JP2007003528A - 超小型電子機構の所望寸法を測定するのに用いられる計測ツールにおける障害を識別する方法、該寸法を測定するのに用いられる計測ツールシステムにおける障害を識別する方法、及び、該システムにおける障害を識別するコンピュータプログラム(計測ツールエラーログ解析方法及びシステム) - Google Patents
超小型電子機構の所望寸法を測定するのに用いられる計測ツールにおける障害を識別する方法、該寸法を測定するのに用いられる計測ツールシステムにおける障害を識別する方法、及び、該システムにおける障害を識別するコンピュータプログラム(計測ツールエラーログ解析方法及びシステム) Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007003528A JP2007003528A JP2006173043A JP2006173043A JP2007003528A JP 2007003528 A JP2007003528 A JP 2007003528A JP 2006173043 A JP2006173043 A JP 2006173043A JP 2006173043 A JP2006173043 A JP 2006173043A JP 2007003528 A JP2007003528 A JP 2007003528A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recipe
- error
- metrology tool
- recipes
- errors
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS], computer integrated manufacturing [CIM]
- G05B19/41875—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS], computer integrated manufacturing [CIM] characterised by quality surveillance of production
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/32—Operator till task planning
- G05B2219/32222—Fault, defect detection of origin of fault, defect of product
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/45—Nc applications
- G05B2219/45031—Manufacturing semiconductor wafers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Abstract
【解決手段】システムの各計測ツールは超小型電子機構の所望寸法を測定するため、複数のレシピを実行し、各レシピは、超小型電子機構の少なくとも1つの寸法を測定するために一連の命令を含む。システムは、超小型電子機構寸法の測定の際に障害を記憶するエラーログを含む。方法は、計測ツールにより用いられたレシピに対して、正規化された数のエラーを、エラーログに記憶されている障害から決定する工程と、エラーログ内の最大の正規化された数のエラーを有する1つ以上のレシピを識別する工程と、最大の正規化された数のエラーを有する1つ以上の識別されたレシピを、測定ツールにより実行すべきジョブのリストにて識別する工程と、最大の正規化された数のエラーを有する1つ以上の識別されたレシピから1つ以上のレシピのエラーの原因を決定する工程とを含む。
【選択図】図2
Description
22a、22b、22c ウェハ
24a、24b、24c 計測ツール
26 コントローラ
28 マイクロプロセッサ
30 エラーログデータベース
32 システムネットワーク
34 遠隔コンピュータ
Claims (20)
- 超小型電子機構の所望寸法を測定するのに用いられる計測ツールにおける障害を識別する方法であって、
計測ツールが超小型電子機構の所望寸法を測定するため、複数のレシピを実行し、各レシピが、超小型電子機構の少なくとも1つの寸法を測定するために一連の命令を含むステップと、
前記計測ツールに対してエラーログを構成し、前記エラーログが超小型電子機構寸法の測定の際に前記エラーログに障害を記憶するステップと、
前記計測ツールにより用いられた前記レシピに対して、正規化された数のエラーを、前記エラーログに記憶されている前記障害から決定するステップと、
前記エラーログ内の最も大きい正規化された数のエラーを有する1つ以上のレシピを識別するステップと、
前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記1つ以上の識別されたレシピを、前記計測ツールにより実行すべきジョブのリストにおいて識別するステップと、
前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記識別された1つ以上のレシピから、前記1つ以上のレシピの前記エラーの原因を決定するステップと、
前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記1つ以上の識別されたレシピ内に変化をもたらして前記レシピ内の前記エラーを修正するステップと、
変化をもたらした前記1つ以上のレシピを有する計測ツールジョブを追跡して、前記エラーの原因を修正したかを決定するステップとを含む
方法。 - 前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記レシピを識別する前に、前記計測ツールにより用いられたレシピにより前記エラーが引き起こされたかを決定し、レシピにより引き起こされた前記エラーだけを用いて、前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記1つ以上のレシピを識別し、前記レシピ内の前記エラーの前記原因を決定するステップを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エラーログに記憶されている障害を要約し、要約された障害データをデータベースに記憶するステップを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 複数の前記計測ツールが用いられ、各計測ツールが複数のレシピを有し、前記複数の計測ツールに対して前記エラーログが超小型電子機構寸法の測定の際に障害を前記エラーログに記憶し、前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記1つ以上のレシピが識別され、各計測ツールに対して前記レシピ内の前記エラーの前記原因が決定される、請求項1に記載の方法。
- 複数の前記計測ツールが用いられ、各計測ツールが複数のレシピを有し、前記複数の計測ツールに対して前記エラーログが超小型電子機構寸法の測定の際に障害を前記エラーログに記憶し、前記方法が、複数の前記計測ツールにエラーを有する共通のレシピを識別し、共通のレシピ内の前記エラーの前記原因を決定するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エラーログに記憶されている前記計測ツールの障害が、再起動の例を含むハードウェア障害及びソフトウェア障害から成る群から選択された障害を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エラーログに記憶されている障害を要約し、要約された障害データをデータベースに記憶するステップを更に含む、請求項6に記載の方法。
