JP2006022168A - Pressure-sensitive adhesive support - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、電子部品等の被支持体を粘着力により支持する粘着層を有する粘着性支持体に係り、特に、粘着層としてシリコーン系粘着剤を用いた粘着性支持体に関するものである。 The present invention relates to an adhesive support having an adhesive layer for supporting a support such as an electronic component with adhesive force, and more particularly to an adhesive support using a silicone-based adhesive as the adhesive layer.
従来、チップコンデンサなどの電子部品の端面にコーティング等の処理を施す際などに、被処理部位を露出させて多数の電子部品を支持する必要があり、そのための支持体が多数提案されている。 Conventionally, when an end face of an electronic component such as a chip capacitor is subjected to a treatment such as coating, it is necessary to expose a portion to be processed to support a large number of electronic components, and many supports have been proposed.
このような支持体として、下記特許文献1には、所定のビニル基含有オルガノポリシロキサン、オルガノハイドロジエンポリシロキサン、(CH2=CH)R1 2SiO0.5単位、R1 3SiO0.5単位、及びSiO2単位を含有するオルガノポリシロキサン、及び白金化合物を含む組成物を硬化させた柔軟部材層を形成し、この柔軟部材に多数の孔を設けた支持体が記載されている。ここでは、柔軟部材層に形成された多数の孔に多数の電子部品の一部を挿入し、この柔軟部材層の弾性により電子部品を支持していた。 As such a support, the following Patent Document 1 discloses a predetermined vinyl group-containing organopolysiloxane, organohydrodiene polysiloxane, (CH 2 ═CH) R 1 2 SiO 0.5 unit, R 1 3 SiO 0. There is described a support in which a flexible member layer obtained by curing a composition containing 5 units and an organopolysiloxane containing SiO 2 units and a platinum compound is formed, and a number of holes are provided in the flexible member. Here, a part of many electronic components is inserted into many holes formed in the flexible member layer, and the electronic component is supported by the elasticity of the flexible member layer.
また、下記特許文献2には、支持体の表面に粘着層を設けた支持体について記載されている。この支持体では、電子部品の端面を粘着面表面に粘着させることにより支持していた。ここでは、特許文献1の支持体のように多数の電子部品の一部を微細な多数の孔に挿入する必要がないため、微細な多数の孔を精度よく形成する必要がなくて支持体の製造が容易であり、また、使用時においても電子部品の着脱が容易である。 Patent Document 2 below describes a support in which an adhesive layer is provided on the surface of the support. In this support, the end face of the electronic component is supported by adhering to the adhesive surface. Here, unlike the support of Patent Document 1, it is not necessary to insert a part of many electronic components into a large number of fine holes, so it is not necessary to accurately form a large number of fine holes. Manufacture is easy, and the electronic components can be easily attached and detached during use.
更に、下記特許文献3には、粘着層の表面に粘着により支持されている多数の電子部品を、粘着層の表面に平行に相対移動する脱離用のブレードにより剥して脱離させることが記載されている。ここでは、粘着面の表面に電子部品が支持されているため、多数の電子部品を脱離させることが容易である。
しかしながら、従来の粘着層を有する支持体では、粘着層の表面に支持されている多数の電子部品を着脱させる際、粘着層の表面が電子部品自体や電子部品の着脱に用いられるブレード等の部材により擦られるため、その摩擦により粘着層を構成する成分からなる削れかすが発生しやすく、特に、粘着層の粘着成分からなる削れかすやのり残りが生じ易く、この削れかすやのり残りが電子部品に異物として付着し、製品の不良を発生させ易いという問題があった。 However, in a conventional support having an adhesive layer, when attaching and detaching a large number of electronic components supported on the surface of the adhesive layer, the surface of the adhesive layer is a member such as a blade used for attaching or detaching the electronic component itself or the electronic component. As a result, it is easy to generate shavings and residue from the adhesive component of the adhesive layer. There has been a problem that it adheres as a foreign substance and easily causes a product defect.
そこで、この発明では、粘着層の表面に被支持体を着脱する際、粘着層から削れかすやのり残りが生じにくい粘着性支持体を提供することを課題とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide an adhesive support that is less likely to be scraped off or left behind from the adhesive layer when the support is attached to or detached from the surface of the adhesive layer.
上記課題を解決する請求項1に記載の発明は、粘着層の表面の粘着力により被支持体を支持するように基材上に前記粘着層が設けられた粘着性支持体において、前記粘着層が、(a)シリコーン生ゴムと、(b)架橋成分と、(c)粘着成分と、(d)白金化合物と、(e)シリカとを含む粘着剤組成物の硬化物であり、前記シリカが50m2/g以上の比表面積を有することを特徴とする。 The invention according to claim 1, which solves the above-mentioned problem, is the pressure-sensitive adhesive layer in which the pressure-sensitive adhesive layer is provided on a substrate so as to support the support by the adhesive force of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. Is a cured product of a pressure-sensitive adhesive composition containing (a) silicone raw rubber, (b) a crosslinking component, (c) a pressure-sensitive adhesive component, (d) a platinum compound, and (e) silica. It has a specific surface area of 50 m 2 / g or more.
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の構成に加え、前記被支持体が、電子部品であることを特徴とする。 The invention according to claim 2 is characterized in that, in addition to the configuration according to claim 1, the supported body is an electronic component.
