JP2006344747A - 面光源制御装置および面光源制御方法 - Google Patents
面光源制御装置および面光源制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006344747A JP2006344747A JP2005168599A JP2005168599A JP2006344747A JP 2006344747 A JP2006344747 A JP 2006344747A JP 2005168599 A JP2005168599 A JP 2005168599A JP 2005168599 A JP2005168599 A JP 2005168599A JP 2006344747 A JP2006344747 A JP 2006344747A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- exposure
- point light
- illuminance
- emission level
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 82
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 45
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000010485 coping Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/72—Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus
Abstract
【解決手段】 直接露光装置のための面光源制御装置は、露光面に相当する位置における各点光源の照度分布特性の傾向が類似するグループごとに予めグループ分けされてある各点光源について、投影素子に入射された光が全て露光面の方向に反射される状態において、露光対象物の露光面に相当する位置における照度分布が均一となるような各点光源の発光レベルを、当該点光源が属するグループごとに決定する発光レベル決定手段を備え、この発光レベル決定手段は、同一のグループに属する点光源については、同一の発光レベルとなるように決定する。
【選択図】 図1
Description
2 面光源
3 露光対象基板
3’ 露光対象基板の露光面に相当する位置
4 演算処理部
5 センサ部
6 液晶パネル
7 レンズ
8 ランプ
11 レーザダイオード
12 光ファイバ
Claims (10)
- 複数の点光源が配列されて構成される面光源が発する光を、露光パターンを発生するための投影素子に入射し、該投影素子において反射した光を、該投影素子に対して相対移動する露光対象物の露光面上に照射することで、前記露光面上に所望の露光パターンを形成する直接露光装置のための面光源制御装置であって、
前記露光面に相当する位置における各前記点光源の照度分布特性の傾向が類似するグループごとに予めグループ分けされてある各前記点光源について、前記投影素子に入射された光が前記露光面の方向に全て反射される状態において、露光対象物の露光面に相当する位置における照度分布が均一となるような各前記点光源の発光レベルを、当該点光源が属する前記グループごとに決定する発光レベル決定手段を備えることを特徴とする面光源制御装置。 - 前記発光レベル決定手段は、同一の前記グループに属する前記点光源については、同一の発光レベルとなるように決定する請求項1に記載の面光源制御装置。
- 前記投影素子に入射された光が前記露光面の方向に全て反射される状態において、各前記点光源を1つずつ点灯したときの露光対象物の露光面に相当する位置における照度分布を、前記点光源ごとに計測する計測手段と、
前記点光源ごとに計測した各前記照度分布に基づいて当該点光源に係る光の照度を前記の相対移動の方向に沿って積算することで、前記の相対移動の方向と直交する方向に関する照度積算値分布を、前記点光源ごとに算出する積算手段と、
各前記点光源の前記照度積算値分布の傾向の類似性を判別する判別手段と、
を備え、
前記判別手段において前記照度積算値分布の傾向が類似すると判定された場合を、当該点光源の前記照度分布特性の傾向が類似するものと判断し、これら点光源を同一のグループに属するようグループ分けする請求項1または2に記載の面光源制御装置。 - 前記判別手段は、各前記点光源の前記照度積算値分布同士の相関係数に基づいて前記照度積算値分布の傾向の類似性を判別する請求項3に記載の面光源制御装置。
- 前記発光レベル決定手段は、前記投影素子に入射された光が前記露光面の方向に全て反射される状態において、前記グループごとの前記照度積算値分布に基づいて、前記露光対象物の露光面に相当する位置における照度分布が均一となる各前記点光源の発光レベルを、当該点光源が属する前記グループごとに決定する請求項3に記載の面光源制御装置。
- 複数の点光源が配列されて構成される面光源が発する光を、露光パターンを発生するための投影素子に入射し、該投影素子において反射した光を、該投影素子に対して相対移動する露光対象物の露光面上に照射することで、前記露光面上に所望の露光パターンを形成する直接露光装置のための面光源制御方法であって、
前記投影素子に入射された光が前記露光面の方向に全て反射される状態において、前記露光面に相当する位置における各前記点光源の照度分布特性の傾向が類似するグループごとに、各前記点光源をグループ分けするグループ分けステップと、
前記投影素子に入射された光が前記露光面の方向に全て反射される状態において、露光対象物の露光面に相当する位置における照度分布が均一となるような各前記点光源の発光レベルを、当該点光源が属する前記グループごとに決定する発光レベル決定ステップと、
を備えることを特徴とする面光源制御方法。 - 前記発光レベル決定ステップは、同一の前記グループに属する前記点光源については、同一の発光レベルとなるように決定する請求項6に記載の面光源制御方法。
- 前記グループ分けステップは、
前記投影素子に入射された光が前記露光面の方向に全て反射される状態において、各前記点光源を1つずつ点灯したときの露光対象物の露光面に相当する位置における照度分布を、前記点光源ごとに計測する計測ステップと、
前記点光源ごとに計測した各前記照度分布に基づいて当該点光源に係る光の照度を前記の相対移動の方向に沿って積算することで、前記の相対移動の方向と直交する方向に関する照度積算値分布を、前記点光源ごとに算出する積算ステップと、
各前記点光源の前記照度積算値分布の傾向の類似性を判別する判別ステップと、
を備え、
前記判別ステップにおいて前記照度積算値分布の傾向が類似すると判定された場合を、当該点光源の前記照度分布特性の傾向が類似するものと判断し、これら点光源を同一のグループに属するようグループ分けする請求項6または7に記載の面光源制御方法。 - 前記判別ステップは、各前記点光源の前記照度積算値分布同士の相関係数に基づいて前記照度積算値分布の傾向の類似性を判別する請求項8に記載の面光源制御方法。
- 前記発光レベル決定ステップは、前記投影素子に入射された光が前記露光面の方向に全て反射される状態において、前記グループごとの前記照度積算値分布に基づいて、前記露光対象物の露光面に相当する位置における照度分布が均一となる各前記点光源の発光レベルを、当該点光源が属する前記グループごとに決定する請求項8に記載の面光源制御方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005168599A JP4771753B2 (ja) | 2005-06-08 | 2005-06-08 | 面光源制御装置および面光源制御方法 |
