JP2006351817A - Adhesive support - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、電子部品などの被支持体を粘着力により支持する粘着層を有する粘着性支持体に係り、特に、粘着層としてシリコーン系粘着剤を用いた粘着性支持体に関するものである。 The present invention relates to an adhesive support having an adhesive layer that supports a support such as an electronic component with adhesive force, and more particularly to an adhesive support using a silicone-based adhesive as the adhesive layer.
従来、チップコンデンサなどの電子部品の端面にコーティング処理を施して電極などを形成する際に、被処理部位を露出させて多数の電子部品などを支持する必要があり、そのための支持体が多数提案されている。 Conventionally, when forming an electrode by coating the end face of an electronic component such as a chip capacitor, it has been necessary to expose the target part and support a large number of electronic components, and many support bodies have been proposed for this purpose. Has been.
このような支持体として、下記特許文献1には、所定のビニル基含有オルガノポリシロキサン、オルガノハイドロジエンポリシロキサン、(CH2=CH)R1 2SiO0.5単位、R1 3SiO0.5単位、及びSiO2単位を含有するオルガノポリシロキサン、及び白金化合物を含む組成物を硬化させた柔軟部材層を形成し、この柔軟部材に多数の孔を設けた支持体が記載されている。ここでは、柔軟部材層に形成された多数の孔に多数の電子部品の一部を挿入し、この柔軟部材層の弾性により電子部品を支持していた。
As such a support, the following
また、下記特許文献2には、支持体の表面に粘着層を設けた支持体について記載されている。この支持体では、電子部品の端面を粘着面表面に粘着させることにより支持していた。ここでは、特許文献1の支持体のように多数の電子部品の一部を微細な多数の孔に挿入する必要がないため、微細な多数の孔を精度よく形成する必要がなくて支持体の製造が容易であり、また、使用時においても電子部品の着脱が容易である。
さらに、下記特許文献3には、粘着層の表面に粘着により支持されている多数の電子部品を、粘着層の表面に平行に相対移動する脱離用ブレードにより剥して脱離させることが記載されている。ここでは、粘着面の表面に電子部品が支持されているため、多数の電子部品を脱離させることが容易である。
Furthermore,
以上のような従来の電子部品などの被支持体を粘着力により支持する粘着性支持体にあっては、リフローなどの高温加熱処理にも対応可能である、耐熱性に優れたシリコーン系粘着剤が使用されている。また、電子部品などを支持する粘着性支持体にあっては電子部品などを安定的に支持するためや脱離用ブレードとの相対運動に耐え得るために十分な剛性が要求されるが、シリコーン系粘着剤はJIS硬度(デューロメータ A)で10〜40程度と比較的低硬度であって粘着性支持体自体では取り扱い難いため、基材上に配置されて使用されている。
基材上にシリコーン系粘着剤の粘着性支持体を配置したものを得るには、シリコーン系粘着剤のシートを先に成形、硬化しておいて基材に貼り付ける方法や、基材上に硬化前の材料を配置し、プレス成形をして加圧、加熱しシート状のシリコーン系粘着剤を基材と一体成形する方法等が考えられるが、従来のシリコーン系粘着剤の材料では基材側をプライマー処理してもシリコーン系粘着剤と基材との接着強度が低く、実用に耐え得るものにはならなかった。 In order to obtain a silicone adhesive adhesive support on a substrate, a silicone adhesive sheet is first molded and cured, and then applied to the substrate. A method of placing the material before curing, press-molding, pressurizing and heating, and integrally molding the sheet-like silicone adhesive with the base material, etc. can be considered, but the conventional silicone adhesive material is the base material Even if the side was primed, the adhesive strength between the silicone-based pressure-sensitive adhesive and the base material was low, and it could not withstand practical use.
そこで、この発明は、シート状のシリコーンゴムを基材と一体成形する際のシリコーン系の粘着剤組成物に石英粉末を添加することで基材との接着強度を向上させることで、長期に渡って電子部品などを安定的に支持できる実用的な粘着性支持体を提供することを課題とする。 Therefore, the present invention improves the adhesive strength with the base material by adding quartz powder to the silicone-based pressure-sensitive adhesive composition when the sheet-like silicone rubber is integrally formed with the base material, and thus for a long period of time. It is an object of the present invention to provide a practical adhesive support capable of stably supporting electronic components and the like.
上記課題を解決するため請求項1に記載の発明は、粘着層の表面の粘着力により被支持体を支持するように基材上に前記粘着層が設けられた粘着性支持体において、前記粘着層が、(a)シリコーン生ゴムと、(b)架橋成分と、(c)粘着成分と、(d)白金化合物と、(e)平均粒径40μm以下の石英粉末とを含む粘着剤組成物の硬化物であり、前記基材と前記硬化物とは接着されていることを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の構成に加えて、前記(a)〜(d)の100質量部に対して、前記石英粉末の配合添加量が5〜35質量部であることを特徴としている。
In addition to the structure of
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の構成に加えて、前記基材は、金属、樹脂、又は、セラミックスからなる硬質部材であり、その接着面にはプライマーが塗布されていることを特徴としている。 According to a third aspect of the present invention, in addition to the configuration according to the first or second aspect, the base material is a hard member made of metal, resin, or ceramics, and a primer is applied to an adhesive surface thereof. It is characterized by having.
請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3のいずれか一つの構成に加えて、前記基材は、金属、樹脂、又は、セラミックスからなる硬質部材であり、その接着面はブラスト処理、コロナ処理、プラズマ処理のいずれか一つの表面処理が施されていることを特徴としている。 According to a fourth aspect of the present invention, in addition to the structure according to any one of the first to third aspects, the base material is a hard member made of metal, resin, or ceramics, and an adhesive surface thereof is blasted, One of the surface treatments of corona treatment and plasma treatment is performed.
