JP2007002187A - Thermosetting resin composition, and prepreg, substrate and conductive foil-clad substrate, using the same - Google Patents

Thermosetting resin composition, and prepreg, substrate and conductive foil-clad substrate, using the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermosetting resin composition having excellent dielectric characteristics in a high frequency region, heat resistance and mechanical strength, and usable for forming a substrate having sufficient flame retardancy. <P>SOLUTION: The thermosetting resin composition comprises a vinyl benzyl ether compound represented by general formula (1) [wherein, R<SP>1</SP>is a methyl group or an ethyl group; R<SP>2</SP>is a hydrogen atom or a 1-10C hydrocarbon group; and n is an integer of 2-6], an aromatic phosphoric acid ester, a benzoxazine compound regulated so that the content of the aromatic phosphoric acid ester is 50-80 pts.mass, and the content of the benzoxazine compound is 5-40 pts.mass based on 100 pts.mass of the vinyl benzyl ether. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、熱硬化性樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、基板及び導体箔付き基板に関し、より詳しくは、高周波領域での使用に好適な難燃性の基板に用いられる熱硬化性樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、基板及び導体箔付き基板に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition, a prepreg using the same, a substrate and a substrate with a conductive foil, and more specifically, a thermosetting resin composition used for a flame-retardant substrate suitable for use in a high-frequency region. The present invention relates to an object, a prepreg using the same, a substrate, and a substrate with a conductive foil.

近年、通信用、民生用、産業用等の電子機器の分野における実装方法の小型化、高密度化への傾向は著しいものがあり、それに伴って材料の面でもより優れた耐熱性、難燃性、寸法安定性、電気特性が要求されつつある。   In recent years, there has been a marked trend toward smaller and higher-density mounting methods in the field of electronic equipment for communications, consumer use, industrial use, etc. , Dimensional stability and electrical characteristics are being demanded.

例えば、プリント配線基板としては、従来からフェノール樹脂やエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を基材とした銅張り積層板が用いられてきた。しかし、これらは各種の性能をバランスよく有するものの、電気特性、特に高周波領域での誘電特性が悪いという課題を有している。   For example, as a printed wiring board, a copper-clad laminate based on a thermosetting resin such as a phenol resin or an epoxy resin has been conventionally used. However, these have various performances in a well-balanced manner, but have the problem of poor electrical characteristics, particularly dielectric characteristics in a high frequency region.

この課題を改善する材料として、例えば、下記特許文献1に記載されているポリビニルベンジルエーテル化合物が提案されている。このポリビニルベンジルエーテル化合物は、優れた電気特性、耐熱性、信頼性を有するとともに、各種材料との接着性に優れるという特徴を有しており、これを熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、銅張り積層板等に応用する試みがなされている。
特開平9−31006号公報
As a material for improving this problem, for example, a polyvinyl benzyl ether compound described in Patent Document 1 below has been proposed. This polyvinyl benzyl ether compound has excellent electrical properties, heat resistance, reliability, and excellent adhesion to various materials, and is characterized by its thermosetting resin composition, prepreg, copper-clad Attempts have been made to apply it to laminates and the like.
JP-A-9-31006

しかしながら、ポリビニルベンジルエーテル化合物は、可燃性材料であり、多層基板や電子部品などに適用した場合の安全性の問題が指摘されている。そのため、ポリビニルベンジルエーテル化合物を用いた基板に難燃性を付与するためには、難燃剤を多量に添加する必要がある。しかし、難燃剤を多量に添加すると、誘電特性、耐熱性、機械的強度等の物性が著しく低下してしまうという問題が生じる。   However, polyvinyl benzyl ether compounds are flammable materials, and safety problems have been pointed out when applied to multilayer substrates and electronic components. For this reason, in order to impart flame retardancy to a substrate using a polyvinyl benzyl ether compound, it is necessary to add a large amount of a flame retardant. However, when a large amount of flame retardant is added, there arises a problem that physical properties such as dielectric properties, heat resistance and mechanical strength are remarkably lowered.

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、高周波領域での誘電特性、耐熱性、及び機械的強度に優れるとともに、十分な難燃性を有する基板を形成するための熱硬化性樹脂組成物、並びに、それを用いたプリプレグ、基板及び導体箔付き基板を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and is for forming a substrate having excellent dielectric properties, heat resistance, and mechanical strength in a high-frequency region and having sufficient flame retardancy. It aims at providing a thermosetting resin composition, a prepreg using the same, a board | substrate, and a board | substrate with conductor foil.

上記目的を達成するために、本発明は、下記一般式(1)で表わされるビニルベンジルエーテル化合物と、芳香族リン酸エステルと、ベンゾオキサジン化合物と、を含み、上記ビニルベンジルエーテル化合物100質量部に対して、上記芳香族リン酸エステルの含有量が50〜80質量部であり、上記ベンゾオキサジン化合物の含有量が5〜40質量部であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物を提供する。

Figure 2007002187


[式中、Rはメチル基又はエチル基を示し、Rは水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基を示し、nは2〜6の整数を示す。] In order to achieve the above object, the present invention includes a vinyl benzyl ether compound represented by the following general formula (1), an aromatic phosphate ester, and a benzoxazine compound, and 100 parts by mass of the vinyl benzyl ether compound. The thermosetting resin composition is characterized in that the content of the aromatic phosphate is 50 to 80 parts by mass and the content of the benzoxazine compound is 5 to 40 parts by mass. To do.
Figure 2007002187


[Wherein, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 6. ]

かかる熱硬化性樹脂組成物においては、熱硬化性樹脂としてビニルベンジルエーテル化合物を用いることにより、基板を形成した際に、高周波領域(例えば1GHz以上)での優れた誘電特性、高い耐熱性、及び、高い機械的強度を得ることができる。また、上記ビニルベンジルエーテル化合物を用いた熱硬化性樹脂組成物において、難燃剤として芳香族リン酸エステルを上記範囲の量で用いることにより、この芳香族リン酸エステルが優れた耐加水分解性を有していることから、基板を形成した際に、上記ビニルベンジルエーテル化合物による優れた誘電特性を損なうことなく、優れた難燃性を得ることができる。更に、上記芳香族リン酸エステルとともに、ベンゾオキサジン化合物を上記範囲の量で用いることにより、上記芳香族リン酸エステルの添加による耐熱性、機械的強度及び銅箔密着力等の物性の低下を抑制することができ、これらの物性と難燃性とを両立させることができる。その結果、本発明の熱硬化性樹脂組成物によれば、基板を形成した際に、難燃性、高周波領域での誘電特性、耐熱性及び機械的強度の全てを高水準で達成することができる。   In such a thermosetting resin composition, when a substrate is formed by using a vinyl benzyl ether compound as a thermosetting resin, excellent dielectric properties in a high frequency region (for example, 1 GHz or more), high heat resistance, and High mechanical strength can be obtained. Further, in the thermosetting resin composition using the vinyl benzyl ether compound, the aromatic phosphate ester has excellent hydrolysis resistance by using the aromatic phosphate ester in the above range as a flame retardant. Therefore, when the substrate is formed, excellent flame retardancy can be obtained without impairing the excellent dielectric properties of the vinyl benzyl ether compound. Furthermore, by using the benzoxazine compound in an amount within the above range together with the aromatic phosphate ester, the deterioration of physical properties such as heat resistance, mechanical strength and copper foil adhesion due to the addition of the aromatic phosphate ester is suppressed. It is possible to achieve both of these physical properties and flame retardancy. As a result, according to the thermosetting resin composition of the present invention, when the substrate is formed, all of flame retardancy, dielectric properties in the high frequency region, heat resistance and mechanical strength can be achieved at a high level. it can.

更に、上記熱硬化性樹脂組成物によれば、優れた耐溶剤性及び銅箔密着性を有する基板を形成することができるとともに、ハロゲンを含まない難燃剤を用いていることで、環境への負荷を低減することができる。   Furthermore, according to the said thermosetting resin composition, while being able to form the board | substrate which has the outstanding solvent resistance and copper foil adhesiveness, by using the flame retardant which does not contain a halogen, it is environmental. The load can be reduced.

