JP2006339240A - Carrier plate - Google Patents

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Hiroshi Kawasaki
弘志 川崎
Susumu Iwasaki
進 岩崎
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Arai Seisakusho Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a carrier plate which can avoid adhesion of a chip component. <P>SOLUTION: In a carrier plate 1, an electronic-component support medium 5 is formed with silicone rubber which has conductivity, especially silicone rubber with which a surface resistance value has the conductivity of 10<SP>6</SP>Ω/square or less. According to this carrier plate, the friction electrification can be made hard to generate when a chip component is inserted in an elastic hole 6, by forming an electronic-component support medium with silicone rubber which has conductivity. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、多数の小型電子部品の端部にコーティングを施すのに好適なキャリアプレートに関する。   The present invention relates to a carrier plate suitable for applying a coating to the ends of many small electronic components.

従来から、小型電子部品として、例えば、抵抗器、コンデンサ、LEDチップなどのチップ化された電子部品(以下、チップ部品と記す。)が知られている。このようなチップ部品、例えば、チップ化されたコンデンサである積層セラミックコンデンサは、ほぼ長方体状に形成されており、その長手方向の両端には、電気的な接続に用いるための端子がそれぞれ形成されている。これらの端子は、長手方向の両端に、銀やパラジウムなどの導電性のコーティングを施すことにより形成されている。そして、チップ部品の両端にコーティングを施す際には、多数のチップ部品の端部にコーティングを効率的に行うために、多数のチップ部品を支持可能なキャリアプレートが用いられている。   Conventionally, as a small electronic component, for example, a chip-shaped electronic component (hereinafter, referred to as a chip component) such as a resistor, a capacitor, and an LED chip is known. Such a chip component, for example, a multilayer ceramic capacitor which is a chip capacitor, is formed in a substantially rectangular shape, and terminals for use in electrical connection are respectively provided at both ends in the longitudinal direction. Is formed. These terminals are formed by applying a conductive coating such as silver or palladium to both ends in the longitudinal direction. When coating both ends of the chip component, a carrier plate capable of supporting a large number of chip components is used in order to efficiently coat the ends of the chip components.

このようなキャリアプレートとしては、金属製の矩形のプレート本体の厚さ方向に貫通する多数の貫通通路を、プレート本体の平面に並列させて貫通形成し、これらの各通路の内壁面に弾性部材をもって電子部品支持体となる弾性壁を形成する構成、すなわち、プレート本体に多数のチップ部品を支持するための多数の弾性孔を具備するゴム様弾性体からなる電子部品支持体を設ける構成のものが知られている(例えば、特許文献1参照)。   As such a carrier plate, a large number of through passages penetrating in the thickness direction of a metal rectangular plate body are formed in parallel with the plane of the plate body, and an elastic member is formed on the inner wall surface of each of these passages. With an elastic wall that serves as an electronic component support, that is, a configuration in which an electronic component support made of a rubber-like elastic body having a large number of elastic holes for supporting a large number of chip components in the plate body is provided. Is known (see, for example, Patent Document 1).

この種のキャリアプレートのプレート本体にはアルミニウム、電子部品支持体を形成する弾性部材にはシリコーンゴムがそれぞれ多用されている。   Aluminum is often used for the plate body of this type of carrier plate, and silicone rubber is frequently used for the elastic member forming the electronic component support.

従来のキャリアプレートは、外周フレームと一体形成したプレート本体の貫通通路に金型に配置した通孔形成ピンを挿通して設置した後、低粘度の室温硬化型液状シリコーンゴムをプレート本体の外側フレーム内に流延して室温にて硬化させるか、比較的低粘度の付加型シリコーンゴムをプレート本体の外側フレーム内に流延し、150℃で30分程度加熱して成型したのち、表面を研磨して形成していた(例えば、特許文献2、3)。   A conventional carrier plate is formed by inserting a through hole forming pin disposed in a mold into a through passage of a plate body integrally formed with an outer peripheral frame, and then placing a low-viscosity room temperature curable liquid silicone rubber on an outer frame of the plate body. Cast in and cure at room temperature or cast a relatively low viscosity addition type silicone rubber into the outer frame of the plate body and heat at 150 ° C for about 30 minutes to mold and then polish the surface (For example, Patent Documents 2 and 3).