請求項5に記載の発明は、請求項1乃至4のいずれか一つの構成に加えて、前記粘着層の前記被支持体に接する少なくとも一部の表面からなる粘着面が平面であることを特徴としている。 According to a fifth aspect of the present invention, in addition to the structure according to any one of the first to fourth aspects, the pressure-sensitive adhesive surface comprising at least a part of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer in contact with the supported body is a flat surface. It is said.
請求項6に記載の発明は、請求項1乃至5のいずれか一つに記載の構成に加えて、前記被支持体が、電子部品であることを特徴としている。
The invention according to claim 6 is characterized in that, in addition to the configuration according to any one of
請求項1乃至6のいずれか一つに記載の発明によれば、シリコーン系の粘着剤組成物に平均粒径40μm以下の石英粉末を配合添加したことで基材との接着力が向上し、長期に渡って電子部品などの被支持体を安定的に支持できる粘着性支持体を提供することができる。
According to the invention according to any one of
請求項2に記載の発明によれば、平均粒径40μm以下の石英粉末を5〜35質量部添加することで、より一層高い接着力を発揮することができるので、粘着支持体の信頼性が一層向上する。 According to the second aspect of the invention, by adding 5 to 35 parts by mass of quartz powder having an average particle size of 40 μm or less, an even higher adhesive force can be exhibited. Further improvement.
請求項3に記載の発明によれば、基材の表面にプライマーが塗布されているので、粘着性組成物と基材との接着力が高められるから、粘着支持体の信頼性が一層向上する。
According to the invention described in
請求項4に記載の発明によれば、基材の表面にブラスト処理、コロナ処理、プラズマ処理のいずれか一つの表面処理を施しているので、粘着性組成物と基材との接着力が高められるから、粘着支持体の信頼性が一層向上する。
According to the invention described in
請求項5に記載の発明によれば、粘着層の被支持体に接する少なくとも一部の表面からなる粘着面が平面であるので、使用時に粘着層に支持された被支持体を着脱させる際、脱離用ブレードを被支持体に粘着層の表面に沿う方向に移動させたり、粘着層の表面に沿う方向の力を負荷させて被支持体を着脱させることが容易である。そして、このような使用においても、シリコーン系の粘着剤と基材との高い接着力により粘着支持体の剛性が維持されているので、耐久性のある粘着性支持体を提供することができる。
According to the invention described in
請求項6に記載の発明によれば、チップコンデンサなどの小型の電子部品を粘着性支持体の表面に粘着させて支持することができるから、チップコンデンサなどの小型の電子部品の端面に電極などを形成する際の製造治具として使用することができる。 According to the invention described in claim 6, since a small electronic component such as a chip capacitor can be supported by being adhered to the surface of the adhesive support, an electrode or the like is provided on the end surface of the small electronic component such as a chip capacitor. It can be used as a manufacturing jig when forming.
以下、この発明の実施の形態について説明する。 Embodiments of the present invention will be described below.
図1及び図2は、この実施の形態の粘着性支持体を示す。 FIG.1 and FIG.2 shows the adhesive support body of this embodiment.
図において、1は平板状に形成された粘着性支持体であり、使用時の負荷に対する強度を備えた板状の基材2と、この基材2一方の面に積層された粘着層3とからなっている。
In the figure,
このような粘着性支持体1は、多数の被支持体としての電子部品4を支持するために使用され、たとえば、電子部品4の一方の端部4aを粘着層3の表面に粘着力により支持させ、その状態で、他方の端部4bにコーティング処理などを施すことができる。ここでは、粘着層3の個々の電子部品4と接する面からなる粘着面を含む全面が平面に形成されているため、各電子部品4は粘着層3の粘着力だけで支持されている。
Such an
ここでは、粘着層3の粘着面の平面度(粘着面の厚みの最大値と最小値の差)が50μm以下であるのが好ましく、また、表面粗さ(Ra)が1μm以下であることが好ましい。これは、粘着面の電子部品4との十分な接触面積を確保し易いからである。
Here, the flatness of the pressure-sensitive adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive layer 3 (difference between the maximum value and the minimum value of the pressure-sensitive adhesive surface) is preferably 50 μm or less, and the surface roughness (Ra) is preferably 1 μm or less. preferable. This is because it is easy to ensure a sufficient contact area with the
なお、電子部品4としては、たとえば、コンデンサ、抵抗器、インダクタ、FPC、ウエーハなどの完成品又は未完成品が挙げられる。
Examples of the
粘着性支持体1の使用に際して、電子部品4を粘着性支持体1に支持させるには、たとえば、電子部品4をそれぞれ粘着層3の表面の所定位置に配置可能な図示しない位置決め用部材を粘着層3に接触或いは非接触の状態で用い、電子部品4を粘着層3の表面の所定位置に配置するとともに、粘着層3に押し付けて粘着させ、その後、押し付け力を開放することにより支持させることができる。
In order to support the
一方、粘着層3に支持された多数の電子部品4を脱離させるには、たとえば、脱離用ブレード18の先端を粘着層3の表面に圧接させた状態で、この脱離用ブレード18を粘着層3の表面に沿う方向Aに相対移動させることにより、先端で多数の電子部品4を剥ぎ取り、脱離させることができる。
On the other hand, in order to detach a large number of
このようにして使用される粘着支持体1では、粘着層3に電子部品4を支持させる際、及び粘着層3から電子部品4を脱離させる際、粘着層3の表面が電子部品4により擦られる。そのため、この発明では、十分な粘着性を確保しつつ、このような使用に耐えられる引張り強さなどを確保するため、粘着層3として特定の粘着剤組成物の硬化物からなるものを用いる。
In the
すなわち、この発明に係る実施の形態では、粘着層3が、シリコーン生ゴムからなる(a)成分と、架橋成分からなる(b)成分と、粘着成分からなる(c)成分と、白金化合物からなる(d)成分と、石英粉末からなる(e)成分とを含有する粘着剤組成物の硬化物からなっている。
That is, in the embodiment according to the present invention, the pressure-sensitive
まず、この発明において、シリコーン生ゴムからなる(a)成分は、たとえば、付加反応により架橋可能なアルケニル基を有するポリオルガノシロキサンを用いることができ、特に、下記(1)式で示されるものを好適に用いることができる。 First, in the present invention, as the component (a) made of silicone raw rubber, for example, a polyorganosiloxane having an alkenyl group that can be cross-linked by an addition reaction can be used, and those represented by the following formula (1) are particularly preferable. Can be used.
