JP2006302656A - Color conversion filter and organic el display using the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color conversion filter which can prevent gas penetration and an organic EL multi-color display which is made by using the above filter and which can maintain a stable luminescent property for a long period. <P>SOLUTION: A color conversion filter is composed of a transparent board, color conversion film layers of one or a plurality of kinds fixed on the transparent board, a flattened layer formed covering a color conversion layer and a gas-barrier layer formed on the flattened layer. The gas-barrier has a lamination of at least two pairs of an inorganic film and a polymer film, and an inorganic insulator film fixed on the above lamination. The organic EL display is made by using the above filter. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、高精細で、耐環境性および生産性に優れた多色表示を可能とする色変換フィルタおよび該色変換フィルタを具備する多色表示の有機ELディスプレイに関する。詳細には、イメージセンサー、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、テレビ、ファクシミリ、オーディオ、ビデオ、カーナビゲーション、電気卓上計算機、電話機、携帯端末機ならびに産業用計測器等の表示用の色変換フィルタ、および該色変換フィルタを具備する多色表示の有機ELディスプレイに関する。   The present invention relates to a color conversion filter that enables high-definition, multicolor display excellent in environmental resistance and productivity, and a multicolor display organic EL display including the color conversion filter. In detail, color conversion filter for display of image sensor, personal computer, word processor, television, facsimile, audio, video, car navigation, electric desk calculator, telephone, portable terminal and industrial measuring instrument, and the color conversion The present invention relates to a multicolor organic EL display including a filter.

液晶表示素子等に対して視野角依存性および高速応答性などに優れた、下記の特徴を有する、有機分子の薄膜積層構造を有し、印加電圧10Vで、1000cd/m2以上の高輝度で発光する積層型有機エレクトロルミネセンス(以下、有機ELと称する)素子が、Tangらによって報告されて以来、有機EL素子は実用化に向けての研究が活発に行われている(非特許文献1参照)。また、有機高分子材料を用いた同様の素子も活発に開発が進められている。 It has a thin film laminated structure of organic molecules having the following characteristics, which is excellent in viewing angle dependency and high-speed response with respect to a liquid crystal display element, etc., and has a high luminance of 1000 cd / m 2 or more at an applied voltage of 10 V. Since an organic EL device that emits light is reported by Tang et al., Organic EL devices have been actively researched for practical use (Non-patent Document 1). reference). Similar devices using organic polymer materials are also being actively developed.

有機EL素子は低電圧で高い電流密度が実現できるため、無機EL素子またはLEDと比較して高い発光輝度および発光効率が期待できる。また、表示素子としては、(1)高輝度および高コントラスト、(2)低電圧駆動と高い発光効率、(3)高解像度、(4)広視野角、(5)高応答速度、(6)微細化およびカラー化、(7)軽さおよび薄さ等の優れた特徴を有している。以上の点から、「美・軽・薄・優」なフラットパネルディスプレイへの応用が期待されている。   Since an organic EL element can realize a high current density at a low voltage, it can be expected to have higher light emission luminance and light emission efficiency than an inorganic EL element or LED. As the display element, (1) high brightness and high contrast, (2) low voltage driving and high luminous efficiency, (3) high resolution, (4) wide viewing angle, (5) high response speed, (6) It has excellent features such as miniaturization and colorization, and (7) lightness and thinness. In view of the above, it is expected to be applied to “beautiful, light, thin, excellent” flat panel displays.

パイオニア社によって、車搭載用の緑色モノクロ有機ELディスプレイが1997年11月にすでに製品化されて以来、多様化する社会のニーズに応えるべく、長期安定性および高速応答性を有し、多色表示または高精細なフルカラー表示が可能な有機ELディスプレイの実用化が急がれている。   Pioneer has already commercialized a green monochrome organic EL display for use in vehicles since November 1997, and has long-term stability and high-speed response to meet the diverse needs of society. Or, there is an urgent need for practical use of an organic EL display capable of high-definition full color display.

有機ELディスプレイのマルチカラー化またはフルカラー化の方法の1例は、、赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色の発光体をマトリクス状に分離配置し、それぞれ発光させる方法である(特許文献1〜3参照)。有機EL素子を用いてカラー化する場合、RGBの3種の発光材料をマトリクス上に高精細に配置しなくてはならないため、技術的に困難であり、および安価で製造することができない。加えて、3種の発光材料の寿命(輝度変化特性)がそれぞれ異なるために、長期間にわたる使用により色度がずれてしまうなどの欠点を有する。   One example of a method for multi-coloring or full-coloring an organic EL display is a method in which light emitters of three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) are separately arranged in a matrix and light emitted respectively. (See Patent Documents 1 to 3). In the case of colorization using an organic EL element, it is technically difficult and cannot be manufactured at low cost because three types of RGB light emitting materials must be arranged on the matrix with high definition. In addition, since the lifetimes (luminance change characteristics) of the three kinds of light emitting materials are different from each other, there is a disadvantage that chromaticity is shifted due to long-term use.

また、白色で発光するバックライトにカラーフィルタを用い、3原色を透過させる方法(たとえば、特許文献4〜6参照)が知られているが、高輝度のRGB光を得るために必要な長寿命かつ高輝度の白色発光の有機EL素子は、未だ得られていない。   In addition, a method for transmitting three primary colors using a color filter for a backlight that emits white light (for example, see Patent Documents 4 to 6) is known. However, a long lifetime necessary for obtaining high-luminance RGB light is known. In addition, a high-luminance white light-emitting organic EL element has not yet been obtained.

あるいはまた、発光体の発光を平面的に分離配置した蛍光体に吸収させ、それぞれの蛍光体から多色の蛍光を発光させる方法も知られている(特許文献7参照)。ここで、蛍光体を用いて、ある発光体から多色の蛍光を発光させる方法は、CRT、プラズマディスプレイらの応用に実績を有している。   Alternatively, there is also known a method in which light emitted from a light emitter is absorbed by phosphors separated and arranged in a plane, and multicolor fluorescence is emitted from each phosphor (see Patent Document 7). Here, the method of emitting multicolor fluorescence from a certain light emitter using a phosphor has a track record in applications such as CRT and plasma display.

また、近年では有機EL素子の発光域の光を吸収し、可視光域の蛍光を発光する蛍光材料をフィルタに用いる色変換方式が検討されてきている(たとえば、特許文献7および8参照)。有機EL素子の発光色は白色に限定されないため、より輝度の高い有機EL素子を光源に適用することができ、青色発光の有機EL素子を用いた色変換方式においては、青色光を緑色光および赤色光に波長変換している(たとえば、特許文献7、ならびに特許文献9および10参照)。このような蛍光色素を含む色変換層を高精細にパターニングすれば、発光体の近紫外光ないし可視光のような弱いエネルギー線を用いても、フルカラーの発光型ディスプレイを構築できる。   In recent years, color conversion methods have been studied in which a fluorescent material that absorbs light in the light emitting region of an organic EL element and emits fluorescence in the visible light region is used as a filter (see, for example, Patent Documents 7 and 8). Since the light emission color of the organic EL element is not limited to white, an organic EL element with higher luminance can be applied as a light source. In a color conversion method using a blue light emitting organic EL element, blue light is converted into green light and The wavelength is converted into red light (see, for example, Patent Document 7 and Patent Documents 9 and 10). If such a color conversion layer containing a fluorescent dye is patterned with high definition, a full-color light-emitting display can be constructed even using weak energy rays such as near-ultraviolet light or visible light of a light emitter.

色変換層のパターニングの方法としては、(1)無機蛍光体の場合と同様に、蛍光色素を液状のレジスト(光反応性ポリマー)中に分散させ、該分散物をスピンコート法などを用いて成膜し他の値に、フォトリソグラフィ法にてパターニングする方法(特許文献8および11参照)、あるいは(2)塩基性のマトリクス中に蛍光色素を分散させ、酸性水溶液を用いて該分散物をエッチングする方法(特許文献10参照)などがある。   As a patterning method for the color conversion layer, (1) as in the case of the inorganic phosphor, a fluorescent dye is dispersed in a liquid resist (photoreactive polymer), and the dispersion is used by spin coating or the like. A method of forming a film and patterning it to other values by a photolithography method (see Patent Documents 8 and 11), or (2) Dispersing the fluorescent dye in a basic matrix, and using an acidic aqueous solution, There is a method of etching (see Patent Document 10).

