JP2006331789A - 蛍光表示管の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】複数の蛍光表示管に対し同時にフィラメント活性化のための通電処理を行うこと。
【解決手段】複数の蛍光表示管を取り出せるサイズの二枚の共通基板1,2に蛍光表示管Aとなる小領域を設定し、各小領域ごとに、陰極側の共通基板1にフィラメント5及びこれと接続される一対の配線パターンを設け、この各配線パターンを共通に接続する一対の共通配線4を各小領域外の共通基板1上に設ける。陽極側の共通基板には小領域に対応して陽極を設ける。製造時、両共通基板をシール材3を介して小領域が対応するように対面させ、両基板がずれた部分に露出した共通配線のターミナル4aに高真空雰囲気内で移動式電極40を接触させて通電し、各フィラメント5を一括して活性化する。
【選択図】図4
【解決手段】複数の蛍光表示管を取り出せるサイズの二枚の共通基板1,2に蛍光表示管Aとなる小領域を設定し、各小領域ごとに、陰極側の共通基板1にフィラメント5及びこれと接続される一対の配線パターンを設け、この各配線パターンを共通に接続する一対の共通配線4を各小領域外の共通基板1上に設ける。陽極側の共通基板には小領域に対応して陽極を設ける。製造時、両共通基板をシール材3を介して小領域が対応するように対面させ、両基板がずれた部分に露出した共通配線のターミナル4aに高真空雰囲気内で移動式電極40を接触させて通電し、各フィラメント5を一括して活性化する。
【選択図】図4
Description
本発明は、蛍光表示管の製造方法に関し、特に同時に複数の蛍光表示管のフィラメントに通電して活性化することにより、複数の蛍光表示管を同時に製造する方法と、これに用いられる製造装置に関するものである。
蛍光表示管の製造方法・装置として下記特許文献1に開示されているものがある。この方法では、陽極基板、前面板、スペーサフレームをそれぞれ独立に準備し、各部品を組合わせて加熱封着している。すなわち、スペーサフレームのフィラメント電極部分を電極部分から分離した後、1つのチャンバー内に複数の蛍光表示管を配列し、各蛍光表示管のフィラメント電極にフィラメント活性化用の電極を接続してセットし、そして、そのチャンバー内でフィラメントの活性化、排気、封止を順次行い蛍光表示管を完成させるようにしている。
特開昭52−45865号公報
前記特許文献1記載の方法では、封着まで完了したパネルをチャンバー内に複数セットし、それぞれのフィラメント電極に電源を接続し、活性化を行っていたが、このような方法ではバッチ毎に加熱、冷却を必要とし、プロセスに長時間を要し、エネルギーの無駄が多かった。
フィラメントはタングステンの細線を芯線とし、これにバリウム(Ba)、ストロンチウム(Sr)、カルシウム(Ca)の三元の炭酸塩を電着して準備する。蛍光表示管の管内を真空にする排気工程でフィラメントを加熱して前記三元炭酸塩を酸化物陰極として熱分解し、電子放出源として機能しうる状態にすることをフィラメントの活性化という。
熱分解により発生する炭酸ガスがフィラメントの周囲に存在するとフィラメントの活性化を阻害するので、炭酸ガスは速やかに排気する必要がある。しかし、蛍光表示管が形作られた後にチャンバー内にこれを複数セットした場合は、蛍光表示管の管内からの排気抵抗が高いので装置の排気口との位置関係等により個々の蛍光表示管毎に炭酸ガスの排気状況がばらついて活性化の均一性が損なわれることがあった。
フィラメントはタングステンの細線を芯線とし、これにバリウム(Ba)、ストロンチウム(Sr)、カルシウム(Ca)の三元の炭酸塩を電着して準備する。蛍光表示管の管内を真空にする排気工程でフィラメントを加熱して前記三元炭酸塩を酸化物陰極として熱分解し、電子放出源として機能しうる状態にすることをフィラメントの活性化という。
熱分解により発生する炭酸ガスがフィラメントの周囲に存在するとフィラメントの活性化を阻害するので、炭酸ガスは速やかに排気する必要がある。しかし、蛍光表示管が形作られた後にチャンバー内にこれを複数セットした場合は、蛍光表示管の管内からの排気抵抗が高いので装置の排気口との位置関係等により個々の蛍光表示管毎に炭酸ガスの排気状況がばらついて活性化の均一性が損なわれることがあった。
