JP2006512603A - 電気光学変換器、電気光学変換器のためのゲル様層、ゲル様層の製造方法及び該方法の実現のための組成物 - Google Patents

電気光学変換器、電気光学変換器のためのゲル様層、ゲル様層の製造方法及び該方法の実現のための組成物 Download PDF

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Abstract

電気光学変換器は、光軸上に連続して設置された:少なくとも1つの光点灯器、それぞれが少なくとも1つの平行平板又は少なくとも1つの最大内面反射プリズムの形態である1つの透過サポート又はM個の透過サポート、少なくとも1つの線変調器、少なくとも1つの可視化器、認識装置、少なくとも1つの制御装置を具備する。それぞれの線変調器は、透過サポートに取り付けられ透明ゲル様層で覆われた透明導電性層、並びに、線変調器のそれぞれに対応する第二サポート上の一平面内に配置され、透明ゲル様層の上部にギャップを挟んで設置され、対応する制御装置に電気的に接続された、i個の平行リボン制御電極及び接地電極を具備する。それぞれの透過サポートは対応する少なくとも1つの線変調器と共に線要素を形成する。光点灯器は光軸上に連続して設置された長光源及び照明コンバーチブルレンズで構成され、可視化器は光軸上に連続して設置されたフーリエ対物レンズ及び可視化絞りを具備する。光源はパルス又は連続波である。光パルス繰り返し周波数は像の線周波数と等しい。リボン制御電極は制御歯の周期構造と電気的に接続され、接地電極は接地歯の周期構造と電気的に接続される。それぞれの画素に対し歯は対応する電極と一緒になって相互に分離した2つの導電性櫛のように見える。櫛の歯は長光源に対し平行に設置され、一方制御歯と接地歯のペアの配置周期λteethは関係式:λteeth ≦√2λlightdivから計算され、ここでλlightは長光源の波長、αdiv.(ラジアン単位)は櫛の歯に直交する光源の放射の発散である。

Description

本発明は、新規のレリーフォグラフィー(reliefography)変形可能層の創出と使用を伴う光束の強度及び位相特性の制御方法による、光変調に関する。本発明は、光学−機械的産業、テレビ、印刷、通信機器、光ファイバースイッチング及びフィルタ素子、ファストライン及びマトリクスプリンター、並びに他の技術分野において適用可能である。
透明導電性層又は透明ゲル様層が連続して取り付けられている平行平板又は最大内面反射プリズムの形態の透明支持体、並びに、第二の透明支持体に取り付けられギャップを挟んでゲル様層の上部に配置されている平行リボン制御及び接地電極系から成る、線のレリーフ記録を行う中間担体;制御電極に接続された電圧信号の電源ブロック;レリーフ情報の可視化と微光の機能化を行い、コンデンサー及び円柱状対物レンズ−すなわちアナモルフォト(anamorphote)、可視化絞り、線の垂直走査のための手段、並びに画面で構成される光学系を具備する電気光学変換器が知られている(USSR Certificate of Authority 678519, Int.Cl. G11B 7/00, 1979. to Yury Guscho. Physics of reliefography. Moscow, NAUKA, 1999, p.526)[1]。
公知の装置の不利な点は、電気信号に対するレリーフ感度が非常に低くコントラストが低い微光は十分に品質の高い像を受像することができないので、微光を機能化する光学素子を用いる必要がある点である。公知の装置においては電圧信号の電源を具備する線の垂直走査手段の同期化が欠失しており、画面上の像の安定性が低下する、すなわちその品質が損なわれる。像の品質はまた、透明に作られた電極により生み出される位相ノイズによっても損なわれる。
他の公知の電気光学変換器は、透明導電性層又は透明ゲル様層が連続して取り付けられている平行平板又は最大内面反射プリズムの形態の透明支持体、並びに、第二の支持体に取り付けられギャップを挟んでゲル様層の上部に配置されている平行リボン制御及び接地電極系から成る、線のレリーフ記録を行う中間担体;制御電極に接続された電圧信号の電源ブロック、光フィルター、レリーフ情報の可視化を行う光学系、可視化絞り、電圧信号の電源に同期化される線の垂直走査手段、並びに画面を具備する(露国特許(11) 2031624 (13) C1) [2]。
この公知の装置の不利な点は、装置の解像能力が制限されるリボン制御電極と接地電極を使用する必要があり、それゆえに十分に高品質で高コントラストの像を受像することができない点である。他の不利な点は、リボン電極上の電位の階層を画面上の照度の階層に変換することが難しいために、半色調(semi-tone)情報が低品質である点である。
本発明と最も類似した発明は、透明導電性層又は透明ゲル様層が連続して取り付けられている平行平板又は最大内面反射プリズムの形態の透明支持体、並びに第二の支持体に取り付けられギャップを挟んでゲル様層の上部に配置されている平行リボン制御及び接地電極系をそれぞれが具備している、線のレリーフ記録を行う3つの中間担体;線のレリーフ記録を行う3つの中間担体全ての制御電極に接続されている電圧信号の電源ブロック;それぞれが光源、円柱状対物レンズ及び球面対物レンズから成る照明コンバーチブルレンズ、最大内面反射プリズム、並びに円柱状対物レンズ及び球面対物レンズから成る投影コンバーチブルレンズで構成される、レリーフ情報の可視化を行う3つの光学系;電気モーターのシャフト上に設置されたミラードラムから成る、2つのダイクロイックミラー、可視化絞り、線の垂直走査手段;画面;光検出器、及び、出力端子が電圧信号の電源ブロックに接続され、入力端子が光検出器に接続されている同期装置を具備する公知の電気光学変換器である(露国特許2080641 [3]; 国際PCT出願 WO 01/48531 A3; 05.07.2001, 発明者: Yury Guscho [4] )。
上記装置の不利な点は、リボン制御電極と接地電極を使用する必要があることであり、これらは装置の解像能力を制限し、それゆえに十分に高品質の像を得ることができない。他の不利な点は、光源に対する制御及び接地電極の配向が欠けているため、情報結像が低品質である点である。その上、絞りの後の対物レンズがないため、操作可能性と電気光学変換器の結像の品質が低下する。
その上、使われているゲル様層、それらの製造方法、及び線変調器の製造方法とデザインが近年の要求に合致していない。
本願組成物と類似している公知のゲル形成組成物は、塩基性化合物としてオルガノビニルポリシロキサンポリマーを100質量部、架橋剤としてメチルヒドリドポリシロキサンを0.5質量部;癒着を増進する構成物としてシラン化合物を0.5質量部、白金触媒剤を0.03質量部包含する(米国特許第5,432,280; 11.07.1995; Hurogasu Harc, Masayuki Sheno) [5]。
公知のゲル形成組成物は、周辺温度から60℃までの温度範囲において構成物を混合することにより調製される。しかしながら、この組成物は構造上の靭性の限界が低いという特徴がある。従って、該組成物は、高品質で長寿命のゲル様光変調媒質の調製には使用できない。
本発明と最も類似した組成物は、塩基性化合物α,ω‐ジヒドロキシポリジメチルシロキサンポリマー−100質量部、架橋剤テトラエトキシシラン−7質量部、可塑剤ポリジメチルシロキサン液−600質量部、及び触媒ジエチルジカプリル酸スズ(stannum diethyldicaprylate)−4質量部から成る、光変調媒質を得るための組成物である[5]。
しかしながら、公知の該組成物は、ゲルが入っている部分の気密封止をせずに十分な耐久性を有するゲル様光変調媒質を製造することはできない。
下記のゲル様層の製造方法は、原型組成物からゲル様光変調媒質を調製するために用いられる。はじめに、分子量(0.6-1)103 g/molのポリジメチルシロキサン液中に溶解した、分子量(1-2)104 g/molのα,ω‐ジヒドロキシポリジメチルシロキサンの10〜30%溶液を調製する。次いで、架橋剤として作用するテトラエトキシシランを、テトラエトキシシランとα,ω‐ジヒドロキシポリジメチルシロキサンの比が0.8:1から1.5:1になるように、この溶液に加える。次いで、該混合物を20〜40分間機械的に混合する。触媒と架橋剤が該混合物に加わると、ゲル化の工程が即座に開始する。引用発明によると、その工程は1〜3日間続行する。ゲル様媒質の支持体への塗布は次の方法で行われる:透明導電性層で覆われた透明支持体に、ゲル様層の支持体への癒着を増進する物質の溶液を注ぐ。次いで該透明支持体にゲル様組成物を注ぐ。支持体を次いで付加的なガラス板で覆う。公知の方法では、この付加的なガラス板をあらかじめゲル様層の癒着を低下させる物質の層で覆う。金属、例えばクロム、アルミニウム又はニッケルがこの被覆として用いられる。付加的なガラス板へのゲル様層の癒着を低下させる層が存在することにより、層から板を外す際に付加的なガラス板からはがれる層の数を増やすことができるようになる[4]。
公知の方法においてポリマー架橋反応を一定速度にするために、付加的なガラス板を外した後に構造化の化学反応を行なうこと及び10℃から70℃の温度範囲において±1.5℃以内の一定温度の区画室中で層を空気に曝露することが提案されている。最終的なポリマー分子網の形成のために、ゲル様層の表面への水分の接近が必要であり、そのためゲルは3〜5日間20%以上の湿度の空気に曝露される。
上記方法の不利な点は、癒着防止被覆として金属を使うことである。2〜3回使用すると、金属は(その柔らかさゆえに)掻き落とされ、もはや高品質の層を得ることができなくなる。継続的な更新は技術的に手間となり、費用もかかる。
その上、架橋反応の温度状況及び特定の湿度の厳密な管理が必要なため、ゲル様媒質の調製工程が複雑になり、従って再現可能な特性を有するゲル様層の製造も複雑になる。
本発明の目的は、装置の適用可能範囲を拡張すること、光学信号の認識装置における結増品質を改良すること、並びに、ゲル様媒質の調製し線変調器における光学ゲル様層を形成する方法の改変法を提供することにより、継続的に活用しても安定なゲル様変形可能媒質を調製することである。
前記の目的は本発明によって達成される。
本発明によれば、電気光学変換器は光軸上に連続して設置された:少なくとも1つの光点灯器、それぞれが少なくとも1つの平行平板又は少なくとも1つの最大内面反射プリズムの形態の透明支持体又はM個の透明支持体、少なくとも1つの線変調器、少なくとも1つの可視化器、認識装置、並びに少なくとも1つの制御装置を具備し、ここでそれぞれの線変調器は透明支持体に取り付けられ透明ゲル様層で覆われた透明導電性層、並びに、線変調器のそれぞれに対応する第2の支持体上の一平面内に配置され、透明ゲル様層の上部にギャップを挟んで設置され、対応する制御装置に電気的に接続された、i個の平行リボン制御電極及び接地電極を具備し、ここでそれぞれの透明支持体は対応する少なくとも1つの線変調器と共に線要素を形成し;一方光点灯器は光軸上に連続して設置された長い光源と照明コンバーチブルレンズから成り、可視化器は光軸上に連続して設置されたフーリエ対物レンズ(Fourier-objective)と可視化絞りを具備し;光源はパルス又は連続波であって、光パルス繰り返し周波数は像の線周波数と等しく;リボン制御電極は制御歯の周期構造と電気的に接続され、接地電極は接地歯の周期構造と電気的に接続され、それぞれの線画素に対して、歯は対応する電極と一緒になって相互に孤立した2つの導電性の櫛のように見え、一方で該櫛の歯は長い光源に対し平行に設置され、一方で制御歯と接地歯のペアの配置周期λteethは関係式:λteeth ≦√2 λlightdivから計算され、ここでλlightは長い光源の波長、αdiv.(ラジアン単位)は櫛の歯に垂直方向の光源の放射の発散であり、ゲル様層は分子量10000〜16000で粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO [(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3、水素化物基を10〜15%含み、粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3をベースに製造される。
母線が櫛の歯に対して平行である少なくとも1つの円柱状対物レンズは、照明コンバーチブルレンズの中に挿入され得る。
可視化器は、母線が櫛の歯に対して平行である少なくとも1つの円柱状対物レンズを具備し得る。
認識装置は、投影レンズ、鏡系、線の垂直走査手段、画面、スキャナーの光検出器を具備し得る、一方、環状円柱状対物レンズが投影レンズに挿入され得る。
制御装置は、出力が電圧信号の電源ブロックに接続され、入力がスキャナーの光検出器に接続されている同期装置;透明導電性層と接地電極との間に設置されているベース電圧電源;線変調器の制御電極のi個の入力に接続されている電圧信号の電源ブロック;レリーフ形成のタイムフロントの補正電源を経由して、1つの出力によって電圧信号の電源ブロックの同様な出力に接続され、他の出力によって接地電極に接続されるバイアス電圧電源から構成され得る;一方で同期装置は、1つは光源に接続されもう1つは線の走査手段に接続されている2つの出力、並びに電圧信号の電源ブロックからの入力もさらに具備し、一方でレリーフ形成のタイムフロントの補正電源は、バイアス電圧電源と共に連続して挿入され同期装置に接続されており、その電源はパルス信号を増強させる瞬間において時間決定された形態のさらなるパルスバイアス電圧を印加し、任意の時間−空間規則(time-space rule)に応じてリボン制御及び接地電極上の信号の極性を切り替える整流子は電圧信号の電源ブロックと同期装置とに接続されている。
平行リボン制御及び接地電極系は、第2の支持体に取り付けられてもよく、また、長い光源に対し平行な櫛の制御歯と接地歯がリボン制御及び接地電極に対し垂直に取り付けられている均一な厚さの誘電性薄層で覆われてもよく、制御歯は接触子によって対応するリボン制御電極に電気的に接続され、接地歯は接触子によって対応するリボン制御電極に電気的に接続され、ここで1つの画素の歯の元口は他の画素の歯の元口とギャップを挟んで向かい合って設置され、歯は可変電気的パラメーターを有する防護誘電性薄層で覆われる。
平行リボン制御及び接地電極系は、第2の支持体に取り付けられてもよく、また、櫛の接地歯が取り付けられている均一な厚さの誘電性薄層で覆われても良く、該接地歯は接触子によって対応するリボン接地電極と電気的に接続されており、また、平行リボン制御及び接地電極系は、制御歯が取り付けられている均一な厚さの第二の防護誘電性薄層で覆われても良く、該制御歯は接触子によって対応するリボン制御電極に接続されており、一方でそれぞれの画素において、歯の元口は隣り合う画素の元口の間の間隙と向かい合って設置される。
認識装置は投影レンズ、鏡系、線の垂直走査手段を具備し得る;該装置は、赤、緑、青色光点灯器、並びに、赤、緑、青色光点灯器に対応し出力によって色整流子と電気的に接続された3つの制御装置を具備し、該色整流子は1つの出力によってそれぞれの線変調器と、3つの出力によって連続的にスイッチが入れられる3つの光点灯器と、そして5つ目の出力によって走査手段と接続されており、透明支持体は少なくとも1つの最大内面反射三角プリズムの形態で形成され、それぞれの線要素は3つの線変調器を具備して同時にスイッチが入り、それぞれの変調器は制御歯と接地歯のペアの次数の対応する周期λteethを3色それぞれに対して有し、3つの光点灯器は互いに平行に配置され、対応する色の光束は対応する線変調器に対し垂直に落ち、一方でより大きな波長の光束ほどフーリエ対物レンズからより離れた場所に位置する線変調器に方向づけられ、一方不透明な可視化絞りは3色全てのゼロ次数の放射を遮断又は透過する。