(式(1)中、R1及びR2は脂肪族不飽和結合を有さない1価の炭化水素基であり、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Xはアルケニル基含有有機基であり、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。また、aは0〜3の整数、bは0〜3の整数、mは0以上の整数、nは10以上の整数であり、a、b、及びmは同時に0とはならない。) (In the formula (1), R 1 and R 2 are monovalent hydrocarbon groups having no aliphatic unsaturated bond, and may be the same or different, and X is an alkenyl group-containing organic group. Each of them may be the same or different, a is an integer of 0 to 3, b is an integer of 0 to 3, m is an integer of 0 or more, and n is an integer of 10 or more. , A, b, and m are not 0 at the same time.)
ここで、R1としては、炭素数1〜10のものが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、フェニル基、トリル基などのアリール基などを例示でき、特にメチル基、フェニル基が好ましい。 Here, R 1 is preferably one having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, a cycloalkyl group such as a cyclohexyl group, an aryl such as a phenyl group or a tolyl group. Examples thereof include groups such as a methyl group and a phenyl group.
また、Xのアルケニル基含有有機基としては、炭素数2〜1のものが好ましく、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基、オクテニル基、アクリロイルプロピル基、アクリロイルメチル基、メタクリロイルプロピル基、シクロヘキセニルエチル基、ビニルオキシプロピル基などを例示できる。 The alkenyl group-containing organic group represented by X is preferably one having 2 to 1 carbon atoms, such as vinyl group, allyl group, hexenyl group, octenyl group, acryloylpropyl group, acryloylmethyl group, methacryloylpropyl group, cyclohexenylethyl group. And vinyloxypropyl group.
この(a)成分は、オイル状、粘土状の性状を有するものでよく、粘度が25℃において50mPa・s以上のものが好ましく、特に10mPa・s以上が好適である。 The component (a) may have oily or clay-like properties, and preferably has a viscosity of 50 mPa · s or more at 25 ° C., particularly 10 mPa · s or more.
また、この(a)成分は、一種単独で用いてもよいが、二種以上混合して用いてもよい。 Moreover, although this (a) component may be used individually by 1 type, you may use it in mixture of 2 or more types.
次に、この発明における架橋成分(b)は、(a)成分と架橋反応可能な成分であり、たとえば、1分子中にSi原子に結合したH原子を少なくとも2個以上、好ましくは3個以上有するSiH結合含有ポリオルガノシロキサン(以下、オルガノハイドロジェンポリシロキサンと称することもある。)を用いることができる。 Next, the crosslinking component (b) in the present invention is a component capable of undergoing a crosslinking reaction with the component (a). For example, at least 2 H atoms bonded to Si atoms in one molecule, preferably 3 or more. SiH bond-containing polyorganosiloxane (hereinafter sometimes referred to as organohydrogenpolysiloxane) can be used.
このポリオルガノシロキサンとしては、直鎖状、分枝状、環状のもを適宜選択して使用することができ、たとえば、下記(2)式又は(3)式のものを例示することができる。 As this polyorganosiloxane, linear, branched, or cyclic compounds can be appropriately selected and used. Examples thereof include those represented by the following formula (2) or (3).
(上記、式(2)及び(3)において、R1は前記と同様の炭化水素基であり、同一であっても、異なっていてもよい。また、c,dは0〜3の整数、x、y、sは0以上の整数、rは1以上の整数であり、c、d、xは同時に0とはならず、更に、x+y≧0以上である。また、r+s≧3以上、好ましくは8≧r+s≧3である。) (In the above formulas (2) and (3), R 1 is the same hydrocarbon group as described above and may be the same or different. C and d are integers of 0 to 3, x, y, and s are integers of 0 or more, r is an integer of 1 or more, c, d, and x are not simultaneously 0, and x + y ≧ 0, and r + s ≧ 3, preferably Is 8 ≧ r + s ≧ 3.)
このオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、オイル状の性状を有するものであり、粘度が25℃において1〜5000mPa・sのものが好ましい。 This organohydrogenpolysiloxane has oily properties, and preferably has a viscosity of 1 to 5000 mPa · s at 25 ° C.
この(b)成分も一種単独で用いてもよいが、二以上混合して用いてもよい。 This component (b) may also be used alone or in combination of two or more.
このような(b)成分の配合割合は、適宜選択可能であるが、前記(a)成分がアルケニル基を含有するとともに、(b)成分がSiH結合を含有する場合、(a)成分中のアルケニル基に対する(b)成分中のSiH結合のモル比が0.5〜20とするのが好ましく、特に1〜15の範囲となるように配合することが好適である。このモル比が0.5未満では、後述する硬化後の架橋密度が低くなり、粘着層3の形状を保持しにくくなることがある。一方、モル比が20を超えると、得られる粘着層3の粘着力が低下することがある。
The blending ratio of the component (b) can be selected as appropriate, but when the component (a) contains an alkenyl group and the component (b) contains a SiH bond, the component (a) in the component (a) It is preferable that the molar ratio of the SiH bond in the component (b) to the alkenyl group is 0.5 to 20, and it is particularly preferable that the SiH bond is in the range of 1 to 15. If this molar ratio is less than 0.5, the crosslinking density after curing described later will be low, and it may be difficult to maintain the shape of the
次に、この発明における粘着成分である(c)成分は、粘着力を向上するために配合される成分であり、たとえば、ポリオルガノシロキサンを用いることができ、特に、R2 3SiO0.5単位及びSiO2単位及び/又はR2 3SiO2/3単位(但し、R2は脂肪族不飽和結合を有さない1価の炭化水素基である。)を含有するものを好適に用いることができる。 Next, the component (c), which is an adhesive component in the present invention, is a component blended to improve the adhesive strength, and for example, polyorganosiloxane can be used, and in particular, R 2 3 SiO 0.5 A unit containing a unit and a SiO 2 unit and / or a R 2 3 SiO 2/3 unit (where R 2 is a monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated bond) is preferably used. Can do.
