JP2006349599A - Device and method for inspecting transparent substrate - Google Patents

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強 田之上
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent erroneous detection of a flaw in a transparent substrate as a defect of a pattern. <P>SOLUTION: The transparent substrate inspection device 100 for defect-inspecting the transparent substrate 2 having the pattern 4 formed on a plate surface comprises: a lighting system 1 emitting illuminating light to the transparent substrate 2; and an imaging device 3 arranged on the opposite side to the lighting system 1 across the transparent substrate 2. The device further comprises a defect detector 8 detecting defects of the transparent substrate 2 in a state in which at least one side of the transparent substrate 2 is dipped in a liquid 5 having a refractive index close to that of the transparent substrate 2. The pattern 4 on the plate surface has non-transmitting property relative to the illuminating light, and defects of the transparent substrate 2 are detected based on an image taken by the imaging device 3. According to this, if the transparent substrate 2 has a flaw 7, refraction on the interface between the flaw 7 and the transparent substrate 2 is eliminated to prevent erroneous detection of the flaw 7 as a defect of the pattern 4. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、透明基板検査装置、透明基板検査方法、及び、この検査方法により検査された透明基板を有する平面型表示パネルに関する。   The present invention relates to a transparent substrate inspection apparatus, a transparent substrate inspection method, and a flat display panel having a transparent substrate inspected by the inspection method.

従来、例えば、プラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel:PDP)や液晶表示パネル(Liquid Crystal Display:LCD)などの平面型表示パネルが知られている。   2. Description of the Related Art Conventionally, for example, flat display panels such as a plasma display panel (PDP) and a liquid crystal display (LCD) are known.

平面型表示パネルは、一般に、ガラス基板或いはその他の透明な材質からなる一対の透明基板を備えている。すなわち、平面型表示パネルは、例えば、前面側透明基板及び背面側透明基板を相互に対向した配置で備え、これら両基板の間に表示セルを備えている。   A flat display panel generally includes a pair of transparent substrates made of a glass substrate or other transparent material. That is, the flat display panel includes, for example, a front transparent substrate and a rear transparent substrate arranged so as to face each other, and a display cell is provided between the two substrates.

ところで、平面型表示パネルの透明基板の板面上には、電極或いはその他の構成要素がパターン化して形成されている。   By the way, electrodes or other components are formed in a pattern on the plate surface of the transparent substrate of the flat display panel.

従来、このような透明基板の欠陥を検査する技術がある。   Conventionally, there is a technique for inspecting such a transparent substrate for defects.

図1は、透明基板の板面上のパターンを検査する従来の透明基板検査装置1000を示す模式的な正面図である。   FIG. 1 is a schematic front view showing a conventional transparent substrate inspection apparatus 1000 that inspects a pattern on a plate surface of a transparent substrate.

図1に示すように、従来の透明基板検査装置1000は、水平に配置された透明基板1002の下方に配置された照明装置1001と、この照明装置1001とは透明基板1002を挟んで反対側、すなわち透明基板1002の上方に配置された撮像装置1003と、を備えている。また、透明基板1002の表面上には微細なパターン形状のパターン1004が形成されている。   As shown in FIG. 1, a conventional transparent substrate inspection apparatus 1000 includes an illumination device 1001 disposed below a horizontally disposed transparent substrate 1002, and the illumination device 1001 opposite to the transparent substrate 1002. That is, the image pickup apparatus 1003 disposed above the transparent substrate 1002 is provided. A fine pattern 1004 is formed on the surface of the transparent substrate 1002.

このような従来の透明基板検査装置1000によれば、照明装置1001によりガラス基板1002を照明することにより、透明基板1002を透過する透過光を撮像装置1003側に照射しながら、該撮像装置1003によりガラス基板1002の画像を取得し、この画像を解析することによって、ガラス基板1002の欠陥を検出することができる。   According to such a conventional transparent substrate inspection apparatus 1000, the imaging apparatus 1003 illuminates the glass substrate 1002 with the illumination apparatus 1001, and irradiates the imaging apparatus 1003 side with transmitted light that passes through the transparent substrate 1002. A defect of the glass substrate 1002 can be detected by acquiring an image of the glass substrate 1002 and analyzing the image.

検出される欠陥は、透明基板1002上に形成されたパターン1004の欠陥や、ガラス基板1002上の異物・汚れなどである。また、検出されるパターン1004の欠陥としては、例えば、パターン1004の欠け、断線、はみ出し、短絡などがある。   The detected defect is a defect of the pattern 1004 formed on the transparent substrate 1002 or a foreign matter / dirt on the glass substrate 1002. Further, examples of the detected defect of the pattern 1004 include chipping, disconnection, protrusion, and short circuit of the pattern 1004.

また、本発明に関する先行技術文献としては、例えば、特許文献1,2がある。   As prior art documents related to the present invention, for example, there are Patent Documents 1 and 2.

このうち特許文献1の技術は、基板上に接着剤層を介してパターンが形成されている場合に、その基板を介して相互に対向するように照明手段と撮像手段を配置し、パターンの検査を行う技術において、基板上の接着剤層の表面の凹凸をパターンの欠陥として誤検出(特許文献1では過検出)してしまうことを防止する目的で、接着剤層の表面に液体を塗布するものである。   Among them, the technique disclosed in Patent Document 1 is such that when a pattern is formed on a substrate via an adhesive layer, an illumination unit and an imaging unit are arranged so as to face each other through the substrate, and a pattern inspection is performed. In the technology for performing the above, a liquid is applied to the surface of the adhesive layer in order to prevent erroneous detection of irregularities on the surface of the adhesive layer on the substrate as a pattern defect (overdetection in Patent Document 1). Is.

より具体的には、特許文献1の技術はTABテープにおけるパターンの欠陥を検査するものであり、テープリールより送り出されたTABテープを、一旦、液体(アルコール)にくぐらせることにより接着剤層の表面に液体を塗布した後で、大気中にてパターンの検査を行い、検査後のTABテープを巻き取りリールに巻き取り回収するものである。   More specifically, the technique of Patent Document 1 is for inspecting a pattern defect in a TAB tape, and once the TAB tape fed from the tape reel is passed through a liquid (alcohol), the adhesive layer is formed. After applying the liquid to the surface, the pattern is inspected in the atmosphere, and the TAB tape after the inspection is wound up and collected on a take-up reel.

また、特許文献2の技術は、ガラスなどの透明体の内部の欠陥を検査する技術において、透明体をそれと屈折率が近い液体に埋没させた状態で、照射範囲が絞られたレーザービームを透明体に照射しながら走査させ、散乱光を目視にて観察するものである。   Further, the technique of Patent Document 2 is a technique for inspecting defects inside a transparent body such as glass, and a transparent laser beam with a narrow irradiation range is transparent with the transparent body buried in a liquid having a refractive index close to that. The body is scanned while being irradiated, and the scattered light is observed visually.

より具体的には、特許文献2の技術においては、該文献中の図2に示すように、基板状の透明体を検査対象とする場合に、その板面に交差する方向にレーザービームを照射するのではなく、その板面方向と平行にレーザービームを照射する。
特開2004−361329号公報 特開平1−250846号公報
More specifically, in the technique of Patent Document 2, as shown in FIG. 2 of the document, when a substrate-like transparent body is to be inspected, a laser beam is irradiated in a direction intersecting the plate surface. Instead, the laser beam is irradiated in parallel to the plate surface direction.
JP 2004-361329 A JP-A-1-250846

しかしながら、図1に示す従来技術では、例えば透明基板1002の裏面に傷1005が存在する場合、この傷1005をパターン1004の欠陥として誤検出してしまう可能性がある。   However, in the related art shown in FIG. 1, for example, when a scratch 1005 exists on the back surface of the transparent substrate 1002, the scratch 1005 may be erroneously detected as a defect of the pattern 1004.

なぜなら、大気中で傷1005の部分からガラス基板1002内に入射する光は、傷1005の無い部分からガラス基板1002内に入射する光とは異なる屈折をするので、撮像装置1002にて取得した画像において、傷1005と対応する部位の輝度階調が、傷1005の無い部分と比べて低下するためである。同様に、透明基板1002の表面に傷(図示略)が存在する場合も、この傷をパターン1004の欠陥として誤検出してしまう可能性がある。   This is because the light that enters the glass substrate 1002 from the scratch 1005 portion in the atmosphere is refracted differently from the light that enters the glass substrate 1002 from the portion without the scratch 1005, so the image acquired by the imaging device 1002 This is because the luminance gradation of the portion corresponding to the scratch 1005 is lower than that of the portion without the scratch 1005. Similarly, when a scratch (not shown) exists on the surface of the transparent substrate 1002, this scratch may be erroneously detected as a defect of the pattern 1004.

本発明が解決しようとする課題には、上記した問題が一例として挙げられる。   The problem to be solved by the present invention includes the above-described problem as an example.

なお、特許文献1の技術では、基板上に接着剤層を介してパターンが形成されている場合に、接着剤層の表面に液体を塗布するものであるため、基板の板面に傷がある場合には、やはり、この傷をパターンの欠陥として誤検出してしまう。   In the technique of Patent Document 1, when the pattern is formed on the substrate via the adhesive layer, the liquid is applied to the surface of the adhesive layer. In some cases, this scratch is erroneously detected as a pattern defect.

つまり、特許文献1の技術では上記の問題を解決することができない。   That is, the technique of Patent Document 1 cannot solve the above problem.