本願で特許される請求装置は、赤、緑、青色光点灯器、並びに、赤、緑、青色光点灯器に対応し出力によって色整流子と電気的に接続された3つの制御装置を具備し得、該色整流子は1つの出力によってそれぞれの線変調器と、3つの出力によって連続的にスイッチが入れられる3つの光点灯器と、そして5つ目の出力によって走査手段と接続されており、それぞれの線要素は、制御歯と接地歯のペアの次数の3つの別個の空間的周期λR、λG、λBを赤、緑、青色光点灯器の光の波長に対応して有する3つの線変調器を具備し、一方で、適切な時期に順次にスイッチが入る3つの線変調器全てが、より大きな波長を受ける線変調器がフーリエ対物レンズからより離れた場所に位置するように、光軸上に設置される。
本願で特許される請求装置において、それぞれの透明支持体は、等しい側辺(斜辺以外の辺)によって順次光学的に結合されている直角三角形を有するN個の三角プリズムの形態で形成され、一方線変調器は斜辺側面の全て又はいくつかに取り付けられ;最初のプリズムの一側辺面は少なくとも1つの光点灯器に向けられた接触物のない表面を有し、最後のプリズムの一側辺面は少なくとも1つの可視化器に向けられた接触物のない表面を有しており、一方、これらの面は光軸に対し垂直であって、光点灯器からの光は全ての斜辺面上に最大内面反射角よりも大きい角度で落ち、線変調器は等しい又は異なる櫛の歯の空間周波数を有する。
該装置はさらに、線形マトリックスの形態で配置されたM個の線要素を具備し得、該線要素それぞれの透明支持体は同数のプリズムで構成されており、ここで平行な平面内又は同一平面内に設置された線要素の接触物のない最初と最後の辺側面はそれぞれ、M個の単色、3色又は多色光点灯器のマトリックス、並びに対応してM個の単色、3色又は多色可視化器のマトリックスに向けられている。
認識装置は、透明若しくは無光沢、又は感光性、若しくは感熱性の物質の形態で形成されてもよく、光軸上の可視化器のマトリックスの後に配置され得る。
長い光源は、1端が単色又は多色情報レーザー光源に接続され、もう1端が光伝達の過程で最初に出会うプリズムと光学的に接続されている1つの光ファイバーまたは複数の光ファイバーのマトリックスの形態で設計されても良く、それぞれの光ファイバーはそれぞれの線変調器の1個又は数個の画素と光学的に接続され、光伝達の過程で最後に出会うプリズムは1つの可視化器又は複数の可視化器のマトリックスと接続されており、不透明な可視化絞りは0次の光回折を透過させる開口を有する1つの穴又は複数の穴のマトリックスを具備しており、該穴又は穴のマトリックスの後であって焦点距離よりも近い位置の光軸上に対物レンズが設置され、該対物レンズは出力光ファイバーに光を集め該出力光ファイバーの他方の端は光情報の認識装置に接続しており、信号電圧は全ての線変調器に同期的に又は3相時間モード若しくは多相時間モードで印加されて良く、該電圧は4.82ラジアンに等しい位相変調の至適深度を創出するために十分なものであって、認識装置は光点灯器に電気的に接続されている。
長い光源は、1端が単色又は多色情報レーザー光源に接続され、もう1端が光伝達の過程で最初に出会うプリズムと光学的に接続されている1つの光ファイバーまたは複数の光ファイバーのマトリックスの形態で設計されても良く、それぞれの光ファイバーはそれぞれの線変調器の1個又は数個の画素と光学的に接続し、光伝達の過程で最後に出会うプリズムは1つの可視化器又は複数の可視化器のマトリックスと接続されており、不透明な可視化絞りは画素電極によって制御された光回折の1及び/又はより高い次数の放射を透過する開口を有する1つの穴又は穴のマトリックスを具備しており、それぞれの線変調器に対する可視化器は対物レンズが穴又は穴のマトリックスと向かい合って設置されるように設計され、該対物レンズは出力光ファイバーに光を集め該出力光ファイバーの他方の端は光情報の認識装置に接続しており、信号電圧は全ての線変調器に同期的に又は3相時間モード若しくは多相時間モードで印加され、該電圧は4.82ラジアンに等しい位相変調の至適深度を創出するために十分なものであって、認識装置は光点灯器に電気的に接続されている。
光伝達の過程で最初に出会う線要素のプリズムの辺側面に対し、光点灯器は90度以下の角度で、また認識装置は90度の角度で配置されてよく、0次回折光を遮断する可視化絞りの一部は鏡で覆われ、光伝達の過程で最後に出会う線要素のプリズムの辺側面に平行に設置されており、第二の認識装置又は光吸収装置が可視化絞りの鏡に覆われていない部分に設置される。
線要素中の1個又は数個の線変調器の櫛の歯は、対応する波長の光を反射する連続した誘電性薄鏡で覆われても良く、線変調器を具備しない1つ又は全てのプリズム斜辺面(接触物がない面)は鏡で覆われる。
線変調器のプリズムの接触物がない最後の辺側面は、鏡で覆われてもよい。
本発明の他の具体例において、電気光学変換器は、赤、緑及び青色光点灯器、少なくとも1つの平行平板又は少なくとも1つの最大内面反射プリズムの形態の透明支持体、1つの線変調器、少なくとも1つの可視化器、認識装置、並びに赤、緑及び青色光点灯器に対応する3つの制御装置を具備し、該制御装置は1つの出力で色整流子と電気的に接続し、該色整流子は1つの出力で線変調器と、3つの出力で色整流子により順次スイッチが入る3つの光点灯器と、5つ目の出力で走査手段と接続しており、一方、線変調器は、透明支持体に取り付けられ透明ゲル様層で覆われた透明導電性層、並びに、第2の支持体上の一平面内に取り付けられゲル様層上部にギャップを挟んで設置されたi個の平行リボン制御電極及び接地電極系を具備しており、ここで線変調器は透明支持体と共に線要素を形成し、それぞれの光点灯器は光軸上に連続して設置された長い光源と照明コンバーチブルレンズで構成されており、光源はパルス又は連続波であって、光パルス繰り返し周波数は像の線周波数と等しく;可視化器は光軸上に連続して設置されたフーリエ対物レンズ及び可視化絞りを具備しており、同一直線上にある3色全ての放射束は適切な時間内で順次垂直に線要素上に落ち、リボン制御電極は制御歯の周期構造に電気的に接続され、接地電極は接地歯の周期構造に電気的に接続されており、それぞれの線画素に対して、歯は電極と一緒になって相互に孤立した2つの導電性の櫛のように見え、櫛の歯は長い光源と平行に設置され、制御歯と接地歯のペアに対する次数の周期λteethは関係式:λteeth ≦√2 λlight mindiv maxによって決定され、ここでαdiv maxは赤、緑、青色のうちで最も大きな放射発散、λlight minは光波長の最小値であり、一方不透明な可視化絞りの大きさは3色全ての0次数の重複状況に応じて決定され、線変調器の制御電極上の電圧はそれぞれの色に対して必要なレリーフ深度を形成し、ゲル様層は分子量10000〜16000で粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO [(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3、水素化物基を10〜15%含み、粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3をベースに作製される。
本発明の他の具体例において、電気光学変換器は、少なくとも1つの光点灯器、それぞれ少なくとも1つの平行平板の形態である1個の透明支持体若しくはM個の透明支持体、少なくとも1つの線変調器、少なくとも1つの可視化器、認識装置を具備し、さらに少なくとも1つの制御装置を具備しており、ここでそれぞれの線変調器は、対応する透明支持体に取り付けられ透明ゲル様層で覆われた透明導電性層、並びに、それぞれの線変調器に対応する第2の支持体上の一平面内に配置され、透明ゲル様層の上部にギャップを挟んで設置され、制御装置に電気的に接続された、i個の平行リボン制御電極及び接地電極系を具備し、ここでそれぞれの透明支持体は対応する少なくとも1つの変調器と一緒に線要素を形成しており、一方光点灯器は光軸上に連続して設置された長い光源及び照明コンバーチブルレンズで構成され、可視化器は光軸上に連続して設置されたフーリエ対物レンズ及び可視化絞りを具備し;光源はパルス又は連続波であって、光パルス繰り返し周波数は像の線周波数と等しく;光点灯器はその放射が平行平板、透明導電性層、透明ゲル様層、空気ギャップに対し90度以下の角度で向かうように配置されており、リボン制御電極は制御歯の周期構造と電気的に接続され、接地電極は接地歯の周期構造と電気的に接続され、それぞれの線画素に対し歯は対応する電極と一緒になって相互に孤立した2つの導電性の櫛のように見え、一方櫛の歯は長い光源と平行に設置されると共に対応する波長の光を反射する連続した誘電性薄鏡で覆われ、制御歯と接地歯のペアに対する次数周期λteethは関係式:λteeth ≦√2 λlight mindiv maxによって決定され、ここでλlightは長い光源の波長、αdiv.(ラジアン単位)は櫛の歯に直交する光源の放射の発散であり、該ゲル様層は、分子量10000〜16000で粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO [(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3、水素化物基を10〜15%含み、粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3をベースに作製される。
本発明の目的は、電気光学変換器のためのゲル様層によっても達成され得る。
電気光学変換器のためのゲル様層は、分子量10000〜16000で粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3、架橋剤として水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3、可塑剤として粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3、硬化触媒として塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はテトラビニルシランとのそれの錯体を、以下の比率(質量部):ポリビニルシロキサン−100、オリゴヒドリドシロキサン−15〜25、ポリメチルシロキサン液−150〜300、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体−0.3〜2で含有するゲル様組成物の構成物の反応産物である。
発明の目的は、電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法によっても達成され得る。
本発明の電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法は、分子量10000〜16000で粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部とを混合し、混合終了後、粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3の150〜300質量部を加えることを包含し、次いで再度混合した後、塩化白金酸0.1%有機溶媒溶液又はテトラビニルシランとのそれの錯体0.3〜2質量部を加え、反応組成物を混合し、混合終了後、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布する。
本発明の好ましい具体例において、該組成物は、混合終了後1〜20分おいてから導電性透明層に塗布される。
得られた反応組成物は、混合終了後、次の通りの方法で均一な厚さの層として導電性透明層に塗布することができる:第1層の形成、架橋及び冷却後、続けて第1層又は先に架橋し冷却したゲル層上にさらに1又はいくつかのゲル層を塗布する。
本発明の好ましい具体例において、電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法は、分子量10000〜16000で粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部とを混合し、混合終了後、粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3の150〜300質量部を加え、再度混合した後、塩化白金酸0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体0.3〜2質量部を加えることを包含し、次いで反応組成物を混合し、混合終了後、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布し、その後得られた層を光学的に平らな表面を有する付加的な板で覆い、透明導電性層と付加的な板の間に配置したメインスペーサーによってゲル様層の厚さを扁平にし、次いで得られた構築物をオーブン中に置いて約2〜4時間70〜90℃の温度に保ち、次いで付加的な板を外して、制御電極及び接地電極が取り付けられた第2の支持体で該ゲル様層を覆い、ただし該電極は防護誘電性薄層で覆われていて、メインスペーサーよりも大きい付加的なスペーサーによってギャップが付与される。
得られた反応組成物は、混合終了後、次の通りの方法で均一な厚さの層として導電性透明層に塗布することができる:第1層の形成、架橋及び冷却後、続けて第1層又は先に架橋し冷却したゲル層上にさらに1又はいくつかのゲル層を塗布する。
付加的な板は、好ましくは癒着防止層で覆われ、スルファノール−π(sulfanol-π)のような界面活性物質が癒着防止層として好ましく用いられ得る。
付加的な板は、好ましくはプラズマ又は他の洗浄照射で処理される。
本発明の他の具体例において、電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法は、分子量10000〜16000で粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部とを混合し、混合終了後、粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3の150〜300質量部を加えることを包含し、再度混合した後、塩化白金酸0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体0.3〜2質量部を加えることを包含し、次いで反応組成物を混合し、混合終了後、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布し、その後得られた層を光学的に平らな表面を有する付加的な板で覆い、透明導電性層と付加的な板の間に配置したメインスペーサーによって透明ゲル様層の厚さを扁平にし、次いで得られた構築物をオーブン中に置いて約1〜2時間70〜90℃の温度に保ち、次いで周辺温度まで冷却し、その後付加的な板を外して、透明導電性層上に設けられたゲル様層を再びオーブン中に置き、ゲルの架橋が完了するまで約1〜3時間70〜90℃の温度に保つ。
得られた反応組成物は、混合終了後、次の通りの方法で均一な厚さの層として導電性透明層に塗布することができる:第1層の形成、架橋及び冷却後、続けて第1層又は先に架橋し冷却したゲル層上にさらに1又はいくつかのゲル層を塗布する。
付加的な板は癒着防止層で覆われ得る。
スルファノール−πのような界面活性物質が癒着防止層として用いられ得る。
付加的な板は、プラズマ又は他の洗浄照射で処理され得る。