以上のように従来技術では、特に複数の蛍光表示管に対して同時にフィラメントの活性化処理を行うことは、パネルごとのセッティング状況が異なるため、フィラメントの活性化を均一に効率良く行うことは困難であった。特に、プロセス時間の短縮、エネルギー消費を低減できるインライン型装置においては、フィラメント活性化の均一性や効率が悪いため、高効率のインライン型装置の特徴を生かし切れていなかった。
そこで本発明は、以上の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、フィラメントを電子源としている蛍光表示管の製造工程において、複数個の蛍光表示管に対して同時にフィラメント活性化のための通電処理を均一に行うことができる方法及び装置を提供することにある。
請求項1に記載された蛍光表示管の製造方法は、
少なくとも一対の基板を有する真空容器の内部に電子源であるフィラメントと、該フィラメントから放出される電子の射突を受けて発光する蛍光体を有する陽極とを備えた蛍光表示管の製造方法において、
前記一対の基板をそれぞれ複数枚取り出しうる大きさの一対の共通基板の一方に、前記蛍光表示管となる複数の小領域を設定し、
前記蛍光表示管にそれぞれ設けられるフィラメントと接続される一対の配線パターンを前記各小領域に設けるとともに、前記小領域の各配線パターンを共通に接続する一対の共通配線を前記各小領域外の前記共通基板上に設け、
前記各小領域の前記各配線パターンにそれぞれ前記フィラメントを接続し、
前記蛍光表示管の製造工程において、高真空雰囲気内で前記共通配線に通電することにより複数の前記小領域のフィラメントを一括して均一に活性化することを特徴としている。
少なくとも一対の基板を有する真空容器の内部に電子源であるフィラメントと、該フィラメントから放出される電子の射突を受けて発光する蛍光体を有する陽極とを備えた蛍光表示管の製造方法において、
前記一対の基板をそれぞれ複数枚取り出しうる大きさの一対の共通基板の一方に、前記蛍光表示管となる複数の小領域を設定し、
前記蛍光表示管にそれぞれ設けられるフィラメントと接続される一対の配線パターンを前記各小領域に設けるとともに、前記小領域の各配線パターンを共通に接続する一対の共通配線を前記各小領域外の前記共通基板上に設け、
前記各小領域の前記各配線パターンにそれぞれ前記フィラメントを接続し、
前記蛍光表示管の製造工程において、高真空雰囲気内で前記共通配線に通電することにより複数の前記小領域のフィラメントを一括して均一に活性化することを特徴としている。
請求項2に記載された蛍光表示管の製造装置は、
蛍光表示管となる複数の小領域が設定され、各小領域ごとに設けられてフィラメントが張設される一対の配線パターンと、各小領域の一対の配線パターンを共通に接続して前記各小領域外に設けられた一対の共通配線とを有する第1の共通基板に対し、第2の共通基板を対面させて各小領域ごとに封着し、複数の蛍光表示管を同時に製造する蛍光表示管の製造装置において、
排気手段及び加熱手段を備えた気密室と、
前記気密室内に移動自在に設けられて前記共通配線に所定圧力で接触する移動式電極とを備え、
前記蛍光表示管の製造工程において、前記移動式電極を移動させ、その先端部を前記共通配線に接触させて通電することにより、前記共通配線を介して各小領域の前記フィラメントに同時に通電を行うように構成されたことを特徴としている。
蛍光表示管となる複数の小領域が設定され、各小領域ごとに設けられてフィラメントが張設される一対の配線パターンと、各小領域の一対の配線パターンを共通に接続して前記各小領域外に設けられた一対の共通配線とを有する第1の共通基板に対し、第2の共通基板を対面させて各小領域ごとに封着し、複数の蛍光表示管を同時に製造する蛍光表示管の製造装置において、
排気手段及び加熱手段を備えた気密室と、
前記気密室内に移動自在に設けられて前記共通配線に所定圧力で接触する移動式電極とを備え、
前記蛍光表示管の製造工程において、前記移動式電極を移動させ、その先端部を前記共通配線に接触させて通電することにより、前記共通配線を介して各小領域の前記フィラメントに同時に通電を行うように構成されたことを特徴としている。