カラーディスプレイとしての実用上の重要課題は、精細なカラー表示機能を有すると共に、色再現性を含め長期的な安定性を有することである(非特許文献2参照)。しかしながら、有機EL素子には、一定期間の駆動により電流−輝度特性が低下するという課題を有している。   An important practical issue as a color display is that it has a fine color display function and has long-term stability including color reproducibility (see Non-Patent Document 2). However, the organic EL element has a problem that current-luminance characteristics are lowered by driving for a certain period.

この発光特性の低下原因の代表的なものは、ダークスポットの成長である。このダークスポットとは、発光欠陥点のことである。駆動時および保存中に酸化が進むとダークスポットの成長が進み、発光面全体に広がる。このダークスポットは、素子中の酸素または水分により、素子を構成する積層材料の酸化または凝集によるものと考えられている。その成長は、通電中はもちろん、保存中にも進行し、特に(1)素子の周囲に存在する酸素または水分により加速され、(2)有機積層膜中に吸着物として存在する酸素または水分に影響され、および(3)素子作製時の部品に吸着している水分あるいは製造時等における水分の侵入にも影響されると考えられている。   A typical cause of the deterioration of the light emission characteristics is the growth of dark spots. This dark spot is a light emitting defect point. When oxidation proceeds during driving and during storage, the growth of dark spots proceeds and spreads over the entire light emitting surface. This dark spot is considered to be caused by oxidation or aggregation of the laminated material constituting the element due to oxygen or moisture in the element. The growth proceeds not only during energization but also during storage. In particular, the growth is accelerated by (1) oxygen or moisture present around the element, and (2) oxygen or moisture present as an adsorbate in the organic laminated film. And (3) it is considered that it is also affected by moisture adsorbed on components at the time of device fabrication or moisture intrusion at the time of production.

従来の色変換方式の有機ELディスプレイの一般的断面構造を図1に示す。色変換フィルタ40は、透明基板41上に3種(赤色、緑色、青色)の色変換フィルタ層42(R,G,B)が一組となって分散配置され、色変換フィルタ層42を覆ってその上面を平坦化する平坦化層43が設けられている。色変換フィルタ40上に、透明電極51、有機EL層52、反射電極53から構成される有機EL素子50が形成されている。前述のように色変換フィルタ層42は、樹脂中に色変換用の色素を分散したものである。ここで、混合する色素の熱安定性の問題から200℃を超える温度における乾燥を行えないことから、色変換フィルタ層42中に、塗布液中に含有される水分またはパターン形成工程中に混入した水分が含有される可能性が高い。色変換フィルタ層42中に含有された水分が保存または駆動中に平坦化層43を通過して有機EL素子50(詳細には有機EL層52)に到達して、ダークスポットの成長を促進する要因となると考えられる。   FIG. 1 shows a general cross-sectional structure of a conventional color conversion type organic EL display. In the color conversion filter 40, three types (red, green, and blue) of color conversion filter layers 42 (R, G, and B) are dispersedly arranged on the transparent substrate 41 to cover the color conversion filter layer 42. A flattening layer 43 for flattening the upper surface is provided. On the color conversion filter 40, an organic EL element 50 including a transparent electrode 51, an organic EL layer 52, and a reflective electrode 53 is formed. As described above, the color conversion filter layer 42 is obtained by dispersing a color conversion pigment in a resin. Here, since the drying at a temperature exceeding 200 ° C. cannot be performed due to the problem of thermal stability of the dye to be mixed, the color conversion filter layer 42 is mixed with moisture contained in the coating liquid or in the pattern forming process. There is a high possibility that moisture will be contained. Moisture contained in the color conversion filter layer 42 passes through the planarization layer 43 during storage or driving and reaches the organic EL element 50 (specifically, the organic EL layer 52) to promote the growth of dark spots. This is considered to be a factor.

この水分の有機EL素子への侵入を妨げる手法として、色変換フィルタ40と有機EL素子50との間に、厚さ0.01〜200μmの絶縁性の無機酸化物膜を配設する技術が知られている(特許文献12参照)。有機EL層の寿命を維持するために、配設される無機酸化物膜は高いガスバリア性能が要求され、具体的には、水蒸気および酸素に対して10−13cc・cm/cm・s・cmHg以下のガス透過係数(JIS K7126:1987の気体透過度試験方法による)を有することが望ましいとされている。 A technique for disposing an insulating inorganic oxide film having a thickness of 0.01 to 200 μm between the color conversion filter 40 and the organic EL element 50 is known as a technique for preventing the moisture from entering the organic EL element. (See Patent Document 12). In order to maintain the lifetime of the organic EL layer, the disposed inorganic oxide film is required to have high gas barrier performance. Specifically, it is 10 −13 cc · cm / cm 2 · s · against water vapor and oxygen. It is considered desirable to have a gas permeability coefficient of cmHg or less (according to the gas permeability test method of JIS K7126: 1987).

そのような無機酸化物膜の形成方法として、色変換フィルタ40の平坦化層43上に、DCスパッタ法によってSiO、SiNを形成する方法が知られている(特許文献13および14参照)。この方法で形成されたSiO、SiNは、その上に形成される透明電極51の密着性を向上させる効果も知られている。また、低融点ガラスを焼結する方法も知られている(特許文献15参照)。上記の他にも、無機酸化物膜の形成方法として、ゾル−ゲル法、プラズマ化学気相堆積(PECVD)法が知られている。 As a method for forming such an inorganic oxide film, a method of forming SiO x and SiN x on the planarizing layer 43 of the color conversion filter 40 by DC sputtering is known (see Patent Documents 13 and 14). . SiO x and SiN x formed by this method are also known to improve the adhesion of the transparent electrode 51 formed thereon. A method of sintering low-melting glass is also known (see Patent Document 15). In addition to the above, a sol-gel method and a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method are known as methods for forming an inorganic oxide film.

特開昭57−157487号公報JP-A-57-157487 特開昭58−147989号公報Japanese Patent Laid-Open No. 58-147899 特開平3−214593号公報JP-A-3-214593 特開平1−315988号公報JP-A-1-315988 特開平2−273496号公報JP-A-2-27396 特開平3−194885号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-194485 特開平3−152897号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-152897 特開平5−258860号公報JP-A-5-258860 特開平8−286033号公報JP-A-8-286033 特開平9−208944号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-208944 特開平5−198921号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-198921 特開平8−279394号公報JP-A-8-279394 特開平7−146480号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-146480 特開平10−10518号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-10518 特開2000−214318号公報JP 2000-214318 A 特開平5−134112号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-134112 特開平7−218717号公報JP-A-7-218717 特開平7−306311号公報JP-A-7-306311 特開平5−119306号公報JP-A-5-119306 特開平7−104114号公報JP-A-7-104114 特開平6−300910号公報JP-A-6-300910 特開平7−128519号公報JP 7-128519 A 特開平9−330793号公報JP-A-9-330793 特開平5−36475号公報JP-A-5-36475 C. W. Tang, S. A. VanSlike, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987)C. W. Tang, S. A. VanSlike, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987) 機能材料、第18巻第2号、96頁(1998年)Functional Materials, Vol. 18, No. 2, 96 (1998) 月刊ディスプレイ、第3巻第7号、119頁(1997年)Monthly Display, Vol. 3, No. 7, 119 (1997)

しかしながら、色変換フィルタ層32中に含有される有機物の色素の色変換能を劣化させない程度の温度(最高200℃程度)で成膜された無機酸化物膜中にはピンホールが発生しやすく、有機EL素子40の寿命を維持または向上させるのに充分なガスバリア性能を有する無機酸化物膜を形成することは困難である。一方、より低温で実施可能なゾル−ゲル法で形成された無機酸化物膜は、水分および/または揮発性有機成分を含有しており、その上に形成される有機EL素子40が直ちに劣化してしまうことが予想される。   However, pinholes are likely to occur in the inorganic oxide film formed at a temperature that does not deteriorate the color conversion ability of the organic pigment contained in the color conversion filter layer 32 (up to about 200 ° C.). It is difficult to form an inorganic oxide film having gas barrier performance sufficient to maintain or improve the lifetime of the organic EL element 40. On the other hand, an inorganic oxide film formed by a sol-gel method that can be carried out at a lower temperature contains moisture and / or volatile organic components, and the organic EL element 40 formed thereon is immediately deteriorated. It is expected that

したがって、色変換フィルタ層32中に保持される水分(水蒸気)および/または酸素などのガスが、保存または駆動中に有機EL素子40に到達してダークスポットの成長を促進することを有効に防止することが可能な構造に対する強い要求が存在する。   Accordingly, it is possible to effectively prevent moisture (water vapor) and / or gas such as oxygen held in the color conversion filter layer 32 from reaching the organic EL element 40 during storage or driving and promoting the growth of dark spots. There is a strong demand for structures that can be done.