また、本発明の熱硬化性樹脂組成物において、上記芳香族リン酸エステルは、下記一般式(2)で表わされるものであることが好ましい。

Figure 2007002187


[式中、Qは芳香環を有する2価の有機基又は炭素数2〜14の2価の脂肪族炭化水素基を示し、R、R、R及びRは各々独立に水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を示し、kは1以上の整数を示し、m、m、m及びmは各々独立に1〜3の整数を示す。] Moreover, in the thermosetting resin composition of this invention, it is preferable that the said aromatic phosphate ester is what is represented by following General formula (2).
Figure 2007002187


[Wherein Q represents a divalent organic group having an aromatic ring or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 2 to 14 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom. Alternatively, it represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, k represents an integer of 1 or more, and m 1 , m 2 , m 3 and m 4 each independently represents an integer of 1 to 3. ]

かかる芳香族リン酸エステルを用いることにより、上記熱硬化性樹脂組成物は、高周波領域での誘電特性と難燃性とがより高水準で達成された基板を形成することができる。   By using such an aromatic phosphate ester, the thermosetting resin composition can form a substrate that achieves a higher level of dielectric properties and flame retardancy in the high frequency region.

また、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、2GHz以上の高周波帯域における誘電正接が0.003以下である無機フィラーを更に含有することが好ましい。   Moreover, it is preferable that the thermosetting resin composition of this invention further contains the inorganic filler whose dielectric loss tangent in the high frequency band of 2 GHz or more is 0.003 or less.

熱硬化性樹脂組成物に上記無機フィラーを添加することにより、形成される基板の誘電特性を向上させることができ、特に誘電正接を低下させることができる。また、熱硬化性樹脂組成物の流動性を制御することができるとともに、形成される基板の熱膨張係数を低下させることができる。   By adding the inorganic filler to the thermosetting resin composition, the dielectric properties of the substrate to be formed can be improved, and in particular, the dielectric loss tangent can be reduced. Moreover, while being able to control the fluidity | liquidity of a thermosetting resin composition, the thermal expansion coefficient of the board | substrate formed can be reduced.

なお、上記効果をより十分に得る観点から、上記無機フィラーの含有量は、熱硬化性樹脂組成物中の固形分全体積を基準として10〜50体積%であることが好ましい。   In addition, it is preferable that content of the said inorganic filler is 10-50 volume% on the basis of the solid content whole volume in a thermosetting resin composition from a viewpoint of acquiring the said effect more fully.

また、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、ラジカル重合開始剤を更に含有することが好ましい。   Moreover, it is preferable that the thermosetting resin composition of this invention further contains a radical polymerization initiator.

ラジカル重合開始剤を熱硬化性樹脂組成物に添加することにより、ビニルベンジルエーテル化合物の硬化(架橋反応)を促進し、形成される基板の耐溶剤性、耐熱性及び機械的強度を向上させることができる。   By adding a radical polymerization initiator to the thermosetting resin composition, it accelerates the curing (crosslinking reaction) of the vinyl benzyl ether compound and improves the solvent resistance, heat resistance and mechanical strength of the substrate to be formed. Can do.

なお、上記効果をより十分に得る観点から、上記ラジカル重合開始剤の含有量は、上記ビニルベンジルエーテル化合物100質量部に対して0.1〜3.0質量部であることが好ましい。   In addition, it is preferable that content of the said radical polymerization initiator is 0.1-3.0 mass parts with respect to 100 mass parts of said vinyl benzyl ether compounds from a viewpoint of acquiring the said effect more fully.

本発明はまた、上記本発明の熱硬化性樹脂組成物を基体に含浸させてなることを特徴とするプリプレグを提供する。   The present invention also provides a prepreg comprising a substrate impregnated with the thermosetting resin composition of the present invention.

かかるプリプレグは、本発明の熱硬化性樹脂組成物を用いて形成されているため、これを硬化させて基板とした際に、難燃性、誘電特性、耐熱性、及び機械的強度の全てを高水準で達成することができ、更に、優れた耐溶剤性及び銅箔密着性を得ることができる。また、ハロゲンを含まない難燃剤を用いていることで、環境への負荷を低減することができる。   Since such a prepreg is formed using the thermosetting resin composition of the present invention, when it is cured to form a substrate, all of flame retardancy, dielectric properties, heat resistance, and mechanical strength are exhibited. It can be achieved at a high level, and excellent solvent resistance and copper foil adhesion can be obtained. Moreover, the use of a flame retardant that does not contain halogen can reduce the environmental load.

ここで、上記基体は、ガラス不織布、ガラスクロス及びアラミド不織布からなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。   Here, the substrate is preferably at least one selected from the group consisting of a glass nonwoven fabric, a glass cloth, and an aramid nonwoven fabric.

本発明はまた、上記本発明の熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる樹脂層を備えることを特徴とする基板を提供する。   The present invention also provides a substrate comprising a resin layer obtained by curing the thermosetting resin composition of the present invention.

本発明はまた、上記本発明のプリプレグにおける上記熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる樹脂層を備えることを特徴とする基板を提供する。   The present invention also provides a substrate comprising a resin layer formed by curing the thermosetting resin composition in the prepreg of the present invention.

本発明はまた、上記本発明の熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる樹脂層と、該樹脂層の表面上に配された導体箔と、を備えることを特徴とする導体箔付き基板を提供する。   The present invention also includes a substrate with a conductive foil, comprising: a resin layer obtained by curing the thermosetting resin composition of the present invention; and a conductive foil disposed on the surface of the resin layer. provide.

本発明は更に、上記本発明のプリプレグにおける上記熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる樹脂層と、該樹脂層の表面上に配された導体箔と、を備えることを特徴とする導体箔付き基板を提供する。   The present invention further comprises a resin layer obtained by curing the thermosetting resin composition in the prepreg of the present invention, and a conductor foil disposed on the surface of the resin layer. Provided with a substrate.

これらの基板及び導体箔付き基板は、いずれも本発明の熱硬化性樹脂組成物を用いて形成されているため、難燃性、誘電特性、耐熱性、及び機械的強度の全てを高水準で達成することができ、更に、優れた耐溶剤性及び銅箔密着性を得ることができる。また、ハロゲンを含まない難燃剤を用いていることで、環境への負荷を低減することができる。   Since these substrates and substrates with conductive foil are both formed using the thermosetting resin composition of the present invention, all of flame retardancy, dielectric properties, heat resistance, and mechanical strength are at a high level. Furthermore, excellent solvent resistance and copper foil adhesion can be obtained. Moreover, the use of a flame retardant that does not contain halogen can reduce the environmental load.

本発明によれば、高周波領域での誘電特性、耐熱性、及び機械的強度に優れるとともに、十分な難燃性を有する基板を形成するための熱硬化性樹脂組成物、並びに、それを用いたプリプレグ、基板及び導体箔付き基板を提供することができる。   According to the present invention, a thermosetting resin composition for forming a substrate having excellent dielectric properties, heat resistance, and mechanical strength in a high frequency region and having sufficient flame retardancy, and the same are used. A prepreg, a substrate, and a substrate with a conductive foil can be provided.

以下、場合により図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明では、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as the case may be. In the following description, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

まず、本発明の熱硬化性樹脂組成物について説明する。   First, the thermosetting resin composition of the present invention will be described.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、下記一般式(1)で表わされるビニルベンジルエーテル化合物と、芳香族リン酸エステルと、ベンゾオキサジン化合物と、を含み、上記ビニルベンジルエーテル化合物100質量部に対して、上記芳香族リン酸エステルの含有量が50〜80質量部であり、上記ベンゾオキサジン化合物の含有量が5〜40質量部であることを特徴とする。

Figure 2007002187


[式中、Rはメチル基又はエチル基を示し、Rは水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基を示し、nは2〜6の整数を示す。] The thermosetting resin composition of the present invention includes a vinyl benzyl ether compound represented by the following general formula (1), an aromatic phosphate ester, and a benzoxazine compound, and 100 parts by mass of the vinyl benzyl ether compound. On the other hand, the content of the aromatic phosphate is 50 to 80 parts by mass, and the content of the benzoxazine compound is 5 to 40 parts by mass.
Figure 2007002187


[Wherein, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 6. ]

ここで、上記一般式(1)で表わされるビニルベンジルエーテル化合物は、例えば、下記一般式(3)で表されるポリフェノールと、ビニルベンジルハライドとを、アルカリ金属水酸化物の存在下で反応させることによって得ることができる。

Figure 2007002187


[式中、R、R及びnは、上記一般式(1)におけるR、R及びnと同義である。] Here, the vinyl benzyl ether compound represented by the general formula (1) is, for example, a reaction between polyphenol represented by the following general formula (3) and vinyl benzyl halide in the presence of an alkali metal hydroxide. Can be obtained.
Figure 2007002187


[Wherein, R 1, R 2 and n have the same meanings as R 1, R 2 and n in the general formula (1). ]

上記一般式(3)で表わされるポリフェノールとしては、市販されているものを適宜用いることができ、例えば、新日本石油化学(株)製のPP−700−300、PP−1000−180などを用いることができる。   As the polyphenol represented by the general formula (3), commercially available products can be used as appropriate, for example, PP-700-300 and PP-1000-180 manufactured by Shin Nippon Petrochemical Co., Ltd. are used. be able to.

