JP2006341194A - Impurity removal apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は,気液接触によって処理空気中の可溶性ガスを吸収除去する不純物除去装置に関するものである。 The present invention relates to an impurity removal apparatus that absorbs and removes soluble gas in processing air by gas-liquid contact.
従来から,可溶性ガスを気液接触によって除去する方法には以下のようなものが提案されている。
(1)処理空気に直接水を噴霧することで,噴霧水滴との気液接触を行いガスを噴霧水中に吸収除去する方法(特許文献1参照)。この方法においては,噴霧水は,処理風洞内の下流に設置されたエリミネータによって捕獲除去され回収されるようになっている。
(2)気液接触面積をより大きくする目的で通気性のある充填材を上記(1)の方法に追加した方式(特許文献2参照)。これは,上記(1)の方法より,確実に気液接触面積を大きくできることから装置のコンパクト化が可能な手段である。ただし,本方式においても,充填材からの水滴の飛撒があるため,下流側へのエリミネータの設置は必須である。
(3)上記(2)の方式をさらにコンパクト化する方式として,金属性ハニカムを充填材として使用し,圧力損失の低減を図った方法(特許文献3参照)。この方法においては,充填材の上部から直配給水することで水の噴霧部分をなくし,装置のさらなるコンパクト化が可能になっている。ただし,充填材からの水滴の飛撒があるため,下流側へのエリミネータの設置は必須である。
(4)上記(3)の方式をさらにコンパクト化する方法として,気液接触目的で使用していた充填材を用いず,エリミネータ自体に気液接触の機能を持たせた方式がある(特許文献4参照)。親水性の素材で構成されたエリミネータを採用することで,エリミネータ表面に水膜を形成しガスを吸収除去,さらに本構造体自身がエリミネータ機能を有しているために飛散水は防止できるというものである。
Conventionally, the following methods for removing soluble gas by gas-liquid contact have been proposed.
(1) A method of absorbing and removing gas in spray water by performing gas-liquid contact with spray water droplets by spraying water directly onto the treated air (see Patent Document 1). In this method, the spray water is captured and recovered by an eliminator installed downstream in the processing wind tunnel.
(2) A method in which an air-permeable filler is added to the method (1) for the purpose of increasing the gas-liquid contact area (see Patent Document 2). This is a means capable of making the apparatus compact because the gas-liquid contact area can be surely increased as compared with the method (1). However, even in this method, there is a drop of water droplets from the filler, so it is essential to install an eliminator downstream.
(3) A method for further reducing the pressure loss by using a metallic honeycomb as a filler as a method for further compacting the method (2) (see Patent Document 3). In this method, by directly distributing water from the upper part of the filler, the water spray portion is eliminated, and the apparatus can be made more compact. However, because there is a drop of water droplets from the filler, it is essential to install an eliminator downstream.
(4) As a method for further reducing the method of (3) above, there is a method in which the eliminator itself has a function of gas-liquid contact without using the filler used for the purpose of gas-liquid contact (Patent Literature). 4). By adopting an eliminator made of a hydrophilic material, a water film is formed on the surface of the eliminator to absorb and remove gas. Furthermore, since the structure itself has an eliminator function, splash water can be prevented. It is.
ところで気液接触法によって,気中に存在する可溶性ガスの除去においては次のような要件が満足される必要がある。
まず絶対必要な機能としては,気液接触面積×接触時間をより大きくすることでガス吸収率を高くできること。処理エリア下流側への水滴の飛散を防止できること。また望ましい機能及び性能としては,送風圧力損失が低いこと。そして給水量(循環水量)がなるべく少ないことが挙げられる。
By the way, in the removal of the soluble gas present in the air by the gas-liquid contact method, the following requirements must be satisfied.
First, as an absolutely necessary function, the gas absorption rate can be increased by increasing the gas-liquid contact area x contact time. It is possible to prevent water droplets from scattering to the downstream side of the treatment area. As a desirable function and performance, air pressure loss is low. And it is mentioned that there is as little water supply amount (circulation water amount) as possible.