また、チップ部品に対するコーティングは、弾性孔の内径寸法よりも大きい外径寸法を有するチップ部品をその先端が突出するまでキャリアプレートの電子部品支持体の弾性孔に押し込んで弾性的に把持させ、突出端を銀やパラジウムなどでつくられた導電性ペーストによりコーティングした後、加熱硬化させることにより行われている(例えば、特許文献4、5参照)。   In addition, the coating on the chip component is made by pushing the chip component having an outer diameter larger than the inner diameter of the elastic hole into the elastic hole of the electronic component support of the carrier plate until the tip protrudes, and elastically gripping the chip component. This is done by coating the ends with a conductive paste made of silver, palladium or the like and then heat-curing them (see, for example, Patent Documents 4 and 5).

特公昭62−011488号公報Japanese Examined Patent Publication No. 62-011488 特公平03−076778号公報Japanese Patent Publication No. 03-076778 特開2004−17549号公報JP 2004-17549 A 特公昭62−020685号公報Japanese Examined Patent Publication No. 62-020585 特公昭62−029888号公報Japanese Examined Patent Publication No. 62-029888

ところで、前述した従来のチップ部品の製造におけるチップ部品の弾性孔への挿入時には、チップ部品の外径寸法より20%程度小さい内径寸法の弾性孔を有するキャリアプレートが適時使用されている。   By the way, when inserting the chip component into the elastic hole in the manufacture of the conventional chip component described above, a carrier plate having an elastic hole having an inner diameter smaller by about 20% than the outer diameter of the chip component is used as appropriate.

すなわち、ほぼ直方体状に形成されたチップ部品の長手方向に直交する正方形断面の一辺の寸法が1.6mm(対角線の寸法は2.26mm)の場合には、キャリアプレートの内径寸法が直径1.9mm程度に形成された断面円形の弾性孔に押し込んで安定的に把持させ、チップ部品の先端を0.1mm程度突出させている。   That is, when the dimension of one side of the square cross section orthogonal to the longitudinal direction of the chip part formed in a substantially rectangular parallelepiped shape is 1.6 mm (the diagonal dimension is 2.26 mm), the inner diameter dimension of the carrier plate is 1.. The tip of the chip component is protruded by about 0.1 mm by being pushed into an elastic hole having a circular cross section formed to be about 9 mm and stably held.

しかしながら、近年、チップ部品の寸法が微小化する傾向にあり、極小のチップ部品である0402(0.4mm×0.2mm×0.2mm)においては、チップ寸法が芥子粒のように小さいために、チップ部品をキャリアプレートの弾性孔に挿入する際に、摩擦帯電を生じ、キャリアプレートの表面、詳しくは、電子部品支持体の表面にチップ部品が大量に付着するため作業が極めて困難になるという不具合があった。   However, in recent years, the size of chip parts tends to be miniaturized, and in 0402 (0.4 mm × 0.2 mm × 0.2 mm) which is an extremely small chip part, the chip size is small like an insulator grain. When inserting the chip parts into the elastic holes of the carrier plate, frictional charging is generated, and a large amount of chip parts adhere to the surface of the carrier plate, more specifically, the surface of the electronic component support, which makes the operation extremely difficult. There was a bug.

かかるチップ部品のキャリアプレートへの電気的な付着を回避するために、帯電防止剤の塗布や、フッ素樹脂のコーティングなどが試みられたが、十分な効果は得られなかった。   In order to avoid such electrical adhesion of the chip parts to the carrier plate, application of an antistatic agent or coating with a fluororesin has been attempted, but sufficient effects have not been obtained.

本発明はこの点に鑑みてなされたものであり、チップ部品の付着を回避することのできるキャリアプレートを提供することを目的とする   This invention is made in view of this point, and it aims at providing the carrier plate which can avoid adhesion of chip components.