また、ビニルベンジルハライドとしては、p−ビニルベンジルクロライド、m−ビニルベンジルクロライド、p−ビニルベンジルクロライドとm−ビニルベンジルクロライドとの混合体、p−ビニルベンジルブロマイド、m−ビニルベンジルブロマイドおよびp−ビニルベンジルブロマイドとm−ビニルベンジルブロマイドとの混合体等が挙げられる。中でも好ましくは、p−ビニルベンジルクロライド、およびp−ビニルベンジルクロライドとm−ビニルベンジルクロライドとの混合体を用いる。p−ビニルベンジルクロライドを使用すると、高融点、高軟化点のビニルベンジルエーテル化合物が得られる。また、p−ビニルベンジルクロライドとm−ビニルベンジルクロライドとの混合体を使用すると、低融点、低軟化点のビニルベンジルエーテル化合物が得られ、作業性が良好となる。   Examples of the vinyl benzyl halide include p-vinyl benzyl chloride, m-vinyl benzyl chloride, a mixture of p-vinyl benzyl chloride and m-vinyl benzyl chloride, p-vinyl benzyl bromide, m-vinyl benzyl bromide and p- Examples thereof include a mixture of vinyl benzyl bromide and m-vinyl benzyl bromide. Of these, p-vinylbenzyl chloride and a mixture of p-vinylbenzyl chloride and m-vinylbenzyl chloride are preferably used. When p-vinylbenzyl chloride is used, a vinylbenzyl ether compound having a high melting point and a high softening point can be obtained. Further, when a mixture of p-vinylbenzyl chloride and m-vinylbenzyl chloride is used, a vinylbenzyl ether compound having a low melting point and a low softening point is obtained, and the workability is improved.

ポリフェノールとビニルベンジルハライドとの反応は、特に制限されるものではないが、例えば、ポリフェノールとビニルベンジルハライドとを、極性中性溶媒中、アルカリ金属水酸化物を脱ハロゲン化水素剤として用いて反応させる方法により行うことができる。ポリフェノールとビニルベンジルハライドとの配合割合は、適宜調整することができるが、例えば、モル比として、ポリフェノールの水酸基:ビニルベンジルハライド=100:40〜100:120程度とすることができる。   The reaction between polyphenol and vinylbenzyl halide is not particularly limited. For example, polyphenol and vinylbenzyl halide are reacted in a polar neutral solvent using an alkali metal hydroxide as a dehydrohalogenating agent. It can be performed by the method of making it. The blending ratio of polyphenol and vinylbenzyl halide can be adjusted as appropriate. For example, the molar ratio of polyphenol: hydroxyl group of vinylphenol: vinylbenzyl halide = 100: 40 to 100: 120.

極性中性溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,3−ジメトキシプロパン、1,2−ジメトキシプロパン、テトラメチレンスルホン、ヘキサメチルホスホアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンおよびこれらの混合物等が挙げられる。   Examples of polar neutral solvents include dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dioxane, acetonitrile, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, 1,3-dimethoxypropane, 1,2-dimethoxypropane, tetramethylenesulfone, hexa Examples thereof include methyl phosphoamide, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetone and a mixture thereof.

アルカリ金属水酸化物としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムおよびこれらの混合物等が挙げられる。アルカリ金属水酸化物の配合割合は、例えば、フェノール性水酸基1モルに対して1.1〜2.0倍モル程度が好ましい。この場合、反応温度および反応時間は、それぞれ30〜100℃で、0.5〜20時間程度とすればよい。   Examples of the alkali metal hydroxide include potassium hydroxide, sodium hydroxide and a mixture thereof. The blending ratio of the alkali metal hydroxide is preferably about 1.1 to 2.0 times mol for 1 mol of phenolic hydroxyl group, for example. In this case, the reaction temperature and the reaction time may be 30 to 100 ° C. and about 0.5 to 20 hours, respectively.

また、上記とは別の方法として、相間移動触媒、例えば、第4級アンモニウム塩の存在下で、上記ポリフェノールとビニルベンジルハライドとを、水/有機溶剤混合液中、アルカリ金属水酸化物を脱ハロゲン化水素剤として100℃までの温度で反応させることにより、本発明に係るビニルベンジルエーテル化合物を得ることができる。なお、この際には、ポリフェノールとビニルベンジルハライドとの配合設計や、適当な手段、例えば、溶媒/非溶媒系の組み合わせによる再沈殿精製法を用いることにより、未反応原料等を除去することが可能である。   As another method, the polyphenol and vinylbenzyl halide are removed from the alkali metal hydroxide in a water / organic solvent mixture in the presence of a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt. The vinylbenzyl ether compound according to the present invention can be obtained by reacting at a temperature up to 100 ° C. as a hydrogen halide agent. In this case, unreacted raw materials and the like can be removed by using a blending design of polyphenol and vinylbenzyl halide and an appropriate means, for example, a reprecipitation purification method using a solvent / non-solvent system combination. Is possible.

上記一般式(1)で表わされるビニルベンジルエーテル化合物として具体的には、例えば、ARS068(商品名、昭和高分子社製)等が挙げられる。これらのビニルベンジルエーテル化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Specific examples of the vinyl benzyl ether compound represented by the general formula (1) include ARS068 (trade name, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.). These vinyl benzyl ether compounds can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

また、芳香族リン酸エステルとしては特に制限されないが、下記一般式(2)で表わされる芳香族リン酸エステルが好ましいものとして挙げられる。   Moreover, although it does not restrict | limit especially as an aromatic phosphate ester, The aromatic phosphate ester represented by following General formula (2) is mentioned as a preferable thing.

Figure 2007002187


[式中、Qは芳香環を有する2価の有機基又は炭素数2〜14の2価の脂肪族炭化水素基を示し、R、R、R及びRは各々独立に水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を示し、kは1以上の整数を示し、m、m、m及びmは各々独立に1〜3の整数を示す。]
Figure 2007002187


[Wherein Q represents a divalent organic group having an aromatic ring or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 2 to 14 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom. Alternatively, it represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, k represents an integer of 1 or more, and m 1 , m 2 , m 3 and m 4 each independently represents an integer of 1 to 3. ]

このようなリン酸エステルとしては、例えば、レゾルシノールビス(2,6−キシレニルホスフェート)、レゾルシノールビス(2,6−フェニルホスフェート)、ハイドロキノン テトラ(2,6−キシレニルホスフェート)、ハイドロキノン テトラ(2,6−フェニルホスフェート)、ビスフェノールA−ビス(2,6−キシレニルホスフェート)、ビスフェノールA−ビス(2,6−フェニルホスフェート)等が挙げられる。これらの芳香族リン酸エステルは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of such phosphate esters include resorcinol bis (2,6-xylenyl phosphate), resorcinol bis (2,6-phenyl phosphate), hydroquinone tetra (2,6-xylenyl phosphate), hydroquinone tetra (2,6-phenyl phosphate), bisphenol A-bis (2,6-xylenyl phosphate), bisphenol A-bis (2,6-phenyl phosphate) and the like. These aromatic phosphate esters can be used singly or in combination of two or more.

また、硬化性樹脂組成物における芳香族リン酸エステルの含有量は、上述のビニルベンジルエーテル化合物100質量部に対して50〜80質量部であることが必要であり、60〜80であることが好ましい。この含有量が50質量部未満であると、形成される基板の難燃性が不十分となり、80質量部を超えると、形成される基板の耐熱性や機械的強度等の物性が不十分となる。   Further, the content of the aromatic phosphate ester in the curable resin composition needs to be 50 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned vinyl benzyl ether compound, and is 60 to 80. preferable. When this content is less than 50 parts by mass, the flame retardance of the substrate to be formed becomes insufficient, and when it exceeds 80 parts by mass, the physical properties such as heat resistance and mechanical strength of the substrate to be formed are insufficient. Become.