請求項3に記載された蛍光表示管の製造方法は、請求項1記載の蛍光表示管の製造方法において、
複数の前記小領域のフィラメントを一括して活性化する作業が、前記一対の共通基板が前記小領域ごとに互いに封着される前に行われることを特徴としている。
複数の前記小領域のフィラメントを一括して活性化する作業が、前記一対の共通基板が前記小領域ごとに互いに封着される前に行われることを特徴としている。
請求項4に記載された蛍光表示管の製造装置は、請求項2記載の蛍光表示管の製造装置において、
前記共通配線を介して各小領域の前記フィラメントに同時に通電を行う作業が、前記第1の共通基板と前記第2の共通基板が前記各小領域ごとに封着される前に行われるように構成されたことを特徴としている。
前記共通配線を介して各小領域の前記フィラメントに同時に通電を行う作業が、前記第1の共通基板と前記第2の共通基板が前記各小領域ごとに封着される前に行われるように構成されたことを特徴としている。
本発明の方法によれば、次のような効果が得られる。
まず、インライン又はバッチ方式の製造装置により、多数の蛍光表時間の多数のフィラメントの点火を通電により一括で行うことができ、工程時間の短縮が可能となる。
まず、インライン又はバッチ方式の製造装置により、多数の蛍光表時間の多数のフィラメントの点火を通電により一括で行うことができ、工程時間の短縮が可能となる。
また、陰極側の共通基板、陽極側の共通基板共に、蛍光表示管1個の外径寸法より大きく、少なくともその数個分のサイズの共通基板(例えば□300寸法の共通基板)で最終工程まで処理することが可能となり、一個の処理に対する最終製品の取数が増加し、生産性が向上する。さらに、取り扱う基板サイズが一定に統一できるため、ワークサイズ毎に治工具の交換や段取変更がない。更に、品種ごとへの切り替えに対する負担が少ないか又はほとんどなくなる。
同一ロットでのフィラメントの活性化処理が均一に行われるため、製造パネル品質の均質化を容易に図ることができる。特にフィラメントの活性化処理後に両共通基板を封着する場合は、フィラメント活性化時の両共通基板間の排気抵抗が小さく脱ガスが容易に行えるため活性化処理をより均一に行い更なる製造パネル品質の均一性向上が可能となる。
更に、蛍光表示管として完成後に単品にカットするので、従来のように工程途中でガラスクズが管内に入ることがなく、不良を低減できる。
本発明の製造装置によれば、1つの移動式電極を移動させて該電極を各蛍光表示管の各フィラメントに接続される共通配線に接触させ、電圧を印加すれば、複数の蛍光表示管の複数のフィラメントに一斉に均一通電して活性化処理を一括して均一に行うことができる。
以下、本発明の最良の実施の形態につき図1〜図5を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の実施形態(以下、本例と呼ぶ)に係る製造装置の全体構成を示す模式図及び製造工程における昇温の状態を上記模式図に対応させて示した図であり、図2は同製造装置の詳細を示す正面図、図3は図2のa−a切断線における断面図、図4は本発明において製造される蛍光発光装置が多数構成されたパネルを示し、分図(a)は平面図、分図(b)は分図(a)のb−b切断線における断面図であり、図5(a)〜(d)は同製造工程を示す断面説明図である。
図1は、本発明の実施形態(以下、本例と呼ぶ)に係る製造装置の全体構成を示す模式図及び製造工程における昇温の状態を上記模式図に対応させて示した図であり、図2は同製造装置の詳細を示す正面図、図3は図2のa−a切断線における断面図、図4は本発明において製造される蛍光発光装置が多数構成されたパネルを示し、分図(a)は平面図、分図(b)は分図(a)のb−b切断線における断面図であり、図5(a)〜(d)は同製造工程を示す断面説明図である。
本例の製造装置10は、図1に示すように、複数の処理室として、焼成室11と、真空焼成室12と、封止室13と、冷却室14を有している。これら4つの処理室11〜14はこの順で互いに連通して配置されており、その連通部分には開閉自在で材料が通過可能な気密構造のロードロック15がそれぞれ設けられている。