US11/449,352 US7508492B2 (en) | 2005-06-08 | 2006-06-08 | Surface light source control apparatus and surface light source control method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005168599A JP4771753B2 (ja) | 2005-06-08 | 2005-06-08 | 面光源制御装置および面光源制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006344747A true JP2006344747A (ja) | 2006-12-21 |
JP4771753B2 JP4771753B2 (ja) | 2011-09-14 |
Family
ID=37523800
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005168599A Expired - Fee Related JP4771753B2 (ja) | 2005-06-08 | 2005-06-08 | 面光源制御装置および面光源制御方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7508492B2 (ja) |
JP (1) | JP4771753B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009117812A (ja) * | 2007-10-16 | 2009-05-28 | Nikon Corp | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2009135425A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-06-18 | Asml Netherlands Bv | エンティティの測定値間の類似性を特徴付ける方法、コンピュータプログラムおよびデータキャリア |
JP2010220025A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像読取装置および画像形成装置 |
JP2012119420A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Ushio Inc | 光照射装置 |
JP2012182281A (ja) * | 2011-03-01 | 2012-09-20 | Ushio Inc | 光照射装置 |
WO2014002312A1 (ja) * | 2012-06-26 | 2014-01-03 | 大日本スクリーン製造株式会社 | パターン描画装置、パターン描画方法 |
KR101408516B1 (ko) * | 2010-11-30 | 2014-06-17 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 광 조사 장치 |
US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8451427B2 (en) | 2007-09-14 | 2013-05-28 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method |
US7889318B2 (en) * | 2007-09-19 | 2011-02-15 | Asml Netherlands B.V. | Methods of characterizing similarity between measurements on entities, computer programs product and data carrier |
KR101546987B1 (ko) | 2007-10-16 | 2015-08-24 | 가부시키가이샤 니콘 | 조명 광학 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
WO2009145048A1 (ja) | 2008-05-28 | 2009-12-03 | 株式会社ニコン | 空間光変調器の検査装置および検査方法、照明光学系、照明光学系の調整方法、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2010161719A (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-22 | Nec Engineering Ltd | 画像読取装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09326761A (ja) * | 1996-06-05 | 1997-12-16 | Hamamatsu Photonics Kk | 空間光伝送装置及び方法 |
JPH09330611A (ja) * | 1996-06-11 | 1997-12-22 | Canon Inc | 画像読取装置及び光源ユニット |
JP2001135562A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-05-18 | Hitachi Ltd | リソグラフィ装置 |
JP2004228548A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-08-12 | Nikon Corp | 照明装置、露光装置及び露光方法 |
JP2004335953A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-11-25 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10112579A (ja) | 1996-10-07 | 1998-04-28 | M S Tec:Kk | レジスト露光方法及びその露光装置 |
JP2002367900A (ja) | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Yaskawa Electric Corp | 露光装置および露光方法 |
TW554411B (en) * | 2001-08-23 | 2003-09-21 | Nikon Corp | Exposure apparatus |
JP4235972B2 (ja) | 2002-08-29 | 2009-03-11 | 株式会社オーク製作所 | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
-
2005
- 2005-06-08 JP JP2005168599A patent/JP4771753B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-06-08 US US11/449,352 patent/US7508492B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09326761A (ja) * | 1996-06-05 | 1997-12-16 | Hamamatsu Photonics Kk | 空間光伝送装置及び方法 |
JPH09330611A (ja) * | 1996-06-11 | 1997-12-22 | Canon Inc | 画像読取装置及び光源ユニット |
JP2001135562A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-05-18 | Hitachi Ltd | リソグラフィ装置 |
