JP2007004082A - 着色層の形成方法、撮像装置の製造方法、表示装置の製造方法、撮像装置および表示装置 - Google Patents
着色層の形成方法、撮像装置の製造方法、表示装置の製造方法、撮像装置および表示装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 カラーフィルタとなる色素を含有するフォトレジスト層10の下層にアライメントマーク6aを遮光膜6の形成時に形成し、そのフォトレジスト層10の露光時に光照射によりアライメントマーク6aを検出してアライメントを行なう着色層(カラーフィルタ)の形成方法において、アライメントマーク検出時に使用される光の波長が、フォトレジスト層10に含有された色素によって吸収される波長である場合に、アライメントマーク6aの形成領域上のフォトレジスト層10を選択的に除去した後に、上部に露出されたアライメントマーク6aを用いた明確なアライメントによりフォトレジスト層10の露光を行って所望のカラーフィルタ形状に加工する。
【選択図】 図1
Description
上記第1フォトレジスト層と第2フォトレジスト層の上下の各フォトレジスト層間に難溶化層を形成するか、または透明緩衝層を形成することによって、上層レジスト層の塗布時に下層レジスト層の再溶解および反応層形成を防止して、互いのレジストの干渉を抑えることが可能となる。
2 受光部
3 電荷転送部
4a,4b 層間絶縁膜
5 転送電極
6 遮光膜
6a アライメントマーク
7 第1透明平坦化層
8 表面保護層
9 第2透明平坦化膜
10 第1フォトレジスト層
11 緩衝層
12 第2フォトレジスト層
20 固体撮像装置
Claims (16)
- 色素を含有する着色層のフォトレジスト層の下側層としてアライメントマークを形成し、該フォトレジスト層の露光時に光照射により該アライメントマークを検出してアライメントを行う着色層の形成方法であって、
該アライメントマークの形成領域上のフォトレジスト層を選択的に除去するフォトレジスト除去工程と、
露出した該アライメントマークを用いたアライメントにより該フォトレジスト層を所定形状に形成する着色層形成工程とを有する着色層の形成方法。 - 前記アライメントマークの検出時に使用される光の波長が、前記フォトレジスト層に含有された色素によって吸収される光の波長である請求項1に記載の着色層の形成方法。
- 前記フォトレジスト層を第1フォトレジスト層とし、該第1フォトレジスト層上に、該第1フォトレジスト層とは極性および感光波長領域が異なる第2フォトレジスト層を成膜する工程をさらに有し、
前記フォトレジスト除去工程は、該第2フォトレジスト層の感光波長領域で前記アライメントマークの形成領域上の第2フォトレジスト層を選択的に露光して現像することにより該アライメントマークの形成領域上の該第1フォトレジスト層および該第2フォトレジスト層を選択的に除去し、
前記着色層形成工程は、前記露出したアライメントマークを用いたアライメントにより該第1フォトレジスト層の露光を行い、残った第2フォトレジスト層を除去した後に、現像を行なうことにより該第1フォトレジスト層を所定形状に形成する請求項1または2に記載の着色層の形成方法。 - 前記第1フォトレジスト層はネガ型およびポジ型の一方であり、前記第2フォトレジスト層は他方である請求項3に記載の着色層の形成方法。
- 前記フォトレジスト除去工程では、前記第2フォトレジスト層をKrFエキシマレーザまたはArFエキシマレーザによって感光させる請求項3または4に記載の着色層の形成方法。
- 前記着色層形成工程では、前記第1フォトレジスト層をi線、h線またはg線によって感光させる請求項3または4に記載の着色層の形成方法。
- 前記第1フォトレジスト層および前記第2フォトレジスト層の上下の各フォトレジスト層の溶剤による再溶解を防止するために、該第1フォトレジスト層上に難溶化層を形成し、その上に該第2フォトレジスト層を形成する請求項3に記載の着色層の形成方法。
- 前記第1フォトレジスト層および前記第2フォトレジスト層の上下の各フォトレジスト層の溶剤による再溶解を防止するために、該第1フォトレジスト層上に緩衝層を形成し、その上に該第2フォトレジスト層を形成する請求項3に記載の着色層の形成方法。
- 前記難溶化層は、前記第1フォトレジスト層表面への一括露光により形成する請求項7に記載の着色層の形成方法。
- 前記緩衝層は、PVA(ポリビニルアルコール)またはTARC(表面反射防止膜)を用いる請求項8に記載の着色層の形成方法。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の着色層の形成方法によって、撮像素子の各受光部上にカラーフィルタの着色層を形成する撮像装置の製造方法。
- 前記撮像素子の各受光部上を開口する遮光膜の形成時に該遮光膜により前記アライメントマークを形成する工程を有する請求項11に記載の撮像装置の製造方法。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の着色層の形成方法によって、表示素子の各画素部上にカラーフィルタの着色層を形成する表示装置の製造方法。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の着色層の形成方法によって、表示素子の各画素部間上に遮光膜の着色層を形成する表示装置の製造方法。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の着色層の形成方法によって、撮像素子の各受光部上にカラーフィルタの着色層が形成されている撮像装置。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の着色層の形成方法によって、表示素子の各画素部上にカラーフィルタの着色層が形成されている表示装置。
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