JP2006330280A - Optical circuit structure and optical module - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical circuit structure and an optical module which reduce manufacturing costs and can be miniaturized. <P>SOLUTION: The optical circuit structure includes a waveguide having a clad and a core, a filter insertion groove 32 which is formed in the clad and has an adhesive supplied thereto, and a groove 22 being a means which is disposed a prescribed distance apart from the filter insertion groove 21 and prevents the adhesive from flowing out of a prescribed area. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、光回路構造およびその製造方法に関し、より詳細には、光回路(例えば、平面型光回路など)における樹脂(例えば、接着剤など)の広がりの実装への影響を軽減する光回路構造および光モジュールに関するものである。   The present invention relates to an optical circuit structure and a method for manufacturing the same, and more particularly, an optical circuit that reduces the influence of spreading of a resin (for example, an adhesive) on an optical circuit (for example, a planar optical circuit) on mounting. The present invention relates to a structure and an optical module.

近年、高度情報化に伴い大容量の情報を伝達したいという要望から、高速で大容量の情報が伝達可能な光通信システムが注目されている。このような光通信システムにおいて、高速で大容量な通信網を構築する伝送媒体として光ファイバが用いられており、この光ファイバを大容量化するための技術として、WDM(Wavelength Division Multiplexing)技術が注目されている。   In recent years, optical communication systems capable of transmitting large volumes of information at high speed have attracted attention because of the desire to transmit large volumes of information with the advancement of information technology. In such an optical communication system, an optical fiber is used as a transmission medium for constructing a high-speed and large-capacity communication network. As a technique for increasing the capacity of this optical fiber, a WDM (Wavelength Division Multiplexing) technique is used. Attention has been paid.

このWDMでは、一本の光ファイバに個々に異なる波長の光信号を多重化させていることから、特に、光信号の送受信機(トランシーバ)において、異なる波長の光信号を合波・分波する手段が必要となる。このような合波・分波手段の一例として、誘電体多層膜フィルタ等の波長選択フィルタが用いられており、特許文献1には、この波長選択フィルタの導波路基板上への実装が開示されている。   In this WDM, since optical signals of different wavelengths are individually multiplexed on a single optical fiber, optical signals of different wavelengths are multiplexed / demultiplexed particularly in an optical signal transceiver (transceiver). Means are needed. As an example of such multiplexing / demultiplexing means, a wavelength selective filter such as a dielectric multilayer filter is used. Patent Document 1 discloses mounting of this wavelength selective filter on a waveguide substrate. ing.

このような、波長選択フィルタの導波路基板への実装の一例では、接着剤によって波長選択フィルタを導波路基板への固定を行っている。
特開平11−258455号公報
In such an example of mounting the wavelength selective filter on the waveguide substrate, the wavelength selective filter is fixed to the waveguide substrate with an adhesive.
JP 11-258455 A

しかしながら、上記接着剤は粘性が高くないため、すなわち流動性が高いため、広がる性質があり、接着剤によって固定されたフィルタ近傍に他の素子(フィルタ、波長板、半導体素子、電極等)がある場合、広がった接着剤はそれら他の素子に到達することがある。その結果、他の素子に悪影響を及ぼす可能性がある。このような接着剤の広がりによる他の素子への影響を軽減するために、素子同士を十分離すことが考えられるが、これでは素子面積の増大を招いてしまい、デバイスの小型化が困難になり、またコストアップに繋がってしまう。   However, since the adhesive is not highly viscous, that is, has high fluidity, it has a spreading property, and there are other elements (filter, wave plate, semiconductor element, electrode, etc.) in the vicinity of the filter fixed by the adhesive. In some cases, the spread adhesive can reach those other elements. As a result, other elements may be adversely affected. In order to reduce the influence on the other elements due to the spread of such an adhesive, it is conceivable that the elements are sufficiently separated from each other. However, this increases the element area and makes it difficult to reduce the size of the device. And it leads to cost increase.

また、デバイスの低価格化という課題に答えるため、光学ベンチを用いたパッシブアライメント実装が多く提案されている。この方法は、フィルタを載せたPLC上に第1の凹凸を形成し、光学ベンチにそれら第1の凹凸に嵌合する第2の凹凸を形成し、位置合わせを行う方法である。   In addition, in order to answer the problem of cost reduction of devices, many passive alignment mountings using an optical bench have been proposed. In this method, first unevenness is formed on a PLC on which a filter is placed, and second unevenness that fits into the first unevenness is formed on the optical bench, and alignment is performed.

このような方法では、PLCについてフィルタが形成された面をひっくり返して光学ベンチに実装する場合、PLCと光学ベンチとの間の隙間は狭くなるため、PLC上の接着剤が予期せぬところ(例えば、PLCのフィルタが形成された面における、ひっくり返して光学ベンチに実装する際に、光学ベンチの平面部と対向する領域等)に付着していると、位置合わせができなくなる。よって、PLCの予期せぬところに付着した接着剤を除去する工程を新たに設けなくてはならず、製造時間の長期化や製造コストの増大に繋がってしまう。   In such a method, when the surface of the PLC on which the filter is formed is turned over and mounted on the optical bench, the gap between the PLC and the optical bench is narrowed, so that the adhesive on the PLC is unexpected ( For example, when it is turned over and mounted on the optical bench on the surface on which the PLC filter is formed, if it is attached to a region facing the flat portion of the optical bench, etc., the alignment cannot be performed. Therefore, it is necessary to newly provide a process for removing the adhesive adhering to an unexpected part of the PLC, leading to a longer manufacturing time and an increased manufacturing cost.

これは、嵌合によりPLCと光学ベンチとを接続する実装方法に限らず、PLC等の光回路の所望の面をひっくり返して光学ベンチ等の他の部材に実装する場合にはいずれの方法でも問題となる。   This is not limited to the mounting method in which the PLC and the optical bench are connected by fitting, and any method can be used when the desired surface of the optical circuit such as the PLC is turned over and mounted on another member such as the optical bench. It becomes a problem.

また上記パッシブアライメント実装の場合、フィルタをPLCに接着させるために用いた接着剤がPLC上に形成された凹凸部(光学ベンチの凹凸部に嵌合させる部材)まで広がり、該凹凸部に付着すると窪みが狭くなったり凸部が広くなったりして、PLCの凹凸部と光学ベンチの凹凸部との嵌合が十分に行えなくなる可能性がある。   In the case of the passive alignment mounting described above, when the adhesive used to adhere the filter to the PLC spreads to the uneven portion (a member to be fitted to the uneven portion of the optical bench) formed on the PLC, and adheres to the uneven portion. There is a possibility that the recesses are narrowed or the convex portions are widened, so that the uneven portions of the PLC and the uneven portions of the optical bench cannot be sufficiently fitted.

さて、光の合波・分波手段として、AWG(Arrayed Waveguide Grating)も広く用いられている。このAWGには、AWGを構成する石英ガラスの有する若干の屈折率の温度依存性による、透過中心波長の温度依存性があり、この温度依存性を補償するために、ペルチェ素子やヒータ等を設ける必要がある。このような温度補償素子を設けると、製造コストの増大やデバイスの大型化に繋がるので、AWGのアサーマル化(温度無依存化)が求められている。   AWG (Arrayed Waveguide Grating) is also widely used as a light multiplexing / demultiplexing means. This AWG has a temperature dependence of the transmission center wavelength due to the temperature dependence of the refractive index of the quartz glass constituting the AWG. In order to compensate for this temperature dependence, a Peltier element or a heater is provided. There is a need. Providing such a temperature compensation element leads to an increase in manufacturing cost and an increase in the size of the device. Therefore, it is required to make the AWG athermal (temperature independent).

図1(a)は、従来のアサーマルAWGの一例を示す図であり、図1(b)は、図1(a)中の拡大部分Xを示す図であり、図1(c)は、図1(b)のA−A’線切断断面図である。   FIG. 1A is a diagram showing an example of a conventional athermal AWG, FIG. 1B is a diagram showing an enlarged portion X in FIG. 1A, and FIG. It is AA 'line cutting | disconnection sectional drawing of 1 (b).

図(a)において、アサーマルAWG200は、1つの導波路からなる入出力導波路201、該入出力導波路201に接続されたスラブ導波路202、該スラブ導波路202に接続された、光路長が互いに異なるアレイ導波路203、該アレイ導波路203に接続されたスラブ導波路204、該スラブ導波路に接続された、複数の導波路からなる入出力導波路205を備えている。   In FIG. 1A, an athermal AWG 200 has an input / output waveguide 201 composed of one waveguide, a slab waveguide 202 connected to the input / output waveguide 201, and an optical path length connected to the slab waveguide 202. A different arrayed waveguide 203, a slab waveguide 204 connected to the arrayed waveguide 203, and an input / output waveguide 205 composed of a plurality of waveguides connected to the slab waveguide are provided.

図1(a)において、アレイ導波路1(アレイ導波路203)は、複数の導波路コア2とクラッド3とを有している。クラッド3には、アレイ導波路1の長手方向に対して略垂直方向に、アサーマル溝4が導波路コア2を貫通するように形成されている。アサーマル溝4には、アサーマル樹脂としてのシリコーン5が充填されており、このシリコーン5の充填により、アレイ導波路1を構成する石英ガラスの有する温度依存性を補償している。このとき、図1(b)、(c)に示されるように、シリコーン5はアサーマル溝4に収まりきれず、アサーマル溝4から広がっている。   In FIG. 1A, the arrayed waveguide 1 (arrayed waveguide 203) has a plurality of waveguide cores 2 and claddings 3. An athermal groove 4 is formed in the cladding 3 so as to penetrate the waveguide core 2 in a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the arrayed waveguide 1. The athermal groove 4 is filled with silicone 5 as an athermal resin, and the filling of the silicone 5 compensates the temperature dependency of the quartz glass constituting the arrayed waveguide 1. At this time, as shown in FIGS. 1B and 1C, the silicone 5 does not fit in the athermal groove 4 but spreads from the athermal groove 4.

また、クラッド3には、アレイ導波路1の長手方向に対して略垂直方向に、溝6が導波路コア2を貫通するように形成されている。溝6には波長板7が嵌め込まれており、接着剤8によって固定されている。このとき、接着剤8についてもシリコーン5と同様に波長板7から広がっている。   In addition, a groove 6 is formed in the clad 3 so as to penetrate the waveguide core 2 in a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the arrayed waveguide 1. A wave plate 7 is fitted in the groove 6 and fixed by an adhesive 8. At this time, the adhesive 8 spreads from the wave plate 7 as well as the silicone 5.

このようなアサーマルAWGを作製する際、まず、アレイ導波路1のクラッド3に対して、ダイシングなどによりアサーマル溝4を形成し、該アサーマル溝4にシリコーン5を充填する。チップ特性確認後、シリコーン5充填の状態でダイシングにより溝6を形成して、該溝に波長板7を挿入し、接着剤8にて波長板7を固定する。   When manufacturing such an athermal AWG, first, an athermal groove 4 is formed on the clad 3 of the arrayed waveguide 1 by dicing or the like, and the athermal groove 4 is filled with silicone 5. After confirming the chip characteristics, a groove 6 is formed by dicing while filling the silicone 5, the wave plate 7 is inserted into the groove, and the wave plate 7 is fixed with an adhesive 8.

しかしながら、シリコーン5充填の状態で波長板7を挿入する際、波長板を挿入する溝6を形成する際に用いるダイシング刃がシリコーン5に接触することがある。この接触により、シリコーン5への機械的ダメージが発生し、この機械的ダメージでシリコーン5が剥離したり、光学特性、信頼性の劣化を招いてしまう。   However, when the wave plate 7 is inserted with the silicone 5 filled, a dicing blade used to form the groove 6 into which the wave plate is inserted may come into contact with the silicone 5. Due to this contact, mechanical damage to the silicone 5 occurs, and the silicone 5 peels off due to this mechanical damage, or optical characteristics and reliability are deteriorated.

このような問題を解決するために、従来では、1)波長板7用の溝6とアサーマル溝4とを十分離すことによって、上記ダイシング刃によるダメージを回避していた。または、2)溝6を形成する前に、一度シリコーン5を剥離・洗浄してから、溝6を形成し、波長板7を挿入した後に、再度シリコーン5を充填することで、ダイシング刃のダメージを回避していた。   In order to solve such a problem, conventionally, 1) the groove 6 for the wave plate 7 and the athermal groove 4 are separated sufficiently to avoid the damage caused by the dicing blade. Or 2) Before forming the groove 6, the silicone 5 is peeled and washed once, then the groove 6 is formed, the wave plate 7 is inserted, and then the silicone 5 is filled again, thereby causing damage to the dicing blade. Was avoiding.