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の構成に加え、前記粘着層の前記被支持体に接する少なくとも一部の表面からなる粘着面が平面であることを特徴とする。 The invention according to claim 3 is characterized in that, in addition to the structure according to claim 1 or 2, the pressure-sensitive adhesive surface comprising at least a part of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer in contact with the supported body is a flat surface.
請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3の何れか一つに記載の構成に加え、体前記基材は、金属、樹脂、又は、セラミックスからなる硬質部材であることを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, in addition to the structure according to any one of the first to third aspects, the body substrate is a hard member made of metal, resin, or ceramics. .
請求項5に記載の発明は、請求項1乃至4の何れか一つに記載の構成に加え、前記シリカの比表面積が、100m2/g以上400m2/g以下であることを特徴とする。 The invention according to claim 5 is characterized in that, in addition to the structure according to any one of claims 1 to 4, the specific surface area of the silica is 100 m 2 / g or more and 400 m 2 / g or less. .
請求項1乃至5の何れか一つに記載の発明によれば、粘着層が50m2/g以上の比表面積を有するシリカを含んだ所定の粘着性組成物の硬化物からなるので、粘着層を構成する成分を粘着層に保持する効果を十分に向上することができ、その結果、使用時に粘着層の表面に被支持体を着脱させる際、表面が被支持体や被支持体を着脱するための部材などで擦られても、その摩擦により粘着層を構成する成分からなる削れかす、特に、粘着層の粘着性を付与する(c)成分からなる削れかすやのり残りが発生し難い粘着性支持体を提供することができる。 According to the invention of any one of claims 1 to 5, since the adhesive layer is made of a cured product of a predetermined adhesive composition containing silica having a specific surface area of 50 m 2 / g or more, the adhesive layer As a result, when the support is detached from the surface of the adhesive layer during use, the surface attaches or detaches the support or the support. Even if it is rubbed by a member for the purpose, it is not easily generated by scraping from the components constituting the adhesive layer due to the friction, in particular, from the component (c) that imparts the adhesiveness of the adhesive layer. Sex supports can be provided.
特に、請求項2に記載の発明によれば、このような粘着性支持体により支持する被支持体を電子部品としているので、電子部品に削れかすやのり残りが付着し難く、製品不良を発生させ難くすることができる。 In particular, according to the second aspect of the present invention, since the supported body supported by such an adhesive support is an electronic component, it is difficult for scraps or residue to adhere to the electronic component, resulting in product defects. It can be made difficult to do.
更に、請求項3乃至5に記載の発明によれば、粘着層の被支持体に接する少なくとも一部の表面からなる粘着面が平面であるので、使用時に粘着層に支持された被支持体を着脱させる際、被支持体に粘着層の表面に沿う方向に移動させたり、粘着層の表面に沿う方向の力を負荷させて被支持体を着脱させることが容易である。そして、このような使用においても、粘着層を構成する成分を粘着層に保持する効果が高いため、削れかすやのり残りが発生し難く、好適に使用することができる。 Furthermore, according to the invention described in claims 3 to 5, since the pressure-sensitive adhesive surface comprising at least a part of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer in contact with the substrate to be supported is a flat surface, When attaching and detaching, it is easy to move the supported body in a direction along the surface of the adhesive layer, or to apply a force in a direction along the surface of the adhesive layer to attach and detach the supported body. And even in such a use, since the effect of retaining the components constituting the adhesive layer in the adhesive layer is high, scraping or residue is hardly generated and it can be suitably used.
以下、この発明の実施の形態について説明する。 Embodiments of the present invention will be described below.
図1及び図2は、この実施の形態の粘着性支持体を示す。 FIG.1 and FIG.2 shows the adhesive support body of this embodiment.
図において、10は平板状に形成された粘着性支持体であり、使用時の負荷に対する強度を備えた板状の基材12と、この基材12一方の面に積層された粘着層14とからなっている。
In the figure,
このような粘着性支持体10は、多数の被支持体としての電子部品16を支持するために使用され、例えば、電子部品16の一方の端部16aを粘着層14の表面に粘着力により支持させ、その状態で、他方の端部16bにコーティング処理などを施すことができる。ここでは、粘着層14の個々の電子部品16と接する面からなる粘着面を含む全面が平面に形成されているため、各電子部品16は粘着層14の粘着力だけで支持されている。
Such an
ここでは、粘着層14の粘着面の平面度が50μm以下であるのが好ましく、また、表面粗度(Ra)が1μm以下であることが好ましい。粘着面の電子部品16との接触面積を確保し易いからである。
Here, the flatness of the adhesive surface of the
なお、電子部品16としては、例えば、コンデンサ、抵抗器、インダクタ、FPC、ウエーハ等の完成品又は未完成品などが挙げられる。
Examples of the
この使用に際して電子部品16を粘着性支持体10に支持させるには、例えば、電子部品16をそれぞれ粘着層14の表面の所定位置に配置可能な図示しない位置決め用部材を粘着層14に接触或いは非接触の状態で用い、電子部品16を粘着層14の表面の所定位置に配置するとともに、粘着層14に押し付けて粘着させ、その後、押し付け力を開放することにより支持させることができる。
In order to support the
一方、粘着層14に支持された多数の電子部品16を脱離させるには、例えば、脱離用ブレード18の先端を粘着層14の表面に圧接させた状態で、この脱離用ブレード18を粘着層14の表面に沿う方向Aに相対移動させることにより、先端で多数の電子部品16を剥ぎ取り、脱離させることができる。
On the other hand, in order to detach a large number of
このようにして使用される粘着支持体10では、粘着層14に電子部品16を支持させる際、及び粘着層14から電子部品16を脱離させる際、粘着層14の表面が電子部品16により擦られる。そのため、この発明では、十分な粘着性を確保しつつ、このような使用に耐えられる強度を確保するため、粘着層14として特定の粘着性組成物の硬化物からなるものを用いる。
In the
即ち、この発明では、粘着層14が、シリコーン生ゴムからなる(a)成分と、架橋成分からなる(b)成分と、粘着成分からなる(c)成分と、白金化合物からなる(d)成分と、シリカからなる(e)成分とを含有する粘着性組成物の硬化物からなっている。
That is, in this invention, the pressure-sensitive
まず、この発明において、シリコーン生ゴムからなる(a)成分は、例えば、付加反応により架橋可能なアルケニル基を有するポリオルガノシロキサンを用いることができ、特に、下記(1)式で示されるものを好適に用いることができる。 First, in the present invention, as the component (a) made of silicone raw rubber, for example, a polyorganosiloxane having an alkenyl group that can be cross-linked by an addition reaction can be used, and those represented by the following formula (1) are particularly preferable. Can be used.