ここで、R2としては、炭素数1〜10のものが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、フェニル基、トリル基などのアリール基などを例示でき、特にメチル基、フェニル基が好ましい。 Here, R 2 is preferably one having 1 to 10 carbon atoms, alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group or butyl group, cycloalkyl group such as cyclohexyl group, aryl such as phenyl group or tolyl group. Examples thereof include groups such as a methyl group and a phenyl group.
この(c)成分は、一般的に粘着性をより高度に確保するために、上記(a)成分及び(b)成分とともに架橋反応を生じない、または、生じ難い構造を有するものが好ましい。 In general, the component (c) preferably has a structure that does not cause or hardly causes a crosslinking reaction together with the components (a) and (b) in order to ensure a higher degree of adhesiveness.
このような(c)成分としてポリオルガノシロキサンを用いる場合は、(R2 3SiO0.5単位及び/又はR2 3SiO2/3単位)/SiO2単位のモル比が0.6〜1.7となるものが好ましい。このモル比が0.6未満では、粘着性が高くなり過ぎたり、(a)成分と相溶し難くなって、分離して粘着性を発現しなくなることがある。一方、モル比が1.7を超えると粘着力が低下することがある。 When polyorganosiloxane is used as the component (c), the molar ratio of (R 2 3 SiO 0.5 unit and / or R 2 3 SiO 2/3 unit) / SiO 2 unit is 0.6 to 1. .7 is preferable. If this molar ratio is less than 0.6, the tackiness may become too high, or it may become difficult to be compatible with the component (a), and may not be separated to express the tackiness. On the other hand, if the molar ratio exceeds 1.7, the adhesive strength may decrease.
なお、このポリオルガノシロキサンは、Si原子に結合するOH基を含有していてもよく、その場合、OH基含有量が0〜4.0モル%とするのが好ましい。 In addition, this polyorganosiloxane may contain OH group couple | bonded with Si atom, and it is preferable that OH group content shall be 0-4.0 mol% in that case.
Si原子に結合するOH基を含有するものを用いる場合、前記(a)成分として、下記式(4)に示されるポリオルガノシロキサンを含有するときには、(a)成分と(b)成分とが一部縮合反応物を形成していてもよい。 In the case of using a substance containing an OH group bonded to an Si atom, when the polyorganosiloxane represented by the following formula (4) is contained as the component (a), the component (a) and the component (b) are one. A partial condensation reaction product may be formed.
(式(4)中、R1及びR2は脂肪族不飽和結合を有さない1価の炭化水素基であり、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、YはR1またはアルケニル基含有有機基である。また、pは1以上の整数、qは10以上の整数である。) (In the formula (4), R 1 and R 2 are monovalent hydrocarbon groups having no aliphatic unsaturated bond, which may be the same or different, and Y is R 1 or alkenyl. A group-containing organic group, p is an integer of 1 or more, and q is an integer of 10 or more.)
このような(a)成分と(c)成分との縮合反応物を形成するには、トルエンなどの溶剤に溶解した(a)成分及び(c)成分の混合物を、アルカリ性触媒の存在下で、室温乃至還流下で反応させればよい。 In order to form such a condensation reaction product of the component (a) and the component (c), a mixture of the component (a) and the component (c) dissolved in a solvent such as toluene is added in the presence of an alkaline catalyst. The reaction may be performed at room temperature or under reflux.
なお、このような(c)成分は一種単独で用いても、二種以上混合して用いてもよい。 In addition, such (c) component may be used individually by 1 type, or may be used in mixture of 2 or more types.
そして、このような(c)成分は、(a)成分/(c)成分の重量比として20/80〜80/20の範囲で用いるのが好ましく、特に、30/70〜70/30とするのが好適である。この範囲を超えて(c)成分が少ないと粘着性が不足し易くなり、一方、多いと粘着層3が硬くなるとともに弾性力が強く、粘着層3が変形し難くなり、電子部品4などの被支持物を粘着させにくくなり易い。
And it is preferable to use such (c) component in the range of 20 / 80-80 / 20 as a weight ratio of (a) component / (c) component, and it is set as 30 / 70-70 / 30 especially. Is preferred. If the amount of the component (c) is less than this range, the adhesiveness tends to be insufficient. On the other hand, if the amount is large, the
次に、この発明の(d)成分は、主として前記(a)成分と(b)成分との架橋反応を促進する触媒となる白金化合物であり、通常、ハイドロサイレーションの触媒として使用されるものである。 Next, the component (d) of the present invention is a platinum compound that mainly serves as a catalyst for promoting the crosslinking reaction between the component (a) and the component (b), and is usually used as a hydrosilation catalyst. It is.
この(d)成分としては、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、塩化白金酸とアルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン化合物との反応物、塩化白金酸とビニル基含有シロキサンとの反応物などが挙げられる。 As the component (d), chloroplatinic acid, an alcohol solution of chloroplatinic acid, a reaction product of chloroplatinic acid and alcohol, a reaction product of chloroplatinic acid and an olefin compound, chloroplatinic acid and a vinyl group-containing siloxane And reactants.