更に、特許文献1の技術では、テープリールより送り出されたTABテープを、一旦、液体にくぐらせて接着剤層の表面に液体を塗布した後で、大気中にてパターンの検査を行い、検査後のTABテープを巻き取りリールに巻き取り回収するため、TABテープの送り出し→液体の塗布→パターンの検査→TABテープの巻き取り回収という一連の作業を途中で中断した後で再開することができないという問題がある。なぜなら、作業を中断すると接着剤層表面の液体が乾燥してしまい、好適な検査ができなくなるためである。   Furthermore, in the technique of Patent Document 1, the TAB tape delivered from the tape reel is once passed through the liquid and the liquid is applied to the surface of the adhesive layer, and then the pattern is inspected in the atmosphere. Since the subsequent TAB tape is taken up and collected on the take-up reel, it cannot be resumed after a series of operations of TAB tape delivery, liquid application, pattern inspection, and TAB tape take-up collection are interrupted. There is a problem. This is because if the operation is interrupted, the liquid on the surface of the adhesive layer is dried and a suitable inspection cannot be performed.

また、特許文献2の技術は、透明体の内部の欠陥を検出するためのものであり、基板の板面に形成された傷を誤検出してしまうことを防止する技術とは全く相違する。   Moreover, the technique of patent document 2 is for detecting the defect inside a transparent body, and is completely different from the technique which prevents detecting the damage | wound formed in the board surface of a board | substrate accidentally.

更に、特許文献2の技術では、その図2に示すように、基板型の透明体を検査対象とする場合には、その板面に交差する方向にレーザービームを照射するのではなく、その板面方向と平行にレーザービームを照射する。よって、レーザービームは基板の板面を通過しないので、そもそも基板の板面(表側の面、或いは、裏側の面)上に形成されたパターンの形状を検査することが不可能である。   Furthermore, in the technique of Patent Document 2, as shown in FIG. 2, when a substrate-type transparent body is to be inspected, the plate is not irradiated with a laser beam in a direction crossing the plate surface. A laser beam is irradiated parallel to the surface direction. Therefore, since the laser beam does not pass through the plate surface of the substrate, it is impossible to inspect the shape of the pattern formed on the plate surface (front surface or back surface) in the first place.

また、特許文献2の技術は、透明体の一部に欠陥がある場合に、その欠陥部分からの顕著な散乱光を目視で容易に認識できるような構成となっている。つまり、特許文献2の技術では、目視により乱反射を観察することによって欠陥を判定するため、そもそも微細なパターンの欠陥を検出することができない。   Moreover, when the technique of patent document 2 has a defect in a part of transparent body, it has the structure which can recognize visually the remarkable scattered light from the defective part easily visually. That is, in the technique of Patent Document 2, since defects are determined by visually observing irregular reflections, it is impossible to detect defects with fine patterns in the first place.

以上のことから、特許文献1、2では上記の課題を解決することができない。   From the above, Patent Documents 1 and 2 cannot solve the above problem.

請求項1に記載の発明は、板面上にパターンが形成された透明基板の欠陥を検査するための透明基板検査装置において、前記透明基板に照明光を照射する照明装置と、この照明装置とは前記透明基板を挟んで反対側に配置された撮像装置と、前記透明基板の少なくとも片面を該透明基板と屈折率が近似する液体に浸すとともに、前記透明基板の板面方向を前記照明装置からの照射光の進行方向に対し交差させた状態で、前記透明基板の欠陥を検出する欠陥検出装置と、を備え、前記板面上のパターンは、前記照明光に対して非透過性を有しており、前記撮像装置により撮像された画像に基づき前記透明基板の欠陥を検出することを特徴としている。   The invention described in claim 1 is a transparent substrate inspection apparatus for inspecting a defect of a transparent substrate having a pattern formed on a plate surface, an illuminating device that irradiates the transparent substrate with illumination light, and the illuminating device. Is an imaging device disposed on the opposite side across the transparent substrate, and at least one surface of the transparent substrate is immersed in a liquid having a refractive index similar to that of the transparent substrate, and the plate surface direction of the transparent substrate is determined from the illumination device. And a defect detection device that detects a defect of the transparent substrate in a state intersecting with the traveling direction of the irradiation light of, and the pattern on the plate surface is impermeable to the illumination light And detecting a defect of the transparent substrate based on an image picked up by the image pickup device.

また、請求項10に記載の発明は、板面上にパターンが形成された透明基板の欠陥を検査する方法において、前記透明基板の少なくとも片面を該透明基板と屈折率が近似する液体に浸す過程と、前記透明基板の板面方向を前記照明装置からの照射光の進行方向に対し交差させた状態で、前記透明基板を照明装置により照射する過程と、前記透明基板を挟んで前記照明装置とは反対側に配置された撮像装置により前記透明基板を撮像する過程と、前記照明光に対して非透過性を有している前記基板上のパターンを前記撮像装置により撮像して得られる画像に基づき欠陥検出装置に記憶されているパターンと比較して前記透明基板の欠陥を検出する過程と、を備えることを特徴としている。   The invention according to claim 10 is a method for inspecting a defect in a transparent substrate having a pattern formed on a plate surface, wherein at least one surface of the transparent substrate is immersed in a liquid having a refractive index approximate to that of the transparent substrate. And a process of irradiating the transparent substrate with an illuminating device in a state where the plate surface direction of the transparent substrate intersects the traveling direction of the irradiation light from the illuminating device, and the illuminating device with the transparent substrate interposed therebetween Is a process of imaging the transparent substrate by an imaging device arranged on the opposite side, and an image obtained by imaging the pattern on the substrate that is impermeable to the illumination light by the imaging device And detecting a defect of the transparent substrate in comparison with a pattern stored in the defect detection device.

また、請求項11に記載の平面型表示パネルは、請求項10に記載の透明基板検査方法によって欠陥が検査された前記透明基板を具備したことを特徴とする。   A flat display panel according to an eleventh aspect includes the transparent substrate that has been inspected for defects by the transparent substrate inspection method according to the tenth aspect.

次に、実施形態を説明する。   Next, an embodiment will be described.

本実施形態に係る透明基板検査装置は、板面(表側或いは裏側の面)上にパターンが形成された透明基板の欠陥を検査するための透明基板検査装置において、前記透明基板に光を照射する照明装置と、この照明装置とは前記透明基板を挟んで反対側に配置された撮像装置と、前記透明基板の少なくとも片面を該透明基板と屈折率が近似する液体に浸すとともに、前記透明基板の板面方向を前記照明装置からの照射光の進行方向に対し交差させた状態で、前記透明基板の欠陥を検出する欠陥検出装置と、を備え、前記板面上のパターンは、前記照明光に対して非透過性を有しており、前記撮像装置により撮像された画像に基づき前記透明基板の欠陥を検出することを特徴としている。   The transparent substrate inspection apparatus according to the present embodiment irradiates the transparent substrate with light in the transparent substrate inspection apparatus for inspecting a defect of the transparent substrate in which a pattern is formed on a plate surface (front surface or back surface). An illuminating device, an imaging device disposed on the opposite side of the illuminating device, and at least one surface of the transparent substrate is immersed in a liquid having a refractive index similar to that of the transparent substrate, A defect detection device that detects a defect of the transparent substrate in a state in which the plate surface direction intersects the traveling direction of the irradiation light from the illumination device, and the pattern on the plate surface corresponds to the illumination light On the other hand, it has non-transparency, and it is characterized by detecting a defect of the transparent substrate based on an image picked up by the image pickup device.

本実施形態に係る透明基板検査装置によれば、前記透明基板の少なくとも片面を該透明基板と屈折率が近似する液体に浸すとともに、前記透明基板の板面方向を前記照明装置からの照射光の進行方向に対し交差させた状態で、前記透明基板の欠陥を検出する欠陥検出装置と、を備え、前記板面上のパターンは、前記照明光に対して非透過性を有しており、前記撮像装置により撮像された画像に基づき前記透明基板の欠陥を検出するので、ガラス基板或いはその他の透明基板の板面上に傷がある場合にその傷をパターンの欠陥として誤検出してしまうことを防止ないしは抑制することができる。なぜなら、透明基板と液体との屈折率が相互に近似するため、透明基板と液体との界面を通過する際の光の屈折を防止ないしは抑制でき、撮像装置にて取得した画像において、傷と対応する部位と傷が無い部位との輝度階調の差が生じないようにできるためである。このように、透明基板の傷をパターンの欠陥として誤検出してしまうことを防止ないしは抑制することにより、パターンの欠陥や透明基板上の異物・汚れといった、検出すべき欠陥のみを的確に検出することができるので、パターン検査の信頼性が向上する。なお、検出されるパターンの欠陥は、例えば、パターンの欠け、断線、はみ出し、短絡などである。   According to the transparent substrate inspection apparatus according to the present embodiment, at least one surface of the transparent substrate is immersed in a liquid having a refractive index approximate to that of the transparent substrate, and the plate surface direction of the transparent substrate is set to the irradiation light from the illumination device. A defect detection device that detects a defect of the transparent substrate in a state intersecting with the traveling direction, and the pattern on the plate surface is impermeable to the illumination light, Since the defect of the transparent substrate is detected based on the image picked up by the image pickup device, if there is a scratch on the plate surface of the glass substrate or other transparent substrate, the scratch is erroneously detected as a pattern defect. It can be prevented or suppressed. Because the refractive indexes of the transparent substrate and the liquid are close to each other, the refraction of light when passing through the interface between the transparent substrate and the liquid can be prevented or suppressed. This is because it is possible to prevent a difference in luminance gradation between a portion to be processed and a portion having no scratch. In this way, by preventing or suppressing the detection of scratches on the transparent substrate as pattern defects, it is possible to accurately detect only defects to be detected, such as pattern defects and foreign matter / dirt on the transparent substrate. Therefore, the reliability of pattern inspection is improved. The detected pattern defect is, for example, a chipped pattern, disconnection, protrusion, or short circuit.