- 前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記レシピを識別する前に、前記計測ツールにより用いられたレシピにより前記エラーが引き起こされたかを決定し、前記エラーが、前記計測ツールにより用いられたレシピにより引き起こされなければ、レシピにより引き起こされなかった前記障害を有する前記計測ツールを修正するステップを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 超小型電子機構の所望寸法を測定するのに用いられる計測ツールシステムにおける障害を識別する方法であって、
複数の計測ツールを有する計測ツールシステムを用い、各計測ツールが超小型電子機構の所望寸法を測定するため、複数のレシピを実行し、各レシピが、超小型電子機構の少なくとも1つの寸法を測定するために一連の命令を含むステップと、
前記計測ツールシステムに対してエラーログを構成し、前記エラーログが各計測ツールに対して超小型電子機構寸法の測定の際に前記エラーログに障害を記憶するステップと、
前記システムの計測ツールにより用いられたレシピにより前記エラーが引き起こされたかを決定するステップと、
前記計測ツールシステムにより用いられた前記レシピに対して、正規化された数のエラーを、レシピにより引き起こされた前記エラーログに記憶されている前記障害から決定するステップと、
前記エラーログ内の最も大きい正規化された数のエラーを有する1つ以上のレシピを識別するステップと、
前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記1つ以上の識別されたレシピを、前記計測ツールシステムにより実行すべきジョブのリストにおいて識別するステップと、
前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記識別された1つ以上のレシピから、前記1つ以上のレシピの前記エラーの原因を決定するステップと、
前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記1つ以上の識別されたレシピ内に変化をもたらして前記レシピ内の前記エラーを修正するステップと、
変化をもたらした前記1つ以上のレシピを有する計測ツールジョブを追跡して、前記エラーの原因を修正したかを決定するステップとを含む
方法。 - 前記エラーログに記憶されている障害を要約し、要約された障害データをデータベースに記憶するステップを更に含む、請求項9に記載の方法。
- 前記エラーログに記憶されている前記計測ツールの障害が、アライメントエラー、パターン認識エラー及び寸法測定エラーから成る群から選択された障害を含む、請求項9に記載の方法。
- 前記システムの複数の前記計測ツールにエラーを有する共通のレシピを識別し、共通のレシピ内の前記エラーの前記原因を決定するステップを含む、請求項9に記載の方法。
- 前記エラーログに記憶されている前記計測ツールの障害が、再起動の例を含むハードウェア障害及びソフトウェア障害から成る群から選択された障害を含む、請求項9に記載の方法。
- 前記エラーログに記憶されている障害を要約し、要約された障害データをデータベースに記憶するステップを更に含む、請求項13に記載の方法。
- 前記エラーが、前記計測ツールシステムにより用いられたレシピにより引き起こされなければ、レシピにより引き起こされなかった前記障害を有する前記計測ツールを修正するステップを更に含む、請求項9に記載の方法。
- 超小型電子機構の所望寸法を測定するのに用いられる計測ツールシステムにおける障害を識別するコンピュータプログラムであって、前記計測ツールシステムが、超小型電子機構の所望寸法を測定するため、複数のレシピを実行するようになっている計測ツールを含み、各レシピが、超小型電子機構の少なくとも1つの寸法を測定するために一連の命令を含み、前記計測ツールが、超小型電子機構寸法の測定の際に障害を記憶するエラーログをデータベース内に有し、
コンピュータに、
前記計測ツールにより用いられた前記レシピに対して、正規化された数のエラーを、前記エラーログに記憶されている前記障害から決定させ、
前記エラーログ内の最も大きい正規化された数のエラーを有する1つ以上のレシピを識別させ、
前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記1つ以上の識別されたレシピを、前記計測ツールにより実行すべきジョブのリストにおいて識別させる
コンピュータプログラム。 - 前記コンピュータプログラムが前記コンピュータ上で実行されると、前記コンピュータプログラムにより前記コンピュータに更に、前記エラーログに記憶されている障害を要約させ、要約された障害データをデータベースに記憶させる、請求項16に記載のコンピュータプログラム。
- 前記計測ツールシステムが複数の前記計測ツールを含み、各計測ツールが複数のレシピを有し、前記複数の計測ツールに対して前記エラーログが超小型電子機構寸法の測定の際に障害を前記エラーログに記憶し、前記最も大きい正規化された数のエラーを有する前記1つ以上のレシピが前記計測ツールに対して識別される、請求項16に記載のコンピュータプログラム。
- 前記エラーログに記憶されている前記計測ツールの障害が、再起動の例を含むハードウェア障害及びソフトウェア障害から成る群から選択された障害を含む、請求項16に記載のコンピュータプログラム。
- 前記コンピュータプログラムが前記コンピュータ上で実行されると、前記コンピュータプログラムにより前記コンピュータに更に、前記エラーログに記憶されている障害を要約させ、要約された障害データをデータベースに記憶させる、請求項19に記載のコンピュータプログラム。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/160,404 US7065425B1 (en) | 2005-06-22 | 2005-06-22 | Metrology tool error log analysis methodology and system |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007003528A true JP2007003528A (ja) | 2007-01-11 |
JP2007003528A5 JP2007003528A5 (ja) | 2009-08-06 |
JP4398441B2 JP4398441B2 (ja) | 2010-01-13 |
Family
ID=36586511
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006173043A Expired - Fee Related JP4398441B2 (ja) | 2005-06-22 | 2006-06-22 | 超小型電子機構の所望寸法を測定するのに用いられる計測ツールにおける障害を識別する方法、及びそのコンピュータプログラム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7065425B1 (ja) |
JP (1) | JP4398441B2 (ja) |
CN (1) | CN100523839C (ja) |
TW (1) | TW200715160A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009087591A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置の制御装置 |
JP2019537788A (ja) * | 2016-10-21 | 2019-12-26 | ケーエルエー コーポレイション | 全測定不確かさの定量化および低減 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7363098B2 (en) * | 2005-12-19 | 2008-04-22 | Tech Semiconductor Singapore Pte Ltd | Method to identify machines causing excursion in semiconductor manufacturing |
US7631286B2 (en) * | 2005-12-30 | 2009-12-08 | Wafertech Llc | Automated metrology recipe generation |