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究した結果、導電性を付与したシリコーンゴムを使用することにより、チップ部品のキャリアプレートへの挿入の際に摩擦帯電が発生し難いことを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of diligent research to achieve the above object, the present inventors have found that frictional electrification is unlikely to occur when a chip component is inserted into a carrier plate by using a silicone rubber imparted with conductivity. The headline and the present invention were completed.

すなわち、本発明に係るキャリアプレートの特徴は、小型電子部品の端部に端子となるコーティングを施す際に用いられ、プレート本体に多数の小型電子部品を支持するための多数の弾性孔を具備するゴム様弾性体からなる電子部品支持体を設けたキャリアプレートにおいて、前記電子部品支持体が、導電性を有するシリコーンゴムにより形成されている点にある。   That is, the feature of the carrier plate according to the present invention is used when a terminal coating is applied to the end of a small electronic component, and the plate main body has a large number of elastic holes for supporting a large number of small electronic components. In a carrier plate provided with an electronic component support made of a rubber-like elastic body, the electronic component support is formed of conductive silicone rubber.

本発明に係るキャリアプレートにおいては、シリコーンゴムの表面抵抗値として10Ω/□以下に設定することが肝要である。 In the carrier plate according to the present invention, it is important to set the surface resistance value of the silicone rubber to 10 6 Ω / □ or less.

本発明に係るキャリアプレートによれば、電子部品支持体を導電性を有するシリコーンゴムにより形成することで、チップ部品を弾性孔に挿入する際の摩擦帯電を発生し難くすることができる。   According to the carrier plate of the present invention, the electronic component support is formed of conductive silicone rubber, so that it is difficult to generate frictional charging when the chip component is inserted into the elastic hole.

また、本発明に係るキャリアプレートによれば、シリコーンゴムの表面抵抗値を10Ω/□以下とすることで、チップ部品の付着を回避することができる。 Moreover, according to the carrier plate which concerns on this invention, adhesion of a chip component can be avoided by making the surface resistance value of a silicone rubber into 10 < 6 > ohm / square or less.

以下、本発明を図面に示す実施形態により説明する。   The present invention will be described below with reference to embodiments shown in the drawings.

図1は本発明に係るキャリアプレートの実施形態の要部を示す一部切断斜視図である。   FIG. 1 is a partially cut perspective view showing a main part of an embodiment of a carrier plate according to the present invention.

図1に示すように、本実施形態のキャリアプレート1は、平面ほぼ矩形状に形成されたプレート本体2を有している。このプレート本体2の中央部分には、厚さ方向に貫通する多数のプレート貫通孔3がマトリクス状や千鳥状などで多数配列されている。また、プレート本体2の各プレート貫通孔3が形成されている領域の外側には、厚さ方向に貫通する上下1対の位置決め孔4が形成されている。   As shown in FIG. 1, the carrier plate 1 of the present embodiment has a plate body 2 formed in a substantially rectangular plane. A large number of plate through holes 3 penetrating in the thickness direction are arranged in the central portion of the plate body 2 in a matrix shape or a staggered shape. In addition, a pair of upper and lower positioning holes 4 penetrating in the thickness direction are formed outside the region of the plate body 2 where the plate through holes 3 are formed.

前記各プレート貫通孔3の内部には、ゴム様弾性体からなる電子部品支持体5が配設されている。この電子部品支持体5には、コーティングに供する小型電子部品としてのチップ部品(図示せず)を支持し、かつ支持したチップ部品を強制的に通過させるため、電子部品支持体5を厚さ方向に貫通する弾性孔6が形成されている。   An electronic component support 5 made of a rubber-like elastic body is disposed inside each plate through hole 3. The electronic component support 5 is supported by a chip component (not shown) as a small electronic component to be used for coating, and the supported chip component is forced to pass therethrough. An elastic hole 6 penetrating through is formed.

すなわち、プレート本体2に形成されている各プレート貫通孔3の内壁を、電子部品支持体5によって覆うように構成されている。   That is, the inner wall of each plate through hole 3 formed in the plate body 2 is configured to be covered with the electronic component support 5.