本発明の他のさらなる具体例において、電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法は、分子量10000〜16000で粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部とを混合し、混合終了後、粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3の150〜300質量部を加え、再度混合した後、塩化白金酸0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体0.3〜2質量部を加えることを包含し、次いで反応組成物を混合し、混合終了後、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布し、その後得られた層を光学的に平らな表面を有する付加的な板で覆い、透明導電性層と付加的な板の間に配置したメインスペーサーによって透明ゲル様層の厚さを扁平にし、次いで得られた構築物をオーブン中に置いて約2〜4時間70〜90℃の温度に保ち、その後付加的な板を外して、制御電極及び接地電極が取り付けられた第2の支持体で該ゲル様層を覆い、ただし該電極は防護誘電性薄層で覆われていて、ゲルの架橋、収縮及び周辺温度までの冷却が完了した後にメインスペーサーによってギャップが付与される。
この具体例において、該反応組成物は、混合終了後、次の通りの方法で均一な厚さの層として導電性透明層に塗布することができる:第1層の形成、架橋及び冷却後、続けて第1層又は先に架橋し冷却したゲル層上にさらに1又はいくつかのゲル層を塗布する。
付加的な板は、好ましくは癒着防止層で覆われる。
より好ましい具体例において、スルファノール−πのような界面活性物質が癒着防止層として用いられ得る。
付加的な板は、プラズマ又は他の洗浄照射で処理され得る。
本発明の他の具体例において、電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法は、分子量10000〜16000で粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部とを混合し、混合終了後、粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3の150〜300質量部を加え、再度混合した後、塩化白金酸0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体0.3〜2質量部を加えることを包含し、次いで反応組成物を混合し、混合終了後、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布し、その後得られた層を光学的に平らな表面を有する付加的な板で覆い、透明導電性層と付加的な板の間に配置されたメインスペーサーによってゲル様層の厚さを扁平にし、次いで得られた構築物をオーブン中に置いて約1〜2時間70〜90℃の温度に保ち、次いで周辺温度まで冷却して、その後付加的な板を外し、次いで透明導電性層上に設けられた該ゲル様層を再びオーブン中に置いて、ゲルの架橋が完了するまで約1〜3時間70〜90℃の温度に保ち、一方で、ゲルの架橋、収縮及び周辺温度までの冷却が完了した後にメインスペーサーによってギャップが付与される。
得られた反応組成物は、混合終了後、次の通りの方法で均一な厚さの層として導電性透明層に塗布することができる:第1層の形成、架橋及び冷却後、続けて第1層又は先に架橋し冷却したゲル層上にさらに1又はいくつかのゲル層を塗布する。
付加的な板は、好ましくは癒着防止層で覆われる。
より好ましい具体例において、スルファノール−πのような界面活性物質が癒着防止層として用いられ得る。
付加的な板は、プラズマ又は他の洗浄照射で処理され得る。
本発明の課題は、ゲル様層の調製方法を実現するための組成物によっても解決することができる。
電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法を実現するための本発明の組成物は、分子量10000〜16000で粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3、架橋剤として水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3、可塑剤として粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3、硬化触媒として塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はテトラビニルシランとのそれの錯体を、以下の比率(質量部):ポリビニルシロキサン−100、オリゴヒドリドシロキサン−15〜25、ポリメチルシロキサン液−150〜300、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体−0.3〜2で包含する。
電気光学変換器(図1−15)は、光軸上に連続して設置された:少なくとも1つの点灯器1、少なくとも1つの平行平板又は最大内面反射プリズムの形態の透明支持体2、少なくとも1つの線変調器3、少なくとも1つの可視化器4、認識装置5を具備し、さらに少なくとも1つの制御装置6を具備し、ここで線変調器3は、透明支持体2に取り付けられ透明ゲル様層8で覆われた透明導電性層7、並びに、第2の支持体11に取り付けられ、透明ゲル様層8の上部にギャップ12を挟んで設置され、制御装置6に電気的に接続された、i個の平行リボン制御電極9及び接地電極10系を具備し、ここで少なくとも1つの線変調器3は透明支持体2と共に線要素13を形成し;一方、光点灯器1は、光軸上に連続して設置された長い光源14及び照明コンバーチブルレンズ15で構成され、可視化器4は、光軸上に連続して設置されたフーリエ対物レンズ16及び可視化絞り17を具備し;長い光源14はパルス又は連続波であり、光パルス繰り返し周波数は像の線周波数と等しく;一方、リボン電極9及び10は、第2の支持体11上の一平面内で平行に設置されて電圧信号の電源ブロックと接続されており、ここでそれぞれの線画素18に対しリボン制御電極9は制御歯19の周期構造と電気的に接続され、接地電極10は接地歯20の周期構造と電気的に接続されている。歯19及び20は電極9及び10と一緒になって互いに孤立した2つの導電性の櫛のように見え、一方櫛の歯19及び20は長い光源14に対し平行に設置されており、一方、長い光源14の各波長λlightと櫛の歯に直交するそれの発散αdiv.(ラジアン単位)に対する制御歯19及び接地歯20のペアの配置周期λteethは、関係式:λteeth ≦√2 λlightdivから計算される。
近年、長い光源は進歩しており、例えば、特に、光の全ての可視領域において、半導体レーザーは1ミクロンの発光ボディーを有し、その力は数十ワットに達する。発光ボディーに沿った方向の光の発散の「小ささ」と縦方向の発光ボディーの「点種焦点(point species focus)」のために、照明対物レンズによって長い光源に対し垂直な平面内の発散角が非常に小さい光束を生成することが可能である。その上、照射範囲が非常に狭いビームを得ることができる。アナログの長い光源に対し垂直に方向づけられたリボン電極を使用することにより、光を大量に損失する。その上、電極のそのような方向づけにより、1.5倍大きい次元周波数が必要となる。線形画素、すなわちリボン電極がプリズム斜辺面上で長い光源に対し平行に配置されると、信号の線の一端が拡張しもう一端が圧縮するために、情報のゆがみが生じる。これらのゆがみは、1つの線中の画素数の増加に伴って増加する。櫛電極を適用することで、記録感度が増大し、長い光源に平行な光プラットホームの幅を減少させ、さらに画像の非線形ゆがみを減少させることもできるようになる。例えば、25〜125ミクロンの光プラットフォームの幅を得るためには、画素櫛構造において、80線/mmに2個から10個の櫛の歯を対応して用いれば十分である。
他の具体例(図1)において、母線が櫛の歯19,20に平行である少なくとも1つの円柱状対物レンズ21が照明コンバーチブルレンズ15中に挿入される。
他の具体例(図1)において、可視化器4は、母線が櫛の歯に平行である少なくとも1つの円柱状対物レンズを具備する。
他の具体例(図1)において、認識装置5は、投影レンズ22、鏡系23、線の垂直走査手段24、画面25、スキャナーの光検出器26を具備し、一方、走査手段の軸はリボン電極に対し垂直で、環状円柱状対物レンズが投影レンズ中に挿入され、ここで該円柱状対物レンズは櫛の歯に平行な母線を有する。
他のさらなる具体例(図1)において、制御装置は、出力が電圧信号の電源ブロック28に接続され、入力がスキャナーの光検出器26に接続された同期装置27、透明導電性層7と接地電極10の間に位置するベース電圧電源29、線変調器3の制御電極9のi個の入力に接続された電圧信号の電源ブロック28、並びに、レリーフ形成のタイムフロントの補正電源31を経由して、1つの出力によって電圧信号の電源ブロックの同様な出力に接続され、他の出力によって接地電極10に接続されるバイアス電圧電源で構成されており、一方、同期装置27は2つの出力をさらに具備し、そのうちの1つは光源14へ、もう1つは線の走査手段24へ接続され、該同期装置27は電圧信号の電源ブロック28からの入力もさらに具備しており、一方レリーフ形成のタイムフロントの補正電源31はバイアス電圧電源30と共に連続して挿入され、パルス信号を増強させる瞬間において時間決定された形態のパルスバイアス電圧をさらに印加する同期装置27に接続されており、任意の時間−空間規則に応じて制御及び接地電極上の信号の極性を切り替える整流子32は、電圧信号の電源ブロック28と同期装置27とに接続されている。レリーフ形成のタイムフロントの補正電源31により、フロント動作の周期のための電気パルスをさらに接続する場合における装置の動作速度を高めることができる。「任意の時間−空間規則に応じて」という語は、発明の具体的な適用に応じて、1つの電極から他へ電圧を変移させること又は1つの電極上で電圧を変化させることのいずれかが必要であり得るということを意味する。
その上、この分野において公知の通り、透明支持体は直角三角形の形状の土台を有する単一プリズムである。それにより、装置のデザインと動作性能並びにレリーフ記録制御の機能の拡張の可能性が制限される。
従って、本発明の具体例(図4−7)のうちの1つにおいて、等しい辺側面によって順次光学的に結合されている、直角三角形を有するN個の三角プリズム33の形態で透明支持体が形成されており、一方、線変調器3は全て又はいくつかの斜辺側面上に取り付けられており、一方、最初のプリズムの1辺側面は少なくとも1つの光点灯器1に向けられた接触物のない表面を有し、最後のプリズムの1辺側面は少なくとも1つの可視化器4に向けられた接触物のない表面を有しており、一方これらの面は光軸に対し垂直で、光点灯器1からの光は最大内面反射角よりも大きい角度で全ての斜辺面に落ち、線変調器3は等しい又は異なる櫛の歯の空間周波数を有する。
透明支持体のこのような構造により、電気信号に対する感度を同時にリアプロジェクション型電気光学変換器の感度の約3倍に高める直流光学素子の図式と類似した工学的解決に光学変換器を適合させることが可能となる。
本発明のさらなる他の具体例(図2)において、平行リボン制御9及び接地電極10の系は第2の支持体11に取り付けられ、均一な厚さの誘電性薄層34で覆われ、長い光源14に平行な櫛の制御歯19と接地歯20がリボン制御9及び接地10電極に対し垂直方向になるように該誘電性層に取り付けられており、制御歯19は接触子35によってリボン制御電極9と電気的に接続され、接地歯20は接触子36によってリボン制御電極10と電気的に接続されており、ここで1つの画素18の歯の元口は隣り合う画素の歯の元口とギャップを挟んで向かい合って設置され、歯は調節可能な電気特性、すなわち電気伝導度又は誘電率を有する防護誘電性薄層37で覆われる。
「薄層」という語は本発明が言及する工学分野において通常用いられるものであり、層の厚さがそれの長さ又は幅よりも極めて小さいということを意味する。
このような櫛電極構造の変形例は、レリーフ記録の機能領域を本質的に増加させ、従って光学変換器の光出力を増加させる。隣接する画素間の接地及び制御櫛の入れ替わりは、画素の相互影響を低下させ、機能領域を増加させる。調節可能な電気特性を有する防護誘電性層により、ベース電圧電源29の電圧の上昇が可能となり、信号電圧が無い場合のギャップ12における電解不均一性の低下に起因する信号電圧の減少を同時に伴う。
本発明の他の具体例(図3)において、平行リボン制御電極9及び接地電極10の系は第2の支持体に取り付けられ、均一な厚さの誘電性薄層34で覆われ、該誘電性薄層上には、接触子36によってリボン接地電極10と電気的に接続され、均一な厚さの第二誘電性薄層38で覆われた櫛の接地歯20が設置されている。第二誘電性薄層38上に、接触子35によってリボン制御電極9と電気的に接続された櫛の制御歯19が設置されており、一方、それぞれの画素18において、歯の元口は隣り合う画素の歯の元口の間の間隔と向かい合って設置されている。
第二誘電性薄層38を付加することにより、線変調器3の空間解像度が増大する。最大解像度すなわち単位長当たりの制御電極数の最大値は、プロトタイプにおいては、制御及び接地電極の幅並びにそれらの間の距離の最小可能値によって決定される。これらの値は技術的な実現性によって制限され、互いにほぼ等しい(プロトタイプにおいては、電極間の距離をある値よりも小さくした場合、電極の縁がいくつかの区画で接し合い、すなわち、装置のオペラビリティがない状態となる)。第二誘電性薄層38の付加により、櫛の歯間の距離の最小値をほぼ2〜3倍減らすことができるようになる。第二誘電性薄層38の幅を電極の幅よりもかなり(5〜10倍以上)小さくすると、記録感度は影響を受けないままとなる。上に開示した方法による最大解像度の上昇により、認識装置5上の像品質が改良される。
従来の分野において、プロトタイプも含め、消費電力が極めて小さい直視表示装置を創出することを可能とする構築物は知られていない。単一プリズム又は奇数個の光学的結合プリズムの使用によっては、そのような種類の表示装置を創出することができない。課題は、本発明の下記具体例(図4)において解決され、それには、M個の線要素13と、線形マトリックスとして一平面内に設置される同数のプリズム33で構成される線要素それぞれの透明支持体が存在し、ここで、平行な面内又は1平面内に位置する線要素の最初と最後の接触物のない辺側面はそれぞれ、M個の単一、3色又は多色光点灯器1のマトリックス及びM個の単一、3色又は多色可視化器4のマトリックスに向けられている。直視色表示装置を表すこの具体例において、同時に動作する3つの光源全ての力は完全に利用される。認識装置が、光軸上に連続して設置された、線形マトリックスの区画よりも大きい開口を有する投影レンズ、及び3色全てに対する単一の可視化器を具備する色遠隔投影機を得ることを可能とする画面を具備する場合、マトリックス線要素は伝送変調器のように見ることもできるが、しかしその感度はほぼ3倍高い。
さらなる他の具体例(図示なし)において、認識装置は透明若しくは無光沢、又は感光性、若しくは感熱性の物質の形態で形成され、可視化器のマトリックスの後の光軸上に設置される。透明又は無光沢の物質を使用する場合の直視表示装置の発達の他に、本発明は、感光性又は感熱性担体上の情報記録のために適用され得る。この構築物には走査手段は不要である。認識装置が線形マトリックスの区画よりも大きい開口を有する投影レンズと、光軸上に順次設置された画面を具備する場合には、この具体例は投影装置に格上げされる。