そして、4つの処理室11〜14には、それぞれ排気手段16が連通しており、前記ロードロック15の閉止により各処理室内を工程に応じた所望の真空状態にすることができる。
さらに、焼成室11,封止室13及び冷却室14にはガス導入手段18が接続連通しており、工程に応じた所望の種類のガスを各処理室内に所望の量だけ導入して所望の処理雰囲気とすることができる。
図2、図3は前記装置10のより詳しい構成を示している。図2では装置10の側壁を省略して図示している。装置10における焼成室11の上下には加熱手段としてのヒータ17が設けられている。また詳細は図示しないが、真空焼成室12と封止室にも加熱手段としての温度調整手段が設けられており、工程に応じてパネル構成材料の温度を適宜調整できるようにしている。
ヒータ17間には後述する基板設置用のトレー20が設置されている。このトレー20は搬送手段としての支持ローラ30により各処理室内を移動可能となっている。
封止室13内には、特に図3に示すように、封止室13の上部の壁体を気密に貫通して内部に突出するように移動式電極40が配置されており、その先端には一対の接触子40aが設けられている。この一対の接触子40aは、加工対象である後述の共通基板のフィラメント用共通電極の端部に形成された電極ターミナルに所定の圧力で接触し、この状態で外部電源より電圧を印加することにより、共通基板に作り込まれた複数の蛍光表示管の多数のフィラメントに同時に通電を行い、酸化物陰極として活性化を行うことができる。この移動式電極40には緩衝手段として図示しないばね手段などが設けられ、電極ターミナルに接触した際にはそのばね圧により常時一定の接触圧を保ち、接触圧変動に伴う接触抵抗の変動によりフィラメントに電圧変動が生じるのを防止することができる。
なお、図中符号33は前記トレー20を移送方向にガイドする図示しないラック・ピニオンなどを駆動するための駆動機構、符号50は移送の際にトレー20の蛇行を防止するためのガイド手段である。
次に、以上の製造装置を用い、一対の大型の基板から複数個の蛍光表示管を一度に製造する製造工程(所謂多数個取りの製造工程)を図4を用いて説明する。
図4(a)に想像線にて示すように、ガラス製の第1の共通基板1には、蛍光表示管Aの陰極基板となる外形の等しい複数の小領域が所定間隔で並べて設定されている。図では、6個の蛍光表示管Aに対応する6つの小領域を一列に配列した例を示している。
図4(a)に想像線にて示すように、ガラス製の第1の共通基板1には、蛍光表示管Aの陰極基板となる外形の等しい複数の小領域が所定間隔で並べて設定されている。図では、6個の蛍光表示管Aに対応する6つの小領域を一列に配列した例を示している。
各小領域の両端部には一対の配線パターン7,7が形成されており、各小領域の各一対の配線パターン7,7には、それぞれ電子源であるフィラメント5が接続されている。フィラメント5の接続形態は特に問わないが、金属製のアンカーとサポート等の支持体によるものでもよいし、フィラメント5の端部を配線パターン7に直付けし、絶縁性のスペーサを介して中空に持ち上げる構造でもよい。そして、各小領域の各配線パターン7は、各小領域外の前記共通基板1上に設けられた一対の共通配線4,4で共通に接続され、共通基板1の一端部に引き出されて、前記製造装置10の移動式電極40が接触するためのターミナル4a,4bとなっている。
なお、本例の配線パターン7、共通配線4及びターミナル4aは、アルミニウムからなる薄膜であり、一工程で一体に製造される。また、移動式電極40をターミナル4aに接触させて通電した際に、共通配線4に生じる電圧降下は、同時に電圧を印加しようとしている複数の蛍光表示管Aのフィラメント5に生じる電圧に差を生じさせ、共通基板1内での小領域の配置によってフィラメント5の点火条件(電流を流して加熱することによりフィラメントに設けた電子放出物質の活性化を行う際の条件)に差を生じさせてしまう可能性がある。そこで、共通配線4の幅は設計上可能な限り幅を広くとり、抵抗を小さくすることが好ましい。幅が広くとれない場合には、厚さを十分にして抵抗を小さくしてもよい。なお、前述したように移動式電極40の先端には接触圧を一定かつ安定させるためにばね手段が設けられているので、移動式電極40がターミナル4aに接触して通電する際の接触抵抗による電圧降下は十分に小さい。
