JP2006303355A - Cleaning apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、基板を洗浄する洗浄装置に関し、一例として、膜形成基板を水で洗浄してから乾燥させるまでの間に基板に水膜を保持する洗浄装置に関する。より詳しくは、一例として、アクティブマトリクス型液晶表示装置に用いられる薄膜トランジスタマトリクス基板などの製造工程でのエッチング、洗浄、乾燥処理の際に使用される洗浄装置に関する。この発明は、例えば、膜形成基板に水膜を保持することで、基板にウォータマークなどの汚染が残ることを防止して、基板欠陥が生じるのを防止する洗浄装置に関する。 The present invention relates to a cleaning apparatus that cleans a substrate, and as an example, relates to a cleaning apparatus that holds a water film on a substrate after the film-formed substrate is cleaned with water and dried. More specifically, as an example, the present invention relates to a cleaning apparatus used in etching, cleaning, and drying processes in a manufacturing process of a thin film transistor matrix substrate used in an active matrix liquid crystal display device. The present invention relates to a cleaning apparatus that prevents, for example, a substrate from being contaminated by holding a water film on a film-formed substrate to prevent contamination such as watermarks from remaining on the substrate.
従来、薄膜トランジスタ基板等のガラス基板を処理する処理装置として、図6Aに示すように、ローダ100と処理槽101とリンス槽102と乾燥槽103とアンローダ104とを備えたものがある。また、図6Bは、上記リンス槽102、乾燥槽103、アンローダ104を側方から見た様子を示し、図6Cは、上記リンス槽102、乾燥槽103、アンローダ104を上方から見た様子を示している。上記リンス槽102と乾燥槽103が洗浄装置を構成している。
Conventionally, as a processing apparatus for processing a glass substrate such as a thin film transistor substrate, there is an apparatus including a
ガラス基板111は、ローダ100からアンローダ104まで順次搬送される。このローダ100から処理槽101に搬送されたガラス基板111は、この処理槽101で洗浄、ウェットエッチング、レジスト剥離等の処理が行われる。次に、図6Bに示すように、ガラス基板111は、リンス槽102に搬送され、リンス液シャワー部115により純水等のリンス液116が吹き付けられる。これにより、前段の処理槽101での処理液がガラス基板111から洗い流される。次に、このガラス基板111は、搬送ローラ114で乾燥槽103に搬送され、この乾燥槽103において、エアナイフ112によって、高圧空気、高圧不活性ガス等が吹き付けられる。これにより、ガラス基板111から、リンス液116が吹き飛ばされて、ガラス基板111の乾燥処理が行われる。そして、この乾燥後のガラス基板111は搬送ローラ114でアンローダ104から搬出される。
The
この洗浄装置では、図6Bに示すように、リンス槽102のリンス液シャワー部115と乾燥槽103のエアナイフ112との間にある程度の距離がある。ここで、ガラス基板111の最表面に撥水性の膜が露出している場合、上記距離をガラス基板111が搬送されている間に、リンス液シャワー部115が吐出したリンス液116(例えば純水)は上記撥水性の膜で部分的にはじかれて水玉113を発生してしまう。この水玉113の状態でリンス液116がエアナイフ112でもって乾燥されると、図6Cに示すように、乾燥槽103での乾燥のあとにガラス基板111にウォータマーク117が生じるという問題点がある。
In this cleaning apparatus, as shown in FIG. 6B, there is a certain distance between the rinse
また、図6Bに示すように、リンス槽102のリンス液シャワー部105と乾燥槽103のエアナイフ112との間において、ガラス基板111の最表面をなす膜がなるべく露出しないようにするためには、大量のリンス液116が必要となるという問題点もある。
Further, as shown in FIG. 6B, in order to prevent the film forming the outermost surface of the
また、図6Bに示すように、リンス槽102のリンス液シャワー部115と乾燥槽103のエアナイフ112との間において、ガラス基板111の表面の膜が露出し、ガラス基板111の表面と槽102,103内の空気が接触することにより、ガラス基板111の表面が酸化し、基板欠陥を生じるという問題点もある。
Further, as shown in FIG. 6B, the film on the surface of the
次に、他の従来技術による洗浄装置を、図7A,図7Bに示す。図7Aは、上記洗浄装置を側方から見た様子を示し、図7Bは、上記洗浄装置を上方から見た様子を示す。この洗浄装置は、例えば、特許文献1(特開平4−337637号公報)に記載されている。この洗浄装置は、リンス槽102の構成は図6Bに示した洗浄装置と同じだが、乾燥槽103に替えて、リンス部105Aと乾燥部105Bとを有するリンス乾燥槽105を備えた点が、前述の図6Bの洗浄装置と異なる。この洗浄装置は、上記乾燥部105Bと上記リンス槽102との間に上記リンス部105Aを備えている。