さらなる他の具体例(図8a)では、装置は光軸上に連続して設置された:赤色(R)、緑色(G)及び青色(B)光点灯器1、少なくとも1つの平行平板又は最大内面反射プリズムの形態の透明支持体2、1つの線変調器3、少なくとも1つの可視化器4、認識装置5、色整流子39と出力によって電気的に接続された3つの制御装置6を具備し、ただし該色整流子は1つの出力によって線変調器3と、3つの出力によって順次スイッチが入る3つの光点灯器1と、そして5つ目の出力によって走査手段24と接続されており、一方線変調器3は、透明支持体2に取り付けられ透明ゲル様層8で覆われた透明導電性層7、及び、第2の支持体に取り付けられ、透明ゲル様層8の上部にギャップを挟んで設置され、制御装置6に電気的に接続された、i個の平行リボン制御電極9及び接地電極10の系を具備しており、ここで少なくとも1つの線変調器3が透明支持体2と共に線要素13を形成し;一方、光点灯器1は、光軸上に連続して設置された長い光源14及び照明コンバーチブルレンズ15で構成され、可視化器4は、光軸上に連続的に設置されたフーリエ対物レンズ16及び可視化絞り17を具備し;光源14はパルス又は連続波であって、光パルス繰り返し周波数は像の線周波数と等しく;ここで光軸上に連続して:赤色(R)光点灯器、光軸と緑色光点灯器(G)に対し45度に配置され赤色光は透過して緑色光は反射する第一のダイクロイックミラー23、及び、光軸と青色光点灯器(B)に対し45度に配置され赤色光と緑色光は透過して青色光は反射する第二のダイクロイックミラー23が設置され、一方で、3色全ての一直線上の放射束は、適切な時期に線要素13上へ順次垂直に落ち、一方リボン電極9と10は第2の支持体11上の一平面内に設置されて電圧信号の電源ブロック28へ接続され、ここでそれぞれの線画素18に対しリボン制御電極9は制御歯19の周期構造と電気的に接続され、接地電極10は接地歯20の周期構造と電気的に接続されており、一方で、歯19及び20は電極9及び10と一緒になって互いに孤立した2つの導電性の櫛のように見え、一方、櫛の歯19及び20は長い光源14に平行に設置され、線変調器3は、光波長の最小値に対して以下の関係式:λteeth ≦√2 λlight mindiv maxによって決定される、制御歯と接地歯のペアに対する次数の周期λteethを有し、ここでαdiv maxは赤、緑、青色のうちで最も大きな放射の発散である。不透明な可視化絞り17の大きさは3色全てのゼロ次数の重複の状況に応じて決定され、線変調器3の制御電極9上の電圧は、各色に対するレリーフの必要な深度を形成する。
これにより、連続的な色の配合を有する小型のカラー電気光学変換器を得ることができ、変換器のコストと大きさも本質的に低下させる。
本発明のさらなる他の具体例(図8b)において、3つの線変調器3は連続的に3色を処理する。この具体例では、これらの変調器が光軸上でフーリエ対物レンズ16から異なる距離に設置されているので、3色全てに対してほとんど同じタイプの変調器を用いることができる。それぞれの線要素13が、色整流子39に電気的に接続された赤、緑、青色光点灯器それぞれに対して、制御歯19と接地歯20のペアの次数の3つの別個の空間的周期λR、λG、λBを有する3つの線変調器を具備するように、前記変調器が構築される。適切な時期に順次スイッチが入る3つの線変調器3は、より大きな波長を有する線変調器3ほどフーリエ対物レンズ16から離れたところに位置するように、光軸上に設置される。図8cは、ダイクロイックミラーを用いた画面上における色の配合の、公知の光学模式図を示す。
図8dは、本発明のさらなる他の具体例を示しており、該具体例では、透明支持体2は少なくとも1つの最大内面反射三角プリズム33の形態で形成されており、それぞれの線要素13は3つの線変調器3を具備して、同時にスイッチが入り、1若しくは数個の斜辺面に3つの色区画として取り付けられ、ここでそれぞれの線変調器3はそれぞれの色に対して対応する制御歯と接地歯のペアの次数の周期λteethを有し、3つの光点灯器1は互いに平行に配置され、対応する色の光束は対応する線変調器3の色区画に垂直に落ち、一方でより大きな波長を有する光束ほどフーリエ対物レンズ16からより遠い場所に設置された区画に方向づけられ、不透明な可視化絞り17は3色全てのゼロ次数の放射を遮断又は透過し、3つの制御装置6は、赤、緑及び青色光点灯器1並びに対応する線変調器3の色区画と共に、線走査手段24に電気的に接続される。このような構造によって、1つだけの可視化器4と投影レンズ22を使用する可能性を残しながら、光源の力を完全に利用することができるようになる。固有の色に対応する線変調器3のそれぞれの区画が光学的に結合した3つ以上のプリズム33から成る透明支持体の別々の斜辺面に取り付けられている具体例においては、等しい又は近似の次元周波数を有する線変調器3を用いることができる。それぞれの色に対する線変調器を統一することで、装置のコストを低下できるだけでなく、変調器のレリーフの制御の機能性を拡張することもできるようになる、なぜなら、好適な記録担体の化学組成物を用いること、並びに線変調器の幾何学的、電気的、機械的及び光学的パラメーターを至適化することが可能になるからである。
さらなる他の具体例(図6a)において、装置は光軸上に連続して設置された:少なくとも1つの光点灯器1、少なくとも1つの平行平板の形態の透明支持体2、少なくとも1つの線変調器3、少なくとも1つの可視化器4、認識装置5を具備し、さらに少なくとも1つの制御装置6を具備し、ここで、線変調器3は、透明支持体2に取り付けられ透明ゲル様層8で覆われた透明導電性層7、並びに、第2の支持体11に取り付けられ、透明ゲル様層8の上部にギャップ12を挟んで設置され、制御装置6に電気的に接続されたi個の平行リボン制御電極9及び接地電極10の系を具備し、ただしここで、少なくとも1つの線変調器3は透明支持体2と共に線要素13を形成し;一方、光点灯器1は、光軸上に連続して設置された長い光源14及び照明コンバーチブルレンズ15から成り、可視化器4は光軸上に連続的に設置されたフーリエ対物レンズ16及び可視化絞り17を具備し;一方、光源14はパルス又は連続波であって、光パルス繰り返し周波数は像の線周波数と等しく;光点灯器からの放射が平行平板41、透明導電性層7、透明ゲル様層8、空気ギャップ12に対し90度以下の角度で向けられるように光点灯器が設置され、一方、リボン電極9及び10は第2の支持体11上の一平面内に設置されて電圧信号の電源ブロック28に接続され、ここでそれぞれの線画素に対しリボン制御電極9は制御歯19の周期構造に電気的に接続され、接地電極10は接地歯20の周期構造に電気的に接続されており、一方、歯は電極と一緒になって相互に孤立した2つの導電性の櫛のように見え、一方で櫛の歯は長い光源14に平行に設置され、該櫛の歯は、線変調器3において対応する波長の光を反射する連続した薄い誘電性鏡40で覆われ、制御歯と接地歯のペアの次数の周期λteethは、長い光源の各波長λlightと櫛の歯に対し直交するそれの発散αdiv.(ラジアン単位)に対して、関係式:λteeth ≦2 λlightdiv.から決定される。
この場合において、レリーフ像の光軸に対する偏角は消去され、線走査手段24を適用する必要はない。極めて小さい発光ボディーを有する長い光源を使用することにより、高い効率を有する効果的な投影光学素子の創出が可能となる。
他の具体例(図9)では、極めて高いコントラストを有するマトリックス光ファイバースイッチが用いられる。このコントラストは、光伝達の過程で順次スイッチが入る数個の線変調器3及び透過後のゼロ次数の電力部分を使用することによってもたらされ、例えば、3つの格子は3つの次数によって減少し、4つの格子は4つの次数によって減少する。本発明のこの具体例の他の利点は、格子の開閉のための多重フェーズ方法を実現できる可能性があることである。この場合において、電極間空間中又はゲル様変形可能層中の荷電運動の結果として起こる静的レリーフ揺らぎは、線変調器の動作の動的モードのために最小値まで減少する、なぜなら変調器のスイッチング周波数が500kHに達し得るからである(図10)。これらの問題を解決するため、長い光源14は、一方の端が情報の単色若しくは多色レーザー光源43に接続され、もう一方の端がコリメーター44に光学的に接続された、光ファイバー42又は光ファイバーのマトリックスの形態で設計される。コリメーター44は光伝達の過程で最初に出会うプリズム33と光学的に接続され、一方それぞれの光ファイバー42は線変調器3の1又は数個の画素18に電気的に接続され、光伝達の過程で最後に出会うプリズム33は1つの可視化器又は可視化器のマトリックス4に接続され、ここで不透明な可視化絞り17は、画素18の電極によって制御される0次の光回折を透過させる開口を有する1つの穴又は穴のマトリックス45を具備しており、一方対物レンズ46はその穴の後であって焦点距離よりも近い位置の光軸上に設置され、該対物レンズは出力光ファイバー47上に光を集め該出力光ファイバーの他方の端は光情報の位置合わせ装置48に接続されており、信号電圧は全ての線変調器に同期的に又は3相時間モード若しくは多相時間モードで印加され、その電圧は4,82ラジアンに等しい位相変調の至適深度を創出するために十分なものであって、光情報の位置合わせ装置48は光点灯器1に電気的に接続される。それぞれのレリーフ格子は光位相の進行が4.82ラジアンに達するように制御されている。正弦レリーフの場合、この状況下ではフーリエ対物レンズの位相面内において100%の光束が0次から遠ざかるということが知られている。微弱な残存光は後続の格子上で反復した変調を受け抑制される。このように、いかなる場合でも、残存光は必要とされる最小値に調整され得る。
本発明のもう1つの具体例において、光学フィルターの創出のアイデアが実施されている。光の各波長に対する最も高い回折次数が位相面上の場所の異なる点に設置されているため、提供される変調は、光のフィルタリングのために、あるいは500kHに達する動作速度を有する光学整流子として用いられ得る。この具体例(図9)においては、前記のものと対照的に、不透明な可視化絞り17は、光回折のプラス−マイナス1次及び/又は他のより高次の放射を透過させる穴マトリックス45を具備し、それぞれの線変調器3に対する可視化器4は、対物レンズ46がそれぞれの穴と向かい合って設置されるように設計され、該対物レンズは出力光ファイバー47上に光を集める。
次の具体例(図6d)によると、特別に備え付けられた又は天然の(例えば太陽)強い外部光を光点灯器1として用いることが可能である。それは下記の構造により達成される。光伝達の過程で最初に出会う線要素13のプリズム33の辺側面に対し、光点灯器1は90度以下の角度で、認識装置5は90度の角度で設置されてあり、0次の回折光を遮断する可視化絞り17の一部は鏡(図面には無し)で覆われ、光伝達の過程で最後に出会う線要素のプリズム33の辺側面と平行に設置されており、一方第二の認識装置5又は光吸収装置49が可視化絞り17の鏡で覆われていない部分に設置されている。このように、レリーフが存在しない場合には、全ての光が鏡絞りから反射され、画面上の全ての画素が明るいままとなる。レリーフの記録の上では、光は絞り穴を通って落ち、光吸収装置49によって吸収される。この場合には、画面25上の画素18は暗くなる。
線要素13中の1又は数個の線変調器3の櫛の歯19、20は、対応する波長の光を反射する連続した薄い誘電性鏡40で覆われており、線変調器を具備していないプリズムの1又は全ての斜辺面は鏡で覆われてもよい。線変調器内及び線要素を形成するプリズムの接触物のない斜辺面上に鏡を適用することで、最大内面反射角よりも小さい角度でプリズム面上に落ちる光を使用することができるようになる。この場合、線要素のコントラストと効率が向上する。
さらに、線要素3のプリズム33の最後の接触物のない辺側面は、鏡50で覆われてもよい。プリズムの最後の辺面を覆う鏡50を適用することで、光が各線変調器3のレリーフを2回通り抜けることとなるため、線要素13の感度とコントラストを2倍に高めることができる。
提案する装置は、下記の動作原理を有する。例えば、記録された情報に対応する振幅を有する方形電圧パルスU(図1、iは制御電極の数)の形態の電気信号は、電圧信号の電源ブロック28から制御電極9と接地電極10に向けられる。その結果、透明ゲル様層8と空気ギャップ12の誘電率の違いのために、ゲル様層−空気ギャップの界面にポンデロモーティブ力(ponderomotive forces)が生じる。これらの力は、櫛の歯19、20に平行なレリーフラスターの形態の制御電極9上の信号に応じて、透明ゲル様層8の接触物のない表面のひずみ(すなわちレリーフ)を引き起こす。1つの画素18が2つのリボン電極9と10のみによって表されるプロトタイプとは対照的に、本発明では各画素は莫大な数の櫛の歯19及び20を有する格子である。言い換えれば、線中のそれぞれの画素18は、本質的に記録の品質を改良し画素の相互影響を減少させる回折格子である。さらに、プロトタイプと比較して、90度に対する画素の櫛の回転は、光学放射によって解読する際に櫛の空間周波数を1.4倍増大する。
その上、画素の櫛のそのような位置において、隣接する画素の相互影響をさらに減少させるため、各隣接画素の回折格子を半周期動かすことが本発明において提案されている。
長い光源14に平行な回折格子の形態の、ゲル様層8表面に記録された幾何学的レリーフは、像線として画面25上に次の通り再構築される(図1)。それぞれの光源14は対応する照明コンバーチブルレンズ15と共に、細い縞状である線レリーフ記録の対応する中間担体のゲル様層8の表面を照射し、該縞はリボン電極に垂直であって、且つ櫛の歯19及び20に沿って設けられるレリーフの食丘に平行である(図1参照)。最大内面反射プリズム(支持体2)とゲル様層8との屈折係数は互いにほぼ等しくなるように選ばれる。従って、光束はゲル様層8のレリーフ表面から最大内面反射角(約45度)で反射され、少なくとも1つの円柱状対物レンズを具備するフーリエ対物レンズ16に方向付けられる。透明ゲル様層8の接触物のない表面のひずみが無い場合には、フーリエ対物レンズ16は不透明な可視化絞り17上へ全光束を集め、ひずみが生じる場合には、フーリエ対物レンズが焦点をあわせるゲル様層8の表面は画面25上となる。画面25上の灯線は透明ゲル様層8のレリーフの振幅に応じそれの強度によって変調される。照明コンバーチブルレンズ15の一部である円柱状対物レンズ21とフーリエ対物レンズ16は画面25の平面上で光束を線へと構築する。照明コンバーチブルレンズ15は透明ゲル様層8の表面上に細い光線を形成する。投影レンズ22はスキャナー24の前若しくは後に設けられ、例えば、環状円柱状投影レンズの形態で形成されることができ、それにより灯線の幅がさらに決定され、レンズ22の開口内の線の走査が可能となって、像の品質低下を最小限にできる。画面上で線の垂直走査を実現するスキャナー24又はドラムは、第一の線の位置を制御する同期装置27及び光検出器26によって制御される。
他の具体例において、少なくとも1つの円柱状対物レンズ21が照明コンバーチブルレンズ15内に挿入され、円柱状対物レンズ21の母線は櫛の歯19及び20と平行である。円柱状対物レンズ21の助けを借りた長い光源14からの放射は細い縞の形態のレリーフを照射し、該レリーフは櫛の歯19及び20に信号電圧Uiを給電する時に与えられる。レリーフの周期構造もまた櫛の歯に平行であり、従って放射はレリーフ上で櫛の歯に対し垂直に回折する。正確にこの方向においては長い光源14の発散は小さく、結果的に像品質はプロトタイプのものよりもかなり向上する。
他の具体例において、可視化器4は母線が櫛の歯19及び20に平行である少なくとも1つの円柱状対物レンズを具備する。従って、該円柱状対物レンズによって、長い光源からの放射はレリーフ上で回折し、0、1、2次などの回折の空間における線形分布として位相面上に落ちる。画面上の振幅輝度グラデーションへの光の位相侵入の可視化は、可視化絞りにより0次数の重複が起こるために生じる(図11)。