この(d)成分の配合割合は前記(a)成分と(b)成分との合計量に対し、白金分として1〜5,000ppmとするのが好ましく、特に5〜2,000ppmとすることが好適である。配合割合が1ppm未満では硬化性が低下して架橋密度が低くなり、保持力が低下することがあり、一方、5,000ppmを超えると処理浴の使用可能時間が短くなる場合があるからである。 The blending ratio of the component (d) is preferably 1 to 5,000 ppm as a platinum content, particularly 5 to 2,000 ppm, with respect to the total amount of the components (a) and (b). Is preferred. This is because if the blending ratio is less than 1 ppm, the curability is lowered and the crosslinking density is lowered and the holding power may be lowered. On the other hand, if it exceeds 5,000 ppm, the usable time of the treatment bath may be shortened. .
次に、この発明の(e)成分は、上記各成分とともに添加される石英粉末であり、粘着層3の機械的強度を補強するとともに、粘着層3を構成する成分、特に、粘着性を付与する(c)成分を粘着層3に保持して、脱離し難くする成分である。
Next, the component (e) of the present invention is quartz powder added together with each of the above components, and reinforces the mechanical strength of the
以上にような構成からなる粘着性支持体1の粘着層3によれば、石英粉末を含まない通常のシリコーン系粘着剤(充填剤のないもの)からなる粘着層に比べ、シリコーン系粘着剤中で補強作用として働いている石英粉末が接着界面にも露出することになるため粘着層3と基材2との接着を助け、これを補うことに寄与している。
According to the pressure-
石英粉末は平均粒径が40μm以下であり、特には平均粒径が0.5〜10μmが最も好ましい。石英粉末の平均粒径が40μmを越えると基材2との接着界面での接着補強効果が小さくなるばかりでなく材料自体の物性が低下するため好ましくない。石英粉末の添加量は、シリコーン成分100質量部に対して5〜35質量部とし、特には10〜20質量部が最も好ましい。石英粉末の添加量が5質量部より少ない接着強度を向上する効果が小さくなり、35質量部を越えると材料自体の物性が低下するため好ましくない。
Quartz powder has an average particle size of 40 μm or less, and particularly preferably an average particle size of 0.5 to 10 μm. If the average particle diameter of the quartz powder exceeds 40 μm, not only the adhesion reinforcing effect at the adhesion interface with the
なお、(e)成分の石英粉末としては、たとえば、Minusi(商品名、Penn Glass Sand社製)、Neo−Novacite(商品名、Malvern Mineral社製)、Imsil A−10(商品名、Illinois Minerals社製)などが挙げられる。石英粉末はこれらを一種単独で用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。 As the quartz powder of component (e), for example, Minusi (trade name, manufactured by Penn Glass Sand), Neo-Novacite (trade name, manufactured by Malvern Mineral), Imsil A-10 (trade name, Illinois Minerals) Manufactured). Quartz powder may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types.
また、必要に応じて、石英粉末の表面を、たとえば、オルガノポリシロキサン、オルガノポリシラザン、クロロシラン、アルコキシシランなどの表面処理剤で処理したものを用いてもよい。 Moreover, you may use what processed the surface of the quartz powder with surface treatment agents, such as organopolysiloxane, organopolysilazane, chlorosilane, alkoxysilane, as needed.
さらに、この発明では、上記(a)成分から(e)成分の他に、適宜、任意成分を添加することが可能である。 Furthermore, in this invention, it is possible to add arbitrary components as appropriate in addition to the components (a) to (e).
たとえば、上記成分を混合時の架橋反応を抑制するための反応制御剤を添加することができる。この反応制御剤としては、たとえば、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3−メチル−1−ペンチン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、1−エチニルシクロヘキサノール、3−メチル−3−トリメチルシロキシ−1−ブチン、3−メチル−3−トリメチルシロキシ−1−ペンチン、3,5−ジメチル−3−トリメチルシロキシ−1−ヘキシン、1−エチニル−1−トリメチルシロキシシクロヘキサン、ビス(2,2−ジメチル−3−ブチノキシ)ジメチルシラン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサンなどが挙げられる。 For example, a reaction control agent for suppressing a crosslinking reaction when mixing the above components can be added. Examples of the reaction control agent include 3-methyl-1-butyn-3-ol, 3-methyl-1-pentyn-3-ol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, and 1-ethynyl. Cyclohexanol, 3-methyl-3-trimethylsiloxy-1-butyne, 3-methyl-3-trimethylsiloxy-1-pentyne, 3,5-dimethyl-3-trimethylsiloxy-1-hexyne, 1-ethynyl-1- Trimethylsiloxycyclohexane, bis (2,2-dimethyl-3-butynoxy) dimethylsilane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane, 1,1,3 Examples include 3-tetramethyl-1,3-divinyldisiloxane.
この反応制御剤を添加する場合、その配合割合は(a)成分と(c)成分との合計量10質量部に対して0〜5.0質量部の範囲とすることができ、特に0.05〜2.0質量部とするのが好ましい。この反応制御剤の配合割合が5.0質量部を超えると粘着剤組成物の硬化時に硬化し難くなることがあるためである。 When this reaction control agent is added, the blending ratio can be in the range of 0 to 5.0 parts by mass with respect to the total amount of 10 parts by mass of the component (a) and the component (c). It is preferable to set it as 05-2.0 mass parts. It is because it will become difficult to harden | cure at the time of hardening of an adhesive composition when the mixture ratio of this reaction control agent exceeds 5.0 mass parts.