本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、ガスの透過を防止することができる色変換フィルタ、および該色変換フィルタを用いて形成される、長期にわたって安定した発光特性を維持する多色表示の有機ELディスプレイを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and maintains a stable light emission characteristic over a long period of time, which is formed using a color conversion filter capable of preventing gas permeation and the color conversion filter. An object is to provide a multicolor organic EL display.

本発明の第1の実施形態である色変換フィルタは、透明基板と、前記透明基板上に設けられた1つまたは複数種の色変換フィルタ層と、前記色変換層を覆って形成される平坦化層と、前記平坦化層上に形成されるガスバリア層とを備え、前記ガスバリア層は、少なくとも2対の無機膜および高分子膜の積層体と、該積層体の上に設けられた無機絶縁膜とから構成されていることを特徴とする。ここで、前記無機膜のそれぞれは、それぞれ独立的に、導電性透明金属酸化物、絶縁性酸化物、絶縁性窒化物、絶縁性炭化物、または絶縁性酸化窒化物から形成されていてもよい。また、前記高分子膜のそれぞれは、それぞれ独立的に、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエステル樹脂またはポリオレフィン樹脂から形成されていてもよい。さらに、前記無機絶縁膜が、絶縁性酸化物、絶縁性窒化物、絶縁性炭化物、または絶縁性酸化窒化物、好ましくはSiO、AlO、SiN,AlN、SiO、AlO、TiO、BN、またはSiCから形成されていてもよい。 The color conversion filter according to the first embodiment of the present invention is a flat substrate formed by covering a transparent substrate, one or more color conversion filter layers provided on the transparent substrate, and the color conversion layer. And a gas barrier layer formed on the planarization layer, the gas barrier layer comprising a laminate of at least two pairs of an inorganic film and a polymer film, and an inorganic insulation provided on the laminate It is characterized by being comprised from the film | membrane. Here, each of the inorganic films may be independently formed of a conductive transparent metal oxide, an insulating oxide, an insulating nitride, an insulating carbide, or an insulating oxynitride. Each of the polymer films may be independently formed from an acrylic resin, a methacrylic resin, a polyester resin, or a polyolefin resin. Further, the inorganic insulating film is an insulating oxide, insulating nitride, insulating carbide, or insulating oxynitride, preferably SiO x , AlO x , SiN x , AlN x , SiO x N y , AlO x. It may be formed from N y , TiO 2 , BN, or SiC.

本発明の第2の実施形態の有機ELディスプレイは、第1の実施形態の色変換フィルタを用いて形成されることを特徴とする。ここで、色変換フィルタ上に、少なくとも透明電極、有機EL層および反射電極が順次積層されている有機EL素子が形成されていてもよい。あるいは、色変換フィルタと、支持基板上に少なくとも反射電極、有機EL層および透明電極が順次積層されている有機EL素子とを貼り合わせて形成されていてもよい。   The organic EL display according to the second embodiment of the present invention is formed using the color conversion filter according to the first embodiment. Here, an organic EL element in which at least a transparent electrode, an organic EL layer, and a reflective electrode are sequentially stacked may be formed on the color conversion filter. Alternatively, the color conversion filter and an organic EL element in which at least a reflective electrode, an organic EL layer, and a transparent electrode are sequentially laminated on the support substrate may be bonded together.

上記の積層体からなるガスバリア層を有する構成を採ることによって、有機EL素子の発光特性低下の原因となる色変換フィルタ層から有機EL素子への水分および酸素の移動を抑制して、長期にわたって安定した発光特性を維持することができるカラー有機ELディスプレイの提供が可能となる。   By adopting a structure having a gas barrier layer composed of the above laminate, the movement of moisture and oxygen from the color conversion filter layer to the organic EL element, which causes a decrease in the light emission characteristics of the organic EL element, is suppressed and stable over a long period of time. It is possible to provide a color organic EL display that can maintain the light emission characteristics.

本発明の色変換フィルタ10の構成の一例を、図2に示す。図2において、透明基板11上に、所定のパターンを有する3種(赤色、緑色および青色)の色変換フィルタ層12(R,G,B)が形成され、それら3種の色変換フィルタ層12が一組となってマトリクス状に配置されている。色変換フィルタ層12を覆って、その上面を平坦化する平坦化層13が形成され、平坦化層13の上にガスバリア層14が形成されている。ガスバリア層14は、少なくとも2対の無機膜(61a,b)および高分子膜(62a,b)の積層体の上に、無機絶縁膜63を有する構造を有する。以下、各層について詳細に述べる。   An example of the configuration of the color conversion filter 10 of the present invention is shown in FIG. In FIG. 2, three (red, green, and blue) color conversion filter layers 12 (R, G, and B) having a predetermined pattern are formed on a transparent substrate 11, and these three color conversion filter layers 12 are formed. Are arranged in a matrix. A flattening layer 13 that covers the color conversion filter layer 12 and flattens the upper surface thereof is formed, and a gas barrier layer 14 is formed on the flattening layer 13. The gas barrier layer 14 has a structure having an inorganic insulating film 63 on a laminate of at least two pairs of inorganic films (61a, b) and polymer films (62a, b). Hereinafter, each layer will be described in detail.

透明基板11は、可視光(波長400〜700nm)に対して透明であり、積層される層の形成に用いられる条件(溶媒、温度等)に耐えるものであるべきであり、および寸法安定性に優れていることが好ましい。好ましい透明基板11は、ガラス基板、およびポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂(ポリメチルメタクリレートを含む)、ポリエステル樹脂(ポリエチレンテレフタレートを含む)、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などの樹脂で形成された剛直性の樹脂基板を含む。あるいはまた、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂(ポリメチルメタクリレートを含む)、ポリエステル樹脂(ポリエチレンテレフタレートを含む)、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などから形成される可撓性フィルムを、透明基板11として用いてもよい。   The transparent substrate 11 should be transparent to visible light (wavelength 400 to 700 nm), withstand the conditions (solvent, temperature, etc.) used to form the layer to be laminated, and to have dimensional stability. It is preferable that it is excellent. The transparent substrate 11 is preferably a glass substrate and a rigid resin substrate formed of a resin such as polyolefin resin, acrylic resin (including polymethyl methacrylate), polyester resin (including polyethylene terephthalate), polycarbonate resin, or polyimide resin. including. Alternatively, a flexible film formed from a polyolefin resin, an acrylic resin (including polymethyl methacrylate), a polyester resin (including polyethylene terephthalate), a polycarbonate resin, or a polyimide resin may be used as the transparent substrate 11. .

色変換フィルタ層12は、カラーフィルタ層、色変換層、またはカラーフィルタ層と色変換層との積層体から構成される。カラーフィルタ層は、色変換の機能を持たず、選択される範囲の波長の光を透過させて、出力される光の色純度を向上させる層である。カラーフィルタ層と色変換層との積層体を使用する場合、通常は透明基板と色変換層との間にカラーフィルタ層が配置される。カラーフィルタ層は、液晶ディスプレイなどにおいて用いられている材料など当該技術において知られている任意の材料を用いて形成することができる。   The color conversion filter layer 12 is composed of a color filter layer, a color conversion layer, or a laminate of a color filter layer and a color conversion layer. The color filter layer is a layer that does not have a color conversion function and transmits light of a wavelength in a selected range to improve the color purity of output light. When using the laminated body of a color filter layer and a color conversion layer, a color filter layer is normally arrange | positioned between a transparent substrate and a color conversion layer. The color filter layer can be formed using any material known in the art such as a material used in a liquid crystal display or the like.