(化1)
R1 (3−a)XaSiO−(R1XSiO)m−(R1 2SiO)n−SiR1 (3−b)Xb ・・・(1)
(Chemical formula 1)
R 1 (3-a) X a SiO— (R 1 XSiO) m — (R 1 2 SiO) n —SiR 1 (3-b) X b (1)
(式(1)中、R1は脂肪族不飽和結合を有さない1価の炭化水素基であり、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Xはアルケニル含有有機基であり、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。また、aは0〜3の整数、bは0〜3の整数、mは0以上の整数、nは100以上の整数であり、a、b、及びmは同時に0とはならない。) (In the formula (1), R1 is a monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated bond, which may be the same or different, X is an alkenyl-containing organic group, A is an integer of 0 to 3, b is an integer of 0 to 3, m is an integer of 0 or more, n is an integer of 100 or more, a, b, And m are not 0 at the same time.)
ここで、R1としては、炭素数1〜10のものが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基などを例示でき、特にメチル基、フェニル基が好ましい。 Here, R 1 is preferably one having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, a cycloalkyl group such as a cyclohexyl group, an aryl such as a phenyl group or a tolyl group. Examples thereof include groups such as a methyl group and a phenyl group.
また、Xのアルケニル基含有有機基としては、炭素数2〜10のものが好ましく、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基、オクテニル基、アクリロイルプロピル基、アクリロイルメチル基、メタクリロイルプロピル基、シクロヘキセニルエチル基、ビニルオキシプロピル基などを例示できる。 Moreover, as an alkenyl group containing organic group of X, a C2-C10 thing is preferable, a vinyl group, an allyl group, a hexenyl group, an octenyl group, an acryloylpropyl group, an acryloylmethyl group, a methacryloylpropyl group, a cyclohexenylethyl group. And vinyloxypropyl group.
この(a)成分は、オイル状、粘土状の性状を有するものでよく、粘度が25℃において50mPa・s以上のものが好ましく、特に100mPa・s以上が好適である。 The component (a) may have oily or clay-like properties, and preferably has a viscosity of 50 mPa · s or more at 25 ° C., particularly preferably 100 mPa · s or more.
また、この(a)成分は、一種単独で用いてもよいが、二種以上混合して用いてもよい。 Moreover, although this (a) component may be used individually by 1 type, you may use it in mixture of 2 or more types.
次に、この発明における架橋成分(b)は、(a)成分と架橋反応可能な成分であり、例えば、1分子中にSi原子に結合したH原子を少なくとも2個以上、好ましくは3個以上有するSiH結合含有ポリオルガノシロキサン(以下、オルガノハイドロジェンポリシロキサンと称することもある。)を用いることができる。 Next, the crosslinking component (b) in the present invention is a component capable of undergoing a crosslinking reaction with the component (a). For example, at least 2 H atoms bonded to Si atoms in one molecule, preferably 3 or more. SiH bond-containing polyorganosiloxane (hereinafter sometimes referred to as organohydrogenpolysiloxane) can be used.
このポリオルガノシロキサンとしては、直鎖状、分枝状、環状のもを適宜選択して使用することができ、例えば、下記(2)式又は(3)式のものを例示することができる。 As this polyorganosiloxane, linear, branched, or cyclic compounds can be appropriately selected and used, and examples thereof include those represented by the following formula (2) or (3).
(化2)
HcR1 3−cSiO−(HR1SiO)x−(R1 2SiO)y−SiR1 3−dHd ・・・(2)
(Chemical formula 2)
H c R 1 3-c SiO- (HR 1 SiO) x - (R 1 2 SiO) y -SiR 1 3-d H d ··· (2)
(上記、式(2)及び(3)において、R1は前記と同様の炭化水素基であり、同一であっても、異なっていてもよい。また、c,dは0〜3の整数、x、y、sは0以上の整数、rは1以上の整数であり、c、d、xは同時に0とはならず、更に、x+y≧0以上である。また、r+s≧3以上、好ましくは8≧r+s≧3である。) (In the above formulas (2) and (3), R 1 is the same hydrocarbon group as described above and may be the same or different. C and d are integers of 0 to 3, x, y, and s are integers of 0 or more, r is an integer of 1 or more, c, d, and x are not simultaneously 0, and x + y ≧ 0, and r + s ≧ 3, preferably Is 8 ≧ r + s ≧ 3.)
このオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、オイル状の性状を有するものであり、粘度が25℃において1〜5000mPa・sのものが好ましい。 This organohydrogenpolysiloxane has oily properties, and preferably has a viscosity of 1 to 5000 mPa · s at 25 ° C.
この(b)成分も一種単独で用いてもよいが、二以上混合して用いてもよい。 This component (b) may also be used alone or in combination of two or more.
このような(b)成分の配合割合は、適宜選択可能であるが、前記(a)成分がアルケニル基を含有すると共に、(b)成分がSiH結合を含有する場合、(a)成分中のアルケニル基に対する(b)成分中のSiH結合のモル比が0.5〜20とするのが好ましく、特に1〜15の範囲となるように配合することが好適である。このモル比が0.5未満では、後述する硬化後の架橋密度が低くなり、粘着層14の形状を保持しにくくなることがある。一方、モル比が20を超えると、得られる粘着層14の粘着力が低下することがある。
The blending ratio of the component (b) can be selected as appropriate, but when the component (a) contains an alkenyl group and the component (b) contains a SiH bond, the component (a) in the component (a) It is preferable that the molar ratio of the SiH bond in the component (b) to the alkenyl group is 0.5 to 20, and it is particularly preferable that the SiH bond is in the range of 1 to 15. If this molar ratio is less than 0.5, the crosslinking density after curing described later will be low, and it may be difficult to maintain the shape of the
次に、この発明における粘着成分である(c)成分は、粘着力を向上するために配合される成分であり、例えば、ポリオルガノシロキサンを用いることができ、特に、R2 3SiO0.5単位及びSiO2単位及び/又はR2 3SiO2/3単位(但し、R2は脂肪族不飽和結合を有しない1価の炭化水素基である。)を含有するものを好適に用いることができる。 Next, the component (c), which is an adhesive component in the present invention, is a component that is blended in order to improve the adhesive strength, and for example, polyorganosiloxane can be used, and in particular, R 2 3 SiO 0.5 It is preferable to use a unit and a unit containing SiO 2 unit and / or R 2 3 SiO 2/3 unit (where R 2 is a monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated bond). it can.
ここで、R2としては、炭素数1〜10のものが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、フェニル基、トリル基などのアリール基などを例示でき、特にメチル基、フェニル基が好ましい。 Here, R 2 is preferably one having 1 to 10 carbon atoms, alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group or butyl group, cycloalkyl group such as cyclohexyl group, aryl such as phenyl group or tolyl group. Examples thereof include groups such as a methyl group and a phenyl group.
この(c)成分は、一般的に粘着性をより高度に確保するために、上記(a)成分及び(b)成分とともに架橋反応を生じない、または、生じ難い構造を有するものが好ましい。 In general, the component (c) preferably has a structure that does not cause or hardly causes a crosslinking reaction together with the components (a) and (b) in order to ensure a higher degree of adhesiveness.
このような(c)成分としてポリオルガノシロキサンを用いる場合は、(R2 3SiO0.5単位及び/又はR2 3SiO2/3単位)/SiO2単位のモル比が0.6〜1.7となるものが好ましい。このモル比が0.6未満では、粘着性が高くなり過ぎたり、(a)成分と相溶し難くなって、分離して粘着性を発現しなくなることがある。一方、モル比が1.7を超えると粘着力が低下することがある。 When polyorganosiloxane is used as the component (c), the molar ratio of (R 2 3 SiO 0.5 unit and / or R 2 3 SiO 2/3 unit) / SiO 2 unit is 0.6 to 1. .7 is preferable. If this molar ratio is less than 0.6, the tackiness may become too high, or it may become difficult to be compatible with the component (a), and may not be separated to express the tackiness. On the other hand, if the molar ratio exceeds 1.7, the adhesive strength may decrease.
なお、このポリオルガノシロキサンは、Si原子に結合するOH基を含有していてもよく、その場合、OH基含有量が0〜4.0モル%とするのが好ましい。 In addition, this polyorganosiloxane may contain OH group couple | bonded with Si atom, and it is preferable that OH group content shall be 0-4.0 mol% in that case.
Si原子に結合するOH基を含有するものを用いる場合、前記(a)成分として、下記式(4)に示されるポリオルガノシロキサンを含有するときには、(a)成分と(b)成分とが一部縮合反応物を形成していてもよい。 In the case of using a substance containing an OH group bonded to an Si atom, when the polyorganosiloxane represented by the following formula (4) is contained as the component (a), the component (a) and the component (b) are one. A partial condensation reaction product may be formed.
(化4)
(OH)R1YSiO−(R1XSiO)p−(R1 2SiO)q−SiR1 2(OH) ・・・(4)
(Chemical formula 4)
(OH) R 1 YSiO- (R 1 XSiO) p - (R 1 2 SiO) q -SiR 1 2 (OH) ··· (4)
(式(4)中、R1は脂肪族不飽和結合を有さない1価の炭化水素基であり、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、YはR1またはアルケニル基含有有機である。また、pは1以上の整数、qは100以上の整数である。) (In Formula (4), R 1 is a monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated bond, and may be the same or different, and Y is R 1 or an alkenyl group-containing organic group. In addition, p is an integer of 1 or more, and q is an integer of 100 or more.)
このような(a)成分と(c)成分との縮合反応物を形成するには、トルエン等の溶剤に溶解した(a)成分及び(c)成分の混合物を、アルカリ性触媒の存在下で、室温乃至還流下で反応させればよい。 In order to form such a condensation reaction product of the component (a) and the component (c), a mixture of the component (a) and the component (c) dissolved in a solvent such as toluene is added in the presence of an alkaline catalyst. The reaction may be performed at room temperature or under reflux.