前記プレート本体2の材質は限定されるものではないが、耐熱、価格、重量、強度などの観点からアルミニウムで形成されるのが一般的である。アルミニウムとしては、2000系合金、5000系合金、6000系合金、7000系合金などの展伸材が例示されるが、強度が高い7075や7050、7N01などの7000系合金が望ましい。また、アルミニウム合金は熱処理などの調質操作により、機械的性質が変化するので、より強度が強くなる処理を施すのが望ましく、7000系合金では質別としてT6、T651、T6511、T7651などが好ましく、焼きなまし処理は強度が低くなるので好ましくない。   The material of the plate body 2 is not limited, but is generally formed of aluminum from the viewpoints of heat resistance, cost, weight, strength, and the like. Examples of aluminum include wrought materials such as 2000 series alloys, 5000 series alloys, 6000 series alloys, and 7000 series alloys, but 7000 series alloys such as 7075, 7050, and 7N01 having high strength are desirable. In addition, since the mechanical properties of aluminum alloys change due to tempering operations such as heat treatment, it is desirable to apply a treatment to increase the strength. For 7000 series alloys, T6, T651, T6511, T7651 and the like are preferable. Annealing treatment is not preferable because the strength is lowered.

前記電子部品支持体5の素材としては、導電性を有するシリコーンゴムが用いられている。   As the material for the electronic component support 5, conductive silicone rubber is used.

シリコーンゴムとしては、過酸化物加硫型シリコーンゴム、もしくは、ビニル基含有のポリオルガノシロキサンとハイドロジエンポリシロキサンからなる付加型シリコーンゴムが使用される。   As the silicone rubber, a peroxide vulcanization type silicone rubber or an addition type silicone rubber composed of a vinyl group-containing polyorganosiloxane and a hydrodiene polysiloxane is used.

なお、シリコーンゴムのゴム硬度は機能面から設計されるもので通常25〜70度(JIS A)程度の間で任意に決定される。   The rubber hardness of the silicone rubber is designed from the functional aspect, and is usually arbitrarily determined between about 25 to 70 degrees (JIS A).

前記シリコーンゴムは、導電性付与剤により導電化できるのであるが、これら導電性付与剤としてはアセチレンブラックやケッチェンブラックのごとき導電性のカーボンブラック、グラファイト、銀、銅、ニッケルなどの金属粉、導電性亜鉛華、導電性炭酸カルシウム、カーボン繊維などが例示されるがカーボンブラックが一般的である。   The silicone rubber can be made conductive by a conductivity-imparting agent. Examples of these conductivity-imparting agents include conductive carbon black such as acetylene black and ketjen black, metal powder such as graphite, silver, copper, and nickel, Examples include conductive zinc white, conductive calcium carbonate, and carbon fiber, but carbon black is common.

導電性カーボンブラックの添加量としは、シリコーンゴム100重量部に対して1〜10重量%程度添加させればよい。この添加量が1重量部以下では導電性が付与できず、10重量部を越えるとゴムの粘度が高くなってしまうので好ましくない。   The conductive carbon black may be added in an amount of about 1 to 10% by weight with respect to 100 parts by weight of the silicone rubber. If this addition amount is 1 part by weight or less, conductivity cannot be imparted, and if it exceeds 10 parts by weight, the viscosity of the rubber becomes high.

勿論、導電性金属酸化物では、充填材の導電性が悪いために添加部数を多くしないと効果は期待できないので、導電性充填材の種類によって添加量は適時決められる。   Of course, since the conductivity of the conductive metal oxide is poor and the effect cannot be expected unless the number of added parts is increased, the addition amount can be determined appropriately depending on the type of the conductive filler.

また、導電性充填材の添加量としては、表面抵抗値が10Ω/□以下となるように設定することが肝要である。 In addition, it is important to set the amount of the conductive filler so that the surface resistance value is 10 6 Ω / □ or less.

このことは、実験により確認することができた。   This could be confirmed by experiments.