US7305320B2 (en) * | 2006-02-15 | 2007-12-04 | International Business Machines Corporation | Metrology tool recipe validator using best known methods |
US7606681B2 (en) | 2006-11-03 | 2009-10-20 | Air Products And Chemicals, Inc. | System and method for process monitoring |
US7953511B1 (en) * | 2007-09-21 | 2011-05-31 | National Semiconductor Corporation | System and method for reducing processing errors during wafer fabrication employing a 2D wafer scribe and monitoring system |
US10984143B2 (en) * | 2015-01-23 | 2021-04-20 | Hitachi High-Tech Corporation | Recipe creation device for use in semiconductor measurement device or semiconductor inspection device |
JP6339956B2 (ja) * | 2015-03-19 | 2018-06-06 | アズビル株式会社 | 不具合要因特定支援装置および不具合要因特定支援方法 |
WO2021044611A1 (ja) | 2019-09-06 | 2021-03-11 | 株式会社日立ハイテク | レシピ情報提示システム、レシピエラー推定システム |
JP7354421B2 (ja) | 2020-03-31 | 2023-10-02 | 株式会社日立ハイテク | エラー要因の推定装置及び推定方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5914879A (en) * | 1997-03-04 | 1999-06-22 | Advanced Micro Devices | System and method for calculating cluster tool performance metrics using a weighted configuration matrix |
US6470227B1 (en) | 1997-12-02 | 2002-10-22 | Murali D. Rangachari | Method and apparatus for automating a microelectric manufacturing process |
US6456894B1 (en) | 1999-06-01 | 2002-09-24 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing techniques |
US6303395B1 (en) * | 1999-06-01 | 2001-10-16 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing techniques |
US6671570B2 (en) | 2000-10-17 | 2003-12-30 | Brooks Automation, Inc. | System and method for automated monitoring and assessment of fabrication facility |
US6727106B1 (en) * | 2001-07-12 | 2004-04-27 | Advanced Micro Devices, Inc. | System and software for statistical process control in semiconductor manufacturing and method thereof |
US6842659B2 (en) | 2001-08-24 | 2005-01-11 | Applied Materials Inc. | Method and apparatus for providing intra-tool monitoring and control |
US6708075B2 (en) * | 2001-11-16 | 2004-03-16 | Advanced Micro Devices | Method and apparatus for utilizing integrated metrology data as feed-forward data |
DE10240115B4 (de) | 2002-08-30 | 2004-10-28 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | Verfahren und System zum Handhaben von Substraten in einer Produktionslinie mit einer Cluster-Anlage und einer Messanlage |
US7684887B2 (en) | 2003-04-30 | 2010-03-23 | Infineon Technologies Ag | Advanced process control method and advanced process control system for acquiring production data in a chip production installation |
US20050010319A1 (en) | 2003-07-09 | 2005-01-13 | Sukesh Patel | System and method for validating and visualizing APC assisted semiconductor manufacturing processes |
US20050052197A1 (en) | 2003-07-14 | 2005-03-10 | Cory Watkins | Multi-tool manager |
US7257454B2 (en) * | 2003-11-21 | 2007-08-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Dynamically adjusting the distribution for dispatching lot between current and downstream tool by using expertise weighting mechanism |
US6999848B2 (en) | 2003-12-19 | 2006-02-14 | Intel Corporation | Process control apparatus, systems, and methods |
TWI236044B (en) * | 2004-05-12 | 2005-07-11 | Powerchip Semiconductor Corp | System and method for real-time dispatching batch in manufacturing process |
-
2005
- 2005-06-22 US US11/160,404 patent/US7065425B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-04-19 US US11/407,543 patent/US7187993B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-06-21 CN CNB2006100946057A patent/CN100523839C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-06-22 TW TW095122514A patent/TW200715160A/zh unknown