なお、このような(c)成分は一種単独で用いても、二種以上混合して用いてもよい。 In addition, such (c) component may be used individually by 1 type, or may be used in mixture of 2 or more types.
そして、このような(c)成分は、(a)成分/(c)成分の重量比として20/80〜80/20の範囲で用いるのが好ましく、特に、30/70〜70/30とするのが好適である。この範囲を超えて(c)成分が少ないと粘着性が不足し易くなり、一方、多いと粘着層14が硬くなるとともに弾性力が強く、粘着層14が変形し難くなり、電子部品16等の被支持物を粘着させにくくなり易い。
And it is preferable to use such (c) component in the range of 20 / 80-80 / 20 as a weight ratio of (a) component / (c) component, and it is set as 30 / 70-70 / 30 especially. Is preferred. If the amount of the component (c) is less than this range, the tackiness tends to be insufficient. On the other hand, if the amount is large, the
次に、この発明の(d)成分は、主として前記(a)成分と(b)成分との架橋反応を促進する触媒となる白金化合物であり、通常、ハイドロサイレーションの触媒として使用されるものである。 Next, the component (d) of the present invention is a platinum compound that mainly serves as a catalyst for promoting the crosslinking reaction between the component (a) and the component (b), and is usually used as a hydrosilation catalyst. It is.
この(d)成分としては、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、塩化白金酸とアルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン化合物との反応物、塩化白金酸とビニル基含有シロキサンとの反応物などが挙げられる。 As the component (d), chloroplatinic acid, an alcohol solution of chloroplatinic acid, a reaction product of chloroplatinic acid and alcohol, a reaction product of chloroplatinic acid and an olefin compound, chloroplatinic acid and a vinyl group-containing siloxane And reactants.
この(d)成分の配合割合は前記(a)成分と(b)成分との合計量に対し、白金分として1〜5,000ppmとするのが好ましく、特に5〜2,000ppmとすることが好適である。配合割合が1ppm未満では硬化性が低下して架橋密度が低くなり、保持力が低下することがあり、一方、5,000ppmを超えると処理浴の使用可能時間が短くなる場合があるからである。 The blending ratio of the component (d) is preferably 1 to 5,000 ppm as a platinum content, particularly 5 to 2,000 ppm, with respect to the total amount of the components (a) and (b). Is preferred. This is because if the blending ratio is less than 1 ppm, the curability is lowered, the crosslinking density is lowered, and the holding power may be lowered. On the other hand, if it exceeds 5,000 ppm, the usable time of the treatment bath may be shortened. .
次に、この発明の(e)成分は、上記各成分とともに添加されるシリカであり、粘着層14の機械的強度を補強するとともに、粘着層14を構成する成分、特に、粘着性を付与する(c)成分を粘着層14に保持して、脱離し難くする成分である。
Next, the component (e) of the present invention is silica added together with each of the above components and reinforces the mechanical strength of the pressure-
シリカは、従来よりシリコーン樹脂やゴム等の機械的強度を向上するために添加されている。しかし、電子部品16等の被支持体を粘着層14の粘着力により支持する粘着性支持体10に用いる場合、粘着力が低下し易いため、一般にはシリカを添加することは行われ難い。また、仮に、シリカを添加することにより、粘着層14の引張り強度等の機械的強度を向上させたとしても、粘着層14が被支持体や他の部材により擦られると、粘着層14を構成する成分、特に、粘着性を付与する成分が脱離し易く、微細な削りかすやのり残りが生じ易い。このような削りかすやのり残りは、単に、粘着層14のシリカの配合量を増加しても防止できるものではなく、この発明では、BET法により測定される比表面積が50m2/g以上のシリカを使用することにより、このような点の解決を図っているのであり、粘着力を確保すると同時に、燃剤製を付与する成分の脱離防止の観点からの物性を改善している。
Silica has conventionally been added to improve the mechanical strength of silicone resins and rubbers. However, when a support such as the
特に、このシリカとしては、比表面積が100m2/g以上400m2/g以下のものが好適である。比表面積が100m2/g以上であれば削りかすを抑制する効果がより顕著に得られるからである。なお、比表面積が400m2/gを超えるものは、製造に手間を要し、高価であるため実用的でない。 In particular, the silica preferably has a specific surface area of 100 m 2 / g or more and 400 m 2 / g or less. This is because, if the specific surface area is 100 m 2 / g or more, the effect of suppressing scraping can be obtained more remarkably. A product having a specific surface area exceeding 400 m 2 / g is not practical because it requires labor for production and is expensive.
このような(e)成分のシリカとしては、ヒュームドシリカ、焼成シリカ等の乾式法により合成されたシリカであっても、沈降シリカ、シリカゲル等の湿式法により合成されたシリカであっても、前記比表面積が得られるものであればよい。ここでは、比表面積を得易いなどの理由で、ヒュームドシリカ、沈降シリカが好適である。 Such silica of component (e) may be silica synthesized by a dry method such as fumed silica or calcined silica, or may be silica synthesized by a wet method such as precipitated silica or silica gel, What is necessary is just to be able to obtain the specific surface area. Here, fumed silica and precipitated silica are preferable because it is easy to obtain a specific surface area.
なお、このシリカは一種単独で用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。 In addition, this silica may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types.