また、反応制御剤の他にも、この発明では、適宜、任意成分を添加することが可能であり、たとえば、ポリジメチルシロキサン、ポリジメチルジフェニルシロキサンなどの非反応性のポリオルガノシロキサン、塗工の際の粘度を下げるための溶剤として、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤、ヘキサン、オクタン、イソパラフィンなどの脂肪族系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸イソブチルなどのエステル系溶剤、ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶剤、又はこれらの混合溶剤、染料、顔料などを使用することができる。 In addition to the reaction control agent, in the present invention, it is possible to add optional components as appropriate. For example, non-reactive polyorganosiloxanes such as polydimethylsiloxane and polydimethyldiphenylsiloxane, As solvents for reducing the viscosity, aromatic solvents such as toluene and xylene, aliphatic solvents such as hexane, octane and isoparaffin, ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, isobutyl acetate and the like Ester solvents, ether solvents such as diisopropyl ether and 1,4-dioxane, or mixed solvents, dyes, pigments and the like thereof can be used.
この発明に係る粘着性支持体1の粘着剤組成物は、以上のような各成分を混合することにより得られる混合物であり、各成分がそれぞれ所定量配合され、好ましくは均一に分散させた状態のものである。
The pressure-sensitive adhesive composition of the pressure-
そして、以上のような組成物を用いて、前記のような粘着性支持体1を製造するには、上記シリコーン系粘着剤組成物を基材2に塗工し、所定の条件にて硬化させて粘着層3を得ることにより、製造することができる。
And in order to manufacture the above
ここで、基材2は、粘着層3を保持可能な材料から形成されており、たとえば、ステンレス、アルミなどの金属製プレート、アルミニウム箔、銅箔などの金属箔、ポリエステル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニルなどの樹脂フィルムや樹脂板、和紙、合成紙、ポリエチレンラミネート紙などの紙、布、ガラス繊維、ガラス板などのセラミックス、ガラスエポキシ樹脂板などの複合材料、さらに、これらを複数積層してなる複合基材などからなるものが挙げられる。ここでは、特に、金属、樹脂、又はセラミックスからなる硬質部材からなるものが好適である。
Here, the
これらの基材2は、基材2と粘着層3との密着性を向上させるため、プライマーを塗布したり、コロナ処理、ブラスト処理、プラズマ処理などの表面処理を施して用いることも可能である。
In order to improve the adhesion between the
そして、これらの基材2に前記のような粘着剤組成物を塗工して硬化させるには、基材2の一方の面に粘着剤組成物を積層して金型などにてプレス成形したり、金型内に基材2をインサートして粘着剤組成物を金型内に注入して成形などする方法などにより行うことが可能である。
And in order to apply and harden the adhesive composition as described above on these
このような塗工方法では、硬化後の粘着層3の厚みを0.2〜5mm程度とすることが可能である。その際、硬化条件としては、80〜130℃で3分〜40分とすることができるが、適宜調整可能である。
In such a coating method, the thickness of the
また、さらに厚みを薄くする塗工方法を用いることができ、コンマコーター、リップコーター、ロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、キスコーター、グラビアコーターなどにより塗工したり、スクリーン塗工、浸漬塗工、キャスト塗工によって塗工するなど、公知の塗工方式を用いて塗工することができる。 In addition, a coating method for further reducing the thickness can be used, such as coating with a comma coater, lip coater, roll coater, die coater, knife coater, blade coater, rod coater, kiss coater, gravure coater, or screen coating. Coating can be performed using a known coating method such as coating by dip coating, dip coating, or cast coating.
このような塗工方法では、硬化後の粘着層3の厚みを1〜200μmとすることができる。その際、硬化条件としては、80〜130℃で30秒〜3分とすることができるが、適宜調整可能である。
In such a coating method, the thickness of the
以上のようにして硬化させて得られた粘着層3においては、低分子シロキサン成分や、(a)成分の未架橋成分がないことが望ましいが、実用上、粘着層3から発生するシロキサンが1量体として100ppm以下、さらに好ましくは低分子の環状シロキサンD4(4量体の環状シロキサン)〜D10(10量体の環状シロキサン)の総量が300ppm以下のものが望ましい。
In the pressure-
以上のようにして製造された粘着性支持体1によれば、粘着層3が平均粒子径40μm以下の石英粉を含んだ所定の粘着剤組成物の硬化物からなるので、粘着層3を構成する成分を粘着層に保持する効果を十分に向上することができ、その結果、使用時に粘着層3の表面に電子部品4などの被支持体を着脱させる際、粘着層3の表面に電子部品4や被支持体を着脱するための脱離用ブレード5を押し付けたり、粘着層3の表面に沿う方向の力を負荷することにより、粘着層3の表面が擦られても、その摩擦により粘着層3を構成する成分からなる削れかす、特に、粘着性を付与する(c)成分からなる削れかすやのり残りが発生し難い。
According to the pressure-
しかも、粘着層3の表面には電子部品4を挿入するための穴などがない平面に形成されており、この粘着層3の表面に電子部品4が支持されるので、使用時に粘着層3から電子部品4を着脱させる際、電子部品4や脱離用ブレード5を粘着層3の表面に沿う方向Aに移動させたり、粘着層3の表面に沿う方向の力を負荷して電子部品4を着脱させることが容易である。そして、このような使用においても、前記のように粘着層3を構成する成分を粘着層3に保持する効果が高いため、粘着層3を構成する成分からなる削れかすやのり残りが発生し難く、電子部品4の製品不良を発生し難く好適である。
In addition, the surface of the
なお、上記実施の形態では、電子部品4を支持する例について説明したが、被支持体は何ら限定されることなく、たとえば、シリコンウエーハなどの他の電子部品でもよく、粘着層3の粘着力や粘着性支持体1の強度などに応じた被支持体を支持することができる。
In addition, although the example which supports the
また、上記では、板状の基材2に粘着層3を形成したが、基材2の形状は特に限定されず、たとえば、ロール形状や曲面形状、さらには各種の異形形状など、用途などに応じて粘着層3を保持できる形状であれば適宜採用することが可能である。また、基材2の材料についても、粘着層3を安定して保持可能なものであれば、適宜選択することができる。
Moreover, although the
さらに、上記では、粘着層3の表面全面が平面形状の粘着面を構成する例について説明したが、平面形状に特に限定されるものではなく、電子部品4などの被支持体を粘着させる部分を凸状或いは凹状に成形したものであってもよい。また、電子部品4などの被支持体を粘着できる限り、粘着層3の表面の一部が非粘着面となる粘着性支持体1であってもよい。
Furthermore, in the above description, an example in which the entire surface of the
以下、この発明の実施例について説明する。
[実施例1]
Examples of the present invention will be described below.
