JP2006514274A - 散乱光を抑制した近接場光学顕微鏡プローブおよびその製造方法 - Google Patents
散乱光を抑制した近接場光学顕微鏡プローブおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006514274A JP2006514274A JP2004567319A JP2004567319A JP2006514274A JP 2006514274 A JP2006514274 A JP 2006514274A JP 2004567319 A JP2004567319 A JP 2004567319A JP 2004567319 A JP2004567319 A JP 2004567319A JP 2006514274 A JP2006514274 A JP 2006514274A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- probe
- optical waveguide
- layer
- tip
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims abstract description 228
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 86
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 47
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 12
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 12
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 7
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 6
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 4
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 3
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 81
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 7
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000005360 phosphosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/18—SNOM [Scanning Near-Field Optical Microscopy] or apparatus therefor, e.g. SNOM probes
- G01Q60/22—Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y35/00—Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】プローブの保持体は、光導波路からなる。プローブの製造方法は、光導波路を備えるコーティングを基板に形成する第1ステップと、透明層を形成し、光導波路を基板と透明層の間に配置する第2ステップと、透明層をプローブ先端上の少なくとも1つの領域をマスクする第3ステップと、透明層をエッチングしてプローブ先端を形成する第4ステップと、を備える。
Description
Claims (38)
- 近接場光学顕微鏡のプローブ1であって、プローブ先端2を有する平面の保持体3を備え、プローブ先端2は少なくとも一部分が透明物質からなり、保持体3が光導波路23を備えていることを特徴とする近接場光学顕微鏡のプローブ。
- プローブ先端2を、保持体3の平面上4に形成することを特徴とする請求項1記載のプローブ。
- プローブ先端2を単一構造で形成することを特徴とする請求項1または2記載のプローブ。
- プローブ先端2の透明物質を酸化ケイ素で形成することを特徴とする請求項1〜3の何れか1項記載のプローブ。
- 保持体3が、基板7に片持ち梁として結合していることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項記載のプローブ。
- プローブ1が、入光部21を備えていることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項記載のプローブ。
- 入光部21を、保持体3および/または保持体が結合している基板7に形成することを特徴とする請求項6記載のプローブ。
- プローブ1が出光部22を備えていることを特徴とする請求項1〜7の何れか1項記載のプローブ。
- 出光部22をプローブ先端2近傍の保持体3に形成することを特徴とする請求項8記載のプローブ。
- 入光部21および/または出光部22を光導波路23または光導波路23と基板7の間の透明中間層19に形成することを特徴とする請求項6〜9の何れか1項記載のプローブ。
- 入光部21および/または出光部22が、回折構造体を備えていることを特徴とする請求項6〜10の何れか1項記載のプローブ。
- 回折構造体が、結合格子24を備えていることを特徴とする請求項11記載のプローブ。
- 結合格子24が、曲面の格子線から成ることを特徴とする請求項12記載のプローブ。
- 光導波路23が、少なくとも一部分が窒化ケイ素から成ることを特徴とする請求項1〜13の何れか1項記載のプローブ。
- 透明の中間層19,20が、光導波路23よりも低屈折で、少なくとも光導波路の表面の1つに設けられていることを特徴とする請求項1〜14の何れか1項記載のプローブ。
- 透明の中間層19を、光導波路23と基板7の間に設けることを特徴とする請求項15記載のプローブ。
- 透明の中間層20を、光導波路23とプローブ先端2の間に設けることを特徴とする請求項15または16記載のプローブ。
- 透明の中間層19,20を、酸化ケイ素、シリコンオキシナイトライドまたは窒化ケイ素で形成することを特徴とする請求項15〜17の何れか1項記載のプローブ。
- プローブ先端2の少なくとも1つの周面5および/または周囲6を光に不透明な物質でコーティングすることを特徴とする請求項1〜18の何れか1項記載のプローブ。
- 不透明な物質が、金属層15であることを特徴とする請求項19記載のプローブ。
- プローブ先端2の少なくとも1つの先端域8が、光に透明であることを特徴とする請求項1〜20の何れか1項記載のプローブ。
- 請求項1に係わるプローブ1において、近接場光学顕微鏡のプローブ先端2を備えたプローブ1の製造方法であって、
基板7にコーティングをして光導波路23を形成する第一ステップと、
透明層13を設けて、光導波路23を基板7と透明層13の間に配置する第2ステップと、
プローブ先端2の少なくとも1つの領域で透明層13をマスキングする第3ステップと、
透明層13の等方性エッチングでプローブ先端2を形成する第4ステップと、
を備えることを特徴とする製造方法。 - 第1ステップが、光導波路23を窒化ケイ素層11で形成することを特徴とする請求項22記載の製造方法。
- 第1ステップが、少なくとも1つの透明な中間層19を基板7と光導波路23の間に形成し、透明な中間層19が、光導波路23の物質よりも低屈折であることを特徴とする請求項22または23記載の製造方法。