また、前記透明基板の少なくとも片面を該透明基板と屈折率が近似する液体に浸した状態で撮像装置により撮像するので、透明基板において液体に浸された面が乾燥することがない。よって、一連の検査作業を中断し再開することも任意に行うことができる。   Further, since at least one surface of the transparent substrate is imaged by the imaging device while being immersed in a liquid having a refractive index similar to that of the transparent substrate, the surface of the transparent substrate immersed in the liquid is not dried. Therefore, a series of inspection operations can be arbitrarily interrupted and restarted.

また、透明基板の処理工程には、例えば洗浄処理などのウェット処理が含まれるが、本実施形態に係る透明基板検査装置をそのようなウェット処理を行うウェット設備に組み込むことにより、設備の省スペース及び欠陥を検出した場合の前工程への迅速なフィードバックが可能となる。透明基板上へのパターン形成後の洗浄処理では、例えば純水が用いられるが、水の屈折率はガラス基板などの透明基板の屈折率に近いため、そのような洗浄処理装置に本実施形態に係る透明基板検査装置を組み込み、上記のように欠陥を検査することが可能である。   Further, the transparent substrate processing step includes, for example, wet processing such as cleaning processing. By incorporating the transparent substrate inspection apparatus according to the present embodiment into wet equipment for performing such wet processing, the space of the equipment can be saved. In addition, when a defect is detected, quick feedback to the previous process becomes possible. In the cleaning process after pattern formation on the transparent substrate, for example, pure water is used. However, since the refractive index of water is close to the refractive index of a transparent substrate such as a glass substrate, the cleaning processing apparatus according to this embodiment is used. By incorporating such a transparent substrate inspection device, it is possible to inspect defects as described above.

本実施形態に係る透明基板検査装置においては、前記欠陥検出装置は、前記板面上のパターンを記憶するパターン記憶部と、前記撮像装置により取得した画像と前記パターン記憶部に記憶されたパターンとを比較して、欠陥の有無を判断する比較判定部と、を備えていることが好ましい一例であり、これにより、好適に基板の欠陥を検出することができる。   In the transparent substrate inspection apparatus according to the present embodiment, the defect detection apparatus includes a pattern storage unit that stores a pattern on the plate surface, an image acquired by the imaging device, and a pattern stored in the pattern storage unit. It is an example that preferably includes a comparison / determination unit that determines whether or not there is a defect. Thus, it is possible to suitably detect a defect in the substrate.

本実施形態に係る透明基板検査装置においては、前記透明基板の全面を前記液体に浸した状態で前記撮像装置による前記撮像を行う構造とされていることが好ましい一例であり、これにより、透明基板の表側及び裏側の何れの面に傷がある場合でも、この傷の誤検出を防止ないしは抑制することが可能となる。   In the transparent substrate inspection apparatus according to the present embodiment, it is a preferable example that the imaging by the imaging apparatus is performed in a state where the entire surface of the transparent substrate is immersed in the liquid. Even if there is a flaw on either the front side or the back side, it is possible to prevent or suppress erroneous detection of this flaw.

この場合、前記液体を貯留した液体容器と、前記液体容器内の前記液体中に前記透明基板の全面が浸された状態で該透明基板を搬送する搬送機構と、を更に備え、前記搬送機構において前記照明装置と前記撮像装置との間に位置する部分には、前記照明装置からの光を前記透明基板に照射可能とさせる開口が形成された構造とすることが好ましい一例である。この場合、搬送機構により透明基板を搬送しながら照明装置による照明と撮像装置により撮像とを行うので、照明装置及び撮像装置の規模を小さくすることができ、コストダウンが可能となる。また、搬送機構において照明装置と撮像装置との間に位置する部分には開口が形成されているので、搬送機構が検査の妨げとなることがない。   In this case, the apparatus further comprises: a liquid container storing the liquid; and a transport mechanism that transports the transparent substrate in a state where the entire surface of the transparent substrate is immersed in the liquid in the liquid container. A preferred example is a structure in which an opening that allows the light from the illumination device to irradiate the transparent substrate is formed in a portion located between the illumination device and the imaging device. In this case, since the illumination by the illumination device and the imaging by the imaging device are performed while the transparent substrate is conveyed by the conveyance mechanism, the scale of the illumination device and the imaging device can be reduced, and the cost can be reduced. In addition, since an opening is formed in a portion of the transport mechanism located between the illumination device and the imaging device, the transport mechanism does not hinder inspection.

或いは、本実施形態に係る透明基板検査装置においては、前記透明基板の片面のみを前記液体に浸した状態で前記撮像装置による前記撮像を行う構造とされていることも好ましく、これにより、少ない液体量にて上記のように欠陥を検査することが可能となる。   Alternatively, in the transparent substrate inspection apparatus according to the present embodiment, it is also preferable that the imaging apparatus performs the imaging with only one surface of the transparent substrate immersed in the liquid, thereby reducing the amount of liquid. It is possible to inspect defects as described above by quantity.

この場合、前記液体を貯留した液体容器と、前記液体容器内の前記液体中に前記透明基板の下面が浸された状態で該透明基板を搬送する搬送機構と、を更に備え、前記搬送機構において前記照明装置と前記撮像装置との間に位置する部分には、前記照明装置からの光を前記透明基板に照射可能とさせる開口が形成された構造とすることが好ましい一例である。この場合も、搬送機構により透明基板を搬送しながら撮像装置により撮像を行うので、撮像装置の規模を小さくすることができ、コストダウンが可能となる。また、搬送機構において照明装置と撮像装置との間に位置する部分には開口が形成されているので、搬送機構が検査の妨げとなることがない。   In this case, the apparatus further comprises: a liquid container storing the liquid; and a transport mechanism that transports the transparent substrate with the lower surface of the transparent substrate immersed in the liquid in the liquid container. A preferred example is a structure in which an opening that allows the light from the illumination device to irradiate the transparent substrate is formed in a portion located between the illumination device and the imaging device. Also in this case, since the imaging device performs imaging while transporting the transparent substrate by the transport mechanism, the scale of the imaging device can be reduced, and the cost can be reduced. In addition, since an opening is formed in a portion of the transport mechanism located between the illumination device and the imaging device, the transport mechanism does not hinder inspection.

本実施形態に係る透明基板検査装置においては、前記搬送機構は、例えば、前記透明基板を搬送する複数のローラを備えて構成されていることが好ましく、これにより、好適に透明基板を搬送することが可能となる。   In the transparent substrate inspection apparatus according to the present embodiment, the transport mechanism is preferably configured to include, for example, a plurality of rollers that transport the transparent substrate, and thereby transport the transparent substrate suitably. Is possible.

また、本実施形態に係る透明基板検査装置においては、上端が開口し、その上端に達するまで前記液体を貯留した液体容器を更に備え、前記液体容器の上端の開口に前記透明基板を載置し該透明基板の下面を前記液体に浸した状態で、前記撮像装置による前記撮像を行う構造とされていることも好ましい。この場合、液体中に透明基板の全体や下部を浸す場合と比べて透明基板のハンドリングが容易となるという利点がある。   The transparent substrate inspection apparatus according to the present embodiment further includes a liquid container having an upper end opened and storing the liquid until the upper end is reached, and the transparent substrate is placed on the upper end opening of the liquid container. It is also preferable that the imaging device performs the imaging with the lower surface of the transparent substrate immersed in the liquid. In this case, there is an advantage that handling of the transparent substrate is facilitated as compared with the case where the whole or the lower portion of the transparent substrate is immersed in the liquid.

本実施形態に係る透明基板検査装置においては、前記照明装置及び前記撮像装置は位置が固定であっても良いが、或いは、前記照明装置及び前記撮像装置が可動とされ、前記照明装置及び前記撮像装置を前記透明基板に沿って移動させながら、前記撮像装置による前記撮像を行う構成とされていることも好ましい。この場合、前記照明装置及び前記撮像装置を移動させる移動手段が必要となるが、この移動手段は液体に浸す必要がない。また、照明装置及び撮像装置を透明基板に沿って移動させながら、照明装置による照明と撮像装置による撮像とを行うので、照明装置及び撮像装置の規模を小さくすることができ、コストダウンが可能となる。   In the transparent substrate inspection apparatus according to this embodiment, the illumination apparatus and the imaging apparatus may be fixed in position, or the illumination apparatus and the imaging apparatus are movable, and the illumination apparatus and the imaging apparatus are movable. It is also preferable that the imaging is performed by the imaging device while moving the device along the transparent substrate. In this case, a moving unit for moving the illumination device and the imaging device is required, but the moving unit does not need to be immersed in a liquid. Further, since the illumination device and the imaging device are moved along the transparent substrate and the illumination device and the imaging device perform imaging, the size of the illumination device and the imaging device can be reduced, and the cost can be reduced. Become.