[Example 1]
(a)成分として、5モル%のメチルビニルシロキサン単位と、95モル%のジメチルビニルシロキサン単位のアルケニル基含有ポリオルガノシロキサンを10質量部、(b)成分として、H(CH3)2SiO−((CH3)2SiO)18−Si(CH3)2HからなるSiH結合含有ポリオルガノシロキサンを5.7質量部、(c)成分として、(CH3)SiO0.5単位/SiO2単位からなり、(CH3)SiO0.5単位/SiO2単位のモル比が0.85のポリオルガノシロキサンを50質量部、白金含有量が2%の塩化白金酸の2−エチルヘキサノール溶液を0.28質量部、平均粒径5μmの石英粉末を10質量部、反応制御剤として、1−エチニルシクロヘキサノールを0.05質量部を均一に混合して、粘着剤組成物を調製した。 As component (a), 10 parts by mass of an alkenyl group-containing polyorganosiloxane of 5 mol% of methyl vinyl siloxane units and 95 mol% of dimethyl vinyl siloxane units, and as component (b), H (CH 3 ) 2 SiO— 5.7 parts by mass of SiH bond-containing polyorganosiloxane composed of ((CH 3 ) 2 SiO) 18 -Si (CH 3 ) 2 H, and as component (c), (CH 3 ) SiO 0.5 unit / SiO 2 A 2-ethylhexanol solution of chloroplatinic acid comprising 50 parts by mass of a polyorganosiloxane having a molar ratio of (CH 3 ) SiO 0.5 unit / SiO 2 unit of 0.85 and a platinum content of 2%. 0.28 parts by mass, 10 parts by mass of quartz powder having an average particle size of 5 μm, and 0.05 parts by mass of 1-ethynylcyclohexanol were uniformly mixed as a reaction control agent. Was to prepare an adhesive composition.
その後、ステンレス鋼製の板状の基材2(幅25mm×長さ150mm×厚さ1mm)にシランカップリング剤からなるプライマーを長さ方向に50mm塗布し、上記粘着剤組成物を1.5mm厚で均一に塗布し、120℃で15分硬化させ、図1に示すような粘着性支持体1を作製した。
[実施例2]
Then, a primer made of a silane coupling agent was applied 50 mm in the length direction to a stainless steel plate-like substrate 2 (width 25 mm × length 150 mm ×
[Example 2]
実施例2は実施例1の粘着性組成物のうちの石英粉末の添加量だけを変えたものであって、具体的には平均粒径5μmの石英粉末を20質量部とし、実施例1より石英粉末の添加量を増やしたものである。その他、粘着性支持体の作製方法や形状、大きさは同一である。
[実施例3]
In Example 2, only the amount of quartz powder added in the adhesive composition of Example 1 was changed. Specifically, 20 parts by mass of quartz powder having an average particle diameter of 5 μm was obtained. The amount of addition of quartz powder is increased. In addition, the production method, shape, and size of the adhesive support are the same.
[Example 3]
実施例3は実施例1の粘着性組成物のうちの石英粉末の平均粒径だけを変えたものであって、具体的には平均粒径35μmの石英粉末を10質量部とし、実施例1より石英粉末の平均粒径を大きくしたものである。その他、粘着性支持体の作製方法や形状、大きさは同一である。
[実施例4]
In Example 3, only the average particle diameter of the quartz powder in the adhesive composition of Example 1 was changed. Specifically, 10 parts by mass of quartz powder having an average particle diameter of 35 μm was obtained. Further, the average particle size of the quartz powder is increased. In addition, the production method, shape, and size of the adhesive support are the same.
[Example 4]
実施例4は実施例1の粘着性組成物のうちの石英粉末の平均粒径とその添加量だけを変えたものであって、具体的には平均粒径35μmの石英粉末を20質量部とし、実施例1より石英粉末の平均粒径を大きくし、その添加量を増やしたものである。その他、粘着性支持体の作製方法や形状、大きさは同一である。
[実施例5]
In Example 4, the average particle diameter of the quartz powder of the adhesive composition of Example 1 and only the amount added were changed. Specifically, the quartz powder having an average particle diameter of 35 μm was changed to 20 parts by mass. The average particle size of the quartz powder is made larger than that of Example 1 and the amount added is increased. In addition, the production method, shape, and size of the adhesive support are the same.
[Example 5]
実施例5は実施例1の粘着性組成物及び粘着性支持体の作成方法や形状、大きさは同一であるが、粘着性支持体にコロナ処理の表面処理を施している点が実施例1と異なっている。その他、表面処理を除いた粘着性支持体の作製方法や粘着性支持体の形状、大きさは同一である。
[実施例6]
Example 5 is the same in the method, shape, and size of the pressure-sensitive adhesive composition and pressure-sensitive adhesive support of Example 1, but the point that corona-treated surface treatment is applied to the pressure-sensitive adhesive support is Example 1. Is different. In addition, the production method of the adhesive support excluding the surface treatment and the shape and size of the adhesive support are the same.