- 第1ステップが、少なくとも1つの透明な中間層20を光導波路23とプローブ先端2の間に形成し、透明な中間層20が、光導波路23の物質よりも低屈折であることを特徴とする請求項22〜24の何れか1項記載の製造方法。
- 透明な中間層19,20が、少なくとも一層の酸化ケイ素、シリコンオキシナイトライドまたはフッ化マグネシウムで形成することを特徴とする請求項24または25記載の製造方法。
- 入光部21を基板7および/または基板のコーティング内に設けることを特徴とする請求項22〜26の何れか1項記載の製造方法。
- 出光部22を基板上のコーティング内に設けることを特徴とする請求項22〜27の何れか1項記載の製造方法。
- 入光部21および/または出光部22が、回折構造体からなることを特徴とする請求項27または28記載の製造方法。
- 回折構造体を、結合格子24のエッチングおよび/またはスタンピングで形成することを特徴とする請求項29記載の製造方法。
- 第2ステップで、透明層13を約1〜30μm、好ましくは約2〜20μm、最適には約3〜8μmの厚みにすることを特徴とする請求項22〜30の何れか1項記載の製造方法。
- 基板7のエッチングで、基板7に結合した片持ち梁の保持体を形成することを特徴とする請求項22〜31の何れか1項記載の製造方法。
- 基板7のエッチングを、ウェットエッチングおよびドライエッチングですることを特徴とする請求項32記載の製造方法。
- 第4ステップでの、透明層13のエッチングが、等方性エッチングまたは等方性と異方性の組合せのエッチングであることを特徴とする請求項22または23記載の製造方法。
- 少なくとも1つのプローブ先端2の周面5および/または周囲6に光に不透明な層15を形成することを特徴とする請求項22〜34の何れか1項記載の製造方法。
- 不透明な層15を、先端プローブ2に斜めに真空蒸着で形成することを特徴とする請求項35記載の製造方法。
- プローブ先端2の先端域8の不透明層15の開口部は、アパチャーの形成になることを特徴とする請求項35または36記載の製造方法。
- 開口部を、放電加工法および/またはプラズマエッチングで形成することを特徴とする請求項37記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10303927A DE10303927B4 (de) | 2003-01-31 | 2003-01-31 | Sonde für ein optisches Nahfeldmikroskop mit verbesserter Streulichtunterdrückung und Verfahren zu deren Herstellung |
PCT/EP2003/014557 WO2004068502A2 (de) | 2003-01-31 | 2003-12-18 | Sonde für ein optisches nahfeldmikroskop mit verbesserter streulichtunterdrückung und verfahren zu deren herstellung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006514274A true JP2006514274A (ja) | 2006-04-27 |
Family
ID=32730659
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004567319A Withdrawn JP2006514274A (ja) | 2003-01-31 | 2003-12-18 | 散乱光を抑制した近接場光学顕微鏡プローブおよびその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7477817B2 (ja) |
EP (1) | EP1588382B1 (ja) |
JP (1) | JP2006514274A (ja) |
AU (1) | AU2003294910A1 (ja) |
DE (2) | DE10303927B4 (ja) |
WO (1) | WO2004068502A2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10303961B4 (de) * | 2003-01-31 | 2005-03-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Sonde für ein optisches Nahfeldmikroskop und Verfahren zu deren Herstellung |
US20130335110A1 (en) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | Polyvalor, Limited Partnership | Planar circuit test fixture |
JP2014013160A (ja) * | 2012-07-04 | 2014-01-23 | Hitachi Ltd | 走査プローブ顕微鏡 |
US9184564B2 (en) * | 2013-06-07 | 2015-11-10 | Ngk Insulators, Ltd. | External resonator type light emitting system |
JP5936771B2 (ja) | 2013-11-27 | 2016-06-22 | 日本碍子株式会社 | 外部共振器型発光装置 |
JP6554035B2 (ja) * | 2014-05-01 | 2019-07-31 | 日本碍子株式会社 | グレーティング素子および外部共振器型発光装置 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0470506A (ja) * | 1990-07-11 | 1992-03-05 | Olympus Optical Co Ltd | 原子プローブ顕微鏡 |
JPH0483138A (ja) * | 1990-07-26 | 1992-03-17 | Nikon Corp | 微小力検出器 |
JPH0626846A (ja) * | 1992-07-10 | 1994-02-04 | Fujitsu Ltd | 表面粗さ測定装置 |
JPH06259821A (ja) * | 1993-03-09 | 1994-09-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 記録再生装置 |
JPH06294638A (ja) * | 1993-04-06 | 1994-10-21 | Olympus Optical Co Ltd | 表面形状測定装置 |
WO1996027880A1 (fr) * | 1995-03-08 | 1996-09-12 | Hitachi, Ltd. | Tete optique a champ de proximite stratifiee et dispositif d'enregistrement et de reproduction d'informations optiques |
JPH10293134A (ja) * | 1997-02-19 | 1998-11-04 | Canon Inc | 光検出または照射用のプローブ、及び該プローブを備えた近視野光学顕微鏡・記録再生装置・露光装置、並びに該プローブの製造方法 |