他の具体例において、環状円柱状対物レンズは投影レンズ22内に挿入される。該円柱状対物レンズは櫛の歯19及び20に平行な母線を有し、従って灯線の幅をさらに決定する。その上、該円柱状対物レンズにより、フーリエ対物レンズ16の焦点距離を変えることなく投影機から画面25までの距離を変えることができるようになる。
他の具体例において、制御装置は次のように動作する。各フレーム及び像線の初期に、電圧信号の電源ブロック28から同期装置27へタイミング信号が来る。さらに、鏡ドラム又は他の走査手段24の側面が変化する瞬間に光検出器26から同期装置27へインパルスが進行する。同期装置27は、これらの信号により鏡の走査周波数とフレーム周波数を比較し、鏡走査の周波数が変化するフレーム周波数に連続的に従動するように、走査手段24の駆動機構へ信号を印加する。走査手段の鏡の側面が変化する瞬間における光検出器26からの次の信号を受け取った後、同期装置27は電圧信号の電源ブロック28へ指令を送る。この指令により、像のフレームの線は線変調器3のリボン制御電極9へ継続して与えられる。このとき、次の像フレームは電圧信号の電源ブロック28などに記憶される。さらに、同期装置27から電気応答時間補正電源31及び整流子32に制御パルスが印加される。信号インパルスのスイッチを入れる瞬間の電気応答時間補正電源31は、時間周期内で任意の形状のパルス電圧をさらに発し、該パルス電圧によってレリーフ形成の時間を減じることが可能となり、結果として装置の有効性と像品質を向上させることが可能となる。整流子32は、任意の時間−空間規則に応じて制御電極9及び接地電極10上の信号の極性を切り替えるために設けられている。それにより、レリーフ消去の時間を減少でき、結果として像品質の向上と光学ノイズの低下が可能となる。電気応答時間補正源及び整流子32の両方により、レリーフ形成の時間が減少する、すなわち、信号のクロック周波数の増加が可能となる。さらに、動的状態にあるゲル上におけるレリーフ形成の行程の安定化と消去を可能にする「進行(running)」又は「定在(standing)」波を得ることができる。投影機の単色又は黒白変化のための鏡系23は、必須ではない構成要素として用いられている。有色像の場合には、色の配合のために鏡系23中に2つのダイクロイックミラーが具備される(図8a、8b、8c)。ダイクロイックミラーのうちの1つは赤色を透過して緑色を反射し、もう1つは赤色及び緑色を透過して青色を反射する。ダイクロイックミラーの使用を必要としない光学図式が公知である[3]。
他の具体例において、像のコントラストを向上する数個の線変調器3が、数個の三角プリズム33から成る透明支持体2に取り付けられる(図4−7)。光点灯器1からの光(例えば図6eを参照)は1番目の線変調器3上に落ち、線変調器の櫛の歯19と20に信号電圧が印加される。透明ゲル様層8のレリーフ上での回折のために、偏向された光の大部分は2番目の線変調器3上に落ち、回折を繰り返した後、0次光を遮断する不透明な可視化絞り17から出る(図11f)。1番目の線変調器3を通り抜けた0次の残留光は、2番目の線変調器3上で回折し不透明な可視化絞り17から出る。従って、1つの変調器のみ通過した0次の光電力と比較して、2つの変調器3を通過した後の0次の電力部分はその2乗で、3つの変調器3を通過した後は比例的にその3乗で減少する。例えば、1つの変調器を通過した0次の光電力が5%である場合、2つの変調器を通過した光電力は0.25%、3つの変調器を通過した後は0.0125%になる。このように、画面のコントラストは本願明細書によって指定されたレベルまで増加することができる。
コントラストの改良と信頼性の増大に加えて、この具体例により、回折光の出力電力を最大値にまで近づけながらも3つの変調器全ての制御電圧を減少することが可能となる。例えば、1つの変調器の位相侵入がレリーフの完全な範囲で4.82ラジアンに等しい場合、はじめの3つの次数の光の出力電力は99%に等しくなる。
位相侵入が3.86ラジアンに等しい場合(理想値4.82の80%)、1つの変調器の回折のはじめの3つの次数の電力は92.2%に等しくなる。2つ又は3つの変調器3のスイッチを入れることにより、0次の電力がそれぞれ0.46%又は0.031%まで低下する。このように、2つまたは3つの変調器を使用することにより、信号電圧が低下した場合においても必要なコントラストを得られるばかりでなく、回折光の出力電力を一様にすることも可能となる。
他の具体例では、誘電性層34を適用するため、電極9及び10が櫛の歯19及び20の面の下部に配置される(図2)。それにより、有用なレリーフの領域を増やすことが可能となる。
図3は、櫛の歯19のみが透明ゲル様層8に面している櫛構造の構成を示している。これらの櫛の歯19は電極9と接続されており、相互影響を避けるために各画素18に対し半周期だけシフトされている。それは2つの誘電性層34及び38を装置に導入することにより達成されている。機械的に防護するため及び画素18の櫛構造の電気的パラメーターを安定化するために、防護誘電性薄層37を適用することができる。図3に示す櫛構造の構成により、隣接する電極間の最小距離を3倍に減少しながら、この構造の解像能力を2倍に向上させることがさらに可能となる。制御歯19と接地歯20の格子のような空間配置により、画素の相互影響がさらに除去される。
他の具体例(図4、5)において、装置はマトリックス直視表示又はフレーム記録の装置を実現する機能をする。投影レンズ22及び画面25を適用する場合、装置は遠隔投影機として働く。それぞれが同数のプリズム33から成る線要素13のM個は、線形マトリックスの形態で一平面内に設置され、一方で平行平板中または一平面内に配置された線要素13の最初と最後の接触物のない辺側面はそれぞれ、M個の単色、3色又は多色光点灯器1のマトリックス並びにM個の単色、3色又は多色可視化器4のマトリックスに向けられる。このように、マトリックスは透明光変調器として働く。しかしながら、それの感度はプリズムの要素に起因してほぼ数倍増加する。それにより、電圧は対応して数倍減少し得る。M個の線要素13は、線が線変調器3のi個の画素18から成りカラムがM個の線要素13から成るマトリックスを形成する。この場合、例えばマットガラスを適用することにより、像はフーリエ平面において可視化される。制御電極9上の電圧が印加されれば、観察者には画素18が最も高次の回折によって形成された明るい光点として見える。中間担体上に情報を蓄積して同時に若しくは一線ずつ、又はリアルタイムで情報を移送するために、画素18のスイッチが入り得ることが知られている。この具体例の直視表示としての適用の他、指向性又は分散性、リアプロジェクション式又は反射式画面などの公知の投影光学を用いた画面上に像を可視化することが可能である。
他の具体例において、認識装置5は、例えば、透明若しくは無光沢、又は感光性、若しくは感熱性の物質の形態で形成され、光軸上の可視化器4のマトリックスの後に設置される。可視化器4を通過して、光は例えば感光性物質上に落ちる。光電力はそれ故に印画紙の暗色化のグラデーションへと変換され、又は光電力の表現の他の形態へと変換され、記録担体上の像へと変換される。
さらなる他の具体例では、1つの線変調器3及び3つの多色光点灯器1を具備する装置が下記の通り機能する。この場合(図1及び8a)、3つの制御装置6は、色整流子39の助けにより、1つの線変調器3、1つの光点灯器1及び操作手段(スキャナー)24のスイッチを入れる。色の選択を行った後、任意の色に対応する制御装置6中の全ての電子装置及び光学装置は、本発明の好ましい具体例として上記されたように機能する。
本発明の具体例では、3つの線変調器3及び3つの多色光点灯器1を具備する装置(図1及び8b)において、画面上の像の記録はそれぞれの色チャネルによって順次に遂行される。発明のこの具体例では、それぞれの変調器からフーリエ対物レンズ16までの距離を調節することにより、3つの線変調器3全ての次元周波数を等しくするか又は少なくともパラメーターを極めて近い値にすることが可能である。
三角プリズム33の1つの面又は異なる面に適用された3つの線変調器3と3つの多色光点灯器1とを具備する装置(図1及び8d)において、画面上への像の記録はそれぞれの色チャネルによって同時に遂行される。発明のこの具体例では、前記のものと同様に、それぞれの変調器からフーリエ対物レンズ16までの距離を調節することにより、3つの線変調器3全ての次元周波数を等しくするか又は少なくともパラメーターを極めて近い値にすることが可能である。それぞれの線変調器3はプリズム33の斜辺面の3分の1を占める。コントラストを改良し制御電極9上の電圧を減少させるため、それぞれの色に対し同一で且つ同時にスイッチが入れられる2つ又は3つの線変調器3を利用することができる。
櫛の歯19及び20が連続した誘電性鏡40で覆われている他の具体例(図1及び6a)では、装置は下記の通り機能する。光点灯器1からの放射は、透明平行平板41上に設置された線変調器3に対し90度以下の角度で方向づけられる。光点灯器1からの放射は透明導電性層7、ゲル様層8、空気ギャップ12を通過し、その後誘電性鏡37から反射され、再び透明ゲル様層8、透明導電性層7、及び透明平行平板41を通過する。ゲル様層8上にレリーフが無い場合、可視化器4中の光は可視化絞り17によって遮断される。櫛の歯19及び20に電圧が印加されると、位相(幾何学的)レリーフとしての回折格子が透明ゲル様層8の表面上に形成され、可視化絞り17を免れた回折光は、上記のとおり機能する認識装置5中へ落ちる。この具体例の装置の感度は、光が透明ゲル様層8を2回透過するため、従来の公知のプロトタイプの透過形変形例よりも2倍高い。この具体例の線形又はマトリックス形変形例において、画素18は公知の方法によって同時に又は順次にスイッチが入り得る。
他の具体例(図9)において、装置は下記の通り機能する。透明ゲル様層8を具備する線変調器3は500kHに達する信号切換の周波数で作動できること及び2つ以上の線変調器3の適用により1:1000のコントラストを達成し得ることを考慮に入れると、該装置はファイバー光学スイッチとして使用するのに都合がよい。情報の単色又は多色レーザー光源43からの単色又は多色レーザー放射は入力光ファイバー42中へ進行し、次いでコリメーター44によって平行に調整される。さらに、プリズム33の全ての斜辺面から反射される放射の平行な光線は、可視化絞り17の1つの穴又は穴のマトリックス45中に光を集める円柱状フーリエ対物レンズ16上に来る。対物レンズ46が焦点距離よりも穴45の方に近くなるように設置されているので、この対物レンズを通過した光は出力光ファイバー47上に落ち、信号に公称値からの揺らぎがある場合に情報源43へ信号を給電する働きをする情報装置48の位置合わせによって合わせられる。制御装置6が線変調器3の制御電極9へ電圧を印加すると、回折された光線は可視化絞り17によって遮断され、光は出力光ファイバー47には入らない。4.82ラジアンに等しい位相侵入における正弦位相格子は0次からの光の100%を除去することが知られている。1番目の線変調器3を通った光の伝達後に形成される不可避的なノイズは、上記の通り2番目及び3番目の変調器3によって0次から除去される。このようにして、光学スイッチの高いコントラストが達成される。電極9に入ってくる電圧を調整する場合において、該装置は見かけ上光束の減衰器として働く
他の具体例(図9)において、装置は下記の通り機能する。具体例の前記の変形例において、不透明な可視化絞り17は、プラス−マイナス1次及び/又は他のより高次の回折の放射を透過させる穴のマトリックス45を具備し、それぞれの線変調器3に対する可視化器4は、出力光ファイバー47上に光を集める対物レンズ46がそれぞれの穴マトリックス45と向かい合って位置するように形成される。従って、該装置は光周波数のフィルターとして機能する。これは、可視化絞り17上の最高次回折の位置は異なる光周波数に対して異なってくるという事実の結果である。それぞれの穴45と向かい合って配置されている認識装置5は異なる光周波数の位置を合わせる。
本発明の他の具体例(図6d)において、装置は下記の通り機能する。光点灯器1からの光は、線要素13のプリズム33の1又は数個の側面を90度以下の角度で通る。線変調器3上にレリーフが無い場合、光はフーリエ対物レンズ16上に落ち、0次の回折光を遮断する可視化絞り17上に集められる。鏡で覆われた可視化絞り17は線変調器3のプリズム33の接触物のない面と平行に設置され、数回反射した後の、最初の光軸からの変位を有する光は、最終的に線要素13のプリズム33の最初の接触物のない辺側面に垂直に落ち、その後認識装置5中に落ちる。1つ又は数個の変調器3のスイッチが入ると、0次からの光の一部又は全部が可視化絞り17の平面内に位置する位相面上の最高次数中に移され、光吸収装置49上又は第二の認識装置5上に落ちる。この場合における第一の認識装置5は照射されない。従って、第一の認識装置5中の暗領域及び第二の認識装置5中の明領域は線変調器3中のレリーフ記録に対応する。線変調器3が切られると、第一の認識装置5が集中照射され、第二の認識装置5は集中照射されない。この装置は明るい陽光下で2面パネル又は直視表示として、また上記した長光点灯器1の使用の場合においても機能することができる。
他の具体例において、装置は下記の通り機能する。線要素13中の線変調器3のコントラストと有効性を向上させるために、最大内面反射に不具合がある場合に透明ゲル様層8上に落ちる光が透明ゲル様層を通過し、連続的な誘電性鏡40から反射し、再び透明ゲル様層8を通過するように、櫛の歯19及び20は連続的な誘電性鏡40で覆われる。プリズム33の斜辺面上に変調器3が無い場合、該斜辺面は共通の鏡で覆われる。この場合、最大内面反射角よりも小さい角度で面上に落ちる光は可視化器4中に落ちる。
他の具体例において装置は下記の通り機能する(図6f)。光点灯器1からの光は、鏡可視化絞り17から反射され、フーリエ対物レンズ16上に落ちる。その後線変調器3によって変調された光は線変調器3のプリズム33の最後の接触物のない辺側面に達する。この辺側面は共通の鏡50で覆われているので、レリーフが無い場合は光は逆の順序で光点灯器1へ通過する。少なくとも1つの線変調器上にレリーフ記録がある場合は、最高次の回折は鏡可視化絞り17のスリットを通って投影レンズ22上に落ちる。従って、1つの線変調器3上の光は2回回折し、線要素13の感度とコントラストを向上させる。図6fで表される例では、光は4回回折し、画像のほぼ理想的なコントラストをもたらす。
本発明の電気光学変換器のためのゲル様層はゲル様組成物の構成物の反応産物であり、該ゲル様組成物は、分子量10000〜16000、粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3、架橋剤として水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3、可塑剤として粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3、硬化触媒として塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれのテトラビニルシランとの錯体を、次の比率(質量部)で包含する:ポリビニルシロキサン−100、オリゴヒドリドシロキサン−15〜25、ポリメチルシロキサン液−150〜300、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれのテトラビニルシランとの錯体−0.3〜2。このゲル様層はゲル形成の間に湿気の存在を必要とせず、操作中湿気から気密密閉された封じ込めをも必要としない。