色変換層は、色変換色素とマトリクス樹脂からなる層である。色変換色素は、入射光の波長分布変換を行って、異なる波長域の光を放射する色素であり、好ましくは有機発光層からの近紫外光または青色〜青緑色の光の波長分布変換を行って、所望の波長域の光(たとえば、青色、緑色または赤色)を放射する色素である。   The color conversion layer is a layer made of a color conversion dye and a matrix resin. The color conversion dye is a dye that converts the wavelength distribution of incident light and emits light in different wavelength ranges, and preferably converts the wavelength distribution of near-ultraviolet light or blue to blue-green light from the organic light emitting layer. Thus, it is a pigment that emits light in a desired wavelength band (for example, blue, green, or red).

本発明における色変換色素は、発光体から発せられる近紫外領域ないし可視領域の光、特に青色ないし青緑色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として発光するものである。好ましくは、少なくとも赤色領域の蛍光を発する蛍光色素の1種類以上を用い、さらに緑色領域の蛍光を発する蛍光色素の1種類以上と組み合わせてもよい。   The color conversion dye in the present invention absorbs light in the near ultraviolet region or visible region, particularly light in the blue or blue-green region, emitted from a light emitter, and emits visible light having a different wavelength as fluorescence. Preferably, at least one fluorescent dye that emits fluorescence in the red region may be used, and may be combined with one or more fluorescent pigments that emit fluorescence in the green region.

すなわち、光源として青色ないし青緑色領域の光を発光する有機EL素子を用いる場合、該素子からの光を単なる赤色フィルタに通して赤色領域の光を得ようとすると、元々赤色領域の波長の光が少ないために極めて暗い出力光になってしまう。これに対して、該素子からの青色ないし青緑色領域の光を、赤色変換層中の色変換色素によって赤色領域の光に変換することにより、十分な強度を有する赤色領域の光の出力が可能となる。したがって、本発明において、赤色変換フィルタ層12Rは、好ましくは色変換層から構成され、さらに好ましくはカラーフィルタ層と色変換層との積層体から構成される。   That is, when an organic EL element that emits light in the blue or blue-green region is used as the light source, if light from the element is passed through a simple red filter to obtain light in the red region, light having a wavelength in the red region is originally used. Because there is little, it becomes very dark output light. On the other hand, light in the red region having sufficient intensity can be output by converting the light in the blue or blue-green region from the element into light in the red region by the color conversion dye in the red conversion layer. It becomes. Therefore, in the present invention, the red color conversion filter layer 12R is preferably composed of a color conversion layer, and more preferably composed of a laminate of a color filter layer and a color conversion layer.

一方、緑色領域の光は、赤色領域の光と同様に、該素子からの光を別の色変換色素によって緑色領域の光に変換させて出力してもよい。あるいはまた、該素子の発光が緑色領域の光を十分に含むならば、該素子からの光を単に緑色フィルタを通して出力してもよい。さらに、青色領域の光に関しては、有機EL素子の光を単なる青色フィルタに通して出力させることが可能である。   On the other hand, the light in the green region may be output after the light from the element is converted into the light in the green region by another color conversion dye, similarly to the light in the red region. Alternatively, if the light emission of the element sufficiently includes light in the green region, the light from the element may simply be output through the green filter. Furthermore, regarding the light in the blue region, the light from the organic EL element can be output through a simple blue filter.

発光体から発せられる青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えばローダミンB、ローダミン6G、ローダミン3B、ローダミン101、ローダミン110、スルホローダミン、ベーシックバイオレット11、ベーシックレッド2などのローダミン系色素、シアニン系色素、1−エチル−2−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル]−ピリジニウムパークロレート(ピリジン1)などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。さらに、各種染料(直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など)も蛍光性があれば使用することができる。   Examples of fluorescent dyes that absorb light in the blue to blue-green region emitted from the luminescent material and emit fluorescence in the red region include rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B, rhodamine 101, rhodamine 110, sulforhodamine, basic violet 11 Pyridine dyes such as rhodamine dyes such as basic red 2, cyanine dyes, 1-ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridinium perchlorate (pyridine 1) Or oxazine dyes. Furthermore, various dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) can be used if they are fluorescent.

発光体から発せられる青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えば3−(2’−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノ−クマリン(クマリン6)、3−(2’−ベンゾイミダゾリル)−7−ジエチルアミノ−クマリン(クマリン7)、3−(2’−N−メチルベンゾイミダゾリル)−7−ジエチルアミノ−クマリン(クマリン30)、2,3,5,6−1H,4H−テトラヒドロ−8−トリフルオロメチルキノリジン(9,9a,1−gh)クマリン(クマリン153)などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー51、さらにはソルベントイエロー11、ソルベントイエロー116などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。さらに、各種染料(直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など)も蛍光性があれば使用することができる。   Examples of fluorescent dyes that absorb blue to blue-green light emitted from a light emitter and emit green light include 3- (2′-benzothiazolyl) -7-diethylamino-coumarin (coumarin 6), 3- (2′-Benzimidazolyl) -7-diethylamino-coumarin (coumarin 7), 3- (2′-N-methylbenzimidazolyl) -7-diethylamino-coumarin (coumarin 30), 2,3,5,6-1H, 4H -Coumarin-based dyes such as tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidine (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153), or basic yellow 51 which is a coumarin dye-based dye, solvent yellow 11, solvent yellow 116 And naphthalimide dyes. Furthermore, various dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) can be used if they are fluorescent.

なお、本発明に用いる色変換色素を、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、有機色変換顔料としてもよい。また、これらの色変換色素や有機色変換顔料(本明細書中で、前記2つを合わせて色変換色素と総称する)は単独で用いてもよく、蛍光の色相を調整するために2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The color conversion dye used in the present invention includes polymethacrylate, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, alkyd resin, aromatic sulfonamide resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, and these resins. An organic color conversion pigment may be obtained by kneading into a mixture or the like in advance to obtain a pigment. In addition, these color conversion dyes and organic color conversion pigments (in the present specification, the above two are collectively referred to as color conversion dyes) may be used singly, and two kinds may be used to adjust the hue of fluorescence. A combination of the above may also be used.

本発明に用いる色変換色素は、色変換層に対して、該色変換層の重量を基準として0.01〜5質量%、より好ましくは0.1〜2質量%含有される。もし色変換色素の含有量が0.01質量%未満ならば、十分な波長変換を行うことができず、あるいは含有量が5%を越えるならば、濃度消光等の効果により色変換効率の低下をもたらす。   The color conversion pigment used in the present invention is contained in the color conversion layer in an amount of 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, based on the weight of the color conversion layer. If the content of the color conversion dye is less than 0.01% by mass, sufficient wavelength conversion cannot be performed, or if the content exceeds 5%, the color conversion efficiency decreases due to effects such as density quenching. Bring.

本発明の色変換層に用いられるマトリクス樹脂は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂(レジスト)を光および/または熱処理して、ラジカル種またはイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものである。また、色変換層のパターニングを行うために、該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、未露光の状態において有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。   The matrix resin used in the color conversion layer of the present invention is insoluble by photocuring or photothermal combination type curable resin (resist) by light and / or heat treatment to generate radical species or ionic species to polymerize or crosslink. Infusible. In order to perform patterning of the color conversion layer, it is desirable that the photocurable or photothermal combination type curable resin is soluble in an organic solvent or an alkaline solution in an unexposed state.