以上の条件に照らして前記した従来技術を検討すると,まず特開2002−035524号公報に開示された技術では,気液接触面積×処理時間を大きくするためには,装置は大型でかつ循環水量も多くなるという問題があり,設置スペースの制約,装置コスト削減,運転コスト・エネルギー削減の要求が強くなるに従い,かかる技術を採用するのは難しくなっている。
また特開2002−005474号公報,特開2003−222363号公報に開示された技術では,充填材の採用によって循環水量の削減は達成できるが,下流側に水滴飛散防止のエリミネータを別途設置する必要があり,コンパクト化に限界がある。
そして特開平09−239224号公報においては,気液接触機能を全てエリミネータに持たせているために,圧力損失の削減に限界がある。なぜならば,エリミネータは原理的に慣性衝突により飛散水滴を捕獲するために,通風抵抗が単なる充填材に比べて高いからである。
Considering the above prior art in view of the above conditions, first, in the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-035524, in order to increase the gas-liquid contact area × treatment time, the apparatus is large and the amount of circulating water is large. As the demands for installation space constraints, equipment cost reduction, operation cost and energy reduction increase, it is difficult to adopt such technology.
Further, in the techniques disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2002-005474 and 2003-222363, the amount of circulating water can be reduced by using a filler. However, it is necessary to separately install an eliminator for preventing water droplet scattering on the downstream side. There is a limit to downsizing.
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-239224, since the eliminator has all the gas-liquid contact function, there is a limit to the reduction of pressure loss. This is because the eliminator, in principle, captures scattered water droplets by inertial collision, and therefore has a higher ventilation resistance than a simple filler.
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり,気液接触によって可溶性ガスを処理空気から除去するための装置において,従来よりもコンパクト化,圧力損失の低減を可能にすることを目的とする。 The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to make the apparatus more compact and reduce pressure loss than before in a device for removing soluble gas from processing air by gas-liquid contact. .
前記目的を達成するため,本発明の不純物除去装置においては,処理空気をその内部で上流から下流に流通させることが可能なチャンバ内に,上流側に親水性素材からなる気液接触材を有し,下流側に親水性エリミネータを有する処理部と,前記気液接触材に水を供給する給水部とを有し,さらに前記気液接触材に供給された水の一部が,当該気液接触材を経由して前記親水性エリミネータに供給されるように構成されている。 In order to achieve the above object, the impurity removing apparatus of the present invention has a gas-liquid contact material made of a hydrophilic material on the upstream side in a chamber in which the processing air can flow from upstream to downstream inside. And a processing unit having a hydrophilic eliminator on the downstream side and a water supply unit for supplying water to the gas-liquid contact material, and a part of the water supplied to the gas-liquid contact material is It is configured to be supplied to the hydrophilic eliminator via a contact material.
このように本発明においては,まず上流側に親水性素材からなる気液接触材を有し,下流側にも親水性エリミネータを配置しているので,両者とも気液接触による可溶性ガスの除去機能を有し,圧力損失の大きいエリミネータは水滴の捕獲性能を満足できる最小の構成とすることが可能になる。したがってその分圧力損失を削減できる。また気液接触材についても,親水性エリミネータがガス除去機能を有しているので,その分削減できる。この結果処理部全体としては,従来よりもコンパクト化を図ることができ,しかも低圧損化が達成できる。そして気液接触材に供給された水の一部を,当該気液接触材を経由して前記親水性エリミネータに供給するように構成したので,気液接触材と親水性エリミネータの双方に独立して給水する必要はなく,したがってかかる点からも装置全体としての大きさをコンパクトにすることができる。 As described above, in the present invention, the gas-liquid contact material made of a hydrophilic material is first provided on the upstream side, and the hydrophilic eliminator is disposed on the downstream side. The eliminator having a large pressure loss can have a minimum configuration that can satisfy the water droplet capturing performance. Therefore, the pressure loss can be reduced accordingly. The gas-liquid contact material can also be reduced by the hydrophilic eliminator because it has a gas removal function. As a result, the entire processing unit can be made more compact than before, and low pressure loss can be achieved. Since a part of the water supplied to the gas-liquid contact material is supplied to the hydrophilic eliminator via the gas-liquid contact material, both the gas-liquid contact material and the hydrophilic eliminator are independent. Therefore, the size of the entire apparatus can be made compact from this point of view.