しかしながら、1)では、溝6とアサーマル溝4とを十分離して形成すると、その分光回路は大きくなってしまい、デバイスの大型化に繋がってしまう。また、2)では、一度シリコーン5を剥離・洗浄し、波長板7を挿入後、再度、シリコーン5を充填するため、複雑な工程を要してしまい、製造コストが増加し、コスト増に繋がってしまう。   However, in 1), if the groove 6 and the athermal groove 4 are formed sufficiently separated, the spectroscopic circuit becomes large, which leads to an increase in the size of the device. In 2), once the silicone 5 is peeled and washed, and after the wave plate 7 is inserted, the silicone 5 is filled again, which requires a complicated process, resulting in an increase in manufacturing cost and an increase in cost. End up.

上述の他に、半導体レーザ(LD)、電極等の部材や、機能性ポリマーを保護するための樹脂や、基板の平面部に部材を固定するために用いられる接着剤等についても、樹脂の広がりは問題となる。   In addition to the above, the spread of the resin also applies to members such as semiconductor lasers (LD) and electrodes, resins for protecting functional polymers, and adhesives used to fix the members to the flat part of the substrate. Is a problem.

本発明は、このような課題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、製造コストを抑え、小型化が可能な光回路構造および光モジュールを提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide an optical circuit structure and an optical module capable of reducing the manufacturing cost and reducing the size.

本発明は、このような目的を達成するために、請求項1記載の発明は、クラッドとコアとを有する導波路と、前記クラッドに形成され、樹脂が供給された領域と、該樹脂が供給された領域と所定の距離だけ離れて配置され、所定の領域から前記樹脂が流出するのを抑制する抑制手段であって、前記所定の領域は、該抑制手段を含んだ領域と前記樹脂が供給された領域との間の領域である抑制手段とを備えることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the present invention provides a waveguide having a clad and a core, a region formed in the clad and supplied with resin, and the resin is supplied. A restraining means that is arranged at a predetermined distance from the formed area and suppresses the resin from flowing out of the predetermined area, wherein the predetermined area is supplied by the area including the restraining means and the resin. And a suppression means that is a region between the two regions.

請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、前記抑制手段は、前記コアに達しないように前記クラッドに形成された、少なくとも1つ以上の第1の凹部であることを特徴とする。   The invention according to claim 2 is the invention according to claim 1, wherein the suppressing means is at least one or more first recesses formed in the clad so as not to reach the core. To do.

請求項3記載の発明は、請求項2記載の発明において、前記抑制手段は、前記クラッドに前記コアに達しないように形成された少なくとも1つ以上の第2の凹部をさらに有し、前記第1の凹部は溝であり、前記少なくとも1つ以上の溝の端の近傍に、前記第2の凹部が配置されていることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the suppressing means further includes at least one second recess formed in the clad so as not to reach the core. One concave portion is a groove, and the second concave portion is arranged in the vicinity of an end of the at least one groove.

請求項4記載の発明は、請求項2記載の発明において、前記抑制手段は、前記クラッドに前記コアに達しないように形成された少なくとも1つ以上の第2の凹部をさらに有し、前記第1の凹部は溝であり、前記少なくとも1つ以上の溝のうちの少なくとも1つ以上は、前記第2の凹部に連結されていることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the suppressing means further includes at least one second recess formed in the clad so as not to reach the core. One recess is a groove, and at least one of the at least one groove is connected to the second recess.

請求項5記載の発明は、請求項1記載の発明において、前記抑制手段は、前記クラッドに形成された、少なくとも1つ以上の凸部であることを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the suppressing means is at least one convex portion formed in the clad.

請求項6記載の発明は、請求項1乃至5のいずれかに記載の発明において、前記樹脂は、アサーマル樹脂であり、前記樹脂が供給された領域には、第3の凹部が形成されており、該第3の溝には、前記アサーマル樹脂が供給されていることを特徴とする。   The invention according to claim 6 is the invention according to any one of claims 1 to 5, wherein the resin is an athermal resin, and a third recess is formed in a region to which the resin is supplied. The athermal resin is supplied to the third groove.

請求項7記載の発明は、請求項1乃至6のいずれかに記載の光回路構造と、光学ベンチとを備え、前記光回路構造は、複数のノッチ構造を有し、前記光学ベンチは、前記複数のノッチ構造にそれぞれ嵌合する、複数の凹部を有し、前記複数のノッチ構造と前記複数の凹部とを嵌合することにより、前記光回路構造が前記光学ベンチにパッシブアライメント実装されたことを特徴とする。   The invention according to claim 7 comprises the optical circuit structure according to any one of claims 1 to 6 and an optical bench, wherein the optical circuit structure has a plurality of notch structures, The optical circuit structure is passively mounted on the optical bench by fitting the plurality of notches and the plurality of recesses, each having a plurality of recesses that respectively fit into the plurality of notches. It is characterized by.

以上説明したように、本発明によれば、所定の領域から樹脂が流出するのを抑制するようにしたので、複雑な工程を用いなくても、樹脂が供給された領域の近傍に他の部材を適切に設けることが可能となるので、製造コストを抑え、かつ小型化が可能となる。   As described above, according to the present invention, since the resin is prevented from flowing out from the predetermined region, another member is provided in the vicinity of the region where the resin is supplied without using a complicated process. Thus, the manufacturing cost can be reduced and the size can be reduced.

以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、以下で説明する図面で、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
(第1の実施形態)
本実施形態は、光回路に形成された溝に樹脂(例えば、接着剤)により、所望の部材(例えば、誘電体多層膜フィルタ)を固定する場合に、該固定に用いた樹脂が所定の領域から外の領域へ流出するのを軽減させる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings described below, components having the same function are denoted by the same reference numerals, and repeated description thereof is omitted.
(First embodiment)
In this embodiment, when a desired member (for example, a dielectric multilayer filter) is fixed to a groove formed in an optical circuit with a resin (for example, an adhesive), the resin used for the fixing is a predetermined region. To reduce outflow to the outside area.

図2(a)および(b)は、本実施形態に係る、樹脂の流出を軽減させる構成を示す図である。
図2(a)では、誘電体多層膜フィルタ(以下、単に「フィルタ」とも呼ぶ)を挿入するためのフィルタ挿入溝21が形成されており、フィルタはフィルタ挿入溝21に挿入されてから接着剤で固定される。また、フィルタ挿入溝21から所定の距離に矩形上の、樹脂広がり抑制溝としての溝22がフィルタ挿入溝21に対して略平行に形成されている。このように溝22を形成することによって、フィルタの固定に用いられた接着剤は溝22に落ち込み、それ以上外の領域への接着剤の広がりを防止ないし軽減することができる。
FIGS. 2A and 2B are diagrams showing a configuration for reducing the outflow of resin according to the present embodiment.
In FIG. 2A, a filter insertion groove 21 for inserting a dielectric multilayer filter (hereinafter also simply referred to as “filter”) is formed, and the filter is inserted into the filter insertion groove 21 before the adhesive. It is fixed with. In addition, a rectangular groove 22 as a resin spreading suppression groove is formed substantially parallel to the filter insertion groove 21 at a predetermined distance from the filter insertion groove 21. By forming the groove 22 in this way, the adhesive used for fixing the filter falls into the groove 22, and the spread of the adhesive to the outside region can be prevented or reduced.

なお、溝22の形状は、上記矩形に限定されるものではなく、円形、楕円形、三角形、正方形等、溝を形成できる形状であればいずれであっても良い。また、フィルタ挿入溝21と溝22との間の領域に傾斜を形成し、フィルタ挿入溝21から溝22へと接着剤の流動を促進するようにしても良い。また、フィルタ挿入溝21と溝22との間の距離は、光回路の設計に応じて設定すればよい。すなわち、フィルタ挿入溝21に近接して他の素子を設けたい場合や、パッシブアクティブ実装にあってはノッチ構造を設けたい場合には、それら他の部材を設けたい場所に応じて、フィルタ挿入溝21と溝22との間の距離を設定すればよい。   In addition, the shape of the groove | channel 22 is not limited to the said rectangle, What kind of shape may be sufficient if it can form a groove | channel, such as circular, an ellipse, a triangle, and a square. In addition, an inclination may be formed in a region between the filter insertion groove 21 and the groove 22 to promote the flow of the adhesive from the filter insertion groove 21 to the groove 22. Further, the distance between the filter insertion groove 21 and the groove 22 may be set according to the design of the optical circuit. That is, when it is desired to provide other elements in the vicinity of the filter insertion groove 21, or to provide a notch structure in passive active mounting, the filter insertion groove depends on the location where these other members are to be provided. What is necessary is just to set the distance between 21 and the groove | channel 22.

本明細書において、「他の部材」とは、対象となる、樹脂により固定される部材や樹脂を充填する部材以外の部材であり、例えば、フィルタ、波長板、半導体素子、電極等の素子であり、また、ノッチ構造等の凸部や溝や窪みなどの凹部である。   In the present specification, the “other member” is a member other than a target member fixed by resin or a member filled with resin, for example, an element such as a filter, a wavelength plate, a semiconductor element, or an electrode. There are also convex portions such as notch structures and concave portions such as grooves and depressions.

また、溝22の長手方向のサイズについても、光回路の設計に応じて設定すればよい。すなわち、フィルタ挿入溝21からの接着剤が他の部材に到達しないようなサイズであればよい。さらに、溝22の数は、フィルタ挿入溝21を挟んで一個ずつに限定されず、複数個ずつ形成するようにしても良く、個数の組み合わせもいずれであっても良い。すなわち、設けられる溝の個数は、少なくとも一個以上であればよいのである。また、フィルタ挿入溝21に対して、片側のみに溝を設けるようにしても良い。なお、溝22を複数個設ける場合は、該複数個の溝が周期構造となるように形成しても良いし、ランダムに形成しても良い。このように、形成された溝が周期構造であると、溝の幅や深さの均一化を計ることができるので好ましい。 また、溝22中に樹脂がある場合に樹脂が必ず溝22を形成する壁の上端まで到達する条件を考慮すると、溝22の幅hと深さWとの関係は、2hsinθ>W(θ;樹脂の、溝との接触角)を満たすように設定するのが望ましい。   Further, the size in the longitudinal direction of the groove 22 may be set according to the design of the optical circuit. That is, the size may be such that the adhesive from the filter insertion groove 21 does not reach other members. Further, the number of the grooves 22 is not limited to one by one with the filter insertion groove 21 interposed therebetween, and a plurality of grooves may be formed, and any combination of the numbers may be used. That is, the number of grooves provided may be at least one or more. Further, the filter insertion groove 21 may be provided with a groove only on one side. When a plurality of grooves 22 are provided, the plurality of grooves may be formed to have a periodic structure, or may be formed randomly. Thus, it is preferable that the formed grooves have a periodic structure because the width and depth of the grooves can be made uniform. Further, in consideration of the condition that the resin always reaches the upper end of the wall forming the groove 22 when the resin is in the groove 22, the relationship between the width h and the depth W of the groove 22 is 2hsinθ> W (θ; It is desirable to set so as to satisfy the contact angle of the resin with the groove.

さらに、フィルタ挿入溝23と溝22との間の領域および溝22の少なくとも一方に対して、用いられる樹脂(ここでは、接着剤)に対して親和性が高くなるような表面処理、すなわち、上記領域が樹脂に対して濡れ性が高くなるような表面処理を行っても良い。好ましくは、フィルタ挿入溝23と溝22との間の領域よりも溝22の方が、用いられる樹脂(ここでは、接着剤)に対する接触角が小さくなるような表面処理が好ましい。   Further, a surface treatment that increases the affinity for the resin (here, adhesive) used for the region between the filter insertion groove 23 and the groove 22 and at least one of the grooves 22, that is, the above-described A surface treatment may be performed so that the region has high wettability to the resin. Preferably, the groove 22 has a surface treatment such that the contact angle with the resin (here, adhesive) used is smaller than the region between the filter insertion groove 23 and the groove 22.

