JP2006342102A - Method for preparing aryl or heteroaryl compound - Google Patents

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Shigeyoshi Nishino
繁栄 西野
Hideyoshi Shima
秀好 島
Hiroyuki Oda
広行 小田
Naoko Okada
尚子 岡田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for preparing an industrially suitable aryl or heteroaryl compound which enables a high yield production of an aryl compound from a 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound under mild conditions without requiring complicated operations. <P>SOLUTION: The method for preparing the aryl or heteroaryl compound comprises subjecting the 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound to decarboxylation reaction in the presence of a base. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物からアリール化合物を製造する方法に関する。アリール又はヘテロアリール化合物は、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。   The present invention relates to a method for producing an aryl compound from a 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound. An aryl or heteroaryl compound is a compound useful as a raw material for pharmaceuticals and agricultural chemicals, or a synthetic intermediate.

従来、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物からアリール又はヘテロアリール化合物を製造する方法としては、例えば、塩化マグネシウムの存在下、2-(2-クロロ-4-ニトロフェニル)-2-メチルマロン酸ジエチルを、N,N-ジメチルアセトアミド中、140〜150℃で脱炭酸反応させて、2-クロロ-4-ニトロエチルベンゼンを収率72%で得る方法(例えば、非特許文献1参照)、塩化ナトリウムの存在下、2-(2-クロロ-4-ニトロフェニル)-2-ベンジルマロン酸ジエチルを、ジメチルスルホキシドと水の混合溶媒中、155℃で脱炭酸反応させて、2-クロロ-4-ニトロビベンジルを収率85%で得る方法(例えば、非特許文献2参照)が開示されている。しかしながら、この方法では、反応温度が高い上に、反応装置に対する腐食性が高い塩素化合物を使用しなければならず、アリール又はヘテロアリール化合物の工業的な製法としては不利であった。
Synthesis,12,1659(2000) Tetrahedron Lett.,42,8395(2001)
Conventionally, as a method for producing an aryl or heteroaryl compound from a 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound, for example, 2- (2-chloro-4-nitrophenyl) -2-methylmalonic acid in the presence of magnesium chloride A method in which diethyl is decarboxylated in N, N-dimethylacetamide at 140 to 150 ° C. to obtain 2-chloro-4-nitroethylbenzene in a yield of 72% (for example, see Non-Patent Document 1), sodium chloride 2- (2-chloro-4-nitrophenyl) -2-benzylmalonate was decarboxylated in a mixed solvent of dimethyl sulfoxide and water at 155 ° C. to give 2-chloro-4-nitro A method for obtaining bibenzyl in a yield of 85% (for example, see Non-Patent Document 2) is disclosed. However, in this method, a chlorine compound having a high reaction temperature and high corrosiveness to the reaction apparatus must be used, which is disadvantageous as an industrial method for producing an aryl or heteroaryl compound.
Synthesis, 12, 1659 (2000) Tetrahedron Lett., 42,8395 (2001)

本発明の課題は、即ち、上記問題点を解決し、温和な条件下、繁雑な操作を必要とすることなく、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物からアリール化合物を高収率で製造することが出来る、工業的に好適なアリール又はヘテロアリール化合物の製法を提供することにある。   The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to produce an aryl compound from 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound in high yield without requiring complicated operation under mild conditions. It is an object to provide an industrially suitable process for producing an aryl or heteroaryl compound.

塩基の存在下、一般式(1)   In the presence of a base, general formula (1)

Figure 2006342102
Figure 2006342102

(式中、Arは、置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基、Rは、水素原子又は置換基を有していても良い炭化水素基、R及びRは、同一又は異なっていても良く、水素原子又は炭化水素基を示す。)
で示される2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物を脱炭酸反応させることを特徴とする、一般式(2)
(In the formula, Ar is an aryl group or heteroaryl group which may have a substituent, R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent, R 2 and R 3 are (It may be the same or different and represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.)
A 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound represented by the general formula (2)

Figure 2006342102
Figure 2006342102

(式中、Ar及びRは、前記と同義である。)
で示されるアリール又はヘテロアリール化合物の製法によって解決される。
(In the formula, Ar and R 1 are as defined above.)
It is solved by the process for producing an aryl or heteroaryl compound represented by

本発明により、温和な条件下、繁雑な操作を必要とすることなく、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物からアリール又はヘテロアリール化合物を高収率で製造することが出来る、工業的に好適なアリール又はヘテロアリール化合物の製法を提供することが出来る。   According to the present invention, an aryl or heteroaryl compound can be produced in a high yield from a 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound without requiring a complicated operation under mild conditions. A process for producing an aryl or heteroaryl compound can be provided.