第1の共通基板1の上には、各小領域を囲むように、図示しない排気用の間隙を備えたシール材3が枠状に設けられており、その上に、各蛍光表示管Aの陽極基板となる第2の共通基板2が重ねられている。この第2の共通基板2の外形は第1の共通基板1と同等である。各蛍光表示管Aの陰極基板となる共通基板1の内面に対面する共通基板2は、各蛍光表示管Aの陽極基板となる部材であり、共通基板1の各小領域に対応する部分には、陽極導体と蛍光体層からなる発光表示部としての陽極(図示せず)がそれぞれ形成されている。尚、各蛍光表示管Aの陰極基板となる共通基板1の各小領域に発光表示部としての陽極を形成してもよい。
そして、第2の共通基板2と第1の共通基板1は、横方向の辺は一致しているが、長手方向については互いにずらした状態となるように組み合わされている。従って、第1の共通基板1の前記一端部は第2の共通基板2に覆われておらず、前記第1の共通基板2のターミナル4a,4bは、上方向に露出しており、上方の所定位置から下降してくる前記製造装置10の移動式電極40はこれに接触することができる。
以上のように、6個の蛍光表示管Aのフィラメント5が共通配線4で接続された第1の共通基板1と、これに対応して6箇所に陽極が形成された第2の共通基板2がシール材3を間において所定間隔で組み合わされ、これが前記製造装置10に投入されて加熱、封着、排気、封止といった製造工程を経ることで、6個の蛍光表示管Aが一体となった製品が製造され、後はこれを6個の蛍光表示管Aに切り分けることで6個の最終製品が得られる。
次に上記製造手順を図5(a)〜(d)を用い、かつ前述の図1〜4を援用して説明する。
1)基板のセット
まず、図5(a)に示すように、トレ−20上に前記共通基板1を位置決め設置した上で、同図(b)に示すように、陰極基板1上に陽極基板2を位置決め設置した後、焼成室11内に投入する。前述したように、共通基板2は前記共通基板1と同様の寸法であって、共通基板1と対応するよう複数の蛍光表示管Aのパターンを形成・配列したものであり、前記ターミナル4a,4bは上方に露出した状態である。
なお共通基板1上に設けられて両基板1,2間に位置するシール部3には、詳細は図示しないが、部分的に突起を設けるなどして両者の隙間が確保されているので、後述する工程で室内を排気しながら加圧・封着すれば、両基板1,2の内部を高真空状態とするとともに、シール部分の隙間を埋めて封止することができる。
1)基板のセット
まず、図5(a)に示すように、トレ−20上に前記共通基板1を位置決め設置した上で、同図(b)に示すように、陰極基板1上に陽極基板2を位置決め設置した後、焼成室11内に投入する。前述したように、共通基板2は前記共通基板1と同様の寸法であって、共通基板1と対応するよう複数の蛍光表示管Aのパターンを形成・配列したものであり、前記ターミナル4a,4bは上方に露出した状態である。
なお共通基板1上に設けられて両基板1,2間に位置するシール部3には、詳細は図示しないが、部分的に突起を設けるなどして両者の隙間が確保されているので、後述する工程で室内を排気しながら加圧・封着すれば、両基板1,2の内部を高真空状態とするとともに、シール部分の隙間を埋めて封止することができる。
2)焼成工程
焼成室11において、大気焼成、特定雰囲気焼成、真空焼成の過程を経てヒータ17により迅速かつ安定した昇温を行い、300〜400℃まで加熱して焼成を行う。
焼成室11において、大気焼成、特定雰囲気焼成、真空焼成の過程を経てヒータ17により迅速かつ安定した昇温を行い、300〜400℃まで加熱して焼成を行う。
3)焼成工程
焼成室11での焼成後、ロードロック15を解放し、トレー20を真空焼成室12に移動し、ロードロック15の閉鎖後、排気手段16を駆動しつつ、シール部3も含めた脱ガスを400〜500℃で行う。
焼成室11での焼成後、ロードロック15を解放し、トレー20を真空焼成室12に移動し、ロードロック15の閉鎖後、排気手段16を駆動しつつ、シール部3も含めた脱ガスを400〜500℃で行う。