また、必要に応じて、シリカの表面を、例えば、オルガノポリシロキサン、オルガノポリシラザン、クロロシラン、アルコキシシラン等の表面処理剤で処理したものを用いてもよい。 Moreover, you may use what processed the surface of the silica with surface treating agents, such as organopolysiloxane, organopolysilazane, chlorosilane, alkoxysilane, as needed.
このようなシリカの配合割合は、上記(a)成分と(c)成分の合計量100質量部に対して、1〜30質量部とするのが好ましい。より好ましくは5〜20質量部である。配合割合が小さいと、粘着層14の強度が低下して、十分な効果が得られ難くなり、また、使用時にのり残りが発生しやすくなり、一方、配合割合が大きいと、粘着力が低下することがあるからである。
The mixing ratio of such silica is preferably 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (a) and the component (c). More preferably, it is 5-20 mass parts. If the blending ratio is small, the strength of the pressure-
更に、この発明では、上記(a)成分から(e)成分の他に、適宜、任意成分を添加することが可能である。 Furthermore, in this invention, it is possible to add arbitrary components as appropriate in addition to the components (a) to (e).
例えば、上記成分を混合時の架橋反応を抑制するための反応制御剤を添加することができる。この反応制御剤としては、例えば、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3−メチル−1−ペンチン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、1−エチニルシクロヘキサノール、3−メチル−3−トリメチルシロキシ−1−ブチン、3−メチル−3−トリメチルシロキシ−1−ペンチン、3,5−ジメチル−3−トリメチルシロキシ−1−ヘキシン、1−エチニル−1−トリメチルシロキシシクロヘキサン、ビス(2,2−ジメチル−3−ブチノキシ)ジメチルシラン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサンなどが挙げられる。 For example, a reaction control agent for suppressing a crosslinking reaction when mixing the above components can be added. Examples of the reaction control agent include 3-methyl-1-butyn-3-ol, 3-methyl-1-pentyn-3-ol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, and 1-ethynyl. Cyclohexanol, 3-methyl-3-trimethylsiloxy-1-butyne, 3-methyl-3-trimethylsiloxy-1-pentyne, 3,5-dimethyl-3-trimethylsiloxy-1-hexyne, 1-ethynyl-1- Trimethylsiloxycyclohexane, bis (2,2-dimethyl-3-butynoxy) dimethylsilane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane, 1,1,3 Examples include 3-tetramethyl-1,3-divinyldisiloxane.
この反応制御剤を添加する場合、その配合割合は(a)成分と(c)成分との合計量100質量部に対して0〜5.0質量部の範囲とすることができ、特に0.05〜2.0質量部とするのが好ましい。この反応制御剤の配合割合が5.0質量部を超えると粘着性組成物の硬化時に硬化し難くなることがあるためである。 When this reaction control agent is added, the blending ratio can be in the range of 0 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (a) and the component (c). It is preferable to set it as 05-2.0 mass parts. It is because it will become difficult to harden | cure at the time of hardening of an adhesive composition when the mixture ratio of this reaction control agent exceeds 5.0 mass parts.
また、反応制御剤の他にも、この発明では、適宜、任意成分を添加することが可能であり、例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリジメチルジフェニルシロキサン等の非反応性のポリオルガノシロキサン、塗工の際の粘度を下げるための溶剤として、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、ヘキサン、オクタン、イソパラフィンなどの脂肪族系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸イソブチル等のエステル系溶剤、ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶剤、又はこれらの混合溶剤、染料、顔料などを使用することができる。 In addition to the reaction control agent, in the present invention, it is possible to add optional components as appropriate. For example, non-reactive polyorganosiloxanes such as polydimethylsiloxane and polydimethyldiphenylsiloxane, As solvents for reducing the viscosity, aromatic solvents such as toluene and xylene, aliphatic solvents such as hexane, octane and isoparaffin, ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, isobutyl acetate and the like An ester solvent, an ether solvent such as diisopropyl ether or 1,4-dioxane, or a mixed solvent thereof, a dye, or a pigment can be used.
この発明の粘着性組成物は、以上のような各成分を混合することにより得られる混合物であり、各成分がそれぞれ所定量配合され、好ましくは均一に分散させた状態のものである。 The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is a mixture obtained by mixing the respective components as described above, and each component is blended in a predetermined amount and preferably uniformly dispersed.
そして、以上のような粘着性組成物を用いて、前記のような粘着性支持体10を製造するには、上記シリコーン系粘着剤組成物を基材12に塗工し、所定の条件にて硬化させて粘着層14を得ることにより、製造することができる。
And in order to manufacture the above
ここで、基材12は、粘着層14を保持可能な材料から形成されており、例えば、ステンレス、アルミ等の金属製プレート、アルミニウム箔、銅箔等の金属箔、ポリエステル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル等の樹脂フィルムや樹脂板、和紙、合成紙、ポリエチレンラミネート紙等の紙、布、ガラス繊維、ガラス板等のセラミックス、ガラスエポキシ樹脂板等の複合材料、さらに、これらを複数積層してなる複合基材などからなるものが挙げられる。ここでは、特に、金属、樹脂、又はセラミックスからなる硬質部材からなるものが好適である。
Here, the
これらの基材12は、基材12と粘着層14との密着性を向上させるため、プライマー処理、コロナ処理、エッチング処理、プラズマ処理等を施して用いることも可能である。
These
そして、これらの基材12に前記のようなシリコーン系粘着剤組成物を塗工して硬化させるには、基材12の一方の面に粘着性組成物を積層して金型等にてプレス成形したり、金型内に基材12をインサートして粘着性組成物を金型内に注入して成形等する方法などにより行うことが可能である。
And in order to apply and cure the silicone-based pressure-sensitive adhesive composition as described above on these
このような塗工方法では、硬化後の粘着層14の厚みを0.2mm〜10mm程度とすることが可能である。その際、硬化条件としては、80〜130℃で3分〜40分とすることができるが、適宜調整可能である。
In such a coating method, the thickness of the
また、さらに厚みを薄くする塗工方法を用いることができ、コンマコーター、リップコーター、ロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、キスコーター、グラビアコーター等により塗工したり、スクリーン塗工、浸漬塗工、キャスト塗工によって塗工するなど、公知の塗工方式を用いて塗工することができる。 Further, it is possible to use a coating method for further reducing the thickness, such as a comma coater, a lip coater, a roll coater, a die coater, a knife coater, a blade coater, a rod coater, a kiss coater, a gravure coater, etc. Coating can be performed using a known coating method such as coating by dip coating, dip coating, or cast coating.