本発明の脱炭酸反応において使用する2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物は、前記の一般式(1)で示される。その一般式(1)において、Arは、置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基であり、アリール基としては、例えば、フェニル基、p-トリル基、ナフチル基、アントリル基等;ヘテロアリール基としては、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、ピリジル基、キノリニル基、カルバゾリル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。   The 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound used in the decarboxylation reaction of the present invention is represented by the general formula (1). In the general formula (1), Ar is an aryl group or heteroaryl group which may have a substituent, and examples of the aryl group include a phenyl group, a p-tolyl group, a naphthyl group, and an anthryl group. The heteroaryl group includes, for example, a furyl group, a thienyl group, a pyrrolyl group, an oxazolyl group, a pyridyl group, a quinolinyl group, and a carbazolyl group. These groups include various isomers.

前記のアリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していても良い。その置換基としては、炭素原子を介して出来る置換基、酸素原子を介して出来る置換基、窒素原子を介して出来る置換基、硫黄原子を介して出来る置換基、ハロゲン原子等が挙げられる。   The aryl group or heteroaryl group may have a substituent. Examples of the substituent include a substituent formed through a carbon atom, a substituent formed through an oxygen atom, a substituent formed through a nitrogen atom, a substituent formed through a sulfur atom, and a halogen atom.

前記炭素原子を介して出来る置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基;ビニル基、アリル基、プロペニル基、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基等のアルケニル基;キノリル基、ピリジル基、ピロリジル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基等の複素環基;フェニル基、トリル基、フルオロフェニル基、キシリル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等のアリール基;アセチル基、プロピオニル基、アクリロイル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、トルオイル基等のアシル基(アセタール化されていても良い);カルボキシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基(なお、アルコキシカルボニル基は、本発明の脱炭酸反応中に加水分解されてカルボキシル基になっても構わない);フェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基(なお、アリールオキシカルボニル基は、本発明の脱炭酸反応中に加水分解されてカルボキシル基になっても構わない);トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基;シアノ基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。   Examples of the substituent formed through the carbon atom include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group; a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclo group. Cycloalkyl groups such as heptyl group; Alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, propenyl group, cyclopropenyl group, cyclobutenyl group, cyclopentenyl group; quinolyl group, pyridyl group, pyrrolidyl group, pyrrolyl group, furyl group, thienyl group, etc. An aryl group such as phenyl group, tolyl group, fluorophenyl group, xylyl group, biphenylyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group; acetyl group, propionyl group, acryloyl group, pivaloyl group, cyclohexylcarbonyl group, Benzoyl group, naphthoyl Group, an acyl group such as toluoyl group (may be acetalized); a carboxyl group; an alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group or an ethoxycarbonyl group (the alkoxycarbonyl group is added during the decarboxylation reaction of the present invention). An aryloxycarbonyl group such as a phenoxycarbonyl group (note that an aryloxycarbonyl group may be hydrolyzed to a carboxyl group during the decarboxylation reaction of the present invention). A halogenated alkyl group such as a trifluoromethyl group; a cyano group. These groups include various isomers.

前記酸素原子を介して出来る置換基としては、例えば、ヒドロキシル基;メトキシル基、エトキシル基、プロポキシル基、ブトキシル基、ペンチルオキシル基、ヘキシルオキシル基、ヘプチルオキシル基、ベンジルオキシル基等のアルコキシル基;フェノキシル基、トルイルオキシル基、ナフチルオキシル基等のアリールオキシル基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。   Examples of the substituent formed through the oxygen atom include a hydroxyl group; an alkoxyl group such as a methoxyl group, an ethoxyl group, a propoxyl group, a butoxyl group, a pentyloxyl group, a hexyloxyl group, a heptyloxyl group, and a benzyloxyl group; Aryloxyl groups such as phenoxyl group, toluyloxyl group, naphthyloxyl group and the like can be mentioned. These groups include various isomers.