前記気液接触材は,親水性材料で形成された複数の波板が,垂直に立てられた状態でチャンバ内の幅方向に並列して配置され,かつ,波板における突条部及び溝部が下流側に向けて斜め下方に向けられた第1の波板と,波板における突条部及び溝部が上流側に向けて斜め下方に向けられた第2の波板とが,交互に配置されていることが好ましい。このように構成することで,気液接触材に供給された水のうち,第1の波板に対するものは,下流側の親水性エリミネータへと給水され,第2の波板に対するものは,気液接触材全体への配水に供される。すなわち,仮に突条部及び溝部が下流側に向けて斜め下方に向けられた第1の波板のみで構成すると,多くの水は下流端部側に流れてしまい,波板全体は濡れた状態になるが水の入れ替えが偏ることでガス除去性能は低下してしまう。この点波板における突条部及び溝部が下流側に向けて斜め下方に向けられた第1の波板と,波板における突条部及び溝部が上流側に向けて斜め下方に向けられた第2の波板とを,交互に配置すれば,突条部と突条部の交差部では水の流れが互いに逆向きのためぶつかり合い,その結果交差部周辺に多くの水を配水することができる。 The gas-liquid contact material has a plurality of corrugated plates made of a hydrophilic material arranged in parallel in the width direction in the chamber in a state where the corrugated plates are vertically erected. The first corrugated plate directed obliquely downward toward the downstream side and the second corrugated plate in which the ridges and the grooves in the corrugated plate are directed obliquely downward toward the upstream side are alternately arranged. It is preferable. With this configuration, of the water supplied to the gas-liquid contact material, the water for the first corrugated plate is supplied to the hydrophilic eliminator on the downstream side, and the water for the second corrugated plate is It is used for water distribution to the entire liquid contact material. In other words, if only the first corrugated plate is formed with the ridges and grooves directed obliquely downward toward the downstream side, a large amount of water flows to the downstream end side, and the entire corrugated plate is wet. However, the gas removal performance deteriorates due to the uneven replacement of water. The first corrugated portion and the groove portion in the point wave plate are directed obliquely downward toward the downstream side, and the first corrugated portion and the groove portion in the corrugated sheet are directed obliquely downward toward the upstream side. If the two corrugated plates are arranged alternately, the flow of water collides with each other at the intersection of the ridge and the ridge, so that a lot of water is distributed around the intersection. it can.
前記第1の波板における突条部及び溝部の斜め下方の俯角は10°〜80°であり,前記第2の波板における突条部及び溝部の斜め下方の俯角は10°〜80°であることがよい。また前記各波板における突条部の頂上部と溝部の底部との間の高さ(「波」で言うところの振幅に相当)は3〜15mmであり,かつ隣り合う突条部の頂上部間の長さ(「波」で言うところの周期幅に相当)は5〜30mmがよい。 The diagonal angle of the ridge and groove in the first corrugated plate is 10 ° to 80 °, and the diagonal angle of the ridge and groove in the second corrugated plate is 10 ° to 80 °. There should be. The height between the top of the ridge and the bottom of the groove in each corrugated plate (corresponding to the amplitude referred to as “wave”) is 3 to 15 mm, and the top of adjacent ridges. The length between them (corresponding to the period width in terms of “wave”) is preferably 5 to 30 mm.
前記気液接触材の下流側端部と親水性エリミネータの上流側端部とが接していることが好ましいが,前記気液接触材の下流側端部と親水性エリミネータの上流側端部との間の距離が,1〜50mmであってもよい。 The downstream end of the gas-liquid contact material and the upstream end of the hydrophilic eliminator are preferably in contact with each other, but the downstream end of the gas-liquid contact material and the upstream end of the hydrophilic eliminator The distance between them may be 1 to 50 mm.
気液接触材に供給する給水部の構成は,例えば散水器によって気液接触材の上部から気液接触材に水を直接給水するものでもよく,また噴霧ノズルのように気液接触材の上流側から気液接触材に水を噴霧するものであってもよい。 The structure of the water supply unit that supplies the gas-liquid contact material may be such that water is supplied directly to the gas-liquid contact material from the upper part of the gas-liquid contact material by a watering device, or upstream of the gas-liquid contact material such as a spray nozzle. You may spray water on a gas-liquid contact material from the side.