なお、実験には、付加型液状シリコーンゴム(KE1950−35A/B:信越化学工業株式会社製商品名)をベースとし、以下に示す表1の配合にて、周知の加硫成型機により加硫して、JIS K 6250に準拠して厚さ2mmの試験片を作成し、ハイレスタ−IP(三菱化学株式会社製商品名)で電気抵抗値を測定した。次に表1の配合にて8cm×14cm×0.2cmのキャリアプレート1を作成した。このキャリアプレート1は、弾性孔6の孔径が直径0.20mm、孔数が1344個のものを用いた。このキャリアプレート1に0.4mm×0.2mm×0.2mmの寸法のセラミックチップを専用のロードプレートを用いてキャリアプレート1に挿入した後、導電ペーストを塗布し、200℃で10分間乾燥してペーストを固着した後、温度15℃、湿度10%の条件下に放置してセラミックチップをキャリアプレート1から押し出し、セラミックチップが電子部品支持体5との摩擦帯電によりキャリアプレート1の表面に付着するか否かを目視にて判定し評価した。   In the experiment, an addition-type liquid silicone rubber (KE1950-35A / B: trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used as a base, and vulcanization was performed using a known vulcanization molding machine with the composition shown in Table 1 below. Then, a test piece having a thickness of 2 mm was prepared in accordance with JIS K 6250, and the electrical resistance value was measured with Hiresta IP (trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). Next, a carrier plate 1 of 8 cm × 14 cm × 0.2 cm was prepared according to the formulation shown in Table 1. As the carrier plate 1, an elastic hole 6 having a diameter of 0.20 mm and a number of holes of 1344 was used. A ceramic chip having a size of 0.4 mm × 0.2 mm × 0.2 mm is inserted into the carrier plate 1 using a dedicated load plate, a conductive paste is applied, and the carrier plate 1 is dried at 200 ° C. for 10 minutes. After the paste is fixed, the ceramic chip is pushed out from the carrier plate 1 by leaving it under conditions of a temperature of 15 ° C. and a humidity of 10%, and the ceramic chip adheres to the surface of the carrier plate 1 by frictional charging with the electronic component support 5. Whether or not to do so was visually judged and evaluated.

前記実験における配合割合と試験結果とを併せて表1に示す。   Table 1 shows the blending ratio and test results in the experiment.

Figure 2006339240
Figure 2006339240

表1に示すように、導電性を有するシリコーンゴム、特に、表面抵抗値が10Ω/□以下の導電性を有するシリコーンゴムを使用することにより、セラミックチップをキャリアプレート1から押し出す際に摩擦帯電せず、セラミックチップがキャリアプレート1の表面に付着しないことが判明した(表1におけるNo.5〜7のチップの付着「無」)。 As shown in Table 1, by using conductive silicone rubber, especially silicone rubber having a surface resistance of 10 6 Ω / □ or less, friction is caused when the ceramic chip is pushed out of the carrier plate 1. It was found that the ceramic chip was not charged and the ceramic chip did not adhere to the surface of the carrier plate 1 (No adhesion of No. 5 to 7 chips in Table 1).

したがって、本実施形態のキャリアプレート1によれば、キャリアプレート1に対するチップ部品の摩擦帯電による付着を容易かつ確実に回避することができる。その結果、チップ部品をキャリアプレート1の弾性孔6に挿入する際の作業性に優れたものになる。   Therefore, according to the carrier plate 1 of the present embodiment, adhesion of the chip component to the carrier plate 1 due to frictional charging can be easily and reliably avoided. As a result, the workability when inserting the chip component into the elastic hole 6 of the carrier plate 1 is excellent.

前記シリコーンゴムには、キャリアプレート1の使用目的、設計目的などに応じて、充填剤、増量充填剤、耐熱剤などの種々の添加剤を添加することができる。   Various additives such as a filler, a bulking filler, and a heat-resistant agent can be added to the silicone rubber according to the purpose of use and design of the carrier plate 1.

例えば、シリコーンゴムに対する充填剤の配合処方は特に制限されるものではないが、通常はベースのガム100重量部に対して補強性充填剤および増量充填剤が10〜300重量部程度添加される。補強性充填剤としては湿式シリカや乾式シリカ(煙霧状シリカ)が一般的である。   For example, the formulation of the filler with respect to the silicone rubber is not particularly limited, but usually about 10 to 300 parts by weight of the reinforcing filler and the bulking filler are added to 100 parts by weight of the base gum. As the reinforcing filler, wet silica and dry silica (fumed silica) are generally used.