JPH1164350A (ja) * | 1997-08-26 | 1999-03-05 | Canon Inc | 微小開口の形成方法と微小開口を有する突起、及びそれらによるプローブまたはマルチプローブ、並びに該プローブを用いた表面観察装置、露光装置、情報処理装置 |
JPH1166650A (ja) * | 1997-08-26 | 1999-03-09 | Canon Inc | 微小開口を有する突起の製造方法と微小開口を有する突起、及びそれらによるプローブまたはマルチプローブ |
JPH11281657A (ja) * | 1998-03-26 | 1999-10-15 | Seiko Instruments Inc | 走査型プロープ及びその製造方法 |
WO2000028536A1 (fr) * | 1998-11-09 | 2000-05-18 | Seiko Instruments Inc. | Tete optique a champ proche et procede de production associe |
JP2001116678A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-27 | Canon Inc | 光照射用または光検出用プローブの製造方法、および光照射用または光検出用プローブ |
JP2001141634A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-25 | Canon Inc | 近接場光プローブとその作製方法、及びこれらを用いた顕微鏡、記録再生装置、微細加工装置 |
JP2001297463A (ja) * | 2000-04-18 | 2001-10-26 | Seiko Instruments Inc | 情報記録再生装置 |
JP2003194697A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Canon Inc | グレーティングカップラを有する探針及びその製造方法、該探針を有するプローブ、及び該プローブを有する情報処理装置、表面観察装置、露光装置、該露光装置による光学素子 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4314301C1 (de) * | 1993-04-30 | 1994-05-05 | Imm Inst Mikrotech | Abtastvorrichtung zur Untersuchung von Oberflächenstrukturen mit Auflösung im submicron-Bereich und Verfahren zu deren Herstellung |
US5354985A (en) * | 1993-06-03 | 1994-10-11 | Stanford University | Near field scanning optical and force microscope including cantilever and optical waveguide |
DE19509903A1 (de) * | 1995-03-18 | 1996-09-19 | Inst Mikrotechnik Mainz Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Abtastvorrichtung zur kombinierten Untersuchung von verschiedenen Oberflächeneigenschaften mit Auflösung im Nanometerbereich |
JP3639684B2 (ja) * | 1997-01-13 | 2005-04-20 | キヤノン株式会社 | エバネッセント波検出用の微小探針とその製造方法、及び該微小探針を備えたプローブとその製造方法、並びに該微小探針を備えたエバネッセント波検出装置、近視野走査光学顕微鏡、情報再生装置 |
DE19713746C2 (de) * | 1997-04-03 | 2001-06-28 | Inst Mikrotechnik Mainz Gmbh | Sensor für gleichzeitige Rasterkraftmikroskopie und optische Nahfeldmikroskopie |
DE19926601B4 (de) * | 1998-09-12 | 2007-03-29 | Witec Wissenschaftliche Instrumente Und Technologie Gmbh | Apertur in einem Halbleitermaterial sowie Herstellung der Apertur und Verwendung |
JP4648512B2 (ja) * | 2000-03-07 | 2011-03-09 | セイコーインスツル株式会社 | 近視野光発生素子の製造方法 |
DE10303961B4 (de) * | 2003-01-31 | 2005-03-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Sonde für ein optisches Nahfeldmikroskop und Verfahren zu deren Herstellung |
-
2003
- 2003-01-31 DE DE10303927A patent/DE10303927B4/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 DE DE50306544T patent/DE50306544D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 EP EP03785886A patent/EP1588382B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 JP JP2004567319A patent/JP2006514274A/ja not_active Withdrawn
- 2003-12-18 AU AU2003294910A patent/AU2003294910A1/en not_active Abandoned
- 2003-12-18 WO PCT/EP2003/014557 patent/WO2004068502A2/de active IP Right Grant
-
2005
- 2005-07-29 US US11/193,963 patent/US7477817B2/en active Active
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0470506A (ja) * | 1990-07-11 | 1992-03-05 | Olympus Optical Co Ltd | 原子プローブ顕微鏡 |
JPH0483138A (ja) * | 1990-07-26 | 1992-03-17 | Nikon Corp | 微小力検出器 |
JPH0626846A (ja) * | 1992-07-10 | 1994-02-04 | Fujitsu Ltd | 表面粗さ測定装置 |
JPH06259821A (ja) * | 1993-03-09 | 1994-09-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 記録再生装置 |