また、ベンゾオキサジン化合物としては、下記一般式(4)で表わされる化合物を好ましいものとして挙げることができる。   Moreover, as a benzoxazine compound, the compound represented by following General formula (4) can be mentioned as a preferable thing.

Figure 2007002187


[式中、Rはアルキル基又はアリール基を示し、Rは下記式(I)〜(XVIII)で表わされる有機基を示し、pは1〜4の整数を示す。]
Figure 2007002187


[Wherein, R 7 represents an alkyl group or an aryl group, R 8 represents an organic group represented by the following formulas (I) to (XVIII), and p represents an integer of 1 to 4. ]

Figure 2007002187


[上記式(XVIII)中、Rは上記一般式(4)におけるRと同義である。]
Figure 2007002187


[In the formula (XVIII), R 7 has the same meaning as R 7 in the general formula (4). ]

また、硬化性樹脂組成物におけるベンゾオキサジン化合物の含有量は、上述のビニルベンジルエーテル化合物100質量部に対して5〜40質量部であることが必要であり、10〜20であることが好ましい。この含有量が5質量部未満であると、形成される基板の耐熱性、機械的強度及び銅箔密着力が不十分となり、40質量部を超えると、形成される基板の誘電特性(特に誘電正接)が不十分となる。   Further, the content of the benzoxazine compound in the curable resin composition is required to be 5 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned vinyl benzyl ether compound, and preferably 10 to 20. If this content is less than 5 parts by mass, the heat resistance, mechanical strength and copper foil adhesion of the substrate to be formed will be insufficient, and if it exceeds 40 parts by mass, the dielectric properties of the substrate to be formed (particularly dielectric) Tangent) is insufficient.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、上記ビニルベンジルエーテル化合物と、上記芳香族リン酸エステルと、上記ベンゾオキサジン化合物と、を含むものであればよく、他の添加剤等については特に制限されるものではないが、添加剤として、2GHz以上の高周波帯域における誘電正接が0.003以下である無機フィラーを更に含むことが好ましい。   The thermosetting resin composition of the present invention only needs to contain the vinyl benzyl ether compound, the aromatic phosphate ester, and the benzoxazine compound, and other additives are particularly limited. Although not intended, it is preferable that the additive further includes an inorganic filler having a dielectric loss tangent of 0.003 or less in a high frequency band of 2 GHz or more.

上記無機フィラーとしては、2GHz以上の高周波帯域における誘電正接tanδが0.003以下のものであれば特に制限されないが、例えば、チタン酸バリウム系化合物、シリカ、アルミナ、ジルコニア等の無機フィラー等が挙げられる。   The inorganic filler is not particularly limited as long as the dielectric loss tangent tan δ in a high frequency band of 2 GHz or more is 0.003 or less, and examples thereof include inorganic fillers such as barium titanate compounds, silica, alumina, zirconia, and the like. It is done.

これらの無機フィラーを添加することにより、形成される基板の誘電特性を調節し、特に誘電正接を低下させることができる。また、熱硬化性樹脂組成物の流動性を制御することができるとともに、形成される基板の熱膨張係数を低下させることができる。   By adding these inorganic fillers, the dielectric properties of the substrate to be formed can be adjusted, and in particular, the dielectric loss tangent can be lowered. Moreover, while being able to control the fluidity | liquidity of a thermosetting resin composition, the thermal expansion coefficient of the board | substrate formed can be reduced.

硬化性樹脂組成物における上記無機フィラーの含有量は、熱硬化性樹脂組成物中の固形分の全体積を基準として50体積%以下であることが好ましく、10〜50体積%であることがより好ましく、10〜45体積%であることが更に好ましく、20〜40体積%であることが特に好ましい。特に、無機フィラーの添加によって比誘電率ε’を調整する場合、この含有量が10体積%未満であると、比誘電率ε’の変化が不十分となる傾向にあり、50体積%を超えると、樹脂組成物が成形し難くなり、基板の作製が困難となる傾向にある。   The content of the inorganic filler in the curable resin composition is preferably 50% by volume or less, more preferably 10 to 50% by volume, based on the total volume of the solid content in the thermosetting resin composition. It is preferably 10 to 45% by volume, more preferably 20 to 40% by volume. In particular, when adjusting the relative permittivity ε ′ by adding an inorganic filler, if the content is less than 10% by volume, the change in the relative permittivity ε ′ tends to be insufficient, and exceeds 50% by volume. Then, the resin composition is difficult to mold, and the production of the substrate tends to be difficult.

また、本発明の熱硬化性樹脂組成物には、ビニルベンジルエーテル化合物の硬化(架橋反応)を促進するために、ラジカル重合開始剤を更に添加することが好ましい。   Moreover, in order to accelerate | stimulate hardening (crosslinking reaction) of a vinyl benzyl ether compound, it is preferable to further add a radical polymerization initiator to the thermosetting resin composition of this invention.

ラジカル重合開始剤としては、特に制限されないが、例えば、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチルー2,5−ジー(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン等の有機過酸化物、アゾビスイシブチロニトリル、アゾビス(メチルブチロニトリル)等の窒素系重合開始剤等が挙げられる。   The radical polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include dicumyl peroxide, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, and the like. Examples thereof include nitrogen-based polymerization initiators such as organic peroxides, azobisibutyronitrile, and azobis (methylbutyronitrile).

これらのラジカル重合開始剤を添加することにより、形成される基板の耐溶剤性、耐熱性及び機械的強度をより向上させることができる。   By adding these radical polymerization initiators, the solvent resistance, heat resistance and mechanical strength of the substrate to be formed can be further improved.

硬化性樹脂組成物におけるラジカル重合開始剤の含有量は、上述のビニルベンジルエーテル化合物100質量部に対して0.1〜3.0質量部であることが好ましく、0.3〜2質量部であることがより好ましく、0.5〜1.0質量部であることが更に好ましい。この含有量が0.1質量部未満であると、ビニルベンジルエーテル化合物の硬化が十分に促進されず、形成される基板の耐溶剤性、耐熱性及び機械的強度の向上が不十分となる傾向にあり、3.0質量部を超えると、基板の脆化や添加物の分解、変形等が発生する傾向にある。   The content of the radical polymerization initiator in the curable resin composition is preferably 0.1 to 3.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned vinyl benzyl ether compound, and 0.3 to 2 parts by mass. More preferably, it is more preferably 0.5 to 1.0 part by mass. When this content is less than 0.1 part by mass, curing of the vinyl benzyl ether compound is not sufficiently promoted, and the solvent resistance, heat resistance and mechanical strength of the substrate to be formed tend to be insufficient. When the amount exceeds 3.0 parts by mass, the substrate tends to become brittle, the additive is decomposed, and deformed.

また、本発明の熱硬化性樹脂組成物には、必要に応じてフェノチアジン、テトラメチルハイドロキノン等の重合禁止剤を、本発明の目的を損なわない範囲内で添加することができる。   In addition, a polymerization inhibitor such as phenothiazine and tetramethylhydroquinone can be added to the thermosetting resin composition of the present invention as long as it does not impair the object of the present invention.

更に、本発明の熱硬化性樹脂組成物には、必要に応じて可塑剤や劣化防止剤等を、本発明の目的を損なわない範囲内で添加することができる。   Furthermore, a plasticizer, a deterioration preventing agent, and the like can be added to the thermosetting resin composition of the present invention as long as the purpose of the present invention is not impaired.

また、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、上述した各材料を溶媒と混合し、熱硬化性樹脂組成物溶液として用いることができる。上記溶媒としては特に制限されないが、上述のビニルベンジルエーテル化合物及びベンゾオキサジン化合物を溶解可能なものであることが好ましく、例えば、トルエン、キシレン、ベンゼン等が挙げられる。   Moreover, the thermosetting resin composition of this invention can mix each material mentioned above with a solvent, and can be used as a thermosetting resin composition solution. Although it does not restrict | limit especially as said solvent, It is preferable that it is what can melt | dissolve the above-mentioned vinyl benzyl ether compound and a benzoxazine compound, For example, toluene, xylene, benzene etc. are mentioned.