Next, another conventional cleaning apparatus is shown in FIGS. 7A and 7B. FIG. 7A shows a state in which the cleaning device is viewed from the side, and FIG. 7B shows a state in which the cleaning device is viewed from above. This cleaning apparatus is described in, for example, Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 4-337637). This cleaning apparatus has the same configuration as the cleaning apparatus shown in FIG. 6B except that the
このリンス部105Aは、ピンホール式リンス液シャワー部118を有し、このシャワー部118はガラス基板111にリンス液116を吹き付ける。そして、次の乾燥部105Bは、傾斜配置された搬送ローラ114でもってガラス基板111を搬送方向に向かって登り勾配となるように傾斜させた状態で、エアナイフ112から高圧空気、高圧不活性ガス等をガラス基板111に吹き付けて、ガラス基板111を乾燥させる。
The
図7A,図7Bに示す従来の洗浄装置では、ガラス基板111がリンス部105Aでの水平搬送から乾燥部105Bでの傾斜搬送に変わる際に、リンス液116が重力によりガラス基板111の後端から流れ落ち、エアナイフ112の直前の箇所119でガラス基板111の表面に水膜切れが発生する。この水膜切れの状態でエアナイフ112で乾燥されると、図7Bに示したように、乾燥あとにウォータマーク117が生じる問題点がある。
In the conventional cleaning apparatus shown in FIGS. 7A and 7B, when the
また、リンス槽102のリンス液シャワー部105の後段の乾燥部105Aにピンホール式リンス液シャワー部118等を設けているので、大量のリンス液116が必要になるという問題点もある。また、前述の如く、ガラス基板111が水平搬送から傾斜搬送に変わる際に、リンス液116が重力により流れ落ち、ガラス基板111の表面に水膜切れの箇所119が生じ、ガラス基板111の表面が露出し、ガラス基板111の表面と乾燥部105Bの槽内の空気が接触することによりガラス基板111の表面が酸化し、基板欠陥を生じるという問題点もある。
In addition, since the pinhole type rinsing
次に、さらに別の従来技術の洗浄装置を、図8A,図8Bに示す。図8Aは、上記洗浄装置を側方から見た様子を示し、図8Bは、上記洗浄装置を上方から見た様子を示す。この洗浄装置は、例えば、特許文献2(特開平8−236498号公報)に記載されている。この洗浄装置は、リンス槽102の構成は図6Bに示した洗浄装置と同じだが、乾燥槽103に替えて、乾燥槽103Aを備えた点が、前述の図6Bの洗浄装置と異なる。この乾燥槽103Aは、エアナイフ112の直前の段階となる位置に、スリット状リンス液シャワー部121を配置した点が、前述の乾燥槽103と異なる。このスリット状リンス液シャワー部121は、スリット状の噴射孔からリンス液116を噴射するものである。この乾燥槽103Aでは、リンス液シャワー部121がガラス基板111に向かって噴射するリンス液116と、上記ガラス基板111とが挟む領域が搬送方向に向かって先細りとなっている。なお、109は、はね返り隔離板である。
Next, still another conventional cleaning apparatus is shown in FIGS. 8A and 8B. FIG. 8A shows a state in which the cleaning device is viewed from the side, and FIG. 8B shows a state in which the cleaning device is viewed from above. This cleaning apparatus is described in, for example, Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 8-236498). This cleaning apparatus has the same configuration as the cleaning apparatus shown in FIG. 6B except that the
この図8A,図8Bに示す従来の洗浄装置では、リンス槽102のリンス液シャワー部115とエアナイフ112の直前の位置にあるスリット状リンス液シャワー部121との間にある程度の距離がある。この距離をガラス基板111が搬送されている間に、ガラス基板111の表面の撥水性の膜が露出してしまい、リンス液116(例えば純水)は部分的にはじかれて水玉113を発生してしまう。この水玉113の状態でリンス液116がエアナイフ112でもって乾燥されると、ガラス基板111の表面に、図8Bに示すようにウォータマーク117が生じるという問題点がある。
In the conventional cleaning apparatus shown in FIGS. 8A and 8B, there is a certain distance between the rinsing
また、リンス槽102のリンス液シャワー部115の他にエアナイフ112の直前の位置にあるスリット状リンス液シャワー部121を設けているので、大量のリンス液116が必要になるという問題点もある。また、上述の如く、リンス槽102のリンス液シャワー部115とスリット状リンス液シャワー部121との間において、ガラス基板111の表面の膜が露出し、ガラス基板111の表面と乾燥槽103A内の空気が接触することによりガラス基板111の表面が酸化し、基板欠陥を生じるという問題点もある。
そこで、この発明の課題は、基板表面に洗浄液の乾燥跡を残さないと共に、洗浄液を節約できる洗浄装置を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a cleaning apparatus that does not leave a drying trace of the cleaning liquid on the substrate surface and can save the cleaning liquid.
上記課題を解決するため、この発明の洗浄装置は、洗浄液で基板を洗浄する洗浄ツールと、
上記洗浄ツールに対して上記基板の搬送方向に所定の間隔を隔てて配置されていると共に上記基板を乾燥させる乾燥ツールと、
上記洗浄ツールと上記乾燥ツールとの間に配置されると共に上記基板に対して所定寸法を隔てて対向して、上記基板の表面に上記洗浄液による液膜を保持する液膜保持部材とを備えることを特徴としている。
In order to solve the above problems, a cleaning device of the present invention includes a cleaning tool for cleaning a substrate with a cleaning liquid,
A drying tool which is disposed at a predetermined interval in the transport direction of the substrate with respect to the cleaning tool and dries the substrate;
A liquid film holding member that is disposed between the cleaning tool and the drying tool and that faces the substrate with a predetermined dimension therebetween and holds a liquid film from the cleaning liquid on the surface of the substrate; It is characterized by.
この発明の洗浄装置によれば、上記液膜保持部材は、上記洗浄ツールと上記乾燥ツールとの間に配置されると共に上記基板に対して所定寸法を隔てて対向して、上記基板の表面に上記洗浄液による液膜を保持する。したがって、上記液膜保持部材は、基板が洗浄ツールから乾燥ツールまで搬送されるまでの間に、上記基板の表面で洗浄液が水玉状に分離されるのを防止できる。よって、乾燥ツールで基板を乾燥させた後に、基板の表面に乾燥跡を残さないようにすることができると共に、基板表面を均等に乾燥でき基板表面の劣化を防げる。 According to the cleaning apparatus of the present invention, the liquid film holding member is disposed between the cleaning tool and the drying tool, and is opposed to the substrate with a predetermined dimension on the surface of the substrate. A liquid film by the cleaning liquid is retained. Therefore, the liquid film holding member can prevent the cleaning liquid from being separated into polka dots on the surface of the substrate before the substrate is transported from the cleaning tool to the drying tool. Therefore, after drying a board | substrate with a drying tool, while being able to keep a trace of drying on the surface of a board | substrate, a board | substrate surface can be dried uniformly and deterioration of a board | substrate surface can be prevented.
また、上記液膜保持部材は、上記洗浄ツールと乾燥ツールとの間において、基板に対向して基板表面に洗浄液による液膜を保持するから、基板表面が露出しないための大量の洗浄液が必要となることもなくなる。 Further, since the liquid film holding member holds the liquid film by the cleaning liquid on the substrate surface facing the substrate between the cleaning tool and the drying tool, a large amount of cleaning liquid is required to prevent the substrate surface from being exposed. It will never be.
したがって、この発明の洗浄装置によれば、基板表面に洗浄液の乾燥跡を残さないと共に、洗浄液を節約できる洗浄装置を実現できる。 Therefore, according to the cleaning apparatus of the present invention, it is possible to realize a cleaning apparatus that does not leave a drying trace of the cleaning liquid on the substrate surface and can save the cleaning liquid.
また、一実施形態の洗浄装置では、上記液膜保持部材は、平板状である。 In one embodiment, the liquid film holding member has a flat plate shape.
この実施形態の洗浄装置によれば、上記液膜保持部材は平板状であるので、基板との間に洗浄液による液膜を効率よく保持できる。 According to the cleaning apparatus of this embodiment, since the liquid film holding member has a flat plate shape, the liquid film by the cleaning liquid can be efficiently held between the substrate and the substrate.
また、一実施形態の洗浄装置では、上記液膜保持部材は、上記基板に対して、5乃至10mmの寸法を隔てて対向するように配置される。 In the cleaning apparatus of one embodiment, the liquid film holding member is disposed to face the substrate with a dimension of 5 to 10 mm.