また、本実施形態に係る透明基板検査方法は、板面上にパターンが形成された透明基板の欠陥を検査する方法において、前記透明基板の少なくとも片面を該透明基板と屈折率が近似する液体に浸す過程と、前記透明基板の板面方向を前記照明装置からの照射光の進行方向に対し交差させた状態で、前記透明基板を照明装置により照射する過程と、前記透明基板を挟んで前記照明装置とは反対側に配置された撮像装置により前記透明基板を撮像する過程と、前記照明光に対して非透過性を有している前記基板上のパターンを前記撮像装置により撮像して得られる画像に基づき欠陥検出装置に記憶されているパターンと比較して前記透明基板の欠陥を検出する過程と、を備えることを特徴としている。このため、本実施形態に係る透明基板検査方法によれば、本実施形態に係る透明基板検査装置と同様の効果が得られる。   Further, the transparent substrate inspection method according to the present embodiment is a method of inspecting a defect of a transparent substrate having a pattern formed on a plate surface. At least one surface of the transparent substrate is a liquid whose refractive index approximates that of the transparent substrate. A step of immersing, a step of irradiating the transparent substrate with an illuminating device in a state in which the plate surface direction of the transparent substrate intersects the traveling direction of the irradiation light from the illuminating device, and the illumination across the transparent substrate Obtained by imaging with the imaging device a process of imaging the transparent substrate with an imaging device disposed on the opposite side of the device and a pattern on the substrate that is impermeable to the illumination light And a step of detecting a defect of the transparent substrate in comparison with a pattern stored in a defect detection device based on an image. For this reason, according to the transparent substrate inspection method concerning this embodiment, the same effect as the transparent substrate inspection device concerning this embodiment is acquired.

また、本実施形態に係る平面型表示パネルは、本実施形態に係る透明基板検査方法によって欠陥が検査された前記透明基板を備えることを特徴としている。よって、本実施形態に係る平面型表示パネルは、透明基板における欠陥の有無が的確に検査された平面型表示パネルとすることができる。なお、本実施形態に係る平面型表示パネルとしては、例えば、プラズマディスプレイパネルや液晶表示装置が挙げられる。これら平面型表示パネルの構造は従来周知であるので説明を省略する。   The flat display panel according to the present embodiment includes the transparent substrate that has been inspected for defects by the transparent substrate inspection method according to the present embodiment. Therefore, the flat display panel according to the present embodiment can be a flat display panel in which the presence or absence of defects in the transparent substrate is accurately inspected. Examples of the flat display panel according to the present embodiment include a plasma display panel and a liquid crystal display device. Since the structure of these flat display panels is well known in the art, description thereof is omitted.

図2は実施例1に係るガラス基板検査装置(透明基板検査装置)100を示す模式的な正面図、図3はガラス基板検査装置100の主要なブロック構成を示すブロック図である。   FIG. 2 is a schematic front view showing the glass substrate inspection apparatus (transparent substrate inspection apparatus) 100 according to the first embodiment, and FIG. 3 is a block diagram showing the main block configuration of the glass substrate inspection apparatus 100.

図2に示すように、実施例1に係るガラス基板検査装置100は、板面上に微細なパターン4が形成されたガラス基板(透明基板)2の欠陥を検出するためのものであり、ガラス基板2に光を照射する照明装置1と、この照明装置1とはガラス基板2を挟んで反対側に配置された撮像装置(カメラ)3と、屈折率がガラス基板2と近似する液体5を内部に貯留し、該液体5内にガラス基板2を浸漬するための液体容器6と、この液体容器6内においてガラス基板2を略水平に保持する図示しない保持手段と、を備えている。   As shown in FIG. 2, the glass substrate inspection apparatus 100 according to the first embodiment is for detecting defects in a glass substrate (transparent substrate) 2 in which a fine pattern 4 is formed on a plate surface. An illuminating device 1 that irradiates light onto the substrate 2, an imaging device (camera) 3 disposed on the opposite side of the illuminating device 1 with the glass substrate 2 interposed therebetween, and a liquid 5 whose refractive index approximates that of the glass substrate 2. A liquid container 6 for storing the glass substrate 2 in the liquid 5 and immersing the glass substrate 2 in the liquid 5 and holding means (not shown) for holding the glass substrate 2 substantially horizontally in the liquid container 6 are provided.

照明装置1は、光源として、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ或いはメタルハライドランプを備えて構成されている。なお、ガラス基板2の板面上のパターン4は、照明装置1の照明光に対して非透過性を有している。   The illumination device 1 includes, for example, a xenon lamp, a halogen lamp, or a metal halide lamp as a light source. Note that the pattern 4 on the plate surface of the glass substrate 2 is impermeable to the illumination light of the illumination device 1.

この照明装置1は、例えば、液体容器6の下方に配置され、光を上方に向けて照射する。   This illuminating device 1 is arrange | positioned under the liquid container 6, for example, and irradiates light upwards.

また、撮像装置3は、例えば、CCDラインセンサ或いはCCDカメラなどからなる。   The imaging device 3 is composed of, for example, a CCD line sensor or a CCD camera.

この撮像装置3は、例えば、液体容器6の上方に配置され、照明装置1側を向いている。   For example, the imaging device 3 is disposed above the liquid container 6 and faces the lighting device 1 side.

図3に示すように、ガラス基板検査装置100は、更に、撮像装置3により取得した画像に基づきガラス基板2の欠陥を自動的に検出する欠陥検出装置8を備えている。   As shown in FIG. 3, the glass substrate inspection device 100 further includes a defect detection device 8 that automatically detects a defect of the glass substrate 2 based on an image acquired by the imaging device 3.

この欠陥検出装置8は、例えば、予め基準となるパターン形状の画像(基準画像)を記憶保持するパターン記憶部81と、このパターン記憶部に記憶保持された基準画像と撮像装置3により取得された画像(取得画像)とを比較して、ガラス基板2の欠陥の有無を判断する比較判定部82と、を備えている。   The defect detection device 8 is acquired by, for example, a pattern storage unit 81 that stores and holds an image of a reference pattern shape (reference image) in advance, and a reference image stored and held in the pattern storage unit and the imaging device 3. A comparison / determination unit 82 that compares the image (acquired image) and determines whether or not the glass substrate 2 has a defect is provided.

ガラス基板2は、例えば、平面型表示パネルの前面側のガラス基板或いは背面側のガラス基板であることが挙げられる。平面表示パネルとしては、例えば、プラズマディスプレイパネル(PDP)や液晶表示パネル(LCD)が挙げられる。これらの場合、ガラス基板2の表面上に形成されたパターン4は、例えば、電極であることが挙げられる。なお、ガラス基板2は、その他(平面表示パネル以外)の用途のガラス基板であっても良い。   The glass substrate 2 is, for example, a glass substrate on the front side or a glass substrate on the back side of the flat display panel. Examples of the flat display panel include a plasma display panel (PDP) and a liquid crystal display panel (LCD). In these cases, the pattern 4 formed on the surface of the glass substrate 2 is, for example, an electrode. The glass substrate 2 may be a glass substrate for other purposes (other than the flat display panel).

液体容器6の形状・寸法と、該液体容器6内の液体5の量は、該液体容器6内にガラス基板2を浸漬することによりガラス基板2の全面(全ての面)が液体5に浸された状態となるように設定されている。   The shape and dimensions of the liquid container 6 and the amount of the liquid 5 in the liquid container 6 are determined by immersing the glass substrate 2 in the liquid container 6 so that the entire surface (all surfaces) of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5. It is set to be in the state.

液体容器6は、透明材からなり、照明装置1からの照射光をガラス基板2を介して撮像装置3側に透過可能となっている。   The liquid container 6 is made of a transparent material, and can transmit the irradiation light from the illumination device 1 to the imaging device 3 side through the glass substrate 2.

また、液体容器6内の液体5は、例えば、水或いは有機溶剤(アルコールなど)であることが挙げられる。   Moreover, the liquid 5 in the liquid container 6 is, for example, water or an organic solvent (alcohol or the like).

次に、動作を説明する。   Next, the operation will be described.

ガラス基板2の欠陥を検出するためには、予め、ガラス基板2を液体容器6内の液体5中に浸漬し、該ガラス基板2を保持手段により水平状態に保持させた状態とする。   In order to detect a defect in the glass substrate 2, the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5 in the liquid container 6 in advance, and the glass substrate 2 is held in a horizontal state by the holding means.

つまり、ガラス基板2の全面を液体5に浸した状態とするとともに、ガラス基板2の板面方向が照明装置1からの照射光の進行方向に対し直交(交差)するようにガラス基板2を配置する。   That is, the glass substrate 2 is disposed so that the entire surface of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5 and the plate surface direction of the glass substrate 2 is orthogonal (crossed) to the traveling direction of the irradiation light from the illumination device 1. To do.

この状態で照明装置1によりガラス基板2を照明することによってガラス基板2を透過する透過光を撮像装置3側に照射しながら、該撮像装置3によりガラス基板2の画像を取得し、この画像を欠陥検出装置8により解析する。   While illuminating the glass substrate 2 with the illumination device 1 in this state and irradiating the imaging device 3 side with transmitted light that passes through the glass substrate 2, an image of the glass substrate 2 is acquired by the imaging device 3, and this image is Analysis is performed by the defect detection device 8.

これにより、ガラス基板2の欠陥、すなわち、ガラス基板2の表面上に形成されたパターン4の欠陥(欠け、断線、はみ出し、短絡など)や、ガラス基板2の表面又は裏面の異物・汚れなどを検出することができる。   As a result, defects on the glass substrate 2, that is, defects on the pattern 4 formed on the surface of the glass substrate 2 (such as chipping, disconnection, protrusion, short circuit, etc.), foreign matter or dirt on the front or back surface of the glass substrate 2, etc. Can be detected.

更に、欠陥検出装置8により欠陥を自動的に解析するので、微細なパターン4の欠陥を好適に検出することができる。   Furthermore, since the defect is automatically analyzed by the defect detection device 8, the defect of the fine pattern 4 can be suitably detected.