前記窒素原子を介して出来る置換基としては、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロへキシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基等の第一アミノ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、メチルブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、N-メチル-N-メタンスルホニルアミノ基等の第二アミノ基;モルホリノ基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、ピラゾリジニル基、ピロリジノ基、インドリル基等の複素環式アミノ基;イミノ基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。   Examples of the substituent formed through the nitrogen atom include a primary amino group such as a methylamino group, an ethylamino group, a propylamino group, a butylamino group, a cyclohexylamino group, a phenylamino group, and a naphthylamino group; Secondary amino groups such as amino group, diethylamino group, dipropylamino group, dibutylamino group, methylethylamino group, methylpropylamino group, methylbutylamino group, diphenylamino group, N-methyl-N-methanesulfonylamino group A morpholino group, a piperidino group, a piperazinyl group, a pyrazolidinyl group, a pyrrolidino group, an indolyl group or the like; an imino group; These groups include various isomers.

前記硫黄原子を介して出来る置換基としては、例えば、メルカプト基;チオメトキシル基、チオエトキシル基、チオプロポキシル基等のチオアルコキシル基;チオフェノキシル基、チオトルイルオキシル基、チオナフチルオキシル基等のチオアリールオキシル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。   Examples of the substituent formed through the sulfur atom include a mercapto group; a thioalkoxyl group such as a thiomethoxyl group, a thioethoxyl group, and a thiopropoxyl group; a thiophenoxyl group, a thiotoluyloxyl group, and a thionaphthyloxyl group. Thioaryloxyl group and the like. These groups include various isomers.

前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。   Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

は、水素原子又は置換基を有していても良い炭化水素基を示すが、炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基;フェニル基、p-トリル基、ナフチル基、アントリル基等のアリール基が挙げられるが、好ましくはベンジル基である。なお、これらの基は、各種異性体を含む。又、炭化水素上の置換基としては、Arで定義したものと同義である。 R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent. Examples of the hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a heptyl group. Group, octyl group, nonyl group, decyl group and other alkyl groups; cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group and other cycloalkyl groups; benzyl group, phenethyl group, phenylpropyl group An aryl group such as a phenyl group, a p-tolyl group, a naphthyl group, and an anthryl group, and a benzyl group is preferable. These groups include various isomers. Further, the substituent on the hydrocarbon has the same definition as that defined for Ar.

又、R及びRは、同一又は異なっていても良く、水素原子又は炭化水素基を示すが、炭化水素基としては、Rで定義したものと同義である。 R 2 and R 3 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and the hydrocarbon group has the same definition as that defined for R 1 .

本発明の反応で使用する塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩;ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムt-ブトキシド、カリウムt-ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド等のアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。これらの塩基は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。   Examples of the base used in the reaction of the present invention include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkalis such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate Metal hydrogen carbonate; alkali metal alkoxides such as alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide, sodium t-butoxide, potassium t-butoxide and the like. These bases may be used alone or in combination of two or more.

前記塩基の使用量は、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物1モルに対して、好ましくは0.1〜20モル、更に好ましくは0.5〜10モルである。   The amount of the base used is preferably 0.1 to 20 mol, more preferably 0.5 to 10 mol, per 1 mol of the 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound.

本発明の脱炭酸反応は、溶媒の存在下で行うのが望ましく、使用される溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されないが、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、t-ブチルアルコール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;N,N'-ジメチルイミダゾリジノン等の尿素類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;スルホラン等のスルホン類;アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。   The decarboxylation reaction of the present invention is preferably carried out in the presence of a solvent, and the solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, water; methanol, ethanol, isopropyl alcohol, t- Alcohols such as butyl alcohol; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone; N, N′-dimethylimidazolide Ureas such as non; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; sulfones such as sulfolane; nitriles such as acetonitrile and propionitrile; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran and dioxane; benzene, toluene, xylene and the like Aromatic hydrocarbons . In addition, you may use these organic solvents individually or in mixture of 2 or more types.

前記溶媒の使用量は、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物1gに対して、好ましくは0.5〜100ml、更に好ましくは1〜50mlである。   The amount of the solvent to be used is preferably 0.5 to 100 ml, more preferably 1 to 50 ml, with respect to 1 g of the 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound.

本発明の脱炭酸反応は、例えば、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物、塩基及び溶媒を混合して、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは10〜200℃、更に好ましくは20〜120℃であり、反応圧力は特に制限されない。   The decarboxylation reaction of the present invention is carried out, for example, by a method of mixing a 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound, a base and a solvent and reacting them with stirring. The reaction temperature at that time is preferably 10 to 200 ° C., more preferably 20 to 120 ° C., and the reaction pressure is not particularly limited.