JPH06294638A (ja) * | 1993-04-06 | 1994-10-21 | Olympus Optical Co Ltd | 表面形状測定装置 |
WO1996027880A1 (fr) * | 1995-03-08 | 1996-09-12 | Hitachi, Ltd. | Tete optique a champ de proximite stratifiee et dispositif d'enregistrement et de reproduction d'informations optiques |
JPH10293134A (ja) * | 1997-02-19 | 1998-11-04 | Canon Inc | 光検出または照射用のプローブ、及び該プローブを備えた近視野光学顕微鏡・記録再生装置・露光装置、並びに該プローブの製造方法 |
JPH1164350A (ja) * | 1997-08-26 | 1999-03-05 | Canon Inc | 微小開口の形成方法と微小開口を有する突起、及びそれらによるプローブまたはマルチプローブ、並びに該プローブを用いた表面観察装置、露光装置、情報処理装置 |
JPH1166650A (ja) * | 1997-08-26 | 1999-03-09 | Canon Inc | 微小開口を有する突起の製造方法と微小開口を有する突起、及びそれらによるプローブまたはマルチプローブ |
JPH11281657A (ja) * | 1998-03-26 | 1999-10-15 | Seiko Instruments Inc | 走査型プロープ及びその製造方法 |
WO2000028536A1 (fr) * | 1998-11-09 | 2000-05-18 | Seiko Instruments Inc. | Tete optique a champ proche et procede de production associe |
JP2001116678A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-27 | Canon Inc | 光照射用または光検出用プローブの製造方法、および光照射用または光検出用プローブ |
JP2001141634A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-25 | Canon Inc | 近接場光プローブとその作製方法、及びこれらを用いた顕微鏡、記録再生装置、微細加工装置 |
JP2001297463A (ja) * | 2000-04-18 | 2001-10-26 | Seiko Instruments Inc | 情報記録再生装置 |
JP2003194697A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Canon Inc | グレーティングカップラを有する探針及びその製造方法、該探針を有するプローブ、及び該プローブを有する情報処理装置、表面観察装置、露光装置、該露光装置による光学素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7477817B2 (en) | 2009-01-13 |
AU2003294910A8 (en) | 2004-08-23 |
WO2004068502A3 (de) | 2004-11-04 |
DE10303927A1 (de) | 2004-08-19 |
EP1588382A2 (de) | 2005-10-26 |
DE10303927B4 (de) | 2005-03-31 |
WO2004068502A2 (de) | 2004-08-12 |
US20060030842A1 (en) | 2006-02-09 |
EP1588382B1 (de) | 2007-02-14 |
AU2003294910A1 (en) | 2004-08-23 |
DE50306544D1 (de) | 2007-03-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4543225B2 (ja) | 光導波路プローブの製造方法 | |
US7496250B2 (en) | Optical microcantilever | |
EP1111426B1 (en) | Near-field optical probe and scanning near-field optical microscope | |
US7477817B2 (en) | Probe for an optical near field microscope with improved scattered light suppression and method for producing the same | |
JP7532515B2 (ja) | Tirf顕微鏡検査法のためのメタ表面を含む回折光学素子 | |
JP2013250185A (ja) | Sprセンサセルおよびsprセンサ | |
EP1455213B1 (en) | Optical waveguide probe and scanning near-field optical microscope | |
JP7064391B2 (ja) | 光学的な位置測定装置のための走査プレート | |
US20060050373A1 (en) | Probe for an optical near field microscope and method for producing the same | |
JP4611436B2 (ja) | 光マイクロカンチレバー | |
US11092547B2 (en) | Device and method for observing a fluorescent sample | |
JP2001004812A (ja) | 光学的コントラストを生じさせるためのトランスデューサー | |
JP2013061301A (ja) | Sprセンサセルおよびsprセンサ | |
JP4751440B2 (ja) | 近視野光プローブとその製造方法、およびその近視野光プローブを用いた近視野光装置 | |
JP4902073B2 (ja) | カンチレバーの作製方法 | |
Song et al. | Minimization of cut-off effect by use of self-focusing effect to enhance throughput on near-field aperture |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061031 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070327 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070620 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070727 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20070824 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20091126 |