JP2006316092A - Polyphenylene ether, method for producing the same and use - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プリント基板、絶縁封止剤等の電機・電子材料用途に適した新規なポリフェニレンエーテルに関する。さらに詳しく言えば、架橋硬化性官能基を有するポリフェニレンエーテル、その製造方法、そのポリフェニレンエーテルを含む硬化性樹脂組成物、その硬化物、およびそれらのソルダーレジスト用途に関するものである。 The present invention relates to a novel polyphenylene ether suitable for use in electrical and electronic materials such as printed circuit boards and insulating sealants. More specifically, the present invention relates to a polyphenylene ether having a crosslinkable curable functional group, a production method thereof, a curable resin composition containing the polyphenylene ether, a cured product thereof, and a solder resist application thereof.
ポリフェニレンエーテルはフェノール化合物を酸化重合することにより得られる樹脂であり、耐熱性が高く、誘電特性に優れるため、電機・電子機器のプリント基板やレジスト等に適した材料である。一般にレジスト等の電子材料は、通常ワニスやインクといった、溶剤に樹脂成分が溶解した形で使用されるため、塗工等の工程上、ポリフェニレンエーテルの分子量が低いことが望ましい。しかし電子材料に適した低分子量ポリフェニレンエーテルの製造は必ずしも容易ではなかった。特にポリフェニレンエーテルをフェノールあるいは一置換フェノールから製造する場合は、酸化重合中にゲルの生成を起こしやすく、低分子量のポリフェニレンエーテルを製造することが困難である。このためポリフェニレンエーテルの製造には、通常2,6−ジメチルフェノール等の2,6−ジ置換フェノールが使用されている。 Polyphenylene ether is a resin obtained by oxidative polymerization of a phenol compound, and has high heat resistance and excellent dielectric properties. Therefore, it is a material suitable for printed circuit boards and resists for electrical and electronic equipment. In general, an electronic material such as a resist is usually used in a form in which a resin component is dissolved in a solvent such as varnish or ink. Therefore, it is desirable that the molecular weight of polyphenylene ether is low in the process such as coating. However, it has not always been easy to produce a low molecular weight polyphenylene ether suitable for an electronic material. In particular, when polyphenylene ether is produced from phenol or monosubstituted phenol, gel formation is likely to occur during oxidative polymerization, and it is difficult to produce low molecular weight polyphenylene ether. For this reason, 2,6-disubstituted phenols such as 2,6-dimethylphenol are usually used for the production of polyphenylene ether.
低分子量ポリフェニレンエーテルとして、特開2003−12796号公報(特許文献1)には、特定のビフェノール化合物と2,6−ジ置換フェノールを共重合させる2,6−ジ置換フェノールからのポリフェニレンエーテルが提案されている。しかし特殊なビフェノール化合物を使用するため、得られるポリフェニレンエーテルは高価になるという問題があった。 As a low molecular weight polyphenylene ether, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-12796 (Patent Document 1) proposes a polyphenylene ether derived from a 2,6-disubstituted phenol obtained by copolymerizing a specific biphenol compound and a 2,6-disubstituted phenol. Has been. However, since a special biphenol compound is used, there is a problem that the resulting polyphenylene ether is expensive.
一置換フェノールからのポリフェニレンエーテルとしては、特開平10−168179号公報(特許文献2)に、2−フェニルフェノールを重合して得られるポリフェニレンエーテルが提案されている。このポリフェニレンエーテルは、2,6−ジメチルフェノールを重合して得られる通常のポリフェニレンエーテルに比べ耐熱性等に優れることが記載されているが、2−フェニルフェノールは一置換フェノールであるためやはりゲル化を起こしやすく、レジスト等の電子材料に使用される低分子量体の製造は困難であった。 As polyphenylene ether from monosubstituted phenol, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-168179 (Patent Document 2) proposes polyphenylene ether obtained by polymerizing 2-phenylphenol. This polyphenylene ether is described as being superior in heat resistance and the like compared to a normal polyphenylene ether obtained by polymerizing 2,6-dimethylphenol. However, since 2-phenylphenol is a monosubstituted phenol, it is still gelled. It was difficult to produce a low molecular weight substance used for an electronic material such as a resist.
一方、近年、チップ・オン・フィルム(COF)やシステム・オン・フィルム(SOF)等のフレキシブルプリント配線板(FPC)の使用量が増大しており、これらの分野では薄膜化やファインパターンの達成のために優れた絶縁特性および耐熱性を有する絶縁性保護皮膜(ソルダーレジスト)用材料の出現が望まれている。 On the other hand, the use of flexible printed wiring boards (FPC) such as chip-on-film (COF) and system-on-film (SOF) has been increasing in recent years. Therefore, the appearance of a material for an insulating protective film (solder resist) having excellent insulating properties and heat resistance is desired.
しかし、このような分野において上記のポリフェニレンエーテルを使用した場合、絶縁特性や耐熱性に優れるものの、剛性が高く、クラックの発生等の問題があり、FPC用のソルダーレジストなど、可撓性あるいは柔軟性が要求される用途への適用は困難であった。 However, when the above polyphenylene ether is used in such a field, although it has excellent insulating properties and heat resistance, it has high rigidity and has problems such as generation of cracks. It is flexible or soft, such as a solder resist for FPC. Therefore, it has been difficult to apply to applications that require high performance.
従って、本発明は、プリント基板、絶縁封止剤等の電機・電子材料、特にソルダーレジスト材料として有用な、容易に架橋・硬化し、耐熱性、誘電特性および耐薬品性に優れた硬化物を与える低分子量のポリフェニレンエーテルを経済的に提供することを目的とする。また、本発明は、FPC用ソルダーレジストなどに使用できる可撓性あるいは柔軟性を有する硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。 Accordingly, the present invention provides a cured product having excellent heat resistance, dielectric properties and chemical resistance, which is easily crosslinked and cured, and is useful as an electric / electronic material such as a printed circuit board and an insulating sealant, particularly a solder resist material. The object is to economically provide a low molecular weight polyphenylene ether. Another object of the present invention is to provide a curable resin composition having flexibility or flexibility that can be used for a solder resist for FPC and the like.
本発明者は上記状況に鑑み鋭意検討した結果、o(オルト)−位にシクロアルキル基を有する特定のフェノール化合物を酸化重合すると一置換フェノールであっても、特殊なビフェノール化合物を使用せずに比較的分子量の低いポリフェニレンエーテルが得られ、これとこの水酸基にエポキシ基等の官能基を導入したポリフェニレンエーテルが容易に架橋・硬化し、耐熱性、誘電特性および耐薬品性に優れた硬化物を与え上記課題の解決に有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies in view of the above situation, the present inventor has found that when a specific phenol compound having a cycloalkyl group at the o (ortho) -position is oxidatively polymerized, even if it is a monosubstituted phenol, a special biphenol compound is not used. A polyphenylene ether having a relatively low molecular weight is obtained, and this and a polyphenylene ether in which a functional group such as an epoxy group is introduced into this hydroxyl group can be easily crosslinked and cured to produce a cured product having excellent heat resistance, dielectric properties and chemical resistance. The present invention has been found to be effective in solving the above-mentioned problems, and the present invention has been completed.
すなわち本発明は以下の硬化性ポリフェニレンエーテル、その製造方法、それを含有する硬化性樹脂組成物、その硬化物、およびそれらのソルダーレジスト用途に関する。
1.一般式(1)
で示される化学構造を有し、かつ水酸基、エポキシ基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基およびシアナート基からなる群から選ばれる1種以上の官能基を1以上有するポリフェニレンエーテル。
2.一般式(2)
で示される化学構造および/または一般式(3)
で示される化学構造をさらに有する前記1に記載のポリフェニレンエーテル。
3.一般式(4)
で示されるモノフェノール化合物を単独で、または他のフェノール化合物と共に酸化重合して得られる前記1に記載のポリフェニレンエーテル。
4.一般式(4)
で示されるモノフェノール化合物と一般式(5)
および/または一般式(6)
で示されるポリフェノール化合物とを酸化重合して得られる前記2に記載のポリフェニレンエーテル。
5.一般式(8)
で示される化学構造を有する前記1〜4のいずれかの項に記載のポリフェニレンエーテル。
6.数平均分子量が500〜20,000である前記1〜6のいずれかの項に記載のポリフェニレンエーテル。
7.エポキシ当量が300〜2,000である前記1〜7のいずれかの項に記載のポリフェニレンエーテル。
8.一般式(4)
で示されるモノフェノール化合物、および所望により一般式(5)
および/または一般式(6)
で示されるポリフェノール化合物を酸化(共)重合する工程を含むことを特徴とするポリフェニレンエーテルの製造方法。
9.(A)前記1〜7のいずれかに記載のポリフェニレンエーテルおよび(B)硬化剤を含有することを特徴とするポリフェニレンエーテル組成物。
10.さらに、(C)硬化性樹脂を含有する前記9に記載のポリフェニレンエーテル組成物。
11.さらに、可撓性付与剤(D)を含有する前記9または10に記載のポリフェニレンエーテル組成物。
12.前記9〜11のいずれかに記載のポリフェニレンエーテル組成物の硬化物。
13.ソルダーレジスト用である前記1〜7のいずれかに記載のポリフェニレンエーテル。
14.ソルダーレジスト用である前記9〜11のいずれかに記載のポリフェニレンエーテル組成物。
15.ソルダーレジスト用である前記12に記載の硬化物。
That is, this invention relates to the following curable polyphenylene ether, its manufacturing method, the curable resin composition containing it, its hardened | cured material, and those solder resist uses.
1. General formula (1)
And a polyphenylene ether having at least one functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group, an epoxy group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group and a cyanate group.
2. General formula (2)
And / or general formula (3)
2. The polyphenylene ether according to 1 above, further having a chemical structure represented by:
3. General formula (4)
2. The polyphenylene ether according to 1 above, which is obtained by oxidative polymerization of the monophenol compound represented by the formula alone or together with another phenol compound.
4). General formula (4)
And a monophenol compound represented by the general formula (5)
And / or general formula (6)
3. The polyphenylene ether according to 2 above, obtained by oxidative polymerization of a polyphenol compound represented by the formula:
5. General formula (8)
The polyphenylene ether according to any one of 1 to 4 above, which has a chemical structure represented by:
6). The polyphenylene ether according to any one of 1 to 6 above, wherein the number average molecular weight is 500 to 20,000.
7). The polyphenylene ether according to any one of 1 to 7 above, wherein the epoxy equivalent is 300 to 2,000.
8). General formula (4)
And, if desired, general formula (5)
And / or general formula (6)
A process for producing a polyphenylene ether, comprising a step of oxidizing (co) polymerizing a polyphenol compound represented by formula (1).
9. (A) A polyphenylene ether composition comprising the polyphenylene ether according to any one of 1 to 7 and (B) a curing agent.
10. Furthermore, the polyphenylene ether composition of said 9 containing (C) curable resin.
11. Furthermore, the polyphenylene ether composition of said 9 or 10 containing a flexibility imparting agent (D).
12 Hardened | cured material of the polyphenylene ether composition in any one of said 9-11.
13. The polyphenylene ether according to any one of 1 to 7 above, which is used for a solder resist.
14 The polyphenylene ether composition according to any one of 9 to 11, which is used for a solder resist.
15. 13. The cured product as described in 12 above, which is for solder resist.
本発明によれば、o−位にシクロアルキル基を有する特定のフェノール化合物を酸化重合することにより、電子材料に適した低分子量のポリフェニレンエーテルを容易に得ることができる。
本発明のポリフェニレンエーテルを架橋、硬化させることにより得られるポリフェニレンエーテル硬化物は耐熱性が高く、誘電特性あるいは耐薬品性に優れている。
本発明のポリフェニレンエーテルは、容易に架橋・硬化し、得られる硬化物は優れた絶縁特性や耐熱性を有し、プリント基板、絶縁封止剤等の電機・電子材料、特にソルダーレジスト材料用途に適している。
本発明のポリフェニレンエーテルと可撓性付与剤を含有する組成物の硬化物は、折り曲げ時におけるクラックの発生が抑制され、特に可撓性あるいは柔軟性が要求される分野のプリント基板、絶縁封止剤等の電機・電子材料、特に柔軟なソルダーレジスト材料用途に適している。
According to the present invention, a low molecular weight polyphenylene ether suitable for an electronic material can be easily obtained by oxidative polymerization of a specific phenol compound having a cycloalkyl group at the o-position.
The cured polyphenylene ether obtained by crosslinking and curing the polyphenylene ether of the present invention has high heat resistance and excellent dielectric properties or chemical resistance.
The polyphenylene ether of the present invention easily crosslinks and cures, and the resulting cured product has excellent insulating properties and heat resistance, and is suitable for electrical and electronic materials such as printed boards and insulating sealants, especially for solder resist materials. Is suitable.
The cured product of the composition containing the polyphenylene ether and the flexibility-imparting agent of the present invention suppresses the generation of cracks during bending, and is particularly suitable for printed circuit boards and insulating seals in fields requiring flexibility or flexibility. Suitable for electrical and electronic materials such as chemicals, especially for flexible solder resist materials.
[硬化性ポリフェニレンエーテル]
本発明の硬化性ポリフェニレンエーテルは、一般式(1)
The curable polyphenylene ether of the present invention has the general formula (1)
式(1)中、R1およびR2は、それぞれ独立してハロゲン原子または炭素数1〜20の炭化水素基を表し、R1またはR2が複数存在する場合各々は同一でも異なってもよい。R1およびR2に係るハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などが挙げられる。R1およびR2に係る炭素数1〜20の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基等の鎖状もしくは環状のアルキル基や、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアリールアルキル基などが挙げられる。これらのうちハロゲン原子またはフェニル基が好ましくフェニル基が最も好ましい。 In formula (1), R 1 and R 2 each independently represent a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 1 or R 2 are present, each may be the same or different. . Examples of the halogen atom related to R 1 and R 2 include a chlorine atom, a bromine atom, and a fluorine atom. Specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms according to R 1 and R 2 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, t- Chain or cyclic alkyl groups such as butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group and cyclohexyl group; aryl groups such as phenyl group, tolyl group and naphthyl group; arylalkyl groups such as benzyl group and phenethyl group Is mentioned. Of these, a halogen atom or a phenyl group is preferable, and a phenyl group is most preferable.
式(1)中、pは0または1〜3の整数であり、0または1が好ましく、0が最も好ましい。またqは0または1〜5の整数であり、0または1が好ましく、0が最も好ましい。式(1)において、pまたはqが0でない場合、R1およびR2は、それぞれ独立してハロゲン原子および炭素数1〜20の炭化水素基の中から選ばれる。式(1)におけるnは2〜1000の整数であり、2〜100が好ましく、2〜50がさらに好ましく、2〜30が特に好ましく、3〜20が最も好ましい。nが2未満では硬化物とした場合の耐熱性が不十分となる。またレジスト等の組成物とした場合には、その粘度が低くなり、その塗工に支障をきたす場合がある。またnが1000を超えると溶剤に対する溶解性が低下したり、レジスト等の組成物への配合が困難となることがある。
なお、nの値は以下のようにして求めることができる。すなわち、ポリフェニレンエーテルの主として末端に残存するフェノール性水酸基に対して、トリメチルクロロシラン等のシリル化剤や無水酢酸等のアシル化剤を充分に反応させてシリル基またはアシル基に変換する。このシリル基またはアシル基を有するポリフェニレンエーテルのプロトン核磁気共鳴スペクトル(以下、1H−NMRスペクトルと記載することがある。)を測定し、当該シリル基またはアシル基1当量に対する(1)式の化学構造の当量を求め、これをnの値とする。なお、1H−NMRスペクトルにおいてシリル基やアシル基に由来する吸収が(1)式の化学構造に由来する吸収と重なる場合には、適宜フェノール性水酸基を他の官能基に変換して測定することができる。
In the formula (1), p is 0 or an integer of 1 to 3, preferably 0 or 1, and most preferably 0. Q is 0 or an integer of 1 to 5, preferably 0 or 1, and most preferably 0. In the formula (1), when p or q is not 0, R 1 and R 2 are each independently selected from a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. N in Formula (1) is an integer of 2 to 1000, preferably 2 to 100, more preferably 2 to 50, particularly preferably 2 to 30, and most preferably 3 to 20. When n is less than 2, the heat resistance when cured is insufficient. Further, when a composition such as a resist is used, the viscosity of the composition is lowered, which may hinder the coating. Moreover, when n exceeds 1000, the solubility with respect to a solvent may fall, or the mixing | blending to compositions, such as a resist, may become difficult.
The value of n can be obtained as follows. That is, the phenolic hydroxyl group mainly remaining at the terminal of the polyphenylene ether is sufficiently reacted with a silylating agent such as trimethylchlorosilane or an acylating agent such as acetic anhydride to be converted into a silyl group or an acyl group. The proton nuclear magnetic resonance spectrum (hereinafter sometimes referred to as 1 H-NMR spectrum) of the polyphenylene ether having a silyl group or an acyl group is measured, and the formula (1) with respect to 1 equivalent of the silyl group or acyl group is measured. The equivalent of the chemical structure is determined and this is taken as the value of n. In addition, when absorption derived from a silyl group or an acyl group in the 1 H-NMR spectrum overlaps with absorption derived from the chemical structure of the formula (1), measurement is performed by appropriately converting a phenolic hydroxyl group to another functional group. be able to.
本発明のポリフェニレンエーテルは、一般式(2)
式(2)中、R3は単結合、炭素数1〜30の2価の炭化水素基、酸素原子、硫黄原子またはスルホニル基を表す。炭素数1〜30の2価の炭化水素基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基、ベンジリデン基、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、フルオレン−9,9−ジイル基等が挙げられる。これらのうち、単結合または炭素数1〜30の2価の炭化水素基が好ましく、単結合、メチレン基またはイソプロピリデン基が特に好ましい。 In formula (2), R 3 is a single bond, a divalent hydrocarbon group, an oxygen atom, a sulfur atom or a sulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms. Specific examples of the divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms include methylene group, ethylene group, ethylidene group, isopropylidene group, benzylidene group, cyclopentylidene group, cyclohexylidene group, fluorene-9,9- A diyl group etc. are mentioned. Of these, a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms is preferable, and a single bond, a methylene group, or an isopropylidene group is particularly preferable.
式(2)中、R4はハロゲン原子または炭素数1〜20の炭化水素基を表し、R4が複数存在する場合各々は互いに同一でも異なってもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。また、炭素数1〜20の炭化水素基の具体例としてはメチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、およびフェニル基などが挙げられる。また、rおよびsはそれぞれ独立して0または1〜4の整数であり、0または2が好ましい。 In formula (2), R 4 represents a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 4 are present, each may be the same as or different from each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom. Specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, and phenyl group. R and s are each independently 0 or an integer of 1 to 4, preferably 0 or 2.
式(3)中、R5はハロゲン原子または炭素数1〜20の炭化水素基を表し、R5が複数存在する場合各々は互いに同一でも異なってもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。また、炭素数1〜20の炭化水素基の具体例としてはメチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、およびフェニル基などが挙げられる。また、tは0または1〜4の整数であり、0または2が好ましい。 In formula (3), R 5 represents a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when a plurality of R 5 are present, each may be the same as or different from each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom. Specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, and phenyl group. Moreover, t is 0 or an integer of 1-4, and 0 or 2 is preferable.
式(3)中、R6は、m(3〜6)価の任意の炭化水素基であり、その具体例としてはメチリジン基、エチリジン基等が挙げられる。また、式(3)中、mは3〜6の整数であり、3が好ましい。 In the formula (3), R 6 is an m (3-6) valent arbitrary hydrocarbon group, and specific examples thereof include a methylidine group and an ethylidine group. Moreover, in Formula (3), m is an integer of 3-6, and 3 is preferable.
本発明のポリフェニレンエーテルは、水酸基、エポキシ基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、およびシアナート基からなる群から選ばれる1種以上の官能基をポリフェニレンエーテル1分子中に1以上含有している。前記官能基を1分子中に2以上有する場合各々は互いに同一でも異なってもよい。 The polyphenylene ether of the present invention contains one or more functional groups selected from the group consisting of a hydroxyl group, an epoxy group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and a cyanate group in one molecule of the polyphenylene ether. When two or more functional groups are present in one molecule, each may be the same or different.
ここでエポキシ基としては一般式(7)
で示されるものが好ましい。
Here, the epoxy group is represented by the general formula (7).
Is preferred.
式(7)中、R7、R8およびR9に係るハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などが挙げられる。R7、R8およびR9に係る炭素数1〜20の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基等の鎖状もしくは環状のアルキル基や、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアリールアルキル基などが挙げられる。これらのうち、水素原子、メチル基、またはフェニル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。 In the formula (7), examples of the halogen atom related to R 7 , R 8 and R 9 include a chlorine atom, a bromine atom and a fluorine atom. Specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms according to R 7 , R 8 and R 9 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group and an i-butyl group. , T-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group and other chain or cyclic alkyl groups, phenyl group, tolyl group, naphthyl group and other aryl groups, benzyl group, phenethyl group and other aryl groups An alkyl group etc. are mentioned. Among these, a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group is preferable, and a hydrogen atom is particularly preferable.
本発明のポリフェニレンエーテルが前記エポキシ基を有する場合は、一般式(8)
で示される化学構造を有するものが好ましい。
When the polyphenylene ether of the present invention has the epoxy group, the general formula (8)
Those having a chemical structure represented by
式(8)中、R1、R2、p、q、nおよびR7、R8、R9ならびにそれぞれの好ましいものは前記式(1)および(7)の場合と同様である。式(8)中、R10は、ヘテロ原子を含んでいてもよい2価の炭化水素基である。その具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基などのアルキレン基、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基などのアルキリデン基等の枝分かれしていてもよい脂肪族鎖状2価炭化水素基、シクロへキシレン基、フェニレン基などの脂肪族または芳香族環状2価炭化水素基が挙げられる。 In the formula (8), R 1 , R 2 , p, q, n and R 7 , R 8 , R 9 and preferred ones thereof are the same as those in the formulas (1) and (7). In formula (8), R 10 is a divalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom. Specific examples thereof include aliphatic groups which may be branched, such as alkylene groups such as methylene group, ethylene group, propylene group, tetramethylene group and hexamethylene group, alkylidene groups such as ethylidene group, propylidene group and isopropylidene group. Examples thereof include an aliphatic or aromatic cyclic divalent hydrocarbon group such as a chain divalent hydrocarbon group, a cyclohexylene group, and a phenylene group.
式(8)中、R10の他の例として一般式(9)
式(10)中、R11は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、または炭素数1〜10の炭化水素基を表わす。R11は、式(10)中の「u+w」が2以上の場合に複数存在する。R11が複数存在する場合各々は互いに同一でも異なってもよい。uおよびwは、それぞれ独立して0または1〜4の整数である。炭素数1〜10の炭化水素基の好ましい具体例としては、メチル基およびエチル基が挙げられる。 In the formula (10), R 11 represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. A plurality of R 11 exist when “u + w” in formula (10) is 2 or more. When a plurality of R 11 are present, each may be the same or different. u and w are each independently 0 or an integer of 1 to 4. Preferable specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group and an ethyl group.
式(10)中、R12は、単結合、メチレン基などのアルキレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基などのアルキリデン基等の枝分かれしていてもよい脂肪族鎖状2価炭化水素基、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基などの脂肪族環状2価炭化水素基、フルオレン−9,9−ジイル基などの芳香族環状2価炭化水素基、スルホニル基、硫黄原子、酸素原子等の2価の連結基を表わす。 In the formula (10), R 12 represents a single bond, an aliphatic chain divalent hydrocarbon group which may be branched such as an alkylene group such as a methylene group, an alkylidene group such as an ethylidene group or an isopropylidene group, or cyclopentyl. Bivalent hydrocarbon groups such as an aliphatic cyclic divalent hydrocarbon group such as a lidene group and cyclohexylidene group, an aromatic cyclic divalent hydrocarbon group such as a fluorene-9,9-diyl group, a sulfonyl group, a sulfur atom, and an oxygen atom. Represents a linking group.
式(8)中、R10の具体例のなかでも、式(10)で示されるフェニレンエーテル基およびメチレン基が好ましく、特にメチレン基が好ましい。 Of the specific examples of R 10 in formula (8), the phenylene ether group and methylene group represented by formula (10) are preferred, and the methylene group is particularly preferred.
[ポリフェニレンエーテルの製造方法]
本発明のポリフェニレンエーテルは、一般式(4)
で示されるモノフェノール化合物を単独で、または他のフェノール化合物好ましくは一般式(5)
および/または一般式(6)
で示されるポリフェノール化合物と共に酸化重合することにより製造するか、または得られるポリフェニレンエーテルに、水酸基、エポキシ基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基およびシアナート基からなる群から選ばれる1種以上の官能基を1以上導入する反応に付すことにより製造することができる。
[Production method of polyphenylene ether]
The polyphenylene ether of the present invention has the general formula (4)
A monophenol compound represented by the formula (5) alone or other phenol compound, preferably
And / or general formula (6)
One or more functional groups selected from the group consisting of a hydroxyl group, an epoxy group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group and a cyanate group are produced by oxidative polymerization together with the polyphenol compound represented by It can manufacture by attaching | subjecting to reaction which introduces 1 or more.
式(4)中、R1、R2、pおよびqの意味および好ましい例は、前記式(1)の場合と同様であり、X1は水素が好ましい。また式(5)中、R3、R4、rおよびsの意味および好ましい例は、前記式(2)の場合と同様である。さらに式(6)中、R5、R6、mおよびtの意味および好ましい例は、前記式(3)の場合と同様である。 In formula (4), the meanings and preferred examples of R 1 , R 2 , p and q are the same as in the case of formula (1), and X 1 is preferably hydrogen. In formula (5), the meanings and preferred examples of R 3 , R 4 , r and s are the same as those in formula (2). Further, in formula (6), the meanings and preferred examples of R 5 , R 6 , m and t are the same as those in formula (3).
式(4)で示されるモノフェノール化合物の具体例としては、2−シクロヘキシルフェノール、5−メチル−2−シクロヘキシルフェノール、6−メチル−2−シクロヘキシルフェノール、5−クロロ−2−シクロヘキシルフェノール、6−クロロ−2−シクロヘキシルフェノールなどが挙げられ、これらのうち、2−シクロヘキシルフェニール、5−メチル−2−シクロヘキシルフェノール、6−メチル−2−シクロヘキシルフェノールが好ましく、2−シクロヘキシルフェノールが最も好ましい。 Specific examples of the monophenol compound represented by the formula (4) include 2-cyclohexylphenol, 5-methyl-2-cyclohexylphenol, 6-methyl-2-cyclohexylphenol, 5-chloro-2-cyclohexylphenol, 6- Examples include chloro-2-cyclohexylphenol, and among these, 2-cyclohexylphenyl, 5-methyl-2-cyclohexylphenol, and 6-methyl-2-cyclohexylphenol are preferable, and 2-cyclohexylphenol is most preferable.
式(5)で示されるポリフェノール化合物の具体例としては、2,2’−ビフェノール、4,4’−ビフェノール、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フェニルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)シクロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレンなどが挙げられる。 Specific examples of the polyphenol compound represented by the formula (5) include 2,2′-biphenol, 4,4′-biphenol, bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane. 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 9,9-bis (4-hydroxy) Phenyl) fluorene, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxy-3, 5-dimethylphenyl) propane, bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) phenylmethane, 1,1-bis (4-hydride) Xyl-3,5-dimethylphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) cyclohexane, 9,9-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, etc. Is mentioned.
式(6)で示されるポリフェノール化合物の具体例としては、トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタンなどが挙げられる。 Specific examples of the polyphenol compound represented by the formula (6) include tris (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) ethane and the like.
式(4)で示されるモノフェノール化合物、および所望により他のフェノール化合物好ましくは式(5)および/+または式(6)で示されるポリフェノール化合物を酸化(共)重合する方法は、特に限定されないが、例えば以下の方法により行うことができる。 There is no particular limitation on the method of oxidative (co) polymerizing the monophenol compound represented by the formula (4) and, if desired, another phenol compound, preferably the polyphenol compound represented by the formula (5) and / + or the formula (6). However, it can be performed, for example, by the following method.
すなわち、通常、遷移金属錯体触媒の存在下、空気、酸素等の酸化剤の作用により重合させる。遷移金属錯体触媒としては、遷移金属を含む錯体触媒であれば特に限定はないが、有機配位子化合物を配位子とする第4〜11族遷移金属錯体触媒が好ましい。 That is, it is usually polymerized by the action of an oxidizing agent such as air or oxygen in the presence of a transition metal complex catalyst. Although it will not specifically limit if it is a complex catalyst containing a transition metal as a transition metal complex catalyst, The 4th-11th group transition metal complex catalyst which uses an organic ligand compound as a ligand is preferable.
これら遷移金属錯体の中でも、第一遷移元素系列の遷移金属錯体が好ましい。その具体例としては、バナジウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅の錯体が挙げられ、特に好ましい遷移金属錯体は銅錯体である。遷移金属錯体の金属原子は、自然界に通常存在する価数のものを適宜選択して使用することができる。銅の場合は、例えば1価または2価の銅を用いることができる。これら遷移金属錯体は、遷移金属化合物と二座配位子化合物とを公知の方法により接触させて得ることができる。 Among these transition metal complexes, transition metal complexes of the first transition element series are preferable. Specific examples thereof include vanadium, manganese, iron, cobalt, nickel, and copper complexes, and a particularly preferable transition metal complex is a copper complex. As the metal atom of the transition metal complex, one having a valence usually existing in nature can be appropriately selected and used. In the case of copper, for example, monovalent or divalent copper can be used. These transition metal complexes can be obtained by bringing a transition metal compound and a bidentate ligand compound into contact with each other by a known method.
このような遷移金属化合物としては遷移金属の塩類が好ましい。その具体例としては、遷移金属のハロゲン化物、硫酸塩、酢酸塩、安息香酸塩等が挙げられ、中でも遷移金属のハロゲン化物(塩素、臭素、ヨウ素化物等)が好ましく、1価銅の塩化物、臭化物が特に好ましい。 Such transition metal compounds are preferably transition metal salts. Specific examples thereof include transition metal halides, sulfates, acetates, benzoates, etc. Among them, transition metal halides (chlorine, bromine, iodide, etc.) are preferred, and monovalent copper chlorides. Bromide is particularly preferred.
有機配位子化合物としては、配位原子が窒素原子、リン原子、酸素原子または硫黄原子である配位子化合物、あるいはη5 配位結合により遷移金属原子と結合するシクロペンタジエニル形アニオン骨格を有する基を有する配位子化合物が好ましく、その配位原子が窒素原子、リン原子、酸素原子または硫黄原子である化合物がさらに好ましく、配位原子が窒素原子、リン原子、酸素原子または硫黄原子である二座配位子化合物が特に好ましい。 Organic ligand compounds include ligand compounds in which the coordination atom is a nitrogen atom, phosphorus atom, oxygen atom or sulfur atom, or a cyclopentadienyl-type anion skeleton bonded to a transition metal atom by η5 coordination bond. A ligand compound having a group having the above group is preferable, and a compound in which the coordination atom is a nitrogen atom, a phosphorus atom, an oxygen atom or a sulfur atom is more preferable, and the coordination atom is a nitrogen atom, a phosphorus atom, an oxygen atom or a sulfur atom. Certain bidentate ligand compounds are particularly preferred.
これら二座配位子化合物の具体例としては、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオール、1,2−シクロヘキサンジオール、1,2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチオール、カテコール、ヒドロキシ酢酸、2−ヒドロキシプロピオン酸、2−ヒドロキシ酪酸、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシアセトン、2−ケトプロピオン酸、2−ケト酪酸、2−ケトプロピオン酸エチル、アセチルアセトン、3−メチル−2,4−ペンタンジオン、アセチルアセトアルデヒド、2,4−ヘキサンジオン、2,4−ヘプタンジオン、5−メチル−2,4−ヘキサンジオン、5,5−ジメチル−2,4−ヘキサンジオン、ベンゾイルアセトン、ベンゾイルアセトフェノン、サリチルアルデヒド、1,1,1−トリフルオロアセチルアセトン、1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロアセチルアセトン、3−メトキシ−2,4−ペンタンジオン、3−シアノ−2,4−ペンタンジオン、3−ニトロ−2,4−ペンタンジオン、3−クロロ−2,4−ペンタンジオン、アセト酢酸、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸アミド、マロン酸、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、サリチル酸、サリチル酸メチル、サリチル酸アミド、グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、フェニルアラニン、モノエタノールアミン、3−アミノ−1−プロパノール、2−アミノ−1−プロパノール、1−アミノ−2−プロパノール、3−アミノ−2−ブタノール、3−アミノ−2,3−ジメチル−2−ブタノール、2−アミノ−1−シクロヘキサノール、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、N−プロピルエタノールアミン、N−ブチルエタノールアミン、N−フェニルエタノールアミン、N−メチルプロパノールアミン、N−フェニルプロパノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、N−サリシリデンメチルアミン、N−サリシリデンエチルアミン、N−サリシリデンプロピルアミン、N−サリシリデンブチルアミン、N−サリシリデンアニリン、4−(N−メチルイミノ)−2−ペンタノン、4−(N−エチルイミノ)−2−ペンタノン、4−(N−プロピルイミノ)−2−ペンタノン、4−(N−フェニルイミノ)−2−ペンタノン、2−(N−メチルイミノ)プロピオン酸、3−(N−メチルイミノ)プロピオン酸、3−(N−メチルイミノ)プロピオン酸エチル、2−(N−メチルイミノ)酪酸、2−(N−メチルイミノ)プロパノール、2,3−ブタンジオン、3,4−ヘキサンジオン、2,5−ジメチル−3,4−ヘキサンジオン、2,2−ジメチル−3,4−ヘキサンジオン、2,2,5,5−テトラメチル−3,4−ヘキサンジオン、1,2−シクロヘキサンジオン、2−(N−メチルイミノ)−3−ブタノン、2−(N−エチルイミノ)−3−ブタノン、2−(N−プロピルイミノ)−3−ブタノン、2−(N−ブチルイミノ)−3−ブタノン、2−(N−フェニルイミノ)−3−ブタノン、3−(N−メチルイミノ)−3−ヘキサノン、2−(N−メチルイミノ)−シクロヘキサノン、2−(N−メチルイミノ)−プロピオン酸メチル、2−(N−メチルイミノ)−酪酸エチル、エチレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、1,2−フェニレンジアミン、2,2'−ビピリジル、2,3−ブタンジオキシム、2,4−ビス(N−メチルイミノ)−ペンタン、エチレンジアミン、N−メチルエチレンジアミン、N−エチルエチレンジアミン、N−n−プロピルエチレンジアミン、N−iso−プロピルエチレンジアミン、N−t−ブチルエチレンジアミン、N−フェニルエチレンジアミン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、N,N'−ジメチルエチレンジアミン、N,N,N'−トリメチルエチレンジアミン、N,N,N',N'−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N',N'−テトラエチルエチレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、1,2−プロパンジアミン、2,3−ブタンジアミン、1,2−シクロヘキサンジアミン、1,2−シクロヘキセンジアミン、1,2−フェニレンジアミン、2,2'−ビピリジル等のジアミン化合物;2,3−ブタンジオキシム、2,4−ペンタンジオキシム等のジオキシム化合物;2,3−ビス(N−メチルイミノ)−ブタン、2,3−ビス(N−フェニルイミノ)−ブタン、1,3−ビス(N−メチルイミノ)−ブタン、2,4−ビス(N−メチルイミノ)−ペンタン等のジイミノ化合物等を挙げることができる。これらの中でも、ジアミン化合物が好ましく、エチレンジアミン、N,N,N',N'−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N',N'−テトラエチルエチレンジアミン、1,3−プロパンジアミンがさらに好ましい。 Specific examples of these bidentate ligand compounds include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 2,3-butanediol, 2,3-dimethyl- 2,3-butanediol, 1,2-cyclohexanediol, 1,2-ethanedithiol, 1,3-propanedithiol, catechol, hydroxyacetic acid, 2-hydroxypropionic acid, 2-hydroxybutyric acid, ethyl hydroxyacetate, hydroxyacetone 2-ketopropionic acid, 2-ketobutyric acid, ethyl 2-ketopropionate, acetylacetone, 3-methyl-2,4-pentanedione, acetylacetaldehyde, 2,4-hexanedione, 2,4-heptanedione, 5 -Methyl-2,4-hexanedione, 5,5-dimethyl-2,4-hexa Dione, benzoylacetone, benzoylacetophenone, salicylaldehyde, 1,1,1-trifluoroacetylacetone, 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone, 3-methoxy-2,4-pentanedione, 3- Cyano-2,4-pentanedione, 3-nitro-2,4-pentanedione, 3-chloro-2,4-pentanedione, acetoacetic acid, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetoacetamide, malonic acid, malon Dimethyl acid, diethyl malonate, salicylic acid, methyl salicylate, salicylic acid amide, glycine, alanine, valine, leucine, phenylalanine, monoethanolamine, 3-amino-1-propanol, 2-amino-1-propanol, 1-amino-2 -Propanol, 3-amino-2-but Nord, 3-amino-2,3-dimethyl-2-butanol, 2-amino-1-cyclohexanol, N-methylethanolamine, N-ethylethanolamine, N-propylethanolamine, N-butylethanolamine, N -Phenylethanolamine, N-methylpropanolamine, N-phenylpropanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, N-salicylidenemethylamine, N-salicylideneethylamine, N- Salicylidenepropylamine, N-salicylidenebutylamine, N-salicylideneaniline, 4- (N-methylimino) -2-pentanone, 4- (N-ethylimino) -2-pentanone, 4- (N-propyl) Imino) -2-pentanone, 4- (N-phenylimino) 2-pentanone, 2- (N-methylimino) propionic acid, 3- (N-methylimino) propionic acid, ethyl 3- (N-methylimino) propionate, 2- (N-methylimino) butyric acid, 2- (N- Methylimino) propanol, 2,3-butanedione, 3,4-hexanedione, 2,5-dimethyl-3,4-hexanedione, 2,2-dimethyl-3,4-hexanedione, 2,2,5,5 -Tetramethyl-3,4-hexanedione, 1,2-cyclohexanedione, 2- (N-methylimino) -3-butanone, 2- (N-ethylimino) -3-butanone, 2- (N-propylimino) -3-butanone, 2- (N-butylimino) -3-butanone, 2- (N-phenylimino) -3-butanone, 3- (N-methylimino) -3-hexanone, -(N-methylimino) -cyclohexanone, methyl 2- (N-methylimino) -propionate, ethyl 2- (N-methylimino) -butyrate, ethylenediamine, 1,3-propanediamine, 1,2-phenylenediamine, 2, 2'-bipyridyl, 2,3-butanedioxime, 2,4-bis (N-methylimino) -pentane, ethylenediamine, N-methylethylenediamine, N-ethylethylenediamine, Nn-propylethylenediamine, N-iso-propyl Ethylenediamine, Nt-butylethylenediamine, N-phenylethylenediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N′-dimethylethylenediamine, N, N, N′-trimethylethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetra Methylethylenediamine, N, N, N ', N' Tetraethylethylenediamine, 1,3-propanediamine, 1,2-propanediamine, 2,3-butanediamine, 1,2-cyclohexanediamine, 1,2-cyclohexenediamine, 1,2-phenylenediamine, 2,2′- Diamine compounds such as bipyridyl; dioxime compounds such as 2,3-butanedioxime and 2,4-pentanedioxime; 2,3-bis (N-methylimino) -butane and 2,3-bis (N-phenylimino) And diimino compounds such as -butane, 1,3-bis (N-methylimino) -butane, and 2,4-bis (N-methylimino) -pentane. Among these, a diamine compound is preferable, and ethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetraethylethylenediamine, and 1,3-propanediamine are more preferable.
これら二座配位子化合物の使用量は一般的に遷移金属化合物に対して0.01〜50当量であり、0.1〜10当量がさらに好ましい。 Generally the usage-amount of these bidentate ligand compounds is 0.01-50 equivalent with respect to a transition metal compound, and 0.1-10 equivalent is further more preferable.
前記遷移金属錯体触媒の使用量は、一般に重合すべき前記フェノール化合物に対し遷移金属原子相当の量として0.01〜50モル%が好ましく、0.02〜10モル%がさらに好ましい。本発明においては、触媒は1種を単独で、または2種以上を混合して使用することができる。また、硫酸マグネシウム等の乾燥剤を併用することも有効である。 The amount of the transition metal complex catalyst used is generally preferably from 0.01 to 50 mol%, more preferably from 0.02 to 10 mol% as the amount corresponding to the transition metal atom based on the phenol compound to be polymerized. In this invention, a catalyst can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. It is also effective to use a desiccant such as magnesium sulfate in combination.
前記フェノール化合物の酸化重合に用いる酸化剤は、公知のものが使用できるが、酸素およびパーオキサイドが好ましい。酸素は不活性ガスとの混合物でもよく、空気を使用することもできる。パーオキサイドの具体例としては、過酸化水素、t−ブチルハイドロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、過酢酸、過安息香酸等が挙げられる。 As the oxidizing agent used for the oxidative polymerization of the phenol compound, known ones can be used, but oxygen and peroxide are preferable. Oxygen can be a mixture with an inert gas or air can be used. Specific examples of the peroxide include hydrogen peroxide, t-butyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, cumene hydroperoxide, dicumyl peroxide, peracetic acid, perbenzoic acid and the like.
これら酸化剤の使用量に特に制限はない。酸素の場合は、重合すべき前記フェノール化合物に対して大過剰を使用する。パーオキサイドを用いる場合は、前記フェノール化合物に対して通常、当量〜3当量を使用するが、当量〜2当量が好ましい。 There is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of these oxidizing agents. In the case of oxygen, a large excess is used relative to the phenolic compound to be polymerized. When using a peroxide, although an equivalent-3 equivalent is normally used with respect to the said phenol compound, an equivalent-2 equivalent is preferable.
前記フェノール化合物の重合では、溶媒を使用することができる。溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−2−プロパノール等のアルコール類;ベンゼン、ナフタレン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロナフタレン、ニトロベンゼン、メトキシベンゼン、ジメトキシベンゼン、ベンゾニトリル等の芳香族炭化水素類;ニトロメタン、ニトロエタン等のニトロ化合物類;ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル化合物類;クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の鎖状および環状の脂肪族炭化水素類等が挙げられる。これらの中でも非水溶性の溶媒が好ましく、芳香族炭化水素類がさらに好ましい。これらは1種を単独で、あるいは2種以上を混合して使用される。 A solvent can be used in the polymerization of the phenol compound. Specific examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-2-propanol; benzene, naphthalene, toluene, xylene, ethylbenzene, cumene , Aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene, chloronaphthalene, nitrobenzene, methoxybenzene, dimethoxybenzene, and benzonitrile; nitro compounds such as nitromethane and nitroethane; ether compounds such as diethyl ether, dipropyl ether, and ethylene glycol dimethyl ether And halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane; and chain and cyclic aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane. Among these, a water-insoluble solvent is preferable, and aromatic hydrocarbons are more preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
重合時における前記フェノール化合物の濃度に特に制限はないが、通常、反応系内におけるフェノール化合物の濃度が5〜70質量%、より好ましくは10〜50質量%になる範囲で重合が行われる。また重合温度は、通常0〜200℃であり、10〜100℃が好ましく、20〜80℃がより好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular in the density | concentration of the said phenolic compound at the time of superposition | polymerization, Usually, superposition | polymerization is performed in the range which the density | concentration of the phenolic compound in a reaction system becomes 5-70 mass%, More preferably, it is 10-50 mass%. Moreover, superposition | polymerization temperature is 0-200 degreeC normally, 10-100 degreeC is preferable and 20-80 degreeC is more preferable.
なお、前記フェノール化合物の重合においては、前記フェノール化合物以外のフェノール化合物、例えば、2,6−ジフェニルフェノール等を共重合成分として共重合させることもできる。このようにして得られるポリフェニレンエーテルも、本発明のポリフェニレンエーテルに含まれる。 In the polymerization of the phenol compound, a phenol compound other than the phenol compound, for example, 2,6-diphenylphenol can be copolymerized as a copolymerization component. The polyphenylene ether thus obtained is also included in the polyphenylene ether of the present invention.
また、本発明のポリフェニレンエーテルは、式(1)で示される化学構造を有するパラフェニレンエーテル成分を主要成分とするが、硬化性ポリフェニレンエーテルの製造工程において付随して生成するマイナー成分、例えばオルトフェニレンエーテル成分、および置換基であるフェニル基の水素原子部分で酸化反応が起こるビフェニレンエーテル成分を含むものも、本発明のポリフェニレンエーテルに含まれる。 The polyphenylene ether of the present invention contains a paraphenylene ether component having the chemical structure represented by the formula (1) as a main component, but a minor component produced in the production process of the curable polyphenylene ether, such as orthophenylene. The polyphenylene ether of the present invention includes an ether component and a biphenylene ether component in which an oxidation reaction occurs at the hydrogen atom portion of the phenyl group as a substituent.
さらに、式(4)で示される範囲外の、例えば3−フェニルフェノール、6−メチル−3−フェニルフェノール、6−クロロ−3−フェニルフェノール等の3−フェニルフェノール化合物のような、フェニルフェノール化合物が酸化(共)重合して得られるポリフェニレンエーテルを含むものも、本発明のポリフェニレンエーテルに含まれる。 Further, phenylphenol compounds outside the range represented by formula (4), such as 3-phenylphenol compounds such as 3-phenylphenol, 6-methyl-3-phenylphenol, 6-chloro-3-phenylphenol, etc. Those containing polyphenylene ether obtained by oxidation (co) polymerization are also included in the polyphenylene ether of the present invention.
本発明のポリフェニレンエーテルは、水酸基、エポキシ基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、およびシアナート基からなる群から選ばれる1種以上の官能基を1以上有するが、これら架橋硬化性官能基を有する硬化性ポリフェニレンエーテルは前記フェノール化合物を酸化(共)重合して得られるポリフェニレンエーテルに、自体公知の方法により水酸基、エポキシ基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル、およびシアナート基からなる群の中から選ばれる1種以上の重合硬化性官能基を導入することによって製造できる。 The polyphenylene ether of the present invention has at least one functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group, an epoxy group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and a cyanate group, and has these crosslinkable functional groups. The curable polyphenylene ether is selected from the group consisting of a hydroxyl group, an epoxy group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and a cyanate group by a method known per se to a polyphenylene ether obtained by oxidation (co) polymerization of the phenol compound. Can be produced by introducing one or more polymerization-curable functional groups.
[重合硬化性官能基の導入方法]
ポリフェニレンエーテル1分子中に、エポキシ基(典型的には式(7)で示される)、アリル基、アクリロイル基、およびメタクリロイル基からなる群から選ばれる1種以上の官能基を1以上有するポリフェニレンエーテルは次のようにして製造することができる。すなわち、前記フェノール化合物を酸化重合して得られる、これらの官能基を有さないポリフェニレンエーテルの好ましくはその末端に存在するフェノール性水酸基をエーテル化またはエステル化する公知の方法により、エポキシ基、アリル基、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群の中から選ばれる1種以上の重合硬化性官能基を1以上導入することによって官能基を有するポリフェニレンエーテルを製造することができる。次に、水酸基、シアナート基の導入を含めてこれら重合硬化性官能基の導入方法について説明する。
[Method of introducing polymerization-curable functional group]
Polyphenylene ether having one or more functional groups selected from the group consisting of epoxy groups (typically represented by formula (7)), allyl groups, acryloyl groups, and methacryloyl groups in one molecule of polyphenylene ether Can be produced as follows. That is, an epoxy group, an allyl group, or an allyl group is obtained by a known method of etherifying or esterifying a phenolic hydroxyl group present at the terminal of a polyphenylene ether having no functional group obtained by oxidative polymerization of the phenol compound. A polyphenylene ether having a functional group can be produced by introducing one or more polymerization-curable functional groups selected from the group consisting of a group, an acryloyl group and a methacryloyl group. Next, a method for introducing these polymerization-curable functional groups including introduction of a hydroxyl group and a cyanate group will be described.
(1)水酸基の導入
前記フェノール化合物を酸化(共)重合して得られるポリフェニレンエーテルはフェノール性水酸基を有するため、特にそれ以上反応を施さずに水酸基を有するポリフェニレンエーテルを得ることができる。またこのフェノール性水酸基に、例えばエチレンオキシド等のエポキシ化合物を反応させることによりアルコール性水酸基を導入することができる。
(1) Introduction of hydroxyl group Since the polyphenylene ether obtained by oxidation (co) polymerization of the phenol compound has a phenolic hydroxyl group, a polyphenylene ether having a hydroxyl group can be obtained without any further reaction. In addition, an alcoholic hydroxyl group can be introduced by reacting an epoxy compound such as ethylene oxide with the phenolic hydroxyl group.
(2)エポキシ基の導入
エポキシ基の導入は、例えば、前記フェノール化合物を酸化(共)重合して得られるポリフェニレンエーテルの好ましくはその末端に存在するフェノール性水酸基に対しエポキシ化合物、典型的には一般式(11)
式(11)中、R7、R8およびR9は前記式(7)の場合と同じ意味を表し、R10は前記式(8)の場合と同じ意味を表し、X2は、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基;メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等のスルホニルオキシ基を表す。 In formula (11), R 7 , R 8 and R 9 represent the same meaning as in formula (7), R 10 represents the same meaning as in formula (8), and X 2 represents a chlorine atom. Halogen atoms such as bromine atom and fluorine atom; alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group; aryloxy groups such as phenoxy group; sulfonyloxy groups such as methanesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group and trifluoromethanesulfonyloxy Represents.
式(11)で示されるエポキシ化合物の具体例としては、クロロメチルオキシラン、ブロモメチルオキシラン、メタンスルホニルオキシメチルオキシラン、p−トルエンスルホニルオキシメチルオキシラン等が挙げられ、クロロメチルオキシランが好ましい。 Specific examples of the epoxy compound represented by the formula (11) include chloromethyloxirane, bromomethyloxirane, methanesulfonyloxymethyloxirane, p-toluenesulfonyloxymethyloxirane, and chloromethyloxirane is preferable.
前記フェノール化合物を酸化(共)重合して得られるポリフェニレンエーテルと、式(11)で示されるエポキシ化合物との反応は、無溶媒または溶媒中において、好ましくは塩基の存在下、0〜200℃の温度で行うことができる。ここで使用される塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシドなどが挙げられる。 The reaction between the polyphenylene ether obtained by oxidative (co) polymerization of the phenol compound and the epoxy compound represented by the formula (11) is preferably performed at 0 to 200 ° C. in the absence of a solvent or in a solvent, preferably in the presence of a base. Can be done at temperature. The base used here is lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, lithium methoxide, lithium ethoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide. Etc.
(3)アリル基の導入
アリル基の導入は、例えば、前記フェノール化合物を酸化(共)重合して得られるポリフェニレンエーテルの好ましくはその末端のフェノール性水酸基に対し、塩化アリル、臭化アリル、メタンスルホン酸アリル、p−トルエンスルホン酸アリル等のアリル化合物を反応させることにより行われる。この反応は、無溶媒または溶媒中において、好ましくは塩基の存在下、0〜200℃の温度で行うことができる。ここで使用される塩基としては、前記エポキシ化合物を反応させる場合と同じものが挙げられる。
(3) Introduction of allyl group The introduction of allyl group is, for example, preferably allyl chloride, allyl bromide, methane for the phenolic hydroxyl group at the end of polyphenylene ether obtained by oxidative (co) polymerization of the phenol compound. It is carried out by reacting an allyl compound such as allyl sulfonate and allyl p-toluenesulfonate. This reaction can be carried out at a temperature of 0 to 200 ° C. in the absence of a solvent or in a solvent, preferably in the presence of a base. As a base used here, the same thing as the case where the said epoxy compound is made to react is mentioned.
(4)アクリロイル基およびメタクリロイル基の導入
アクリロイル基およびメタクリロイル基の導入は、例えば、前記フェノール化合物を酸化(共)重合して得られるポリフェニレンエーテルの好ましくはその末端のフェノール性水酸基に対し、塩化アクリロイル、臭化アクリロイル、塩化メタクリロイル、臭化メタクリロイル等のアクリル酸ハロゲン化物またはメタクリル酸ハロゲン化物や、アクリル酸無水物、メタクリル酸無水物等の酸無水物を反応させることにより行われる。この反応は、無溶媒または溶媒中において、0〜200℃の温度で行うことができる。
(4) Introduction of acryloyl group and methacryloyl group The introduction of acryloyl group and methacryloyl group is, for example, preferably acryloyl chloride with respect to the phenolic hydroxyl group at the end of polyphenylene ether obtained by oxidation (co) polymerization of the phenol compound. , Acryloyl bromide, methacryloyl chloride, methacryloyl bromide and other acrylic acid halides or methacrylic acid halides, and acid anhydrides such as acrylic acid anhydrides and methacrylic acid anhydrides. This reaction can be carried out at a temperature of 0 to 200 ° C. without solvent or in a solvent.
(5)シアナート基の導入
シアナート基の導入は、例えば、前記フェノール化合物を酸化(共)重合して得られるポリフェニレンエーテルの好ましくはその末端のフェノール性水酸基に対し、塩化シアン等のハロゲン化シアンを反応させることにより行われる。この反応は、無溶媒または溶媒中において、−30〜50℃の温度で行うことができる。
(5) Introduction of cyanate group For introduction of cyanate group, for example, cyanogen chloride such as cyan chloride is preferably added to the phenolic hydroxyl group at the terminal of polyphenylene ether obtained by oxidative (co) polymerization of the phenol compound. This is done by reacting. This reaction can be performed at a temperature of −30 to 50 ° C. without solvent or in a solvent.
本発明のポリフェニレンエーテルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと略すことがある。)により測定した数平均分子量が通常500〜20,000、好ましくは1,000〜12,000、さらに好ましくは1,000〜8,000、最も好ましくは1,000〜5,000である。数平均分子量が上記範囲未満である場合には、レジスト等の組成物とした場合の塗工性が低下することがある。また数平均分子量が上記範囲を超えると、レジスト等の組成物とした場合の塗工性が低下したり、あるいは溶剤への溶解性が低下することがある。 The polyphenylene ether of the present invention has a number average molecular weight of usually 500 to 20,000, preferably 1,000 to 12,000, more preferably 1,000 to 8,000, most preferably measured by gel permeation chromatography (hereinafter sometimes abbreviated as GPC). Is between 1,000 and 5,000. When the number average molecular weight is less than the above range, the coatability in the case of a composition such as a resist may be lowered. On the other hand, when the number average molecular weight exceeds the above range, the coating property when the composition is a resist or the like may be lowered, or the solubility in a solvent may be lowered.
本発明のポリフェニレンエーテルがエポキシ基を有する場合、そのエポキシ当量は耐熱性と硬化性のバランスが特に良好となる300〜2,000が好ましく、特に500〜1,000が好ましい。 When the polyphenylene ether of the present invention has an epoxy group, the epoxy equivalent is preferably from 300 to 2,000, particularly preferably from 500 to 1,000, where the balance between heat resistance and curability is particularly good.
[硬化性樹脂組成物]
本発明のポリフェニレンエーテル組成物の第1の態様は、本発明の(A)ポリフェニレンエーテルおよび(B)硬化剤を含有する硬化性樹脂組成物である。
本発明のポリフェニレンエーテルが水酸基を有する場合、(B)硬化剤は、(B−1)エポキシ基、エステル基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、カルボン酸ハロゲン化物基、およびイソシアナート基からなる群の中から選ばれる1種以上の官能基を2以上有する化合物である。その具体例としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル等のポリエポキシ化合物、ピロメリット酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸等のポリカルボキシル化合物またはその酸無水物、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のポリイソシアネート化合物が挙げられる。なお、(B)硬化剤は、単独で使用しても2種以上を混合して使用してもよい。
[Curable resin composition]
A first aspect of the polyphenylene ether composition of the present invention is a curable resin composition containing (A) the polyphenylene ether of the present invention and (B) a curing agent.
When the polyphenylene ether of the present invention has a hydroxyl group, the (B) curing agent comprises (B-1) an epoxy group, an ester group, a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, a carboxylic acid halide group, and an isocyanate group. A compound having two or more functional groups selected from the group. Specific examples thereof include polyepoxy compounds such as ethylene glycol diglycidyl ether, polycarboxyl compounds such as pyromellitic acid, trimellitic acid, and benzophenone tetracarboxylic acid, or acid anhydrides thereof, hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate. And polyisocyanate compounds such as In addition, (B) hardening | curing agent may be used individually, or 2 or more types may be mixed and used for it.
本発明のポリフェニレンエーテルがエポキシ基を有する場合、(B)硬化剤は、(B−2)エポキシ樹脂の硬化剤または硬化促進剤として使用される化合物である。これらは、公知の硬化剤類または硬化促進剤類の制限なく使用することが可能であり、好ましくは、(b−1)窒素含有化合物、(b−2)多価カルボン酸または多価カルボン酸無水物、(b−3)多価フェノール化合物、(b−4)有機リン化合物、(b−5)有機金属化合物、および(b−6)スルホニウム塩化合物および/またはヨードニウム塩化合物の中から選ばれる。 When the polyphenylene ether of the present invention has an epoxy group, (B) curing agent is a compound used as a curing agent or curing accelerator for (B-2) epoxy resin. These can be used without limitation of known curing agents or curing accelerators, preferably (b-1) nitrogen-containing compounds, (b-2) polyvalent carboxylic acids or polyvalent carboxylic acids. Selected from anhydride, (b-3) polyhydric phenol compound, (b-4) organophosphorus compound, (b-5) organometallic compound, and (b-6) sulfonium salt compound and / or iodonium salt compound It is.
(b−1)窒素含有化合物
本発明において使用される窒素含有化合物としては、少なくとも1以上の炭素−窒素結合を有する化合物であり、好ましくはアミン類、窒素含有複素環化合物、アンモニウム塩、およびポリアミド類の中から選ばれる。アミン類としては、脂肪族および芳香族の第一、第二、第三級アミンが挙げられる。なお、ここでいう芳香族アミンとは、ベンゼン環等の炭素のみからなる芳香族環にアミノ基が直接結合した構造を有するアミンをいう。
(B-1) Nitrogen-containing compound The nitrogen-containing compound used in the present invention is a compound having at least one carbon-nitrogen bond, preferably amines, nitrogen-containing heterocyclic compounds, ammonium salts, and polyamides. Chosen from the kind. Examples of amines include aliphatic and aromatic primary, secondary and tertiary amines. The aromatic amine here refers to an amine having a structure in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring composed only of carbon such as a benzene ring.
脂肪族アミンのうち一級または二級アミンの具体例としては、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン、トリエチレンテトラミン、ジメチルアミノプロピルアミン、メンセンジアミン、N−アミノエチルエタノールアミン、ポリエチレングリコールビス(2−アミノエチル)エーテル、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、1,3,6−トリスアミノメチルヘキサン、m−キシリレンジアミン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)スピロ−2,4,8,10−テトラオキサウンデカン等が挙げられる。 Specific examples of the primary or secondary amine among the aliphatic amines include ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetriamine, tetraethylenepentamine, triethylenetetramine, dimethylaminopropylamine, mensendiamine, N-aminoethylethanolamine, polyethylene Glycol bis (2-aminoethyl) ether, bis (hexamethylene) triamine, 1,3,6-trisaminomethylhexane, m-xylylenediamine, 3,9-bis (3-aminopropyl) spiro-2,4 , 8,10-tetraoxaundecane and the like.
脂肪族アミンのうち三級アミンの具体例としては、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリエタノールアミン、N,N−ジメチルオクチルアミン、N,N−ジメチルベンジルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノフェノール)、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン等が挙げられる。 Specific examples of tertiary amines among aliphatic amines include triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, triethanolamine, N, N-dimethyloctylamine, N, N-dimethylbenzylamine, 2 , 4,6-tris (dimethylaminophenol), N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine and the like.
芳香族アミンの具体例としては、メタフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、ジアミノジフェニルスルフォン、m−アミノフェノール等が挙げられる。 Specific examples of the aromatic amine include metaphenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, and 2,2-bis [4. -(4-aminophenoxy) phenyl] propane, diaminodiphenyl sulfone, m-aminophenol and the like.
また、アミン類の他の具体例としては、テトラメチルグアニジン、ジシアンジアミド、尿素、尿素誘導体、多塩基ヒドラジド等のポリアミン類;これらの有機酸塩および/またはエポキシアダクト;三フッ化ホウ素のアミン錯体等が挙げられる。 Other specific examples of amines include polyamines such as tetramethylguanidine, dicyandiamide, urea, urea derivatives, polybasic hydrazides; organic acid salts and / or epoxy adducts thereof; amine complexes of boron trifluoride, etc. Is mentioned.
窒素含有複素環化合物の具体例としては、ピリジン、ピコリン、ルチジン等のピリジン類;イミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、N−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウム・トリメリテート、2−メチルイミダゾリウム・イソシアヌレート等のイミダゾール類;N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン等のモルホリン類;1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ−7−エンなどが挙げられる。 Specific examples of nitrogen-containing heterocyclic compounds include pyridines such as pyridine, picoline, and lutidine; imidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, N-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazo Imidazoles such as lithium trimellitate and 2-methylimidazolium isocyanurate; Morpholines such as N-methylmorpholine and N-ethylmorpholine; 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, 1,8-diazabicyclo And [5,4,0] undec-7-ene.
また窒素含有複素環化合物の他の例としてはトリアジン化合物が挙げられ、その具体例としては、メラミン、N−エチレンメラミン、N,N',N'’−トリフェニルメラミン、ヘキサ(N−メチル)メラミン等のメラミン類;、エチルジアミノ−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−S−トリアジン,2,4−ジアミノ−6−キシリル−S−トリアジン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン類;シアヌル酸、イソシアヌル酸、トリメチルシアヌレート、トリスメチルイソシアヌレート、トリエチルシアヌレート、トリスエチルイソシアヌレート、トリ(n−プロピル)シアヌレート、トリス(n−プロピル)イソシアヌレート、ジエチルシアヌレート、N,N’−ジエチルイソシアヌレート、メチルシアヌレート、メチルイソシアヌレート等のシアヌル酸類が挙げられる。 Other examples of nitrogen-containing heterocyclic compounds include triazine compounds. Specific examples thereof include melamine, N-ethylenemelamine, N, N ′, N ″ -triphenylmelamine, and hexa (N-methyl). Melamines such as melamine; guanamines such as ethyldiamino-S-triazine, 2,4-diamino-S-triazine, 2,4-diamino-6-xylyl-S-triazine, acetoguanamine, benzoguanamine; cyanuric acid, Isocyanuric acid, trimethyl cyanurate, trismethyl isocyanurate, triethyl cyanurate, trisethyl isocyanurate, tri (n-propyl) cyanurate, tris (n-propyl) isocyanurate, diethyl cyanurate, N, N'-diethyl isocyanurate , Methyl cyanurate, methyl Cyanuric acids such as cyanurate and the like.
アンモニウム塩の具体例としては、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、オクチルトリメチルアンモニウムクロライド、デシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラデシルトリメチルアンモニウムクロライド、フェニルトリブチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、オクチルトリメチルアンモニウムブロマイド、デシルトリメチルアンモニウムブロマイド、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、フェニルトリブチルアンモニウムブロマイド等の4級アンモニウム塩類が挙げられる。 Specific examples of ammonium salts include tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium chloride, octyltrimethylammonium chloride, decyltrimethylammonium chloride, tetradecyltrimethylammonium chloride, phenyltributylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetraethylammonium chloride And quaternary ammonium salts such as bromide, benzyltrimethylammonium bromide, octyltrimethylammonium bromide, decyltrimethylammonium bromide, tetradecyltrimethylammonium bromide, and phenyltributylammonium bromide.
ポリアミド類の具体例としては、ダイマー酸にジエチレントリアミンやトリエチレンテトラアミン等のポリアミンを縮合反応させて得られる第一および第二アミノ基を有するポリアミノアミドが挙げられる。 Specific examples of polyamides include polyaminoamides having primary and secondary amino groups obtained by subjecting dimer acid to a polyamine such as diethylenetriamine or triethylenetetraamine by condensation reaction.
(b−2)多価カルボン酸または多価カルボン酸無水物
多価カルボン酸または多価カルボン酸無水物は、1分子中に2以上のカルボキシル基を有する化合物またはその無水物であり、その具体例としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、グリセロールトリス(アンヒドロトリメリテート)等の芳香族多価カルボン酸およびこれらの無水物、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ポリアジピン酸無水物、クロレンド酸無水物、テトラブロム無水フタル酸等が挙げられる。
(B-2) Polyvalent carboxylic acid or polyvalent carboxylic acid anhydride The polyvalent carboxylic acid or polyvalent carboxylic acid anhydride is a compound having two or more carboxyl groups in one molecule, or an anhydride thereof. Examples include aromatic polycarboxylic acids such as phthalic anhydride, trimellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), glycerol tris (anhydrotrimellitate) and the like Examples include anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, polyadipic anhydride, chlorendic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, and the like.
(b−3)多価フェノール化合物
本発明で使用される多価フェノール化合物は、1分子中に2以上のフェノール性水酸基を有する化合物であり、その具体例としては、ポリビニルフェノール、臭素化ポリビニルフェノール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,4’−ビフェノール、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエンとフェノールの縮合反応物であるジシクロペンタジエン型フェノール樹脂等が挙げられる。
(B-3) Polyhydric phenol compound The polyhydric phenol compound used in the present invention is a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule. Specific examples thereof include polyvinylphenol and brominated polyvinylphenol. Bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4′-biphenol, phenol novolac resin, cresol novolac resin, dicyclopentadiene type phenol resin which is a condensation reaction product of dicyclopentadiene and phenol, and the like.
(b−4)有機リン化合物
本発明で使用される有機リン化合物は、少なくとも1以上の炭素−リン結合を有する化合物であり、ホスフィン、ホスホニウム塩などが挙げられる。その具体例としては、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス−2−シアノエチルホスフィン等の有機ホスフィン類;トリ−n−ブチル(2,5−ジヒドロキシフェニル)ホスホニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムクロライド等のホスホニウム塩類が挙げられる。
(B-4) Organophosphorus Compound The organophosphorus compound used in the present invention is a compound having at least one carbon-phosphorus bond, and examples thereof include phosphine and phosphonium salts. Specific examples thereof include organic phosphines such as tributylphosphine, triphenylphosphine and tris-2-cyanoethylphosphine; phosphonium salts such as tri-n-butyl (2,5-dihydroxyphenyl) phosphonium bromide and hexadecyltributylphosphonium chloride. Is mentioned.
(b−5)有機金属化合物
本発明で使用される有機金属化合物は、エポキシ樹脂を硬化させる機能を有する金属化合物であり、有機酸金属塩、1,3−ジケトン金属錯塩、金属アルコキシド等が挙げられる。その具体例としては、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレエート、2−エチルヘキサン酸亜鉛等の有機酸金属塩、ニッケルアセチルアセトナート、亜鉛アセチルアセトナート等の1,3−ジケトン金属錯塩、チタンテトラブトキシド、ジルコニウムテトラブトキシド、アルミニウムブトキシド等の金属アルコキシドが挙げられる。
(B-5) Organometallic compound The organometallic compound used in the present invention is a metal compound having a function of curing an epoxy resin, and examples thereof include organic acid metal salts, 1,3-diketone metal complex salts, metal alkoxides, and the like. It is done. Specific examples thereof include dibutyltin dilaurate, dibutyltin maleate, organic acid metal salts such as zinc 2-ethylhexanoate, 1,3-diketone metal complex salts such as nickel acetylacetonate and zinc acetylacetonate, titanium tetrabutoxide, Examples thereof include metal alkoxides such as zirconium tetrabutoxide and aluminum butoxide.
(b−6)スルホニウム塩化合物および/またはヨードニウム塩化合物
本発明で使用されるスルホニウム塩化合物は、1分子中に1以上のスルホニウムカチオンを有する化合物であり、ヨードニウム塩化合物は、1分子中に1以上のヨードニウムカチオンを有する化合物である。これらの具体例としては、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボロエート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、2,4,6−トリフェニルチオピリリウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
(B-6) Sulfonium salt compound and / or iodonium salt compound The sulfonium salt compound used in the present invention is a compound having one or more sulfonium cations in one molecule, and the iodonium salt compound is 1 in one molecule. It is a compound having the above iodonium cation. Specific examples thereof include diphenyliodonium tetrafluoroboroate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, 2,4,6-triphenylthiopyrylium hexafluorophosphate, and the like.
本発明のポリフェニレンエーテルがアリル基、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する場合、(B)硬化剤は、(B−3)ラジカル重合開始剤である。これらは熱または光照射によりラジカルを発生する化合物であり、公知のラジカル開始剤を特に制限なく使用することが可能であり、その具体例としては、ベンゾイルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルペルオキシ)−3−ヘキシン等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物などが挙げられる。 When the polyphenylene ether of the present invention has an allyl group, an acryloyl group or a methacryloyl group, (B) the curing agent is (B-3) a radical polymerization initiator. These are compounds that generate radicals upon irradiation with heat or light, and known radical initiators can be used without particular limitation. Specific examples thereof include benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, 2, 5 -Organic peroxides such as dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) -3-hexyne, azobisisobutyronitrile An azo compound such as
本発明のポリフェニレンエーテルがシアナート基を有する場合、(B)硬化剤は、(B−4)シアネート基の三量化によるトリアジン環形成反応を促進する化合物である。その具体例としては、鉱酸、ルイス酸などの酸;ナトリウムアルコラート、第三級アミン類などの塩基;炭酸ナトリウムなどの塩類、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、錫等の2−エチルヘキサン酸塩やナフテン酸塩等の有機金属塩化合物またはアセチルアセトン錯体などの有機金属錯体などが挙げられる。 When the polyphenylene ether of the present invention has a cyanate group, the (B) curing agent is a compound that accelerates the triazine ring formation reaction by trimerization of the (B-4) cyanate group. Specific examples thereof include acids such as mineral acids and Lewis acids; bases such as sodium alcoholates and tertiary amines; salts such as sodium carbonate, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, tin and the like 2- Examples thereof include organometallic salt compounds such as ethyl hexanoate and naphthenate, and organometallic complexes such as acetylacetone complex.
これら(B)硬化剤の使用量は、その目的を達成できる範囲において任意であるが、通常、本発明のポリフェニレンエーテル100質量部に対して、0.001〜200質量部であり、0.01〜25質量部が好ましく、0.1〜15質量部が特に好ましい。 The amount of these (B) curing agents used is arbitrary as long as the object can be achieved, but is usually 0.001 to 200 parts by mass and 0.01 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyphenylene ether of the present invention. Is preferable, and 0.1 to 15 parts by mass is particularly preferable.
本発明の硬化性樹脂組成物の第2の態様は、本発明の(A)ポリフェニレンエーテル、(B)硬化剤、および(C)硬化性樹脂を含有する硬化性樹脂組成物である。 The 2nd aspect of the curable resin composition of this invention is a curable resin composition containing (A) polyphenylene ether of this invention, (B) hardening | curing agent, and (C) curable resin.
本発明で使用される(C)硬化性樹脂は、熱硬化または光硬化が可能な任意の樹脂であり、好ましくはエポキシ樹脂である。ここで使用されるエポキシ樹脂としては、一分子中に2個以上のエポキシ基を含有するものであればよく、1種もしくは2種以上組み合わせて用いられる。代表的な例としては、フェノール類またはアルコール類とクロロメチルオキシランとの反応によって得られるビスフェノールAグリシジルエーテルエポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールAグリシジルエーテルエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、カルボン酸類とクロロメチルオキシランとの反応によって得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、アミン類またはシアヌル酸とクロロメチルオキシランとの反応によって得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、二重結合の酸化によって得られる内部エポキシ樹脂等が挙げられる〔これらの詳細については、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」(日刊工業新聞社1987発行)を参照〕。 The (C) curable resin used in the present invention is any resin that can be thermally cured or photocured, and is preferably an epoxy resin. As an epoxy resin used here, what is necessary is just to contain two or more epoxy groups in one molecule, and it is used by combining 1 type or 2 types or more. Typical examples include bisphenol A glycidyl ether epoxy resins obtained by reaction of phenols or alcohols with chloromethyloxirane, brominated bisphenol A glycidyl ether epoxy resins, glycidyl ether type epoxy resins such as cresol novolac epoxy resins, Glycidyl ester type epoxy resin obtained by reaction of carboxylic acids with chloromethyloxirane, Glycidylamine type epoxy resin obtained by reaction of amines or cyanuric acid with chloromethyloxirane, Internal epoxy resin obtained by oxidation of double bond [For details, see, for example, “Epoxy Resin Handbook” edited by Masaki Shinbo (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1987)].
(C)硬化性樹脂の使用量は、通常(A)ポリフェニレンエーテル100質量部に対して1〜500質量部であり、2〜200質量部が好ましく、5〜100質量部が特に好ましい。 (C) The usage-amount of curable resin is 1-500 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) polyphenylene ether, 2-200 mass parts is preferable, and 5-100 mass parts is especially preferable.
本発明の硬化性樹脂組成物の第3の態様は、(A)ポリフェニレンエーテル、(B)硬化剤、および(D)可撓性付与剤を含有する硬化性樹脂組成物であり、さらに(C)硬化性樹脂を含んでいてもよい。本発明の硬化性樹脂組成物では、(D)可撓性付与剤の存在により硬化性樹脂組成物に可撓性、柔軟性、または耐衝撃性が改善され、その結果、フレキシブルプリント配線板のソルダーレジストとしての使用が容易となる。 A third aspect of the curable resin composition of the present invention is a curable resin composition containing (A) polyphenylene ether, (B) a curing agent, and (D) a flexibility-imparting agent. ) It may contain a curable resin. In the curable resin composition of the present invention, (D) the flexibility, flexibility, or impact resistance of the curable resin composition is improved by the presence of the flexibility imparting agent. Use as a solder resist becomes easy.
本発明で使用される(D)成分の可撓性付与剤は、樹脂に可撓性を付与する化合物であり、例えばエポキシ樹脂に対しては(d−1)共役ジエン重合体または共重合体、(d−2)ポリウレタン化合物、(d−3)ポリアルキレングリコール化合物、(d−4)ポリカーボネート化合物、(d−5)ポリエステル化合物、(d−6)ポリアクリレートまたはポリメタクリレート化合物の中から選ばれる。これらは、非反応性の化合物および反応性の化合物のいずれも使用することができるが、反応性の化合物を使用することが好ましい。さらに樹脂状のものまたはエラストマー状のもののいずれも使用できるが、エラストマー状の化合物を使用することが好ましい。 The (D) component flexibility imparting agent used in the present invention is a compound that imparts flexibility to the resin. For example, (d-1) a conjugated diene polymer or copolymer for an epoxy resin. , (D-2) polyurethane compound, (d-3) polyalkylene glycol compound, (d-4) polycarbonate compound, (d-5) polyester compound, (d-6) polyacrylate or polymethacrylate compound It is. Any of non-reactive compounds and reactive compounds can be used as these, but reactive compounds are preferably used. Furthermore, although either resinous or elastomeric can be used, it is preferable to use an elastomeric compound.
(d−1)共役ジエン重合体または共重合体
本発明において(D)成分の可撓性付与剤として使用される共役ジエン重合体または共重合体(d−1)は、ブタジエン、イソプレンおよびクロロプレン等の共役ジエン化合物を単独であるいは他の重合性化合物と共重合させたもの、およびこれらにさらに化学反応を施した化合物である。これらは複数を組み合わせて使用することもできる。
(D-1) Conjugated diene polymer or copolymer In the present invention, the conjugated diene polymer or copolymer (d-1) used as the flexibility imparting agent of component (D) is butadiene, isoprene and chloroprene. These are compounds obtained by copolymerizing conjugated diene compounds such as singly or with other polymerizable compounds, and compounds obtained by subjecting them to further chemical reaction. These can be used in combination.
共役ジエン重合体または共重合体(d−1)の具体例としては、1,2−ポリブタジエン、1,4−ポリブタジエン、水酸基末端1,2−ポリブタジエン、水酸基末端1,4−ポリブタジエン、カルボキシル基末端1,2−ポリブタジエン、カルボキシル基末端1,4−ポリブタジエン、水酸基末端1,2−ポリブタジエンとビスフェノールAジグリシジルエーテルとの反応物、水酸基末端1,4−ポリブタジエンのグリシジル化物、1,2−ポリブタジエンまたは1,4−ポリブタジエンのエポキシ化物、およびこれらの水素添加物などの液状または固体状のポリブタジエン類;水酸基末端1,4−ポリイソプレン、無水マレイン酸変性1,4−ポリイソプレン、およびこれらの水素添加物などの液状または固体状のポリイソプレン;カルボキシル基末端ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、アミノ基末端ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、およびこれらの水素添加物などの液状または固体状のブタジエン−アクリロニトリル共重合体類;液状または固体状のブタジエン−スチレン共重合体、液状または固体状のイソプレン−スチレン共重合体およびこれらの水素添加物またはエポキシ化物;およびポリクロロプレン類などが挙げられる。 Specific examples of the conjugated diene polymer or copolymer (d-1) include 1,2-polybutadiene, 1,4-polybutadiene, hydroxyl-terminated 1,2-polybutadiene, hydroxyl-terminated 1,4-polybutadiene, and carboxyl group-terminated. 1,2-polybutadiene, carboxyl-terminated 1,4-polybutadiene, reaction product of hydroxyl-terminated 1,2-polybutadiene and bisphenol A diglycidyl ether, glycidylated product of hydroxyl-terminated 1,4-polybutadiene, 1,2-polybutadiene or Liquid or solid polybutadienes such as epoxidized 1,4-polybutadiene and hydrogenated products thereof; hydroxyl-terminated 1,4-polyisoprene, maleic anhydride-modified 1,4-polyisoprene, and hydrogenated products thereof Liquid or solid polyisoprene such as products; Liquid or solid butadiene-acrylonitrile copolymers such as xylyl-terminated butadiene-acrylonitrile copolymers, amino-terminated butadiene-acrylonitrile copolymers, and hydrogenated products thereof; liquid or solid butadiene-styrene copolymers Examples thereof include polymers, liquid or solid isoprene-styrene copolymers and hydrogenated products or epoxidized products thereof; and polychloroprenes.
(d−2)ポリウレタン化合物
本発明において(D)成分の可撓性付与剤として使用されるポリウレタン化合物(d−2)は、1分子中に2以上のウレタン結合を有する化合物であり、ポリイソシアナートとポリオールとを自体公知の方法により反応させて得ることができる。これらは液状であってもよく、また固体状であってもよい。
(D-2) Polyurethane Compound In the present invention, the polyurethane compound (d-2) used as the flexibility imparting agent of the component (D) is a compound having two or more urethane bonds in one molecule, and is a polyisocyanate. It can be obtained by reacting a narate and a polyol by a method known per se. These may be liquid or solid.
ポリイソシアナートとしては、2,4−トルエンジイソシアナート、2,6−トルエンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、ジフェニルメチレンジイソシアナート、(o,m,またはp)−キシリレンジイソシアナート、メチレンビス(シクロヘキシルイソシアナート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート、シクロヘキサン−1,3−ジメチレンジイソシアナート、シクロヘキサン−1,4−ジメチレンジイソシアナートおよび1,5−ナフタレンジイソシアナート等のジイソシナートが挙げられる。これらのポリイソシアナートは1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Polyisocyanates include 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethylene diisocyanate, (o, m, or p)- Xylylene diisocyanate, methylene bis (cyclohexyl isocyanate), trimethylhexamethylene diisocyanate, cyclohexane-1,3-dimethylene diisocyanate, cyclohexane-1,4-dimethylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, etc. Of diisocinate. These polyisocyanates can be used alone or in combination of two or more.
ポリオールの具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノールや、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコールなどが挙げられる。 Specific examples of the polyol include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol. 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and polyalkylene glycols such as polyethylene oxide, polypropylene oxide, and polytetramethylene glycol.
(d−3)ポリアルキレングリコール化合物
本発明において(D)成分の可撓性付与剤として使用されるポリアルキレングリコール化合物(d−3)は、アルキレングリコールが2分子以上脱水縮合した構造を有するものであり、アルキレンオキサイドの開環重合などにより得られるものである。ポリアルキレングリコール(d−3)の具体例としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール等が挙げられる。
(D-3) Polyalkylene glycol compound In the present invention, the polyalkylene glycol compound (d-3) used as the flexibility imparting agent of the component (D) has a structure in which two or more molecules of alkylene glycol are dehydrated and condensed. It is obtained by ring-opening polymerization of alkylene oxide. Specific examples of the polyalkylene glycol (d-3) include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polyhexamethylene glycol and the like.
(d−4)ポリカーボネート化合物
本発明において(D)成分の可撓性付与剤として使用されるポリカーボネート化合物(d−4)は、1分子中に2以上のカーボネート結合を有する化合物であり、その具体例としては、ポリトリメチレンカーボネート、ポリテトラメチレンカーボネート、ポリペンタメチレンカーボネート、ポリプロピレンカーボネート、ポリ−2,2−ジメチル−1,3−プロピレンカーボネート、ポリー1,4−シクロヘキシレンカーボネート、ポリヘキサメチレンカーボネート、ポリ(シクロヘキサン−1,4−ジメチレン)カーボネート等が挙げられる。
(D-4) Polycarbonate Compound In the present invention, the polycarbonate compound (d-4) used as the flexibility imparting agent of the component (D) is a compound having two or more carbonate bonds in one molecule. Examples include polytrimethylene carbonate, polytetramethylene carbonate, polypentamethylene carbonate, polypropylene carbonate, poly-2,2-dimethyl-1,3-propylene carbonate, poly-1,4-cyclohexylene carbonate, polyhexamethylene carbonate , Poly (cyclohexane-1,4-dimethylene) carbonate and the like.
(d−5)ポリエステル化合物
本発明において(D)成分の可撓性付与剤として使用されるポリエステル化合物(d−5)は、1分子中に2以上のエステル結合を有する化合物であり、例えばポリカルボン酸またはその誘導体とポリオールとの反応により得ることができる。ポリエステル化合物(d−5)の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイプシロンカプロラクトン、ポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。
(D-5) Polyester compound In the present invention, the polyester compound (d-5) used as the flexibility imparting agent of the component (D) is a compound having two or more ester bonds in one molecule. It can be obtained by reacting a carboxylic acid or its derivative with a polyol. Specific examples of the polyester compound (d-5) include polyethylene terephthalate, polybutylene phthalate, polyethylene naphthalate, polyepsilon caprolactone, polycaprolactone diol and the like.
(d−6)ポリアクリレートまたはポリメタクリレート化合物
本発明において(D)成分の可撓性付与剤として使用されるポリアクリレートまたはポリメタクリレート化合物(d−6)は、アクリル酸および/またはメタクリル酸エステルの単独重合体または共重合体であり、これら以外の成分が共重合されたものであってもよい。
(D-6) Polyacrylate or polymethacrylate compound In the present invention, the polyacrylate or polymethacrylate compound (d-6) used as the flexibility imparting agent of the component (D) is an acrylic acid and / or methacrylic acid ester. It may be a homopolymer or a copolymer, and other components may be copolymerized.
アクリル酸および/またはメタクリル酸エステルの具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェニルカルビトール(メタ)アクリレート、ノニルフェニル(メタ)アクリレート、ノニルフェニルカルビトール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリレート、;2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−tert−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のアミノ基を有する(メタ)アクリレート;メタクリロキシエチルフォスフェート、ビス・メタクリロキシエチルフォスフェート、メタクリロオキシエチルフェニールアシッドホスフェート(フェニール−P)等のリン原子を有するメタクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート;アリル(メタ)アクリレート;フェノキシエチルアクリレート等が挙げられる。 Specific examples of acrylic acid and / or methacrylic acid ester include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) Acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl ( Alkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate; cyclohexyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate , Cycloaliphatic (meth) acrylates such as dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate; benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, phenylcarbitol (meth) acrylate, nonylphenyl (meth) acrylate, nonylphenylcarbi Aromatic (meth) acrylates such as tall (meth) acrylate and nonylphenoxy (meth) acrylate; 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-diethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-tert-butylaminoethyl (meth) ) (Meth) acrylate having an amino group such as acrylate; methacryloxyethyl phosphate, bis-methacryloxyethyl phosphate, methacryloxyethyl phenyl acid phosphate (phenyl-P) ) And the like; glycidyl (meth) acrylate; allyl (meth) acrylate; phenoxyethyl acrylate and the like.
アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステル以外の成分の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸などのカルボキシル基または酸無水物基を有する不飽和化合物やスチレン、ビニルトルエン等のビニル芳香族化合物が挙げられる。 Specific examples of components other than acrylic acid esters and methacrylic acid esters include unsaturated compounds having a carboxyl group or acid anhydride group such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, styrene, vinyl And vinyl aromatic compounds such as toluene.
[硬化性樹脂組成物の製造方法]
本発明のポリフェニレンエーテル組成物は、上記の各成分を通常の方法で混合することによって製造することができる。混合の方法には特に制限はなく、一部の成分を混合してから残りの成分を混合してもよく、または、すべての成分を一括で混合してもよい。また、組成物には、粘度調節などのために必要に応じて有機溶媒を添加して使用してもよい。粘度を調節することによって、ローラーコート、スピンコート、スクリーンコート、カーテンコートなどによる塗布性能が向上し、またスクリーン印刷等による印刷が容易になる。このような観点から有機溶媒の使用量は、組成物の粘度が100〜500,000mPa・s〔B型粘度計(Brookfield Viscometer)にて25℃で測定〕が好ましく、さらに500〜500,000mPa・sが好ましい。
[Method for producing curable resin composition]
The polyphenylene ether composition of the present invention can be produced by mixing the above-mentioned components by a usual method. The mixing method is not particularly limited, and a part of the components may be mixed and then the remaining components may be mixed, or all the components may be mixed at once. In addition, an organic solvent may be added to the composition as necessary for viscosity adjustment or the like. By adjusting the viscosity, the coating performance by roller coating, spin coating, screen coating, curtain coating, etc. is improved, and printing by screen printing or the like is facilitated. From such a viewpoint, the amount of the organic solvent used is preferably such that the viscosity of the composition is 100 to 500,000 mPa · s (measured at 25 ° C. with a Brookfield Viscometer), and more preferably 500 to 500,000 mPa · s. preferable.
ここで有機溶媒の具体例としては、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;アセト酢酸エチル、γ−ブチロラクトン、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒;カルビトールアセテート、メチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系、カルビトール系およびそれらのエステル、エーテル誘導体の溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド;フェノール、クレゾール等のフェノール系溶媒;ニトロ化合物系溶媒;トルエン、キシレン、ヘキサメチルベンゼン、クメン芳香族系溶媒;テトラリン、デカリン、ジペンテン等の炭化水素からなる芳香族系または脂環族系等の溶媒等が挙げられる。これらは、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Specific examples of the organic solvent include ketone solvents such as ethyl methyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; ester solvents such as ethyl acetoacetate, γ-butyrolactone, and butyl acetate; alcohol solvents such as butanol and benzyl alcohol. Solvent for cellosolve such as carbitol acetate and methyl cellosolve acetate, carbitol and their esters and ether derivatives; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methyl Amide solvents such as -2-pyrrolidone; Dimethyl sulfoxide; Phenol solvents such as phenol and cresol; Nitro compound solvents; Toluene, xylene, hexamethylbenzene, cumene aromatic solvents; Tetralin, Decalin, Dipe Solvents such as aromatic or alicyclic such as consisting of hydrocarbons, such as ten, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
また、本発明のポリフェニレンエーテル組成物には必要に応じて、熱重合禁止剤、増粘剤、消泡剤、レベリング剤、密着性付与剤等の添加剤を添加することができる。
熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、tert−ブチルカテコール、ピロガロール、フェノチアジン等が挙げられる。
増粘剤としては、アスベスト、オルベン、ベントン、モンモリロナイト等が挙げられる。
消泡剤は、印刷、塗工時または硬化時に生じる泡を消すために用いられ、その具体例としては、アクリル系、シリコーン系等の界面活性剤が挙げられる。
レベリング剤は、印刷、塗工時に生じる皮膜表面の凹凸を失くすために用いられ、その具体例としては、アクリル系、シリコーン系等の界面活性剤が挙げられる。
密着性付与剤としては、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤等が挙げられる。
Moreover, additives, such as a thermal-polymerization inhibitor, a thickener, an antifoamer, a leveling agent, an adhesiveness imparting agent, can be added to the polyphenylene ether composition of this invention as needed.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butylcatechol, pyrogallol, phenothiazine and the like.
Examples of the thickener include asbestos, olben, benton, montmorillonite and the like.
The antifoaming agent is used for eliminating bubbles generated at the time of printing, coating or curing, and specific examples thereof include acrylic and silicone surfactants.
The leveling agent is used to lose unevenness on the surface of the film that occurs during printing and coating, and specific examples thereof include acrylic and silicone surfactants.
Examples of the adhesion imparting agent include imidazole, thiazole, triazole, and silane coupling agents.
また、その他の添加剤として、例えば保存安定性のために紫外線防止剤、可塑剤、流動調整剤などを、本発明の作用・効果を奏する範囲で添加することができる。
流動調整剤としては、例えば、無機または有機充填剤、ワックス、界面活性剤等が挙げられる。
無機充填剤の具体例としては、タルク、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、シリカ、アルミナ、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、珪酸塩化合物等が挙げられる。
有機充填剤の具体例としては、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、弗素樹脂等が挙げられる。
ワックスの具体例としては、ポリアミドワックス、酸化ポリエチレンワックス等が挙げられる。
界面活性剤の具体例としては、シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル、アミド等が挙げられる。
これらの流動性調整剤は、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
In addition, as other additives, for example, an ultraviolet ray preventive agent, a plasticizer, a flow control agent, and the like can be added for the purpose of storage stability within the range where the effects and effects of the present invention are exhibited.
Examples of the flow regulator include inorganic or organic fillers, waxes, surfactants, and the like.
Specific examples of the inorganic filler include talc, barium sulfate, barium titanate, silica, alumina, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum hydroxide, and a silicate compound.
Specific examples of the organic filler include silicone resin, silicone rubber, and fluorine resin.
Specific examples of the wax include polyamide wax and oxidized polyethylene wax.
Specific examples of the surfactant include silicone oil, higher fatty acid ester, amide and the like.
These fluidity modifiers can be used alone or in combination of two or more.
本発明のポリフェニレンエーテル組成物は、基板上などに適当な厚みで塗布して熱硬化させることにより、硬化物とすることができる。塗膜の厚みは任意であるが、通常0.1μm〜200μmである。また硬化温度は、硬化剤の種類等を勘案して任意の温度で可能であるが、通常は室温〜300℃である。 The polyphenylene ether composition of the present invention can be made into a cured product by coating it on a substrate or the like with a suitable thickness and thermosetting. Although the thickness of a coating film is arbitrary, it is 0.1 micrometer-200 micrometers normally. The curing temperature can be any temperature in consideration of the type of curing agent, but is usually room temperature to 300 ° C.
本発明のポリフェニレンエーテルおよびそのポリフェニレンエーテル組成物は、塗料、注型材料など様々な用途に使用できるが、特にプリント配線基板の絶縁保護被膜、多層プリント配線基板の層間の絶縁樹脂層あるいは封止剤としての使用に適している。 The polyphenylene ether and the polyphenylene ether composition of the present invention can be used for various applications such as paints and casting materials. In particular, the insulating protective film of the printed wiring board, the insulating resin layer or the sealing agent between the layers of the multilayer printed wiring board Suitable for use as
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例および比較例において、硬化物のガラス転移温度および熱分解温度は下記の方法により測定した。
1)ガラス転移温度の測定
理学電機(株)製の示差走査型熱量計(DSC、商品名 Thermo Plus TG8230)により、空気中、昇温速度20℃/分で測定した。
2)熱分解温度の測定
理学電機(株)製の熱重量測定計(TGA、商品名 Thermo Plus TG8120)により、空気中、昇温速度20℃/分で測定した。
3)ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)の測定
[検量線の作成]
まず、平均分子量のわかっている市販標準ポリスチレンを少なくとも10種類以上用いて、それぞれの保持時間を求めた。平均分子量と保持時間の関係を3次曲線で近似して検量線を作成した。
[測定]
試料10mgをテトラヒドロフラン2mLに溶解し、ループインジェクターを用いて0.5mLをラインフィルターを通してカラムに注入する。得られた溶出曲線データを、上記で作成した検量線に基づいて、島津CR−3Aのようなデータ処理機内で自動的に計算しMn、Mwを求める。ここでは、ピークを10秒間隔で分割し、それぞれの分割点の分子量をMi、ピークの高さをHiとして、次式により計算した。
GPC装置:昭和電工(株)製、SHODEX SYSTEM11、
カラム :昭和電工(株)製、SHODEX KF−802およびKF−802.5を
この順に接続したもの、
溶媒 :テトラヒドロフラン、
流量 :1.0mL/min、
測定温度 :40℃。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these. In Examples and Comparative Examples, the glass transition temperature and thermal decomposition temperature of the cured products were measured by the following methods.
1) Measurement of glass transition temperature The glass transition temperature was measured with a differential scanning calorimeter (DSC, trade name: Thermo Plus TG8230) manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. in the air at a heating rate of 20 ° C./min.
2) Measurement of thermal decomposition temperature It was measured in the air at a heating rate of 20 ° C./min with a thermogravimetric meter (TGA, trade name: Thermo Plus TG8120) manufactured by Rigaku Corporation.
3) Measurement of gel permeation chromatography (GPC) [preparation of calibration curve]
First, at least 10 types of commercially available standard polystyrenes with known average molecular weights were used to determine the respective retention times. A calibration curve was prepared by approximating the relationship between average molecular weight and retention time with a cubic curve.
[Measurement]
Dissolve 10 mg of sample in 2 mL of tetrahydrofuran, and inject 0.5 mL into the column through a line filter using a loop injector. The obtained elution curve data is automatically calculated in a data processor such as Shimadzu CR-3A based on the calibration curve created above to obtain Mn and Mw. Here, the peak was divided at intervals of 10 seconds, the molecular weight of each dividing point was Mi, and the peak height was Hi, and the calculation was performed according to the following formula.
GPC device: Showa Denko Co., Ltd., SHODEX SYSTEM11,
Column: Showa Denko Co., Ltd., SHODEX KF-802 and KF-802.5
Connected in this order,
Solvent: tetrahydrofuran,
Flow rate: 1.0 mL / min,
Measurement temperature: 40 ° C.
実施例1
1)2−シクロヘキシルフェノールの重合
ジムロートおよび空気導入管を取り付けた1リットルのセパラブルフラスコに2−シクロヘキシルフェノール190g、トルエン250mLおよびテトラメチルエチレンジアミン1.16gを加え、撹拌しながら溶解させた。次いで撹拌しながら臭化第一銅(CuBr)0.99gを添加した。その後、空気導入管より反応混合物に空気を吹き込みながら60℃に加熱した。次いで無水硫酸マグネシウム30gを投入し16時間重合を行った。重合終了後、反応混合物に5質量%のエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩水溶液を200mL添加して撹拌した。この混合物を分液ロートに移して水層を除去し、油層を5質量%のエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩水溶液200mLで洗浄した。この洗浄を水層が着色しなくなるまで繰り返し、油層を飽和食塩水で洗浄した後、油層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。その後、油層から無水硫酸マグネシウムをろ過し、ろ液を撹拌した2リットルのメタノール中に滴下した。生成した析出物を吸引ろ過、メタノールで洗浄、風乾し、60℃で6時間減圧乾燥した。得られたポリフェニレンエーテルのIRスペクトルにより、フェノール性水酸基の吸収ピークの減少を確認した。得られたポリフェニレンエーテルのゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定した数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれ1,250および4,100であった。
Example 1
1) Polymerization of 2-cyclohexylphenol 190 g of 2-cyclohexylphenol, 250 mL of toluene and 1.16 g of tetramethylethylenediamine were added to a 1-liter separable flask equipped with a Dimroth and an air introduction tube, and dissolved while stirring. Next, 0.99 g of cuprous bromide (CuBr) was added with stirring. Then, it heated at 60 degreeC, blowing air in the reaction mixture from the air introduction pipe | tube. Next, 30 g of anhydrous magnesium sulfate was added and polymerization was carried out for 16 hours. After completion of the polymerization, 200 mL of a 5 mass% aqueous solution of ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt was added to the reaction mixture and stirred. This mixture was transferred to a separatory funnel, the aqueous layer was removed, and the oil layer was washed with 200 mL of a 5 mass% aqueous solution of ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt. This washing was repeated until the aqueous layer was not colored, and the oil layer was washed with saturated brine, and then the oil layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. Thereafter, anhydrous magnesium sulfate was filtered from the oil layer, and the filtrate was added dropwise to 2 liters of stirred methanol. The produced precipitate was filtered with suction, washed with methanol, air-dried, and dried under reduced pressure at 60 ° C. for 6 hours. The IR spectrum of the obtained polyphenylene ether confirmed the decrease in the absorption peak of the phenolic hydroxyl group. The number average molecular weight and weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography of the obtained polyphenylene ether were 1,250 and 4,100, respectively.
2)ポリフェニレンエーテルへのエポキシ基導入
上記で得られたポリフェニレンエーテル40gをクロロメチルオキシラン360gに溶解させた溶液をマグネティックスターラーで撹拌しながら100℃に加熱した。次いでこの温度でナトリウムメトキシド3.1gをエタノール30gに溶解させた溶液を1時間かけて滴下し、そのまま6時間撹拌を行った。次いで反応物を室温まで冷却した後、析出した固体をろ過し、過剰のクロロメチルオキシランを減圧下で溜去した。得られた混合物を撹拌した1リットルのメタノール中に滴下入し、析出した固体を吸引ろ過、メタノール洗浄した後、60℃で6時間減圧乾燥した。得られたエポキシ基を有する硬化性ポリフェニレンエーテルのGPCにより測定した数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれ1,320および4,300であった。またIRスペクトルによりエポキシ基に由来するピークの出現を確認し、塩酸−ピリジン法により測定したエポキシ当量は736であった。
2) Introduction of epoxy group into polyphenylene ether A solution prepared by dissolving 40 g of the polyphenylene ether obtained above in 360 g of chloromethyloxirane was heated to 100 ° C. while stirring with a magnetic stirrer. Next, at this temperature, a solution prepared by dissolving 3.1 g of sodium methoxide in 30 g of ethanol was added dropwise over 1 hour, and the mixture was stirred for 6 hours. Subsequently, after cooling a reaction material to room temperature, the depositing solid was filtered and the excess chloromethyl oxirane was distilled off under reduced pressure. The obtained mixture was dropped into 1 liter of stirred methanol, and the precipitated solid was suction filtered and washed with methanol, and then dried under reduced pressure at 60 ° C. for 6 hours. The number average molecular weight and weight average molecular weight measured by GPC of the resulting curable polyphenylene ether having an epoxy group were 1,320 and 4,300, respectively. The appearance of a peak derived from an epoxy group was confirmed by IR spectrum, and the epoxy equivalent measured by the hydrochloric acid-pyridine method was 736.
3)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテルの硬化物調製
硬化性ポリフェニレンエーテル(A)として上記で得られたエポキシ基を有する硬化性ポリフェニレンエーテル1.0gをトルエン2.0gに溶解させた。この溶液にエポキシ樹脂硬化剤(B)として10質量%のm−キシリレンジアミン/トルエン溶液0.48gを加え均一な溶液とした。得られた溶液をポリイミドフィルム上にキャストし、室温で30分風乾した後、160℃で30分間硬化を行った。得られた硬化物のDSCにより測定したガラス転移温度は178℃であった。またTGAにより測定した500℃の質量減少率は、46質量%であった。
3) Preparation of cured product of polyphenylene ether having an epoxy group 1.0 g of curable polyphenylene ether having an epoxy group obtained above as curable polyphenylene ether (A) was dissolved in 2.0 g of toluene. To this solution, 0.48 g of a 10% by mass m-xylylenediamine / toluene solution was added as an epoxy resin curing agent (B) to obtain a uniform solution. The obtained solution was cast on a polyimide film, air-dried at room temperature for 30 minutes, and then cured at 160 ° C. for 30 minutes. The glass transition temperature measured by DSC of the obtained cured product was 178 ° C. Moreover, the mass reduction | decrease rate of 500 degreeC measured by TGA was 46 mass%.
実施例2
1)2−シクロヘキシルフェノールと2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパンとの共重合
ジムロートおよび空気導入管を取り付けた1リットルのセパラブルフラスコに2−シクロヘキシルフェノール200g、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン17g、トルエン250mlおよびテトラメチルエチレンジアミン1.16gを加え、撹拌しながら溶解させた。次いで撹拌しながら臭化第一銅(CuBr)0.99gを添加した。その後、空気導入管より反応混合物に空気を吹き込みながら60℃に加熱した。次いで無水硫酸マグネシウム30gを投入し12時間重合を行った。重合終了後、反応混合物に5質量%のエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩水溶液を200mL添加して撹拌した。この混合物を分液ロートに移して水層を除去し、油層を5質量%のエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩水溶液200mLで洗浄した。この洗浄を水層が着色しなくなるまで繰り返し、油層を飽和食塩水で洗浄した後、油層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。その後、油層から無水硫酸マグネシウムをろ過し、ろ液を撹拌した2リットルのメタノール中に滴下した。生成した析出物を吸引ろ過、メタノールで洗浄、風乾し、60℃で6時間減圧乾燥した。得られたポリフェニレンエーテルのゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定した数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれ1,130および3,510であった。
Example 2
1) Copolymerization of 2-cyclohexylphenol and 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane 200 g of 2-cyclohexylphenol was added to a 1 liter separable flask equipped with a Dimroth and an air introduction tube, 17 g of 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 250 ml of toluene and 1.16 g of tetramethylethylenediamine were added and dissolved while stirring. Next, 0.99 g of cuprous bromide (CuBr) was added with stirring. Then, it heated at 60 degreeC, blowing air in the reaction mixture from the air introduction pipe | tube. Next, 30 g of anhydrous magnesium sulfate was added and polymerization was carried out for 12 hours. After completion of the polymerization, 200 mL of a 5 mass% aqueous solution of ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt was added to the reaction mixture and stirred. This mixture was transferred to a separatory funnel, the aqueous layer was removed, and the oil layer was washed with 200 mL of a 5 mass% aqueous solution of ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt. This washing was repeated until the aqueous layer was not colored, and the oil layer was washed with saturated brine, and then the oil layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. Thereafter, anhydrous magnesium sulfate was filtered from the oil layer, and the filtrate was added dropwise to 2 liters of stirred methanol. The produced precipitate was filtered with suction, washed with methanol, air-dried, and dried under reduced pressure at 60 ° C. for 6 hours. The number average molecular weight and weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography of the obtained polyphenylene ether were 1,130 and 3,510, respectively.
2)ポリフェニレンエーテルの硬化物調製
(A)硬化性ポリフェニレンエーテルとして上記で得られた硬化性ポリフェニレンエーテル1.0gをトルエン2.0gに溶解させた。この溶液に(B)硬化剤として10質量%のベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物/メチルエチルケトン溶液4.0gを加え均一な溶液とした。得られた溶液をポリイミドフィルム上にキャストし、室温で30分風乾した後、160℃で30分間硬化を行った。
2) Preparation of cured product of polyphenylene ether (A) As a curable polyphenylene ether, 1.0 g of the curable polyphenylene ether obtained above was dissolved in 2.0 g of toluene. To this solution, 4.0 g of a 10% by mass benzophenone tetracarboxylic anhydride / methyl ethyl ketone solution as (B) curing agent was added to obtain a uniform solution. The obtained solution was cast on a polyimide film, air-dried at room temperature for 30 minutes, and then cured at 160 ° C. for 30 minutes.
3)ポリフェニレンエーテルへのエポキシ基導入
上記で得られたポリフェニレンエーテル40gをクロロメチルオキシラン360gに溶解させた溶液をマグネティックスターラーで撹拌しながら100℃に加熱した。次いでこの温度でナトリウムメトキシド3.5gをエタノール30gに溶解させた溶液を1時間かけて滴下し、そのまま6時間撹拌を行った。次いで反応物を室温まで冷却した後、析出した固体をろ過し、過剰のクロロメチルオキシランを減圧下で溜去した。得られた混合物を撹拌した1リットルのメタノール中に滴下し、析出した固体を吸引ろ過、メタノール洗浄した後、55℃で6時間減圧乾燥した。得られエポキシ基を有する硬化性ポリフェニレンエーテルのGPCにより測定した数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれ1,320および3,720であった。また塩酸−ピリジン法により測定したエポキシ当量は693であった。
3) Introduction of epoxy group into polyphenylene ether A solution obtained by dissolving 40 g of the polyphenylene ether obtained above in 360 g of chloromethyloxirane was heated to 100 ° C. while stirring with a magnetic stirrer. Next, at this temperature, a solution of 3.5 g of sodium methoxide dissolved in 30 g of ethanol was added dropwise over 1 hour, and the mixture was stirred for 6 hours. Subsequently, after cooling a reaction material to room temperature, the depositing solid was filtered and the excess chloromethyl oxirane was distilled off under reduced pressure. The obtained mixture was added dropwise to 1 liter of stirred methanol, and the precipitated solid was suction filtered, washed with methanol, and dried under reduced pressure at 55 ° C. for 6 hours. The number average molecular weight and the weight average molecular weight measured by GPC of the obtained curable polyphenylene ether having an epoxy group were 1,320 and 3,720, respectively. The epoxy equivalent measured by the hydrochloric acid-pyridine method was 693.
4)エポキシ基を有する硬化性ポリフェニレンエーテルの硬化物調製
(A)硬化性ポリフェニレンエーテルとして上記で得られたエポキシ基を有する硬化性ポリフェニレンエーテル1.0gをトルエン2.0gに溶解させた。この溶液に(B)エポキシ樹脂硬化剤として10質量%のm−キシリレンジアミン/トルエン溶液0.48gを加え均一な溶液とした。得られた溶液をポリイミドフィルム上にキャストし、室温で30分風乾した後、160℃で30分間硬化を行った。得られた硬化物の示差走査型熱量計により測定したガラス転移温度は180℃であった(昇温速度20℃/分)。
4) Preparation of Cured Polyphenylene Ether Having Epoxy Group (A) 1.0 g of curable polyphenylene ether having an epoxy group obtained above as curable polyphenylene ether was dissolved in 2.0 g of toluene. To this solution, 0.48 g of 10% by mass m-xylylenediamine / toluene solution was added as a (B) epoxy resin curing agent to obtain a uniform solution. The obtained solution was cast on a polyimide film, air-dried at room temperature for 30 minutes, and then cured at 160 ° C. for 30 minutes. The glass transition temperature of the obtained cured product measured by a differential scanning calorimeter was 180 ° C. (temperature increase rate: 20 ° C./min).
実施例3
1)2−シクロヘキシルフェノールと2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンとの共重合
実施例2において、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパンのかわりに2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを用いた以外は同様に行った。得られたポリフェニレンエーテルのGPCにより測定した数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれ1,420および3,980であった。
Example 3
1) Copolymerization of 2-cyclohexylphenol and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane In Example 2, instead of 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2 was used. , 2-bis (4-hydroxyphenyl) propane was used except that it was used. The number average molecular weight and weight average molecular weight measured by GPC of the obtained polyphenylene ether were 1,420 and 3,980, respectively.
2)ポリフェニレンエーテルへのエポキシ基導入
実施例2と同様にして、上記1)で得られたポリフェニレンエーテルへエポキシを導入した。得られた硬化性ポリフェニレンエーテルのGPCにより測定した数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれ1,640および4,210あった。また塩酸−ピリジン法により測定したエポキシ当量は831であった。
2) Introduction of epoxy group into polyphenylene ether In the same manner as in Example 2, epoxy was introduced into the polyphenylene ether obtained in 1) above. The number average molecular weight and the weight average molecular weight measured by GPC of the obtained curable polyphenylene ether were 1,640 and 4,210, respectively. Moreover, the epoxy equivalent measured by the hydrochloric acid-pyridine method was 831.
実施例4
1)3−メチル−6−シクロヘキシルフェノールの重合
実施例1において、2−シクロヘキシルフェノールのかわりに3−メチル−6−シクロヘキシルフェノールを用いた以外は同様に行った。得られたポリフェニレンエーテルのGPCにより測定した数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれ1,040および3,540であった。
Example 4
1) Polymerization of 3-methyl-6-cyclohexylphenol The same procedure as in Example 1 was conducted except that 3-methyl-6-cyclohexylphenol was used instead of 2-cyclohexylphenol. The number average molecular weight and weight average molecular weight measured by GPC of the obtained polyphenylene ether were 1,040 and 3,540, respectively.
2)ポリフェニレンエーテルへのエポキシ基導入
実施例1と同様にして、上記1)で得られたポリフェニレンエーテルへエポキシを導入した。得られた硬化性ポリフェニレンエーテルのGPCにより測定した数平均分子量および重量平均分子量は、それぞれ1,100および3,730であった。また塩酸−ピリジン法により測定したエポキシ当量は692であった。
2) Introduction of epoxy group into polyphenylene ether In the same manner as in Example 1, epoxy was introduced into the polyphenylene ether obtained in 1) above. The number average molecular weight and weight average molecular weight measured by GPC of the obtained curable polyphenylene ether were 1,100 and 3,730, respectively. The epoxy equivalent measured by the hydrochloric acid-pyridine method was 692.
比較例1
1)ポリフェニレンエーテルの合成
空気導入管を取り付けた2リットルのセパラブルフラスコにCuClを1.1g、ジ−n−ブチルアミン66.3g、メチルエチルケトン500gを仕込み、40℃に昇温した。この混合物を攪拌しながら、600gのメチルエチルケトンに溶解させた3,3,5,5′−テトラメチル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジオール20.9gと2,6−ジメチルフェノール75.6gの混合溶液を2リットル/分の空気バブリングを行いながら120分かけて滴下し、さらに滴下終了後30分間、2リットル/分の空気のバブリングを続けながら撹拌を行った。これにエチレンジアミン四酢酸二水素二ナトリウム水溶液を加え、反応を停止した。水相を分離し、油層を0.1N−HCl水溶液で3回、さらにイオン交換水で洗浄した。この溶液からメチルエチルケトンを留去し濃縮した後、メタノール中に滴下した。得られた析出物を吸引ろ過した後、減圧乾燥を行うことで、ポリフェニレンエーテルを得た。このものの数平均分子量は1,870、重量平均分子量2,420であった。
Comparative Example 1
1) Synthesis of polyphenylene ether 1.1 g of CuCl, 66.3 g of di-n-butylamine, and 500 g of methyl ethyl ketone were charged in a 2 liter separable flask equipped with an air introduction tube, and the temperature was raised to 40 ° C. While stirring this mixture, 20.9 g of 3,3,5,5′-tetramethyl-1,1′-biphenyl-4,4′-diol dissolved in 600 g of methyl ethyl ketone and 75.6 g of 2,6-dimethylphenol were dissolved. The mixed solution was added dropwise over 120 minutes while performing air bubbling at 2 liters / minute, and further stirred for 30 minutes after the completion of the dropwise addition while bubbling air at 2 liters / minute. Ethylenediaminetetraacetic acid dihydrogen disodium aqueous solution was added thereto to stop the reaction. The aqueous phase was separated, and the oil layer was washed with 0.1N aqueous HCl three times and further with ion exchange water. Methyl ethyl ketone was distilled off from this solution and concentrated, and then added dropwise to methanol. The resulting precipitate was suction filtered and then dried under reduced pressure to obtain polyphenylene ether. This had a number average molecular weight of 1,870 and a weight average molecular weight of 2,420.
2)ポリフェニレンエーテルへのエポキシ基の導入
上記1)で得たポリフェニレンエーテルに対し、実施例1と同様にエポキシ基を導入し、GPCによる数平均分子量2,260、重量平均分子量3,280、塩酸−ピリジン法によるエポキシ当量1,100のエポキシ基含有硬化性ポリフェニレンエーテルを得た。
2) Introduction of epoxy group into polyphenylene ether An epoxy group was introduced into the polyphenylene ether obtained in 1) in the same manner as in Example 1, and the number average molecular weight was 2,260 by GPC, the weight average molecular weight was 3,280, and the hydrochloric acid-pyridine method was used. An epoxy group-containing curable polyphenylene ether having an epoxy equivalent of 1,100 was obtained.
3)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテルの硬化物調製
実施例1において、10質量%のm−キシリレンジアミン/トルエン溶液を0.31g使用した以外は同様に行った。得られた硬化物のTGAにより測定した500℃の質量減少率は、62質量%であった。
3) Cured material preparation of polyphenylene ether having an epoxy group The same procedure as in Example 1 was carried out except that 0.31 g of a 10% by mass m-xylylenediamine / toluene solution was used. The mass reduction rate at 500 ° C. measured by TGA of the obtained cured product was 62% by mass.
実施例5
(A)ポリフェニレンエーテルとして、実施例1で得られたエポキシ基含有ポリフェニレンエーテル1.5gおよび(C)熱硬化性樹脂としてクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製、EOCN−1206)0.5gをトルエンに溶解させた。この溶液に(B)硬化剤として10質量%のm−キシリレンジアミン/トルエン溶液1.8gを加え均一な溶液とした。得られた溶液をポリイミドフィルム上にキャストし、室温で30分風乾した後、160℃で30分間硬化を行った。得られた硬化物の示差走査型熱量計により測定したガラス転移温度は183℃であった(昇温速度20℃/分)。
Example 5
(A) As polyphenylene ether, 1.5 g of the epoxy group-containing polyphenylene ether obtained in Example 1 and (C) 0.5 g of cresol novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., EOCN-1206) as thermosetting resin Was dissolved in toluene. To this solution, 1.8 g of a 10% by mass m-xylylenediamine / toluene solution was added as a curing agent (B) to obtain a uniform solution. The obtained solution was cast on a polyimide film, air-dried at room temperature for 30 minutes, and then cured at 160 ° C. for 30 minutes. The glass transition temperature of the obtained cured product measured by a differential scanning calorimeter was 183 ° C. (temperature increase rate: 20 ° C./min).
実施例6
(A)硬化性ポリフェニレンエーテルとして、実施例2で得られたエポキシ基含有硬化性ポリフェニレンエーテル1.4gおよび(D)可撓性付与剤としてエポキシ基含有1,2−ポリブタジエン(日本曹達(株)製、EPB−13)0.6gをトルエンに溶解させた。この溶液に(B)エポキシ樹脂硬化剤として10質量%のm−キシリレンジアミン/トルエン溶液1.1gを加え均一な溶液とした。得られた溶液をポリイミドフィルム上にキャストし、室温で30分風乾した後、160℃で30分間硬化を行った。得られた硬化物とポリイミドフィルムからなる積層体を、硬化物を外側にして180℃折り曲げたところ、クラックの発生は見られなかった。
Example 6
(A) Epoxy group-containing curable polyphenylene ether obtained in Example 2 as curable polyphenylene ether (1.4 g) and (D) Epoxy group-containing 1,2-polybutadiene (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) EPB-13) 0.6 g was dissolved in toluene. To this solution, 1.1 g of a 10% by mass m-xylylenediamine / toluene solution was added as a (B) epoxy resin curing agent to obtain a uniform solution. The obtained solution was cast on a polyimide film, air-dried at room temperature for 30 minutes, and then cured at 160 ° C. for 30 minutes. When the laminate comprising the obtained cured product and polyimide film was bent at 180 ° C. with the cured product on the outside, no occurrence of cracks was observed.
実施例7
(D)可撓性付与剤として末端アミノ基を有するブタジエン−アクリロニトリル共重合体エラストマー(宇部興産(株)製、Hycar ATBN1300×16)0.6g、および(B)エポキシ樹脂硬化剤として10質量%のm−キシリレンジアミン/トルエン溶液0.62gを使用した以外は実施例6と同様に行った。得られた硬化物とポリイミドフィルムからなる積層体を、硬化物を外側にして180℃折り曲げたところ、クラックの発生は見られなかった。
Example 7
(D) A butadiene-acrylonitrile copolymer elastomer having a terminal amino group as a flexibility imparting agent (manufactured by Ube Industries, Hycar ATBN 1300 × 16) 0.6 g, and (B) 10% by mass as an epoxy resin curing agent The same procedure as in Example 6 was performed except that 0.62 g of m-xylylenediamine / toluene solution was used. When the laminate comprising the obtained cured product and polyimide film was bent at 180 ° C. with the cured product on the outside, no occurrence of cracks was observed.
実施例8
500mLのセパラブルフラスコに、ジクロロメタン160g、実施例1で合成したポリフェニレンエーテル50gおよび臭化アリル40gを入れて均一な溶液とした。次いで1Nの水酸化ナトリウム溶液120mLを仕込み、さらに相間移動触媒としてベンジルトリ−n−ブチルアンモニウムブロマイド5.6gを添加し、室温で5時間撹拌した。反応混合物をろ過後、水相を分離し、油層を0.1N−HCl水溶液で3回、さらにイオン交換水で洗浄した。この溶液から塩化メチレンを留去し濃縮した後、メタノール中に滴下した。得られた析出物を吸引ろ過した後、減圧乾燥を行うことで、アリル基を有する硬化性ポリフェニレンエーテルを得た。得られたポリフェニレンエーテルのIRスペクトルによりフェノール性水酸基の吸収ピークの消滅を、NMRスペクトルによりアリル基に帰属されるピークの出現を確認した。
Example 8
A 500 mL separable flask was charged with 160 g of dichloromethane, 50 g of the polyphenylene ether synthesized in Example 1 and 40 g of allyl bromide to obtain a uniform solution. Next, 120 mL of 1N sodium hydroxide solution was charged, and 5.6 g of benzyltri-n-butylammonium bromide was further added as a phase transfer catalyst, followed by stirring at room temperature for 5 hours. After the reaction mixture was filtered, the aqueous phase was separated, and the oil layer was washed with 0.1N aqueous HCl three times and further with ion-exchanged water. Methylene chloride was distilled off from this solution and concentrated, and then added dropwise to methanol. The obtained precipitate was subjected to suction filtration and then dried under reduced pressure to obtain a curable polyphenylene ether having an allyl group. The disappearance of the absorption peak of the phenolic hydroxyl group was confirmed by the IR spectrum of the obtained polyphenylene ether, and the appearance of a peak attributed to the allyl group was confirmed by the NMR spectrum.
実施例9
100mLのセパラブルフラスコに、ピリジン40gおよび実施例1で合成したポリフェニレンエーテル10gを入れて均一な溶液とした。次いで撹拌しながら氷冷下で40gのアクリロイルクロライドを60分間で滴下し、室温まで昇温後、一晩放置した。その後、反応混合物を氷冷した100gの水中に少量づつ投入した。得られた析出物を吸引ろ過した後、メタノールで洗浄し、減圧乾燥を行うことで、アクリロイル基を有するポリフェニレンエーテルを得た。得られたポリフェニレンエーテルのIRスペクトルによりフェノール性水酸基の吸収ピークの消滅を、NMRスペクトルによりアクリロイル基に帰属されるピークの出現を確認した。
Example 9
A 100 mL separable flask was charged with 40 g of pyridine and 10 g of the polyphenylene ether synthesized in Example 1 to obtain a uniform solution. Next, 40 g of acryloyl chloride was added dropwise over 60 minutes under ice cooling with stirring, and the mixture was allowed to warm to room temperature and left overnight. Thereafter, the reaction mixture was poured into 100 g of ice-cooled water little by little. The obtained precipitate was suction filtered, washed with methanol, and dried under reduced pressure to obtain polyphenylene ether having an acryloyl group. The disappearance of the absorption peak of the phenolic hydroxyl group was confirmed by the IR spectrum of the obtained polyphenylene ether, and the appearance of a peak attributed to the acryloyl group was confirmed by the NMR spectrum.
実施例10
実施例9においてアクリロイルクロライドの代わりにメタクリロイルクロライドを使用した以外は同様に行い、メタクリロイル基を有するポリフェニレンエーテルを得た。得られた硬化性ポリフェニレンエーテルのIRスペクトルによりフェノール性水酸基の吸収ピークの消滅を、NMRスペクトルによりメタクリロイル基に帰属されるピークの出現を確認した。
Example 10
A polyphenylene ether having a methacryloyl group was obtained in the same manner as in Example 9 except that methacryloyl chloride was used instead of acryloyl chloride. The disappearance of the absorption peak of the phenolic hydroxyl group was confirmed by the IR spectrum of the obtained curable polyphenylene ether, and the appearance of a peak attributed to the methacryloyl group was confirmed by the NMR spectrum.
実施例11
撹拌装置、温度計、滴下漏斗のついた反応器を−10℃まで冷却し、クロロシアン(0.013mol)の塩化メチレン溶液を20mL仕込んだ。その後、実施例1で製造したポリフェニレンエーテル5g、トリエチルアミン1.31g(0.013mol)をメチルエチルケトン250gに溶解した溶液を反応液の温度が10℃以下になるように滴下漏斗から滴下し、滴下終了後さらに60分間反応を行った。その後、0.1Nの塩酸水溶液で3回、およびイオン交換水で洗浄し、固形物をろ過した。ろ液から塩化メチレンおよびメチルエチルケトンを留去後、減圧乾燥することで、シアネート基を有するポリフェニレンエーテルを得た。得られたポリフェニレンエーテルのIRスペクトルによりフェノール性水酸基の吸収ピークの消滅と、シアネート基由来の吸収ピークの出現を確認した得られたポリフェニレンエーテル100質量部に対し、オクチル酸錫0.1質量部を加えて、220℃で5時間硬化した。
Example 11
A reactor equipped with a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel was cooled to −10 ° C., and 20 mL of a methylene chloride solution of chlorocyan (0.013 mol) was charged. Thereafter, a solution prepared by dissolving 5 g of polyphenylene ether prepared in Example 1 and 1.31 g (0.013 mol) of triethylamine in 250 g of methyl ethyl ketone was dropped from the dropping funnel so that the temperature of the reaction solution was 10 ° C. or less. The reaction was performed for a minute. Then, it was washed with 0.1N aqueous hydrochloric acid solution three times and with ion exchange water, and the solid matter was filtered. After distilling off methylene chloride and methyl ethyl ketone from the filtrate, polyphenylene ether having a cyanate group was obtained by drying under reduced pressure. By adding 0.1 part by mass of tin octylate to 100 parts by mass of polyphenylene ether obtained by confirming the disappearance of the absorption peak of the phenolic hydroxyl group and the appearance of the absorption peak derived from the cyanate group by IR spectrum of the obtained polyphenylene ether. And cured at 220 ° C. for 5 hours.
Claims (15)
で示される化学構造を有し、かつ水酸基、エポキシ基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基およびシアナート基からなる群から選ばれる1種以上の官能基を1以上有するポリフェニレンエーテル。 General formula (1)
And a polyphenylene ether having at least one functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group, an epoxy group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group and a cyanate group.
で示される化学構造および/または一般式(3)
で示される化学構造をさらに有する請求項1に記載のポリフェニレンエーテル。 General formula (2)
And / or general formula (3)
The polyphenylene ether according to claim 1, further having a chemical structure represented by:
で示されるモノフェノール化合物を単独で、または他のフェノール化合物と共に酸化重合して得られる請求項1に記載のポリフェニレンエーテル。 General formula (4)
The polyphenylene ether according to claim 1, which is obtained by oxidative polymerization of the monophenol compound represented by the formula alone or together with another phenol compound.
で示されるモノフェノール化合物と一般式(5)
および/または一般式(6)
で示されるポリフェノール化合物とを酸化重合して得られる請求項2に記載のポリフェニレンエーテル。 General formula (4)
And a monophenol compound represented by the general formula (5)
And / or general formula (6)
The polyphenylene ether according to claim 2, which is obtained by oxidative polymerization of a polyphenol compound represented by the formula:
で示される化学構造を有する請求項1〜4のいずれかの項に記載のポリフェニレンエーテル。 General formula (8)
The polyphenylene ether according to any one of claims 1 to 4, which has a chemical structure represented by:
で示されるモノフェノール化合物、および所望により一般式(5)
および/または一般式(6)
で示されるポリフェノール化合物を酸化(共)重合する工程を含むことを特徴とするポリフェニレンエーテルの製造方法。 General formula (4)
And, if desired, general formula (5)
And / or general formula (6)
A process for producing a polyphenylene ether, comprising a step of oxidizing (co) polymerizing a polyphenol compound represented by formula (1).
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JP2012126844A (en) * | 2010-12-16 | 2012-07-05 | Asahi Kasei E-Materials Corp | Allylated polyphenylene ether |
JP2019194312A (en) * | 2018-04-30 | 2019-11-07 | サビック グローバル テクノロジーズ ベスローテン フェンノートシャップ | Phenylene ether oligomer, curable composition comprising phenylene ether oligomer, and thermoset composition derived therefrom |
JP2020090651A (en) * | 2018-11-27 | 2020-06-11 | 太陽ホールディングス株式会社 | Polyphenylene ether, curable composition, dry film, cured product and electronic part |
JP2020090650A (en) * | 2018-11-27 | 2020-06-11 | 太陽ホールディングス株式会社 | Curable composition, dry film, cured product, electronic part and polyphenylene ether |
JP2020143263A (en) * | 2019-02-28 | 2020-09-10 | 太陽ホールディングス株式会社 | Polyphenylene ether, curable composition, dry film, prepreg, cured product, laminate, and electronic component |
EP4079784A1 (en) * | 2021-04-20 | 2022-10-26 | SHPP Global Technologies B.V. | Phenylene ether oligomer and curable thermosetting composition comprising the phenylene ether oligomer |
-
2005
- 2005-05-10 JP JP2005137054A patent/JP2006316092A/en active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012126844A (en) * | 2010-12-16 | 2012-07-05 | Asahi Kasei E-Materials Corp | Allylated polyphenylene ether |
JP2019194312A (en) * | 2018-04-30 | 2019-11-07 | サビック グローバル テクノロジーズ ベスローテン フェンノートシャップ | Phenylene ether oligomer, curable composition comprising phenylene ether oligomer, and thermoset composition derived therefrom |
US10995182B2 (en) | 2018-04-30 | 2021-05-04 | Shpp Global Technologies B.V. | Phenylene ether oligomer, curable composition comprising the phenylene ether oligomer, and thermoset composition derived therefrom |
JP7335722B2 (en) | 2018-04-30 | 2023-08-30 | エスエイチピーピー グローバル テクノロジーズ べスローテン フェンノートシャップ | Phenylene ether oligomers, curable compositions containing phenylene ether oligomers, and thermoset compositions obtained therefrom |
JP2020090651A (en) * | 2018-11-27 | 2020-06-11 | 太陽ホールディングス株式会社 | Polyphenylene ether, curable composition, dry film, cured product and electronic part |
JP2020090650A (en) * | 2018-11-27 | 2020-06-11 | 太陽ホールディングス株式会社 | Curable composition, dry film, cured product, electronic part and polyphenylene ether |
JP7350548B2 (en) | 2018-11-27 | 2023-09-26 | 太陽ホールディングス株式会社 | Polyphenylene ether, curable compositions, dry films, cured products, and electronic components |
JP7350547B2 (en) | 2018-11-27 | 2023-09-26 | 太陽ホールディングス株式会社 | Curable compositions, dry films, cured products, electronic components and polyphenylene ether |
JP2020143263A (en) * | 2019-02-28 | 2020-09-10 | 太陽ホールディングス株式会社 | Polyphenylene ether, curable composition, dry film, prepreg, cured product, laminate, and electronic component |
JP7488635B2 (en) | 2019-02-28 | 2024-05-22 | 太陽ホールディングス株式会社 | Polyphenylene ether, curable composition, dry film, prepreg, cured product, laminate, and electronic component |
EP4079784A1 (en) * | 2021-04-20 | 2022-10-26 | SHPP Global Technologies B.V. | Phenylene ether oligomer and curable thermosetting composition comprising the phenylene ether oligomer |
WO2022224144A1 (en) * | 2021-04-20 | 2022-10-27 | Shpp Global Technologies B.V. | Phenylene ether oligomer and curable thermosetting composition comprising the phenylene ether oligomer |
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