具体的には、マトリクス樹脂は、(1)アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる組成物膜を光または熱処理して、光ラジカルまたは熱ラジカルを発生させて重合させたもの、(2)ボリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物を光または熱処理により二量化させて架橋したもの、(3)鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物膜を光または熱処理してナイトレンを発生させ、オレフィンと架橋させたもの、および(4)エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる組成物膜を光または熱処理により、酸(カチオン)を発生させて重合させたものなどを含む。特に、(1)のアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱重合開始剤とからなる組成物を重合させたものが好ましい。なぜなら、該組成物は高精細なパターニングが可能であり、および重合した後は耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いからである。   Specifically, the matrix resin is obtained by subjecting a composition film comprising (1) an acrylic polyfunctional monomer and oligomer having a plurality of acryloyl groups and methacryloyl groups, and light or thermal polymerization initiator to light or heat treatment, Or a polymer obtained by generating thermal radicals, (2) a composition comprising a polyvinylcinnamic acid ester and a sensitizer dimerized by light or heat treatment, and (3) a chain or cyclic olefin A composition film composed of bisazide is irradiated with light or heat to generate nitrene and crosslinked with olefin, and (4) a composition film composed of a monomer having an epoxy group and an acid generator is subjected to light or heat treatment, Including those polymerized by generating an acid (cation). In particular, a polymer obtained by polymerizing a composition comprising the acrylic polyfunctional monomer and oligomer (1) and light or a thermal polymerization initiator is preferred. This is because the composition can be patterned with high definition and has high reliability such as solvent resistance and heat resistance after polymerization.

本発明で用いることができる光重合開始剤、増感剤および酸発生剤は、含まれる蛍光変換色素が吸収しない波長の光によって重合を開始させるものであることが好ましい。本発明の蛍光変換フィルタ層において、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂中の樹脂自身が光または熱により重合することが可能である場合には、光重合開始剤および熱重合開始剤を添加しないことも可能である。   The photopolymerization initiator, sensitizer, and acid generator that can be used in the present invention are preferably those that initiate polymerization by light having a wavelength that is not absorbed by the fluorescent conversion dye contained therein. In the fluorescence conversion filter layer of the present invention, a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator are added when the resin itself in the photocurable or photothermal combination type curable resin can be polymerized by light or heat. It is also possible not to.

マトリクス樹脂(色変換層)は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂、色変換色素および添加剤を含有する溶液または分散液を、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて透明基板11上に塗布して樹脂の層を形成し、そして所望される部分の光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を露光することにより重合させて形成される。所望される部分に露光を行って光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を不溶化させた後に、パターニングを行う。該パターニングは、未露光部分の樹脂を溶解または分散させる有機溶媒またはアルカリ溶液を用いて、未露光部分の樹脂を除去するなどの慣用の方法によって実施することができる。色変換層は、通常5μm以上、好ましくは8〜15μmの膜厚を有する。   Matrix resin (color conversion layer) is a photocurable or photothermal combination type curable resin, a solution or dispersion containing a color conversion dye and an additive, spin coating method, roll coating method, casting method, dip coating method, etc. Is applied onto the transparent substrate 11 to form a resin layer, and a desired portion of the photocurable or photothermal combination type curable resin is polymerized by exposure. Patterning is performed after exposing the desired portion to insolubilize the photocurable or photothermal combination type curable resin. The patterning can be performed by a conventional method such as removing the resin in the unexposed portion using an organic solvent or an alkali solution in which the resin in the unexposed portion is dissolved or dispersed. The color conversion layer has a thickness of usually 5 μm or more, preferably 8 to 15 μm.

平坦化層13は、色変換フィルタ層12の機能を損なうことなく形成することができ、かつ適度な弾力性を有する材料から形成することができる。好ましい材料は、可視域における透明性が高く(400〜800nmの範囲で透過率50%以上)、表面硬度が鉛筆硬度2H以上であり、100℃以上のTgを有し、色変換フィルタ層12上に平滑な塗膜を形成することができ、色変換層の機能を低下させないポリマー材料である。より好ましくは、   The planarization layer 13 can be formed without impairing the function of the color conversion filter layer 12 and can be formed from a material having appropriate elasticity. A preferable material has high transparency in the visible range (transmittance of 50% or more in the range of 400 to 800 nm), a surface hardness of 2H or more, a Tg of 100 ° C. or more, and the color conversion filter layer 12. It is a polymer material that can form a smooth coating film and does not deteriorate the function of the color conversion layer. More preferably,

そのようなポリマー材料の例は、イミド変性シリコーン樹脂(特許文献16〜18参照)、無機金属化合物(TiO、Al、SiO等)をアクリル、ポリイミド、シリコーン樹脂等の中に分散した材料(特許文献19、20参照)、アクリレートモノマー/オリゴマー/ポリマーの反応性ビニル基を有した樹脂、レジスト樹脂(特許文献12、ならびに特許文献21〜23参照)、フッ素系樹脂(特許文献23、24参照)などの光硬化性樹脂/または熱硬化性樹脂を挙げることができる。あるいはまた、ゾル−ゲル法により形成される無機化合物を用いて平坦化層13を形成してもよい(非特許文献3、特許文献12参照)。また、高い熱伝導率を有するメソゲン構造を有するエポキシ樹脂などの光硬化性樹脂を用いて、有機EL素子から透明基板11方向への熱の放散をはかることもできる。 Examples of such polymeric materials, dispersed imide-modified silicone resin (see Patent Document 16 to 18), an inorganic metal compound (TiO 2, Al 2 O 3 , SiO 2 , etc.) acrylic, polyimide, in such as a silicone resin Materials (see Patent Documents 19 and 20), resins having reactive vinyl groups of acrylate monomers / oligomers / polymers, resist resins (see Patent Documents 12 and 21 to 23), fluorine-based resins (Patent Documents 23) , 24) and the like. Alternatively, the planarization layer 13 may be formed using an inorganic compound formed by a sol-gel method (see Non-Patent Document 3 and Patent Document 12). In addition, it is possible to dissipate heat from the organic EL element toward the transparent substrate 11 by using a photocurable resin such as an epoxy resin having a mesogenic structure having a high thermal conductivity.

平坦化層13を形成する方法には、特に制限はない。たとえば、乾式法(スパッタ法、蒸着法、CVD法など)、あるいは湿式法(スピンコート法、ロールコート法、キャスト法など)のような慣用の手法により形成することができる。   There is no particular limitation on the method of forming the planarization layer 13. For example, it can be formed by a conventional method such as a dry method (sputtering method, vapor deposition method, CVD method, etc.) or a wet method (spin coating method, roll coating method, casting method, etc.).

平坦化層13の上に形成されるガスバリア層14は、優れた水分・酸素遮断性を有し、したがって色変換フィルタ層12からの水分および酸素の透過を防止するための層である。有機EL素子からの光を色変換フィルタ層12へと透過させるため、ガスバリア層14は、可視域における透明性が高く(400〜800nmの範囲で透過率50%以上)を有することが好ましい。またガスバリア層上に電気的に独立した複数の部分からなる透明電極を形成する必要があるため、ガスバリア層14は少なくともその上面において電気絶縁性を有することが要求される。また、好ましくは、ガスバリア層14は、鉛筆硬度2H以上の膜硬度を有する。本発明のガスバリア層14は、図3に示すように、少なくとも2対の無機膜(61a,b)および高分子膜(62a,b)の積層体の上に、無機絶縁膜63を有する構造を有する。3対以上の無機膜61/高分子膜62の積層体を用いてもよい。   The gas barrier layer 14 formed on the planarization layer 13 has excellent moisture / oxygen barrier properties, and is therefore a layer for preventing the transmission of moisture and oxygen from the color conversion filter layer 12. In order to transmit light from the organic EL element to the color conversion filter layer 12, the gas barrier layer 14 preferably has high transparency in the visible range (transmittance of 50% or more in the range of 400 to 800 nm). Further, since it is necessary to form a transparent electrode composed of a plurality of electrically independent portions on the gas barrier layer, the gas barrier layer 14 is required to have electrical insulation at least on its upper surface. Preferably, the gas barrier layer 14 has a film hardness of 2H or higher. As shown in FIG. 3, the gas barrier layer 14 of the present invention has a structure having an inorganic insulating film 63 on a laminate of at least two pairs of inorganic films (61a, b) and polymer films (62a, b). Have. A laminate of three or more pairs of inorganic film 61 / polymer film 62 may be used.