また、ガラス基板2が、屈折率が近似する液体5に浸された状態となっているため、ガラス基板2に傷7がある場合であっても、この傷7の部分において照明装置1からの入射光の乱反射が防止ないしは抑制される。よって、傷7を検出することがなく、パターン4の欠陥のみを検出することができる。なお、図2には傷7がガラス基板2の裏側に形成されている例を示しているが、実施例1ではガラス基板2の全面が液体5に浸された状態であるので、傷7がガラス基板2の表側に形成されている場合も、同様に、傷7を検出することがないようにできる。   Further, since the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5 having an approximate refractive index, even if the glass substrate 2 has a scratch 7, the portion of the scratch 7 from the lighting device 1 Irregular reflection of incident light is prevented or suppressed. Therefore, only the defect of the pattern 4 can be detected without detecting the scratch 7. FIG. 2 shows an example in which the scratch 7 is formed on the back side of the glass substrate 2, but in Example 1, the entire surface of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5. Similarly, when formed on the front side of the glass substrate 2, the scratch 7 can be prevented from being detected.

以上のような実施例1によれば、板面上にパターン4が形成されたガラス基板2の欠陥を検査するためのガラス基板検査装置100において、ガラス基板2に光を照射する照明装置1と、この照明装置1とはガラス基板2を挟んで反対側に配置された撮像装置3と、ガラス基板2の少なくとも片面(具体的には、例えば、表側及び裏側の両面)を該ガラス基板2と屈折率が近似する液体4に浸すとともに、ガラス基板2の板面方向を照明装置1からの照射光の進行方向に対し交差(具体的には、直交)させた状態で、ガラス基板2の欠陥を検出する欠陥検出装置8と、を備え、前記板面上のパターン4は、前記照明光に対して非透過性を有しており、撮像装置3により撮像された画像に基づきガラス基板2の欠陥を検出するので、ガラス基板2の板面(表側の面或いは裏側の面)上に傷7がある場合にその傷7をパターン4の欠陥として誤検出してしまうことを防止ないしは抑制することができる。なぜなら、ガラス基板2と液体5との屈折率が相互に近似するため、ガラス基板2と液体5との界面を通過する際の光の屈折を防止ないしは抑制でき、撮像装置3にて取得した画像において、傷7と対応する部位と傷が無い部位との輝度階調の差が生じないようにできるためである。このように、ガラス基板2の傷をパターン4の欠陥として誤検出してしまうことを防止ないしは抑制することにより、パターン4の欠陥やガラス基板4上の異物・汚れといった、検出すべき欠陥のみを的確に検出することができ、パターン検査の信頼性が向上する。   According to the first embodiment as described above, in the glass substrate inspection apparatus 100 for inspecting a defect of the glass substrate 2 on which the pattern 4 is formed on the plate surface, the illumination apparatus 1 that irradiates the glass substrate 2 with light, The imaging device 3 arranged on the opposite side of the lighting device 1 with the glass substrate 2 interposed therebetween, and at least one side of the glass substrate 2 (specifically, for example, both the front side and the back side) are connected to the glass substrate 2. A defect in the glass substrate 2 in a state in which the plate surface direction of the glass substrate 2 intersects (specifically, orthogonal) with the traveling direction of the irradiation light from the illumination device 1 while being immersed in the liquid 4 having an approximate refractive index. The pattern 4 on the plate surface is impermeable to the illumination light, and is based on the image captured by the image capturing device 3. Glass substrate for detecting defects It is possible to prevent the over plate surface (front surface or back surface) erroneously detects the flaw 7 when there is a flaw 7 as a defect of the pattern 4 or suppress. This is because the refractive indexes of the glass substrate 2 and the liquid 5 are close to each other, so that the refraction of light when passing through the interface between the glass substrate 2 and the liquid 5 can be prevented or suppressed. This is because the difference in luminance gradation between the part corresponding to the scratch 7 and the part without the scratch can be prevented. In this way, by preventing or suppressing the detection of scratches on the glass substrate 2 as defects in the pattern 4, only defects to be detected such as defects in the pattern 4 and foreign matters / dirt on the glass substrate 4 are detected. It can be detected accurately, and the reliability of pattern inspection is improved.

また、ガラス基板2の少なくとも片面を該ガラス基板2と屈折率が近似する液体5に浸した状態で撮像装置3により撮像するので、ガラス基板2において液体5に浸された面が乾燥することがない。よって、一連の検査作業を中断し再開することも任意に行うことができる。   In addition, since at least one surface of the glass substrate 2 is imaged by the imaging device 3 in a state where the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5 having a refractive index close to that of the glass substrate 2, the surface immersed in the liquid 5 in the glass substrate 2 may be dried. Absent. Therefore, a series of inspection operations can be arbitrarily interrupted and restarted.

また、ガラス基板2の処理工程には、例えば洗浄処理などのウェット処理が含まれるが、実施例1に係るガラス基板検査装置100をそのようなウェット処理を行うウェット設備に組み込むことにより、設備の省スペース及び欠陥を検出した場合の前工程への迅速なフィードバックが可能となる。   In addition, the glass substrate 2 processing step includes, for example, a wet process such as a cleaning process. By incorporating the glass substrate inspection apparatus 100 according to the first embodiment into a wet facility for performing such a wet process, Space saving and quick feedback to the previous process when a defect is detected are possible.

なお、上記の実施例1の場合、撮像装置3と照明装置1との配置は、相互に対向する配置であればどのような配置であっても良い。すなわち、上記の実施例1では撮像装置3が上、照明装置1が下である例を説明したが、例えば、撮像装置3が下、照明装置1が上であっても良いし、撮像装置3が左右何れか一方に配置され、照明装置1が左右何れか他方に配置されても良いし、撮像装置3と照明装置1とが相互に対向するのであれば、その他の任意の配置であっても良い。   In the case of the first embodiment, the arrangement of the imaging device 3 and the illumination device 1 may be any arrangement as long as the arrangement is opposed to each other. That is, in the first embodiment, the example in which the imaging device 3 is on and the lighting device 1 is on the lower side is described. However, for example, the imaging device 3 may be on the lower side and the lighting device 1 may be on the upper side. May be arranged on either the left or right side, and the lighting device 1 may be arranged on either the left or right side, or any other arrangement as long as the imaging device 3 and the lighting device 1 face each other. Also good.

図4は実施例2に係るガラス基板検査装置(透明基板検査装置)200を示す模式的な正面断面図である。   FIG. 4 is a schematic front sectional view showing a glass substrate inspection apparatus (transparent substrate inspection apparatus) 200 according to the second embodiment.

なお、ガラス基板検査装置200の構成要素のうち、上記の実施例1に係るガラス基板検査装置100におけるのと同様の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。   Note that among the components of the glass substrate inspection apparatus 200, the same components as those in the glass substrate inspection apparatus 100 according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図4に示すように、実施例2に係るガラス基板検査装置200は、ガラス基板2の欠陥を検出するためのものであり、照明装置1と、撮像装置3と、屈折率がガラス基板2と近似する液体5を内部に貯留し、該液体5内にガラス基板2を浸漬するための液体容器6と、欠陥検出装置8と、を備えている。   As shown in FIG. 4, the glass substrate inspection apparatus 200 according to the second embodiment is for detecting defects in the glass substrate 2, and includes the illumination device 1, the imaging device 3, and the refractive index of the glass substrate 2. An approximate liquid 5 is stored inside, and a liquid container 6 for immersing the glass substrate 2 in the liquid 5 and a defect detection device 8 are provided.

実施例2の場合も、液体容器6内においてガラス基板2の全面を液体5に浸した状態で撮像装置3による撮像を行うようになっている。   Also in the case of the second embodiment, imaging by the imaging device 3 is performed with the entire surface of the glass substrate 2 immersed in the liquid 5 in the liquid container 6.

ここで、実施例2の場合、液体容器6は、例えば、不透明な材質からなっているが、照明装置1と対向する液体容器6の底面には開口61が形成され、この開口61内には、透明材からなる検査窓221が配設されている。   Here, in the case of the second embodiment, the liquid container 6 is made of, for example, an opaque material, but an opening 61 is formed on the bottom surface of the liquid container 6 facing the lighting device 1, and the opening 61 An inspection window 221 made of a transparent material is provided.

また、液体容器6の内部において、検査窓221の上方位置で、且つ、後述するローラ群212よりも上方位置には、上端が開口した半筐体230が配置されている。この半筐体230は、その下部が液体5に浸されている。更に、この半筐体230の底面には開口231が開口され、この開口231内には、透明材からなる検査窓222が配設されている。   Further, in the liquid container 6, a half housing 230 having an upper end opened is disposed above the inspection window 221 and above a roller group 212 described later. The lower part of the half housing 230 is immersed in the liquid 5. Further, an opening 231 is opened on the bottom surface of the half-housing 230, and an inspection window 222 made of a transparent material is disposed in the opening 231.

つまり、検査窓222と検査窓221との間は液体5で満たされた状態である。   That is, the space between the inspection window 222 and the inspection window 221 is filled with the liquid 5.

撮像装置3は、半筐体230内に配置され、検査窓221を介してガラス基板2を撮像する。   The imaging device 3 is disposed in the half housing 230 and images the glass substrate 2 through the inspection window 221.

実施例2に係るガラス基板検査装置200は、更に、液体容器6内の液体5中にガラス基板2の全面が浸された状態で該ガラス基板2を搬送する搬送機構210を備えている。   The glass substrate inspection apparatus 200 according to the second embodiment further includes a transport mechanism 210 that transports the glass substrate 2 in a state where the entire surface of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5 in the liquid container 6.

この搬送機構210は、例えば、複数のローラ211からなるローラ群212と、これらローラ211を互いに同一方向に回転駆動させる図示しない駆動手段と、を備えて構成されている。   The transport mechanism 210 includes, for example, a roller group 212 composed of a plurality of rollers 211 and drive means (not shown) that drives the rollers 211 to rotate in the same direction.