電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法は、分子量10000〜16000、粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部を混合することを包含する。混合後、粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3を150〜300質量部加える。再度混合した後、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれのテトラビニルシランとの錯体を0.3〜2質量部加える。次いで、反応組成物を混合し、好ましくは混合終了後1〜20分おいてから均一な厚さの層として導電性透明層に塗布する。
電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法の他の具体例は、分子量10000〜16000、粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部を混合することを包含する。混合後、粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3を150〜300質量部加える。再度混合した後、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれのテトラビニルシランとの錯体を0.3〜2質量部加える。次いで、反応組成物を混合し、混合終了後、均一な厚さの層として導電性透明層7に塗布する。次いで、得られた構造物を光学的に平らな表面を有する付加的な板51で覆い、透明導電性層7と付加的な板51との間に配置したメインスペーサー52によって透明ゲル様層8の厚さを扁平にする(図13、14)。その後、得られた構造物をオーブン中に置き、およそ2〜4時間70℃〜90℃の温度に保つ。次いで付加的な板51を外し、制御電極9及び接地電極10を具備し該電極が防護誘電性薄層37で覆われている第2の支持体11でゲル様層を覆い、一方でメインスペーサー52よりも大きい付加的なスペーサー53によって空気ギャップ12が割り当てられる。付加的な板51は好ましくはガラス製である。
電気光学変換器のためのゲル様層の他の調製方法は、分子量10000〜16000、粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部を混合することを包含する。混合後、粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3を150〜300質量部加える。二度目の混合の後、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれのテトラビニルシランとの錯体を0.3〜2質量部加える。次いで、反応組成物を混合し、混合終了後、均一な厚さの層として導電性透明層7に塗布する。次いで、得られた構造物を光学的に平らな表面を有する付加的な板51で覆い、透明導電性層7と付加的な板51との間に配置したメインスペーサー52によって透明ゲル様層8の厚さを扁平にする。その後、得られた構造物をおよそ1〜2時間70〜90℃のオーブン中に置く。その後付加的な板51を外す。次いで、透明導電性層7上に設けられたゲル様層8を再びオーブン中に置き、ゲルの架橋が完了するまで約1〜3時間70〜90℃の温度に保つ(図13、14)。
他の具体例において、層の塗布は最初に又は先に架橋し冷却したゲル層上に1又はいくつかのさらなるゲル層を逐次塗布(流し込み)することによって遂行される。
他の具体例において、ゲルの架橋、収縮及び周辺温度までの冷却が完了した後に、メインスペーサー52によってギャップが定められる(図15)。
他の具体例において、付加的な板51は癒着防止層で覆われる。好ましくは、スルファノール−πのような界面活性物質が癒着防止層として用いられる。はじめに、アセトン又は水で希釈したスルファノール−π希釈溶液を調製する。次いで該溶液を2回濾過し溶解度の低い粒子を除去する。付加的な板51に塗布された溶液が蒸発する間に、その表面上に薄い癒着防止層が残る。さらに、該癒着防止層を40℃で1時間加熱する。癒着防止層の使用により、100%の品質の層を得ることが可能となる。
さらに、付加的な板は好ましくは公知の方法によりプラズマ又は他の洗浄照射処理される。
電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法を実現するための組成物は、分子量10000〜16000、粘度800〜1000センチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3、架橋剤として水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100センチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3、可塑剤として粘度5〜20センチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3、硬化触媒として塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれのテトラビニルシランとの錯体を包含する。混合構成物の比率は次の通り(質量部):ポリビニルシロキサン−100、オリゴヒドリドシロキサン−15〜25、ポリメチルシロキサン液−150〜300、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれのテトラビニルシランとの錯体−0.3〜2。
実施例1
ポリビニルシロキサン(100質量部)及び架橋剤オリゴヒドリドシロキサン(20質量部)を混合する。予備混合後、150質量部のポリメチルシロキサン液を加え、該組成物を再び十分に混合する。次いで1質量部の0.1%塩化白金酸有機溶媒(イソプロピルアルコール)溶液を加える。該組成物を5分間以内で十分に混合し、混合終了後10分間おいてから導電性透明層に塗布する。
本発明の装置は下記の通りに製造できる。プリズム33(又は透明平行平板41)及び第2の支持体11はガラスで、透明導電性層7は酸化インジウムで、透明ゲル様層8はポリオルガノシロキサンゲルの形態で作製できる。電極9及び10、櫛の歯19及び20、並びに接触子35及び36はアルミニウム、クロム、モリブデンで作製できる。誘電性層34、37及び38は窒化ケイ素で作製できる。標準的なユニット及びブロックはこれ以外の要素及びブロックとして用いることができる。光の波長は個々の用途に応じて決定され、例えば、スペクトルの可視範囲内で選択され得る。空気ギャップ12は例えば5μm、透明ゲル様層の幅は例えば30μmを選択することが可能である。上記の電極9及び10、櫛の歯19及び20は約0.1μmから0.01μmの範囲で変わり得る。変調器3中で用いられる電気的パラメーターは、例えば下記のように選択できる:バイアス電圧は50ボルト、信号電圧は15ボルト、修正動作のインパルスは5ボルト、信号列の周期は10μ秒。
図10aは、持続時間が1マイクロ秒である電気インパルスUiの作用に依存した透明ゲル様層8上のレリーフ深度A(t)(相対ユニット)の変化の典型的な時間のオシログラムを示す。図10bは、電気インパルスUiの持続時間が2マイクロ秒である場合の、レリーフ深度A(t)の時間変化のオシログラムを示す。いずれの場合も、ギャップ12は3ミクロン、歯19及び20の幅は2ミクロンである。
例えば、ガスレーザー及び熱光源と同様に、半導体レーザー又は銅蒸気レーザー、金蒸気レーザー、あるいはストロンチウム蒸気レーザーを光源14として用いることができる。
構成物の光学的パラメーターは、通常の方法によって算出される。2つのプリズム33を具備する単色線要素13(実施例2)及び4つのプリズム33を具備する3色線要素13(実施例3)に対する2通りの基本的な計算結果が下記に示されている。円柱状対物レンズの配置は異なって選択されている。
実施例2
計算のための入力パラメーター(図11)は下記の通り。直角二等辺三角形の形態の底辺を有する三角プリズム33の辺側面のエッジの大きさをpとする。空気中の放射の発散角をθとする。媒質の屈折率をnとする。空気中の光の波長をλlとする。用いられる回折次数の最大値をN(±1、・・・、±N)とする。ここでd=d=d/2と仮定する(図11)。
計算を実行するため、一般式を提起する。
可視化絞り17の大きさは隣り合う回折次数の(特に0次及び1次の)間の直線距離に等しく、
h=p/(2N+1) (1)
媒質中の放射発散角はθ/nに等しい。
媒質中の波長はλl/nである。
距離はd=hn/θ-p= p(n/((2N+1)θ)-1) (2)
隣り合う回折次数の間の発散角は
α=(λl/n)/λm (3)
隣り合う回折次数の重複を避けるためには
α=h/(d1+p)=2h/(d+2p) (4)
(2)、(3)及び(4)を考慮に入れると、減少するマイクロレリーフの周期は
λml (d+2p)/(2nh)= λl (1/θ+(2N+1)/n)/2 (5)
マイクロレリーフの物理的な周期は
Λm = λm√2 = λ (1/θ +(2N+1)/n)/√2 (6)
媒質中のレンズの焦点距離は
fp= d+p= pn/((2N+1)θ) (7)
空気中のレンズの焦点距離はf= fp/n、
f= fp/n= p/((2N+1)θ) (8)
下記のパラメーターを用いた計算実行の具体的な例を示す:
θ = 0.05, λl = 0.56 μm, p=0.4 mm, n=1.59, N=2
(2)より、距離d=hn/θ-p= p(n/((2N+1)θ)-1)=2.14 mm,
(1)より、可視化絞りの大きさはh= p/(2N+1)=80 ミクロン,
(6)より、プリズムの側面上の物理的なマイクロレリーフ周期は
Λm≒0.707 λl (1/θ +(2N+1)/n)= 9.16 ミクロン (109 mm-1 )
実施例3
4つのプリズム33を具備する3色線要素13の計算のもう1つの例を記載する(図12)。
計算のための入力パラメーターは下記の通り。レンズは点Bに設置される。入力平行光束は面Lを通過する。全ての光路ABCDEFLは屈折率nの媒質で形成される。プリズムの反射面(E,F,D,C)は45度の角度で配置されている。異なるレリーフ周期を有する3つの線変調器3は面D,E,F上に設置される。空気中の光の波長をλ1(それぞれλD,λE,λF)とする。異なる色の放射の発散角をそれぞれθD、θE、θFとする。発散角の最大値をθ=max{θD, θE, θF}とする。減少した格子周期(光線の垂直断面上の格子投影周期)をλm(異なる光波長に対してそれぞれλmD、λmE、λmF)とする。プリズム側面上の物理的なマイクロレリーフ周期はΛm= λm√2(異なる光波長に対してそれぞれΛmD, ΛmE, ΛmF)とする。可視化絞り(0次数の焦点)から格子までの距離はs1(異なる光波長に対してそれぞれsD, sE, sF)である。使用される回折次数の最大値はN(任意)である。
プリズムの垂直面の大きさ(図12参照)は
t=(AB)=p/3 (9)
画素の全高は
d=2t+w=2p/3+w (10)
可視化絞りから入力面(ABCDEFL)までの完全な光路は
s=5t+w=5p/3+w (11)
可視化絞りの大きさは隣り合う回折次数の間(特に0番目と1番目の間)の直線距離に等しく、
h=p/(2N+1) (12)
媒質中の放射発散角はθ/nに等しい。
媒質中の波長はλl/nである。
発散で決定される光路の最大値は
s=h/(θ/n)= hn/θ = pn/((2N+1)θ) (13)
(11)を考慮に入れると5p/3+w= pn/((2N+1)θ)、すなわちwの最大値は
w=p(n/((2N+1)θ)-5/3) (14)
(10)より、対応する画素の全大きさは
d= 2p/3+w= p(n/((2N+1)θ)-1) (14a)
(14)を考慮に入れると、λDに対し格子Dから可視化絞りまでの距離(ABCD)は
sD=2t+t/2+w=5t/2+w=5p/6+w= p(n/((2N+1)θ)-5/6) (15D)
(14)を考慮に入れると、λEに対し格子Eから可視化絞りまでの距離(ABCDE)は
sE=3t+t/2+w =7t/2+w =7p/6+w= p(n/((2N+1)θ)-3/6) (15E)
(14)を考慮に入れると、λFに対し格子Fから可視化絞りまでの距離(ABCDEF)は
sF=4t+t/2+w=9t/2+w=9p/6+w=3p/2+w= p(n/((2N+1)θ)-1/6) (15F)
隣り合う回折次数の間の角度は
α= (λl/n)/λm (16)
隣り合う回折次数の重複を避けるため
α=h/s1 (17)
(16)及び(17)より、減少するマイクロレリーフ周期は
λm = s1 λl /(n h) (18)
(12)を考慮に入れると、減少するマイクロレリーフ周期は
λm= s1 λl (2N+1)/(n p) (19)
(15)を考慮に入れると、異なる格子に対し(対応して異なる波長に対し)減少するマイクロレリーフ周期は
λmD= sD λD (2N+1)/(n p) = λD (1/θ-(5/6)(2N+1)/n) (19D)
λmE= sE λE (2N+1)/(n p) = λE (1/θ-(3/6)(2N+1)/n) (19E)
λmF= sF λF (2N+1)/(n p) = λF (1/θ-(1/6)(2N+1)/n) (19F)
櫛の歯19及び20解像度を減少させるため、光の最大波長(赤)に対して線変調器3を点Dに、最小波長(青)に対しては点Fに配置するとよい。
プリズム面上の物理的なマイクロレリーフ周期は
Λm= λm√2 (20)
又は異なる波長に対し(19)を考慮すると
ΛmD= λmD√2= λD√2(1/θ-(5/6)(2N+1)/n) (21D)
ΛmE= λmE√2 = λE √2(1/θ-(3/6)(2N+1)/n) (21E)
ΛmF= λmF√2 =λF √2(1/θ-(1/6)(2N+1)/n) (21F)
(14)を考慮すると、可塑性のあるレンズ焦点距離は
fp= t+w = p/3+p(n/((2N+1)θ)-5/3)= p(n/((2N+1)θ)-4/3) (22)
空気中のレンズ焦点距離はf = f= fp/n
f= fp/n= p(1/((2N+1)θ)-4/(3n)) (23)
θ = 0.05, λD= 0.60μm, λE= 0.45μm, λF= 0.40μm, p=0.4 mm, n=1.59, N=3のとき、プリズムの直交面は(9)によるとt=p/3=0.133である。
(14A)によると、画素の全高は
d= 2p/3+w=p(n/((2N+1)θ)-1)=1.417 mm
(12)によると、可視化絞りの大きさはh=p/(2N+1)= 80μm
(21)によると、プリズム面上の物理的なマイクロレリーフ周期は
Λm = λ1(28.28-[5,3,1]*1.0377);
ΛmD = λD√2(1/θ-(5/6)(2N+1)/n) = 13.85μm ( 72.2 mm-1) (赤),
ΛmE = λE √2(1/θ-(3/6)(2N+1)/n) = 11.33μm (88.3 mm-1) (緑),
ΛmF = λF √2(1/θ-(1/6)(2N+1)/n) = 10.89μm (91.5 mm-1) (青)
(22)によると、可塑性のあるレンズ焦点距離は
fp= p(n/((2N+1)θ)-4/3) = 1.28 mm
式(21)及び実施例によると、任意の線要素の構造において、格子周期は主に光の発散角と波長によって決定されることが明らかである。