この実施形態の洗浄装置によれば、上記液膜保持部材は、上記基板に対して、5mm以上の寸法を隔てて対向しているので、上記基板が例えば薄膜トランジスタマトリクス基板などの場合に、製造工程での膜厚の増加(最大5mm程度)に対応できる。また、上記液膜保持部材は、上記基板に対して、10mm以下の寸法を隔てて対向しているので、洗浄液の必要量を抑えつつ、洗浄液(例えば水)の粘性によって基板の略全面に液(水)膜を保持することができる。 According to the cleaning apparatus of this embodiment, the liquid film holding member is opposed to the substrate with a dimension of 5 mm or more, so that when the substrate is, for example, a thin film transistor matrix substrate, a manufacturing process is performed. It is possible to cope with an increase in film thickness (up to about 5 mm). Further, since the liquid film holding member is opposed to the substrate with a dimension of 10 mm or less, the liquid film holding member is applied to substantially the entire surface of the substrate by the viscosity of the cleaning liquid (for example, water) while suppressing the necessary amount of the cleaning liquid. (Water) film can be retained.
また、一実施形態の洗浄装置では、上記液膜保持部材と上記基板との間に、洗浄液を供給する洗浄液供給部を備える。 In one embodiment, a cleaning liquid supply unit that supplies a cleaning liquid is provided between the liquid film holding member and the substrate.
この実施形態の洗浄装置によれば、洗浄液供給部が、液膜保持部材と基板との間に洗浄液を供給するので、液膜保持部材と基板との間に常に確実に洗浄液の液膜を保持できる。 According to the cleaning apparatus of this embodiment, since the cleaning liquid supply unit supplies the cleaning liquid between the liquid film holding member and the substrate, the liquid film of the cleaning liquid is always reliably held between the liquid film holding member and the substrate. it can.
また、一実施形態の洗浄装置では、上記基板の搬送方向は、鉛直方向、または、水平方向と鉛直方向との中間の傾斜方向である。 Moreover, in the cleaning apparatus of one embodiment, the transport direction of the substrate is a vertical direction or an inclined direction between the horizontal direction and the vertical direction.
この実施形態によれば、基板の搬送方向が鉛直方向である場合には、重力によって、洗浄とリンスの効果を向上させつつ、搬送時に上記液膜保持部材でもって基板表面に洗浄液による液膜を保持して液膜切れを防止できる。また、基板の搬送方向が、傾斜方向である場合には、鉛直方向へ搬送する場合に比べて、液膜切れが起こり難くなる。なお、基板の搬送方向を水平方向とした場合には、重力による液膜切れは殆んど無く、基板を安定かつ容易に搬送できる。 According to this embodiment, when the transport direction of the substrate is a vertical direction, the liquid film by the cleaning liquid is applied to the substrate surface by the liquid film holding member during transport while improving the effect of cleaning and rinsing by gravity. Holding it can prevent the liquid film from being cut. Further, when the substrate transport direction is an inclined direction, the liquid film is less likely to be cut than when the substrate is transported in the vertical direction. When the substrate transport direction is the horizontal direction, there is almost no liquid film breakage due to gravity, and the substrate can be transported stably and easily.
この発明の洗浄装置によれば、液膜保持部材は、洗浄ツールと乾燥ツールとの間に配置されると共に基板に対して所定寸法を隔てて対向して、基板の表面に洗浄液による液膜を保持する。したがって、液膜保持部材は、基板が洗浄ツールから乾燥ツールまで搬送されるまでの間に、基板の表面で洗浄液が水玉状に分離されるのを防止できる。よって、乾燥ツールで基板を乾燥させた後に、基板の表面に乾燥跡を残さないようにすることができると共に、基板表面を均等に乾燥でき基板表面の劣化を防げる。また、液膜保持部材は、洗浄ツールと乾燥ツールとの間において、基板に対向して基板表面に洗浄液による液膜を保持するから、基板表面が露出しないための大量の洗浄液が必要となることもなくなり、洗浄液を節約できる。 According to the cleaning apparatus of the present invention, the liquid film holding member is disposed between the cleaning tool and the drying tool and is opposed to the substrate with a predetermined dimension therebetween, and the liquid film by the cleaning liquid is applied to the surface of the substrate. Hold. Therefore, the liquid film holding member can prevent the cleaning liquid from being separated into polka dots on the surface of the substrate before the substrate is transported from the cleaning tool to the drying tool. Therefore, after drying a board | substrate with a drying tool, while being able to keep a trace of drying on the surface of a board | substrate, a board | substrate surface can be dried uniformly and deterioration of a board | substrate surface can be prevented. In addition, since the liquid film holding member holds the liquid film by the cleaning liquid on the substrate surface facing the substrate between the cleaning tool and the drying tool, a large amount of cleaning liquid is required to prevent the substrate surface from being exposed. This eliminates the need for cleaning solution.
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the illustrated embodiments.