ここでいう湿式シリカとは、二酸化けい素(SiO)からなる補強性シリカのことであり、製造方法としては、けい酸ナトリウムを直接硫酸で分解する直接法や、けい酸ナトリウムを塩類と反応させてけい酸塩を生成させ、次に硫酸または炭酸ガスで分解する間接法など種々の方法がある。代表的な湿式シリカとしては、Nipsil VN3(日本シリカ工業株式会社製商品名)、カープレックスCS−5(シオノギ製薬株式会社製商品名)、スターシルS(神島化学工業株式会社製商品名)、トクシールUS(株式会社トクヤマ製商品名)、シルトンR−2(水沢化学工業株式会社製商品名)、Nipsil 223(PPG社(米国)製商品名)、Ultrasil VN3(デグッザ社(ドイツ)製商品名)、VulkasilS(バイエル社(ドイツ)製商品名)などが例示され、平均粒径が30μm以下、好ましくは5μm以下のグレードが使用される。 The wet silica here is reinforcing silica made of silicon dioxide (SiO 2 ), and the production method includes a direct method of directly decomposing sodium silicate with sulfuric acid, or reacting sodium silicate with salts. There are various methods such as an indirect method in which silicate is produced and then decomposed with sulfuric acid or carbon dioxide. Typical wet silicas include Nipsil VN3 (trade name, manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd.), Carplex CS-5 (trade name, manufactured by Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd.), Starsil S (trade name, manufactured by Kamijima Chemical Co., Ltd.), Toxeal. US (trade name, manufactured by Tokuyama Corporation), Shilton R-2 (trade name, manufactured by Mizusawa Chemical Co., Ltd.), Nipsil 223 (trade name, manufactured by PPG (USA)), Ultrasil VN3 (trade name, manufactured by Degussa (Germany)) Vulkasil S (trade name, manufactured by Bayer AG (Germany)) is exemplified, and grades having an average particle size of 30 μm or less, preferably 5 μm or less are used.

また、乾式シリカとは、ハロゲン化けい素の熱分解法やけい砂を加熱還元し、気化したSiOの空気酸化法、有機けい素化合物の熱分解法などにより製造される二酸化けい素からなる補強性シリカで、アエロジル200やアエロジルR972(日本アエロジル株式会社製商品名)、Cab−O−Sil MS−5(キャボット社(米国)製商品名)、レオロシールQS102(株式会社トクヤマ製商品名)が例示される。本発明においては必要に応じて湿式シリカと乾式シリカとを適時併用して使用してもよい。さらに、シリカ表面の活性による二次結合の防止を目的として、潤滑剤(ウエッタ)を添加してもよく、潤滑剤としては、シリコーンレジン類、アルコキシシランおよびシロキサン類、ヒドロキシシランおよびシロキサン類、シラザン類、有機酸エステル類、多価アルコール類などが例示される。   In addition, dry silica is a reinforcement made of silicon dioxide produced by pyrolysis of silicon halides, heat reduction of silica sand, air oxidation of vaporized SiO, pyrolysis of organosilicon compounds, etc. Aerosil 200, Aerosil R972 (trade name, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Cab-O-Sil MS-5 (trade name, manufactured by Cabot Corporation (USA)), and Leorosil QS102 (trade name, manufactured by Tokuyama Corporation). Is done. In the present invention, if necessary, wet silica and dry silica may be used in combination in a timely manner. Furthermore, a lubricant (wetter) may be added for the purpose of preventing secondary bonds due to the activity on the silica surface. Examples of the lubricant include silicone resins, alkoxysilanes and siloxanes, hydroxysilanes and siloxanes, and silazanes. , Organic acid esters, polyhydric alcohols and the like.