次に、本発明のプリプレグについて説明する。   Next, the prepreg of the present invention will be described.

本発明のプリプレグは、上述した本発明の熱硬化性樹脂組成物を基体に含浸させてなるものである。   The prepreg of the present invention is obtained by impregnating a substrate with the above-described thermosetting resin composition of the present invention.

ここで、基体としては、ガラス、アラミド、石英、液晶ポリマー等からなる繊維、或いは、これらの繊維からなる織布や不織布等が用いられるが、これらの中でも、ガラス不織布、ガラスクロス及びアラミド不織布が好ましく、価格や繊維基材としての性能(強度等)の面からガラスクロスがより好ましい。   Here, as the substrate, fibers made of glass, aramid, quartz, liquid crystal polymer, or the like, or woven fabrics and nonwoven fabrics made of these fibers are used. Among these, glass nonwoven fabrics, glass cloths, and aramid nonwoven fabrics are used. Preferably, a glass cloth is more preferable in terms of price and performance (strength etc.) as a fiber base material.

熱硬化性樹脂組成物をガラスクロス等の基体に含浸させる際には、ビニルベンジルエーテル化合物のモノマー又はプレポリマーと、芳香族リン酸エステルと、ベンゾオキサジン化合物と、無機フィラーやラジカル重合開始剤等の添加剤とを、上述した溶媒に溶解及び/又は分散させた溶液として含浸させることが好ましい。この際には、溶液中に占める上記溶媒以外の固形分(ビニルベンジルエーテル化合物、芳香族リン酸エステル、ベンゾオキサジン化合物及び添加剤)の割合が、溶液全量を基準として40〜70質量%となるようにすることが好ましい。この熱硬化性樹脂組成物溶液は、一般にガラスクロス等に含浸してプリプレグとした後、金属箔等と積層して基板化されるが、溶液中の固形分濃度が40質量%未満であると、固形分濃度が上記範囲内である場合と比較して、プリプレグに含まれる樹脂成分が少ないために誘電特性が低くなってしまう傾向にあり、一方、固形分濃度が70質量%を超えると、固形分濃度が上記範囲内である場合と比較して、溶媒に対する固形分の溶解性が悪くなり、プリプレグおよびプレス品の厚さのバラツキが大きくなってしまう傾向にある。   When impregnating a substrate such as glass cloth with a thermosetting resin composition, a monomer or prepolymer of a vinyl benzyl ether compound, an aromatic phosphate ester, a benzoxazine compound, an inorganic filler, a radical polymerization initiator, etc. Are preferably impregnated as a solution dissolved and / or dispersed in the above-described solvent. In this case, the proportion of solids (vinyl benzyl ether compound, aromatic phosphate ester, benzoxazine compound and additive) other than the above solvent in the solution is 40 to 70% by mass based on the total amount of the solution. It is preferable to do so. This thermosetting resin composition solution is generally impregnated into a glass cloth or the like to form a prepreg, and then laminated with a metal foil or the like to form a substrate, but the solid content concentration in the solution is less than 40% by mass. In comparison with the case where the solid content concentration is in the above range, the resin component contained in the prepreg tends to decrease the dielectric properties, whereas when the solid content concentration exceeds 70% by mass, Compared with the case where the solid content concentration is within the above range, the solubility of the solid content in the solvent is deteriorated, and the thickness of the prepreg and the pressed product tends to vary greatly.

また、プリプレグの基体としてガラスクロスを用いる場合、ガラスクロスの材質には特に制限はなく、プリント基板において通常使用されるものを用いることができ、例えば、ガラスクロスを構成する縦糸(経糸)や緯糸の単位長さ当たりの本数、厚さおよび単位面積当たりの重さが、日本工業規格R−3414またはアメリカ軍用規格(MIL規格)に該当するものが挙げられる。また、これらの規格に該当しない範囲のガラスクロスを用いてもよく、ガラス繊維と炭素繊維またはセラミック繊維などのガラス繊維以外の繊維との混合織物であってもよい。このガラス繊維としては、Eガラス(比誘電率ε’=7、誘電正接tanδ=0.003、1GHz)、Dガラス(ε=4、tanδ=0.0013、1GHz)、Hガラス(ε=11、tanδ=0.003、1GHz)、Cガラス、Sガラス、NEガラス等各種のガラス成分組成を持つものを挙げることができる。コスト性と誘電特性とのバランスの観点からは、Eガラスが好ましい。   In addition, when glass cloth is used as the prepreg substrate, the material of the glass cloth is not particularly limited, and those commonly used in printed circuit boards can be used. For example, warp yarns and weft yarns constituting the glass cloth can be used. The number per unit length, the thickness, and the weight per unit area correspond to Japanese Industrial Standard R-3414 or American Military Standard (MIL Standard). Moreover, the glass cloth of the range which does not correspond to these specifications may be used, and the mixed textiles of glass fibers and fibers other than glass fibers, such as a carbon fiber or a ceramic fiber, may be sufficient. As this glass fiber, E glass (relative dielectric constant ε ′ = 7, dielectric loss tangent tan δ = 0.003, 1 GHz), D glass (ε = 4, tan δ = 0.0013, 1 GHz), H glass (ε = 11) Tan δ = 0.003, 1 GHz), C glass, S glass, NE glass, and other glass component compositions. From the viewpoint of balance between cost and dielectric properties, E glass is preferred.

ガラスクロス等の基体の厚みとしては、特に限定されるものではなく、必要に応じて10〜300μm、特には50〜200μm程度、さらには50、100、150、180μmのものを適宜用いることができる。   The thickness of the substrate such as glass cloth is not particularly limited, and those having a thickness of 10 to 300 μm, particularly about 50 to 200 μm, and further 50, 100, 150, and 180 μm can be used as necessary. .

また、ガラスクロス等の基体には、糸束内部に含浸した樹脂とガラス繊維との接着性を向上するために、あらかじめ表面処理が施されていることが好ましい。かかる表面処理に用いる表面処理剤としては、例えば、アミノシラン系化合物、ビニルシラン系化合物、スチレン系シラン化合物、メタクリルシラン系化合物等のシランカップリング剤を挙げることができる。これらの中でも、メタクリルシラン系およびビニルシラン系が、ビニルベンジルエーテル化合物との組み合わせにおいて好適である。メタクリルシラン系化合物としては、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等を好適に挙げることができる。   Further, it is preferable that a substrate such as a glass cloth is subjected to a surface treatment in advance in order to improve the adhesion between the resin impregnated inside the yarn bundle and the glass fiber. Examples of the surface treatment agent used for the surface treatment include silane coupling agents such as aminosilane compounds, vinylsilane compounds, styrene silane compounds, and methacrylsilane compounds. Among these, a methacryl silane type and a vinyl silane type are suitable in combination with a vinyl benzyl ether compound. Preferred examples of the methacrylic silane compound include γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, and the like.

ガラスクロス等の基体の表面処理に用いるカップリング剤の種類や調合条件およびカップリング剤によるガラスクロス等の基体の表面処理方法としては、公知の方法により行うことができる。処理方法としては一般的な浸漬法や噴霧法を使用することができ、超音波を併用した浸漬法(特開昭63−165441号公報)や、ローラジェット脱水機を用いた浸漬法(特開昭63−175165号公報)などを用いることも可能である。   As the surface treatment method of the substrate such as glass cloth with the coupling agent, the kind and the mixing condition of the coupling agent used for the surface treatment of the substrate such as glass cloth can be performed by a known method. As a treatment method, a general dipping method or spraying method can be used. A dipping method using ultrasonic waves (JP-A 63-165441) or a dipping method using a roller jet dehydrator (JP Sho 63-175165) can also be used.

また、本発明のプリプレグにおけるガラス成分の占める割合は、プリプレグ全量を基準として10〜70質量%であることが好ましく、20〜50質量%であることがより好ましい。   The proportion of the glass component in the prepreg of the present invention is preferably 10 to 70% by mass, more preferably 20 to 50% by mass based on the total amount of prepreg.

次に、本発明の基板について説明する。   Next, the substrate of the present invention will be described.