本発明によれば,気液接触によって可溶ガスを処理空気から除去するための装置において,従来よりもコンパクトにすることができ,しかも圧力損失の低減を図ることが可能である。 According to the present invention, an apparatus for removing soluble gas from process air by gas-liquid contact can be made more compact than before, and pressure loss can be reduced.
以下,本発明の好ましい実施の形態について説明する。図1は,実施の形態にかかる不純物除去装置1の構成の概略を示しており,略角筒形状のチャンバ2の内部には,処理空気が流れる上流側から順に,入り口3,HEPAフィルタなどのフィルタ4,処理部5,ファン6,出口7が設けられている。ファン6は,気密性を確保するための適宜のパネル材8によって支持されている。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. FIG. 1 shows an outline of the configuration of an
処理部5は,親水性素材からなる気液接触材11と,親水性エリミネータ21とを有しており,本実施の形態においては,気液接触材11の下流側端部と,親水性エリミネータ21の上流側端部とは接触しており,これら両端部間の距離は0である。
The processing unit 5 includes a gas-
気液接触材11は,2種類の波板12,13から構成されている。すなわち図2に示したように,第1の波板である波板12は,その突条部12a及び溝部12bが下流側に向けて斜め下方に向けられたものであり,第2の波板である波板13は,その突条部13a及び溝部13bが上流側に向けて斜め下方に向けられたものである。そしてこれらの波板12,13は,垂直に立てられた状態でチャンバ2内の幅方向に複数並列して配置され,かつ波板12と波板13とは交互に配置されている。そして気液接触材11の気流方向の長さMは,150mmに設定されている。
The gas-
波板12,13は親水性の材料から構成されており,その一例としては,例えばポリエステル繊維の不織布をプレス成形し,シリカを添着したものを使用できる。もちろんその他各種の親水性素材を使用することが可能である。波板12,13自体の厚みは,0.5mm程度である。
The
また本実施の形態においては,図3に示したように,波板12における突条部12a及び溝部12bの斜め下方の俯角θ1は,30℃に設定されており,また波板13における突条部13a及び溝部13bの斜め下方の俯角θ2も,30℃に設定されている。これら俯角θ1,θ2は,10°〜80°の範囲で任意に設定できる。
Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 3, the depression angle θ1 obliquely below the
さらに図4に示したように,波板12における突条部12aの頂上部と溝部12bの底部との間の高さhは5mmに設定され,隣り合う突条部の頂上部間の長さλは15mmに設定されている。高さhは3〜15mmの範囲が好ましく,長さλは5〜30mmの範囲が好ましい。
Further, as shown in FIG. 4, the height h between the top of the
一方,親水性エリミネータ21は,図1,図2に示したように,親水性材料をいわゆるつづら折りしてなるプレート22を垂直に立てて,気流と平行となるように,チャンバ2内に複数枚設置されて構成されている。親水性材料としては,例えばポリエステル繊維の不織布をプレス成形し,シリカを添着したものを使用できる。もちろんその他各種の親水性を有する材料を使用することが可能である。プレート22自体の厚みは,1.0mm程度である。また親水性エリミネータ21の気流方向の長さNは,60mmに設定されている。
On the other hand, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, the
図1に示したように,気液接触材11の上方に水,例えば純水を供給する給水部31は,本実施の形態では散水器を使用している。給水部31から給水された水は,波板12に供給されたものについては,図5に示したように波板12の突条部12a,溝部12bの表面を伝って下降していくが,突条部12a及び溝部12bは,下流側に俯角がつけられているので,その一部が後方へも流れていき,親水性エリミネータ21に供給される。一方波板13に供給されたものについては,図6に示したように波板13の突条部13a,溝部13bの表面を伝って下降していくが,突条部13a及び溝部13bは,上流側に俯角がつけられているので,その一部が前方へも流れていく。そして波板12,13はいずれも親水性材料によって構成されているので,波板12,13の表面全体は薄い水の膜に覆われており,常に濡れた状態となっている。
As shown in FIG. 1, the
供給する水は,処理部5の下面に設置された受容部32からポンプ33でくみ上げ,供給管34から給水部31に供給されるようになっており,また気液接触材11,親水性エリミネータ21を伝って落下してきた水は,この受容部32によって受け止められる。したがって,気液接触材11に供給される水は,循環している。但し,蒸発などによって不足した分など,必要に応じて補給管35によって受容部32に補給される。また受容部32内の水は,適宜排水管36から循環系外に排水可能である。
The supplied water is pumped up by a
本実施の形態にかかる不純物除去装置1は,以上の構成を有しており,処理空気がチャンバ2内に導入されると,フィルタ4で塵埃等が除去された後,まず気液接触材11を通過する。気液接触材11を構成する波板12,13の表面は,既述したように常に濡れた状態となっているから,波板12,13の突条部12a,13a,溝部12a,12bによって構成される空気の流路表面は常に水の薄い膜によって覆われ,処理空気が当該流路を流れる際に,前記表面の水と接触して,可溶ガスは当該水によって吸収,除去される。