[Example 6]
実施例6は実施例1の粘着性組成物及び粘着性支持体の作成方法や形状、大きさは同一であるが、粘着性支持体にブラスト処理の表面処理を施している点が実施例1と異なっている。その他、表面処理を除いた粘着性支持体の作製方法や粘着性支持体の形状、大きさは同一である。
[比較例1]
Example 6 is the same in the preparation method, shape and size of the pressure-sensitive adhesive composition and pressure-sensitive adhesive support of Example 1, but the point that the surface treatment of blast treatment is applied to the pressure-sensitive adhesive support is Example 1. Is different. In addition, the production method of the adhesive support excluding the surface treatment and the shape and size of the adhesive support are the same.
[Comparative Example 1]
比較例1は粘着性組成物中に石英粉末を添加しないこと及び粘着性支持体を作製する際にプライマー処理をしていないこと以外は実施例1と同一である。その他の粘着性支持体の作成方法や形状、大きさは同一である。
[比較例2]
Comparative Example 1 is the same as Example 1 except that no quartz powder is added to the adhesive composition and that no primer treatment is applied when preparing the adhesive support. The production method, shape, and size of other adhesive supports are the same.
[Comparative Example 2]
比較例2は粘着性組成物中に石英粉末を添加しないこと及び粘着性支持体にコロナ処理の表面処理を施している以外は実施例1と同一である。その他、表面処理を除いた粘着性支持体の作成方法や形状、大きさは同一である。
[比較例3]
Comparative Example 2 is the same as Example 1 except that the quartz powder is not added to the adhesive composition and the adhesive support is subjected to a corona treatment surface treatment. In addition, the production method, shape, and size of the adhesive support excluding the surface treatment are the same.
[Comparative Example 3]
比較例3は粘着性組成物中に石英粉末を添加しないこと及び粘着性支持体にブラスト処理の表面処理を施している以外は実施例1と同一である。その他、表面処理を除いた粘着性支持体の作成方法や形状、大きさは同一である。 Comparative Example 3 is the same as Example 1 except that the quartz powder is not added to the adhesive composition and the adhesive support is subjected to a blasting surface treatment. In addition, the production method, shape, and size of the adhesive support excluding the surface treatment are the same.
以上のようにして得られた実施例1〜6及び比較例1〜3の粘着性支持体1を用い、同一の条件下で、JIS Z 0237に準拠して剥離力を測定した。その結果を表1に示す。 Using the adhesive supports 1 of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 obtained as described above, the peeling force was measured according to JIS Z 0237 under the same conditions. The results are shown in Table 1.
表1から明らかなように、実施例1〜6は最も剥離力の大きな比較例3に比べて平均で約3倍もの剥離力を示している。したがって、平均粒径が5〜34μmの石英粉末を10〜20質量部添加した粘着性支持体(実施例1〜6)は、石英粉末を添加していない粘着性支持体(比較例1〜3)より大きな接着力が得られていることが確認できた。 As is apparent from Table 1, Examples 1 to 6 show an average of about three times as much peeling force as Comparative Example 3 having the largest peeling force. Therefore, the adhesive support (Examples 1 to 6) to which 10 to 20 parts by mass of quartz powder having an average particle size of 5 to 34 μm is added is the adhesive support to which quartz powder is not added (Comparative Examples 1 to 3). ) It was confirmed that a larger adhesive force was obtained.
また、石英粉末の平均粒径が大きい実施例3、4より石英粉末の平均粒径が小さい実施例1、2、5、6の方が剥離力は大きいため、石英粉末の平均粒径は小さい方が粘着性支持体の接着力は大きいといえる。 In addition, since Examples 1, 2, 5, and 6 in which the average particle diameter of the quartz powder is smaller than those in Examples 3 and 4 in which the average particle diameter of the quartz powder is large, the peeling force is larger, so the average particle diameter of the quartz powder is small. It can be said that the adhesive strength of the adhesive support is greater.
また、石英粉末の平均粒径が同じ場合には、添加量の少ない実施例1、3より添加量の多い実施例2、4の方が剥離力は大きいため、石英粉末の添加量は多い方が粘着性支持体の接着力は大きいといえる。 In addition, when the average particle size of the quartz powder is the same, the peel strength is higher in Examples 2 and 4 where the addition amount is higher than those in Examples 1 and 3 where the addition amount is smaller, so the addition amount of quartz powder is larger. However, it can be said that the adhesive strength of the adhesive support is large.
さらに、石英粉末の平均粒径とその添加量が同じ場合には、表面処理をしていない実施例1より、表面処理をしている実施例5,6の方が剥離力が大きいため、表面処理をした方が粘着性支持体の接着力は大きいといえる。 Furthermore, when the average particle diameter of the quartz powder and the amount of addition thereof are the same, the surface treatments of Examples 5 and 6 with the surface treatment are larger than those of Example 1 with no surface treatment. It can be said that the adhesive force of the adhesive support is greater when the treatment is performed.
1 粘着性支持体
2 基材
3 粘着層
4 電子部品(被支持体)
5 脱離用ブレード
DESCRIPTION OF
5 Detachment blade
Claims (6)
前記粘着層が、(a)シリコーン生ゴムと、(b)架橋成分と、(c)粘着成分と、(d)白金化合物と、(e)平均粒径40μm以下の石英粉末とを含む粘着剤組成物の硬化物であり、前記基材と前記硬化物とは接着されていることを特徴とする粘着性支持体。 In the adhesive support provided with the adhesive layer on the substrate so as to support the support by the adhesive force of the surface of the adhesive layer,
The pressure-sensitive adhesive composition, wherein the pressure-sensitive adhesive layer comprises (a) silicone raw rubber, (b) a crosslinking component, (c) a pressure-sensitive adhesive component, (d) a platinum compound, and (e) quartz powder having an average particle size of 40 μm or less. An adhesive support, wherein the substrate and the cured product are bonded to each other.
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070911 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A521 | Request for written amendment filed |
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120711 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150720 Year of fee payment: 3 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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