本発明の脱炭酸反応によってアリール又はヘテロアリール化合物が得られるが、これは、反応終了後、例えば、中和、抽出、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な製法によって単離・精製される。   An aryl or heteroaryl compound is obtained by the decarboxylation reaction of the present invention, and this is generally performed after completion of the reaction, for example, neutralization, extraction, filtration, concentration, distillation, recrystallization, crystallization, column chromatography, etc. It is isolated and purified by a simple manufacturing method.

次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。   Next, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited thereto.

実施例1(4-ニトロビベンジルの合成)
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積20mlのガラス製容器に、2-ベンジル-2-(4-ニトロフェニル)マロン酸ジエチル1.0g(2.69mmol)、4mol/l水酸化ナトリウム水溶液2.36ml(9.44mmol)及びジメチルスルホキシド5mlを加え、攪拌しながら80℃で2時間反応させた。反応終了後、6mol/l塩酸3.14ml(18.9mmol)を加えた後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を濃縮した。次いで、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製(展開溶媒;ヘキサン/酢酸エチル=9/1)し、黄色結晶として、4-ニトロビベンジル0.28gを得た(単離収率;46%)。
4-ニトロビベンジルの物性値は以下の通りであった。
Example 1 (Synthesis of 4-nitrobibenzyl)
In a glass container having an internal volume of 20 ml equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser, 1.0 g (2.69 mmol) of diethyl 2-benzyl-2- (4-nitrophenyl) malonate, 4 mol / l sodium hydroxide aqueous solution 2.36 ml (9.44 mmol) and 5 ml of dimethyl sulfoxide were added and reacted at 80 ° C. for 2 hours with stirring. After completion of the reaction, 6.14 ml (18.9 mmol) of 6 mol / l hydrochloric acid was added, followed by extraction with ethyl acetate, and the extract was concentrated. Subsequently, the concentrate was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; hexane / ethyl acetate = 9/1) to obtain 0.28 g of 4-nitrobibenzyl as yellow crystals (isolated yield; 46%).
The physical properties of 4-nitrobibenzyl were as follows.

CI-MS;228(M+1)
1H−NMR(CDCl3,δ(ppm));2.91〜3.06(4H,m)、7.11〜7.14(2H,m)、7.18〜7.30(5H,m)、8.09〜8.14(2H,m)
CI-MS; 228 (M + 1)
1 H-NMR (CDCl 3 , δ (ppm)); 2.91 to 3.06 (4H, m), 7.11 to 7.14 (2H, m), 7.18 to 7.30 (5H, m), 8.09 to 8.14 (2H, m)

本発明は、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物からアリール化合物を製造する方法に関する。アリール又はヘテロアリール化合物は、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。   The present invention relates to a method for producing an aryl compound from a 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound. An aryl or heteroaryl compound is a compound useful as a raw material for pharmaceuticals and agricultural chemicals, or a synthetic intermediate.

Claims (4)

塩基の存在下、一般式(1)
Figure 2006342102
(式中、Arは、置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基、Rは、水素原子又は置換基を有していても良い炭化水素基、R及びRは、同一又は異なっていても良く、水素原子又は炭化水素基を示す。)
で示される2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物を脱炭酸反応させることを特徴とする、一般式(2)
Figure 2006342102
(式中、Ar及びRは、前記と同義である。)
で示されるアリール又はヘテロアリール化合物の製法。
In the presence of a base, general formula (1)
Figure 2006342102
(In the formula, Ar is an aryl group or heteroaryl group which may have a substituent, R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent, R 2 and R 3 are (It may be the same or different and represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.)
A 2-aryl or heteroaryl malonic acid compound represented by the general formula (2)
Figure 2006342102
(In the formula, Ar and R 1 are as defined above.)
The manufacturing method of the aryl or heteroaryl compound shown by these.
脱炭酸反応を溶媒中で行う請求項1記載のアリール又はヘテロアリール化合物の製法。   The process for producing an aryl or heteroaryl compound according to claim 1, wherein the decarboxylation reaction is carried out in a solvent. 反応温度が20〜120℃である請求項1記載のアリール又はヘテロアリール化合物の製法。   The process for producing an aryl or heteroaryl compound according to claim 1, wherein the reaction temperature is 20 to 120 ° C. が置換基を有していても良いベンジル基である請求項1記載のアリール又はヘテロアリール化合物の製法。 The method for producing an aryl or heteroaryl compound according to claim 1, wherein R 1 is a benzyl group which may have a substituent.
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