The
そして気液接触材11を通過した空気は,今度は親水性エリミネータ21に慣性衝突する。このとき親水性エリミネータ21のプレート22も気液接触材11の波板12を伝ってきた水によって,その表面が濡れているため,処理空気中の可溶性ガスは,親水性エリミネータ21で保持された水との気液接触によって,吸収,除去される。もちろん親水性エリミネータ21自体は,エリミネータとして機能しているから,も気液接触材11から飛散した液滴を受け止め,後方へ飛散させることはない。
Then, the air that has passed through the gas-
以上のようにして気液接触材11と親水性エリミネータ21とによって可溶ガスが除去された空気は,清浄空気としてファン6によって出口7からチャンバ外へと導出される。
The air from which the soluble gas has been removed by the gas-
このように本実施の形態にかかる不純物除去装置1では,後方への液滴,ミストの飛散防止を担っている親水性エリミネータ21自体も可溶性ガスの除去効果を有しているので,気液接触材11自体の負担を軽減させることができ,その分気液接触材11の気流方向の長さを短縮することができる。また親水性エリミネータ21も,最小限水滴の捕獲性能を有するもので足り,その分圧力損失の低減が図れる。
As described above, in the
さらに親水性エリミネータ21への給水については,気液接触材11に供給された水の一部が使用されているので,敢えて独立して親水性エリミネータ21に供給する必要はなく,その分給水部を省略でき,またポンプも別途も受ける必要はない。したがってかかる点からも装置全体がコンパクトになっている。
Furthermore, as for the water supply to the
なお前記実施の形態では,給水部31として散水器を使用したが,これに代えて噴霧ノズルを気液接触材11の上流側に設置して,気液接触材11に向けて水を噴霧するものを使用してもよい。
In the above embodiment, a watering device is used as the
また前記実施の形態では,気液接触材11の下流側端部と,親水性エリミネータ21の上流側端部とが接触するように,気液接触材11と親水性エリミネータ21との間の距離は0にしていたが,適宜両者の間に距離をおいてこれらを設置してもよい。すなわち図7に示したように,気液接触材11の下流側端部と,親水性エリミネータ21の上流側端部との間の距離をLとすると,L=1〜50mmの範囲で両者を設置してもよい。
Moreover, in the said embodiment, the distance between the gas-
より詳述すると,
(1)給水を気液接触材11の上部から行い,かつ気液接触材11内部通過平均風速が3m/s未満の場合:
L=2mm以内とする。但し気液接触材11の構造として,その下流端部側に少なくとも5〜10%程度の循環水が到達できる構造とするのがよい。
(2)給水を気液接触材11の上部から行い,かつ気液接触材11内部通過平均風速が3m/s以上の場合:
通過風速が速くなると気液接触材11の下流端部からの飛散水が多くなることから,親水性エリミネータ21との間隔を上記(1)の場合より長くしても親水性エリミネータ21の表面は親水可能となる。但し,飛散水の落下角度(垂直方向に対して下流側に飛散する角度)が比較的小さいことから,L=20mm以内が好ましい。これ以上長くすると,親水性エリミネータ21上部側への給水量が減り,水の入れ替えが極端に少なくなってガス除去性能に影響が出るためである。
(3)給水が,気液接触材11の上流側からの噴霧方式の場合:
この場合は,噴霧水の一部は気液接触材11で捕獲されずに直接下流側の親水性エリミネータ21に到達できることから,親水性エリミネータ21と気液接触材11との間の設置間隔には制限はなくなるが,装置のコンパクト化を考慮した場合,より短いのが望ましいことには変わりない。
More specifically,
(1) When supplying water from the top of the gas-
L = 2mm or less. However, as the structure of the gas-
(2) When supplying water from the top of the gas-
When the passing wind speed increases, the amount of scattered water from the downstream end of the gas-
(3) When the water supply is sprayed from the upstream side of the gas-liquid contact material 11:
In this case, since a part of the spray water can reach the
次に上記本実施の形態にかかる不純物除去装置1を実際に運転した際の結果について説明する。
まず処理条件としては,単位処理空気当たりの給水量L/G(L:補給水の質量,G:処理空気の質量)が0.05,処理風速を2.5mとした。
圧力損失=105Pa
飽和効率=95%(飽和効率は,気液接触効率を示す一つの指標で,この
数値が高いほどガス除去性能も高いことを意味する。)
装置サイズ(気流方向)=0.3m
Next, the results when the
First, as treatment conditions, the water supply amount L / G (L: mass of makeup water, G: mass of treatment air) per unit treatment air was 0.05, and the treatment wind speed was 2.5 m.