本発明の無機膜61(a,b)は、ITO(In−Sn酸化物)、NESA膜、Sn酸化物、In酸化物、IZO(In−Zn酸化物)、Zn酸化物、Zn−Al酸化物、Zn−Ga酸化物、またはこれらの酸化物に対してF、Sbなどのドーパントを添加した導電性透明金属酸化物を用いて形成することができる。これらの導電性透明金属酸化物を用いる場合、その伝熱性の高さにより、有機EL素子にて発生した熱を、効率よく透明基板11側およびディスプレイ周囲方向へと放散するのに有効である。あるいはまた、本発明の無機膜61(a,b)は、SiO、AlO、TiOのような絶縁性酸化物、SiN,AlN、BNのような絶縁性窒化物、SiO、AlOのような絶縁性酸化窒化物、またはSiCのような絶縁性炭化物を用いて形成することができる。本発明において、無機膜61aと無機膜61bとは、同一の材料で形成されていてもよいし、あるいは異種の材料で形成されていてもよい。3層以上の無機膜を用いる場合にも同様である。 The inorganic film 61 (a, b) of the present invention includes ITO (In—Sn oxide), NESA film, Sn oxide, In oxide, IZO (In—Zn oxide), Zn oxide, and Zn—Al oxide. And a conductive transparent metal oxide in which a dopant such as F or Sb is added to these oxides, Zn—Ga oxide, or these oxides. When these conductive transparent metal oxides are used, it is effective to efficiently dissipate the heat generated in the organic EL element to the transparent substrate 11 side and the display peripheral direction due to its high heat conductivity. Alternatively, the inorganic film 61 (a, b) of the present invention includes an insulating oxide such as SiO x , AlO x , and TiO 2 , an insulating nitride such as SiN x , AlN x , and BN, and SiO x N. It can be formed using an insulating oxynitride such as y , AlO x N y , or an insulating carbide such as SiC. In the present invention, the inorganic film 61a and the inorganic film 61b may be formed of the same material, or may be formed of different materials. The same applies to the case where three or more inorganic films are used.

無機膜61(a,b)は、蒸着法、スパッタ法(反応性スパッタ法を含む)、化学気相堆積(CVD)法を用いて形成することができる。特に酸化物の膜を形成する場合、密着性、膜厚の均質性および生産性の観点から、スパッタ法(反応性スパッタ法を含む)を用いることが好ましい。   The inorganic film 61 (a, b) can be formed by vapor deposition, sputtering (including reactive sputtering), or chemical vapor deposition (CVD). In particular, when an oxide film is formed, it is preferable to use a sputtering method (including a reactive sputtering method) from the viewpoints of adhesion, film thickness uniformity, and productivity.

無機膜61(a,b)の膜厚は、前述の可視域における透明性を有する限り厚くすることができるが、通常50〜300nmの範囲内である。このような範囲の膜厚を有する膜を形成することによって、可視域における透明性を含む前述の要求特性を満たすと同時に、ピンホールのような欠陥の発生を抑制して、良好なガス(水分および酸素)遮断性を提供することが可能となる。   The film thickness of the inorganic film 61 (a, b) can be increased as long as it has transparency in the visible range described above, but is usually in the range of 50 to 300 nm. By forming a film having a film thickness in such a range, the above-mentioned required characteristics including transparency in the visible range are satisfied, and at the same time, the occurrence of defects such as pinholes is suppressed, and a good gas (water content) And oxygen) barrier properties can be provided.

本発明の高分子膜62(a,b)は、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)およびポリエチレンナフタレート(PEN)のようなポリエステル樹脂、または、ポリエチレンおよびポリプロピレンのようなポリオレフィン樹脂から形成することができる。高分子膜62(a,b)は、これらの樹脂を溶媒に溶解させた溶液を用いるスピンコート法、ロールコート法、ディップコート法、ナイフコート法、キャスト法などによって形成することができる。しかしながら、好ましくは、水分濃度の低い環境で行うことが可能な、真空加熱蒸着法、プラズマ重合法、イオン化蒸着法、スパッタ法、化学気相堆積(CVD)法などの気相中の方法を用いて、高分子膜62(a、b)を形成する。あるいはまた、前述の気相方法を用いてモノマーを無機膜61(a,b)上に付着させ、その後に加熱、UV照射などを行ってインサイチューで重合させて高分子膜62(a、b)を形成してもよい。   The polymer film 62 (a, b) of the present invention is formed from an acrylic resin, a methacrylic resin, a polyester resin such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), or a polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene. can do. The polymer film 62 (a, b) can be formed by a spin coat method, a roll coat method, a dip coat method, a knife coat method, a cast method or the like using a solution in which these resins are dissolved in a solvent. However, it is preferable to use a method in a gas phase such as a vacuum heating vapor deposition method, a plasma polymerization method, an ionization vapor deposition method, a sputtering method, or a chemical vapor deposition (CVD) method, which can be performed in an environment with a low moisture concentration. Thus, the polymer film 62 (a, b) is formed. Alternatively, the monomer is deposited on the inorganic film 61 (a, b) using the vapor phase method described above, and then polymerized in situ by heating, UV irradiation, etc., and polymer film 62 (a, b). ) May be formed.

本発明の高分子膜62(a,b)は、無機膜61にピンホールのような欠陥が発生した場合に、その欠陥を充填する機能を有する。2つ以上の無機膜61(または無機絶縁膜63)の同一の位置にピンホールのような欠陥が発生する可能性は低いので、無機膜61と高分子膜62との積層構造を採ることによって、より良好なガス遮断性を提供することが可能となる。   The polymer film 62 (a, b) of the present invention has a function of filling a defect such as a pinhole in the inorganic film 61 when the defect occurs. Since it is unlikely that a defect such as a pinhole will occur at the same position of two or more inorganic films 61 (or inorganic insulating films 63), by adopting a laminated structure of the inorganic film 61 and the polymer film 62 It is possible to provide better gas barrier properties.

本発明の高分子膜62(a,b)は、ディスプレイの視野角特性が低下しないようにガスバリア層14全体の膜厚が30μm以下となるような任意の膜厚であることができるが、好ましくは、それぞれの高分子膜62(a,b)は0.5〜2μmの膜厚を有する。   The polymer film 62 (a, b) of the present invention can have an arbitrary film thickness such that the entire film thickness of the gas barrier layer 14 is 30 μm or less so that the viewing angle characteristics of the display are not deteriorated. Each polymer film 62 (a, b) has a film thickness of 0.5 to 2 μm.

本発明の無機絶縁膜63は、SiO、AlOのような絶縁性酸化物、SiN,AlNのような絶縁性窒化物、SiO、AlOのような絶縁性酸化窒化物を用いて形成することができる。このような材料を用いることによって、その上に形成される複数の部分からなる透明電極の電気的独立性を確保すると同時に、透明電極の密着性を向上させることができる。あるいはまた、TiOのような絶縁性酸化物、BNのような絶縁性窒化物、またはSiCのような絶縁性炭化物を用いて無機絶縁膜63を形成することができる。 The inorganic insulating film 63 of the present invention includes an insulating oxide such as SiO x and AlO x , an insulating nitride such as SiN x and AlN x , and an insulating oxide such as SiO x N y and AlO x N y. It can be formed using nitride. By using such a material, it is possible to ensure the electrical independence of the transparent electrode composed of a plurality of portions formed thereon, and at the same time improve the adhesion of the transparent electrode. Alternatively, the inorganic insulating film 63 can be formed using an insulating oxide such as TiO 2 , an insulating nitride such as BN, or an insulating carbide such as SiC.

さらに、図4に示すように、無機絶縁膜63を、色変換フィルタ層12、平坦化層13、無機膜61および高分子膜62を完全に覆うように形成することが好ましい。このような構成を採ることによって、ガスバリア層14の形成後に、平坦化層13および/または高分子膜62が大気と接触して、大気中に含まれる酸素および水分を吸着することを防止して、ディスプレイ形成後にそれら酸素および水分が有機EL素子を劣化させることを防止することができる。   Furthermore, as shown in FIG. 4, it is preferable to form the inorganic insulating film 63 so as to completely cover the color conversion filter layer 12, the planarization layer 13, the inorganic film 61, and the polymer film 62. By adopting such a configuration, it is possible to prevent the planarization layer 13 and / or the polymer film 62 from coming into contact with the atmosphere after the gas barrier layer 14 is formed and adsorbing oxygen and moisture contained in the atmosphere. The oxygen and moisture can be prevented from deteriorating the organic EL element after the display is formed.