ローラ群212を構成する複数のローラ211は、各々の回転軸方向が互いに平行となるとともに、これらローラ211の協働によりガラス基板2を略水平状態に保持できるように、所定間隔に配列されている。   The plurality of rollers 211 constituting the roller group 212 are arranged at predetermined intervals so that the rotation axis directions thereof are parallel to each other and the glass substrate 2 can be held in a substantially horizontal state by the cooperation of the rollers 211. Yes.

ここで、ローラ群212において、照明装置1と撮像装置3との間に位置する部分には、ローラ211が配設されていない空白部分、すなわち、開口212aが形成されている。   Here, in the roller group 212, a blank portion where the roller 211 is not provided, that is, an opening 212 a is formed in a portion located between the illumination device 1 and the imaging device 3.

この開口212aは、照明装置1からの照射光をガラス基板2を介して撮像装置3側に透過可能とさせる。   The opening 212a allows the irradiation light from the illumination device 1 to pass through the glass substrate 2 to the imaging device 3 side.

次に、動作を説明する。   Next, the operation will be described.

ガラス基板2の欠陥を検出するためには、予め、ガラス基板2を液体容器6内の液体5中に浸漬し、ローラ群212により水平に保持させた状態する。   In order to detect defects in the glass substrate 2, the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5 in the liquid container 6 in advance and is held horizontally by the roller group 212.

つまり、ガラス基板2の全面を液体5に浸した状態とするとともに、ガラス基板2の板面方向が照明装置1からの照射光の進行方向に対し直交するようにガラス基板2を配置する。   That is, the glass substrate 2 is disposed so that the entire surface of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5 and the plate surface direction of the glass substrate 2 is orthogonal to the traveling direction of the irradiation light from the illumination device 1.

この状態で照明装置1により照明を行うとともに、搬送機構210によりガラス基板2を例えば図4の矢印A方向に搬送しながら、撮像装置3によりガラス基板2の画像を取得し、この画像を欠陥検出装置8により解析する。   In this state, the illumination device 1 illuminates, and the image pickup device 3 acquires an image of the glass substrate 2 while conveying the glass substrate 2 in the direction of arrow A in FIG. Analysis is performed by the apparatus 8.

これにより、上記の実施例1と同様に、ガラス基板2の欠陥を検出することができるとともに、ガラス基板2に傷がある場合であっても傷を検出することがなく、パターンの欠陥や異物・汚れなどの検出すべき欠陥のみを検出することができる。なお、実施例2でもガラス基板2の全面が液体5に浸された状態であるので、傷がガラス基板2の表側に形成されているか裏側に形成されているかにかかわらず同様に、傷を検出しないようにできる。   As a result, the defect of the glass substrate 2 can be detected in the same manner as in the first embodiment, and even if the glass substrate 2 has a flaw, the flaw is not detected, and the defect of the pattern or the foreign matter is detected. -Only defects that should be detected, such as dirt, can be detected. In Example 2, since the entire surface of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5, the scratches are similarly detected regardless of whether the scratches are formed on the front side or the back side of the glass substrate 2. You can avoid it.

以上のような実施例2によれば、上記の実施例1と同様の効果が得られる他に、以下の効果が得られる。   According to the second embodiment as described above, the following effects can be obtained in addition to the same effects as the first embodiment.

すなわち、実施例2の場合、液体5を貯留した液体容器6と、液体容器6内の液体5中にガラス基板2の全面が浸された状態で該ガラス基板2を搬送する搬送機構210と、を更に備え、搬送機構210において照明装置1と撮像装置3との間に位置する部分には、照明装置1からの光をガラス基板2に照射可能とさせる開口212aが形成され、搬送機構210によりガラス基板2を搬送しながら照明装置1による照明と撮像装置3による撮像とを行うので、照明装置1及び撮像装置3をガラス基板2の全面に亘る寸法とする必要がない。よって、照明装置1及び撮像装置3の規模を小さくすることができ、コストダウンが可能となる。また、搬送機構210において照明装置1と撮像装置3との間に位置する部分には開口212aが形成されているので、搬送機構210が検査の妨げとなることがない。   That is, in the case of Example 2, the liquid container 6 that stores the liquid 5, and the transport mechanism 210 that transports the glass substrate 2 in a state where the entire surface of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5 in the liquid container 6, In the transport mechanism 210, an opening 212 a that allows the glass substrate 2 to irradiate light from the illumination device 1 is formed in a portion located between the illumination device 1 and the imaging device 3. Since the illumination by the illumination device 1 and the imaging by the imaging device 3 are performed while the glass substrate 2 is being transported, it is not necessary for the illumination device 1 and the imaging device 3 to have dimensions over the entire surface of the glass substrate 2. Therefore, the scale of the illumination device 1 and the imaging device 3 can be reduced, and the cost can be reduced. Moreover, since the opening 212a is formed in the part located between the illuminating device 1 and the imaging device 3 in the transport mechanism 210, the transport mechanism 210 does not hinder the inspection.

図5は実施例3に係るガラス基板検査装置(透明基板検査装置)300を示す模式的な正面断面図である。   FIG. 5 is a schematic front sectional view showing a glass substrate inspection apparatus (transparent substrate inspection apparatus) 300 according to the third embodiment.

なお、ガラス基板検査装置300の構成要素のうち、上記の実施例2に係るガラス基板検査装置200におけるのと同様の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。   Note that, among the components of the glass substrate inspection apparatus 300, the same components as those in the glass substrate inspection apparatus 200 according to Example 2 described above are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図5に示すように、実施例3に係るガラス基板検査装置300は、ガラス基板2の欠陥を検出するためのものであり、照明装置1と、撮像装置3と、液体容器6と、欠陥検出装置8と、搬送機構210と、を備えている。   As shown in FIG. 5, the glass substrate inspection device 300 according to the third embodiment is for detecting defects in the glass substrate 2, and includes the illumination device 1, the imaging device 3, the liquid container 6, and defect detection. An apparatus 8 and a transport mechanism 210 are provided.

ただし、実施例3に係るガラス基板検査装置300は、ガラス基板2の片面のみを液体5に浸した状態で撮像装置3による撮像を行う構造とされている。   However, the glass substrate inspection apparatus 300 according to the third embodiment is configured to perform imaging by the imaging apparatus 3 in a state where only one surface of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5.

すなわち、実施例3の場合、搬送機構210は、液体容器6内の液体5中にガラス基板2の下面が浸された状態(ガラス基板2の上面は液体5に浸されていない状態)で該ガラス基板2を搬送する。   That is, in the case of Example 3, the transport mechanism 210 is in a state where the lower surface of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5 in the liquid container 6 (the upper surface of the glass substrate 2 is not immersed in the liquid 5). The glass substrate 2 is conveyed.

つまり、このようにして搬送機構210がガラス基板2を搬送できるように、液体容器6内の液体5の量と、液体容器6内における搬送機構210の鉛直位置が設定されている。   That is, the amount of the liquid 5 in the liquid container 6 and the vertical position of the transport mechanism 210 in the liquid container 6 are set so that the transport mechanism 210 can transport the glass substrate 2 in this way.

また、実施例3の場合、ガラス基板検査装置300は、半筐体230を備える必要がない。   In the case of the third embodiment, the glass substrate inspection apparatus 300 does not need to include the half housing 230.

次に、動作を説明する。   Next, the operation will be described.

ガラス基板2の欠陥を検出するためには、予め、ガラス基板2を液体容器6内の液体5中に浸漬し、該ガラス基板2を保持手段により水平状態に保持させた状態とする。   In order to detect a defect in the glass substrate 2, the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5 in the liquid container 6 in advance, and the glass substrate 2 is held in a horizontal state by the holding means.

つまり、ガラス基板2の片面(下面)のみを液体5に浸した状態とするとともに、ガラス基板2の板面方向が照明装置1からの照射光の進行方向に対し直交するようにガラス基板2を配置する。   That is, only one surface (lower surface) of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5, and the glass substrate 2 is placed so that the plate surface direction of the glass substrate 2 is orthogonal to the traveling direction of the irradiation light from the illumination device 1. Deploy.

この状態で、上記の実施例2と同様に、照明装置1により照明を行うとともに、搬送機構210によりガラス基板2を例えば図5の矢印A方向に搬送しながら、撮像装置3によりガラス基板2の画像を取得し、この画像を欠陥検出装置8により解析する。   In this state, similarly to the second embodiment, the illumination device 1 performs illumination, and the conveyance mechanism 210 conveys the glass substrate 2 in the direction of arrow A in FIG. An image is acquired, and this image is analyzed by the defect detection device 8.

これにより、上記の実施例2と同様に、ガラス基板2の欠陥を検出することができるとともに、ガラス基板2に傷がある場合であっても傷を検出することがなく、パターンの欠陥や異物・汚れなどの検出すべき欠陥のみを検出することができる。   As a result, as in the second embodiment, the defect of the glass substrate 2 can be detected, and even if the glass substrate 2 has a flaw, the flaw is not detected, and the defect of the pattern or the foreign matter is detected. -Only defects that should be detected, such as dirt, can be detected.

ただし、実施例3の場合、ガラス基板2の片側(下面)のみが液体5に浸されているので、ガラス基板2の他方の面(上面)に傷が存在する場合には、この傷を誤検出してしまう可能性がある。   However, in the case of Example 3, since only one side (lower surface) of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5, if there is a scratch on the other surface (upper surface) of the glass substrate 2, this scratch is mistaken. There is a possibility of detection.