Pressure loss = 105Pa
Saturation efficiency = 95% (Saturation efficiency is an index indicating gas-liquid contact efficiency. The higher this value, the higher the gas removal performance.)
Device size (air flow direction) = 0.3m
一方,特許文献1〜4に公表されている各性能は以下のようになっている
圧力損失 200〜460Pa(エリミネータの圧損含む)at2.5m/s換算
飽和効率 91〜96%
装置サイズ(気流方向)=1〜3.5m
On the other hand, each performance disclosed in
Device size (air flow direction) = 1 to 3.5m
このように,実施の形態にかかる不純物除去装置1は,圧力損失と装置サイズに関して,従来技術に対して大幅削減を達成した。一方,飽和効率においては同等である。したがって本発明によれば,設置スペースおよび装置コストの削減と送風動力エネルギーおよびコストの大幅削減を達成することが可能である。
As described above, the
本発明は,可溶性ガスを除去し,かつ水滴やミストを処理後の空気に排出させないことから,例えば半導体工場や精密部品工場などに清浄空気を供給する際に特に有用である。 The present invention is particularly useful when supplying clean air to, for example, a semiconductor factory or a precision parts factory, because soluble gas is removed and water droplets and mist are not discharged into the processed air.
1 不純物除去装置
2 チャンバ
5 処理部
11 気液接触材
12,13 波板
12a,13a 突条部
12b,13b 溝部
21 親水性エリミネータ
31 給水部
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記処理空気をその内部で上流から下流に流通させることが可能なチャンバと,
前記チャンバ内に収容され,上流側に親水性素材からなる気液接触材を有し,下流側に親水性エリミネータを有する処理部と,
前記気液接触材に水を供給する給水部と,
を有し,
前記気液接触材に供給された水の一部が,当該気液接触材を経由して前記親水性エリミネータに供給されるように構成されたことを特徴とする,不純物除去装置。 A device that absorbs and removes soluble gas in the processing air by gas-liquid contact,
A chamber capable of circulating the processing air from upstream to downstream in the interior;
A processing unit housed in the chamber, having a gas-liquid contact material made of a hydrophilic material on the upstream side, and having a hydrophilic eliminator on the downstream side;
A water supply unit for supplying water to the gas-liquid contact material;
Have
An impurity removing apparatus characterized in that a part of the water supplied to the gas-liquid contact material is supplied to the hydrophilic eliminator via the gas-liquid contact material.
波板における突条部及び溝部が下流側に向けて斜め下方に向けられた第1の波板と,波板における突条部及び溝部が上流側に向けて斜め下方に向けられた第2の波板とが,交互に配置されていることを特徴とする,請求項1に記載の不純物除去装置。 The gas-liquid contact material has a plurality of corrugated plates made of a hydrophilic material arranged in parallel in the width direction in the chamber in a vertically standing state, and
The first corrugated portion and the groove portion of the corrugated sheet are directed obliquely downward toward the downstream side, and the second corrugated portion and the groove portion of the corrugated sheet are directed obliquely downward toward the upstream side. The impurity removing apparatus according to claim 1, wherein the corrugated plates are alternately arranged.
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Cited By (8)
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