無機絶縁膜63は、蒸着法、スパッタ法(反応性スパッタ法を含む)、化学気相堆積(CVD)法を用いて形成することができる。特に酸化物の膜を形成する場合、密着性、膜厚の均質性および生産性の観点から、スパッタ法(反応性スパッタ法を含む)を用いることが好ましい。   The inorganic insulating film 63 can be formed by vapor deposition, sputtering (including reactive sputtering), or chemical vapor deposition (CVD). In particular, when an oxide film is formed, it is preferable to use a sputtering method (including a reactive sputtering method) from the viewpoints of adhesion, film thickness uniformity, and productivity.

無機絶縁膜63の膜厚は、無機膜61(a,b)と同様に、前述の可視域における透明性を有する限り厚くすることができるが、通常50〜300nmの範囲内である。このような範囲の膜厚を有する無機絶縁膜63を形成することによって、可視域における透明性を含む前述の要求特性を満たすと同時に、ピンホールのような欠陥の発生を抑制して、良好なガス(水分、酸素および低分子成分)遮断性を提供することが可能となる。   The film thickness of the inorganic insulating film 63 can be increased as long as it has transparency in the visible region as described above, as in the case of the inorganic film 61 (a, b), but is usually in the range of 50 to 300 nm. By forming the inorganic insulating film 63 having a film thickness in such a range, the above-mentioned required characteristics including transparency in the visible region are satisfied, and at the same time, the occurrence of defects such as pinholes is suppressed, It becomes possible to provide gas (water, oxygen and low molecular components) barrier properties.

本発明の色変換フィルタ10を用いて多色表示ディスプレイを作製する場合には、図2に示したように、赤色変換フィルタ層12R、緑色変換フィルタ層12Gおよび青色変換フィルタ層12Bの3種の色変換フィルタ層を形成することが望ましい。各色の色変換フィルタ層12(R,G,B)のパターンは、使用される用途に依存する。矩形または円形の赤色変換フィルタ層12R、緑色変換フィルタ層12Gおよび青色変換フィルタ層12Bを1組として、それらを透明基板11全面にマトリクス状に配置してもよい。あるいは、ストライプ形状(所望される幅を有し、透明基板11の一方向の寸法に相当する長さを有する)の赤色変換フィルタ層12R、緑色変換フィルタ層12Gおよび青色変換フィルタ層12Bを1組とし、それらを透明基板11全面に平行に配列してもよい。あるいはまた、所望される場合には、特定色の色変換フィルタ層12を、他色の色変換フィルタ層12よりも多く(数的に、または面積的に)配置することも可能である。   When producing a multicolor display using the color conversion filter 10 of the present invention, as shown in FIG. 2, three types of red conversion filter layer 12R, green conversion filter layer 12G, and blue conversion filter layer 12B are used. It is desirable to form a color conversion filter layer. The pattern of the color conversion filter layer 12 (R, G, B) for each color depends on the application used. A rectangular or circular red color conversion filter layer 12R, green color conversion filter layer 12G, and blue color conversion filter layer 12B may be taken as a set and arranged in a matrix on the entire surface of the transparent substrate 11. Alternatively, one set of a red color conversion filter layer 12R, a green color conversion filter layer 12G, and a blue color conversion filter layer 12B having a stripe shape (having a desired width and a length corresponding to a dimension in one direction of the transparent substrate 11). And they may be arranged in parallel on the entire surface of the transparent substrate 11. Alternatively, if desired, the color conversion filter layers 12 of a specific color can be arranged more (numerically or in area) than the color conversion filter layers 12 of other colors.

本発明の色変換フィルタ10の上に有機EL素子20を形成することによって得られる、本発明の有機ELディスプレイを図5に示す。有機EL素子20は、透明電極21および反射電極23に挟持された有機EL層22を含む。   FIG. 5 shows an organic EL display of the present invention obtained by forming the organic EL element 20 on the color conversion filter 10 of the present invention. The organic EL element 20 includes an organic EL layer 22 sandwiched between a transparent electrode 21 and a reflective electrode 23.

透明電極21は、波長400〜800nmの光に対して好ましくは50%以上、より好ましくは85%以上の透過率を有することが好ましい。透明電極21は、ITO(In−Sn酸化物)、NESA膜、Sn酸化物、In酸化物、IZO(In−Zn酸化物)、Zn酸化物、Zn−Al酸化物、Zn−Ga酸化物、またはこれらの酸化物に対してF、Sbなどのドーパントを添加した導電性透明金属酸化物を用いて形成することができる。透明電極21は、蒸着法、スパッタ法(反応性スパッタ法を含む)または化学気相堆積(CVD)法を用いて形成され、好ましくはスパッタ法(反応性スパッタ法を含む)を用いて形成される。透明電極21は、通常50nm以上、好ましくは50nm〜1μm、より好ましくは100〜300nmの範囲内の厚さを有することが望ましい。後述するように複数の部分電極からなる透明電極21が必要になる場合には、所望の形状を与えるマスクを用いて複数の部分電極からなる透明電極21を形成してもよいし、あるいは、逆テーパー状の断面形状を有する分離隔壁を用いて複数の部分電極からなる透明電極21を形成してもよい。   The transparent electrode 21 preferably has a transmittance of 50% or more, more preferably 85% or more with respect to light having a wavelength of 400 to 800 nm. The transparent electrode 21 is made of ITO (In—Sn oxide), NESA film, Sn oxide, In oxide, IZO (In—Zn oxide), Zn oxide, Zn—Al oxide, Zn—Ga oxide, Alternatively, a conductive transparent metal oxide in which a dopant such as F or Sb is added to these oxides can be used. The transparent electrode 21 is formed using a vapor deposition method, a sputtering method (including a reactive sputtering method) or a chemical vapor deposition (CVD) method, and preferably formed using a sputtering method (including a reactive sputtering method). The The transparent electrode 21 desirably has a thickness of usually 50 nm or more, preferably 50 nm to 1 μm, more preferably 100 to 300 nm. As will be described later, when a transparent electrode 21 composed of a plurality of partial electrodes is required, the transparent electrode 21 composed of a plurality of partial electrodes may be formed using a mask giving a desired shape, or vice versa. You may form the transparent electrode 21 which consists of a some partial electrode using the separation partition which has a taper-shaped cross-sectional shape.

透明電極21を陽極または陰極のいずれとしても用いることも可能である。透明電極21を陰極として用いる場合、有機EL層22との界面にバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。バッファ層の材料としては、Li、Na、K、またはCsなどのアルカリ金属、Ba、Srなどのアルカリ土類金属またはそれらを含む合金、希土類金属、あるいはそれら金属のフッ化物などの用いることができるが、それらに限定されるものではない。バッファ層の膜厚は、駆動電圧および透明性等を考慮して適宜選択することができるが、通常の場合には10nm以下であることが好ましい。   The transparent electrode 21 can be used as either an anode or a cathode. When the transparent electrode 21 is used as a cathode, it is desirable to provide a buffer layer at the interface with the organic EL layer 22 to improve the electron injection efficiency. As the material of the buffer layer, alkali metals such as Li, Na, K, or Cs, alkaline earth metals such as Ba and Sr, alloys containing them, rare earth metals, or fluorides of these metals can be used. However, it is not limited to them. The film thickness of the buffer layer can be appropriately selected in consideration of the driving voltage, transparency, and the like, but in a normal case, it is preferably 10 nm or less.

有機EL層22は、有機発光層を少なくとも含み、必要に応じて正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層および/または電子注入層を含む。これらの各層は、それぞれにおいて所望される特性を実現するのに充分な膜厚を有して形成される。たとえば、下記のような層構成からなるものが採用される。   The organic EL layer 22 includes at least an organic light emitting layer, and includes a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, and / or an electron injection layer as necessary. Each of these layers is formed to have a film thickness sufficient to realize desired characteristics in each layer. For example, what consists of the following layer structures is employ | adopted.