このように、本願請求の電気光学変換器において、出力信号を認識する装置上のこの信号の品質はプロトタイプよりも高い。従って、現代の技術水準の下では、電気光学変換器の一連の独特な特徴により、テレビジョン情報結像のための装置、感光性担体を具備する記録装置、情報の光学的処理、さらには光束の制御のための異なる光ファイバー装置をも提供することが可能となる。
その上、本願請求の電気光学変換器の機能上、コスト、及び操作上の経費は、プロトタイプのものよりも低い。
電気光学変換器の1つの通信路の詳細な模式図である。 2つの投影図で示した、歯並びに制御及び接地電極の2層型デザインである。 2つの投影図で示した、歯並びに制御及び接地電極の3層型デザインである。 それぞれの要素が平行面内に位置する2つの接触物のない辺側面を有する2個のプリズムから成っている、M個の線要素を具備するマトリックスの断片の2通りの例を示す。図4aに示す1つ目の断片において、光点灯器は可視化絞り上に集光するレンズラスターを具備する。図4bに示す2つ目の断片において、レンズラスターが可視化器中に挿入され、光点灯器は最初の接触物のない辺側面上に落ちる平行な光束を発する。 それぞれの要素が同一平面上に位置する2つの接触物のない辺側面を有する4個のプリズムから成っている、M個の線要素を具備するマトリックスの2つの断片の例である。図5aに示す1つ目の断片において、光点灯器及び可視化器は共同して可視化絞り上に集光するレンズラスターを具備する。図5bに示す2つ目の断片において、光点灯器のレンズラスターは可視化絞り上に集光する。 光点灯器、変調器、認識装置及び制御装置の間の光学図式と電気的接続の6つの例である。図6aは誘電性鏡を具備する変調器を用いた光学図式を示す。図6bは1個のプリズムを、図6c及び6dは2個のプリズムを、図6eは4個のプリズムを具備する光学図式を示す。図6fは線変調器のプリズムの最後の接触物のない辺側面に鏡を取り付けた光学図式の実行例を示す。 線変調器の3通りの具体例である。図7aは接触物のない辺側面を同一平面内に具備している線要素を示す。図7b及び図7cは最初と最後の接触物のない辺側面が互いに垂直であって、それぞれの線要素が斜辺面上に設置された3つの線変調器を具備している例を示す。 線走査を伴う色投影機の4つの例である。図8a及び8bはそれぞれ、1つ及び3つの線変調器の助けを借りた連続的な色の配合の図式を示す。図8cはダイクロイックミラーを用いた画面上での色の配合の公知の光学図式を示す。図8dはダイクロイックミラーを用いずに平行な色の配合を行う本発明の具体例の1つを示す。 3つの線変調器を具備した光ファイバースイッチの一般的なデザインである。 電気パルスUiの動作の際の、レリーフの創出及び消去のオシログラフA(t)の2つの典型的な例である。電気パルス幅は1μs(図10a)及び2μs(図10b)である。 2個のプリズムを具備する単色線要素の計算のための光学図式である。 4個のプリズムを具備し連続的な色の配合を行う3色線要素のための計算図式である。 メインスペーサーを用いたゲル様層の形成方法である。 付加的なスペーサーを用いた線要素の組み立て方法である。 架橋後のゲル様層の収縮を応用した、メインスペーサーを用いた線変調器の組み立て方法である。

Claims (44)

  1. 光軸上に連続して設置された:少なくとも1つの光点灯器、少なくとも1つの平行平板又は少なくとも1つの最大内面反射プリズムの形態の透明支持体又はM個の透明支持体、少なくとも1つの線変調器、少なくとも1つの可視化器、認識装置、及び少なくとも1つの制御装置を具備する電気光学変換器であって、それぞれの線変調器は透明支持体に施され透明ゲル様層で覆われた透明導電性層、並びに、それぞれの線変調器に対応する第2の支持体上の一平面内に配置され、透明ゲル様層の上部にギャップを挟んで設置され、対応する制御装置に電気的に接続された、i個の平行リボン制御電極及び接地電極系を具備し、それぞれの透明支持体は対応する少なくとも1つの変調器と共に線要素を形成し;一方光点灯器は光軸上に連続して設置された長い光源及び照明コンバーチブルレンズから成り、可視化器は光軸上に連続して設置されたフーリエ対物レンズ及び可視化絞りを具備し;光源はパルス又は連続波であって、光パルス繰り返し周波数は像の線周波数と等しく;リボン制御電極は制御歯の周期構造と電気的に接続され、接地電極は接地歯の周期構造と電気的に接続され、それぞれの線画素において歯は対応する電極と一緒になって相互に孤立した2つの導電性の櫛のように見え、櫛の歯は長い光源と平行に設置され、制御歯と接地歯のペアの配置周期λteethは関係式:λteeth ≦ √2 λlight / αdivより計算され、ここでλlightは長い光源の波長、αdiv.(ラジアン単位)は櫛の歯に直交する光源の放射の発散であり、ゲル様層は分子量10000〜16000、粘度800〜1000カンチストークス(cantistokes)のポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO [(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100サンチストークス(santistokes)のオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3をベースに作製されたものである電気光学変換器。
  2. 櫛の歯と平行な母線を有する少なくとも1つの円柱状対物レンズが前記照明コンバーチブルレンズ内に挿入されている、請求項1記載の装置。
  3. 前記可視化器が櫛の歯と平行な母線を有する少なくとも1つの円柱状対物レンズを具備している、請求項1記載の装置。
  4. 前記認識装置が、投影レンズ、鏡系、線の垂直走査手段、画面、スキャナーの光検出器を具備し、該投影レンズ内に環状円柱状対物レンズが挿入されている、請求項1記載の装置。
  5. 前記制御装置が、出力が電圧信号の電源のブロックに接続され、入力がスキャナーの光検出器に接続されている同期装置;透明導電性層と接地電極との間に位置するベース電圧電源;線変調器の制御電極のi個の入力に接続された電圧信号の電源のブロック;レリーフ形成のタイムフロントの補正電源を経由して1つの出力が電圧信号の電源のブロックの同様な出力に接続し、他の出力が接地電極に接続しているバイアス電圧電源で構成され;該同期装置は、2つの出力をさらに具備して、その1つが光源に接続され、もう1つが線の走査手段に接続されるとともに、電圧信号の電源のブロックからの入力もさらに具備したものであり、前記のレリーフ形成のタイムフロントの補正電源はバイアス電圧電源と連続して挿入されて該同期装置と接続されていて、パルスシグナルの増幅時に時間決定された形態のさらなるパルスバイアス電圧を印加し、任意の時間−空間規則(time-space rule)に応じたリボン制御及び接地電極上の信号の整流子スイッチング極性は電圧信号の電源のブロックと同期装置とに接続されている、請求項1記載の装置。
  6. 前記平行リボン制御及び接地電極系が第2の支持体に取り付けられて、均一な厚さの誘電性薄層で覆われ、長い光源と平行な櫛の制御歯及び接地歯がリボン制御及び接地電極に対し垂直方向になるように該誘電性薄層に取り付けられて、制御歯は接触子によって対応するリボン制御電極と電気的に接続され、また接地歯は接触子によって対応するリボン制御電極と電気的に接続され、ここで1つの画素の歯の元口は他の画素の歯の元口とギャップを挟んで向かい合い、該歯は調節可能な電気的パラメーターを有する防護誘電性薄層で覆われている、請求項1記載の装置。
  7. 前記平行リボン制御及び接地電極系が第2の支持体に取り付けられて均一な厚さの誘電性薄層で覆われ、該誘電性薄層に櫛の接地歯が取り付けられ、該接地歯は接触子によって対応するリボン接地電極と電気的に接続されるとともに均一な厚さの第二防護誘電性薄層で覆われ、該第二防護誘電性薄層に櫛の制御歯が取り付けられ、制御歯は接触子によって対応するリボン制御電極と電気的に接続されており、それぞれの画素において歯の元口は隣り合う画素の元口の間の間隙と向かい合っている、請求項1記載の装置。
  8. 前記認識装置が投影レンズ、鏡系、線の垂直走査手段を具備しており;該装置は赤、緑、青色光点灯器、及び、赤、緑、青色光点灯器に対応した3つの制御装置を具備し、該制御装置は出力によって色整流子と接続されていて、該色整流子は1つの出力でそれぞれの線変調器と、3つの出力で色整流子により順次にスイッチが入る3つの光点灯器と、5つ目の出力によって走査手段と接続されており、少なくとも1つの最大内面反射三角プリズムの形態で形成された透明支持体、それぞれの線要素は3つの線変調器を具備して同時にスイッチが入り、それぞれの変調器は3色それぞれに対応する制御歯及び接地歯のペアのオーダーの周期λteethを有し、3つの光点灯器は互いに平行に配置され、対応する色の光束は対応する線変調器に垂直に落ち、一方より長い波長の光束はフーリエ対物レンズからより遠い距離にある線変調器に方向づけられ、不透明な可視化絞りは3色全ての0次数の放射を遮断又は透過する、請求項1記載の装置。
  9. 赤、緑、青色光点灯器、及び、赤、緑、青色光点灯器に対応して色整流子と出力によって接続された制御装置を具備し、該色整流子は1つの出力でそれぞれの線変調器と、3つの出力で色整流子により順次にスイッチが入る3つの光点灯器と、5つ目の出力によって走査手段と接続されており、それぞれの線要素は赤、緑、青色光点灯器の光の波長に対応した制御歯と接地歯のペアのオーダーの個々の空間的周期λR、λG、λBを有しており、適切な時期に順次スイッチが入る3つの線変調器は全てより大きな波長の線変調器ほどフーリエ対物レンズからより遠くに位置するように光軸上に設置されている、請求項1記載の装置。
  10. それぞれの透明支持体が等しい長さの側辺で順次光学的に結合されている直角三角形を有するN個の三角プリズムの形態で形成され、線変調器が全て又はいくつかの斜辺面に取り付けられており;最初のプリズムの1つの斜辺面は接触物がなく少なくとも1つの光点灯器に向けられ、最後のプリズムの1つの斜辺面は接触物がなく少なくとも1つの可視化器に向けられていて、これらの面は光軸に対し垂直であり、光点灯器からの光は全ての斜辺面上に最大内面反射角よりも大きい角度で落ち、線変調器は櫛の歯の空間周波数と等しい又は異なる空間周波数を有する、請求項1記載の装置。
  11. 線形マトリックスの形態で編成されたM個の線要素と、同じ数のプリズムを具備する線要素それぞれの透明支持体を具備し、ここで平行な面内又は同一平面内に位置する該線要素の最初及び最後の接触物のない側辺はそれぞれ、M個の単色、3色又は多色光点灯器のマトリックス、並びに対応してM個の単色、3色又は多色可視化器のマトリックスに向けられている、請求項10記載の装置。
  12. 前記認識装置が透明若しくは無光沢、又は感光性、若しくは感熱性物質の形態で形成され、光軸上で可視化器のマトリックスの後に配置された、請求項11記載の装置。
  13. 前記長い光源が、1端が単色又は多色情報レーザー光源に接続され、もう1端が光伝達の過程で最初に出会うプリズムと光学的に接続されている1つの光ファイバーまたは複数の光ファイバーのマトリックスの形態で設計されており、それぞれの光ファイバーはそれぞれの線変調器の1個又は数個の画素と光学的に接続され、光伝達の過程で最後に出会うプリズムは1つの可視化器又は複数の可視化器のマトリックスと接続されており、ここで不透明な可視化絞りは0次の光回折を透過させる開口を有する1つの穴又は穴のマトリックスを具備し、該穴又は穴のマトリックスの後であって焦点距離よりも近い位置の光軸上に対物レンズが設置され、該対物レンズは出力光ファイバーに光を集め該出力光ファイバーの他方の端は光情報の認識装置に接続しており、信号電圧は全ての線変調器に同期的に又は3相時間モード若しくは多相時間モードで印加され、その電圧は4.82ラジアンに等しい位相変調の至適深度を創出するために十分なものであって、前記認識装置は光点灯器に電気的に接続されている、請求項10記載の装置。
  14. 前記長い光源が、1端が単色又は多色情報レーザー光源に接続され、もう1端が光伝達の過程で最初に出会うプリズムと光学的に接続されている1つの光ファイバーまたは複数の光ファイバーのマトリックスの形態で設計されており、それぞれの光ファイバーはそれぞれの線変調器の1個又は数個の画素と光学的に接続し、光伝達の過程で最後に出会うプリズムは1つの可視化器又は複数の可視化器のマトリックスと接続されており、ここで不透明な可視化絞りは画素電極によって制御された光回折の1次及び/又はより高次の放射を透過する開口を有する1つの穴又は穴のマトリックスを具備しており、それぞれの線変調器に対する可視化器は対物レンズが穴又は穴のマトリックスと向かい合って設置されるように設計され、該対物レンズは出力光ファイバーに光を集め該出力光ファイバーの他方の端は光情報の認識装置に接続しており、信号電圧は全ての線変調器に同期的に又は3相時間モード若しくは多相時間モードで4.82ラジアンに等しい位相変調の至適深度を創出するために十分に印加され、光情報の認識装置は光点灯器に電気的に接続されている、請求項10記載の装置。
  15. 光伝達の過程で最初に出会う線要素のプリズムの側辺に対し、前記光点灯器は90度以下の角度で、前記認識装置は90度の角度で配置され、0次回折光を遮断する可視化絞りの一部は鏡で覆われ、光伝達の過程で最後に出会う線要素のプリズムの側辺に平行に設置されており、第二認識装置又は光吸収装置が可視化絞りの鏡に覆われていない部分に設置されている、請求項10記載の装置。
  16. 線要素中の1個又は数個の線変調器の櫛の歯が、対応する波長の光を反射する連続した誘電性薄鏡で覆われ、線変調器を具備しない1つ又は全てのプリズム斜辺面(接触物がない面)が鏡で覆われている、請求項10記載の装置。
  17. 線変調器のプリズムの接触物がない最後の側辺が鏡で覆われている、請求項15又は16に記載の装置。
  18. 赤、緑、青色光点灯器、少なくとも1つの平行平板又は少なくとも1つの最大内面反射プリズムの形態の透明支持体、1つの線変調器、少なくとも1つの可視化器、認識装置、赤、緑、青色光点灯器に対応する3つの制御装置を具備する電気光学変換器であって、該制御装置は1つの出力で色整流子と電気的に接続し、該色整流子は1つの出力で線変調器と、3つの出力で色整流子により順次スイッチが入る3つの光点灯器と、5つ目の出力で走査手段と接続しており、該線変調器は、透明支持体に塗布され透明ゲル様層で覆われた透明導電性層、並びに、一平面内で第2の支持体に取り付けられゲル様層上部にギャップを挟んで設置されたi個の平行リボン制御電極及び接地電極系を具備しており、線変調器は透明支持体と共に線要素を形成し、それぞれの光点灯器は光軸上に連続して設置された長い光源と照明コンバーチブルレンズで構成され、光源はパルス又は連続波であって、光パルス繰り返し周波数は像の線周波数と等しく;該可視化器は光軸上に連続して設置されたフーリエ対物レンズ及び可視化絞りを具備し;同一直線上にある3色全ての放射束は適切な時間内で順次垂直に線要素上に落ち、リボン制御電極は制御歯の周期構造に電気的に接続され、接地電極は接地歯の周期構造に電気的に接続され、それぞれの線画素に対し歯は電極と一緒になって相互に孤立した2つの導電性の櫛のように見え、櫛の歯は長い光源と平行に設置され、制御歯と接地歯のペアに対する次数の周期λteethは関係式:λteeth ≦√2 λlight mindiv maxによって決定され、ここでαdiv maxは赤、緑、青色のうちで最も大きな放射発散、λlight minは光波長の最小値であり、一方不透明な可視化絞りの大きさは3色全ての0次数の重複状況によって決定され、線変調器の制御電極上の電圧はそれぞれの色に対して必要なレリーフ深度を形成し、ゲル様層は分子量10000〜16000、粘度800〜1000カンチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO [(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100サンチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3をベースに作製されたものである電気光学変換器。