以上のような実施例3によれば、液体5を貯留した液体容器6と、液体容器6内の液体5中にガラス基板2の下面が浸された状態で該ガラス基板2を搬送する搬送機構210と、を更に備え、搬送機構210において照明装置1と撮像装置3との間に位置する部分には、照明装置3からの光をガラス基板2に照射可能とさせる開口212aが形成されているので、実施例2と同様の効果が得られる。   According to the third embodiment as described above, the liquid container 6 storing the liquid 5 and the transport mechanism for transporting the glass substrate 2 with the lower surface of the glass substrate 2 immersed in the liquid 5 in the liquid container 6. 210, and an opening 212a that allows the glass substrate 2 to be irradiated with light from the illumination device 3 is formed in a portion of the transport mechanism 210 located between the illumination device 1 and the imaging device 3. Therefore, the same effect as in Example 2 can be obtained.

更に、実施例3の場合、ガラス基板2の片面のみを液体5に浸した状態で撮像装置3による撮像を行う構造とされているので、上記の実施例1及び2と比べて液体5の量が少なくて済む。   Furthermore, in the case of the third embodiment, since the imaging device 3 performs imaging with only one surface of the glass substrate 2 immersed in the liquid 5, the amount of the liquid 5 is larger than those of the first and second embodiments. Is less.

なお、上記の実施例2、3では、複数のローラ211を備える搬送機構210を例示したが、搬送機構としては、メカチャック式やゲージング搬送など、画像に歪みが発生しない方式であれば何でも良い。   In the second and third embodiments, the transport mechanism 210 including the plurality of rollers 211 is illustrated. However, the transport mechanism may be any system that does not cause distortion in the image, such as a mechanical chuck type or a gauging transport. .

図6は実施例4に係るガラス基板検査装置(透明基板検査装置)400を示す模式的な正面断面図である。   FIG. 6 is a schematic front sectional view showing a glass substrate inspection apparatus (transparent substrate inspection apparatus) 400 according to the fourth embodiment.

なお、ガラス基板検査装置400の構成要素のうち、上記の実施例3に係るガラス基板検査装置300におけるのと同様の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。   Note that, among the components of the glass substrate inspection apparatus 400, the same components as those in the glass substrate inspection apparatus 300 according to Example 3 described above are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図6に示すように、実施例4に係るガラス基板検査装置400は、ガラス基板2の欠陥を検出するためのものであり、照明装置1と、撮像装置3と、屈折率がガラス基板2と近似する液体5を内部に貯留し、該液体5内にガラス基板2を浸漬するための液体容器6と、欠陥検出装置8と、を備えている。   As shown in FIG. 6, the glass substrate inspection device 400 according to the fourth embodiment is for detecting defects in the glass substrate 2, and includes the illumination device 1, the imaging device 3, and the refractive index of the glass substrate 2. An approximate liquid 5 is stored inside, and a liquid container 6 for immersing the glass substrate 2 in the liquid 5 and a defect detection device 8 are provided.

実施例4の場合、液体容器6は、該液体容器6の開口した上端に達するまで液体5を貯留しており、液体容器6の上端の開口にガラス基板2を略水平に載置し、該ガラス基板2の下面を液体5に浸した状態で、撮像装置3による撮像を行う構造とされている。   In the case of Example 4, the liquid container 6 stores the liquid 5 until it reaches the open upper end of the liquid container 6, and the glass substrate 2 is placed substantially horizontally on the upper end opening of the liquid container 6, The imaging apparatus 3 is configured to perform imaging while the lower surface of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5.

更に、実施例4の場合、照明装置1及び撮像装置3が図6に示す水平方向Aに可動とされ、照明装置1及び撮像装置3をガラス基板2に沿って水平に移動(走査)させながら、撮像装置3による撮像を行う構成とされている。   Furthermore, in the case of Example 4, the illumination device 1 and the imaging device 3 are movable in the horizontal direction A shown in FIG. 6, and the illumination device 1 and the imaging device 3 are moved (scanned) horizontally along the glass substrate 2. The imaging device 3 performs imaging.

すなわち、実施例4に係るガラス基板検査装置400は、照明装置1及び撮像装置3を互いに同期させて図6に示す水平方向Aに移動させる移動手段(図示略)を備えている。   That is, the glass substrate inspection apparatus 400 according to the fourth embodiment includes moving means (not shown) that moves the illumination apparatus 1 and the imaging apparatus 3 in the horizontal direction A shown in FIG.

これら移動手段は、液体に浸す必要がないので、移動手段には防液(防水など)対策が必要ない。従って、透明基板を搬送手段により搬送する場合の搬送手段と比べて、これら移動手段を安価に構成することが可能である。また、照明装置及び撮像装置を透明基板に沿って移動させながら、照明装置による照明と撮像装置による撮像とを行うので、照明装置及び撮像装置の規模を小さくすることができ、コストダウンが可能となる。   Since these moving means do not need to be immersed in a liquid, the moving means does not need a liquidproof (waterproofing) measure. Therefore, it is possible to configure these moving means at a low cost compared to the transfer means when the transparent substrate is transferred by the transfer means. Further, since the illumination device and the imaging device are moved along the transparent substrate and the illumination device and the imaging device perform imaging, the size of the illumination device and the imaging device can be reduced, and the cost can be reduced. Become.

また、照明装置1及び撮像装置3を移動させる構成となっていることに伴い、実施例4の場合の検査窓221は、実施例3の場合と比べて水平方向の寸法が大きい。つまり、検査窓221は、照明装置1及び撮像装置3の全走査範囲に亘る寸法とされている。   Further, since the illumination device 1 and the imaging device 3 are configured to move, the inspection window 221 in the fourth embodiment has a larger horizontal dimension than that in the third embodiment. That is, the inspection window 221 has dimensions over the entire scanning range of the illumination device 1 and the imaging device 3.

なお、ガラス基板2は、単に液体容器6の上端の開口に載置するだけでも良いが、本実施例4では、液体容器6の開口には、ガラス基板2の下面を吸着・固定する吸着面401が形成され、ガラス基板2が液体容器6の上端の開口に位置決めされるようになっている。   Note that the glass substrate 2 may simply be placed in the opening at the upper end of the liquid container 6. However, in the fourth embodiment, the suction surface for sucking and fixing the lower surface of the glass substrate 2 to the opening of the liquid container 6. 401 is formed, and the glass substrate 2 is positioned in the opening at the upper end of the liquid container 6.

このため、例えば、検査中にガラス基板2が液体容器6の開口上を滑走し、ガラス基板2の位置がずれてしまうことがない。   For this reason, for example, the glass substrate 2 does not slide on the opening of the liquid container 6 during the inspection, and the position of the glass substrate 2 is not shifted.

なお、吸着面401は、具体的には、例えば、図示していないが、吸引用チューブを通じて吸着パッドが設けられており、吸引によりガラス基板2を固定したり、ガラス基板2を上下からゴムなどの緩衝材を用いて挟み込むことにより固定させる構造となっている。   Specifically, the suction surface 401 is provided with a suction pad through a suction tube, for example, although not shown, to fix the glass substrate 2 by suction or to hold the glass substrate 2 from above and below with rubber or the like. The structure is fixed by sandwiching with a cushioning material.

次に、動作を説明する。   Next, the operation will be described.

ガラス基板2の欠陥を検出するためには、予め、ガラス基板2を液体容器6の上端の開口に載置し、吸着面401上に吸着させて位置決めする。これにより、ガラス基板2の下面を液体5に浸した状態とする。   In order to detect a defect in the glass substrate 2, the glass substrate 2 is previously placed in the opening at the upper end of the liquid container 6, and is adsorbed and positioned on the adsorption surface 401. As a result, the lower surface of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5.

この状態で、照明装置1により照明を行うとともに、照明装置1及び撮像装置3をガラス基板2に沿うように水平方向に移動させながら、撮像装置3によりガラス基板2の画像を取得し、この画像を欠陥検出装置8により解析する。   In this state, the illumination device 1 performs illumination, and the image capture device 3 acquires an image of the glass substrate 2 while moving the illumination device 1 and the image capture device 3 along the glass substrate 2 in the horizontal direction. Are analyzed by the defect detection device 8.

これにより、上記の各実施例と同様に、ガラス基板2の欠陥を検出することができるとともに、ガラス基板2に傷がある場合であっても傷を検出することがなく、パターンの欠陥や異物・汚れなどの検出すべき欠陥のみを検出することができる。   As a result, similar to each of the above embodiments, the defect of the glass substrate 2 can be detected, and even if the glass substrate 2 has a flaw, the flaw is not detected and the defect of the pattern -Only defects that should be detected, such as dirt, can be detected.

以上のような実施例4によれば、上端が開口し、その上端に達するまで液体5を貯留した液体容器6を備え、液体容器6の上端の開口にガラス基板2を載置し該ガラス基板2の下面を液体5に浸した状態で、撮像装置3による撮像を行う構造とされているので、結果的に、上記の実施例3と同様の効果が得られる。   According to the fourth embodiment as described above, the liquid container 6 that stores the liquid 5 until the upper end is opened and reaches the upper end is provided, and the glass substrate 2 is placed on the upper end opening of the liquid container 6. Since the imaging apparatus 3 performs imaging with the lower surface of 2 immersed in the liquid 5, as a result, the same effects as those of the third embodiment can be obtained.

更に、実施例4の場合、ガラス基板2の下面のみを液体5に浸すので、液体5中にガラス基板2の全体を浸す実施例1、2や、ガラス基板2の下部を浸す実施例3と比べてガラス基板2のハンドリングが容易となるという利点がある。   Furthermore, in the case of Example 4, since only the lower surface of the glass substrate 2 is immersed in the liquid 5, Examples 1 and 2 in which the entire glass substrate 2 is immersed in the liquid 5, and Examples 3 in which the lower part of the glass substrate 2 is immersed There is an advantage that handling of the glass substrate 2 becomes easier.