4)フィラメント活性化・封止工程
その後ロードロック15を解放してトレー20を封止室13内に移動し、封止室13内で温度を300〜400℃まで戻すとともに、高真空を維持した状態で、所定位置に位置決めした後、図5(c)に示すように、移動式電極40を下降させ、その一対の接触子40aを両ターミナル4a,4bに所定圧力で接触させ、外部電源により電圧を印加する。これにより、接触子40a及び共通配線4を通じて、複数の各蛍光表示管Aが有する各フィラメント5に一定電圧を一定時間一度に通電し、この一括した通電処理により、すべてのフィラメント5において未分解の炭酸塩を酸化物に変化させて活性化させる作業が完了する。なお、この活性化の過程でフィラメント5から放出されたガスは封止室13外に排気される。
その後ロードロック15を解放してトレー20を封止室13内に移動し、封止室13内で温度を300〜400℃まで戻すとともに、高真空を維持した状態で、所定位置に位置決めした後、図5(c)に示すように、移動式電極40を下降させ、その一対の接触子40aを両ターミナル4a,4bに所定圧力で接触させ、外部電源により電圧を印加する。これにより、接触子40a及び共通配線4を通じて、複数の各蛍光表示管Aが有する各フィラメント5に一定電圧を一定時間一度に通電し、この一括した通電処理により、すべてのフィラメント5において未分解の炭酸塩を酸化物に変化させて活性化させる作業が完了する。なお、この活性化の過程でフィラメント5から放出されたガスは封止室13外に排気される。
活性化させた後は、移動式電極40を上昇させてターミナル4a,4bから離間させる一方、共通基板1,2は位置決め状態のまま、同室内にある図示しない加圧機構を下降させて陽極側の共通基板2の上面を加圧しつつ、共通基板2と共通基板1における各表示管Aのパターンの輪郭に沿ってシール部3を加熱溶融させ、両共通基板1,2間を完全にシールし、直ちに冷却してシール部3を固化させ、図5(d)に示すように、共通基板1と共通基板2同士を固着し、各蛍光表示管Aの内部を気密に封止する。
5)冷却工程
トレー20ごと冷却室14に移送し、特定雰囲気中で室温まで引下げた後、一体化された基板1,2を装置10から取出す。
トレー20ごと冷却室14に移送し、特定雰囲気中で室温まで引下げた後、一体化された基板1,2を装置10から取出す。
6)ゲッター活性化工程
その後は、封止された各蛍光表示管A内にある図示しないゲッターを活性化することにより、蛍光表示管A内の真空度をさらに高める。
その後は、封止された各蛍光表示管A内にある図示しないゲッターを活性化することにより、蛍光表示管A内の真空度をさらに高める。
7)切出し工程
以上の各処理の後、各表示管Aのパターンの外郭に沿って適当な形状で切出しを行うことで、各蛍光表示管Aは個別に分離され、最終製品として完成する。上記切出し工程において、蛍光表示管と一体となった共通基板のうち、フィラメント5に接続されている共通配線4が設けられている部分を、蛍光表示管の外形から突出するような形状で残せば、フィラメント等の内部電極に導通する外部端子部とすることができる。
以上の各処理の後、各表示管Aのパターンの外郭に沿って適当な形状で切出しを行うことで、各蛍光表示管Aは個別に分離され、最終製品として完成する。上記切出し工程において、蛍光表示管と一体となった共通基板のうち、フィラメント5に接続されている共通配線4が設けられている部分を、蛍光表示管の外形から突出するような形状で残せば、フィラメント等の内部電極に導通する外部端子部とすることができる。
なお以上の実施形態では、1つの基板から蛍光表示管Aを6個取りしたが、得ようとする蛍光表示管の大きさや装置規模に応じてそれ以上または以下の多数個取りが可能であり、いずれにおいても1ロット製造毎に均質な複数の蛍光表示管を得ることができる。
以上説明したように、本例では、気密状態に保持可能な各処理室がロードロックで気密に接続されたインライン式の製造装置10を用いて製造を行ったが、もちろんバッチ式の製造装置においても、本例で行ったような共通電極によって多数の蛍光表示管のフィラメントを一括した通電で活性化処理する多数個取りの製造工程を行うことができる。