  19. 少なくとも1つの光点灯器、それぞれ少なくとも1つの平行平板の形態である1個の透明支持体又はM個の透明支持体、少なくとも1つの線変調器、少なくとも1つの可視化器、認識装置を具備した電気光学変換器であって、少なくとも1つの制御装置をさらに具備し、ここでそれぞれの線変調器は対応する透明支持体に取り付けられ透明ゲル様層で覆われた透明導電性層、並びに、それぞれの線変調器に対応する第2の支持体上の一平面内に取り付けられ、透明ゲル様層の上部にギャップを挟んで設置され、制御装置に電気的に接続された、i個の平行リボン制御電極及び接地電極系を具備し、ここでそれぞれの透明支持体は対応する少なくとも1つの変調器と一緒に線要素を形成し;一方光点灯器は光軸上に連続して設置された長い光源及び照明コンバーチブルレンズで構成され、可視化器は光軸上に連続して設置されたフーリエ対物レンズ及び可視化絞りを具備し;光源はパルス又は連続波であって、光パルス繰り返し周波数は像の線周波数と等しく;光点灯器はその放射が平行平板、透明導電性層、透明ゲル様層、空気ギャップに対し90度以下の角度で向かうように配置されており、リボン制御電極は制御歯の周期構造と電気的に接続され、接地電極は接地歯の周期構造と電気的に接続され、それぞれの線画素に対し歯は対応する電極と一緒になって相互に孤立した2つの導電性の櫛のように見え、一方櫛の歯は長い光源と平行に設置されると共に対応する波長の光を反射する連続した誘電性薄鏡で覆われ、制御歯と接地歯のペアに対する次数周期λteethは関係式:λteeth ≦√2 λlight mindiv maxによって決定され、ここでλlightは長い光源の波長、αdiv.(ラジアン単位)は櫛の歯に直交する光源の放射の発散であり、ゲル様層は分子量10000〜16000、粘度800〜1000カンチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO [(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100サンチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3をベースに作製されたものである電気光学変換器。
  20. 分子量10000〜16000、粘度800〜1000サンチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3、架橋剤として水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100サンチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3、可塑剤として粘度5〜20サンチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3、硬化触媒として塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体を、次の比率(質量部):ポリビニルシロキサン−100、オリゴヒドリドシロキサン−15〜25、ポリメチルシロキサン液−150〜300、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体−0.3〜2で含むゲル様組成物の構成物の反応産物である、電気光学変換器のためのゲル様層。
  21. 電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法であって、分子量10000〜16000、粘度800〜1000カンチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100サンチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部とを混合し、混合終了後、粘度5〜20サンチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3の150〜300質量部を加えることを包含し、次いで再度混合した後、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体0.3〜2質量部を加え、反応組成物を混合して、混合終了後均一な厚さの層として導電性透明層に塗布する、ゲル様層の調製方法。
  22. 前記組成物を混合終了後1〜20分おいてから導電性透明層に塗布する請求項21記載の方法。
  23. 前記反応組成物を、混合終了後、次の通りの方法:第1層の形成、架橋及び冷却後、続けて第1層又は先に架橋し冷却したゲル層上にさらに1又はいくつかのゲル層を塗布することにより、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布する、請求項21記載の方法。
  24. 電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法であって、分子量10000〜16000、粘度800〜1000カンチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100サンチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部とを混合し、混合終了後、粘度5〜20サンチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3の150〜300質量部を加えることを包含し、再度混合した後、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体0.3〜2質量部を加え、次いで反応組成物を混合し、混合終了後、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布し、その後得られた層を光学的に平らな表面を有する付加的な板で覆い、透明導電性層と付加的な板の間に配置したメインスペーサーによって透明ゲル様層の厚さを扁平にし、次いで得られた構築物をオーブン中に置いて約2〜4時間70〜90℃の温度に保ち、次いで付加的な板を外して、制御電極及び接地電極が取り付けられた第2の支持体で該ゲル様層を覆い、該電極は防護誘電性薄層で覆われていて、メインスペーサーよりも大きい付加的なスペーサーによってギャップが付与される、ゲル様層の調製方法。
  25. 得られた反応混合物を、混合終了後、次の通りの方法:第1層の形成、架橋及び冷却後、続けて第1層又は先に架橋し冷却したゲル層上にさらに1又はいくつかのゲル層を塗布することにより、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布する、請求項24記載の方法。
  26. 前記付加的な板が癒着防止層で覆われている請求項24記載の方法。
  27. 前記癒着防止層がスルファノール−π(sulfanol-π)のような界面活性剤である請求項26記載の方法。
  28. 前記付加的な板がプラズマ又は他の洗浄照射で処理される請求項24記載の方法。
  29. 電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法であって、分子量10000〜16000、粘度800〜1000カンチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100サンチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部とを混合し、混合終了後、粘度5〜20サンチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3の150〜300質量部を加えることを包含し、再度混合した後、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体0.3〜2質量部を加え、次いで反応組成物を混合し、混合終了後、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布し、その後得られた層を光学的に平らな表面を有する付加的な板で覆い、透明導電性層と付加的な板の間に配置したメインスペーサーによって透明ゲル様層の厚さを扁平にし、次いで得られた構築物をオーブン中に置いて約1〜2時間70〜90℃の温度に保ち、次いで周辺温度まで冷却し、その後付加的な板を外して、透明導電性層上に設けられた該ゲル様層を再びオーブン中に置き、ゲルの架橋が完了するまで約1〜3時間70〜90℃の温度に保つ、ゲル様層の調製方法。
  30. 得られた反応組成物を混合終了後、次の通りの方法:第1層の形成、架橋及び冷却後、続けて第1層又は先に架橋し冷却したゲル層上にさらに1又はいくつかのゲル層を塗布することにより、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布する、請求項29記載の方法。
  31. 前記付加的な板が癒着防止層で覆われている請求項29記載の方法。
  32. 前記癒着防止層がスルファノール−π(sulfanol-π)のような界面活性剤である請求項31記載の方法。
  33. 前記付加的な板がプラズマ又は他の洗浄照射で処理される請求項29記載の方法。
  34. 電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法であって、分子量10000〜16000、粘度800〜1000カンチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100サンチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部とを混合し、混合終了後、粘度5〜20サンチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3の150〜300質量部を加えることを包含し、再度混合した後、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体0.3〜2質量部を加え、次いで反応組成物を混合し、混合終了後、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布し、その後得られた層を光学的に平らな表面を有する付加的な板で覆い、透明導電性層と付加的な板の間に配置したメインスペーサーによって透明ゲル様層の厚さを扁平にし、次いで得られた構築物をオーブン中に置き約2〜4時間70〜90℃の温度に保ち、次いで付加的な板を外して、制御電極及び接地電極が取り付けられた第2の支持体で該ゲル様層を覆い、該電極は防護誘電性薄層で覆われていて、ゲルの架橋、収縮及び周辺温度までの冷却が完了した後にメインスペーサーによってギャップが付与される、ゲル様層の調製方法。
  35. 得られた反応組成物を、混合終了後、次の通りの方法:第1層の形成、架橋及び冷却後、続けて第1層又は先に架橋し冷却したゲル層上にさらに1又はいくつかのゲル層を塗布することにより、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布する、請求項34記載の方法。
  36. 前記付加的な板が癒着防止層で覆われている請求項34記載の方法。
  37. 前記癒着防止層がスルファノール−π(sulfanol-π)のような界面活性剤である請求項36記載の方法。
  38. 前記付加的な板がプラズマ又は他の洗浄照射で処理される請求項34記載の方法。
  39. 電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法であって、分子量10000〜16000、粘度800〜1000カンチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO[(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3の100質量部と、水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100サンチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3の15〜25質量部とを混合し、混合終了後、粘度5〜20サンチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3の150〜300質量部を加えることを包含し、再度混合した後、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体0.3〜2質量部を加え、次いで反応組成物を混合し、混合終了後、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布し、その後得られた層を光学的に平らな表面を有する付加的な板で覆い、透明導電性層と付加的な板の間に配置したメインスペーサーによって透明ゲル様層の厚さを扁平にし、次いで得られた構築物をオーブン中に置き約1〜2時間70〜90℃の温度に保ち、次いで周辺温度まで冷却して、その後付加的な板を外し、透明導電性層上に設けられた該ゲル様層を再びオーブン中に置いて、ゲルの架橋が完了するまで約1〜3時間70〜90℃の温度に保ち、ゲルの架橋、収縮及び周辺温度までの冷却が完了した後にメインスペーサーによってギャップが設けられる、ゲル様層の調製方法。
  40. 得られた反応組成物を、混合終了後、次の通りの方法:第1層の形成、架橋及び冷却後、続けて第1層又は先に架橋し冷却したゲル層上にさらに1又はいくつかのゲル層を塗布することにより、均一な厚さの層として導電性透明層に塗布する、請求項34記載の方法。
  41. 前記付加的な板が癒着防止層で覆われている請求項39記載の方法。
  42. 前記癒着防止層がスルファノール−π(sulfanol-π)のような界面活性剤である請求項41記載の方法。
  43. 前記付加的な板がプラズマ又は他の洗浄照射で処理される請求項39記載の方法。
  44. 電気光学変換器のためのゲル様層の調製方法を具現化するための組成物であって、分子量10000〜16000、粘度800〜1000カンチストークスのポリビニルシロキサン(CH2=CH)3SiO [(CH3)2SiO]mSi(CH=CH2)3、架橋剤として水素化物基を10〜15%含み粘度50〜100サンチストークスのオリゴヒドリドシロキサン(CH3)3SiO{[(CH3)2SiO][CH3SiO(H)]}Si(CH3)3、可塑剤として粘度5〜20サンチストークスのポリメチルシロキサン液(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]Si(CH3)3、硬化触媒として塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体を、次の混合物組成比率(質量部):ポリビニルシロキサン−100、オリゴヒドリドシロキサン−15〜25、ポリメチルシロキサン液−150〜300、塩化白金酸の0.1%有機溶媒溶液又はそれとテトラビニルシランとの錯体−0.3〜2で含む組成物。
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