このような溝22は、ダイシングやエッチング等によって作製できる。   Such a groove 22 can be produced by dicing, etching, or the like.

本実施形態では、上述のように、接着剤の流出を軽減するために溝を用いているが、それに限定されず、窪み状のものなど、接着剤を流し込むことによって接着剤の流出を軽減できる、凹状のものであればいずれの形状であっても良い。   In the present embodiment, as described above, the grooves are used to reduce the outflow of the adhesive, but the present invention is not limited to this, and the outflow of the adhesive can be reduced by pouring the adhesive, such as a depression. Any shape may be used as long as it is concave.

さらに、本実施形態では、接着剤の流出を軽減するための凹部を形成した光回路に、導波路コアが埋め込まれており、上記凹部が導波路コアを横切って形成される場合は、上記凹部は、埋め込まれた導波路コア付近に達さない深さで形成する。ただし、上記凹部が導波路コアを横切って形成されない場合は、この限りでない。   Furthermore, in this embodiment, when the waveguide core is embedded in the optical circuit in which the recess for reducing the outflow of the adhesive is formed, and the recess is formed across the waveguide core, the recess Is formed at a depth that does not reach the vicinity of the embedded waveguide core. However, this is not the case when the concave portion is not formed across the waveguide core.

また、図2(b)では、フィルタを挿入するためのフィルタ挿入溝23が形成されており、フィルタはフィルタ挿入溝23に挿入されてから接着剤で固定される。また、フィルタ挿入溝23から所定の距離に矩形上の壇24がフィルタ挿入溝23に対して形成されている。このように壇24を形成することによって、フィルタの固定に用いられた接着剤は壇24によってせき止められ、それ以上外の領域への接着剤の広がりを防止ないし軽減することができる。   Moreover, in FIG.2 (b), the filter insertion groove | channel 23 for inserting a filter is formed, and after a filter is inserted in the filter insertion groove | channel 23, it is fixed with an adhesive agent. Further, a rectangular platform 24 is formed with respect to the filter insertion groove 23 at a predetermined distance from the filter insertion groove 23. By forming the platform 24 in this way, the adhesive used for fixing the filter is blocked by the platform 24, and the spread of the adhesive to the outside region can be prevented or reduced.

壇24についても、溝22と同様に、壇の形状、フィルタ挿入溝との間の距離、壇のサイズ、壇の個数を設定すればよい。   Similarly to the groove 22, the shape of the platform, the distance from the filter insertion groove, the size of the platform, and the number of platforms may be set for the platform 24.

このような壇24は、レジストやポリマー等の有機物によって作製できる。また、壇を形成したい部分を残すようにエッチングすることによって作製することができる。   Such a platform 24 can be made of an organic material such as a resist or a polymer. Moreover, it can produce by etching so that the part which wants to form a platform is left.

また、フィルタ挿入溝23と壇24との間の領域に対して、用いられる樹脂(ここでは、接着剤)に対して親和性が高くなるような表面処理、すなわち、上記領域が樹脂に対して濡れ性が高くなるような表面処理を行っても良い。また、壇24に対して、例えば、プラズマ照射等を行って、用いられる樹脂(溶剤)をはじくようにする表面処理を行っても良い。上記2つの表面処理を組み合わせても良い。   Further, the surface treatment that increases the affinity for the resin (here, the adhesive) used for the region between the filter insertion groove 23 and the platform 24, that is, the region described above is against the resin. A surface treatment that increases wettability may be performed. Further, for example, plasma treatment or the like may be performed on the platform 24 so as to repel the resin (solvent) to be used. The above two surface treatments may be combined.

また、壇を別個に設ける場合は、その材料として、用いられる樹脂(溶剤)を弾くような材料(該樹脂の接触角を大きくするような材料)を用いて壇24を設けるようにしても良い。   Moreover, when providing a platform separately, you may make it provide the platform 24 using the material (material which enlarges the contact angle of this resin) which repels resin (solvent) used as the material. .

本実施形態では、上述のように、接着剤の流出を軽減するために壇を用いているが、それに限定されず、コ状のもの、山状のものなど、接着剤をせき止めることによって接着剤の流出を軽減できる、凸状のものであればいずれの形状であっても良い。   In the present embodiment, as described above, the platform is used to reduce the outflow of the adhesive, but the present invention is not limited to this. Any shape may be used as long as it is convex and can reduce the outflow of water.

なお、本実施形態では、溝22や壇24は、フィルタ挿入溝に対して略平行に形成されているがこれに限定されない。本実施形態では、溝22や壇24にて接着剤の流出を抑制することが重要であるので、適切に接着剤の流出を抑制できればいずれの配置であっても良い。   In the present embodiment, the groove 22 and the platform 24 are formed substantially parallel to the filter insertion groove, but are not limited thereto. In the present embodiment, it is important to suppress the outflow of the adhesive at the groove 22 and the platform 24, so any arrangement may be employed as long as the outflow of the adhesive can be appropriately suppressed.

このように、本実施形態では、所定の領域から外の領域への樹脂(ここでは、接着剤)の流出を抑制させる手段として、溝22または壇24を用いている。この溝22は、所定の領域から外の領域へ流出しようとする樹脂を落とし込むことによって樹脂の広がりを抑制するためのものであり、壇24は、所定の領域から外の領域へ流出しようとする樹脂をせき止めることによって樹脂の広がりを抑制するためのものである。よって、溝22や壇24によって、接着剤等の樹脂を望ましくない所に存在させないようにすることができる。すなわち、樹脂を、樹脂の存在を許容する領域の外に流出するのを軽減することが可能となる。よって、フィルタ挿入溝21の近傍に、接着剤の影響を受けることなく他の部材を設けることができるようになり、光回路の小型化、低コスト化を図ることが可能となる。   Thus, in this embodiment, the groove | channel 22 or the platform 24 is used as a means to suppress the outflow of resin (here adhesive) from a predetermined area | region to an outer area | region. The groove 22 is for suppressing the spread of the resin by dropping the resin to flow out from the predetermined area to the outside area, and the platform 24 tries to flow out from the predetermined area to the outside area. This is for suppressing the spread of the resin by clogging the resin. Therefore, the grooves 22 and the platform 24 can prevent the resin such as the adhesive from being present in an undesired place. That is, it is possible to reduce the outflow of the resin outside the region that allows the presence of the resin. Therefore, another member can be provided in the vicinity of the filter insertion groove 21 without being affected by the adhesive, and the optical circuit can be reduced in size and cost.

このような、「樹脂の存在を許容する領域」とは、光回路の設計に応じて決められるものであって、溝や壇とフィルタ挿入溝との間の距離、溝や壇の形状やサイズ、フィルタ挿入溝と他の部材との間の距離、用いる樹脂の粘性等によって決められるものである。   Such “region allowing the presence of resin” is determined according to the design of the optical circuit, and is the distance between the groove or platform and the filter insertion groove, the shape or size of the groove or platform. The distance between the filter insertion groove and another member, the viscosity of the resin used, and the like are determined.

上記望ましくない所には、樹脂が存在することによって、樹脂によって固定された所望の部材が形成された、光回路の面をひっくり返して、光学ベンチに実装(パッシブアライメント実装)する場合の、該実装への精度を著しく低下する領域を含む。すなわち、樹脂が存在することによって、その樹脂が障害となり、実装面の張り合わせが上手くいかない領域を含む。   In the undesired place, when the resin is present, the surface of the optical circuit on which the desired member fixed by the resin is formed is turned over and mounted on the optical bench (passive alignment mounting). Includes areas that significantly reduce mounting accuracy. That is, the presence of the resin includes an area where the resin becomes an obstacle and the mounting surfaces are not well bonded.

また、上記望ましくない所として、他の部材自身や、他の部材を囲んで存在する該部材を固定するために用いた樹脂(例えば、接着剤)、あるいは、溝から広がって存在するアサーマル樹脂、VOA(Variable Optical Attenuator)やAWGのクロストークを低減させるため等に用いる遮光剤を含む樹脂や、機能性ポリマー等も含む。   Also, as the above undesirable place, other member itself, a resin (for example, an adhesive) used to fix the member that surrounds the other member, or an athermal resin that extends from the groove, Also included are resins containing a light-shielding agent used for reducing VOA (Variable Optical Attenuator) and AWG crosstalk, functional polymers, and the like.

なお、本明細書において、「樹脂の存在」とは、樹脂が硬化等によって光回路に付着しているような状態であっても、また、流動性が高い状態であっても、または上記硬化された状態と流動性が高い状態との間の状態であっても、樹脂がその場所に「ある」、ということを指す。   In this specification, “the presence of the resin” means that the resin is attached to the optical circuit by curing or the like, or is in a state of high fluidity, or the above-mentioned curing. This means that the resin is “in place” even in the state between the applied state and the state of high fluidity.

さらに、本実施形態では、接着剤で固定されるものとしてフィルタを用いているが、これに限定されず、波長板などでも良い。本実施形態では、接着剤等の樹脂により部材の固定の際に、樹脂の流出を抑制することが重要であって、固定の対象となる部材はいずれであっても良い。このとき、樹脂による部材の固定の際に、溝を形成し該溝に部材をはめ込む必要がない部材であれば、部材の挿入用の溝を設けなくても良いことは言うまでもない。具体的には、形成すべき導波路上に、樹脂を滴下し、該滴下した樹脂上に部材を配置することによって部材を固定する場合等である。このとき、部材が配置された領域からはみ出た樹脂の広がりを上記手段によって抑制するのである。   Furthermore, in the present embodiment, the filter is used as being fixed with an adhesive, but the present invention is not limited to this, and a wave plate or the like may be used. In the present embodiment, it is important to suppress the outflow of the resin when the member is fixed with a resin such as an adhesive, and any member to be fixed may be used. At this time, it goes without saying that the groove for inserting the member may not be provided as long as the member is formed with a groove and does not need to be fitted into the groove when the member is fixed with the resin. Specifically, it is a case where a member is fixed by dropping a resin on a waveguide to be formed and placing the member on the dropped resin. At this time, the spread of the resin protruding from the region where the member is arranged is suppressed by the above means.

図3は、本実施形態に係る、誘電体多層膜フィルタを有するPLCの上面図である。
図3において、PLC31には、接着剤によりフィルタ32がPLC31に略垂直になるように固定されている。また、フィルタ32から所定の距離には、壇33が3個ずつ形成されている。さらに、PLC31の4隅にはそれぞれ、光学ベンチに適切にパッシブアライメント実装できるようにノッチ構造34を有している。
FIG. 3 is a top view of a PLC having a dielectric multilayer filter according to the present embodiment.
In FIG. 3, a filter 32 is fixed to the PLC 31 by an adhesive so as to be substantially perpendicular to the PLC 31. Further, three platforms 33 are formed at a predetermined distance from the filter 32. Further, each of the four corners of the PLC 31 has a notch structure 34 so that passive alignment can be appropriately mounted on the optical bench.

このように、壇33がフィルタ32に用いられた接着剤に対してダムとして機能し、接着剤がノッチ構造34に到達するのを抑制することができる。その結果として、PLC31の光学ベンチへのパッシブアライメント実装の位置合わせ精度が増し、歩留まりを向上することが可能となる。また、壇33の個数を多くすることによって、接着剤のノッチ構造34への流出をより抑制することが可能となる。   In this manner, the platform 33 functions as a dam with respect to the adhesive used for the filter 32, and the adhesive can be prevented from reaching the notch structure 34. As a result, the alignment accuracy of the passive alignment mounting of the PLC 31 to the optical bench increases, and the yield can be improved. Further, by increasing the number of the floors 33, it is possible to further suppress the outflow of the adhesive to the notch structure 34.

図4(a)は、図3のB−B’線切断断面図であり、図4(b)〜(d)は、図3の壇33の代わりに溝や、壇と溝との組み合わせを用いた場合の、B−B’線切断断面図である。   4A is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 3, and FIGS. 4B to 4D show grooves and combinations of the stage and grooves instead of the stage 33 of FIG. 3. It is a BB 'line cutting sectional view at the time of using.

本実施形態では、図4(c)および(d)に示すように、壇と溝とを組み合わせるようにしても良い。図4(c)は、壇と溝との組み合わせをPLC31によって形成した形態を示す図であり、図4(d)は、壇と溝とを別の部材、すなわち、溝はPLC31にて形成し、壇はPLCとは別個の部材にて形成した形態を示す図である。   In the present embodiment, as shown in FIGS. 4C and 4D, a platform and a groove may be combined. FIG. 4C is a diagram showing a form in which a combination of a platform and a groove is formed by the PLC 31, and FIG. 4D is a diagram in which the platform and the groove are formed by different members, that is, the groove is formed by the PLC 31. FIG. 3 is a diagram showing a form formed by a member separate from the PLC.

また、本実施形態では、フィルタ挿入溝21(23)と溝22(壇24)と間に新たに窪みを設けるようにしても良い。図5(a)は、フィルタ挿入溝21と溝22との間に窪み25を形成した構成を示す図であり、図5(b)は、フィルタ挿入溝23と壇24との間に窪み25を形成した構成を示す図である。   Moreover, in this embodiment, you may make it provide a hollow newly between the filter insertion groove 21 (23) and the groove | channel 22 (bed 24). FIG. 5A is a diagram showing a configuration in which a recess 25 is formed between the filter insertion groove 21 and the groove 22, and FIG. 5B shows a recess 25 between the filter insertion groove 23 and the platform 24. It is a figure which shows the structure which formed.

このように、溝22または壇24の端近傍から、フィルタ挿入溝に向かって窪み25を形成することによって、該窪みにも樹脂は流れ込み、接着剤等の樹脂の流出の抑制はさらに向上する。また、この窪み25の位置を制御することによって、溝22や壇24の長手方向の長さを制御することが可能となる。この制御は、特に、局所的に樹脂の流出を抑えたい場合等に有効である。   As described above, by forming the depression 25 from the vicinity of the end of the groove 22 or the platform 24 toward the filter insertion groove, the resin flows into the depression, and the suppression of the outflow of the resin such as the adhesive is further improved. Further, by controlling the position of the recess 25, it is possible to control the lengths of the grooves 22 and the platform 24 in the longitudinal direction. This control is particularly effective when it is desired to suppress the outflow of resin locally.

なお、図5(a)において、溝22と窪み25とは別個の凹部であるが、溝22の一部と窪み25の一部とを連通することによって同一の凹部としても良い。溝22と窪み25とが別個である形態と、同一である形態との組み合わせであっても良い。また、図5(b)において、壇24と窪み25とは所定の距離離れて設けられているが、窪み25の壁の一面と、壇24の一面とがほぼ同一の面に含まれるように、壇24と窪み25とを設けるようにしても良い。壇24と窪み25とを所定の距離離れて設ける形態と、窪み25の壁の一面と、壇24の一面とがほぼ同一の面に含まれるような形態との組み合わせであっても良い。   In FIG. 5A, the groove 22 and the depression 25 are separate depressions, but the same depression may be formed by communicating a part of the groove 22 and a part of the depression 25. A combination of a form in which the grooves 22 and the depressions 25 are separate and a form in which they are the same may be used. In FIG. 5B, the platform 24 and the depression 25 are provided at a predetermined distance, but one surface of the wall of the depression 25 and one surface of the platform 24 are included in substantially the same plane. The platform 24 and the depression 25 may be provided. A combination of a form in which the platform 24 and the depression 25 are provided at a predetermined distance away from each other, and a form in which one surface of the wall of the depression 25 and one surface of the platform 24 are included in substantially the same plane may be used.

図6は、図3に示した誘電体多層膜フィルタを有するPLCに窪みを、壇が形成された領域の内側に形成した構成の上面図である。
図6において、壇33の端近傍からフィルタ32に向かって窪み35が形成されている。同図に示すように、窪み35を4つ設けることによって、PLC31の側壁や裏面へと接着剤が流出することを抑制することができる。また、窪み35に接着剤が流れ込むので、壇33にてせき止め切れない接着剤の量を低減することができる。よって、ノッチ構造34への接着剤の流出の抑制をさらに向上することができる。
FIG. 6 is a top view of a configuration in which a depression is formed in the PLC having the dielectric multilayer filter shown in FIG. 3 inside the region where the platform is formed.
In FIG. 6, a recess 35 is formed from the vicinity of the end of the platform 33 toward the filter 32. As shown in the figure, by providing four depressions 35, it is possible to prevent the adhesive from flowing out to the side wall or the back surface of the PLC 31. Further, since the adhesive flows into the recess 35, the amount of the adhesive that cannot be stopped by the platform 33 can be reduced. Therefore, suppression of the outflow of the adhesive to the notch structure 34 can be further improved.

本実施形態では、接着剤等の樹脂を望ましくない所に流出するのを軽減するために、複数の浅い溝を配置するようにしても良い。このとき、複数の溝は周期構造を有していることが望ましい。図7(a)は、本実施形態に係る、浅い溝を周期的に配置することによって樹脂の流出を軽減させる構成を示す図である。また、図7(b)は、図7(a)のC−C’線切断断面図であり、図7(c)は、図7(a)の浅い溝の周期構造72の形状をv字状にした場合の、C−C’線切断断面図である。   In the present embodiment, a plurality of shallow grooves may be arranged in order to reduce the flow of resin such as an adhesive to an undesired place. At this time, it is desirable that the plurality of grooves have a periodic structure. FIG. 7A is a diagram illustrating a configuration according to the present embodiment that reduces the outflow of resin by periodically arranging shallow grooves. 7B is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 7A, and FIG. 7C shows the shape of the periodic structure 72 of the shallow groove of FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line CC ′ in the case of a shape.

図7(a)において、フィルタ挿入溝71の長手方向両脇には、浅い溝の周期構造72が形成されている。浅い溝の周期構造72を構成する溝のそれぞれは、図7(b)に示すように、矩形状である。また、浅い溝の周期構造72のそれぞれの溝の深さは、用いられる樹脂(ここでは、接着剤)の接触角を大きくできる程度の深さに設定されている。このように設定された浅い溝の周期構造72に接着剤が流れ込むと、接着剤が望ましくない所へと(図7(a)では矢印方向P)流出するのを軽減することができる。   In FIG. 7A, shallow groove periodic structures 72 are formed on both sides in the longitudinal direction of the filter insertion groove 71. Each of the grooves constituting the shallow groove periodic structure 72 has a rectangular shape as shown in FIG. The depth of each groove of the shallow groove periodic structure 72 is set to a depth that can increase the contact angle of the resin (here, adhesive) used. When the adhesive flows into the periodic structure 72 of the shallow groove set as described above, it is possible to reduce the adhesive from flowing out to an undesired place (in the arrow direction P in FIG. 7A).

なお、本実施形態では、浅い溝の周期構造72の断面構造は矩形状に限定されるものではなく、例えば、図7(c)に示すようなv字形状等、対象となる樹脂の接触角を大きくできるような形状であればいずれの形状であっても良い。   In the present embodiment, the cross-sectional structure of the periodic structure 72 of the shallow groove is not limited to a rectangular shape. For example, the contact angle of the target resin such as a v shape as shown in FIG. Any shape may be used as long as the shape can be increased.

また、浅い溝の周期構造72の端に、窪みを新たに設けることも有用である。図8(a)は、本実施形態に係る、浅い溝の周期構造の端に窪みを設けた構成を示す図であり、図8(b)は、図8(a)の構成を適用したPLCの上面図であり、図8(c)は、図8(b)のD−D’線切断断面図である。   It is also useful to provide a new depression at the end of the shallow groove periodic structure 72. FIG. 8A is a diagram showing a configuration in which a recess is provided at the end of a periodic structure of shallow grooves according to the present embodiment, and FIG. 8B is a PLC to which the configuration of FIG. 8A is applied. FIG. 8C is a cross-sectional view taken along the line DD ′ of FIG. 8B.

図8(a)において、浅い溝の周期構造72の端には、窪み73が形成されている。
また、浅い溝の周期構造72を構成する溝の長手方向に略平行に、溝74が形成されている。
In FIG. 8A, a recess 73 is formed at the end of the shallow groove periodic structure 72.
A groove 74 is formed substantially parallel to the longitudinal direction of the grooves constituting the periodic structure 72 of the shallow grooves.

このように、窪み73を形成することによって、フィルタ挿入溝71にフィルタを固定する際に用いた接着剤が浅い溝の周期構造72の各溝に流れ込み、その流れ込んだ接着剤は毛細管現象によって窪み73に流れ込むことになる。このとき、浅い溝の周期構造72を越えて矢印方向Pに流出してしまった接着剤については、窪み74に流れ込む。よって、望ましくない所への接着剤の流出をさらに軽減することができ、かつ、毛細管現象によって浅い溝の周期構造72に流れ込んだ接着剤は窪み73に流れ込むので、浅い溝の周期構造72上には接着剤はほとんど残らないようになる。よって、該構成を適用された光回路上にはほとんど接着剤が残らないようになるので、パッシブアライメント実装を行う場合には、残った接着剤を除去する工程を行わなくても、精度良くパッシブアライメント実装を行うことができる。   Thus, by forming the depression 73, the adhesive used when fixing the filter to the filter insertion groove 71 flows into each groove of the periodic structure 72 of the shallow groove, and the introduced adhesive is depressed by capillary action. 73. At this time, the adhesive that has flowed out in the direction of the arrow P beyond the periodic structure 72 of the shallow groove flows into the depression 74. Therefore, the outflow of the adhesive to an undesired place can be further reduced, and the adhesive that has flowed into the shallow groove periodic structure 72 by capillary action flows into the recess 73, so that the adhesive flows onto the shallow groove periodic structure 72. There will be almost no adhesive left. Therefore, almost no adhesive remains on the optical circuit to which the configuration is applied. Therefore, when passive alignment mounting is performed, the passive is accurately performed without performing the process of removing the remaining adhesive. Alignment mounting can be performed.

また、上述のように、浅い溝の周期構造72、窪み73、溝74によって、望ましくない所への接着剤の流出が抑制されているので、各ノッチ構造75へと接着剤が広がるのが防止ないしは軽減されることになり、パッシブアライメント実装において、位置合わせ精度が向上し、歩留まりを上げることができる。   Further, as described above, since the flow of the adhesive to the undesired place is suppressed by the shallow groove periodic structure 72, the depression 73, and the groove 74, the spread of the adhesive to the notch structures 75 is prevented. In other words, in the passive alignment mounting, the alignment accuracy can be improved and the yield can be increased.

本実施形態では、浅い溝の周期構造72、窪み73、溝74を作製する際に、マイクロローディング効果を利用することによって、同一の工程で浅い溝の周期構造72、窪み73、溝74を作製することが可能となり、製造時間の短縮化、低コスト化を図ることが可能となる。   In the present embodiment, the shallow groove periodic structure 72, the depression 73, and the groove 74 are formed in the same process by utilizing the microloading effect when the shallow groove periodic structure 72, the depression 73, and the groove 74 are formed. Thus, the manufacturing time can be shortened and the cost can be reduced.

なお、図8(a)〜(b)では、浅い溝の周期構造72を構成する各溝は、窪み73に対して所定の距離離れて設けられているが、上記溝の少なくとも1つを、窪み73に連結するようにしても良い。このとき、樹脂はフィルタ挿入溝71から矢印方向Pに向かって流れることを考慮すると、最もフィルタ挿入溝71側に形成されている溝は少なくとも窪み73に連結することが好ましい。すなわち、最もフィルタ鼠入溝71側の溝を含む、少なくとも1つ以上の溝を窪み73に連結することが好ましい。   In FIGS. 8A to 8B, each groove constituting the periodic structure 72 of the shallow groove is provided at a predetermined distance from the depression 73, but at least one of the grooves is You may make it connect with the hollow 73. FIG. At this time, considering that the resin flows from the filter insertion groove 71 in the arrow direction P, it is preferable that the groove formed closest to the filter insertion groove 71 is connected to at least the recess 73. That is, it is preferable to connect at least one or more grooves including the groove on the filter insertion groove 71 side to the recess 73.

本実施形態では、浅い溝の周期構造72から外への接着剤の流出を軽減するための手段として溝74に限らす、図9(a)〜(d)に示すように、壇76を用いても良い。図9(a)では、窪み73と壇76とは所定の距離離れて設けられているが、図9(d)に示すように、突起部78を有するコ状の壇77を、突起部78の窪み側の面が、窪み73の窪みを形成する壁の突起部78側の面とほぼ同一の面になるように設けても良い。このように配置することで、壇76に到達し、壇76のエッジを伝わった樹脂は、突起部78を介して窪み73へと落ち込む。よって、樹脂の流出をさらに抑制することが可能となる。なお、角79を90°以下の鋭角に設定することによって、突起部78へと伝わる樹脂の流出をさらに抑制することが可能となる。上述のコ状の壇77は、浅い溝の周期構造72や窪み73との組み合わせだけでなく、壇を単独に用いる場合にも有効である。   In the present embodiment, as shown in FIGS. 9A to 9D, a platform 76 is used as a means for reducing the outflow of the adhesive from the periodic structure 72 of the shallow groove to the outside. May be. 9A, the recess 73 and the platform 76 are provided apart from each other by a predetermined distance. However, as shown in FIG. 9D, the U-shaped platform 77 having the projection 78 is replaced with the projection 78. The surface on the recess side may be provided so as to be substantially the same surface as the surface on the protrusion 78 side of the wall forming the recess of the recess 73. By arranging in this way, the resin that reaches the floor 76 and travels along the edge of the floor 76 falls into the depression 73 via the protrusion 78. Therefore, it is possible to further suppress the outflow of the resin. In addition, by setting the angle 79 to an acute angle of 90 ° or less, it is possible to further suppress the outflow of the resin transmitted to the protrusion 78. The above-described U-shaped platform 77 is effective not only in combination with the periodic structure 72 and the depression 73 of the shallow groove but also when the platform is used alone.

以下で、本実施形態に係る光回路構造を光学ベンチにパッシブアライメント実装することによって、トランシーバ等の光モジュールを作製することについて説明する。
図10は、本実施形態に係るパッシブアライメント実装に適合したPLCの構成図である。
図10において、PLC100は、Y字分岐した導波路コア102を埋め込んだクラッド101を備えている。クラッド101には、導波路コア102のY字分岐部を横切り、かつ導波路コア102を貫通するようにフィルタ挿入溝103が形成されている。このフィルタ挿入溝103にはフィルタ104が挿入されており、接着剤によって固定されている。また、フィルタ挿入溝103の長手方向両側には、所定の距離に壇105aおよび105bが形成されている。このとき所定の領域は、壇105aとフィルタ挿入溝103(フィルタ104)との間の領域、および段105bとフィルタ挿入溝103(フィルタ104)との間の領域となる。
Hereinafter, it will be described that an optical module such as a transceiver is manufactured by passively mounting the optical circuit structure according to the present embodiment on an optical bench.
FIG. 10 is a configuration diagram of a PLC suitable for passive alignment mounting according to the present embodiment.
In FIG. 10, the PLC 100 includes a clad 101 in which a waveguide core 102 branched in a Y shape is embedded. A filter insertion groove 103 is formed in the clad 101 so as to cross the Y-shaped branch portion of the waveguide core 102 and penetrate the waveguide core 102. A filter 104 is inserted into the filter insertion groove 103 and is fixed by an adhesive. In addition, on the both sides in the longitudinal direction of the filter insertion groove 103, stairs 105a and 105b are formed at a predetermined distance. At this time, the predetermined region is a region between the platform 105a and the filter insertion groove 103 (filter 104) and a region between the step 105b and the filter insertion groove 103 (filter 104).

また、PLC100の4隅近傍には、ノッチ構造106が形成されており、このノッチ構造106が光学ベンチに設けられたアライメント溝に嵌合することによって、パッシブアライメント実装は実施される。   Further, notch structures 106 are formed in the vicinity of the four corners of the PLC 100, and passive alignment mounting is performed by fitting the notch structures 106 into alignment grooves provided in the optical bench.

図10では、壇105aおよび105bによって、上記所定の領域から外の領域へと接着剤が流出するのが抑制されているので、ノッチ構造106へと到達する接着剤の量を軽減することが可能となる。よって、PLC100と光学ベンチとのパッシブアライメント実装において、位置合わせ精度が向上し、歩留まりを上げることができる。   In FIG. 10, since the adhesive 105 is prevented from flowing out from the predetermined area to the outside area by the steps 105 a and 105 b, it is possible to reduce the amount of the adhesive reaching the notch structure 106. It becomes. Therefore, in the passive alignment mounting of the PLC 100 and the optical bench, the alignment accuracy can be improved and the yield can be increased.

また、本実施形態では、図11に示すように壇を設けるようにしても良い。図11では、クラッド101に対して、壇111およびノッチ構造112を残すようにエッチングを行うことによって、クラッド101から壇111およびノッチ構造112を形成している。   In the present embodiment, a platform may be provided as shown in FIG. In FIG. 11, the stage 111 and the notch structure 112 are formed from the clad 101 by etching the clad 101 so as to leave the stage 111 and the notch structure 112.

なお、図10および11には、1つのフィルタ104を形成しているが、これに限定されない。すなわち、フィルタの個数や、搭載する部材は光回路の設計に応じて設定すればよい。このとき、光回路に固定する部材についてそれぞれ、壇や溝を設けて、所定の領域から接着剤の流出を抑制すればよいのである。   Although one filter 104 is formed in FIGS. 10 and 11, the present invention is not limited to this. That is, the number of filters and the members to be mounted may be set according to the design of the optical circuit. At this time, it is only necessary to provide a platform or a groove for each member fixed to the optical circuit to suppress the outflow of the adhesive from a predetermined region.

図12は、本実施形態に係る、PLCを光学ベンチにパッシブアライメント実装する様子を示す図である。
図12において、光学ベンチ120は、収容溝121および4つのアライメント溝122が形成されている。なお、図12において、光学ベンチ120には、収容溝121およびアライメント溝122のみを示しているが、受光素子など他の部材を備えていてもよい。収容溝121の幅は、PLC100のフィルタ104が形成されている面をひっくり返してPLC100を光学ベンチ120に実装する際、フィルタ104、壇105aおよび105bを全て収容するような幅に設定されている。PLC100の所定の領域(壇105aとフィルタ挿入溝103との間の領域、および段105bとフィルタ挿入溝103との間の領域)から外への領域へは接着剤の流出が抑制されており、このとき、上記所定の領域は実装時に光学ベンチ120の収容溝121に収容されるので、PLC100の余計な所に付着した接着剤による、実装への阻害を減少することができる。また、PLC100のノッチ構造106への接着剤の流出も抑制されているので、パッシブアライメント実装時の位置合わせ精度を増すことができ、歩留まりを向上することが可能となる。
FIG. 12 is a diagram illustrating a state in which the PLC is passively mounted on the optical bench according to the present embodiment.
In FIG. 12, the optical bench 120 has a receiving groove 121 and four alignment grooves 122. In FIG. 12, the optical bench 120 shows only the accommodation groove 121 and the alignment groove 122, but may include other members such as a light receiving element. The width of the accommodation groove 121 is set so as to accommodate all of the filter 104 and the floors 105a and 105b when the PLC 100 is mounted on the optical bench 120 by turning the surface of the PLC 100 on which the filter 104 is formed. . Outflow of the adhesive from a predetermined area of the PLC 100 (an area between the platform 105a and the filter insertion groove 103 and an area between the step 105b and the filter insertion groove 103) to the outside is suppressed, At this time, since the predetermined area is accommodated in the accommodating groove 121 of the optical bench 120 at the time of mounting, it is possible to reduce the hindrance to the mounting due to the adhesive adhering to an extra portion of the PLC 100. In addition, since the outflow of the adhesive to the notch structure 106 of the PLC 100 is also suppressed, the alignment accuracy at the time of passive alignment mounting can be increased, and the yield can be improved.

なお、PLC100において壇115aおよび115bの代わりに、溝を用いる場合には、光学ベンチ120の収容溝121は、PLC100のフィルタ104を収容する大きさであれば良い。   In the case where grooves are used instead of the floors 115a and 115b in the PLC 100, the accommodation groove 121 of the optical bench 120 may be of a size that accommodates the filter 104 of the PLC 100.

(第2の実施形態)
本実施形態は、光回路に形成された溝に樹脂(例えば、シリコーン等のアサーマル樹脂)を充填する場合に、該溝の近傍に固定された他の部材や、該部材を固定するために用いた接着剤へと上記樹脂が広がるのを軽減させる。
(Second Embodiment)
The present embodiment is used to fix other members fixed in the vicinity of the groove and the member when the groove formed in the optical circuit is filled with resin (for example, athermal resin such as silicone). This reduces the spread of the resin to the adhesive.

図13は、本実施形態に係る、アサーマルAWGの一例を示す図であり、図13(a)は、本実施形態に係るアサーマルAWGの上面図であり、図13(b)は、図13(a)のF−F’線切断断面図であり、図13(c)は、図13(a)の溝136の代わりに壇を用いた場合の、F−F’線切断断面図である。   FIG. 13 is a diagram illustrating an example of an athermal AWG according to the present embodiment, FIG. 13A is a top view of the athermal AWG according to the present embodiment, and FIG. FIG. 13C is a cross-sectional view taken along line FF ′ of FIG. 13A, and FIG. 13C is a cross-sectional view taken along line FF ′ when a platform is used instead of the groove 136 of FIG.

図13(a)において、AWGは、アレイ導波路131を備えており、該アレイ導波路131は、複数の導波路コア132とクラッド133とを有している。クラッド133には、アレイ導波路131の長手方向に対して略垂直方向に、アサーマル溝134が導波路コア132を貫通するように形成されている。アサーマル溝134には、アサーマル樹脂としてのシリコーン135が充填されており、このシリコーン135の充填により、アレイ導波路1を構成する石英ガラスの有する温度依存性を補償している。   In FIG. 13A, the AWG includes an arrayed waveguide 131, and the arrayed waveguide 131 has a plurality of waveguide cores 132 and a clad 133. An athermal groove 134 is formed in the cladding 133 so as to penetrate the waveguide core 132 in a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the arrayed waveguide 131. The athermal groove 134 is filled with silicone 135 as an athermal resin, and the filling of the silicone 135 compensates for the temperature dependence of the quartz glass constituting the arrayed waveguide 1.

アサーマル溝134の波長版挿入溝(後述)側には、アレイ導波路131の長手方向に対して略垂直方向に、樹脂広がり抑制溝としての浅い溝136が3つ形成されている。すなわち、浅い溝の周期構造を形成している。また、溝136に対して略垂直方向であって、アサーマル溝134側にアサーマル溝134を挟むように2つの窪み137が形成されている。なお、窪み137については、設けなくても良い。   On the wavelength plate insertion groove (described later) side of the athermal groove 134, three shallow grooves 136 as resin spreading suppression grooves are formed in a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the arrayed waveguide 131. That is, a periodic structure of shallow grooves is formed. Further, two depressions 137 are formed so as to sandwich the athermal groove 134 on the athermal groove 134 side in a direction substantially perpendicular to the groove 136. Note that the depression 137 may not be provided.

また、クラッド133には、アレイ導波路131の長手方向に対して略垂直方向に、波長板挿入溝138が導波路コア132を貫通するように形成されている。波長板挿入溝138には波長板139が嵌め込まれており、接着剤140によって固定されている。このとき、接着剤140は、波長板139から広がっている。   The clad 133 is formed with a wave plate insertion groove 138 penetrating the waveguide core 132 in a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the arrayed waveguide 131. A wave plate 139 is fitted in the wave plate insertion groove 138 and is fixed by an adhesive 140. At this time, the adhesive 140 spreads from the wave plate 139.

シリコーン135についても、接着剤140と同様に広がっているが、図13(a)および(b)に示されるように、アサーマル溝134に充填しきれずに広がってしまうシリコーン135は、溝136に流れ込むと、毛細管現象により、溝136の長手方向に急速に広がるため、溝136に垂直な方向、すなわち、波長版139側へのシリコーン135の流出を軽減することが可能となる。従って、シリコーンをアサーマル溝134に滴下してシリコーン135を形成した後に、ダイシングによって波長板挿入溝138を形成する場合であっても、ダイシング刃によるシリコーン135への機械的ダメージを回避できる。つまり、波長板139とアサーマル溝134とが近接した場合であっても、シリコーン135とダイシング刃との接触を防ぐことが可能となる。   The silicone 135 spreads in the same manner as the adhesive 140, but as shown in FIGS. 13A and 13B, the silicone 135 that spreads without being fully filled in the athermal groove 134 flows into the groove 136. Then, due to capillary action, the groove 135 spreads rapidly in the longitudinal direction of the groove 136, so that the outflow of the silicone 135 to the direction perpendicular to the groove 136, that is, the wavelength plate 139 side can be reduced. Therefore, even when the wavelength plate insertion groove 138 is formed by dicing after the silicone is dropped into the athermal groove 134 to form the silicone 135, mechanical damage to the silicone 135 by the dicing blade can be avoided. That is, even when the wave plate 139 and the athermal groove 134 are close to each other, it is possible to prevent the silicone 135 and the dicing blade from contacting each other.

すなわち、アサーマル溝134と波長板挿入溝138とを十分離す必要が無くなるので、装置の小型化を実現できる。また、光学特性に影響なく、樹脂(ここでは、シリコーン)の除去工程と、再塗布、ベーク工程を省くことが可能となり、製造時間の短縮化、低コスト化を図ることができる。   That is, since it is not necessary to sufficiently separate the athermal groove 134 and the wave plate insertion groove 138, the apparatus can be reduced in size. Further, the resin (here, silicone) removal step, re-coating, and baking steps can be omitted without affecting the optical characteristics, and the manufacturing time and cost can be reduced.

なお、本実施形態では、溝136の数は3つに限定されるものではなく、少なくとも1つ以上あればよい。   In the present embodiment, the number of grooves 136 is not limited to three, and it is sufficient that there are at least one groove.

また、本実施形態では、シリコーンの流出を抑制するための手段として溝136に限定されるものではなく、図13(c)に示すように、壇141を設けても良いし、溝と壇との組み合わせを用いても良い。   Further, in the present embodiment, the means for suppressing the outflow of silicone is not limited to the groove 136, and as shown in FIG. 13C, a platform 141 may be provided, or the groove and the platform A combination of these may be used.

また、本実施形態では、溝136を光回路の端面まで形成しても良いし、形成しなくても良い。溝136を光回路の端面まで形成しない場合は、毛細管現象によって溝136の長手方向に広がるシリコーンが、光回路の側壁や裏面に漏れるのを防ぐないしは軽減することができるのでより好ましい形態である。   In this embodiment, the groove 136 may be formed up to the end face of the optical circuit, or may not be formed. When the groove 136 is not formed up to the end face of the optical circuit, it is more preferable because silicone spreading in the longitudinal direction of the groove 136 due to capillary action can be prevented or reduced from leaking to the side wall and back surface of the optical circuit.

本実施形態では、図19に示すように、溝136の端に、ダムとして機能する窪み191を形成しても良い。このように溝136の端に窪みを形成することによって、上記と同様に、毛細管現象によって溝136の長手方向に広がるシリコーンは窪みに流れ落ちることになり、それらシリコーンが光回路の側壁や裏面に漏れるのを防ぐないしは軽減することができる。また、図20に示すように、アサーマル溝を挟むように配置され、かつその一部に溝136が接続されている窪み201(図19の窪み137と窪み191とを連結した形態の溝)を設けるようにしても良い。   In the present embodiment, as shown in FIG. 19, a recess 191 that functions as a dam may be formed at the end of the groove 136. By forming a recess at the end of the groove 136 as described above, the silicone spreading in the longitudinal direction of the groove 136 due to capillary action flows down into the recess, and the silicone leaks to the side wall and back surface of the optical circuit. Can be prevented or reduced. Further, as shown in FIG. 20, a recess 201 (a groove in a form in which the recess 137 and the recess 191 in FIG. 19 are connected) is arranged so as to sandwich the athermal groove and a groove 136 is connected to a part of the athermal groove. You may make it provide.

なお、全ての溝と窪みを接続した場合には、窪みに溜まる樹脂の量が増えてきた場合に、全ての溝構造に樹脂が浸透してしまい、逆に樹脂の広がりを招く場合が見られるため、樹脂塗布領域に最も近い溝のうち1、2本のみを窪みに接続するように形成する事も有効な手段である。   In addition, when all the grooves and the depressions are connected, when the amount of the resin accumulated in the depressions increases, the resin penetrates all the groove structures, and conversely, the resin may be spread. For this reason, it is also effective to form only one or two of the grooves closest to the resin application region so as to be connected to the recess.

図14(a)は、本実施形態に係る、樹脂広がり抑制溝とダムとして機能する窪みとの接続の様子を示す図であり、図14(b)は、図14(a)のG−G’線切断断面図である。また、図14(c)は、本実施形態に係る、樹脂広がり抑制溝の各々溝に別個の窪みを接続する様子を示す図である。   Fig.14 (a) is a figure which shows the mode of the connection of the resin spreading | diffusion suppression groove | channel and the hollow which functions as a dam based on this embodiment, FIG.14 (b) is GG of Fig.14 (a). FIG. Moreover, FIG.14 (c) is a figure which shows a mode that a separate hollow is connected to each groove | channel of the resin spreading | diffusion suppression groove | channel based on this embodiment.

図14(a)において、樹脂広がり抑制溝142の端には、窪み143が形成されている。このような構成において、樹脂広がり抑制溝142を広がってきた樹脂144は、窪み143に流れ込むことになるが、図14(b)に示すように、樹脂広がり抑制溝142と窪み143との接続部に急峻な段差がある場合において、樹脂144の粘性や表面張力が高い場合は、図14(b)に示すように、窪み143に樹脂144が有効に広がらない場合がある。   In FIG. 14A, a recess 143 is formed at the end of the resin spreading suppression groove 142. In such a configuration, the resin 144 that has spread through the resin spread suppressing groove 142 flows into the recess 143, but as shown in FIG. 14B, the connecting portion between the resin spread suppressing groove 142 and the recess 143. When the resin 144 has a steep step and the viscosity and surface tension of the resin 144 are high, the resin 144 may not spread effectively in the depression 143 as shown in FIG.

なお、図14(a)では、1つの窪みに対して、全ての溝が連結されている構成を示しているが、これに限定されない。すなわち、図14(c)に示すように、樹脂広がり抑制溝142の各々に、窪み155a、155b、155cをそれぞれ接続するようにしてもよい。   In addition, although Fig.14 (a) has shown the structure by which all the grooves are connected with respect to one hollow, it is not limited to this. That is, as shown in FIG. 14C, the recesses 155a, 155b, and 155c may be connected to the resin spreading suppression grooves 142, respectively.

そこで、図15(a)および(b)に示すように、樹脂広がり抑制溝151と窪み153との接続部の段差が急峻でなくなるように、該接続部近傍にテーパ状であるスロープ部152を設け、かつ該スロープ152を窪み153に近づくにつれてテーパ部が広がるようにしても良い。このように、スロープ部152を設けることによって、図15(b)に示すように、樹脂154を有効に窪み153に流し込むことができる。なお、本実施形態では、スロープ部152は、テーパ状であるが、テーパ状でなくても良い。   Therefore, as shown in FIGS. 15A and 15B, a tapered slope portion 152 is provided in the vicinity of the connecting portion so that the step of the connecting portion between the resin spreading suppressing groove 151 and the recess 153 is not steep. The tapered portion may be widened as the slope 152 approaches the recess 153. Thus, by providing the slope part 152, as shown in FIG.15 (b), the resin 154 can be poured into the hollow 153 effectively. In the present embodiment, the slope portion 152 is tapered, but may not be tapered.

なお、図15(a)では、1つの窪みに対して、全ての溝が連結されている構成を示しているが、これに限定されない。すなわち、図15(c)に示すように、スロープ部152の各々に、窪み156a、156b、156cをそれぞれ接続するようにしてもよい。   In addition, although Fig.15 (a) has shown the structure by which all the grooves are connected with respect to one hollow, it is not limited to this. That is, as shown in FIG. 15C, the depressions 156a, 156b, and 156c may be connected to the slope portions 152, respectively.

また、図16に示すように、アサーマル溝を挟む2組のそれぞれの樹脂広がり抑制溝の一方端に窪みを接続し、上記2組の樹脂広がり抑制溝の他方端同士を、溝にて連結する構成も有効である。   Further, as shown in FIG. 16, a recess is connected to one end of each of the two sets of resin spread suppressing grooves sandwiching the athermal groove, and the other ends of the two sets of resin spread suppressing grooves are connected by the groove. The configuration is also effective.

図16において、アサーマル溝161の三方を囲むように、樹脂広がり抑制溝162が形成されている。また、樹脂広がり抑制溝162の両端には、スロープ部163が形成されており、スロープ部163のテーパ部の最も広くなっている部分は、窪み164に接続されている。このような構成により、シリコーン165の広がりを局所に抑えることが可能となる。   In FIG. 16, a resin spreading suppression groove 162 is formed so as to surround three sides of the athermal groove 161. Further, slope portions 163 are formed at both ends of the resin spread suppressing groove 162, and the widest portion of the tapered portion of the slope portion 163 is connected to the recess 164. With such a configuration, it is possible to suppress the spread of the silicone 165 locally.

なお、図16(a)では、1つの窪みに対して、全ての溝が連結されている構成を示しているが、これに限定されない。すなわち、図16(b)に示すように、スロープ部162の各々に、窪み166a〜166fをそれぞれ接続するようにしてもよい。   In addition, although Fig.16 (a) has shown the structure by which all the grooves are connected with respect to one hollow, it is not limited to this. That is, as shown in FIG. 16B, the recesses 166a to 166f may be connected to the slope portions 162, respectively.

本実施形態では、1つの窪みに1つの溝を連結する形態と、1つの窪みに複数の溝を連結する形態との組み合わせであっても良い。   In the present embodiment, a combination of a form in which one groove is connected to one recess and a form in which a plurality of grooves are connected to one recess may be used.

以上の説明においては、光回路の一例として、アサーマルAWGを取り上げたが、本技術は波長フィルタや分散補償器などのPLCにより形成される光集積回路に対しても、樹脂広がりを抑える事ができ有効である。   In the above description, an athermal AWG is taken up as an example of an optical circuit. However, this technology can also suppress resin spread even for an optical integrated circuit formed by a PLC such as a wavelength filter or a dispersion compensator. It is valid.

(第3の実施形態)
本実施形態では、第1および第2の実施形態で説明した、光回路を製造する方法の一例について説明する。
本実施形態において、光回路に溝や窪みを形成する手段として様々な手段があるが、エッチングやダイシングにより、光回路に溝や窪み等の凹部を形成することができる。エッチングによって光回路に複数の凹部を形成する場合、マイクロローディング効果を利用することが有効である。
(Third embodiment)
In this embodiment, an example of a method for manufacturing an optical circuit described in the first and second embodiments will be described.
In this embodiment, there are various means as means for forming grooves and depressions in the optical circuit, but recesses such as grooves and depressions can be formed in the optical circuit by etching and dicing. When a plurality of recesses are formed in the optical circuit by etching, it is effective to use the microloading effect.

図17は、本実施形態に係る、フィルタ挿入溝および浅い周期の溝構造を有する光回路構造を作製する方法を示す図である。
まず、フィルタを形成すべき、導波路コア171を有するPLC170を用意する(図17(a))。次いで、PLC170上にフォトレジストをスピンコート等により塗布して、フォトレジスト膜172を形成する(図17(b))。次いで、PLC170をホットプレート等に乗せて所定の時間ベイクした後、室温まで冷却する。次いで、フォトマスク上のパターンをフォトレジスト膜172に転写し、フォトレジスト膜172上のパターン以外のフォトレジストを除去することによって、フォトレジスト膜172上にフィルタ挿入用エッチングマスクパターン173および浅い溝の周期構造用エッチングマスクパターン174を形成する(図17(c))。このとき、フォトマスクのパターンを制御することによって、浅い溝の周期構造用エッチングマスクパターン174は、フィルタ挿入用エッチングマスクパターン173の幅よりも狭く形成されている。
FIG. 17 is a diagram showing a method for producing an optical circuit structure having a filter insertion groove and a shallow-period groove structure according to the present embodiment.
First, a PLC 170 having a waveguide core 171 in which a filter is to be formed is prepared (FIG. 17A). Next, a photoresist is applied onto the PLC 170 by spin coating or the like to form a photoresist film 172 (FIG. 17B). Next, the PLC 170 is placed on a hot plate or the like, baked for a predetermined time, and then cooled to room temperature. Next, the pattern on the photomask is transferred to the photoresist film 172, and the photoresist other than the pattern on the photoresist film 172 is removed, so that the filter insertion etching mask pattern 173 and the shallow groove are formed on the photoresist film 172. A periodic structure etching mask pattern 174 is formed (FIG. 17C). At this time, by controlling the photomask pattern, the shallow groove periodic structure etching mask pattern 174 is formed narrower than the width of the filter insertion etching mask pattern 173.

次に、ドライエッチングやウェットエッチングにより、PLC170をエッチングし、PLC170上に残ったフォトレジスト膜172を除去することにより、フィルタ挿入溝175および浅い溝の周期構造176を有するPLCが得られる(図17(d))。   Next, the PLC 170 having a filter insertion groove 175 and a shallow groove periodic structure 176 is obtained by etching the PLC 170 by dry etching or wet etching and removing the photoresist film 172 remaining on the PLC 170 (FIG. 17). (D)).

このように、マイクロローディング効果を利用することにより、一度のエッチングによって異なる深さの溝、すなわち、フィルタ挿入溝175および浅い溝の周期構造176を形成することができるので、製造時間の短縮化、低コスト化を図ることができ、製造上の負荷を軽減することができる。   As described above, by utilizing the microloading effect, grooves having different depths by one etching, that is, the periodic structure 176 of the filter insertion groove 175 and the shallow groove can be formed. Cost reduction can be achieved and manufacturing load can be reduced.

このとき、浅い溝の周期構造用エッチングマスクパターン174とフィルタ挿入用エッチングマスクパターン173との幅は、フィルタ挿入溝175が導波路コア171を貫通しても、浅い溝の周期構造176の各溝は、導波路コア171付近まで達さないように設定されている。   At this time, the width of the shallow groove periodic structure etching mask pattern 174 and the width of the filter insertion etching mask pattern 173 is set so that each groove of the shallow groove periodic structure 176 is formed even if the filter insertion groove 175 passes through the waveguide core 171. Is set so as not to reach the vicinity of the waveguide core 171.

溝形成時には、溝領域の樹脂に対する接触角を他の領域に比べて小さくする事が有効である。接触角を変えるには溝部分を除いた領域にレジスト等が存在する状態で、酸素プラズマなどを照射すれば良い。   At the time of groove formation, it is effective to reduce the contact angle of the groove region with the resin compared to other regions. In order to change the contact angle, oxygen plasma or the like may be irradiated in a state where a resist or the like exists in a region excluding the groove.

図17では、フィルタ挿入溝175および浅い溝の周期構造176を一括して形成しているが、フィルタ挿入溝175を形成した後に、別プロセスにて、浅い溝の周期構造176を、溝の深さが光学特性に影響を及ぼさない深さでエッチングによって形成しても良い。   In FIG. 17, the filter insertion groove 175 and the shallow groove periodic structure 176 are collectively formed. However, after the filter insertion groove 175 is formed, the shallow groove periodic structure 176 is formed in a groove depth by another process. May be formed by etching at a depth that does not affect the optical characteristics.

また、ダイシングによって光回路に複数の凹部を形成する場合は、樹脂の流出を抑制する凹部を形成する場合は、凹部の深さが光学特性に影響を及ぼさない範囲で凹部を形成するようにダイシングを行う必要がある。この光学特性に影響を及ぼさない範囲を超えた深さで凹部を形成すると、光回路の損失や位相誤差等により素子特性が劣化し、歩留まりが低下する。具体的には、ダイシングにより形成する深さは、光回路のクラッド厚の1/3以下であることが好ましい。   Also, when forming multiple recesses in the optical circuit by dicing, when forming recesses that suppress the outflow of resin, dicing so that the depth of the recesses does not affect the optical characteristics. Need to do. If the recess is formed at a depth exceeding the range that does not affect the optical characteristics, the element characteristics deteriorate due to the loss of the optical circuit, the phase error, etc., and the yield decreases. Specifically, the depth formed by dicing is preferably 1/3 or less of the cladding thickness of the optical circuit.

樹脂の流出を軽減するための手段として、クラッド上部に凸形状を形成する場合には、感光性を有するポリマーを塗布し、露光および現像ならびに必要に応じて熱などによる硬化処理を行い形成する方法が最も簡単な方法である。より高精度にパターンを作るには、クラッド層もしくはポリマー層をパターン化したレジストや金属膜などを用いてドライエッチング加工して作製を行う。ここで用いるポリマーとしては溶剤に対して撥水性のあるフッ素系の樹脂を用いる事が有効である。   As a means for reducing the outflow of resin, when forming a convex shape on the upper part of the clad, a method of applying a photosensitive polymer and performing exposure and development and, if necessary, a curing treatment with heat, etc. Is the easiest way. In order to form a pattern with higher accuracy, the pattern is produced by dry etching using a resist or metal film patterned with a clad layer or polymer layer. As the polymer used here, it is effective to use a fluorine resin having water repellency with respect to the solvent.

(第4の実施形態)
図18は、本実施形態に係る、非対称マッハツェンダー型干渉計を3段設けたラティス型光回路を示す図である。
(Fourth embodiment)
FIG. 18 is a view showing a lattice type optical circuit provided with three stages of asymmetric Mach-Zehnder interferometers according to the present embodiment.

ラティス型光回路181において、光結合器183の入力ポートには入力導波路182が接続されており、出力ポートにはそれぞれ、アーム導波路184の一方端とアーム導波路185の一方端とが接続されている。アーム導波路184の他方端とアーム導波路185の他方端とはそれぞれ、光結合器186の入力ポートに接続されており、光結合器186の出力ポートにはそれぞれ、アーム導波路187の一方端とアーム導波路188の一方端とが接続されている。アーム導波路187の他方端とアーム導波路188の他方端とはそれぞれ、光結合器189の入力ポートに接続されており、光結合器189の出力ポートのそれぞれには、アーム導波路190の一方端とアーム導波路191の一方端とが接続されている。アーム導波路190の他方端とアーム導波路191の他方端とはそれぞれ、光結合器192の入力ポートに接続されており、光結合器192の出力ポートにはそれぞれ、出力導波路193が接続されている。上記各部材の接続は、それぞれ光学的な接続である。   In the lattice type optical circuit 181, the input waveguide 182 is connected to the input port of the optical coupler 183, and one end of the arm waveguide 184 and one end of the arm waveguide 185 are connected to the output port, respectively. Has been. The other end of the arm waveguide 184 and the other end of the arm waveguide 185 are connected to the input port of the optical coupler 186, respectively, and the one end of the arm waveguide 187 is connected to the output port of the optical coupler 186, respectively. And one end of the arm waveguide 188 are connected. The other end of the arm waveguide 187 and the other end of the arm waveguide 188 are respectively connected to the input port of the optical coupler 189, and one of the arm waveguides 190 is connected to each of the output ports of the optical coupler 189. The end and one end of the arm waveguide 191 are connected. The other end of the arm waveguide 190 and the other end of the arm waveguide 191 are connected to the input port of the optical coupler 192, respectively, and the output waveguide 193 is connected to the output port of the optical coupler 192, respectively. ing. The connection of each member is an optical connection.

なお、アーム導波路184とアーム導波路185とは、所定の行路差を有するように、アーム導波路185の長さがアーム導波路184の長さよりも長く設定されている。同様に、所定の行路差を有するように、アーム導波路187とアーム導波路188の長さ、およびアーム導波路190とアーム導波路192の長さは設定されている。   The arm waveguide 184 and the arm waveguide 185 are set such that the length of the arm waveguide 185 is longer than the length of the arm waveguide 184 so as to have a predetermined path difference. Similarly, the lengths of the arm waveguide 187 and the arm waveguide 188 and the lengths of the arm waveguide 190 and the arm waveguide 192 are set so as to have a predetermined path difference.

図18から分かるように、ラティス型光回路181は、非対称型マッハツェンダー型干渉計を3段に連結した構成である。   As can be seen from FIG. 18, the lattice type optical circuit 181 has a configuration in which asymmetric Mach-Zehnder interferometers are connected in three stages.

このような構成のラティス型光回路181において、第1のアーム導波路対(アーム導波路184、185)のいずれか一方にアサーマル溝を形成し、アサーマル樹脂を充填する場合、所定の領域から外の領域への樹脂(ここでは、アサーマル樹脂)の流出を抑制させる手段として、アサーマル溝の近傍に凹部や凸部を設けることが有効である。このように、凹部や凸部を設けることによって、アサーマル溝近傍に配置された電極等の他の部材へのアサーマル樹脂の流出を抑制することが可能となる。   In the lattice-type optical circuit 181 having such a configuration, when an athermal groove is formed in one of the first arm waveguide pair (arm waveguides 184 and 185) and the athermal resin is filled, it is removed from a predetermined region. As a means for suppressing the outflow of the resin (here, athermal resin) to this region, it is effective to provide a concave portion or a convex portion in the vicinity of the athermal groove. As described above, by providing the concave portion and the convex portion, it is possible to suppress the outflow of the athermal resin to other members such as electrodes arranged in the vicinity of the athermal groove.

第2のアーム導波路対(アーム導波路187、188)のいずれか一方や第3のアーム導波路対(アーム導波路190、191)のいずれか一方にアサーマル溝を形成する場合は、同様に、所定の領域から外の領域への樹脂(ここでは、アサーマル樹脂)の流出を抑制させる手段として、アサーマル溝の近傍に凹部や凸部を設ければよい。   Similarly, when an athermal groove is formed in either one of the second arm waveguide pair (arm waveguides 187 and 188) or one of the third arm waveguide pair (arm waveguides 190 and 191), As a means for suppressing the outflow of the resin (here, the athermal resin) from the predetermined area to the outside area, a concave portion or a convex portion may be provided in the vicinity of the athermal groove.

なお、本実施形態では、ラティス型光回路として、3段の非対称マッハツェンダー型干渉計を設けた構成であるが、その数に限定されるものではなく、非対称マッハツェンダー型光干渉計をN段(N≧2)設けるようにしても良い。また、N=1の場合、すなわち、非対称マッハツェンダー型干渉計を1段設けた場合でも、アーム導波路対の一方にアサーマル溝を形成する場合は、所定の領域から外の領域への樹脂(ここでは、アサーマル樹脂)の流出を抑制させる手段として、アサーマル溝の近傍に凹部や凸部を設けることができる。   In this embodiment, the lattice type optical circuit has a configuration in which three stages of asymmetric Mach-Zehnder interferometers are provided. However, the number of the asymmetric Mach-Zehnder type optical interferometers is not limited to the number. (N ≧ 2) may be provided. In addition, when N = 1, that is, when an asymmetric Mach-Zehnder interferometer is provided in one stage, when an athermal groove is formed in one of the arm waveguide pairs, a resin (from a predetermined region to an outer region) Here, as a means for suppressing the outflow of the athermal resin), a concave portion or a convex portion can be provided in the vicinity of the athermal groove.

上述のように、本発明の一実施形態で重要なことは、光回路上で、樹脂が供給される領域からはみ出たり、流出した樹脂を、望ましくない領域へと流出するのを抑制することである。従って、光回路の構成は、本質ではなくいずれであっても良い。また、上述では、樹脂が供給される領域として、フィルタ挿入溝やアサーマル溝など凹部について説明したが、これに限定されない。   As described above, what is important in one embodiment of the present invention is to prevent the resin from flowing out from the region where the resin is supplied or flowing out to an undesired region on the optical circuit. is there. Therefore, the configuration of the optical circuit is not essential and may be any. In the above description, the concave portion such as the filter insertion groove and the athermal groove has been described as the region where the resin is supplied. However, the present invention is not limited to this.

例えば、樹脂を半導体レーザ(LD)や電極等の他の部材の保護膜として用いる場合は、保護膜としての樹脂を対象となる部材に対して上から覆うように滴下することがある。このとき滴下された樹脂は、保護膜として部材を覆うが、該部材から周囲の領域に広がる場合がある。よって、保護膜が形成される部材が、樹脂が供給される領域となる。このような保護膜を形成するものとしては、LDや電極等の部材に限らず、光機能性ポリマー等の場合もある。   For example, when a resin is used as a protective film for another member such as a semiconductor laser (LD) or an electrode, the resin as the protective film may be dropped so as to cover the target member from above. The dropped resin covers the member as a protective film, but may spread from the member to the surrounding area. Therefore, the member on which the protective film is formed becomes a region where the resin is supplied. Such a protective film is not limited to a member such as an LD or an electrode, but may be a photofunctional polymer or the like.

光回路上に接着剤等の樹脂を形成し、該樹脂の上に部材を配置して該部材の接着を行う場合は、樹脂が供給される領域は、上記樹脂が形成される領域となる。   When a resin such as an adhesive is formed on the optical circuit and a member is disposed on the resin to bond the member, the region where the resin is supplied is a region where the resin is formed.

なお、本発明の一実施形態に係る、樹脂が供給される領域に供給される樹脂は、接着剤、アサーマル樹脂、VOAやAWGのクロストークを低減させるため等に用いる遮光剤を含む樹脂、光機能性ポリマー等が含まれる。この光機能性ポリマーには、ガスセンサや光センサとして機能するもの、電気光学効果を有し、変調機能を実現するもの等が含まれる。   The resin supplied to the region to which the resin is supplied according to an embodiment of the present invention is an adhesive, an athermal resin, a resin containing a light shielding agent used for reducing crosstalk of VOA and AWG, and the like. Functional polymers and the like are included. Examples of the optical functional polymer include those that function as a gas sensor and an optical sensor, and those that have an electro-optic effect and realize a modulation function.

(a)は、従来のアサーマルAWGの上面図であり、(b)は、(a)中の拡大部分Xを示す図であり、(c)は、(b)のA−A’線切断断面図である。(A) is a top view of a conventional athermal AWG, (b) is a diagram showing an enlarged portion X in (a), and (c) is a cross-sectional view taken along line AA ′ in (b). FIG. (a)および(b)は、本発明の一実施形態に係る、樹脂の流出を軽減させる構成を示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the structure which reduces the outflow of resin based on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る、誘電体多層膜フィルタを有するPLCの上面図である。It is a top view of PLC which has a dielectric multilayer filter based on one Embodiment of this invention. (a)は、図3のB−B’線切断断面図であり、(b)〜(d)は、図3の壇の代わりに溝や、壇と溝との組み合わせを用いた場合の、B−B’線切断断面図である。(A) is a cross-sectional view taken along the line BB ′ in FIG. 3, and (b) to (d) are obtained when a groove or a combination of a floor and a groove is used instead of the floor in FIG. 3. It is a BB 'line cutting sectional view. (a)および(b)は、本発明の一実施形態に係る、樹脂の流出を軽減させる構成を示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the structure which reduces the outflow of resin based on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る、誘電体多層膜フィルタを有するPLCの上面図である。It is a top view of PLC which has a dielectric multilayer filter based on one Embodiment of this invention. (a)は、本発明の一実施形態に係る、浅い溝を周期的に配置することによって樹脂の流出を軽減させる構成を示す図であり、(b)は、(a)のC−C’線切断断面図であり、(c)は、(a)の浅い溝の周期構造の形状をv字状にした場合の、C−C’線切断断面図である。(A) is a figure which shows the structure which reduces the outflow of resin by arrange | positioning a shallow groove | channel periodically based on one Embodiment of this invention, (b) is CC 'of (a). It is line sectional drawing, (c) is CC 'line | wire sectional sectional drawing at the time of making the shape of the periodic structure of the shallow groove | channel of (a) into v shape. (a)は、本発明の一実施形態に係る、浅い溝の周期構造の端に窪みを設けた構成を示す図であり、(b)は、(a)の構成を適用したPLCの上面図であり、(c)は、(b)のD−D’線切断断面図である。(A) is a figure which shows the structure which provided the hollow in the edge of the periodic structure of a shallow groove | channel based on one Embodiment of this invention, (b) is a top view of PLC which applied the structure of (a). (C) is a cross-sectional view taken along line DD ′ of (b). (a)は、本発明の一実施形態に係る、浅い溝の周期構造の端に窪みを設けた構成を示す図であり、(b)は、(a)の構成を適用したPLCの上面図であり、(c)は、(b)のE−E’線切断断面図であり、(d)は、窪みと壇との配置の一例を示す図である。(A) is a figure which shows the structure which provided the hollow in the edge of the periodic structure of a shallow groove | channel based on one Embodiment of this invention, (b) is a top view of PLC which applied the structure of (a). (C) is a cross-sectional view taken along line EE ′ of (b), and (d) is a diagram showing an example of the arrangement of the depression and the platform. 本発明の一実施形態に係るパッシブアライメント実装に適合したPLCの構成図である。It is a block diagram of PLC suitable for the passive alignment mounting which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るパッシブアライメント実装に適合したPLCの構成図である。It is a block diagram of PLC suitable for the passive alignment mounting which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る、PLCを光学ベンチにパッシブアライメント実装する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that passive alignment mounting of PLC based on one Embodiment of this invention is carried out to the optical bench. (a)は、本発明の一実施形態に係るアサーマルAWGの上面図であり、(b)は、(a)のF−F’線切断断面図であり、(c)は、(a)の溝の代わりに壇を用いた場合の、F−F’線切断断面図である。(A) is a top view of the athermal AWG which concerns on one Embodiment of this invention, (b) is FF 'line | wire sectional drawing of (a), (c) is (a). It is a FF 'line cutting sectional view at the time of using a platform instead of a groove. (a)は、本発明の一実施形態に係る、樹脂広がり抑制溝とダムとして機能する窪みとの接続の様子を示す図であり、(b)は、(a)のG−G’線切断断面図であり、(c)は、本発明の一実施形態に係る、樹脂広がり抑制溝の各々溝に別個の窪みを接続する様子を示す図である。(A) is a figure which shows the mode of the connection of the resin spread suppression groove | channel and the hollow which functions as a dam based on one Embodiment of this invention, (b) is the GG 'line cutting | disconnection of (a). It is sectional drawing, (c) is a figure which shows a mode that a separate hollow is connected to each groove | channel of the resin spreading | diffusion suppression groove | channel which concerns on one Embodiment of this invention. (a)は、本発明の一実施形態に係る、樹脂広がり抑制溝とダムとして機能する窪みとの接続の様子を示す図であり、(b)は、(a)のH−H’線切断断面図であり、(c)は、本発明の一実施形態に係る、樹脂広がり抑制溝の各々溝に別個の窪みを接続する様子を示す図である。(A) is a figure which shows the mode of the connection of the resin spread suppression groove | channel and the hollow which functions as a dam based on one Embodiment of this invention, (b) is the HH 'line cutting | disconnection of (a). It is sectional drawing, (c) is a figure which shows a mode that a separate hollow is connected to each groove | channel of the resin spreading | diffusion suppression groove | channel which concerns on one Embodiment of this invention. (a)は、本発明の一実施形態に係る、樹脂広がり抑制溝とダムとして機能する窪みとの接続の様子を示す図であり、(b)は、本発明の一実施形態に係る、樹脂広がり抑制溝の各々溝に別個の窪みを接続する様子を示す図である。(A) is a figure which shows the mode of the connection of the resin spreading | diffusion suppression groove | channel based on one Embodiment of this invention, and the hollow which functions as a dam, (b) is resin which concerns on one Embodiment of this invention. It is a figure which shows a mode that a separate hollow is connected to each groove | channel of an expansion suppression groove | channel. (a)〜(d)は、本発明の一実施形態に係る、フィルタ挿入溝および浅い周期の溝構造を有する光回路構造を作製する方法を示す図である。(A)-(d) is a figure which shows the method of producing the optical circuit structure which has a groove structure of a filter insertion groove | channel and a shallow period based on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る、非対称マッハツェンダー型干渉計を3段設けたラティス型光回路を示す図である。It is a figure which shows the lattice type | mold optical circuit which provided three steps of asymmetrical Mach-Zehnder type interferometers based on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るアサーマルAWGの上面図である。It is a top view of the athermal AWG which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るアサーマルAWGの上面図である。It is a top view of the athermal AWG which concerns on one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

21、23、71、103 フィルタ挿入溝
22、136、142、151、162 溝
24、33、76、105a、105b、111、141 壇
25、35、73、74、137、143、153、164 窪み
31、100 PLC
32、104 誘電体多層膜フィルタ
34、75、106、112 ノッチ構造
72 浅い溝の周期構造
77 コ状の壇
78 突起部
101、133 クラッド
102、132 導波路コア
120 光学ベンチ
121 収容溝
122 アライメント溝
131 アレイ導波路
134、161 アサーマル溝
135、165 シリコーン
138 波長板挿入溝
139 波長板
140 接着剤
144、154 樹脂
152、163 スロープ部
21, 23, 71, 103 Filter insertion groove 22, 136, 142, 151, 162 Groove 24, 33, 76, 105a, 105b, 111, 141 Platform 25, 35, 73, 74, 137, 143, 153, 164 31, 100 PLC
32, 104 Dielectric multilayer filter 34, 75, 106, 112 Notch structure 72 Shallow groove periodic structure 77 U-shaped platform 78 Projection 101, 133 Clad 102, 132 Waveguide core 120 Optical bench 121 Housing groove 122 Alignment groove 131 Array waveguide 134, 161 Athermal groove 135, 165 Silicone 138 Wave plate insertion groove 139 Wave plate 140 Adhesive 144, 154 Resin 152, 163 Slope

Claims (7)

クラッドとコアとを有する導波路と、
前記クラッドに形成され、樹脂が供給された領域と、
該樹脂が供給された領域と所定の距離だけ離れて配置され、所定の領域から前記樹脂が流出するのを抑制する抑制手段であって、前記所定の領域は、該抑制手段を含んだ領域と前記樹脂が供給された領域との間の領域である抑制手段と
を備えることを特徴とする光回路構造。
A waveguide having a cladding and a core;
A region formed in the cladding and supplied with resin;
A suppression means that is arranged at a predetermined distance from the region to which the resin is supplied and suppresses the resin from flowing out of the predetermined region, wherein the predetermined region includes an area including the suppression means An optical circuit structure comprising: suppression means that is a region between the region to which the resin is supplied.
前記抑制手段は、前記コアに達しないように前記クラッドに形成された、少なくとも1つ以上の第1の凹部であることを特徴とする請求項1記載の光回路構造。   2. The optical circuit structure according to claim 1, wherein the suppressing means is at least one or more first recesses formed in the clad so as not to reach the core. 前記抑制手段は、前記クラッドに前記コアに達しないように形成された少なくとも1つ以上の第2の凹部をさらに有し、
前記第1の凹部は溝であり、
前記少なくとも1つ以上の溝の端の近傍に、前記第2の凹部が配置されていることを特徴とする請求項2に記載の光回路構造。
The suppression means further includes at least one second recess formed in the clad so as not to reach the core,
The first recess is a groove;
The optical circuit structure according to claim 2, wherein the second recess is disposed in the vicinity of an end of the at least one groove.
前記抑制手段は、前記クラッドに前記コアに達しないように形成された少なくとも1つ以上の第2の凹部をさらに有し、
前記第1の凹部は溝であり、
前記少なくとも1つ以上の溝のうちの少なくとも1つ以上は、前記第2の凹部に連結されていることを特徴とする請求項2記載の光回路構造。
The suppression means further includes at least one second recess formed in the clad so as not to reach the core,
The first recess is a groove;
The optical circuit structure according to claim 2, wherein at least one of the at least one groove is connected to the second recess.
前記抑制手段は、前記クラッドに形成された、少なくとも1つ以上の凸部であることを特徴とする請求項1記載の光回路構造。   2. The optical circuit structure according to claim 1, wherein the suppressing means is at least one convex portion formed in the clad. 前記樹脂は、アサーマル樹脂であり、
前記樹脂が供給された領域には、第3の凹部が形成されており、該第3の溝には、前記アサーマル樹脂が供給されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光回路構造。
The resin is an athermal resin,
6. The region according to claim 1, wherein a third recess is formed in the region supplied with the resin, and the athermal resin is supplied into the third groove. The optical circuit structure described.
請求項1乃至6のいずれかに記載の光回路構造と、
光学ベンチとを備え、
前記光回路構造は、複数のノッチ構造を有し、
前記光学ベンチは、前記複数のノッチ構造にそれぞれ嵌合する、複数の凹部を有し、
前記複数のノッチ構造と前記複数の凹部とを嵌合することにより、前記光回路構造が前記光学ベンチにパッシブアライメント実装されたことを特徴とする光モジュール。
An optical circuit structure according to any one of claims 1 to 6,
With an optical bench,
The optical circuit structure has a plurality of notch structures,
The optical bench has a plurality of recesses that respectively fit into the plurality of notch structures,
An optical module, wherein the optical circuit structure is passively mounted on the optical bench by fitting the plurality of notch structures and the plurality of recesses.
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