(第1の実施の形態)
図1の斜視図に、この発明の洗浄装置の第1実施形態が備えるリンス/乾燥槽55の要部の概略構成を示す。また、図2Aの側面図に、この実施形態の洗浄装置を側方から見た様子を示し、図2Bの上面図に、この実施形態の洗浄装置を上方から見た様子を示す。
(First embodiment)
The schematic structure of the principal part of the rinse /
図2Aおよび図2Bに示すように、この実施形態の洗浄装置は、ガラス基板1の搬送方向(進行方向)に沿って順に、処理槽51とリンス/乾燥槽55を有する。この処理槽51は、上記搬送方向に配列された搬送ローラ54,54と、この搬送ローラ54で搬送されるガラス基板1に向かって洗浄液16を吹き付ける洗浄ツール14を有する。この実施形態では、洗浄液16を水とした。
As shown in FIGS. 2A and 2B, the cleaning apparatus of this embodiment includes a
また、上記リンス/乾燥槽55は、上記搬送方向に配列された搬送ローラ54A,54A,54B,54Bと、この搬送ローラ54A,54Aで搬送されるガラス基板1の上下両面1A,1Bに対して所定間隔を隔てて対向するように配置された液膜保持部材12を有する。また、上記リンス/乾燥槽55は、液膜保持部材12に対して搬送方向に隣接する乾燥ツールとしてのエアナイフ2A,2Bを有する。このエアナイフ2Aと2Bは、搬送されるガラス基板1の上方と下方に配置され、ガラス基板1の上面1Aと下面1Bに向かって空気を吹き付ける。
The rinsing /
図1に示すように、この液膜保持部材12は、全体として、搬送方向(進行方向)に延びる四角形の筒形状である。この液膜保持部材12は、図2Aに示すように、ガラス基板1の上側に位置する上側部12Aと、ガラス基板1の下側に位置する下側部12Bを有する。図1に示すように、上側部12Aと下側部12Bは、幅方向の両側の側部12C,12Dでつながっている。この上側部12Aは、ガラス基板1の上面1Aに対して所定寸法を隔てて対向する対向面12A-1を有し、下側部12Bは、ガラス基板1の下面1Bに対して所定寸法を隔てて対向する対向面12B-1とを有する。
As shown in FIG. 1, the liquid
図1に示すように、上記液膜保持部材12の上側部12Aの後端部付近には、幅方向に所定の間隔を隔てて複数の貫通穴17が形成されている。そして、この複数の貫通穴17を覆うように、上側部12Aに洗浄液供給部としての純水供給部13が取り付けられている。この純水供給部13は、例えば、配管(図示せず)でもって純水を供給するための純水タンク等に連結されている。この純水供給部13は、上記複数の貫通穴17を経由して、液膜保持部材12とガラス基板1との間に、純水を供給する。これにより、液膜保持部材12は、搬送されるガラス基板1の両面1A,1Bに水膜15を保持する。
As shown in FIG. 1, a plurality of through
また、水膜保持部材12とガラス基板1とは、水膜15の厚さが最小となるように最も近づいた位置に設けられる。例えば、水膜保持部材12の上側部12Aの主要部12AAとガラス基板1との間の距離、および、水膜保持部材12の下側部12Bの主要部12BBとガラス基板1との間の距離は、5mm以上かつ10mm以下に設定される。この距離を5mm以上かつ10mm以下に設定したことで、水の粘性により水を基板1の上面1A,1Bの全面に広げて、水膜15が保持されるのに必要な水膜の厚さを確保しつつ、水膜の厚さを最小にして、液膜保持部材12の対向面12A-1,対向面12B-1とガラス基板1の上面1A,1Bとの間の距離を最小にできる。また、上記距離を5mm以上に設定したことで、上記基板1が例えば薄膜トランジスタマトリクス基板などの場合に、製造工程で上記基板の膜圧が最大5mm程度増加することに対処できる。
Further, the water
また、図2Aに示すように、上記水膜保持部材12は、処理槽51の洗浄ツール14の直後の出口51Aの近傍からエアナイフ2A,2Bの直前の位置付近まで延在している。そして、この水膜保持部材12は、搬送方向の寸法が上記ガラス基板1の搬送方向の寸法と略同等である。
Further, as shown in FIG. 2A, the water
また、図2Aに示すように、この水膜保持部材12の上側部12Aは、搬送方向の後端で主要部12AAから下方に突出している突出部120を有し、下側部12Bは、搬送方向の後端で主要部12BBから上方に突出している突出部121を有している。また、上記上側部12Aは、搬送方向の前端で主要部12AAから下方に突出している突出部122を有し、下側部12Bは、搬送方向の前端で主要部12BBから上方に突出している突出部123を有している。この水膜保持部材12の上側部12Aの突出部120,122および下側部12Bの突出部121,123は、主要部12AA,12BBの水膜15を堰き止めて、流出を防ぐ役目をする。
As shown in FIG. 2A, the
上記水膜保持部材12によれば、洗浄ツール14とエアナイフ2A,2Bとの間で、ガラス基板1の両面1A,1Bに常に水膜15を保持できる。したがって、基板1が洗浄ツール14から乾燥ツールであるエアナイフ12まで搬送されるまでの間に、上記基板1の表面1A,1Bで洗浄液が水玉状に分離されるのを防止できる。よって、乾燥ツールとしてのエアナイフ2A,2Bから基板1の表面1A,1Bに高圧空気、高圧不活性ガス等を吹き付けて、基板1の両面1A,1Bを乾燥させた後に、基板1の表面1A,1Bに乾燥跡を残さないようにすることができる。また、基板表面1A,1Bを均等に乾燥でき基板表面1A,1Bの劣化を防止できる。
According to the water
なお、上記実施形態では、洗浄液16を水としたが、水以外の洗浄液としてもよい。また、上記実施形態では、基板をガラス基板としたがガラス基板に限らず、様々な種類の基板であってもよい。
In the above embodiment, the cleaning
(第2の実施の形態)
次に、図3の斜視図、図4Aの側面図、図4Bの上面図に、この発明の洗浄装置の第2実施形態を示す。この第2実施形態は、第1実施形態が備えた純水供給部13を備えていない点が前述の第1実施形態と異なる。また、この第2実施形態は、第1実施形態の液膜保持部材12とは異なる液膜保持部材42を備える点が前述の第1実施形態と異なる。この第2実施形態は、上記2つの点以外は前述の第1実施形態と同様であるので、この第2実施形態では、第1実施形態と異なる点を説明する。
(Second embodiment)
Next, the second embodiment of the cleaning device of the present invention is shown in the perspective view of FIG. 3, the side view of FIG. 4A, and the top view of FIG. 4B. This 2nd Embodiment differs from the above-mentioned 1st Embodiment by the point which is not provided with the pure
図3,図4Aに示すように、この第2実施形態では、液膜保持部材42は、上側部42Aと下側部42Bを有し、この上側部42Aと下側部42Bは、ガラス基板1の上側と下側とに分かれている点で、前述の第1実施形態の上側部12A,12Bと異なるが、その他の点では、前述の第1実施形態の上側部12A,12Bと同様である。
As shown in FIGS. 3 and 4A, in the second embodiment, the liquid
すなわち、この第2実施形態では、上記液膜保持部材42によれば、洗浄ツール14とエアナイフ2A,2Bとの間で、ガラス基板1の両面1A,1Bに常に水膜15を保持できる。したがって、基板1が洗浄ツール14から乾燥ツールであるエアナイフ2A,2Bまで搬送されるまでの間に、上記基板1の表面1A,1Bで洗浄液が水玉状に分離されるのを防止できる。よって、乾燥ツールとしてのエアナイフ2A,2Bから高圧空気や高圧不活性ガス等を基板1の両面1A,1Bに吹き付けて、基板1の両面1A,1Bを乾燥させた後に、基板1の表面1A,1Bに乾燥跡を残さないようにすることができる。また、基板表面1A,1Bを均等に乾燥でき基板表面1A,1Bの劣化を防止できる。
That is, in the second embodiment, the liquid
なお、上記液膜保持部材42の上側部42Aと下側部42Bは、それぞれ、リンス乾燥槽55N内の位置を保持するための部材(図示せず)でもって、リンス乾燥槽55Nに固定される。
The
(第3の実施の形態)
次に、図5A,図5Bを参照して、この発明の洗浄装置の第3実施形態を説明する。図5Aはこの第3実施形態の洗浄装置を側方から見た様子を示す模式的な側面図であり、図5Bは上記洗浄装置を正面から見た様子を示す模式的な正面図である。
(Third embodiment)
Next, with reference to FIG. 5A and FIG. 5B, 3rd Embodiment of the washing | cleaning apparatus of this invention is described. FIG. 5A is a schematic side view showing a state in which the cleaning device of the third embodiment is viewed from the side, and FIG. 5B is a schematic front view showing the state in which the cleaning device is viewed from the front.
図5Aおよび図5Bに示すように、この実施形態の洗浄装置は、ガラス基板73を搬送する方向を、下から上への鉛直方向としている縦型搬送洗浄装置である。この第3実施形態は、ガラス基板73の搬送方向(進行方向)に沿って順に、処理槽71とリンス/乾燥槽72を有する。この処理槽71は、このガラス基板73の両側面に配置されると共にガラス基板73を上記搬送方向に搬送するための搬送ローラ(図示せず)を備える。また、この処理槽71は、上記搬送ローラで下から上へ搬送されるガラス基板73に向かって洗浄液75を吹き付ける洗浄ツール76を有する。この実施形態では、洗浄液75を水とした。
As shown in FIGS. 5A and 5B, the cleaning apparatus of this embodiment is a vertical transport cleaning apparatus in which the direction in which the
また、上記リンス/乾燥槽72は、処理槽71と同様の搬送ローラ(図示せず)と、この搬送ローラで搬送されるガラス基板73の両面73A,73Bに対して所定間隔を隔てて対向するように配置された液膜保持部材77A,77Bを有する。また、このリンス/乾燥槽72は、液膜保持部材77A,77Bに対して搬送方向に隣接する乾燥ツールとしてのエアナイフ78A,78Bを有する。このエアナイフ78A,78Bは、搬送されるガラス基板73の面73A,面73Bに対向するように配置され、搬送されるガラス基板73の面73Aと面73Bに向かって高圧空気(または高圧不活性ガス等)を吹き付ける。
The rinsing /
図5Aおよび図5Bに示すように、上記液膜保持部材77Aは、ガラス基板73と略同等の長さを有していると共に、ガラス基板73と略同等の幅寸法を有している。また、液膜保持部材77Bも、ガラス基板73と略同等の長さを有していると共に、ガラス基板73と略同等の幅寸法を有している。
As shown in FIGS. 5A and 5B, the liquid
この液膜保持部材77Aは、上下方向の両端に、対向する液膜保持部材77Bに向かって突き出した突出部77A-1と77A-2と、この突出部77A-1と77A-2との間の主要部77A-3とを有する。この主要部77A-3は、搬送されてくるガラス基板73の面73Aに所定寸法を隔てて対向する対向面S1を有する。この所定寸法は、液膜保持部材77Aの主要部77A-3とガラス基板73の面73Aとの間の液膜80Aの厚さができるだけ小さくなるように、一例として、5mm〜10mmの範囲内の値に設定する。また、上記突出部77A-1は、ガラス基板73の面73Aの近傍まで達しており、主要部77A-3とガラス基板73の面73Aから洗浄液75が下方へ漏れ難くしている。一方、上側の突出部77A-2は、主要部77A-3よりもガラス基板73の面73Aに接近しており、洗浄液75が上方へあふれ出るのを防いでいる。
The liquid
一方、上記液膜保持部材77Bは、上下方向の両端に、対向する液膜保持部材77Aに向かって突き出した突出部77B-1と77B-2と、この突出部77B-1と77B-2との間の主要部77B-3とを有する。この主要部77B-3は、搬送されてくるガラス基板73の面73Bに所定寸法を隔てて対向する対向面S2を有する。この所定寸法は、液膜保持部材77Bの主要部77B-3とガラス基板73の面73Bとの間の液膜80Bの厚さができるだけ小さくなるように、一例として、5mm〜10mmの範囲内の値に設定する。また、上記突出部77B-1は、ガラス基板73の面73Bの近傍まで達しており、主要部77B-3とガラス基板73の面73Bから洗浄液75が下方へ漏れ難くしている。一方、上側の突出部77B-2は、主要部77B-3よりもガラス基板73の面73Bに接近しており、洗浄液75が上方へあふれ出るのを防いでいる。
On the other hand, the liquid
図5A,図5Bに示すように、液膜保持部材77A,77Bは、突出部77A-1,77B-1と主要部77A-3,77B-3との間に、幅方向に所定の間隔を隔てて複数の貫通穴82A,82Bが形成されている。そして、この複数の貫通穴82A,82Bを覆うように、液膜保持部材77A,77Bに純水供給部83A,83Bが取り付けられている。この純水供給部83A,83Bは、上記複数の貫通穴82A,82Bを経由して、液膜保持部材77A,77Bとガラス基板73との間に、純水を供給する。この純水供給部83A,83Bは、配管等で純水供給タンク(図示せず)に接続されている。
As shown in FIGS. 5A and 5B, the liquid
図5Aに示すように、この液膜保持部材77A,77Bは、処理槽71の出口71A近傍からエアナイフ78A,78Bの近傍にまで達している。したがって、この液膜保持部材77A,77Bによれば、洗浄ツール76とエアナイフ78A,78Bとの間で、ガラス基板73の両面73A,73Bに常に液膜80A,80Bを保持できる。
As shown in FIG. 5A, the liquid
したがって、この実施形態によれば、ガラス基板73が洗浄ツール76から乾燥ツールとしてのエアナイフ78A,78Bまで搬送されるまでの間に、ガラス基板73の表面73A,73Bで洗浄液75が水玉状に分離されるのを防止できる。よって、この実施形態の洗浄装置のように、縦型搬送を行うことに起因して、水平に搬送を行う場合に比べて、重力によってガラス基板73の両面73A,73Bで液膜切れが起こり易い場合であっても、乾燥ツールとしてのエアナイフ78A,78Bが噴出する高圧空気や高圧不活性ガス等でガラス基板73の両面73A,73Bを乾燥させた後に乾燥跡を残さないようにすることができる。また、基板表面73A,73Bを均等に乾燥でき、基板表面73A,73Bの劣化を防止できる。
Therefore, according to this embodiment, the cleaning
また、この実施形態では、上記液膜保持部材77A,77Bで液膜を薄い状態で保持するので、洗浄液75の消費量を節約できる。したがって、基板73が大型化した場合にも、洗浄液(あるいはリンス液)75の消費量を最小限に抑えることができる。
In this embodiment, since the liquid film is held in a thin state by the liquid
なお、上記実施形態では、洗浄液75を水としたが、水以外の洗浄液としてもよい。また、上記実施形態では、ガラス基板73を上下方向に略垂直方向に搬送する場合を説明したが、鉛直方向と水平方向との間の傾斜方向にガラス基板73を搬送する場合にもこの発明を適用可能である。
In the above embodiment, the cleaning
1、73 ガラス基板
1A 上面
1B 下面
2A、2B、78A、78B エアナイフ(乾燥ツール)
12、42、77A、77B 液膜保持部材
12A、42A 上側部
12B、42B 下側部
12AA、12BB、77A-3、77B-3 主要部
12A-1、12B-1 対向面
14、76 洗浄ツール
15 水膜
16、75 洗浄液
17 貫通穴
51、71 処理槽
54 搬送ローラ
55、72 リンス/乾燥槽
73A、73B 面
80A、80B 液膜
1, 73 Glass substrate 1A Upper surface
12, 42, 77A, 77B Liquid
Claims (5)
上記洗浄ツールに対して上記基板の搬送方向に所定の間隔を隔てて配置されていると共に上記基板を乾燥させる乾燥ツールと、
上記洗浄ツールと上記乾燥ツールとの間に配置されると共に上記基板に対して所定寸法を隔てて対向して、上記基板の表面に上記洗浄液による液膜を保持する液膜保持部材とを備えることを特徴とする洗浄装置。 A cleaning tool for cleaning the substrate with the cleaning liquid;
A drying tool which is disposed at a predetermined interval in the transport direction of the substrate with respect to the cleaning tool and dries the substrate;
A liquid film holding member that is disposed between the cleaning tool and the drying tool and that faces the substrate with a predetermined dimension therebetween and holds a liquid film from the cleaning liquid on the surface of the substrate; A cleaning device characterized by.
上記液膜保持部材は、平板状であることを特徴とする洗浄装置。 The cleaning device according to claim 1,
The liquid film holding member has a flat plate shape.
上記液膜保持部材は、
上記基板に対して、5乃至10mmの寸法を隔てて対向するように配置されることを特徴とする洗浄装置。 The cleaning apparatus according to claim 2,
The liquid film holding member is
A cleaning apparatus, wherein the cleaning apparatus is arranged to face the substrate with a dimension of 5 to 10 mm therebetween.
上記液膜保持部材と上記基板との間に、洗浄液を供給する洗浄液供給部を備えることを特徴とする洗浄装置。 The cleaning device according to claim 1,
A cleaning apparatus comprising a cleaning liquid supply unit that supplies a cleaning liquid between the liquid film holding member and the substrate.
上記基板の搬送方向は、鉛直方向、または、水平方向と鉛直方向との中間の傾斜方向であることを特徴とする洗浄装置。
The cleaning device according to claim 1,
The substrate transporting direction is a vertical direction or an inclination direction intermediate between a horizontal direction and a vertical direction.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005126210A JP2006303355A (en) | 2005-04-25 | 2005-04-25 | Cleaning apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006303355A true JP2006303355A (en) | 2006-11-02 |
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ID=37471257
Family Applications (1)
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JP (1) | JP2006303355A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010103383A (en) * | 2008-10-27 | 2010-05-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate processing apparatus |
-
2005
- 2005-04-25 JP JP2005126210A patent/JP2006303355A/en active Pending
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JP2010103383A (en) * | 2008-10-27 | 2010-05-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate processing apparatus |
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