JP2004335953A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-11-25 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2004228548A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-08-12 | Nikon Corp | 照明装置、露光装置及び露光方法 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009135425A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-06-18 | Asml Netherlands Bv | エンティティの測定値間の類似性を特徴付ける方法、コンピュータプログラムおよびデータキャリア |
US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
KR101562073B1 (ko) * | 2007-10-16 | 2015-10-21 | 가부시키가이샤 니콘 | 조명 광학 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
JP2009117812A (ja) * | 2007-10-16 | 2009-05-28 | Nikon Corp | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2010220025A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像読取装置および画像形成装置 |
JP2012119420A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Ushio Inc | 光照射装置 |
KR101408516B1 (ko) * | 2010-11-30 | 2014-06-17 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 광 조사 장치 |
JP2012182281A (ja) * | 2011-03-01 | 2012-09-20 | Ushio Inc | 光照射装置 |
TWI479279B (zh) * | 2012-06-26 | 2015-04-01 | Screen Holdings Co Ltd | 圖案描繪裝置、圖案描繪方法 |
JP2014006433A (ja) * | 2012-06-26 | 2014-01-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置 |
WO2014002312A1 (ja) * | 2012-06-26 | 2014-01-03 | 大日本スクリーン製造株式会社 | パターン描画装置、パターン描画方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7508492B2 (en) | 2009-03-24 |
JP4771753B2 (ja) | 2011-09-14 |
US20060279720A1 (en) | 2006-12-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4771753B2 (ja) | 面光源制御装置および面光源制御方法 | |
JP4942301B2 (ja) | 直接露光装置および直接露光方法 | |
KR100666383B1 (ko) | 포토리소그래피 시스템에서의 선폭의 변화를 보상하는, 공간적으로 제어 가능한 부분 간섭성을 갖는 광조사 시스템 | |
US8029954B2 (en) | Exposure method and memory medium storing computer program | |
JP2007140166A (ja) | 直接露光装置および照度調整方法 | |
CN1737691A (zh) | 光刻设备和器件制造方法 | |
JP2009065204A (ja) | 基板を露光する方法およびリソグラフィ投影装置 | |
JP2009147370A (ja) | 複数の位置調整装置を備えるリソグラフィ装置、及び位置調整測定方法 | |
KR20070114024A (ko) | 화상 기록 방법 및 화상 기록 장치 | |
US7508489B2 (en) | Method of manufacturing a miniaturized device | |
TW201335719A (zh) | 曝光裝置及曝光方法 | |
KR102478399B1 (ko) | 노광 장치, 노광 방법 및 물품 제조 방법 | |
TWI688830B (zh) | 曝光裝置及曝光方法 | |
TW202220029A (zh) | 將一光敏層曝光之裝置及方法 | |
TW200910018A (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing device | |
CN1975579A (zh) | 光刻装置和补偿中间掩模版引入的cdu的器件制造方法 | |
JP2016524182A (ja) | 基板内に構造を作製するためのシステム | |
JP2016524182A5 (ja) | ||
JP2008283178A (ja) | リソグラフィ装置および方法 | |
US20230367230A1 (en) | Exposure apparatus | |
US8462316B2 (en) | Exposure apparatus, method of controlling the same, and device manufacturing method | |
US11351722B2 (en) | Stereolithography device and method for adjusting a stereolithography device | |
CN111090216B (zh) | 确定引入光刻掩模基板中的多个像素的位置的方法和装置 | |
TWI719001B (zh) | 預測用於評估照明一投影曝光裝置中一物場的一照明設定的至少一照明參數的方法及最佳化用於照明一投影曝光裝置中一物場的一照明設定之方法 | |
JP2010021211A (ja) | 走査露光装置及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080213 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100617 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100629 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100830 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101214 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110207 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110524 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110621 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140701 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |