JP2006306758A - Method for producing biaryl compound - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for synthesizing a biaryl compound, making it possible that an unstable triarylborane compound is industrially used in a stable form by Suzuki-Miyaura reaction and economically useful. <P>SOLUTION: This method for producing the biaryl compound expressed by Ar<SP>1</SP>-Ar<SP>2</SP>(Ar<SP>1</SP>is phenyl or the like; and Ar<SP>2</SP>is phenyl or the like) comprises reacting any one of a triarylboron amine complex expressed by Ar<SP>1</SP><SB>3</SB>B-NR<SP>1</SP>R<SP>2</SP>R<SP>3</SP>(R<SP>1</SP>, R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>are each H, an aklyl or the like) and an organic boron-alkali metal hydroxide adduct expressed by Ar<SP>1</SP><SB>3</SB>B-WOH (W is Na or the like) with an aromatic or unsaturated heterocyclic compound expressed by Ar<SP>2</SP>X (Ar<SP>2</SP>is phenyl or the like; and X is a halogen or the like) in the presence of a transition metal-based catalyst expressed by MY<SB>n</SB>L<SB>m</SB>and, if necessary, a phosphine ligand and in the coexistence of a base. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、医農薬等の中間体として重要なビアリール化合物の新規な製造方法に関する。   The present invention relates to a novel process for producing biaryl compounds important as intermediates for medicines and agricultural chemicals.

ビアリール化合物の製造方法は、これまでにも幾つかの方法が知られているが、その効率的合成法として、近年、有機ホウ素化合物をパラジウム触媒及び塩基の存在下にハロゲン化アリール化合物あるいはスルホン酸のアリールエステル類とカップリング反応を行なうことを特徴とする鈴木ー宮浦反応を利用した方法が注目されてきている。   Several methods for producing a biaryl compound have been known so far, but as an efficient synthesis method thereof, an organoboron compound has recently been converted to a halogenated aryl compound or a sulfonic acid in the presence of a palladium catalyst and a base. A method utilizing the Suzuki-Miyaura reaction, which is characterized by carrying out a coupling reaction with the aryl esters of the above, has been attracting attention.

このような反応に用いられる有機ホウ素化合物としては、アリールホウ酸誘導体、テトラアリールボレート誘導体及びトリアリールボラン誘導体等が知られている。
これらのホウ素化合物のうち、テトラアリールボレート誘導体、たとえばナトリウムテトラフェニルボレートは、パラジウム触媒の存在下に、2−トリフルオロメタンスルホニルオキシナフタレンと反応し、2−フェニルナフタレンを生成することが知られている(非特許文献1)。この場合、ナトリウムテトラフェニルボレートは、分子中に4個のフェニル基を有するが、そのフェニル基が最初のカップリング反応により一つだけ消費されるとトリフェニルボランが生成し、引き続き、生成したトリフェニルボランのフェニル基が順次反応して最終的には4分子の2−フェニルナフタレンを生成することが報告されている(非特許文献1)。
As an organic boron compound used for such a reaction, an arylboric acid derivative, a tetraarylborate derivative, a triarylborane derivative, and the like are known.
Among these boron compounds, tetraarylborate derivatives such as sodium tetraphenylborate are known to react with 2-trifluoromethanesulfonyloxynaphthalene in the presence of a palladium catalyst to produce 2-phenylnaphthalene. (Non-Patent Document 1). In this case, sodium tetraphenylborate has four phenyl groups in the molecule, but when only one phenyl group is consumed by the first coupling reaction, triphenylborane is produced, and then the produced triphenylborane is produced. It has been reported that the phenyl group of phenylborane sequentially reacts to finally generate four molecules of 2-phenylnaphthalene (Non-patent Document 1).

しかし、トリアリールボラン誘導体は、空気中で不安定なためかその理由は定かでないが、直接これを使用したビアリール化合物の合成例は未だ報告されていない。
一方、トリアリールボラン誘導体は、アミン類と安定な錯体を生成することが知られている。例えば、トリフェニルボランは、各種アミン類と反応し、トリフェニルボラン・メチルアミン錯体やトリフェニルボラン・ピリジン錯体、トリフェニルボラン・オクタデシルアミン錯体などを生成することが報告されている(非特許文献2、特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4、特許文献5)。これらのトリアリールボランアミン錯体は、船底塗料用あるいは漁網用の防汚剤として、あるいは農業用の殺菌剤または殺虫剤としての活性を有することが知られているが、鈴木―宮浦反応によりビアリール化合物を生成することは知られていない。
However, the triarylborane derivative is unstable in the air or the reason is not clear, but no synthesis example of a biaryl compound using this directly has been reported yet.
On the other hand, triarylborane derivatives are known to form stable complexes with amines. For example, it has been reported that triphenylborane reacts with various amines to produce a triphenylborane / methylamine complex, a triphenylborane / pyridine complex, a triphenylborane / octadecylamine complex, etc. 2, Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3, Patent Document 4, Patent Document 5). These triarylboraneamine complexes are known to have activity as antifouling agents for ship bottom paints or fishing nets, or as agricultural fungicides or insecticides. Is not known to produce.

さらに、これらのトリアリールボラン誘導体は、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物と安定な付加体を形成することも知られている(特許文献2、特許文献7)。   Furthermore, these triarylborane derivatives are also known to form stable adducts with alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide (Patent Documents 2 and 7).

また、トリフェニルボラン水酸化ナトリウム付加体やトリフェニルボラン水酸化カリウム付加体と各種アミンの反応によって、トリフェニルボラン・アミン錯体が容易に得られることも報告されている。(特許文献8)
しかし、これらのトリアリールホウ素錯体化合物がアリールハロゲン化物と反応し、ビアリール化合物を生成することは知られていない。
テトラヘドロンレターズ(Tetrahedron Letters)、1992年、33巻、4815頁 ジャーナルオブザアメリカンケミカルソサイアティ,第83巻,2663頁 米国特許第3211679号明細書 米国特許第3268401号明細書 米国特許第3475496号明細書 特開平10−330381号公報 特開平11−292883号公報 特公昭62−277307号公報 特開昭62−32197号公報 特開平8−311074号公報
It has also been reported that a triphenylborane-amine complex can be easily obtained by the reaction of triphenylborane sodium hydroxide adduct or triphenylborane potassium hydroxide adduct with various amines. (Patent Document 8)
However, it is not known that these triarylboron complex compounds react with aryl halides to form biaryl compounds.
Tetrahedron Letters, 1992, 33, 4815 Journal of the American Chemical Society, 83, 2663 U.S. Pat. No. 3,321,679 US Pat. No. 3,268,401 U.S. Pat. No. 3,475,496 Japanese Patent Laid-Open No. 10-330381 Japanese Patent Laid-Open No. 11-29283 Japanese Patent Publication No.62-277307 JP-A-62-32197 JP-A-8-311074

前記したように、鈴木−宮浦反応を使用してビアリール化合物を製造するにあたり、使用可能な有機ホウ素化合物のうち、従来ではアリールホウ酸誘導体が最も多く使用されているが、価格が高く、工業的製造には不利である。また、アリールホウ酸化合物は、分子中のアリール基が1個であるため、鈴木−宮浦反応を使用してビアリール化合物を製造す
るには、反応相手であるアリール化合物に対し等モル必要となり、ホウ素の効率的利用の面からは不利となっている。
As described above, in the production of biaryl compounds using the Suzuki-Miyaura reaction, among the usable organic boron compounds, arylboric acid derivatives have been most commonly used in the past. Is disadvantageous. In addition, since the arylboric acid compound has one aryl group in the molecule, the production of a biaryl compound using the Suzuki-Miyaura reaction requires equimolar amounts with respect to the aryl compound as the reaction partner. It is disadvantageous in terms of efficient use.

一方、トリアリールボラン誘導体及びテトラアリールボレート誘導体は、分子中に3個または4個のアリール基を持ち、これらのアリール基はすべて反応に関与することができるため、ホウ素を効率的に利用することができる。   On the other hand, triarylborane derivatives and tetraarylborate derivatives have 3 or 4 aryl groups in the molecule, and all these aryl groups can participate in the reaction, so that boron should be used efficiently. Can do.

ナトリウムテトラフェニルボレート等のテトラアリールホウ酸塩は、アリールホウ酸誘導体に比較すると比較的安価に製造されるが、トリアリールボラン誘導体を中間体として製造されており、中間体であるトリアリールボラン誘導体が鈴木−宮浦反応に直接使用できるならば、より広範囲の誘導体が使用可能となる。しかし、これらのトリアリールボラン誘導体は、発火性があるなど空気中での安定性に問題があり、工業的製造に使用することには難がある。   Tetraaryl borates such as sodium tetraphenylborate are produced at a relatively low cost compared to aryl boric acid derivatives. However, triarylborane derivatives are produced as intermediates, and triarylborane derivatives as intermediates are produced. A wider range of derivatives can be used if they can be used directly in the Suzuki-Miyaura reaction. However, these triarylborane derivatives have a problem in stability in air such as being ignitable, and are difficult to use in industrial production.

本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決しようとするものであって、化学工業上有用なビアリール化合物を、より安全かつ効率よく、安価に製造しうるような、ビアリール化合物の新規な製造方法を提供することを目的としている。   The present invention is intended to solve the problems associated with the prior art as described above, and is a biaryl compound that can produce a biaryl compound useful in the chemical industry in a safer, more efficient and less expensive manner. The object is to provide a novel manufacturing method.

本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意研究を重ねた。その結果、トリアリールボラン誘導体を空気中で安定な取り扱いやすい化合物に変換することにより、より安全に、より容易に取り扱うことが可能となり、安全で効率よく安価にビアリール化合物を製造できることなどを見出して、本発明を完成するに至った。   The inventors of the present invention have made extensive studies in order to achieve the above object. As a result, we found that by converting triarylborane derivatives into stable and easy-to-handle compounds in air, they can be handled more safely and easily, and biaryl compounds can be produced safely and efficiently at low cost. The present invention has been completed.

すなわち、本発明に係るビアリール化合物の第1の製造方法は、
下記一般式(1−A)で表される有機ホウ素アミン錯体化合物および、一般式(1−B)で表される有機ホウ素−アルカリ金属水酸化物付加体のうちの何れかと、
一般式(2)で表される芳香族又は不飽和複素環化合物とを、
遷移金属系触媒、および必要により添加されるホスフィン配位子の存在下に、塩基を共存させて、(より具体的には、式(6)の遷移金属、遷移金属化合物または遷移金属錯体を単独で、またはさらに各種ホスフィン配位子を添加して、塩基の共存下に、)反応させることを特徴とする、下記一般式(7)で表されるビアリール化合物の製造方法にある。
That is, the first method for producing a biaryl compound according to the present invention includes:
Any one of the organic boron amine complex compound represented by the following general formula (1-A) and the organic boron-alkali metal hydroxide adduct represented by the general formula (1-B);
An aromatic or unsaturated heterocyclic compound represented by the general formula (2),
In the presence of a transition metal catalyst and, if necessary, a phosphine ligand added, a base is allowed to coexist (more specifically, a transition metal, a transition metal compound or a transition metal complex of formula (6) alone Or in addition to various phosphine ligands and in the presence of a base, the reaction is carried out in the method for producing a biaryl compound represented by the following general formula (7).

有機ホウ素アミン錯体化合物(1−A):
Ar1 3B・NR123 ・・・・・・・・・・(1−A)
[式(1−A)中、複数個のAr1は、それぞれ独立にフェニル基、ナフチル基あるいは
ピリジル基を示し、かつ、これらの基はそれぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、上記各基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6であり、
1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の直鎖状または分
岐状のアルキル基;炭素数2〜20の直鎖状または分岐状のアルケニル基;炭素数2〜20の直鎖状または分岐状のアルキニル基;炭素数3〜20のシクロアルキル基;フェニル基;アラルキル基;あるいは複素環基を示すか、或いは、N、R1、R2およびR3が環を
形成し飽和または不飽和の複素環を示し、
上記フェニル基、アラルキル基は、それぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、
上記置換基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6であり、
上記複素環基は、飽和基又は不飽和基であって、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含み、式(1−A)中のN、R1、R2およびR3が互いに結合して環構造を形成していても
よい。]
有機ホウ素−アルカリ金属水酸化物付加体(1−B):
Ar1 3B・WOH ・・・・・・・・・・(1−B)
[式(1−B)中、Ar1は前記と同じ意味を表し、Wは、ナトリウム、カリウムまた
はリチウムを表す。]
芳香族又は不飽和複素環化合物(2):
Ar2X ・・・・・・・・・・(2)
[式(2)中、Ar2は、フェニル基、ナフチル基あるいはピリジル基を示し、かつ、
これらの基はそれぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、シアノ基およびニトロ基のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、上記各基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6であり、
Xは、ハロゲン原子、あるいは一般式(3)で表されるスルホニルオキシ基、
4SO2O− ・・・・・・・・・・・・・・・(3)
{式(3)中、R4は、炭素数1〜20の直鎖状または分岐状のアルキル基;炭素数2
〜20の直鎖状または分岐状のアルケニル基;炭素数2〜20の直鎖状または分岐状のアルキニル基;炭素数3〜20のシクロアルキル基;フェニル基;ナフチル基;アラルキル基;トリフルオロメチル基;およびペンタフルオロエチル基のうちの何れかの基を示し、
上記フェニル基、ナフチル基およびアラルキル基は、それぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、
上記置換基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6である。}
または、一般式(4)で表されるアシルオキシ基を示す。
4COO− ・・・・・・・・・・(4)
(式(4)中、R4は前記と同じ意味を示す。)]
ビアリール化合物(7):
Ar1−Ar2 ・・・・・・・・・・・・・・・(7)
[式(7)中、Ar1、Ar2は前記と同じ意味を示す。]。
Organic boron amine complex compound (1-A):
Ar 1 3 B · NR 1 R 2 R 3 (1-A)
[In the formula (1-A), a plurality of Ar 1 's each independently represent a phenyl group, a naphthyl group or a pyridyl group, and these groups are each independently a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy group, It may be substituted with 1 to 5 substituents selected from a group-containing lower alkyl group, lower haloalkyl group, and halogen atom, and the lower alkyl group moiety and lower alkoxy group moiety in each of the above groups Each independently has 1 to 6 carbon atoms,
R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; a linear or branched alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms; carbon A linear or branched alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms; a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms; a phenyl group; an aralkyl group; or a heterocyclic group, or N, R 1 , R 2 and R 3 forms a ring and represents a saturated or unsaturated heterocycle,
The phenyl group and the aralkyl group are each independently substituted with 1 to 5 substituents selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy group-containing lower alkyl group, a lower haloalkyl group, and a halogen atom. May also have been
The lower alkyl group moiety and the lower alkoxy group moiety in the substituent each independently have 1 to 6 carbon atoms,
The heterocyclic group is a saturated group or an unsaturated group and includes a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom, and N, R 1 , R 2 and R 3 in the formula (1-A) are bonded to each other. A ring structure may be formed. ]
Organoboron-alkali metal hydroxide adduct (1-B):
Ar 1 3 B · WOH ·········· ( 1-B)
[In Formula (1-B), Ar 1 represents the same meaning as described above, and W represents sodium, potassium, or lithium. ]
Aromatic or unsaturated heterocyclic compound (2):
Ar 2 X (2)
[In the formula (2), Ar 2 represents a phenyl group, a naphthyl group or a pyridyl group, and
These groups are each independently a lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkoxy group-containing lower alkyl group, lower haloalkyl group, halogen atom, lower alkoxycarbonyl group, carboxy group, formyl group, lower alkylcarbonyl group, lower alkylsulfonyl group. Group, a cyano group and a nitro group may be substituted with 1 to 5 substituents, and the lower alkyl group moiety and the lower alkoxy group moiety in each of the above groups are each independently carbon. It is number 1-6,
X is a halogen atom or a sulfonyloxy group represented by the general formula (3),
R 4 SO 2 O- (3)
{In Formula (3), R 4 is a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms;
-20 linear or branched alkenyl group; linear or branched alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms; cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group; aralkyl group; A methyl group; and any one of pentafluoroethyl groups;
The phenyl group, naphthyl group and aralkyl group are each independently 1 to 5 substituents selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy group-containing lower alkyl group, a lower haloalkyl group, and a halogen atom. May be substituted with a group,
The lower alkyl group part and the lower alkoxy group part in the substituent each independently have 1 to 6 carbon atoms. }
Or the acyloxy group represented by General formula (4) is shown.
R 4 COO- (4)
(In formula (4), R 4 has the same meaning as described above.)]
Biaryl compound (7):
Ar 1 -Ar 2 (7)
[In the formula (7), Ar 1 and Ar 2 have the same meaning as described above. ].

本発明に係るビアリール化合物の第2の製造方法は、
一般式(1−A)で表されるホウ素アミン錯体化合物:
Ar1 3B・NR123・・・・・(1−A)
[式(1−A)中、Ar1、R1、R2およびR3は、前記と同じ意味を示す。]
と、
一般式(2)で表される芳香族又は不飽和複素環化合物:
Ar2X ・・・・・・・・・・・・・・・(2)
[式(2)中、Ar2およびXは、前記と同じ意味を示す。]
とを、
一般式(6)で表される、遷移金属、遷移金属化合物または遷移金属錯体よりなる遷移金属系触媒、および必要により添加されるホスフィン配位子の存在下に、塩基を共存させて、反応させることを特徴とする、一般式(7)で表されるビアリール化合物の製造方法にある。
MYnm ・・・・・・・・・・・・・・・(6)
[式(6)中、Mは、0〜2価の原子価を持つニッケル、パラジウムまたはロジウム示し、Yは、ハロゲンイオン、硝酸イオンまたはアセトキシイオンを示し、nは、0〜2の整数を示し、mは0または1〜4の整数を示す。
A second method for producing a biaryl compound according to the present invention includes:
Boron amine complex compound represented by the general formula (1-A):
Ar 1 3 B · NR 1 R 2 R 3 (1-A)
[In the formula (1-A), Ar 1 , R 1 , R 2 and R 3 have the same meaning as described above. ]
When,
Aromatic or unsaturated heterocyclic compound represented by general formula (2):
Ar 2 X (2)
[In the formula (2), Ar 2 and X have the same meaning as described above. ]
And
In the presence of a transition metal catalyst represented by the general formula (6) consisting of a transition metal, a transition metal compound or a transition metal complex, and a phosphine ligand added if necessary, the reaction is carried out in the presence of a base. In the method for producing a biaryl compound represented by the general formula (7),
MY n L m (6)
[In the formula (6), M represents nickel, palladium or rhodium having a valence of 0 to 2, Y represents a halogen ion, nitrate ion or acetoxy ion, and n represents an integer of 0 to 2. , M represents 0 or an integer of 1 to 4.

また、式(6)中、mが0以外の上記整数の場合、1〜複数個のLは、互いに独立して
、R567P、R89P(CH2)qPR1011、R12COCH2COR13、R14CN、
炭素数が4〜20で2重結合を2以上持つ直鎖状または環状のアルケン、またはR15COR16を示し、ここでR5〜R16は、互いに同一でも相異なっていてもよく、
炭素数1〜20の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基;炭素数2〜20の直鎖状あるいは分岐状のアルケニル基;炭素数2〜20の直鎖状あるいは分岐状のアルキニル基;炭素数3〜20のシクロアルキル基;フェニル基;ナフチル基およびアラルキル基のうちから選択される何れかの基を示し、
上記フェニル基、ナフチル基およびアラルキル基は、それぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、
上記アルケニル基は、フェニル基で置換されていてもよく、また、
上記置換基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6であり、
qは、1〜10の整数を示す。]
Ar1−Ar2 ・・・・・・・・・・・・・・・(7)
[式(7)中、Ar1、Ar2は前記と同じ意味を示す。]。
In the formula (6), when m is an integer other than 0, 1 to a plurality of Ls are independently of each other R 5 R 6 R 7 P, R 8 R 9 P (CH 2 ) qPR 10. R 11 , R 12 COCH 2 COR 13 , R 14 CN,
A linear or cyclic alkene having 4 to 20 carbon atoms and two or more double bonds, or R 15 COR 16 , wherein R 5 to R 16 may be the same as or different from each other;
A linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; a linear or branched alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms; a linear or branched alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms; 3 to 20 cycloalkyl groups; a phenyl group; any group selected from a naphthyl group and an aralkyl group;
The phenyl group, naphthyl group and aralkyl group are each independently 1 to 5 substituents selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy group-containing lower alkyl group, a lower haloalkyl group, and a halogen atom. May be substituted with a group,
The alkenyl group may be substituted with a phenyl group,
The lower alkyl group moiety and the lower alkoxy group moiety in the substituent each independently have 1 to 6 carbon atoms,
q represents an integer of 1 to 10. ]
Ar 1 -Ar 2 (7)
[In the formula (7), Ar 1 and Ar 2 have the same meaning as described above. ].

本発明に係るビアリール化合物の第3の製造方法は、
上記一般式(1−B)で表される有機ホウ素−アルカリ金属水酸化物付加体:
Ar1 3B・WOH・・・・・(1−B)
[式(1−B)中、Ar1、Wは、前記と同じ意味を示す。]
と、
上記一般式(2)で表される芳香族又は不飽和複素環化合物:
Ar2X ・・・・・・・・・・(2)
[式(2)中、Ar2およびXは、前記と同じ意味を示す。]
とを、
上記一般式(6)で表される、遷移金属、遷移金属化合物または遷移金属錯体よりなる遷移金属系触媒、および必要により添加されるホスフィン配位子の存在下に、塩基を共存させて、反応させることを特徴とする、一般式(7)で表されるビアリール化合物の製造方法にある。
Ar1−Ar2・・・・・・・・・・(7)
[式(7)中、Ar1、Ar2は前記と同じ意味を表す。]
すなわち、本発明は、有機ホウ素アミン錯体化合物(1−A)および有機ホウ素−アルカリ金属水酸化物付加体(1−B)のうちの何れかと、
芳香族又は不飽和複素環化合物(2)、すなわち、ハロゲン原子、スルホン酸基、またはアシルオキシ基により置換されたアリール化合物(2)とを、
遷移金属、遷移金属錯体などの遷移金属系触媒(6)を単独で使用するか、あるいは必要により各種ホスフィン配位子を添加して、塩基の共存下にカップリング反応を行なうことを特徴とする、ビアリール化合物(7)の製造方法にある。
A third method for producing a biaryl compound according to the present invention includes:
Organoboron-alkali metal hydroxide adduct represented by the above general formula (1-B):
Ar 1 3 B · WOH ····· ( 1-B)
[In the formula (1-B), Ar 1 and W have the same meaning as described above. ]
When,
Aromatic or unsaturated heterocyclic compound represented by the general formula (2):
Ar 2 X (2)
[In the formula (2), Ar 2 and X have the same meaning as described above. ]
And
In the presence of a transition metal catalyst represented by the above general formula (6) consisting of a transition metal, a transition metal compound or a transition metal complex, and a phosphine ligand added if necessary, a reaction is carried out in the presence of a base. There exists in the manufacturing method of the biaryl compound represented by General formula (7) characterized by making it produce.
Ar 1 -Ar 2 (7)
[In the formula (7), Ar 1 and Ar 2 represent the same meaning as described above. ]
That is, the present invention provides any one of an organoboron amine complex compound (1-A) and an organoboron-alkali metal hydroxide adduct (1-B),
An aromatic or unsaturated heterocyclic compound (2), that is, an aryl compound (2) substituted by a halogen atom, a sulfonic acid group, or an acyloxy group,
It is characterized by using a transition metal catalyst (6) such as a transition metal or a transition metal complex alone, or adding various phosphine ligands if necessary, and performing a coupling reaction in the presence of a base. And a method for producing a biaryl compound (7).

上記本発明によれば、トリアリールボラン誘導体を空気中で安定な取り扱いやすい化合物に変換することにより、無酸素状態で取り扱う等の特別な注意を要することなく容易に取り扱うことが可能となり、化学工業上有用なビアリール化合物をより安全で、効率よく、安価に製造しうるような、ビアリール化合物の新規な製造方法が提供される。   According to the present invention, by converting the triarylborane derivative into a stable and easy-to-handle compound in the air, it can be easily handled without special care such as handling in an oxygen-free state. A novel method for producing a biaryl compound is provided so that the above useful biaryl compound can be produced more safely, efficiently and inexpensively.

以下、本発明に係るビアリール化合物の製造方法について、具体的に説明する。
[ビアリール化合物の製造方法]
本発明に係るビアリール化合物の製造方法では、下記式(X)で示されるように、上記一般式(1−A)で表される有機ホウ素アミン錯体化合物および、一般式(1−B)で表される有機ホウ素−アルカリ金属水酸化物付加体のうちの何れかと、
上記一般式(2)で表される芳香族又は不飽和複素環化合物とを、
遷移金属系触媒、および必要により添加されるホスフィン配位子の存在下に、塩基を共存させて、{より具体的には、後述するように、好ましくは上記一般式(6)で表される遷移金属、遷移金属化合物または遷移金属錯体(これらをまとめて遷移金属系触媒ともいう。)を単独で、または、これらの何れか1種以上に必要により各種ホスフィン配位子を添加してなる触媒系の存在下に、必要により塩基を共存させて}、通常溶媒中で反応させて、一般式(7)で表されるビアリール化合物を製造している。
Hereinafter, the method for producing a biaryl compound according to the present invention will be specifically described.
[Method for producing biaryl compound]
In the method for producing a biaryl compound according to the present invention, as represented by the following formula (X), the organic boron amine complex compound represented by the general formula (1-A) and the general formula (1-B) Any of the organoboron-alkali metal hydroxide adducts to be produced;
An aromatic or unsaturated heterocyclic compound represented by the general formula (2),
In the presence of a transition metal catalyst and, if necessary, a phosphine ligand added, a base is allowed to coexist. A catalyst obtained by adding a transition metal, a transition metal compound, or a transition metal complex (these are collectively referred to as a transition metal-based catalyst) alone, or by adding various phosphine ligands to any one or more of them as necessary. In the presence of the system, a base is allowed to coexist if necessary} and the reaction is carried out in a normal solvent to produce a biaryl compound represented by the general formula (7).

Figure 2006306758
Figure 2006306758

[式(X)中、(1−A)、(1−B)、(2)、(7)中の各記号の定義は、前記に同じ。]
上記反応は、芳香族又は不飽和複素環化合物(2)(成分(2))1モルに対して、有機ホウ素アミン錯体化合物(1-A)(成分(1−A))または有機ホウ素-アルカリ金属
水酸化物付加体(1-B)(成分(1−B))を理論的には1/3モルの量で、通常では、成分(1−A)又は成分(1−B)を0.25〜0.7モル、好ましくは0.3〜0.6モルの量で用いて、通常、−100℃から溶媒の還流温度までの範囲の温度で、圧力:0〜1000KPa下に実施され得るが、反応効率、操作性、安全性などの点を考慮すると、好ましくは、0〜150℃で、常圧下に実施されることが多い。
[In formula (X), the definition of each symbol in (1-A), (1-B), (2), (7) is the same as above. ]
In the above reaction, the organic boron amine complex compound (1-A) (component (1-A)) or the organic boron-alkali is used per 1 mol of the aromatic or unsaturated heterocyclic compound (2) (component (2)). The metal hydroxide adduct (1-B) (component (1-B)) is theoretically an amount of 1/3 mol, and usually the component (1-A) or the component (1-B) is 0. Used in an amount of 25-0.7 mol, preferably 0.3-0.6 mol, usually carried out at a temperature in the range from −100 ° C. to the reflux temperature of the solvent under a pressure of 0-1000 KPa. However, considering points such as reaction efficiency, operability, and safety, it is often carried out at 0 to 150 ° C. under normal pressure.

以下、上記反応で用いられる各成分等について詳説する。
<有機ホウ素アミン錯体化合物(1−A)>
Ar1 3B・NR123 ・・・・・・・・・・(1−A)
Ar 1
上記有機ホウ素アミン錯体化合物(1−A)において、複数個のAr1は、それぞれ独
立にフェニル基、ナフチル基あるいはピリジル基を示し、かつ、これらの基はそれぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、上記各基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6である。
Hereinafter, each component used in the above reaction will be described in detail.
<Organic boron amine complex compound (1-A)>
Ar 1 3 B · NR 1 R 2 R 3 (1-A)
Ar 1 :
In the organoboronamine complex compound (1-A), a plurality of Ar 1 s independently represent a phenyl group, a naphthyl group, or a pyridyl group, and these groups are each independently a lower alkyl group, a lower alkoxy group. Group, lower alkoxy group-containing lower alkyl group, lower haloalkyl group, and optionally substituted with 1 to 5 substituents selected from halogen atoms, and the lower alkyl group moiety in each of the above groups, Each lower alkoxy group has 1 to 6 carbon atoms independently.

ここで、低級アルキル基とは、炭素数1〜6で、直鎖状または分岐状のアルキル基を表し、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、ノルマルブチル基、ノルマルペンチル基、ノルマルヘキシル基、1−メチルエチル基、1−メチルプロピル基、2−メチ
ルプロピル基、3−メチルブチル基、4−メチルペンチル基、1,1−ジメチルエチル基、1,1−ジメチルプロピル基、2,2−ジメチルプロピル基などが挙げられる。
Here, the lower alkyl group represents a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, normal propyl group, normal butyl group, normal pentyl group, normal hexyl. Group, 1-methylethyl group, 1-methylpropyl group, 2-methylpropyl group, 3-methylbutyl group, 4-methylpentyl group, 1,1-dimethylethyl group, 1,1-dimethylpropyl group, 2,2 -A dimethylpropyl group etc. are mentioned.

低級アルコキシ基とは、炭素数1〜6で、直鎖状または分岐状のアルキル基を有するアルコキシ基を表し、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、ノルマルペンチルオキシ基、ノルマルヘキシルオキシ基、1−メチルエトキシ基、1−メチルプロポキシ基、2−メチルプロポキシ基、2−メチルブトキシ基、3−メチルブトキシ基、1,1−ジメチルエトキシ基、1,1−ジメチルプロポキシ基、2,2−ジメチルプロポキシ基などが挙げられる。   The lower alkoxy group represents an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms and having a linear or branched alkyl group. For example, a methoxy group, an ethoxy group, a normal propoxy group, a normal butoxy group, a normal pentyloxy group, Normal hexyloxy group, 1-methylethoxy group, 1-methylpropoxy group, 2-methylpropoxy group, 2-methylbutoxy group, 3-methylbutoxy group, 1,1-dimethylethoxy group, 1,1-dimethylpropoxy group 2,2-dimethylpropoxy group and the like.

低級アルコキシ基含有低級アルキル基とは、アルキル基部位、アルコキシ部位の炭素数が何れも1〜6であり、直鎖状または分岐状のアルキル基を有するアルコキシ基で置換された低級アルキル基を表し、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ノルマルプロポキシメチル基、1−メトキシエチル基、1−エトキシエチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、1−メトキシプロピル基、2−メトキシプロピル基、3−メトキシプロピル基、4−メトキシブチル基、4−メトキシペンチル基、4−メトキシヘキシル基、1−メトキシ−1−メチルエチル基、2−メトキシ−1−メチルエチル基、1,1−ジメトキシメチル基、1,1−ジエトキシメチル基、1,1−ジメトキシエチル基、1,1−ジエトキシエチル基などが挙げられる。   The lower alkoxy group-containing lower alkyl group represents a lower alkyl group substituted with an alkoxy group having a linear or branched alkyl group, each having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl group part and the alkoxy part. For example, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, normal propoxymethyl group, 1-methoxyethyl group, 1-ethoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 1-methoxypropyl group, 2-methoxypropyl Group, 3-methoxypropyl group, 4-methoxybutyl group, 4-methoxypentyl group, 4-methoxyhexyl group, 1-methoxy-1-methylethyl group, 2-methoxy-1-methylethyl group, 1,1- Dimethoxymethyl group, 1,1-diethoxymethyl group, 1,1-dimethoxyethyl group, 1,1-diethoxyethyl group And the like.

低級ハロアルキル基の例としては、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、トリクロロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基などが挙げられる。   Examples of lower haloalkyl groups include trifluoromethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, pentafluoroethyl, heptafluoropropyl, trichloromethyl, 2,2,2-trichloroethyl, and the like. It is done.

上記のように置換されていても良いフェニル基,ナフチル基またはピリジル基の例としては、例えば、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、4−エチルフェニル基、2−ノルマルプロピルフェニル基、3−ノルマルプロピルフェニル基、4−ノルマルプロピルフェニル基、2−イソプロピルフェニル基、3−イソプロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2−ターシャリーブチルフェニル基、3−ターシャリーブチルフェニル基、4−ターシャリーブチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、4−エチルフェニル基、2−イソプロピルフェニル基、3−イソプロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2−ターシャリーブチルフェニル基、3−ターシャリーブチルフェニル基、4−ターシャリーブチルフェニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2,3−ジフルオロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,5−ジフルオロフェニル基、3,4−ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、2,3,4,5,6−ペンタフ
ルオロフェニル基、2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基、2,3−ジメトキシフェニル基、2,4−ジメトキシフェニル基、2,5−ジメトキシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5−ジメトキシフェニル基、3,4,5−トリメトキシフェニル基、2−ターシャリーブトキシフェニル基、3−ターシャリーブトキシフェニル基、4−ターシャリーブトキシフェニル基、2−トリフルオロメチルフェニル基、3−トリフルオロメチルフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−メチル−1−ナフチル基、3−メチル−1−ナフチル基、4−メチル−1−ナフチル基、5−メチル−1−ナフチル基、6−メチル−1−ナフチル基、7−メチル−1−ナフチル基、8−メチル−1−ナフチル基、3−メ
チル−2−ナフチル基、4−メチル−2−ナフチル基、5−メチル−2−ナフチル基、6−メチル−2−ナフチル基、7−メチル−2−ナフチル基、6−フルオロ−1−ナフチル基、7−フルオロ−1−ナフチル基、6−フルオロ−2−ナフチル基、7−フルオロ−2−ナフチル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、3−メチル−2−ピリジル基、4−メチル−2−ピリジル基、5−メチル−2−ピリジル基、6−メチル−2−ピリジル基、2−メチル−3−ピリジル基、4−メチル−3−ピリジル基、4−フルオロ−2−ピリジル基、2,5−ジメチル−4−ピリジル基、3,5−ジメチル−2−ピリジル基などが挙げられる。
1 、R 2 およびR 3
1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の直鎖状または分
岐状のアルキル基;炭素数2〜20の直鎖状または分岐状のアルケニル基;炭素数2〜20の直鎖状または分岐状のアルキニル基;炭素数3〜20のシクロアルキル基;フェニル基;アラルキル基;あるいは複素環基;を示し、
上記フェニル基、アラルキル基は、それぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、
上記置換基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6であり、
上記複素環基は、飽和基又は不飽和基であって、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含むこともあり、また、式(1−A)中のN、R1、R2およびR3が互いに結合して環構造
を形成していてもよい。{N、R1、R2およびR3が互いに結合して環構造を形成する場
合の複素環基は、N、R1、R2、R3が、互いに共同して、飽和または不飽和の環状構造
を形成したものであり、該環構造には、窒素原子(N)、酸素原子(O)、硫黄原子(S)のうちの何れか1種(同一種の原子のみ)または2種以上(異種原子を含む)の原子が合計
個数で0〜4個(但し、Nは1個以上)含まれてもよい。}
ここでアルキル基とは、直鎖状または分岐状のアルキル基をあらわし、たとえば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基など、前記と同様のものが挙げられる。
Examples of the phenyl group, naphthyl group or pyridyl group which may be substituted as described above include, for example, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 3 -Ethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 2-normalpropylphenyl group, 3-normalpropylphenyl group, 4-normalpropylphenyl group, 2-isopropylphenyl group, 3-isopropylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 2-tertiarybutylphenyl group, 3-tertiarybutylphenyl group, 4-tertiarybutylphenyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 3, 4-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 4-ethylphenyl group 2-isopropylphenyl group, 3-isopropylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 2-tertiarybutylphenyl group, 3-tertiarybutylphenyl group, 4-tertiarybutylphenyl group, 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl Group, 4-chlorophenyl group, 2,4-dichlorophenyl group, 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2,3-difluorophenyl group, 2,4-difluorophenyl group, 2, 5-difluorophenyl group, 3,4-difluorophenyl group, 3,5-difluorophenyl group, 2,3,4,5,6-pentafluorophenyl group, 2-methoxyphenyl group, 3-methoxyphenyl group, 4 -Methoxyphenyl group, 2,3-dimethoxyphenyl group, 2,4-dimeth Siphenyl group, 2,5-dimethoxyphenyl group, 3,4-dimethoxyphenyl group, 3,5-dimethoxyphenyl group, 3,4,5-trimethoxyphenyl group, 2-tertiary butoxyphenyl group, 3-tertiary Butoxyphenyl group, 4-tert-butoxyphenyl group, 2-trifluoromethylphenyl group, 3-trifluoromethylphenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 2-methyl- 1-naphthyl group, 3-methyl-1-naphthyl group, 4-methyl-1-naphthyl group, 5-methyl-1-naphthyl group, 6-methyl-1-naphthyl group, 7-methyl-1-naphthyl group, 8-methyl-1-naphthyl group, 3-methyl-2-naphthyl group, 4-methyl-2-naphthyl group, 5-methyl-2-naphthyl group, 6- Tyl-2-naphthyl group, 7-methyl-2-naphthyl group, 6-fluoro-1-naphthyl group, 7-fluoro-1-naphthyl group, 6-fluoro-2-naphthyl group, 7-fluoro-2-naphthyl group Group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group, 3-methyl-2-pyridyl group, 4-methyl-2-pyridyl group, 5-methyl-2-pyridyl group, 6-methyl-2- Pyridyl group, 2-methyl-3-pyridyl group, 4-methyl-3-pyridyl group, 4-fluoro-2-pyridyl group, 2,5-dimethyl-4-pyridyl group, 3,5-dimethyl-2-pyridyl group Groups and the like.
R 1 , R 2 and R 3 :
R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; a linear or branched alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms; carbon A linear or branched alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms; a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms; a phenyl group; an aralkyl group; or a heterocyclic group;
The phenyl group and the aralkyl group are each independently substituted with 1 to 5 substituents selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy group-containing lower alkyl group, a lower haloalkyl group, and a halogen atom. May also have been
The lower alkyl group moiety and the lower alkoxy group moiety in the substituent each independently have 1 to 6 carbon atoms,
The heterocyclic group is a saturated group or an unsaturated group and may contain a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom, and N, R 1 , R 2 and R 3 in the formula (1-A) May be bonded to each other to form a ring structure. {When N, R 1 , R 2 and R 3 are bonded to each other to form a ring structure, N, R 1 , R 2 , R 3 can be A ring structure is formed, and the ring structure includes any one of nitrogen atom (N), oxygen atom (O), sulfur atom (S) (only the same kind of atoms) or two or more kinds. The total number of atoms (including different atoms) may be 0 to 4 (where N is 1 or more). }
Here, the alkyl group represents a linear or branched alkyl group, and examples thereof include the same groups as described above, such as a methyl group, an ethyl group, and a normal propyl group.

アルケニル基の例としては、エテニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−メチル1−プロペニル基、1,1−ジメチル−2−プロペニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基などが挙げられる。   Examples of alkenyl groups include ethenyl, 1-propenyl, 2-propenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 1-methyl 1-propenyl, 1,1-dimethyl-2 -A propenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, etc. are mentioned.

アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−メチル1−プロピニル基、1,1−ジメチル−2−プロピニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基などが挙げられる。   Examples of alkynyl groups include ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 1-butynyl, 2-butynyl, 3-butynyl, 1-methyl 1-propynyl, 1,1-dimethyl-2 -A propynyl group, 3-pentynyl group, 4-pentynyl group, etc. are mentioned.

アラルキル基の例としては、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、1−フェニルプロピル基、2−フェニルプロピル基、3−フェニルプロピル基、1−メチル−1−フェニルエチル基などが挙げられる。   Examples of aralkyl groups include benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenylpropyl group, 2-phenylpropyl group, 3-phenylpropyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, etc. Is mentioned.

また、上記シクロアルキル基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、2−メチルシクロペンチル基、2−メチルシクロヘキシル基、2,2−ジメチルシクロプロピル基、2,2−ジメチルシクロペンチル基、2,2−ジメチルシクロヘキシル基等が挙げられる。
The cycloalkyl group is a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a 2-methylcyclopentyl group, a 2-methylcyclohexyl group, or a 2,2-dimethylcyclopropyl group. 2,2-dimethylcyclopentyl group, 2,2-dimethylcyclohexyl group and the like.

上記複素環基あるいは複素環化合物の例としては、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ピリジン、キノリン、ピラゾール、イミダゾール、1,3−チアゾール、インドール、ベンズイミダゾール、1,3−ベンゾチアゾール、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン、2−メチルピリジン、3−メチルピリジン、4−メチルピリジン、2,4−ジメチルピリジン、2,6−ジメチルピリジン、3,5−ジメチルピリジン、2−メトキシピリジン、3−メトキシピリジン、4−メトキシピリジン、2−クロロピリジン、4−イソプロピルピリジン、1−メチルピラゾール、1,3−ジメチルピラゾール、3,5−ジメチルピラゾール、1,3,5−トリメチルピラゾール、1−メチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、2,5−ジメチルイミダゾールなどが挙げられる。   Examples of the heterocyclic group or heterocyclic compound include pyrrolidine, piperidine, morpholine, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, pyridine, quinoline, pyrazole, imidazole, 1,3-thiazole, indole, benzimidazole, 1,3-benzothiazole, N-methylpyrrolidine, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,6-dimethylpyridine 3,5-dimethylpyridine, 2-methoxypyridine, 3-methoxypyridine, 4-methoxypyridine, 2-chloropyridine, 4-isopropylpyridine, 1-methylpyrazole, 1,3-dimethylpyrazole, 3,5-dimethyl Pyrazole, 1,3,5-trimethylpyra Lumpur, 1-methylimidazole, 1-methylimidazole, 2,5-dimethyl imidazole.

このようなR1、R2、R3のうちでは、水素原子、上記アルキル基、NとR1、R2、R3が共同して形成された複素環のピリジル基が好ましく、R1、R2、R3がH,アルキル基
からなるときは、互いに同一でも異なっていてもよい。具体的には、例えば、R1、R2、R3が全てアルキル基である例えば、トリエチル(アミン)、何れか2個がアルキル基であり、1個がHであるジエチル(アミン)、等が挙げられる。
Among such R 1 , R 2 and R 3 , a hydrogen atom, the above alkyl group, and a heterocyclic pyridyl group formed by jointly N and R 1 , R 2 and R 3 are preferred, R 1 , When R 2 and R 3 are each composed of H or an alkyl group, they may be the same as or different from each other. Specifically, for example, R 1 , R 2 , R 3 are all alkyl groups, for example, triethyl (amine), any two are alkyl groups, and one is H (one), etc. Is mentioned.

また、このような種々のAr1、R1、R2、R3の有機ホウ素アミン錯体化合物(1-A)のうちでは、含まれるフェニル基が低級アルキル基で置換されていてもよいトリフェニルボラン・ピリジン錯体、トリフェニルボラン・モノ、ジ、トリ低級アルキルアミン錯体等が好ましく、
具体的には、例えば、上記アルキル置換されていてもよいトリフェニルボラン・ピリジン錯体としては、トリフェニルボラン・ピリジン錯体、トリス(4−メチルフェニル)ボラン・ピリジン錯体などが挙げられる。
Of these various organic boron amine complex compounds (1-A) of Ar 1 , R 1 , R 2 and R 3 , the phenyl group contained may be substituted with a lower alkyl group. Borane / pyridine complex, triphenylborane / mono, di, tri-lower alkylamine complex, etc. are preferable,
Specific examples of the triphenylborane / pyridine complex which may be alkyl-substituted include a triphenylborane / pyridine complex and a tris (4-methylphenyl) borane / pyridine complex.

また、トリフェニルボラン・モノ、ジ、トリ低級アルキルアミン錯体としては、トリフェニルボラン・トリエチルアミン錯体、トリフェニルボラン・ジエチルアミン錯体、トリフェニルボラン・イソプロピルアミン錯体など)が挙げられる。
<有機ホウ素−アルカリ金属水酸化物付加体(1−B)>
Ar1 3B・WOH ・・・・・・・・・・(1−B)
[式(1−B)中、Ar1は前記と同じ意味を表し、Wは、ナトリウム、カリウムまた
はリチウムを表す。]
すなわち、式(1−B)中、複数個のAr1は、それぞれ独立にフェニル基、ナフチル基あるいはピリジル基を示し、かつ、これらの基はそれぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、上記各基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6である
Examples of the triphenylborane-mono, di, and tri-lower alkylamine complexes include triphenylborane / triethylamine complexes, triphenylborane / diethylamine complexes, and triphenylborane / isopropylamine complexes.
<Organic boron-alkali metal hydroxide adduct (1-B)>
Ar 1 3 B · WOH ·········· ( 1-B)
[In Formula (1-B), Ar 1 represents the same meaning as described above, and W represents sodium, potassium, or lithium. ]
That is, in the formula (1-B), a plurality of Ar 1 each independently represent a phenyl group, a naphthyl group or a pyridyl group, and these groups are each independently a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower group, It may be substituted with 1 to 5 substituents selected from an alkoxy group-containing lower alkyl group, a lower haloalkyl group, and a halogen atom, and a lower alkyl group moiety, a lower alkoxy group in each of the above groups Each part has 1 to 6 carbon atoms independently.

このような有機ホウ素-アルカリ金属水酸化物付加体(1-B)として、具体的には、例
えば、トリフェニルボラン水酸化ナトリウム付加体、トリフェニルボラン水酸化カリウム付加体、トリフェニルボラン水酸化リチウム付加体等が挙げられる。
<芳香族又は不飽和複素環化合物(2)>
Ar2X ・・・・・・・・・・(2)
[式(2)中、Ar2は、フェニル基、ナフチル基あるいはピリジル基を示し、かつ、
これらの基はそれぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含
有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、シアノ基およびニトロ基のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、上記各基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6である。
As such an organic boron-alkali metal hydroxide adduct (1-B), specifically, for example, triphenylborane sodium hydroxide adduct, triphenylborane potassium hydroxide adduct, triphenylborane hydroxide adduct Examples include lithium adducts.
<Aromatic or unsaturated heterocyclic compound (2)>
Ar 2 X (2)
[In the formula (2), Ar 2 represents a phenyl group, a naphthyl group or a pyridyl group, and
These groups are each independently a lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkoxy group-containing lower alkyl group, lower haloalkyl group, halogen atom, lower alkoxycarbonyl group, carboxy group, formyl group, lower alkylcarbonyl group, lower alkylsulfonyl group. Group, a cyano group and a nitro group may be substituted with 1 to 5 substituents, and the lower alkyl group moiety and the lower alkoxy group moiety in each of the above groups are each independently carbon. Formula 1-6.

Xは、ハロゲン原子、あるいは一般式(3)で表されるスルホニルオキシ基、
4SO2O− ・・・・・・・・・・・・・・・(3)
{式(3)中、R4は、炭素数1〜20の直鎖状または分岐状のアルキル基;炭素数2
〜20の直鎖状または分岐状のアルケニル基;炭素数2〜20の直鎖状または分岐状のアルキニル基;炭素数3〜20のシクロアルキル基;フェニル基;ナフチル基;アラルキル基;トリフルオロメチル基;およびペンタフルオロエチル基のうちの何れかの基を示し、
上記フェニル基、ナフチル基およびアラルキル基は、それぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、
上記置換基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6である。}、
または、一般式(4)で表されるアシルオキシ基を示す。
4COO− ・・・・・(4)
(式(4)中、R4は前記と同じ意味を示す。)]
このような芳香族化合物又は不飽和複素環化合物(化合物(2)、アリール化合物(2)ともいう)としては、具体的には、例えば、4−ブロモアニソール(4-bromo anisole,1-bromo-4-methoxy benzene)、4−ブロモトルエン、4-クロロヨードベンゼン、ブロモ
ベンゼン、4−クロロアセトフェノン(metyl-4-chloro-phenyl ketone)、2-トリフル
オロメタンスルホニルオキシナフタレン(2-trifluoromethanesulfonyloxynaphthalene)等の芳香族化合物;
3−ブロモピリジン等の不飽和複素環化合物等が挙げられる。
<ビアリール化合物(7)>
Ar1−Ar2 ・・・・・・・・・・・・・・・(7)
[式(7)中、Ar1、Ar2は前記と同じ意味を示す。]。
X is a halogen atom or a sulfonyloxy group represented by the general formula (3),
R 4 SO 2 O- (3)
{In Formula (3), R 4 is a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms;
-20 linear or branched alkenyl group; linear or branched alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms; cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group; aralkyl group; A methyl group; and any one of pentafluoroethyl groups;
The phenyl group, naphthyl group and aralkyl group are each independently 1 to 5 substituents selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy group-containing lower alkyl group, a lower haloalkyl group, and a halogen atom. May be substituted with a group,
The lower alkyl group part and the lower alkoxy group part in the substituent each independently have 1 to 6 carbon atoms. },
Or the acyloxy group represented by General formula (4) is shown.
R 4 COO- (4)
(In formula (4), R 4 has the same meaning as described above.)]
Specific examples of such aromatic compounds or unsaturated heterocyclic compounds (also referred to as compounds (2) and aryl compounds (2)) include, for example, 4-bromoanisole, 1-bromo- 4-methoxy benzene), 4-bromotoluene, 4-chloroiodobenzene, bromobenzene, 4-chloroacetophenone (metyl-4-chloro-phenyl ketone), 2-trifluoromethanesulfonyloxynaphthalene, etc. Group compounds;
And unsaturated heterocyclic compounds such as 3-bromopyridine.
<Biaryl compound (7)>
Ar 1 -Ar 2 (7)
[In the formula (7), Ar 1 and Ar 2 have the same meaning as described above. ].

このようなビアリール化合物(7)として、具体的には、4−メトキシビフェニル、4-
メチルビフェニル、4-アセチルビフェニル、2-フェニルナフタレン、4-クロロ-4’-
メチルビフェニル、3-フェニルピリジン、4-フルオロビフェニル、4−フェニル安息香酸、4−ホルミルビフェニル等が挙げられる。
As such a biaryl compound (7), specifically, 4-methoxybiphenyl, 4-
Methylbiphenyl, 4-acetylbiphenyl, 2-phenylnaphthalene, 4-chloro-4'-
Examples include methylbiphenyl, 3-phenylpyridine, 4-fluorobiphenyl, 4-phenylbenzoic acid, 4-formylbiphenyl, and the like.

なお、上記芳香族又は不飽和複素環化合物(2)として、3-ブロモピリジン(実施例
13参照)の如き、複素環化合物を用いると、化合物(7)として、芳香族-複素環化合
物が生成するが、このようなものも含めて、本発明ではビアリール化合物(7)と便宜的に総称している。これと同様に、上記芳香族化合物と不飽和複素環化合物(2)もまとめてアリール化合物(2)と便宜的に総称することがある。
<溶媒>
上記反応は、通常、溶媒中で行われる。
When a heterocyclic compound such as 3-bromopyridine (see Example 13) is used as the aromatic or unsaturated heterocyclic compound (2), an aromatic-heterocyclic compound is produced as the compound (7). However, in the present invention, including such compounds, the biaryl compound (7) is generically called for convenience. Similarly, the aromatic compound and the unsaturated heterocyclic compound (2) may be collectively referred to as an aryl compound (2) for convenience.
<Solvent>
The above reaction is usually performed in a solvent.

溶媒としては、水;あるいは、
メタノール、エタノール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ノルマルブチルアルコール、イソブチルアルコール、セカンダリーブチルアルコール、ターシャリーブチルアルコール、ノルマルペンチルアルコール、シクロペンチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロールなどのアルコール系溶媒;
ジエチルエーテル、ジノルマルブチルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、1,3−ジメトキシプロパン、テトラヒドロフランおよび1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶媒;
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒;
ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン、イソオクタン、シクロペンタン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒;
アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系溶媒;
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、N−メチルピロリドン(1-メチル-2-ピロリドン、N−メチル−2−
ピロリドン)などのアミド系溶媒;
ジメチルスルホキシド、スルホランなどのスルホキシド系溶媒;
あるいはこれらの混合溶媒が使用できる。
As a solvent, water; or
Alcohol solvents such as methanol, ethanol, normal propyl alcohol, isopropyl alcohol, normal butyl alcohol, isobutyl alcohol, secondary butyl alcohol, tertiary butyl alcohol, normal pentyl alcohol, cyclopentyl alcohol, cyclohexyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, glycerol;
Ether solvents such as diethyl ether, di-normal butyl ether, methyl tertiary butyl ether, 1,2-dimethoxyethane, 1,3-dimethoxypropane, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane;
Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene;
Hydrocarbon solvents such as normal hexane, normal heptane, isooctane, cyclopentane, cyclohexane;
Nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile;
N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-dimethylimidazolidinone, N-methylpyrrolidone (1-methyl-2-pyrrolidone, N-methyl-2-
Amide solvents such as pyrrolidone);
Sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane;
Or these mixed solvents can be used.

本発明では、好ましくは、水、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンおよびこれらの混合溶媒が使用される。なお、本発明で使用可能な溶媒は、これらに限られるものではない。   In the present invention, water, methanol, ethanol, normal propanol, isopropanol, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and a mixed solvent thereof are preferably used. In addition, the solvent which can be used by this invention is not restricted to these.

これら溶媒の添加量、特に限定されないが、該溶媒は、上記有機ホウ素アミン錯体化合物(1−A)1モルに対して、通常、0(不含)〜100倍モル程度の量で用いられる。<遷移金属系触媒、ホスフィン配位子>
遷移金属系触媒:
本発明で使用される遷移金属系触媒は、下記一般式(6)で表される。
MYnm ・・・・・・・・・・(6)
[式(6)中、Mは、0〜2価の原子価を持つニッケル、パラジウムまたはロジウム示し、Yは、ハロゲンイオン、硝酸イオンまたはアセトキシイオンを示し、nは、0〜2の整数を示し、mは0または1〜4の整数を示す。
Although the amount of these solvents to be added is not particularly limited, the solvent is usually used in an amount of about 0 (not included) to about 100 times mol per 1 mol of the organoboronamine complex compound (1-A). <Transition metal catalyst, phosphine ligand>
Transition metal catalysts:
The transition metal catalyst used in the present invention is represented by the following general formula (6).
MY n L m (6)
[In the formula (6), M represents nickel, palladium or rhodium having a valence of 0 to 2, Y represents a halogen ion, nitrate ion or acetoxy ion, and n represents an integer of 0 to 2. , M represents 0 or an integer of 1 to 4.

また、式(6)中、mが0以外の上記整数の場合、1〜複数個のLは、互いに独立して
、R567P、R89P(CH2)qPR1011、R12COCH2COR13、R14CN、
炭素数4から20で2重結合を2以上持つ直鎖状または環状のアルケン、またはR15COR16を示し、ここでR5〜R16は、互いに同一でも相異なっていてもよく、
炭素数1〜20の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基;炭素数2〜20の直鎖状あるいは分岐状のアルケニル基;炭素数2〜20の直鎖状あるいは分岐状のアルキニル基;炭素数3〜20のシクロアルキル基;フェニル基;ナフチル基およびアラルキル基のうちから選択される何れかの基を示し、
上記フェニル基、ナフチル基およびアラルキル基は、それぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、
上記アルケニル基は、フェニル基で置換されていてもよく、また、
上記置換基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6であり、qは、1〜10の整数を示す。]
この遷移金属系触媒(6)は、式(6)中で、m=0の場合は、下記式(5−A)で表すことができる。
MYn ・・・・・・・・・・(5−A)
[式(5−A)中、Mは、0〜2価の原子価を持つニッケル、パラジウムまたはロジウム示し、Yは、ハロゲンイオン、硝酸イオンまたはアセトキシイオンを示し、nは、0〜2の整数を示す。]
上記遷移金属系触媒(6)(あるいは(5−A))のうちで、(式(6)中、n=0、m=0に相当する。)、金属触媒Mとしては、上記したものが挙げられ、主にパラジウム、ニッケル、ロジウムなどが使用される。
In the formula (6), when m is an integer other than 0, 1 to a plurality of Ls are independently of each other R 5 R 6 R 7 P, R 8 R 9 P (CH 2 ) qPR 10. R 11 , R 12 COCH 2 COR 13 , R 14 CN,
A linear or cyclic alkene having 4 to 20 carbon atoms and two or more double bonds, or R 15 COR 16 , wherein R 5 to R 16 may be the same as or different from each other;
A linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; a linear or branched alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms; a linear or branched alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms; 3 to 20 cycloalkyl groups; a phenyl group; any group selected from a naphthyl group and an aralkyl group;
The phenyl group, naphthyl group and aralkyl group are each independently 1 to 5 substituents selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy group-containing lower alkyl group, a lower haloalkyl group, and a halogen atom. May be substituted with a group,
The alkenyl group may be substituted with a phenyl group,
The lower alkyl group part and the lower alkoxy group part in the substituent each independently have 1 to 6 carbon atoms, and q represents an integer of 1 to 10. ]
This transition metal catalyst (6) can be represented by the following formula (5-A) when m = 0 in formula (6).
MY n (5-A)
[In the formula (5-A), M represents nickel, palladium or rhodium having a valence of 0 to 2, Y represents a halogen ion, nitrate ion or acetoxy ion, and n is an integer of 0 to 2. Indicates. ]
Among the transition metal-based catalysts (6) (or (5-A)) (corresponding to n = 0 and m = 0 in the formula (6)), the metal catalyst M is as described above. Palladium, nickel, rhodium, etc. are mainly used.

また、遷移金属系触媒(6)としては、m=0であり、特に式(5−A)で示される、塩化パラジウム(II)、酢酸パラジウム(II)、硝酸パラジウム(II)、塩化ニッケル(II)、酢酸ニッケル(II)、硝酸ニッケル(II)、塩化ロジウム(III)などの塩が挙げ
られるが、好ましくは、塩化パラジウム(II)、酢酸パラジウム(II)などのパラジウム塩が用いられる。
Further, as the transition metal catalyst (6), m = 0, in particular, palladium (II) chloride, palladium (II) acetate, palladium (II) nitrate, nickel chloride (N) represented by the formula (5-A) II), nickel acetate (II), nickel nitrate (II), rhodium chloride (III), and the like are mentioned. Palladium salts such as palladium chloride (II) and palladium (II) acetate are preferably used.

また、上記遷移金属系触媒(6)が金属錯体触媒である場合、このような遷移金属錯体としては、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス(アセチルアセ
トナト)パラジウム(II)、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)、ビスベン
ゾニトリルジクロロパラジウム(II)、ビス(ベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、ト
リス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、ジクロロ[1,1'-ビス(ジフェニルホ
スフィノ)フェロセン]パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム(II)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジアセテート、ジクロロ(1,5−シクロオクタジエン)パラジウム(II)、ジクロロ[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタ
ン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]パラジ
ウム(II)、ジクロロ[1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン]パラジウム(II)などが挙げられる。
When the transition metal catalyst (6) is a metal complex catalyst, such transition metal complexes include tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), bis (acetylacetonato) palladium (II), dichlorobis (Acetonitrile) palladium (II), bisbenzonitriledichloropalladium (II), bis (benzylideneacetone) palladium (0), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), dichloro [1,1'-bis (diphenylphosphine) Fino) ferrocene] palladium (II), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II), dichlorobis (tricyclohexylphosphine) palladium (II), bis (triphenylphosphine) palladium (II) diacetate, dichloro (1,5- Cyclooctadiene) palladium (II), dichloro [1,2 Bis (diphenylphosphino) ethane] palladium (II), dichloro [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] palladium (II), dichloro [1,4-bis (diphenylphosphino) butane] palladium (II) Etc.

該触媒の使用量は、基質である一般式(2)(式中、Ar1、X、R4等は、前記と同じ意味を有する。)で表される芳香族又は不飽和複素環化合物に対して0.00001〜50モル%の間で選択されるが、好ましくは0.0001〜5モル%である。
配位子:
また、遷移金属系触媒(6)、特に金属触媒に添加して使用される配位子としては、
トリフェニルホスフィン、トリターシャリーブチルホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,1'−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセンなどのホスフィン配
位子類;
アセチルアセトン、ジベンジリデンアセトンなどのジケトン類;
ブタジエン、シクロオクタジエンなどのジエン類;
が挙げられる。これら配位子は、1種または2種以上組合わせて用いてもよい。
The catalyst is used in an aromatic or unsaturated heterocyclic compound represented by the general formula (2) as a substrate (wherein Ar 1 , X, R 4 and the like have the same meaning as described above). On the other hand, it is selected between 0.00001 and 50 mol%, preferably 0.0001 to 5 mol%.
Ligand:
Moreover, as a transition metal catalyst (6), especially as a ligand used by adding to a metal catalyst,
Triphenylphosphine, tritertiary butylphosphine, tricyclopentylphosphine, tricyclohexylphosphine, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (diphenylphosphine) Phosphine ligands such as fino) butane, 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene;
Diketones such as acetylacetone and dibenzylideneacetone;
Dienes such as butadiene and cyclooctadiene;
Is mentioned. These ligands may be used alone or in combination of two or more.

本発明では、これら配位子のうちでは、好ましくはトリフェニルホスフィン、トリターシャリーブチルホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンなどのホスフィン配位子が望ましい。   In the present invention, among these ligands, phosphine ligands such as triphenylphosphine, tritertiary butylphosphine, tricyclopentylphosphine, and tricyclohexylphosphine are preferable.

これら配位子の添加量は、使用する金属触媒に対し0.1〜10倍モルの範囲で使用できるが、好ましくは、1〜6倍の範囲である。
<塩基>
本発明においては、上記遷移金属系触媒(単に、「触媒」ともいう。)と共に、好適には塩基が使用(併用)されるが、
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、燐酸一ナトリウム、燐酸二ナトリウム、燐酸三ナトリウム、燐酸一カリウム、燐酸二カリウム、燐酸三カリウム、燐酸水素ナトリウム、燐酸水素二ナトリウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、炭酸セシウムなどの無機塩基類;
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムノルマルプロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムターシャリー
ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類;
アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、アニリン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリノルマルブチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン等の(鎖状)アミン類;
ピロリジン、ピペリジン、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジン、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノナ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ−7−エン等の環状アミン類;
ピリジン、キノリン、2−メチルピリジン、2,6−ルチジン、4−ジメチルアミノピリジン、コリジン等の複素環アミン類;
等が挙げられる。本発明では、これらの塩基を1種または2種以上組み合わせて使用することもできる。
Although the addition amount of these ligands can be used in the range of 0.1 to 10 times the molar amount of the metal catalyst to be used, it is preferably in the range of 1 to 6 times.
<Base>
In the present invention, a base is preferably used (combined) together with the transition metal catalyst (also simply referred to as “catalyst”).
Bases include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, barium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, monosodium phosphate, disodium phosphate, trisodium phosphate, monopotassium phosphate, Inorganic bases such as dipotassium phosphate, tripotassium phosphate, sodium hydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, sodium fluoride, potassium fluoride, cesium fluoride, cesium carbonate;
Alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium normal propoxide, sodium isopropoxide, sodium tertiary butoxide, potassium tertiary butoxide;
(Chain) amines such as ammonia, methylamine, ethylamine, aniline, dimethylamine, diethylamine, diisopropylamine, diisopropylethylamine, trimethylamine, triethylamine, trinormalbutylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline;
Pyrrolidine, piperidine, N-methylpyrrolidine, N-methylpiperidine, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene, etc. Cyclic amines of
Heterocyclic amines such as pyridine, quinoline, 2-methylpyridine, 2,6-lutidine, 4-dimethylaminopyridine, collidine;
Etc. In the present invention, these bases can be used alone or in combination.

これらの塩基のうちでは上記無機塩基類が好ましく、特に、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、燐酸三カリウムが望ましい。
塩基の使用量は、通常、特に限定されないが、反応速度、収率、経済性等の点を考慮して、アリール化合物(2)1モルに対して、0.5〜100モル程度の量で用いられる。<原料ホウ素アミン錯体化合物および原料有機ホウ素−アルカリ金属水酸化物付加体の合成法>
なお、本発明において、上記ビアリール化合物(7)の合成反応に使用される有機ホウ素アミン錯体化合物(1−A)(ホウ素アミン錯体化合物)、および有機ホウ素−アルカ
リ金属水酸化物付加体(1−B)のうちで、有機ホウ素−アルカリ金属水酸化物付加体(
1−B)、例えば、トリフェニルホウ素−水酸化ナトリウム付加体は、特公昭62−32
197号公報等に記載されているように、1モルのオルトホウ酸イソプロピルに対し3モルのフェニルナトリウムをシクロヘキサン溶媒中で反応させてトリフェニルボランナトリウムイソプロポキシドとした後、水と反応させ加水分解し、更に共沸にてアルコールを除去することにより、トリフェニルホウ素−水酸化ナトリウム付加体水溶液を容易に製造することができる。
Among these bases, the above inorganic bases are preferable, and sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, and tripotassium phosphate are particularly preferable.
The amount of the base used is usually not particularly limited, but in consideration of the reaction rate, yield, economy and the like, it is an amount of about 0.5 to 100 mol with respect to 1 mol of the aryl compound (2). Used. <Synthesis of raw material boron amine complex compound and raw material organic boron-alkali metal hydroxide adduct>
In the present invention, the organic boron amine complex compound (1-A) (boron amine complex compound) used for the synthesis reaction of the biaryl compound (7) and the organic boron-alkali metal hydroxide adduct (1- B), an organic boron-alkali metal hydroxide adduct (
1-B), for example, a triphenyl boron-sodium hydroxide adduct is disclosed in JP-B-62-32.
As described in Japanese Patent No. 197, etc., 1 mol of isopropyl orthoborate is reacted with 3 mol of phenyl sodium in a cyclohexane solvent to obtain triphenylborane sodium isopropoxide, followed by hydrolysis with water. Further, by removing the alcohol by azeotropic distillation, an aqueous triphenylboron-sodium hydroxide adduct solution can be easily produced.

また、ホウ素アミン錯体化合物(1−A)は、ベリヒテ(Berichte)第57B
巻、813頁(1924年)にトリフェニルボラン無水エーテル溶液とメチルアミン、エチルアミン、ノルマルプロピルアミンおよびピリジン等のアミンを反応させることにより種々のトリフェニルボラン・アミン錯体が合成できることが報告されており、この公報の記載に準じて調製すればよい。さらに、特開平8−311074号公報には、トリフェニルボラン水酸化ナトリウム付加体、またはトリフェニルボラン水酸化カリウム付加体を水溶液中で各種アミンと反応させることにより、各種トリフェニルボラン・アミン錯体を収率良く合成できることが報告されており、この公報の記載に準じて調製してもよい。従って、これらの原料化合物(1−A)、(1−B)は、何れも、上記した公知もしくは公知の方法に準じた方法により容易に合成することができる。
Further, the boron amine complex compound (1-A) is a Berichte 57B.
Vol. 813 (1924) reports that various triphenylborane-amine complexes can be synthesized by reacting anhydrous triphenylborane ether solution with amines such as methylamine, ethylamine, normalpropylamine and pyridine. It may be prepared according to the description in this publication. Further, JP-A-8-311074 discloses various triphenylborane-amine complexes by reacting a triphenylborane sodium hydroxide adduct or triphenylborane potassium hydroxide adduct with various amines in an aqueous solution. It has been reported that it can be synthesized with good yield, and may be prepared according to the description in this publication. Therefore, any of these raw material compounds (1-A) and (1-B) can be easily synthesized by a method according to the above-mentioned known or known methods.

[実施例]
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。(なお、製造された各化合物(7)の構造は、1H−NMR、IR、Mass、文献
値等により確認した。)
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, this invention is not limited to the following Example. (The structure of each compound (7) produced was confirmed by 1 H-NMR, IR, Mass, literature values, etc.)

[実施例1] 4-メトキシビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、窒素置換した300mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボランピリジン錯体12.8g(0.04mol)、炭酸水素ナトリウム12.6g(0.15mol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)0.7g(0.001mol)、水100g、テトラヒドロフラン43gおよび4−
ブロモアニソール18.7g(0.1mol)を量り取り、攪拌下に2時間加熱還流を行った。有機層をガスクロマトグラフィーにて分析し、4−ブロモアニソールの消失を確認して反応を終了した。反応終了後、トルエン100mlを加えて分液し、得られた有機層を水100mlで洗浄した。有機層のトルエンを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 n−ヘキサン:酢酸エチル=50:1)にて精製を行い、無色の結晶16.8gを得た。その融点は、83−84℃を示し、収率は、4−ブロモアニソールを基準とし、91.2%であった。核磁気共鳴スペクトル(NMR)を測定し、4−メトキシビフェニルであることが確認された。
[Example 1] Production of 4-methoxybiphenyl A 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a refluxer and purged with nitrogen was charged with 12.8 g (0.04 mol) of triphenylboranepyridine complex, sodium hydrogen carbonate. 12.6 g (0.15 mol), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II) 0.7 g (0.001 mol), water 100 g, tetrahydrofuran 43 g and 4-
18.7 g (0.1 mol) of bromoanisole was weighed and heated to reflux with stirring for 2 hours. The organic layer was analyzed by gas chromatography to confirm the disappearance of 4-bromoanisole and complete the reaction. After completion of the reaction, 100 ml of toluene was added for liquid separation, and the obtained organic layer was washed with 100 ml of water. After toluene in the organic layer was distilled off under reduced pressure, purification was performed by silica gel column chromatography (developing solvent: n-hexane: ethyl acetate = 50: 1) to obtain 16.8 g of colorless crystals. Its melting point was 83-84 ° C., and the yield was 91.2% based on 4-bromoanisole. The nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) was measured and confirmed to be 4-methoxybiphenyl.

1H−NMRスペクトル(δ in CDCl3):
7.55−6.96(m,9H)、
3.86(s,3H)
1 H-NMR spectrum (δ in CDCl 3 ):
7.55-6.96 (m, 9H),
3.86 (s, 3H)

[実施例2] 4-メトキシビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、窒素置換した200mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボラントリエチルアミン錯体6.87g(0.02mol)、炭酸水素ナトリウム6.3g(0.075mol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)0.35g(0.5mmol)、水50g、テトラヒドロフラン22gおよび4−ブロモアニソール9.4g(0.05mol)を量り取り、攪拌下に2時間加熱還流を行った。有機層をガスクロマトグラフィーにて分析し、4−ブロモアニソールの消失を確認して反応を終了した。反応終了後、トルエン80mlを加えて分液し、得られた有機層を水80mlで洗浄した。有機層のトルエンを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 n−ヘキサン:酢酸エチル=50:1)にて精製を行い、標記化合物を無色の結晶として7.92g得た。その融点は、83−84℃を示し、収率は、4−ブロモアニソールを基準とし、86.0%であった。ノルマルヘキサン−トルエン混合溶媒から再結晶化すると融点83−84℃を示した。その構造は、実施例1と同様にして1H−NMRにて確認した。
[Example 2] Production of 4-methoxybiphenyl A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a refluxer and purged with nitrogen was charged with 6.87 g (0.02 mol) of triphenylborane triethylamine complex, sodium hydrogen carbonate. 6.3 g (0.075 mol), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II) 0.35 g (0.5 mmol), water 50 g, tetrahydrofuran 22 g and 4-bromoanisole 9.4 g (0.05 mol) were weighed, The mixture was heated under reflux for 2 hours with stirring. The organic layer was analyzed by gas chromatography to confirm the disappearance of 4-bromoanisole and complete the reaction. After completion of the reaction, 80 ml of toluene was added for liquid separation, and the resulting organic layer was washed with 80 ml of water. After toluene in the organic layer was distilled off under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent n-hexane: ethyl acetate = 50: 1) to obtain 7.92 g of the title compound as colorless crystals. Its melting point was 83-84 ° C., and the yield was 86.0% based on 4-bromoanisole. Recrystallization from a normal hexane-toluene mixed solvent showed a melting point of 83-84 ° C. The structure was confirmed by 1 H-NMR in the same manner as in Example 1.

[実施例3] 4-メトキシビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、窒素置換した100mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボランジエチルアミン錯体3.2g(0.01mol)、炭酸水素ナトリウム3.2g(0.038mol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)0.18g(0.25mmol)、水25g、テトラヒドロフラン11gおよび4−ブロモアニソール4.7g(0.025mol)を量り取り、攪拌下に2時間加熱還流を行った。有機層をガスクロマトグラフィーにて分析し、4−ブロモアニソールの消失を確認して反応を終了した。反応終了後、トルエン50mlを加えて分液し、得られた有機層を水50mlで洗浄した。有機層のトルエンを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 n−ヘキサン:酢酸エチル=50:1)にて精製を行い、標記化合物を無色の結晶として3.87g得た。その融点は、83−84℃を示し、収率は、4−ブロモアニソールを基準とし、84.0%であった。ノルマルヘキサン−トルエン混合溶媒から再結晶化すると融点83−84℃を示した。その構造は、実施例1と同様にして1H−NMRにて確認した。
[Example 3] Production of 4-methoxybiphenyl A stirrer, a thermometer, and a reflux condenser were attached, and a nitrogen-substituted 100 ml four-necked flask was charged with 3.2 g (0.01 mol) of triphenylborane diethylamine complex, sodium hydrogen carbonate. Weigh out 3.2 g (0.038 mol), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II) 0.18 g (0.25 mmol), water 25 g, tetrahydrofuran 11 g and 4-bromoanisole 4.7 g (0.025 mol), The mixture was heated under reflux for 2 hours with stirring. The organic layer was analyzed by gas chromatography to confirm the disappearance of 4-bromoanisole and complete the reaction. After completion of the reaction, 50 ml of toluene was added for liquid separation, and the obtained organic layer was washed with 50 ml of water. After toluene in the organic layer was distilled off under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent n-hexane: ethyl acetate = 50: 1) to obtain 3.87 g of the title compound as colorless crystals. Its melting point was 83-84 ° C., and the yield was 84.0% based on 4-bromoanisole. Recrystallization from a normal hexane-toluene mixed solvent showed a melting point of 83-84 ° C. The structure was confirmed by 1 H-NMR in the same manner as in Example 1.

[実施例4] 4-メトキシビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、窒素置換した100mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボランイソプロピルアミン錯体3.0g(0.01mol)、炭酸水素ナトリウム3.2g(0.038mol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)0.18g(0.25mmol)、水25g、テトラヒドロフラン11gおよび4−ブロモアニソール4.7g(0.025mol)を量り取り、攪拌下に2時間加熱還流を行った。有機層をガスクロマトグラフィーにて分析し、4−ブロモアニソール
の消失を確認して反応を終了した。反応終了後、トルエン50mlを加えて分液し、得られた有機層を水50mlで洗浄した。有機層のトルエンを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 n−ヘキサン:酢酸エチル=50:1)にて精製を行い、標記化合物を無色の結晶として3.82g得た。その構造は、実施例1と同様にして1H−NMRにて確認した。その収率は、4−ブロモアニソールを基準とし、83.0%で
あった。さらに、ノルマルヘキサン−トルエン混合溶媒から再結晶化すると融点83−84℃を示した。
[Example 4] Production of 4-methoxybiphenyl A stirrer, a thermometer and a reflux condenser were attached, and a nitrogen-substituted 100 ml four-necked flask was charged with 3.0 g (0.01 mol) of triphenylborane isopropylamine complex, hydrogen carbonate. Weigh out 3.2 g (0.038 mol) of sodium, 0.18 g (0.25 mmol) of dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II), 25 g of water, 11 g of tetrahydrofuran and 4.7 g (0.025 mol) of 4-bromoanisole. The mixture was heated under reflux for 2 hours with stirring. The organic layer was analyzed by gas chromatography to confirm the disappearance of 4-bromoanisole and complete the reaction. After completion of the reaction, 50 ml of toluene was added for liquid separation, and the obtained organic layer was washed with 50 ml of water. After toluene in the organic layer was distilled off under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent n-hexane: ethyl acetate = 50: 1) to obtain 3.82 g of the title compound as colorless crystals. The structure was confirmed by 1 H-NMR in the same manner as in Example 1. The yield was 83.0% based on 4-bromoanisole. Furthermore, recrystallization from a normal hexane-toluene mixed solvent showed a melting point of 83-84 ° C.

[実施例5] 4−メチルビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、窒素置換した300mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボランピリジン錯体4.3g(0.014mol)、炭酸ナトリウム7.95g(0.075mol)、塩化パラジウム0.133g(0.75mmol)、水25ml、N,N-ジメチルホルムアミド100ml、4−ブロモトルエン4.28g(0.025mol)を量り取り、室温下に攪拌を行った。攪拌を継続しながら、さらに110℃で3時間加熱を行った。反応液をガスクロマトグラフィーにて分析し、4−ブロモトルエンの消失を確認して反応を終了した。ろ過により不溶物を除去した後、トルエン50mlを加え、母液を分液し、得られた有機層を水50mlで洗浄した。トルエンを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=100:1)にて精製を行い、4−メチルビフェニル3.41gを白色固体として得た。その収率は4−ブロモトルエンを基
準とし、81.2%であった。n−ヘキサンから再結晶化すると融点44−47℃を示した。
[Example 5] Production of 4-methylbiphenyl A 300-ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a refluxer and purged with nitrogen was charged with 4.3 g (0.014 mol) of triphenylboranepyridine complex, sodium carbonate 7 .95 g (0.075 mol), palladium chloride 0.133 g (0.75 mmol), water 25 ml, N, N-dimethylformamide 100 ml, 4-bromotoluene 4.28 g (0.025 mol) were weighed and stirred at room temperature. Went. While stirring was continued, heating was further performed at 110 ° C. for 3 hours. The reaction solution was analyzed by gas chromatography, and disappearance of 4-bromotoluene was confirmed to complete the reaction. After removing insolubles by filtration, 50 ml of toluene was added, the mother liquor was separated, and the resulting organic layer was washed with 50 ml of water. After toluene was distilled off under reduced pressure, purification was performed by silica gel column chromatography (developing solvent: n-hexane: ethyl acetate = 100: 1) to obtain 3.41 g of 4-methylbiphenyl as a white solid. The yield was 81.2% based on 4-bromotoluene. Recrystallization from n-hexane showed a melting point of 44-47 ° C.

[実施例6] 2,5−ジメチルビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、窒素置換した100mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボランピリジン錯体4.3g(0.014mol)、炭酸ナトリウム7.95g(0.075mol)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)0.18g(0
.25mmol)、水25ml、N,N-ジメチルホルムアミド100ml、1,3−ジメチル−6−
ブロモベンゼン4.63g(0.025mol)を量り取り、室温下に攪拌を行った。攪拌を継続しながら、さらに110℃で3時間加熱を行った。反応液をガスクロマトグラフィーにて分析し、1,3−ジメチル−6−ブロモベンゼンの消失を確認して反応を終了した。ろ過により不溶物を除去した後、トルエン50mlを加え、母液を分液し、得られた有機層を水50mlで洗浄した。トルエンを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=100:1)にて精製を行い、2,5−ジメチルビフェニル3.42gを飴状物として得た。収率は1,3−ジメチル−6−ブロモベ
ンゼンを基準とし、75.2%であった。核磁気共鳴スペクトル(NMR)を測定し、2,5−ジメチルビフェニルであることが確認された。
[Example 6] Production of 2,5-dimethylbiphenyl A stirrer, a thermometer and a reflux condenser were attached, and into a 100 ml four-necked flask purged with nitrogen, 4.3 g (0.014 mol) of triphenylboranepyridine complex, carbonic acid Sodium 7.95 g (0.075 mol), dichlorobistriphenylphosphine palladium (II) 0.18 g (0
. 25 mmol), water 25 ml, N, N-dimethylformamide 100 ml, 1,3-dimethyl-6
4.63 g (0.025 mol) of bromobenzene was weighed and stirred at room temperature. While stirring was continued, heating was further performed at 110 ° C. for 3 hours. The reaction solution was analyzed by gas chromatography, and disappearance of 1,3-dimethyl-6-bromobenzene was confirmed to complete the reaction. After removing insolubles by filtration, 50 ml of toluene was added, the mother liquor was separated, and the resulting organic layer was washed with 50 ml of water. After toluene was distilled off under reduced pressure, purification was performed by silica gel column chromatography (developing solvent: n-hexane: ethyl acetate = 100: 1) to obtain 3.42 g of 2,5-dimethylbiphenyl as a rod-like substance. The yield was 75.2% based on 1,3-dimethyl-6-bromobenzene. The nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) was measured and confirmed to be 2,5-dimethylbiphenyl.

1H−NMRスペクトル(δ in CDCl3):
7.40−7.00(m,8H)、
2.34(s,3H)、
2.22(s,3H)
1 H-NMR spectrum (δ in CDCl 3 ):
7.40-7.00 (m, 8H),
2.34 (s, 3H),
2.22 (s, 3H)

[実施例7] 2−シアノ−4'−メチルビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、窒素置換した100mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボランピリジン錯体4.3g(0.014mol)、炭酸ナトリウム4.7g(0.045mol)、塩化パラジウム0.133g(0.75mmol)、トリシクロヘキシルホスフィン0.53g(1.87mmol)、1-メチル−2−ピロリドン30mlおよび2−ブロモベ
ンゾニトリル4.5g(0.025mol)を量り取り、室温下に攪拌を行った。攪拌を継続しながら、さらに120℃で8時間加熱を行った。反応液をガスクロマトグラフィーにて分析し、2−ブロモベンゾニトリルの消失を確認して反応を終了した。ろ過により不溶物を
除去した後、トルエン50mlを加え、母液を分液し、得られた有機層を水50mlで洗浄した。トルエンを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=100:1)にて精製を行い、2−シアノ−4'−メチルビフ
ェニル3.72gを白色固体として得た。その収率は、2−ブロモベンゾニトリルを基準
とし、77.0%であった。ノルマルヘキサンから再結晶化すると融点50−53℃を示した。
[Example 7] Production of 2-cyano-4'-methylbiphenyl A 100 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a refluxer and purged with nitrogen was charged with 4.3 g of a triphenylborane pyridine complex. (0.014 mol), sodium carbonate 4.7 g (0.045 mol), palladium chloride 0.133 g (0.75 mmol), tricyclohexylphosphine 0.53 g (1.87 mmol), 1-methyl-2-pyrrolidone 30 ml and 2 -4.5 g (0.025 mol) of bromobenzonitrile was weighed and stirred at room temperature. While stirring was continued, heating was further performed at 120 ° C. for 8 hours. The reaction solution was analyzed by gas chromatography, and disappearance of 2-bromobenzonitrile was confirmed to complete the reaction. After removing insolubles by filtration, 50 ml of toluene was added, the mother liquor was separated, and the resulting organic layer was washed with 50 ml of water. After distilling off toluene under reduced pressure, purification was performed by silica gel column chromatography (developing solvent: n-hexane: ethyl acetate = 100: 1) to obtain 3.72 g of 2-cyano-4′-methylbiphenyl as a white solid. It was. The yield was 77.0% based on 2-bromobenzonitrile. Recrystallization from normal hexane showed a melting point of 50-53 ° C.

[実施例8] 4−アセチルビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、充分に窒素置換した100mlの4ツ口フラスコにトリフェニルボランピリジン錯体0.82g(2.6mmol)、1,3−ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)プロパン0.26g(0.64mmol)、炭酸カリウム1.8g(13mmol)、酢酸パラジウム72mg(0.32mmol)、水2ml、1-メチル-2-ピロリドン40ml、4
−クロロアセトフェノン0.99g(6.4mmol)を量り取り、攪拌を行った。攪拌を継続
しながら、80℃で5時間加熱した。反応液を少量取り、トルエンで希釈し、有機層をガスクロマトグラフィーにて分析することにより、反応が進行しなくなったのを確認し、反応を終了した。反応終了後、トルエン20mlを加えて分液し、得られた有機層を水50mlで洗浄した。有機層のトルエンを減圧下に留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=50:1)にて精製を行い、標記化合物を無色の固体として0.89g得た(収率は4−クロロアセトフェノンを基準とし、71%)。
該固体をn−ヘキサンから再結晶化すると、融点114−116℃を示した。
[Example 8] Preparation of 4-acetylbiphenyl A stirrer, a thermometer and a reflux condenser were attached, and 0.82 g (2.6 mmol) of triphenylboranepyridine complex was added to a 100 ml four-necked flask thoroughly purged with nitrogen, 3-bis (diphenylphosphino) propane 0.26 g (0.64 mmol), potassium carbonate 1.8 g (13 mmol), palladium acetate 72 mg (0.32 mmol), water 2 ml, 1-methyl-2-pyrrolidone 40 ml, 4
-0.99 g (6.4 mmol) of chloroacetophenone was weighed out and stirred. While stirring, the mixture was heated at 80 ° C. for 5 hours. A small amount of the reaction solution was taken, diluted with toluene, and the organic layer was analyzed by gas chromatography to confirm that the reaction did not proceed and the reaction was terminated. After completion of the reaction, 20 ml of toluene was added for liquid separation, and the resulting organic layer was washed with 50 ml of water. After toluene in the organic layer was distilled off under reduced pressure, purification was performed by silica gel column chromatography (developing solvent: n-hexane: ethyl acetate = 50: 1) to obtain 0.89 g of the title compound as a colorless solid. (Yield is 71% based on 4-chloroacetophenone).
The solid was recrystallized from n-hexane and showed a melting point of 114-116 ° C.

[実施例9] 2−フェニルナフタレンの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、充分に窒素置換した300mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボランピリジン錯体2.79g(0.009mol)、炭酸ナトリウム7.95g(0.075mol)、塩化パラジウム0.133g(0.75mmol)、水25ml、N,N-ジメチルホルムアミド100ml、2−トリフルオロメタンスルホニルオキシナフタレン6.90g(0.025mol)を量り取り、攪拌を行った。攪拌を継続しながら、120℃で3時間加熱を行った。反応液を少量取り、トルエンで希釈し、有機層をガスクロマトグラフィーにて分析することにより、2−トリフルオロメタンスルホニルオキシナフタレンの消失を確認し、反応を終了した。ろ過により不溶物を除去した後、トルエン50mlを加え、母液を分液し、得られた有機層を水50mlで洗浄した。有機層のトルエンを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=50:1)にて精製を行い、2−フェニルナフタレン4.34gを無色の油状物として得た
(収率85.0%、2−トリフルオロメタンスルホニルオキシナフタレン基準)。
その構造は、以下の機器データにより確認した。
Massスペクトル:m/e 204(bp),101
IR (cm-):3070、1603、1578、
[Example 9] Production of 2-phenylnaphthalene A stirrer, a thermometer, and a reflux condenser were attached, and 2.79 g (0.009 mol) of triphenylboranepyridine complex, carbonic acid was added to a 300 ml four-necked flask thoroughly purged with nitrogen. 7.95 g (0.075 mol) of sodium, 0.133 g (0.75 mmol) of palladium chloride, 25 ml of water, 100 ml of N, N-dimethylformamide, 6.90 g (0.025 mol) of 2-trifluoromethanesulfonyloxynaphthalene are weighed out. Stirring was performed. Heating was performed at 120 ° C. for 3 hours while stirring was continued. A small amount of the reaction solution was taken, diluted with toluene, and the organic layer was analyzed by gas chromatography to confirm the disappearance of 2-trifluoromethanesulfonyloxynaphthalene and complete the reaction. After removing insolubles by filtration, 50 ml of toluene was added, the mother liquor was separated, and the resulting organic layer was washed with 50 ml of water. After toluene in the organic layer was distilled off under reduced pressure, purification was performed by silica gel column chromatography (developing solvent: n-hexane: ethyl acetate = 50: 1) to obtain 4.34 g of 2-phenylnaphthalene as a colorless oil. (Yield: 85.0%, based on 2-trifluoromethanesulfonyloxynaphthalene).
The structure was confirmed by the following instrument data.
Mass spectrum: m / e 204 (bp), 101
IR (cm ): 3070, 1603, 1578,

[実施例10] 4−クロロ−4’−メチルビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、充分に窒素置換した300mlの4ツ口フラスコに、トリス(4−メチルフェニル)ボランピリジン錯体3.6g(0.01mol)、炭酸ナトリウム7.9g(0.075mol)、酢酸パラジウム0.168g(0.75mmol)、水60ml、イソプロピルアルコール60mlおよび4−クロロヨードベンゼン6.0g(0.025mol)を量り取り、攪拌を行った。攪拌を継続しながら、80℃で5時間加熱を行った。反応液を少量取り、トルエンで希釈し、有機層をガスクロマトグラフィーにて分析することにより、4−クロロヨードベンゼンの消失を確認し、反応を終了した。減圧下に反応液を濃縮後、トルエン80mlを加え、ろ過により不溶物を除去した後、母液を分液し、得られた有機層を水50mlで洗浄した。有機層のトルエンを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=50:1)にて精製を
行い、4−クロロ−4’−メチルビフェニル4.05gを白色固体として得た。その収率
は、4−クロロヨードベンゼンを基準とし、90.0%であった。該固体は、n−ヘキサン−トルエン混合溶媒から再結晶すると融点75−77℃を示した。
[Example 10] Production of 4-chloro-4'-methylbiphenyl A tris (4-methylphenyl) boranepyridine complex was placed in a 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a refluxer, and sufficiently purged with nitrogen. 3.6 g (0.01 mol), sodium carbonate 7.9 g (0.075 mol), palladium acetate 0.168 g (0.75 mmol), water 60 ml, isopropyl alcohol 60 ml and 4-chloroiodobenzene 6.0 g (0.025 mol) ) Was weighed and stirred. While stirring was continued, heating was performed at 80 ° C. for 5 hours. A small amount of the reaction solution was taken, diluted with toluene, and the organic layer was analyzed by gas chromatography to confirm the disappearance of 4-chloroiodobenzene, and the reaction was completed. After concentrating the reaction solution under reduced pressure, 80 ml of toluene was added, insoluble materials were removed by filtration, the mother liquor was separated, and the resulting organic layer was washed with 50 ml of water. After toluene in the organic layer was distilled off under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: n-hexane: ethyl acetate = 50: 1) to give 4.05 g of 4-chloro-4′-methylbiphenyl as white. Obtained as a solid. The yield was 90.0% based on 4-chloroiodobenzene. The solid showed a melting point of 75-77 ° C. when recrystallized from a mixed solvent of n-hexane-toluene.

[実施例11] ビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、充分に窒素置換した300mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボランピリジン錯体6.12g(0.02mol)、燐酸三カリウム31.8g(0.15mol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) 0.69g(0.75mmol)、ジオキサン120mlおよびブロモベンゼン7.85g(0.05mol)を量り
取り、攪拌を行った。攪拌を継続しながら、80℃で5時間加熱を行った。反応液を少量取り、トルエンで希釈し、有機層をガスクロマトグラフィーにて分析することにより、ブロモベンゼンの消失を確認し、反応を終了した。減圧下に反応液を濃縮後、トルエン80mlを加え、ろ過により不溶物を除去した後、母液を分液し、得られた有機層を水50mlで洗浄した。有機層のトルエンを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=50:1)にて精製を行い、ビフェニル6.72gを白色固体として得た。その収率は、ブロモベンゼンを基準とし、87.1%であっ
た。n−ヘキサン−トルエン混合溶媒から再結晶すると融点68−72℃を示した。
[Example 11] Production of biphenyl A 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a refluxer and sufficiently purged with nitrogen was charged with 6.12 g (0.02 mol) of triphenylboranepyridine complex, tripotassium phosphate 31 0.8 g (0.15 mol), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) 0.69 g (0.75 mmol), dioxane 120 ml and bromobenzene 7.85 g (0.05 mol) were weighed and stirred. While stirring was continued, heating was performed at 80 ° C. for 5 hours. A small amount of the reaction solution was taken, diluted with toluene, and the organic layer was analyzed by gas chromatography to confirm the disappearance of bromobenzene and to complete the reaction. After concentrating the reaction solution under reduced pressure, 80 ml of toluene was added, insoluble materials were removed by filtration, the mother liquor was separated, and the resulting organic layer was washed with 50 ml of water. After toluene in the organic layer was distilled off under reduced pressure, purification was performed by silica gel column chromatography (developing solvent: n-hexane: ethyl acetate = 50: 1) to obtain 6.72 g of biphenyl as a white solid. The yield was 87.1% based on bromobenzene. Recrystallization from a mixed solvent of n-hexane-toluene showed a melting point of 68-72 ° C.

[実施例12] 4-メトキシビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、充分に窒素置換した200mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボラン水酸化ナトリウム付加体水溶液80.6g(0.015mol)、炭酸水素ナトリウム6.30g(0.075mol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.35g(0.5mmol)、テトラヒドロフラン22g、4−ブロモアニソール9.4g(0.05mol)を量り取り、攪拌を行った。攪拌を継続しながら、加熱還流を2時間行った。有機層をガスクロマトグラフィーにて分析し、4−ブロモアニソールの消失を確認し、反応を終了した。反応終了後、トルエン80mlを加え、分液し、得られた有機層を水80mlで洗浄した。有機層のトルエンを減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーにて精製を行い、4−メトキシビフェニル8.82gを白色固体として得た。その収
率は4−ブロモアニソールを基準とし、95.8%であった。該白色固体をノルマルヘキサン−トルエン混合溶媒から再結晶すると融点83−84℃を示した。
[Example 12] Production of 4-methoxybiphenyl A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a refluxer and sufficiently purged with nitrogen was placed in an aqueous solution of triphenylborane sodium hydroxide adduct 80.6 g (0. 015 mol), sodium bicarbonate 6.30 g (0.075 mol), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium 0.35 g (0.5 mmol), tetrahydrofuran 22 g, 4-bromoanisole 9.4 g (0.05 mol), Stirring was performed. While stirring was continued, heating under reflux was performed for 2 hours. The organic layer was analyzed by gas chromatography to confirm the disappearance of 4-bromoanisole, and the reaction was completed. After completion of the reaction, 80 ml of toluene was added for liquid separation, and the resulting organic layer was washed with 80 ml of water. After toluene in the organic layer was distilled off under reduced pressure, purification was performed by silica gel chromatography to obtain 8.82 g of 4-methoxybiphenyl as a white solid. The yield was 95.8% based on 4-bromoanisole. The white solid was recrystallized from a normal hexane-toluene mixed solvent to show a melting point of 83-84 ° C.

[実施例13] 3−フェニルピリジンの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、充分に窒素置換した200mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボラン水酸化ナトリウム付加体水溶液80.6g(0.015mol)、炭酸水素ナトリウム6.30g(0.075mol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.35g(0.5mmol)、テトラヒドロフラン22gおよび3−ブロモピリジン7.9g(0.05mol)を量り取り、攪拌下に2時間加熱還流を行った。有機層をガスクロマトグラフィーにて分析し、3−ブロモピリジンの消失を確認し、反応を終了した。反応終了後、トルエン80mlを加え、分液し、得られた有機層を水80mlで洗浄した。有機層のトルエンを減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーにて精製を行い、3−フェニルピリジン6.65gを白色固体として得た。その収率は3−ブロモピリジンを基準
とし、85.8%であった。該白色固体をノルマルヘキサン−トルエン混合溶媒から再結晶すると融点173−176℃を示した。
[Example 13] Production of 3-phenylpyridine A 200 ml 4-neck flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a refluxer and sufficiently purged with nitrogen was placed in an aqueous solution of triphenylborane sodium hydroxide adduct 80.6 g (0. 015 mol), 6.30 g (0.075 mol) of sodium hydrogen carbonate, 0.35 g (0.5 mmol) of dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, 22 g of tetrahydrofuran and 7.9 g (0.05 mol) of 3-bromopyridine, The mixture was heated under reflux for 2 hours with stirring. The organic layer was analyzed by gas chromatography to confirm the disappearance of 3-bromopyridine, and the reaction was completed. After completion of the reaction, 80 ml of toluene was added for liquid separation, and the resulting organic layer was washed with 80 ml of water. After toluene in the organic layer was distilled off under reduced pressure, purification was performed by silica gel chromatography to obtain 6.65 g of 3-phenylpyridine as a white solid. The yield was 85.8% based on 3-bromopyridine. The white solid was recrystallized from a normal hexane-toluene mixed solvent to show a melting point of 173 to 176 ° C.

[実施例14] 4−フルオロビフェニルの製造
攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、充分に窒素置換した200mlの4ツ口フラスコに、トリフェニルボラン水酸化ナトリウム付加体水溶液80.6g(0.015mol)、炭酸水素ナトリウム6.30g(0.075mol)、酢酸パラジウム0.168g(0.75mmol)、テトラヒドロフラン22g、4−フルオロブロモベンゼン8.8g(0.05mol)を量り取り、攪拌を行った。攪拌を継続しながら、加熱還流を2時間行った。有機層をガスク
ロマトグラフィーにて分析し、4−フルオロブロモベンゼンの消失を確認し、反応を終了した。反応終了後、トルエン80mlを加え、分液し、得られた有機層を水80mlで洗浄した。有機層のトルエンを減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーにて精製を行い、4−フルオロビフェニル7.4gを白色固体として得た。その収率は4−ブロモアニ
ソールを基準とし、85.7%であった。該白色固体をノルマルヘキサンから再結晶化すると融点74−74.5℃を示した。
[Example 14] Production of 4-fluorobiphenyl A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a refluxer and thoroughly purged with nitrogen was placed in an aqueous solution of triphenylborane sodium hydroxide adduct 80.6 g (0. 015 mol), sodium hydrogen carbonate 6.30 g (0.075 mol), palladium acetate 0.168 g (0.75 mmol), tetrahydrofuran 22 g, 4-fluorobromobenzene 8.8 g (0.05 mol) were weighed and stirred. . While stirring was continued, heating under reflux was performed for 2 hours. The organic layer was analyzed by gas chromatography to confirm the disappearance of 4-fluorobromobenzene, and the reaction was completed. After completion of the reaction, 80 ml of toluene was added for liquid separation, and the resulting organic layer was washed with 80 ml of water. Toluene in the organic layer was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 7.4 g of 4-fluorobiphenyl as a white solid. The yield was 85.7% based on 4-bromoanisole. Recrystallization of the white solid from normal hexane showed a melting point of 74-74.5 ° C.

[参考製造例1]
トリフェニルボラントリエチルアミン錯体の合成
充分に窒素置換した300mlの4ツ口フラスコに攪拌装置、温度計および還流器を取り付け、トリフェニルボラン水酸化ナトリウム付加体水溶液(トリフェニルボラン水酸化
ナトリウム付加体の含有率7〜9%)157gを量り取り、攪拌を行った。攪拌を継続し
ながら、トリエチルアミン6.1g(60mmol)を室温で1時間かけて滴下し、そのまま3時間攪拌を行った。析出した白色結晶を吸引ろ過した後、水洗し、乾燥させること
によりトリフェニルボラントリエチルアミン錯体16.1gを得た。
[Reference Production Example 1]
Synthesis of triphenylborane triethylamine complex A 300 ml four-necked flask fully purged with nitrogen was equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser, and an aqueous solution of sodium triphenylborane hydroxide (containing triphenylborane sodium hydroxide adduct) 157 g (rate 7-9%) was weighed and stirred. While continuing stirring, 6.1 g (60 mmol) of triethylamine was added dropwise at room temperature over 1 hour, and the mixture was stirred as it was for 3 hours. The precipitated white crystals were suction filtered, washed with water and dried to obtain 16.1 g of triphenylborane triethylamine complex.

これを以下に示す方法で分析し、同定した結果、トリフェニルボラントリエチルアミン錯体であることが確認された。それぞれの分析値および物性値は以下のとおりであった。(1)融点108〜112℃
(2) 1H−NMRスペクトル(δ in CD3OD)、
7.40−7.36(m,6H)、
7.07−7.01(m,6H)、
6.94−6.87(m,3H)、
2.95(q,J=6.43Hz,6H)、
1.18(t,J=6.62Hz,9H)。
As a result of analyzing and identifying this by the method shown below, it was confirmed to be a triphenylborane triethylamine complex. Each analysis value and physical property value were as follows. (1) Melting point 108-112 ° C
(2) 1 H-NMR spectrum (δ in CD 3 OD),
7.40-7.36 (m, 6H),
7.07-7.01 (m, 6H),
6.94-6.87 (m, 3H),
2.95 (q, J = 6.43 Hz, 6H),
1.18 (t, J = 6.62 Hz, 9H).

本発明によれば、鈴木−宮浦反応によるビアリール化合物の製造に際して、不安定な原料トリアリールボラン化合物を安定な形で工業的に使用することが可能となっており、経済性の面からも有用なビアリール化合物の安全で、効率的かつ、安価な合成法が提供できる。   According to the present invention, in the production of biaryl compounds by the Suzuki-Miyaura reaction, it is possible to industrially use unstable raw material triarylborane compounds in a stable form, which is also useful from the economical aspect. A safe, efficient and inexpensive method for synthesizing such biaryl compounds can be provided.

また、本発明により得られるビアリール化合物は、様々な不斉反応における不斉源として有用であり、また医薬(例:鎮痛,抗炎症作用を有するジフルニサル)、農薬、強誘電性液晶などの液晶(例:4−アルキル−4'−シアノビフェニル)等の製造用の中間体と
しても利用可能である。
In addition, the biaryl compound obtained by the present invention is useful as an asymmetric source in various asymmetric reactions, and liquid crystals such as drugs (eg, diflunisal having analgesic and anti-inflammatory effects), agricultural chemicals, ferroelectric liquid crystals ( (Example: 4-alkyl-4′-cyanobiphenyl) and the like can also be used as an intermediate for production.

Claims (3)

下記一般式(1−A)で表される有機ホウ素アミン錯体化合物および、一般式(1−B)で表される有機ホウ素−アルカリ金属水酸化物付加体のうちの何れかと、
一般式(2)で表される芳香族又は不飽和複素環化合物とを、
遷移金属系触媒、および必要により添加されるホスフィン配位子の存在下に、塩基を共存させて、反応させることを特徴とする、下記一般式(7)で表されるビアリール化合物(7)の製造方法:
有機ホウ素アミン錯体化合物(1−A):
Ar1 3B・NR123 ・・・・・・・・・・(1−A)
[式(1−A)中、複数個のAr1は、それぞれ独立にフェニル基、ナフチル基あるいは
ピリジル基を示し、かつ、これらの基はそれぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、上記各基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6であり、
1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の直鎖状または分
岐状のアルキル基;炭素数2〜20の直鎖状または分岐状のアルケニル基;炭素数2〜20の直鎖状または分岐状のアルキニル基;炭素数3〜20のシクロアルキル基;フェニル基;アラルキル基あるいは複素環基を示すか、或いは、N、R1、R2およびR3が環を形
成し飽和または不飽和の複素環を表し、
上記フェニル基、アラルキル基は、それぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、
上記置換基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6であり、
上記複素環基は、飽和基又は不飽和基であって、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含み、式(1−A)中のN、R1、R2およびR3が互いに結合して環構造を形成していても
よい。]
有機ホウ素−アルカリ金属水酸化物付加体(1−B):
Ar1 3B・WOH ・・・・・・・・・・(1−B)
[式(1−B)中、Ar1は前記と同じ意味を表し、Wは、ナトリウム、カリウムまた
はリチウムを表す。]
芳香族又は不飽和複素環化合物(2):
Ar2X ・・・・・・・・・・(2)
[式(2)中、Ar2は、フェニル基、ナフチル基あるいはピリジル基を示し、かつ、
これらの基はそれぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、シアノ基およびニトロ基のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、上記各基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6であり、
Xは、ハロゲン原子、あるいは一般式(3)で表されるスルホニルオキシ基、
4SO2O− ・・・・・・・・・・・・・・・(3)
{式(3)中、R4は、炭素数1〜20の直鎖状または分岐状のアルキル基;炭素数2
〜20の直鎖状または分岐状のアルケニル基;炭素数2〜20の直鎖状または分岐状のアルキニル基;炭素数3〜20のシクロアルキル基;フェニル基;ナフチル基;アラルキル基;トリフルオロメチル基;およびペンタフルオロエチル基のうちの何れかの基を示し、
上記フェニル基、ナフチル基およびアラルキル基は、それぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、
上記置換基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6である。}
または、一般式(4)で表されるアシルオキシ基を示す。
4COO− ・・・・・・・・・・・・・・・(4)
(式(4)中、R4は前記と同じ意味を示す。)]
ビアリール化合物(7):
Ar1−Ar2 ・・・・・・・・・・・・・・・(7)
[式(7)中、Ar1、Ar2は前記と同じ意味を示す。]。
Any one of the organic boron amine complex compound represented by the following general formula (1-A) and the organic boron-alkali metal hydroxide adduct represented by the general formula (1-B);
An aromatic or unsaturated heterocyclic compound represented by the general formula (2),
The biaryl compound (7) represented by the following general formula (7) is characterized by reacting in the presence of a transition metal catalyst and a phosphine ligand added as necessary in the presence of a base. Production method:
Organic boron amine complex compound (1-A):
Ar 1 3 B · NR 1 R 2 R 3 (1-A)
[In the formula (1-A), a plurality of Ar 1 's each independently represent a phenyl group, a naphthyl group or a pyridyl group, and these groups are each independently a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy group, It may be substituted with 1 to 5 substituents selected from a group-containing lower alkyl group, lower haloalkyl group, and halogen atom, and the lower alkyl group moiety and lower alkoxy group moiety in each of the above groups Each independently has 1 to 6 carbon atoms,
R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; a linear or branched alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms; carbon A linear or branched alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms; a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms; a phenyl group; an aralkyl group or a heterocyclic group, or N, R 1 , R 2 and R 3 Represents a saturated or unsaturated heterocycle forming a ring,
The phenyl group and the aralkyl group are each independently substituted with 1 to 5 substituents selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy group-containing lower alkyl group, a lower haloalkyl group, and a halogen atom. May also have been
The lower alkyl group moiety and the lower alkoxy group moiety in the substituent each independently have 1 to 6 carbon atoms,
The heterocyclic group is a saturated group or an unsaturated group and includes a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom, and N, R 1 , R 2 and R 3 in the formula (1-A) are bonded to each other. A ring structure may be formed. ]
Organoboron-alkali metal hydroxide adduct (1-B):
Ar 1 3 B · WOH ·········· ( 1-B)
[In Formula (1-B), Ar 1 represents the same meaning as described above, and W represents sodium, potassium, or lithium. ]
Aromatic or unsaturated heterocyclic compound (2):
Ar 2 X (2)
[In the formula (2), Ar 2 represents a phenyl group, a naphthyl group or a pyridyl group, and
These groups are each independently a lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkoxy group-containing lower alkyl group, lower haloalkyl group, halogen atom, lower alkoxycarbonyl group, carboxy group, formyl group, lower alkylcarbonyl group, lower alkylsulfonyl group. Group, a cyano group and a nitro group may be substituted with 1 to 5 substituents, and the lower alkyl group moiety and the lower alkoxy group moiety in each of the above groups are each independently carbon. It is number 1-6,
X is a halogen atom or a sulfonyloxy group represented by the general formula (3),
R 4 SO 2 O- (3)
{In Formula (3), R 4 is a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms;
-20 linear or branched alkenyl group; linear or branched alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms; cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group; aralkyl group; A methyl group; and any one of pentafluoroethyl groups;
The phenyl group, naphthyl group and aralkyl group are each independently 1 to 5 substituents selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy group-containing lower alkyl group, a lower haloalkyl group, and a halogen atom. May be substituted with a group,
The lower alkyl group part and the lower alkoxy group part in the substituent each independently have 1 to 6 carbon atoms. }
Or the acyloxy group represented by General formula (4) is shown.
R 4 COO- (4)
(In formula (4), R 4 has the same meaning as described above.)]
Biaryl compound (7):
Ar 1 -Ar 2 (7)
[In the formula (7), Ar 1 and Ar 2 have the same meaning as described above. ].
一般式(1−A)で表されるホウ素アミン錯体化合物:
Ar1 3B・NR123・・・・・(1−A)
[式(1−A)中、Ar1、R1、R2およびR3は、前記と同じ意味を示す。]
と、
一般式(2)で表される芳香族又は不飽和複素環化合物:
Ar2X ・・・・・・・・・・・・・・(2)
[式(2)中、Ar2およびXは、前記と同じ意味を示す。]
とを、
一般式(6)で表される、遷移金属、遷移金属化合物または遷移金属錯体よりなる遷移金属系触媒、および必要により添加されるホスフィン配位子の存在下に、塩基を共存させて、反応させることを特徴とする、一般式(7)で表されるビアリール化合物の製造方法:
MYnm ・・・・・・・・・・・・・・・(6)
[式(6)中、Mは、0〜2価の原子価を持つニッケル、パラジウムまたはロジウム示し、Yは、ハロゲンイオン、硝酸イオンまたはアセトキシイオンを示し、nは、0〜2の整数を示し、mは0または1〜4の整数を示す。
また、式(6)中、mが0以外の上記整数の場合、1〜複数個のLは、互いに独立して
、R567P、R89P(CH2)qPR1011、R12COCH2COR13、R14CN、
炭素数4〜20で2重結合を2以上持つ直鎖状または環状のアルケン、またはR15COR16を示し、ここでR5〜R16は、互いに同一でも相異なっていてもよく、
炭素数1〜20の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基;炭素数2〜20の直鎖状あるいは分岐状のアルケニル基;炭素数2〜20の直鎖状あるいは分岐状のアルキニル基;炭素数3〜20のシクロアルキル基;フェニル基;ナフチル基およびアラルキル基のうちから選択される何れかの基を示し、
上記フェニル基、ナフチル基およびアラルキル基は、それぞれ独立に、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ基含有低級アルキル基、低級ハロアルキル基、およびハロゲン原子のうちから選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、また、
上記アルケニル基は、フェニル基で置換されていてもよく、また、
上記置換基中の低級アルキル基部分、低級アルコキシ基部分は、それぞれ独立に炭素数1〜6であり、
qは、1〜10の整数を示す。]
Ar1−Ar2 ・・・・・・・・・・・・・・・(7)
[式(7)中、Ar1、Ar2は前記と同じ意味を示す。]。
Boron amine complex compound represented by the general formula (1-A):
Ar 1 3 B · NR 1 R 2 R 3 (1-A)
[In the formula (1-A), Ar 1 , R 1 , R 2 and R 3 have the same meaning as described above. ]
When,
Aromatic or unsaturated heterocyclic compound represented by general formula (2):
Ar 2 X (2)
[In the formula (2), Ar 2 and X have the same meaning as described above. ]
And
In the presence of a transition metal catalyst represented by the general formula (6) consisting of a transition metal, a transition metal compound or a transition metal complex, and a phosphine ligand added if necessary, the reaction is carried out in the presence of a base. A method for producing a biaryl compound represented by the general formula (7):
MY n L m (6)
[In the formula (6), M represents nickel, palladium or rhodium having a valence of 0 to 2, Y represents a halogen ion, nitrate ion or acetoxy ion, and n represents an integer of 0 to 2. , M represents 0 or an integer of 1 to 4.
In the formula (6), when m is an integer other than 0, 1 to a plurality of Ls are independently of each other R 5 R 6 R 7 P, R 8 R 9 P (CH 2 ) qPR 10. R 11 , R 12 COCH 2 COR 13 , R 14 CN,
A linear or cyclic alkene having 4 to 20 carbon atoms and two or more double bonds, or R 15 COR 16 , wherein R 5 to R 16 may be the same as or different from each other;
A linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; a linear or branched alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms; a linear or branched alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms; 3 to 20 cycloalkyl groups; a phenyl group; any group selected from a naphthyl group and an aralkyl group;
The phenyl group, naphthyl group and aralkyl group are each independently 1 to 5 substituents selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy group-containing lower alkyl group, a lower haloalkyl group, and a halogen atom. May be substituted with a group,
The alkenyl group may be substituted with a phenyl group,
The lower alkyl group moiety and the lower alkoxy group moiety in the substituent each independently have 1 to 6 carbon atoms,
q represents an integer of 1 to 10. ]
Ar 1 -Ar 2 (7)
[In the formula (7), Ar 1 and Ar 2 have the same meaning as described above. ].
一般式(1−B)で表される有機ホウ素−アルカリ金属水酸化物付加体:
Ar1 3B・WOH・・・・・(1−B)
[式(1−B)中、Ar1、Wは、前記と同じ意味を示す。]
と、
一般式(2)で表される芳香族又は不飽和複素環化合物:
Ar2X ・・・・・・・・・・(2)
[式(2)中、Ar2およびXは、前記と同じ意味を示す。]
とを、
請求項2に記載の遷移金属系触媒、および必要により添加されるホスフィン配位子の存在下に、塩基を共存させて、反応させることを特徴とする一般式(7)
Ar1−Ar2 ・・・・・・・・・・・・・・・(7)
[式(7)中、Ar1、Ar2は前記と同じ意味を表す。]で表されるビアリール化合物の製造方法。



Organoboron-alkali metal hydroxide adduct represented by the general formula (1-B):
Ar 1 3 B · WOH ····· ( 1-B)
[In the formula (1-B), Ar 1 and W have the same meaning as described above. ]
When,
Aromatic or unsaturated heterocyclic compound represented by general formula (2):
Ar 2 X (2)
[In the formula (2), Ar 2 and X have the same meaning as described above. ]
And
The reaction is carried out in the presence of a base in the presence of the transition metal catalyst according to claim 2 and a phosphine ligand added if necessary.
Ar 1 -Ar 2 (7)
[In the formula (7), Ar 1 and Ar 2 represent the same meaning as described above. ] The manufacturing method of the biaryl compound represented by this.



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