また、増量充填剤は、ゴムの機械特性、すなわち物理強度、ゴム硬度、圧縮永久歪み、研削性など柔軟部材2として機能上欠くべからざる特性を保持するために必要な成分であり、炭酸カルシウム、石英粉、けいそう土、けい酸ジルコニウム、クレー(けい酸アルミニウム)、タルク(含水けい酸マグネシウム)、ウォラストナイト(メタけい酸カルシウム)、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、アルミナ(酸化アルミニウム)、硫酸アルミニウム、硫酸バリウム、リトポン、マイカ(雲母粉)などが例示される。また、酸化セリウムのような耐熱剤をシリコーンゴムに添加してもよい。   The bulking filler is a component necessary for maintaining the mechanical properties of the rubber, that is, the physical strength, rubber hardness, compression set, grindability, and other characteristics that are indispensable for the flexible member 2, such as calcium carbonate, Quartz powder, diatomaceous earth, zirconium silicate, clay (aluminum silicate), talc (hydrous magnesium silicate), wollastonite (calcium metasilicate), zinc oxide, magnesium oxide, alumina (aluminum oxide), aluminum sulfate , Barium sulfate, lithopone, mica (mica powder) and the like. Further, a heat-resistant agent such as cerium oxide may be added to the silicone rubber.

前記プレート本体2と電子部品支持体5との接着(加硫接着)は、過酸化物加硫型シリコーンゴムであれば、例えばケムロック608(ロード・ファー・イースト株式会社製商品名)の如きシリコーンゴム用接着剤が適用できる。また付加型シリコーンゴムには、例えばDY39−051A/B、DY39−067、DY39−115(以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製商品名)やプライマーNo.4、プライマーNo.101A/B(以上、信越化学工業株式会社製商品名)のような付加型シリコーンゴム用の接着剤を使用することにより、より強固な接着を得ることができ、このときプレート本体2は、炭化水素系洗浄剤や臭化プロピルなどで脱脂した後、接着剤が塗布され、必要に応じて100℃で30分程度、焼成して使用される。   The adhesion (vulcanization adhesion) between the plate body 2 and the electronic component support 5 is a silicone such as Chemlock 608 (trade name, manufactured by Lord Far East Co., Ltd.) if it is a peroxide vulcanized silicone rubber. Rubber adhesive can be applied. Examples of the addition-type silicone rubber include DY39-051A / B, DY39-067, DY39-115 (trade name, manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and Primer No. 4. Primer No. By using an adhesive for addition-type silicone rubber such as 101A / B (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), stronger adhesion can be obtained. At this time, the plate body 2 is carbonized. After degreasing with a hydrogen-based cleaning agent or propyl bromide, an adhesive is applied, and if necessary, it is used after being baked at 100 ° C. for about 30 minutes.

なお、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、必要に応じて種々の変更が可能である。   In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above, A various change is possible as needed.

本発明に係るキャリアプレートの実施形態の要部を示す一部切断斜視図The partially cut perspective view which shows the principal part of embodiment of the carrier plate which concerns on this invention

符号の説明Explanation of symbols

1 キャリアプレート
2 プレート本体
3 プレート貫通孔
4 位置決め孔
5 電子部品支持体
6 弾性孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Carrier plate 2 Plate main body 3 Plate through-hole 4 Positioning hole 5 Electronic component support body 6 Elastic hole

Claims (2)

小型電子部品の端部に端子となるコーティングを施す際に用いられ、プレート本体に多数の小型電子部品を支持するための多数の弾性孔を具備するゴム様弾性体からなる電子部品支持体を設けたキャリアプレートにおいて、
前記電子部品支持体が、導電性を有するシリコーンゴムにより形成されていることを特徴とするキャリアプレート。
An electronic component support body made of a rubber-like elastic body having a large number of elastic holes for supporting a large number of small electronic components is provided in the plate body, which is used when a terminal coating is applied to the end of the small electronic component. In the carrier plate
A carrier plate, wherein the electronic component support is made of conductive silicone rubber.
前記シリコーンゴムの表面抵抗値が、10Ω/□以下であることを特徴とする請求項1に記載のキャリアプレート。
The carrier plate according to claim 1, wherein the silicone rubber has a surface resistance value of 10 6 Ω / □ or less.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008159852A (en) * 2006-12-25 2008-07-10 Arai Pump Mfg Co Ltd Manufacturing method for carrier plate
JP2011199070A (en) * 2010-03-19 2011-10-06 Shin Etsu Polymer Co Ltd Holding tool

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