本発明の基板は、本発明の熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる樹脂層、及び/又は、本発明のプリプレグにおける熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる樹脂層を少なくとも備えるものである。また、これらの基体の表面上に導体箔を形成し、導体箔付き基板としてもよい。   The substrate of the present invention comprises at least a resin layer formed by curing the thermosetting resin composition of the present invention and / or a resin layer formed by curing the thermosetting resin composition in the prepreg of the present invention. is there. Alternatively, a conductor foil may be formed on the surface of these bases to form a substrate with a conductor foil.

図1は、好適な実施形態に係る導体箔付き基板を模式的に示す斜視図である。図1に示すように、本実施形態の導体箔付き基板10は、樹脂層12と、この樹脂層12の両面に設けられた導体箔層14とを備えている。   FIG. 1 is a perspective view schematically showing a substrate with a conductive foil according to a preferred embodiment. As shown in FIG. 1, the board | substrate 10 with a conductor foil of this embodiment is equipped with the resin layer 12 and the conductor foil layer 14 provided in both surfaces of this resin layer 12. As shown in FIG.

樹脂層12は、上述した本発明の熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含むものであり、上述した本発明のプリプレグから形成されたものであることが好ましい。   The resin layer 12 includes a cured product of the above-described thermosetting resin composition of the present invention, and is preferably formed from the above-described prepreg of the present invention.

導体箔層14としては、回路基板等の回路材料に通常用いられる導体材料からなるものであれば特に限定されず、金、銀、銅、アルミニウム等の導電率の良好な金属のなかから好適なものを選定すればよい。これらの中でも、価格やグレードの多さの面から、銅箔が好適に用いられる。導体箔層14は電解法、圧延法のいずれの方法で作製されたものでも構わないが、箔ピール強度をとりたい場合には電解箔を、高周波特性を重視したい場合には、表面凹凸による表皮効果の影響の少ない圧延箔を使用することができる。なお、導体箔層14は、少なくとも樹脂層12と接する面に表面処理が施されていることが好ましい。導体箔層14に対する表面処理としては、凹凸を形成するための粗化処理の他、特許第3295308号公報に例示されているような合金層を導体箔層14表面に形成したものでもよい。導体箔層14の厚みは8〜70μmであることが好ましく、12〜35μmであることがより好ましい。   The conductor foil layer 14 is not particularly limited as long as it is made of a conductor material usually used for circuit materials such as a circuit board, and is preferably selected from metals having good conductivity such as gold, silver, copper, and aluminum. You just have to choose one. Among these, a copper foil is preferably used from the viewpoints of cost and grade. The conductive foil layer 14 may be produced by either electrolytic method or rolling method. However, if the foil peel strength is desired, the electrolytic foil is used. A rolled foil with little effect can be used. The conductor foil layer 14 is preferably subjected to a surface treatment on at least the surface in contact with the resin layer 12. As the surface treatment for the conductor foil layer 14, in addition to the roughening treatment for forming irregularities, an alloy layer as exemplified in Japanese Patent No. 3295308 may be formed on the surface of the conductor foil layer 14. The thickness of the conductive foil layer 14 is preferably 8 to 70 μm, and more preferably 12 to 35 μm.

このような構成を有する導体箔付き基板10は、例えば、上述したプリプレグの両側に導体箔層14となるべき導体箔を重ね、得られた積層体を真空プレス等により加熱及び加圧した後、導体箔を所望のパターンとなるように加工することにより製造することができる。積層体の加熱及び加圧によって、プリプレグ及び導体箔の各層が密着するとともに、プリプレグ中の樹脂組成物の硬化が生じて樹脂層12が形成される。この際の加熱及び加圧は、温度100〜250℃(より好ましくは120〜200℃)、圧力0.5〜7.84MPa(より好ましくは0.5〜4MPa)の条件下で、0.5〜20時間の範囲内で行うことが好ましく、これらの条件内で複数回繰り返し行ってもよい。また、導体箔のパターン加工は、フォトリソグラフィー法等の公知のパターニング方法により適宜行うことができる。   The substrate 10 with conductor foil having such a configuration is obtained by, for example, stacking the conductor foil to be the conductor foil layer 14 on both sides of the prepreg described above, and heating and pressing the obtained laminate by a vacuum press or the like. It can be manufactured by processing the conductive foil so as to have a desired pattern. The layers of the prepreg and conductor foil are brought into close contact with each other by heating and pressurizing the laminate, and the resin composition in the prepreg is cured to form the resin layer 12. The heating and pressurization at this time are performed under the conditions of a temperature of 100 to 250 ° C. (more preferably 120 to 200 ° C.) and a pressure of 0.5 to 7.84 MPa (more preferably 0.5 to 4 MPa). It is preferable to carry out within a range of up to 20 hours, and the treatment may be repeated a plurality of times within these conditions. The patterning of the conductor foil can be appropriately performed by a known patterning method such as a photolithography method.

なお、導体箔付き基板10の製造においては、上述のような導体箔を積層する前に、例えば、上記プリプレグを加熱し樹脂組成物を硬化すること等によって先に樹脂層12のみを形成し、その後、樹脂層12の表面上に導体箔層14を形成するようにしてもよい。樹脂層12を得る場合の加熱は、好ましくは100〜220℃、より好ましくは120〜200℃の範囲で行うことができる。かかる加熱は、例えば真空プレスにより加熱しながら加圧することで行ってもよい。   In the production of the substrate 10 with conductor foil, before laminating the conductor foil as described above, for example, by forming the resin layer 12 first by heating the prepreg and curing the resin composition, Thereafter, the conductive foil layer 14 may be formed on the surface of the resin layer 12. Heating in the case of obtaining the resin layer 12 is preferably performed at 100 to 220 ° C, more preferably 120 to 200 ° C. Such heating may be performed by applying pressure while heating by, for example, a vacuum press.

このような構成を有する導体箔付き基板10における樹脂層12は、上記本発明の樹脂組成物の硬化物を主として含むものであることから、難燃性に優れるほか、低誘電率且つ低誘電正接であり、しかも、耐熱性や機械的強度にも優れるものとなる。このため、この導体箔付き基板10から得られる回路基板は、電子機器に搭載されて高温に晒されても優れた難燃性を発揮し得るほか、変形等も生じ難く、更には高周波帯域の信号を低損失で伝送可能なものとなる。   Since the resin layer 12 in the substrate 10 with conductor foil having such a structure mainly contains a cured product of the resin composition of the present invention, it has excellent flame retardancy, low dielectric constant and low dielectric loss tangent. Moreover, it is excellent in heat resistance and mechanical strength. For this reason, the circuit board obtained from the substrate 10 with the conductive foil can exhibit excellent flame retardancy even when mounted on an electronic device and exposed to high temperatures, is not easily deformed, and has a high frequency band. The signal can be transmitted with low loss.

なお、本発明の導体箔付き基板としては、上述した形態以外の構成を有するものであってもよい。例えば、導体箔付き基板は、樹脂層として、上述した樹脂層を複数積層してなる積層基板を備えるものであってもよい。図2は、積層基板を備える導体箔付き基板の一例を示す模式断面図である。図示されるように、導体箔付き基板40は、任意の層数(ここでは3層)の樹脂層20からなる積層基板25と、この積層基板25の両面に配された導体箔30からなるものである。樹脂層20は、上記実施形態の樹脂層12と同様のものである。また、導体箔30としては、上述した導体箔層14を形成するための導体箔と同様のものが適用できる。このような導体箔付き基板40は、導体箔30を所定の回路パターン等に加工することによって、電子機器等に搭載される回路基板等として用いることができる。   In addition, as a board | substrate with a conductor foil of this invention, you may have a structure other than the form mentioned above. For example, the board | substrate with conductor foil may be provided with the laminated substrate formed by laminating | stacking the resin layer mentioned above as a resin layer. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a substrate with a conductive foil provided with a laminated substrate. As shown in the figure, the substrate 40 with conductive foil is composed of a laminated substrate 25 made of a resin layer 20 having an arbitrary number of layers (here, three layers), and a conductive foil 30 arranged on both surfaces of the laminated substrate 25. It is. The resin layer 20 is the same as the resin layer 12 of the above embodiment. Moreover, as the conductor foil 30, the thing similar to the conductor foil for forming the conductor foil layer 14 mentioned above is applicable. Such a substrate 40 with conductor foil can be used as a circuit board mounted on an electronic device or the like by processing the conductor foil 30 into a predetermined circuit pattern or the like.