また、実施例4の場合、照明装置1及び撮像装置3を移動させる移動手段(図示略)が必要となるが、この移動手段は液体5に浸す必要がないので、移動手段には防液(防水など)対策が必要ない。また、照明装置1及び撮像装置3をガラス基板2に沿って移動させながら、照明装置1による照明と撮像装置3による撮像とを行うので、照明装置1及び撮像装置3の規模を小さくすることができ、コストダウンが可能となる。   In the case of the fourth embodiment, a moving means (not shown) for moving the illumination device 1 and the imaging device 3 is required. However, since the moving means does not need to be immersed in the liquid 5, the moving means has a liquidproof ( No measures are required. Moreover, since the illumination by the illumination device 1 and the imaging by the imaging device 3 are performed while the illumination device 1 and the imaging device 3 are moved along the glass substrate 2, the scale of the illumination device 1 and the imaging device 3 can be reduced. And cost reduction is possible.

なお、上記の各実施例では、透明基板としてガラス基板2を例示したが、ガラス以外のその他の材質(例えば、樹脂)からなる透明基板であっても良い。   In each of the above embodiments, the glass substrate 2 is exemplified as the transparent substrate. However, a transparent substrate made of a material other than glass (for example, resin) may be used.

従来の透明基板検査装置を示す正面断面図である。It is front sectional drawing which shows the conventional transparent substrate test | inspection apparatus. 実施例1に係るガラス基板検査装置を示す正面図である。1 is a front view showing a glass substrate inspection apparatus according to Example 1. FIG. 図2のガラス基板検査装置の主要なブロック構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the main block structures of the glass substrate test | inspection apparatus of FIG. 実施例2に係るガラス基板検査装置を示す正面図である。It is a front view which shows the glass substrate inspection apparatus which concerns on Example 2. FIG. 実施例3に係るガラス基板検査装置を示す正面図である。It is a front view which shows the glass substrate inspection apparatus which concerns on Example 3. FIG. 実施例4に係るガラス基板検査装置を示す正面図である。It is a front view which shows the glass substrate inspection apparatus which concerns on Example 4. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

100 ガラス基板検査装置(透明基板検査装置)
1 照明装置
2 ガラス基板(透明基板)
3 撮像装置
4 パターン
5 液体
8 欠陥検出装置
81 パターン記憶部
82 比較判定部
200 ガラス基板検査装置(透明基板検査装置)
210 搬送機構
211 ローラ
212a 開口
300 ガラス基板検査装置(透明基板検査装置)
400 ガラス基板検査装置(透明基板検査装置)

100 Glass substrate inspection device (transparent substrate inspection device)
1 Lighting device 2 Glass substrate (transparent substrate)
3 Imaging device 4 Pattern 5 Liquid 8 Defect detection device 81 Pattern storage unit 82 Comparison determination unit 200 Glass substrate inspection device (transparent substrate inspection device)
210 Transport mechanism 211 Roller 212a Opening 300 Glass substrate inspection device (transparent substrate inspection device)
400 Glass substrate inspection device (transparent substrate inspection device)

Claims (11)

板面上にパターンが形成された透明基板の欠陥を検査するための透明基板検査装置において、
前記透明基板に照明光を照射する照明装置と、この照明装置とは前記透明基板を挟んで反対側に配置された撮像装置と、前記透明基板の少なくとも片面を該透明基板と屈折率が近似する液体に浸すとともに、前記透明基板の板面方向を前記照明装置からの照射光の進行方向に対し交差させた状態で、前記透明基板の欠陥を検出する欠陥検出装置と、を備え、前記板面上のパターンは、前記照明光に対して非透過性を有しており、前記撮像装置により撮像された画像に基づき前記透明基板の欠陥を検出することを特徴とする透明基板検査装置。
In a transparent substrate inspection apparatus for inspecting a defect of a transparent substrate in which a pattern is formed on a plate surface,
An illumination device that irradiates the transparent substrate with illumination light, an imaging device disposed on the opposite side of the illumination device, and an index of refraction that approximates at least one surface of the transparent substrate. A defect detection device that detects a defect in the transparent substrate in a state in which the plate surface direction of the transparent substrate intersects the traveling direction of the irradiation light from the illumination device while being immersed in a liquid, and the plate surface The upper pattern is impermeable to the illumination light, and detects a defect of the transparent substrate based on an image picked up by the image pickup device.
前記欠陥検出装置は、前記板面上のパターンを記憶するパターン記憶部と、前記撮像装置により取得した画像と前記パターン記憶部に記憶されたパターンとを比較して、欠陥の有無を判断する比較判定部と、を備えていることを特徴とする請求項1に記載の透明基板検出装置。   The defect detection device compares a pattern storage unit that stores a pattern on the plate surface with an image acquired by the imaging device and a pattern stored in the pattern storage unit to determine the presence or absence of a defect. The transparent substrate detection apparatus according to claim 1, further comprising a determination unit. 前記透明基板の全面を前記液体に浸した状態で前記撮像装置による前記撮像を行う構造とされていることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明基板検査装置。   The transparent substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the imaging is performed by the imaging apparatus in a state where the entire surface of the transparent substrate is immersed in the liquid. 前記液体を貯留した液体容器と、
前記液体容器内の前記液体中に前記透明基板の全面が浸された状態で該透明基板を搬送する搬送機構と、
を更に備え、
前記搬送機構において前記照明装置と前記撮像装置との間に位置する部分には、前記照明装置からの光を前記透明基板に照射可能とさせる開口が形成されていることを特徴とする請求項3に記載の透明基板検査装置。
A liquid container storing the liquid;
A transport mechanism for transporting the transparent substrate in a state where the entire surface of the transparent substrate is immersed in the liquid in the liquid container;
Further comprising
The opening which makes it possible to irradiate the light from the said illuminating device to the said transparent substrate is formed in the part located between the said illuminating device and the said imaging device in the said conveyance mechanism. The transparent substrate inspection apparatus described in 1.
前記透明基板の片面のみを前記液体に浸した状態で前記撮像装置による前記撮像を行う構造とされていることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明基板検査装置。   The transparent substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the imaging is performed by the imaging apparatus in a state where only one surface of the transparent substrate is immersed in the liquid. 前記液体を貯留した液体容器と、
前記液体容器内の前記液体中に前記透明基板の下面が浸された状態で該透明基板を搬送する搬送機構と、
を更に備え、
前記搬送機構において前記照明装置と前記撮像装置との間に位置する部分には、前記照明装置からの光を前記透明基板に照射可能とさせる開口が形成されていることを特徴とする請求項5に記載の透明基板検査装置。
A liquid container storing the liquid;
A transport mechanism for transporting the transparent substrate in a state where the lower surface of the transparent substrate is immersed in the liquid in the liquid container;
Further comprising
6. An opening that allows the light from the illumination device to irradiate the transparent substrate is formed in a portion of the transport mechanism that is positioned between the illumination device and the imaging device. The transparent substrate inspection apparatus described in 1.
前記搬送機構は、前記透明基板を搬送する複数のローラを備えて構成されていることを特徴とする請求項4又は6に記載の透明基板検査装置。   The transparent substrate inspection apparatus according to claim 4, wherein the transport mechanism includes a plurality of rollers that transport the transparent substrate. 上端が開口し、その上端に達するまで前記液体を貯留した液体容器を更に備え、
前記液体容器の上端の開口に前記透明基板を載置し該透明基板の下面を前記液体に浸した状態で、前記撮像装置による前記撮像を行う構造とされていることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明基板検査装置。
Further comprising a liquid container storing the liquid until the upper end is open and reaches the upper end;
2. The structure in which the imaging is performed by the imaging apparatus in a state where the transparent substrate is placed in an opening at an upper end of the liquid container and a lower surface of the transparent substrate is immersed in the liquid. Or the transparent substrate inspection apparatus of 2.
前記照明装置及び前記撮像装置を前記透明基板に沿って移動させながら、前記撮像装置による前記撮像を行うことを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項に記載の透明基板検査装置。   The transparent substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the imaging device performs the imaging while moving the illumination device and the imaging device along the transparent substrate. 板面上にパターンが形成された透明基板の欠陥を検査する方法において、
前記透明基板の少なくとも片面を該透明基板と屈折率が近似する液体に浸す過程と、前記透明基板の板面方向を前記照明装置からの照射光の進行方向に対し交差させた状態で、前記透明基板を照明装置により照射する過程と、前記透明基板を挟んで前記照明装置とは反対側に配置された撮像装置により前記透明基板を撮像する過程と、
前記照明光に対して非透過性を有している前記基板上のパターンを前記撮像装置により撮像して得られる画像に基づき欠陥検出装置に記憶されているパターンと比較して前記透明基板の欠陥を検出する過程と、
を備えることを特徴とする透明基板検査方法。
In a method for inspecting a defect of a transparent substrate having a pattern formed on a plate surface,
The transparent substrate in a state where at least one surface of the transparent substrate is immersed in a liquid having a refractive index approximate to that of the transparent substrate, and the plate surface direction of the transparent substrate intersects the traveling direction of the irradiation light from the illumination device. A process of irradiating the substrate with an illuminating device, a process of imaging the transparent substrate with an imaging device disposed on the opposite side of the illuminating device across the transparent substrate,
The defect of the transparent substrate is compared with the pattern stored in the defect detection device based on the image obtained by imaging the pattern on the substrate that is impermeable to the illumination light by the imaging device. The process of detecting
A transparent substrate inspection method comprising:
請求項10に記載の透明基板検査方法によって欠陥が検査された前記透明基板を具備したことを特徴とする平面型表示パネル。

A flat display panel comprising the transparent substrate, the defect being inspected by the transparent substrate inspection method according to claim 10.

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