このような塗工方法では、硬化後の粘着層14の厚みを1〜200μmとすることができる。その際、硬化条件としては、80〜130℃で30秒〜3分とすることができるが、適宜調整可能である。
In such a coating method, the thickness of the
さらに、上記のように予め形成された基材12に粘着性組成物を塗工することなく、粘着性組成物を硬化させた状態の粘着テープを製造してもよく、剥離コーティングを行った剥離フィルムや剥離紙等に塗工して硬化させた後、基材12に貼り合わせて粘着テープとする転写法により製造してもよい。
Furthermore, an adhesive tape in which the adhesive composition is cured may be manufactured without applying the adhesive composition to the
以上のようにして硬化させて得られた粘着層14においては、低分子シロキサン成分や、(a)成分の未架橋成分が無いことが望ましいが、実用上、粘着層14から発生するシロキサンが10量体として1000ppm以下、更に好ましくは300ppm以下のものが望ましい。
In the pressure-
以上のようにして製造された粘着性支持体10によれば、粘着層14が50m2/g以上の比表面積を有するシリカを含んだ所定の粘着性組成物の硬化物からなるので、粘着層14を構成する成分を粘着層に保持する効果を十分に向上することができ、その結果、使用時に粘着層14の表面に電子部品16等の被支持体を着脱させる際、粘着層14の表面に電子部品16や被支持体を着脱するためのブレード18を押し付けたり、粘着層14の表面に沿う方向の力を負荷することにより、粘着層14の表面が擦られても、その摩擦により粘着層14を構成する成分からなる削れかす、特に、粘着性を付与する(c)成分からなる削れかすやのり残りが発生し難い。
According to the pressure-
しかも、粘着層14の表面には電子部品16を挿入するための穴などがない平面に形成されており、この粘着層14の表面に電子部品16が支持されるので、使用時に粘着層14から電子部品16を着脱させる際、電子部品16やブレード18を粘着層14の表面に沿う方向Aに移動させたり、粘着層14の表面に沿う方向の力を負荷して電子部品16を着脱させることが容易である。そして、このような使用においても、前記のように粘着層14を構成する成分を粘着層14に保持する効果が高いため、粘着層14を構成する成分からなる削れかすやのり残りが発生し難く、電子部品16の製品不良を発生し難く好適である。
Moreover, since the surface of the
なお、上記実施の形態では、電子部品16を支持する例について説明したが、被支持体は何ら限定されることなく、例えば、シリコンウエハー等の他の電子部品などでもよく、粘着層14の粘着力や粘着性支持体10の強度などに応じた被支持体を支持することができる。
In the above-described embodiment, the example in which the
また、上記では、板状の基材12に粘着層14を形成したが、基材12の形状は特に限定されず、例えば、ロール形状や曲面形状、更には各種の異形形状など、用途等に応じて粘着層14を保持できる形状であれば適宜採用することが可能である。また、基材12の材料についても、粘着層14を安定して保持可能なものであれば、適宜選択することができる。更に、基材12を用いることなく、或いは、別部材として用いて、粘着層12のみからなる粘着性支持体とすることも可能である。
Moreover, although the
さらに、上記では、粘着層14の表面全面が平面形状の粘着面を構成する例について説明したが、平面形状に特に限定されるものではなく、電子部品16等の被支持体を粘着させる部分を凸状或いは凹状に成形したものであってもよい。また、電子部品16等の被支持体を粘着できる限り、粘着層14の表面の一部が非粘着面となる粘着性支持体10であってもよい。
Furthermore, in the above description, an example in which the entire surface of the
以下、この発明の実施例について説明する。
実施例1
Examples of the present invention will be described below.