さらに、上述した銅箔付き基板をコア基板として用いれば、容易に多層基板を形成することもできる。すなわち、銅箔付き基板の外層に更に絶縁層及び導体箔層を交互に積層することによって、導体箔層及び絶縁層を交互に備える多層基板を容易に得ることができる。かかる構造の多層基板においては、上記実施形態の樹脂層12や20は、コア基板用の基板だけでなく、導体箔層間に配置される絶縁層(層間基板)として用いてもよい。   Further, if the above-described substrate with copper foil is used as a core substrate, a multilayer substrate can be easily formed. That is, by alternately laminating insulating layers and conductive foil layers on the outer layer of the substrate with copper foil, a multilayer substrate having alternating conductive foil layers and insulating layers can be easily obtained. In the multilayer substrate having such a structure, the resin layers 12 and 20 of the above embodiment may be used not only as a core substrate substrate but also as an insulating layer (interlayer substrate) disposed between conductor foil layers.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.

(実施例1〜6及び比較例1〜12)
上記一般式(1)で表わされるビニルベンジルエーテル(VBE)樹脂(商品名:ARS−068、昭和高分子社製)と、下記式(5)で表わされるリン酸エステル(商品名:PX−200、大八化学社製)と、上記一般式(4)(p=2、R=アリール基、R=上記式(III)で表される基)で表される2,2−ビス(3,4−ジヒドロ−3−フェニル−1,3−ベンゾオキサジン)プロパン(商品名:B−a型ベンゾオキサジン、四国化成工業社製)と、架橋剤としての有機過酸化物(ジクミルパーオキサイド、商品名:パークミルD、日本油脂社製)とを、下記表1及び2に示す割合(単位:質量部)にてトルエン50質量部中に溶解し、樹脂溶液を作製した。
(Examples 1-6 and Comparative Examples 1-12)
Vinyl benzyl ether (VBE) resin represented by the above general formula (1) (trade name: ARS-068, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) and a phosphate ester represented by the following formula (5) (trade name: PX-200) Manufactured by Daihachi Chemical Co., Ltd.) and 2,2-bis (p = 2, R 7 = aryl group, R 8 = group represented by the above formula (III)) 3,4-dihydro-3-phenyl-1,3-benzoxazine) propane (trade name: Ba type benzoxazine, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) and an organic peroxide (dicumyl peroxide) as a crosslinking agent , Trade name: Park Mill D, manufactured by NOF Corporation) was dissolved in 50 parts by mass of toluene in the proportions (unit: parts by mass) shown in Tables 1 and 2 below to prepare a resin solution.

Figure 2007002187
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Figure 2007002187
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得られた樹脂溶液に、更に無機フィラー(バリウム−ネオジム−チタン系誘電体材料、平均粒径1.6μm、ε’=90、tanδ=0.00059、TDK社製)を、樹脂溶液中の固形分の全体積に占める無機フィラーの割合が40体積%となるよう添加し、混合して実施例1〜6及び比較例1〜11の熱硬化性樹脂組成物の溶液を作製した。また、樹脂溶液全体積に占める無機フィラーの割合が55体積%となるようにした以外は実施例5と同様にして、比較例12の熱硬化性樹脂組成物の溶液を作製した。   To the obtained resin solution, an inorganic filler (barium-neodymium-titanium dielectric material, average particle size 1.6 μm, ε ′ = 90, tan δ = 0.00059, manufactured by TDK) is further added to the solid solution in the resin solution. It added so that the ratio of the inorganic filler which occupies for the total volume of a part might be 40 volume%, it mixed, and the solution of the thermosetting resin composition of Examples 1-6 and Comparative Examples 1-11 was produced. Moreover, the solution of the thermosetting resin composition of Comparative Example 12 was prepared in the same manner as in Example 5 except that the proportion of the inorganic filler in the total volume of the resin solution was 55% by volume.

こうして得られた実施例1〜6及び比較例1〜12の熱硬化性樹脂組成物溶液を、フィルム上にキャスト法で成膜し、120℃で1時間乾燥して溶剤を除去して塗膜を形成した。その後、塗膜を金型でプレスし、真空中で200℃、5時間の条件で硬化を行い、厚さ1.2mmの基板を作製した。   The thus obtained thermosetting resin composition solutions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 12 were formed on a film by a casting method, dried at 120 ° C. for 1 hour to remove the solvent, and the coating film. Formed. Thereafter, the coating film was pressed with a mold and cured in a vacuum at 200 ° C. for 5 hours to produce a substrate having a thickness of 1.2 mm.

[特性評価試験]
実施例1〜6及び比較例1〜12で得られた基板について、以下のようにして誘電特性、難燃性、耐熱性、耐溶剤性、機械強度、曲げ弾性率、及び、銅箔密着性の評価を行った。その結果を表3にまとめて示す。
[Characteristic evaluation test]
For the substrates obtained in Examples 1-6 and Comparative Examples 1-12, dielectric properties, flame retardancy, heat resistance, solvent resistance, mechanical strength, flexural modulus, and copper foil adhesion are as follows. Was evaluated. The results are summarized in Table 3.

(1)比誘電率ε’及び誘電正接tanδ(誘電特性評価)
基板を90mm×1.5mm×0.8mmに切断して、これを誘電特性の測定サンプルとした。測定は、空洞共振器摂動法を用いて、2GHzにて行った。
(1) Dielectric constant ε ′ and dielectric loss tangent tan δ (dielectric property evaluation)
The substrate was cut into 90 mm × 1.5 mm × 0.8 mm and used as a sample for measuring dielectric properties. The measurement was performed at 2 GHz using a cavity resonator perturbation method.

(2)難燃性評価
基板を127mm×12.7mm×0.8mmに切断して、これを難燃性の測定サンプルとした。この測定サンプルを用いて、UL94規格に準拠して垂直燃焼試験を行い、V−0、V−1、V−2及び燃焼(V−0、V−1及びV−2に該当しない)の4つのランクで判定した。
(2) Flame-retardant evaluation The board | substrate was cut | disconnected to 127 mm x 12.7 mm x 0.8 mm, and this was made into the flame-retardant measurement sample. Using this measurement sample, a vertical combustion test was conducted in accordance with the UL94 standard, and V-0, V-1, V-2, and combustion (not applicable to V-0, V-1, and V-2) 4 Judged by one rank.

(3)ガラス転移温度(耐熱性評価)
基板を40mm×10mm×0.8mmに切断して、これをガラス転移温度の測定サンプルとした。基板のガラス転移温度(Tg)は、粘弾性測定器(商品名:DMS6100、セイコー電子社製)を用い、測定周波数を1Hzとして測定した。
(3) Glass transition temperature (heat resistance evaluation)
The substrate was cut into 40 mm × 10 mm × 0.8 mm and used as a sample for measuring the glass transition temperature. The glass transition temperature (Tg) of the substrate was measured using a viscoelasticity measuring device (trade name: DMS6100, manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd.) at a measurement frequency of 1 Hz.

(4)耐溶剤性評価
基板を幅10mm、長さ30mmに切断して、これを耐溶剤性の測定サンプルとした。この測定サンプルをトルエンに浸漬し、超音波洗浄器にて10分間処理した後、質量測定を行った。これにより、試験前後の測定サンプルの質量変化率を算出し、変化率が0.1%以下のものを○、0.1%を超えるものを×として評価した。
(4) Evaluation of solvent resistance The substrate was cut into a width of 10 mm and a length of 30 mm, and this was used as a solvent resistance measurement sample. This measurement sample was immersed in toluene and treated with an ultrasonic cleaner for 10 minutes, and then mass measurement was performed. Thereby, the mass change rate of the measurement sample before and after the test was calculated, and the sample having the change rate of 0.1% or less was evaluated as ◯, and the sample having the change rate exceeding 0.1% was evaluated as ×.

(5)機械強度及び曲げ弾性率評価
基板を幅20mm、長さ25mmに切断して、これを機械強度及び曲げ弾性率の測定サンプルとした。この測定サンプルの機械強度及び曲げ弾性率を、JIS K7203に規定された測定方法に準拠して測定した。
(5) Evaluation of mechanical strength and bending elastic modulus The substrate was cut into a width of 20 mm and a length of 25 mm, and this was used as a measurement sample of mechanical strength and bending elastic modulus. The mechanical strength and flexural modulus of this measurement sample were measured according to the measurement method specified in JIS K7203.