さらに、本例では、蛍光表示管は2枚の基板の間の空間を高真空状態にしてシール材で封止した構造であったが、内部の排気はいずれか一方の基板に設けた排気孔から行い、排気後にその孔を蓋材で封止する構造であっても、本発明の製造装置及び製造方法が適用可能であることは同様である。
1、2…共通基板(1は陰極基板用の共通基板、2は陽極基板用の共通基板)
3…シール部
4…金属導電膜からなる共通配線
4a、4b…ターミナル
5…フィラメント
10…製造装置
11…焼成室
12…真空焼成室
13…封止室
14…冷却室
16…排気手段
40…移動式電極
40a…接触子
A…蛍光表示管
3…シール部
4…金属導電膜からなる共通配線
4a、4b…ターミナル
5…フィラメント
10…製造装置
11…焼成室
12…真空焼成室
13…封止室
14…冷却室
16…排気手段
40…移動式電極
40a…接触子
A…蛍光表示管
Claims (4)
- 少なくとも一対の基板を有する真空容器の内部に電子源であるフィラメントと、該フィラメントから放出される電子の射突を受けて発光する蛍光体を有する陽極とを備えた蛍光表示管の製造方法において、
前記一対の基板をそれぞれ複数枚取り出しうる大きさの一対の共通基板の一方に、前記蛍光表示管となる複数の小領域を設定し、
前記蛍光表示管にそれぞれ設けられるフィラメントと接続される一対の配線パターンを前記各小領域に設けるとともに、前記小領域の各配線パターンを共通に接続する一対の共通配線を前記各小領域外の前記共通基板上に設け、
前記各小領域の前記各配線パターンにそれぞれ前記フィラメントを接続し、
前記蛍光表示管の製造工程において、高真空雰囲気内で前記共通配線に通電することにより複数の前記小領域のフィラメントを一括して活性化することを特徴とする蛍光表示管の製造方法。 - 蛍光表示管となる複数の小領域が設定され、各小領域ごとに設けられてフィラメントが張設される一対の配線パターンと、各小領域の一対の配線パターンを共通に接続して前記各小領域外に設けられた一対の共通配線とを有する第1の共通基板に対し、第2の共通基板を対面させて各小領域ごとに封着し、複数の蛍光表示管を同時に製造する蛍光表示管の製造装置において、
排気手段及び加熱手段を備えた気密室と、
前記気密室内に移動自在に設けられて前記共通配線に所定圧力で接触する移動式電極とを備え、
前記蛍光表示管の製造工程において、前記移動式電極を移動させ、その先端部を前記共通配線に接触させて通電することにより、前記共通配線を介して各小領域の前記フィラメントに同時に通電を行うように構成されたことを特徴とする蛍光表示管の製造装置。 - 複数の前記小領域のフィラメントを一括して活性化する作業が、前記一対の共通基板が前記小領域ごとに互いに封着される前に行われることを特徴とする請求項1記載の蛍光表示管の製造方法。
- 前記共通配線を介して各小領域の前記フィラメントに同時に通電を行う作業が、前記第1の共通基板と前記第2の共通基板が前記各小領域ごとに封着される前に行われるように構成されたことを特徴とする請求項2記載の蛍光表示管の製造装置。
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JP2005152612A JP2006331789A (ja) | 2005-05-25 | 2005-05-25 | 蛍光表示管の製造方法及び製造装置 |
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JP2013008944A (ja) * | 2011-05-21 | 2013-01-10 | Futaba Corp | 薄膜半導体装置と薄膜半導体装置を用いた表示装置 |
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- 2005-05-25 JP JP2005152612A patent/JP2006331789A/ja active Pending
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