Example 1
(a)成分として、5モル%のメチルビニルシロキサン単位と、95モル%のジメチルビニルシロキサン単位むアルケニル基含有ポリオルガノシロキサンを100質量部、(b)成分として、H(CH3)2SiO−((CH3)2SiO)18−Si(CH3)2HからなるSiH結合含有ポリオルガノシロキサンを5.7質量部、(c)成分として、(CH3)SiO0.5単位/SiO2単位からなり、(CH3)SiO0.5単位/SiO2単位のモル比が0.85のボリオルガノシロキサンを50質量部、白金含有量が2%の塩化白金酸の2−エチルヘキサノール溶液を0.28質量部、BET法により測定される比表面積が130m2/gのヒュームドシリカを10質量部 、反応制御剤として、1−エチニルシクロヘキサノールを0.05質量部を均一に混合して、粘着性組成物を調製した。 100 parts by weight of an alkenyl group-containing polyorganosiloxane containing 5 mol% of methyl vinyl siloxane units and 95 mol% of dimethyl vinyl siloxane units as component (a), and H (CH 3 ) 2 SiO— as component (b) 5.7 parts by mass of SiH bond-containing polyorganosiloxane composed of ((CH 3 ) 2 SiO) 18 -Si (CH 3 ) 2 H, and as component (c), (CH 3 ) SiO 0.5 unit / SiO 2 A 2-ethylhexanol solution of chloroplatinic acid having a unit of 50 parts by mass of polyorganosiloxane having a molar ratio of (CH 3 ) SiO 0.5 unit / SiO 2 unit of 0.85 and a platinum content of 2%. 0.28 parts by mass, 10 parts by mass of fumed silica having a specific surface area measured by the BET method of 130 m 2 / g, as a reaction control agent, 0.05 part by mass of clohexanol was uniformly mixed to prepare an adhesive composition.
その後、ステンレス鋼製の板状の基材12に1.5mm厚で均一に塗布し、120℃で15分硬化させ、図1に示すような粘着性支持体10を作製した。
実施例2
Thereafter, it was uniformly applied to a plate-
Example 2
比表面積が250m2/gのシリカを用いる他は、実施例1と同一にして、粘着性組成物を調整し、粘着性支持体10を作製した。
比較例1
An adhesive composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that silica having a specific surface area of 250 m 2 / g was used, and an
Comparative Example 1
シリカとして、平均粒子径4〜6μmで比表面積が1.7m2/gのクリスタライト(龍森社製、商品名)を10質量部用いる他は実施例1と同一にして、粘着性組成物を調整し、粘着性支持体10を作製した。
比較例2
The pressure-sensitive adhesive composition was the same as in Example 1 except that 10 parts by mass of crystallite (trade name, manufactured by Tatsumori Co., Ltd.) having an average particle size of 4 to 6 μm and a specific surface area of 1.7 m 2 / g was used as silica. The
Comparative Example 2
クリスタライトの配合量を20質量部とする他は比較例1と同一にして、粘着性組成物を調整し、粘着性支持体10を作製した。
A pressure-sensitive adhesive composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the amount of crystallite was 20 parts by mass, and a pressure-
以上のようにして得られた実施例1、2及び比較例1、2の粘着性支持体10を用い、同一の条件下で、JIS K 6264に準拠したテーバー摩耗試験を実施し、摩耗量を測定した。試験では、研磨といしとして、H22を用い、試験片に加える荷重を9.8Nとした。 Using the adhesive supports 10 of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 obtained as described above, a Taber abrasion test based on JIS K 6264 was performed under the same conditions, and the amount of abrasion was determined. It was measured. In the test, H22 was used as a polishing wheel, and the load applied to the test piece was 9.8 N.
得られた結果を表1に示す。 The obtained results are shown in Table 1.
表1から明らかなように、実施例1、2では、比較例1、2に比べて、削れかすが生じ難いことが確認できた。 As is apparent from Table 1, it was confirmed that in Examples 1 and 2, it was less likely to cause scraping than Comparative Examples 1 and 2.
10 粘着性支持体
12 基材
14 粘着層
16 電子部品(被支持体)
18 脱離用ブレード
DESCRIPTION OF
18 Detachment blade
Claims (5)
前記粘着層が、(a)シリコーン生ゴムと、(b)架橋成分と、(c)粘着成分と、(d)白金化合物と、(e)シリカとを含む粘着剤組成物の硬化物であり、
前記シリカが50m2/g以上の比表面積を有することを特徴とする粘着性支持体。 In the adhesive support provided with the adhesive layer on the substrate so as to support the support by the adhesive force of the surface of the adhesive layer,
The adhesive layer is a cured product of an adhesive composition containing (a) silicone raw rubber, (b) a crosslinking component, (c) an adhesive component, (d) a platinum compound, and (e) silica,
The adhesive support according to claim 1, wherein the silica has a specific surface area of 50 m 2 / g or more.
5. The adhesive support according to claim 1, wherein the silica has a specific surface area of 100 m 2 / g or more and 400 m 2 / g or less.
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Cited By (4)
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JP2007277345A (en) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Adhesive composition and clamp |
JP2009286855A (en) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Dow Corning Toray Co Ltd | Thermally-conductive silicone composition and electronic device |
US9520314B2 (en) | 2008-12-19 | 2016-12-13 | Applied Materials, Inc. | High temperature electrostatic chuck bonding adhesive |
US10570257B2 (en) | 2015-11-16 | 2020-02-25 | Applied Materials, Inc. | Copolymerized high temperature bonding component |
-
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007277345A (en) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Adhesive composition and clamp |
JP2009286855A (en) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Dow Corning Toray Co Ltd | Thermally-conductive silicone composition and electronic device |
US9520314B2 (en) | 2008-12-19 | 2016-12-13 | Applied Materials, Inc. | High temperature electrostatic chuck bonding adhesive |
US11264261B2 (en) | 2008-12-19 | 2022-03-01 | Applied Materials, Inc. | High temperature electrostatic chuck bonding adhesive |
US10570257B2 (en) | 2015-11-16 | 2020-02-25 | Applied Materials, Inc. | Copolymerized high temperature bonding component |
US10899892B2 (en) | 2015-11-16 | 2021-01-26 | Applied Materials, Inc. | Copolymerized high temperature bonding component |
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