(6)銅箔密着性評価
実施例1〜6、比較例1〜12の熱硬化性樹脂組成物溶液を、ドクターブレード法により電解銅箔(JTM 12μm、日鉱マテリアルズ社製)上にそれぞれ塗工した後、120℃/10分で加熱・乾燥を行い、厚み70μmの樹脂付き銅箔を得た。得られた樹脂付き銅箔で、銅箔を剥離したFR−4基板を挟み、真空プレスにより、温度プロファイル120℃30分、150℃30分、180℃6.5時間、圧力2MPaの条件で加圧・硬化して、厚さ1.2mmの基板(積層基板)を作製した。この銅箔付き積層板を幅20mm、長さ100mmに切り出して、これを銅箔密着性の測定サンプルとした。この測定サンプルの表面に、長手方向にて、10mmの間隔をおいて2本の平行な切れ込みを入れた後、幅10mmの銅箔の帯を、引っ張り試験機を用いて、面に対して垂直方向に50mm/minの速さで引き剥がした。ここで測定した応力の最低値を銅箔密着力とした。
(6) Copper foil adhesion evaluation The thermosetting resin composition solutions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 12 were respectively coated on an electrolytic copper foil (JTM 12 μm, manufactured by Nikko Materials) by the doctor blade method. After the processing, heating and drying were carried out at 120 ° C./10 minutes to obtain a copper foil with resin having a thickness of 70 μm. The FR-4 substrate from which the copper foil was peeled off was sandwiched between the obtained copper foils with resin, and applied with a vacuum press under conditions of a temperature profile of 120 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 180 ° C. for 6.5 hours, and a pressure of 2 MPa. The substrate was pressed and cured to produce a substrate (laminated substrate) having a thickness of 1.2 mm. This laminate with copper foil was cut into a width of 20 mm and a length of 100 mm, and this was used as a measurement sample for copper foil adhesion. After making two parallel cuts at a distance of 10 mm in the longitudinal direction on the surface of this measurement sample, a copper foil strip having a width of 10 mm is perpendicular to the surface using a tensile tester. It peeled in the direction at a speed of 50 mm / min. The minimum value of the stress measured here was defined as the copper foil adhesion.

Figure 2007002187
Figure 2007002187

また、比較例12の熱硬化性樹脂組成物溶液をガラスクロスに含浸してプリプレグを作製したが、表面から塗膜が簡単に脱落した。これを用いて真空プレス機にて基板作製を試みたが、塗膜が流動せず、基板としてハンドリングできるものが得られなかった。   Moreover, although the glass cloth was impregnated with the thermosetting resin composition solution of Comparative Example 12 to prepare a prepreg, the coating film was easily removed from the surface. Using this, an attempt was made to produce a substrate with a vacuum press, but the coating film did not flow, and a substrate that could be handled as a substrate was not obtained.

表3に示した結果から明らかなように、本発明の熱硬化性樹脂組成物(実施例1〜6)によれば、比較例1〜12の熱硬化性樹脂組成物と比較して、基板を形成した際に、難燃性、高周波領域での誘電特性、耐熱性、耐溶剤性、機械的強度及び銅箔密着性の全てを高水準で達成することができることが確認された。   As is clear from the results shown in Table 3, according to the thermosetting resin composition of the present invention (Examples 1 to 6), the substrate was compared with the thermosetting resin compositions of Comparative Examples 1 to 12. It was confirmed that all of flame retardancy, dielectric properties in the high frequency region, heat resistance, solvent resistance, mechanical strength and copper foil adhesion can be achieved at a high level.

好適な実施形態に係る導体箔付き基板を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the board | substrate with a conductor foil which concerns on suitable embodiment. 積層基板を備える導体箔付き基板の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a board | substrate with a conductor foil provided with a laminated substrate.

符号の説明Explanation of symbols

10…導体箔付き基板、12…樹脂層、14…導体箔層、20…樹脂層、25…積層基板、30…導体箔、40…導体箔付き基板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Substrate with conductor foil, 12 ... Resin layer, 14 ... Conductor foil layer, 20 ... Resin layer, 25 ... Laminated substrate, 30 ... Conductor foil, 40 ... Substrate with conductor foil

Claims (12)

下記一般式(1)で表わされるビニルベンジルエーテル化合物と、芳香族リン酸エステルと、ベンゾオキサジン化合物と、を含み、
前記ビニルベンジルエーテル化合物100質量部に対して、前記芳香族リン酸エステルの含有量が50〜80質量部であり、前記ベンゾオキサジン化合物の含有量が5〜40質量部であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
Figure 2007002187


[式中、Rはメチル基又はエチル基を示し、Rは水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基を示し、nは2〜6の整数を示す。]
A vinyl benzyl ether compound represented by the following general formula (1), an aromatic phosphate ester, and a benzoxazine compound,
The content of the aromatic phosphate is 50 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the vinyl benzyl ether compound, and the content of the benzoxazine compound is 5 to 40 parts by mass. Thermosetting resin composition.
Figure 2007002187


[Wherein, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 6. ]
前記芳香族リン酸エステルが、下記一般式(2)で表わされるものであることを特徴とする請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure 2007002187


[式中、Qは芳香環を有する2価の有機基又は炭素数2〜14の2価の脂肪族炭化水素基を示し、R、R、R及びRは各々独立に水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を示し、kは1以上の整数を示し、m、m、m及びmは各々独立に1〜3の整数を示す。]
The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the aromatic phosphate ester is represented by the following general formula (2).
Figure 2007002187


[Wherein Q represents a divalent organic group having an aromatic ring or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 2 to 14 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom. Alternatively, it represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, k represents an integer of 1 or more, and m 1 , m 2 , m 3 and m 4 each independently represents an integer of 1 to 3. ]
2GHz以上の高周波帯域における誘電正接が0.003以下である無機フィラーを更に含有することを特徴とする請求項1又は2記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to claim 1 or 2, further comprising an inorganic filler having a dielectric loss tangent of 0.003 or less in a high frequency band of 2 GHz or more. 前記無機フィラーの含有量が、熱硬化性樹脂組成物中の固形分全体積を基準として10〜50体積%であることを特徴とする請求項3記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to claim 3, wherein the content of the inorganic filler is 10 to 50% by volume based on the total solid volume in the thermosetting resin composition. ラジカル重合開始剤を更に含有することを特徴とする請求項1〜4のうちのいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 4, further comprising a radical polymerization initiator. 前記ラジカル重合開始剤の含有量が、前記ビニルベンジルエーテル化合物100質量部に対して0.1〜3.0質量部であることを特徴とする請求項5記載の熱硬化性樹脂組成物。   6. The thermosetting resin composition according to claim 5, wherein the content of the radical polymerization initiator is 0.1 to 3.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the vinyl benzyl ether compound. 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物を基体に含浸させてなることを特徴とするプリプレグ。   A prepreg comprising a substrate impregnated with the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 6. 前記基体が、ガラス不織布、ガラスクロス及びアラミド不織布からなる群より選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項7記載のプリプレグ。   The prepreg according to claim 7, wherein the substrate is at least one selected from the group consisting of a glass nonwoven fabric, a glass cloth, and an aramid nonwoven fabric. 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる樹脂層を備えることを特徴とする基板。   The board | substrate provided with the resin layer formed by hardening | curing the thermosetting resin composition as described in any one of Claims 1-6. 請求項7又は8記載のプリプレグにおける前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる樹脂層を備えることを特徴とする基板。   The board | substrate provided with the resin layer formed by hardening | curing the said thermosetting resin composition in the prepreg of Claim 7 or 8. 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる樹脂層と、該樹脂層の表面上に配された導体箔と、を備えることを特徴とする導体箔付き基板。   A resin layer obtained by curing the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 6, and a conductor foil disposed on the surface of the resin layer. A substrate with conductive foil. 請求項7又は8記載のプリプレグにおける前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる樹脂層と、該樹脂層の表面上に配された導体箔と、を備えることを特徴とする導体箔付き基板。   A substrate with a conductor foil, comprising: a resin layer obtained by curing the thermosetting resin composition in the prepreg according to claim 7; and a conductor foil disposed on a surface of the resin layer. .
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