- 2006-06-22 JP JP2006173043A patent/JP4398441B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009087591A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置の制御装置 |
JP2019537788A (ja) * | 2016-10-21 | 2019-12-26 | ケーエルエー コーポレイション | 全測定不確かさの定量化および低減 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1885049A (zh) | 2006-12-27 |
TW200715160A (en) | 2007-04-16 |
CN100523839C (zh) | 2009-08-05 |
JP4398441B2 (ja) | 2010-01-13 |
US7065425B1 (en) | 2006-06-20 |
US7187993B2 (en) | 2007-03-06 |
US20060293778A1 (en) | 2006-12-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4398441B2 (ja) | 超小型電子機構の所望寸法を測定するのに用いられる計測ツールにおける障害を識別する方法、及びそのコンピュータプログラム | |
US10754309B2 (en) | Auto defect screening using adaptive machine learning in semiconductor device manufacturing flow | |
TWI808815B (zh) | 半導體製作製程控制之系統及方法,以及電腦程式產品 | |
US11714357B2 (en) | Method to predict yield of a device manufacturing process | |
US10672588B1 (en) | Using deep learning based defect detection and classification schemes for pixel level image quantification | |
KR102568074B1 (ko) | 반도체 제조 프로세스에서 딥 러닝을 사용하여 결함 및 임계 치수를 예측하기 위한 시스템 및 방법 | |
KR102149866B1 (ko) | 리소그래피 시스템들과 같은 시스템들을 모델링하거나 시스템들의 예측 유지보수를 수행하는 방법들, 및 연계된 리소그래피 시스템들. | |
TWI642124B (zh) | 用於混合模式之晶圓檢測的方法及系統 | |
JP5425779B2 (ja) | 実際の欠陥が潜在的にシステム的な欠陥であるか、または潜在的にランダムな欠陥であるかを判断する、コンピューターに実装された方法 | |
US7310585B2 (en) | Method of inspecting integrated circuits during fabrication | |
TWI617816B (zh) | 晶圓的可適性電性測試 | |
JP2004145152A (ja) | マスク欠陥検査方法、マスク製作方法及び半導体集積回路の製造方法 | |
CN111051988B (zh) | 设计关键性分析扩充的工艺窗合格取样 | |
JP2006302952A (ja) | パターン計測システムおよび半導体装置の製造方法 | |
US20080126014A1 (en) | Statistical method and automated system for detection of particulate matter on wafer processing chucks | |
WO2021197730A1 (en) | Method for determining an inspection strategy for a group of substrates in a semiconductor manufacturing process | |
Solecky | Metrology tool fleet management: a comprehensive discussion of requirements and solutions | |
US20180342429A1 (en) | Method for assessing the usability of an exposed and developed semiconductor wafer | |
EP3910417A1 (en) | Method for determining an inspection strategy for a group of substrates in a semiconductor manufacturing process | |
JP2012175080A (ja) | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090220 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090529 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090529 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20090529 |
|
RD12 | Notification of acceptance of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7432 Effective date: 20090529 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090529 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20090630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090708 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090709 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090709 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090819 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090819 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091014 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20091014 |
|
RD14 | Notification of resignation of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7434 Effective date: 20091014 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091022 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131030 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |