機層が請求項1〜8のいずれか一項に記載の高分子化合物、又は請求項10に記載の高分子組成物を含むことを特徴とする高分子発光素子。
- 前記有機層が発光層である請求項21に記載の高分子発光素子。
- 前記発光層がさらに正孔輸送材料、電子輸送材料又は発光材料を含む請求項22に記載の高分子発光素子。
- 陽極及び陰極からなる電極間に、発光層と電荷輸送層とを有し、該電荷輸送層が請求項1〜8のいずれか一項に記載の高分子化合物、又は請求項10に記載の高分子組成物を含む請求項21に記載の高分子発光素子。
- 陽極及び陰極からなる電極間に、発光層と電荷輸送層とを有し、該電荷輸送層と電極との間に電荷注入層を有し、該電荷注入層が請求項1〜8のいずれか一項に記載の高分子化合物、又は請求項10に記載の高分子組成物を含む請求項21に記載の高分子発光素子。
- 請求項21〜25のいずれか一項に記載の高分子発光素子を用いたことを特徴とする面状光源。
- 請求項21〜25のいずれか一項に記載の高分子発光素子を用いたことを特徴とするセグメント表示装置。
- 請求項21〜25のいずれか一項に記載の高分子発光素子を用いたことを特徴とするドットマトリックス表示装置。
- 請求項21〜25のいずれか一項に記載の高分子発光素子をバックライトとすることを特徴とする液晶表示装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008231047A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Tosoh Corp | 有機化合物およびその用途 |
WO2012015071A1 (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-02 | 住友化学株式会社 | 高分子電解質、高分子電解質膜およびポリアリーレン系化合物 |
WO2012015072A1 (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-02 | 住友化学株式会社 | 高分子電解質組成物、高分子電解質および含硫黄複素環芳香族化合物 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004168999A (ja) * | 2002-10-30 | 2004-06-17 | Sumitomo Chem Co Ltd | 高分子化合物およびそれを用いた高分子発光素子 |
WO2004061048A1 (en) * | 2002-12-31 | 2004-07-22 | Eastman Kodak Company | Complex fluorene-containing compounds and electroluminescent devices |
-
2006
- 2006-06-09 JP JP2006160696A patent/JP5457619B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004168999A (ja) * | 2002-10-30 | 2004-06-17 | Sumitomo Chem Co Ltd | 高分子化合物およびそれを用いた高分子発光素子 |
WO2004061048A1 (en) * | 2002-12-31 | 2004-07-22 | Eastman Kodak Company | Complex fluorene-containing compounds and electroluminescent devices |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
JPN6011061162; JOHANSSON,D.M. et al: 'Synthesis and Characterization of Polyfluorenes with Light-Emitting Segments' Macromolecules Vol.34, No.6, 2001, p.1981-1986 * |
JPN6011061163; ANTON,U. et al: 'Polyarylenes and poly(arylenevinylenes). 12. Synthesis and chemical modification of two novel poly' Macromolecules Vol.26, No.6, 1993, p.1248-53 * |
JPN6011061164; PUNNA,S. et al: 'Palladium-catalyzed homocoupling of arylboronic acids and esters using fluoride in aqueous solvents' Synlett No.13, 2004, p.2351-2354 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008231047A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Tosoh Corp | 有機化合物およびその用途 |
WO2012015071A1 (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-02 | 住友化学株式会社 | 高分子電解質、高分子電解質膜およびポリアリーレン系化合物 |
WO2012015072A1 (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-02 | 住友化学株式会社 | 高分子電解質組成物、高分子電解質および含硫黄複素環芳香族化合物 |
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