(1)有機発光層
(2)正孔注入層/有機発光層
(3)有機発光層/電子注入層
(4)正孔注入層/有機発光層/電子注入層
(5)正孔輸送層/有機発光層/電子注入層
(6)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層
(7)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層
(上記の構成において、陽極として機能する電極が左側に接続され、陰極として機能する電極が右側に接続される)
(1) Organic light emitting layer (2) Hole injection layer / organic light emitting layer (3) Organic light emitting layer / electron injection layer (4) Hole injection layer / organic light emitting layer / electron injection layer (5) Hole transport layer / Organic light emitting layer / electron injection layer (6) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer (7) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer / electron injection Layer (In the above configuration, the electrode functioning as the anode is connected to the left side, and the electrode functioning as the cathode is connected to the right side)

有機発光層の材料としては、任意の公知の材料を用いることができる。たとえば、青色から青緑色の発光を得るためには、例えば縮合芳香環化合物、環集合化合物、金属錯体(Alqのようなアルミニウム錯体など)、スチリルベンゼン系化合物(4,4’−ビス(ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)など)、ポルフィリン系化合物、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、芳香族ジメチリディン系化合物などの材料が好ましく使用される(非特許文献2および非特許文献3参照)。あるいはまた、ホスト化合物にドーパントを添加することによって、種々の波長域の光を発する有機発光層を形成してもよい。ホスト化合物としては、ジスチリルアリーレン系化合物(たとえば出光興産製IDE−120など)、N,N’−ジトリル−N,N’−ジフェニルビフェニルアミン(TPD)、アルミニウムトリス(8−キノリノラート)(Alq)等を用いることができる。ドーパントとしては、ペリレン(青紫色)、クマリン6(青色)、キナクリドン系化合物(青緑色〜緑色)、ルブレン(黄色)、4−ジシアノメチレン−2−(p−ジメチルアミノスチリル)−6−メチル−4H−ピラン(DCM、赤色)、白金オクタエチルポルフィリン錯体(PtOEP、赤色)などを用いることができる。 Any known material can be used as the material of the organic light emitting layer. For example, in order to obtain light emission from blue to blue-green, for example, a condensed aromatic ring compound, a ring assembly compound, a metal complex (such as an aluminum complex such as Alq 3 ), a styrylbenzene compound (4,4′-bis (diphenyl) (Vinyl) biphenyl (DPVBi), etc.), porphyrin-based compounds, benzothiazole-based, benzimidazole-based, benzoxazole-based fluorescent whitening agents, and aromatic dimethylidin-based compounds are preferably used (non-patent literature). 2 and Non-Patent Document 3). Or you may form the organic light emitting layer which emits the light of a various wavelength range by adding a dopant to a host compound. Examples of host compounds include distyrylarylene compounds (for example, IDE-120 manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), N, N′-ditolyl-N, N′-diphenylbiphenylamine (TPD), aluminum tris (8-quinolinolate) (Alq 3 ). ) Etc. can be used. As dopants, perylene (blue purple), coumarin 6 (blue), quinacridone compounds (blue green to green), rubrene (yellow), 4-dicyanomethylene-2- (p-dimethylaminostyryl) -6-methyl- 4H-pyran (DCM, red), platinum octaethylporphyrin complex (PtOEP, red), or the like can be used.

正孔注入層の材料としては、Pc類(CuPcなどを含む)またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。正孔輸送層は、トリアリールアミン部分構造、カルバゾール部分構造、オキサジアゾール部分構造を有する材料を用いて形成することができる。用いることができる材料は、好ましくは、TPD、α−NPD、MTDAPB(o−,m−,p−)、m−MTDATAなどを含む。   As a material for the hole injection layer, Pc (including CuPc) or indanthrene compounds can be used. The hole transport layer can be formed using a material having a triarylamine partial structure, a carbazole partial structure, or an oxadiazole partial structure. Materials that can be used preferably include TPD, [alpha] -NPD, MTDAPB (o-, m-, p-), m-MTDATA, and the like.

電子輸送層の材料としては、Alqのようなアルミニウム錯体;PBD、TPOBのようなオキサジアゾール誘導体;TAZのようなトリアゾール誘導体;以下に示す構造を有するもののようなトリアジン誘導体;フェニルキノキサリン類;BMB−2Tのようなチオフェン誘導体などを用いることができる。電子注入層の材料としては、Alqのようなアルミニウム錯体、あるいはアルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウムのキノリノール錯体などを用いることができる。 Materials for the electron transport layer include aluminum complexes such as Alq 3 ; oxadiazole derivatives such as PBD and TPOB; triazole derivatives such as TAZ; triazine derivatives such as those having the structure shown below; phenylquinoxalines; A thiophene derivative such as BMB-2T can be used. As the material for the electron injection layer, an aluminum complex such as Alq 3 or an aluminum quinolinol complex doped with an alkali metal or an alkaline earth metal can be used.

有機EL層22を構成するそれぞれの層は、蒸着(抵抗加熱または電子ビーム加熱)などの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。   Each layer constituting the organic EL layer 22 can be formed using any means known in the art such as vapor deposition (resistance heating or electron beam heating).

反射電極23は、高反射率の金属、アモルファス合金、微結晶性合金を用いて形成されることが好ましい。高反射率の金属は、Al、Ag、Mo、W、Ni、Crなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、NiP、NiB、CrPおよびCrBなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、NiAlなどを含む。反射電極23を、陰極として用いてもよいし、陽極として用いてもよい。反射電極23を陰極として用いる場合には、反射電極23と有機EL層22との界面に、前述のバッファ層を設けて有機EL層22に対する電子注入の効率を向上させてもよい。あるいはまた、反射電極23を陰極として用いる場合、前述の高反射率金属、アモルファス合金または微結晶性合金に対して、仕事関数が小さい材料であるリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属を添加して合金化し、電子注入効率を向上させることができる。反射電極23を陽極として用いる場合には、反射電極23と有機EL層22との界面に、前述の導電性透明金属酸化物の層を設けて有機EL層22に対する正孔注入の効率を向上させてもよい。   The reflective electrode 23 is preferably formed using a highly reflective metal, amorphous alloy, or microcrystalline alloy. High reflectivity metals include Al, Ag, Mo, W, Ni, Cr, and the like. High reflectivity amorphous alloys include NiP, NiB, CrP, CrB, and the like. High reflectivity microcrystalline alloys include NiAl and the like. The reflective electrode 23 may be used as a cathode or an anode. When the reflective electrode 23 is used as a cathode, the aforementioned buffer layer may be provided at the interface between the reflective electrode 23 and the organic EL layer 22 to improve the efficiency of electron injection into the organic EL layer 22. Alternatively, when the reflective electrode 23 is used as a cathode, an alkali metal such as lithium, sodium, or potassium, which is a material having a low work function, calcium, magnesium, or the like, which is a material having a low work function compared to the above-described high reflectance metal, amorphous alloy, or microcrystalline alloy Further, an alkaline earth metal such as strontium can be added and alloyed to improve electron injection efficiency. When the reflective electrode 23 is used as the anode, the conductive transparent metal oxide layer described above is provided at the interface between the reflective electrode 23 and the organic EL layer 22 to improve the efficiency of hole injection into the organic EL layer 22. May be.

反射電極23は、用いる材料に依存して、蒸着(抵抗加熱または電子ビーム加熱)、スパッタ、イオンプレーティング、レーザーアブレーションなどの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。後述するように複数の部分電極からなる反射電極23が必要になる場合には、所望の形状を与えるマスクを用いて複数の部分電極からなる反射電極23を形成してもよいし、あるいは、逆テーパー状の断面形状を有する分離隔壁を用いて複数の部分電極からなる反射電極23を形成してもよい。   The reflective electrode 23 can be formed using any means known in the art such as vapor deposition (resistance heating or electron beam heating), sputtering, ion plating, laser ablation, etc., depending on the material used. . As will be described later, when a reflective electrode 23 composed of a plurality of partial electrodes is required, the reflective electrode 23 composed of a plurality of partial electrodes may be formed using a mask giving a desired shape, or vice versa. The reflective electrode 23 including a plurality of partial electrodes may be formed using a separation partition wall having a tapered cross-sectional shape.

ディスプレイを作製する場合、マトリクス駆動可能な構成で透明電極21および反射電極23を作製することが望ましい。たとえば、透明電極21および反射電極23のそれぞれを複数のストライプ形状の部分電極から形成し、透明電極21のストライプと反射電極23のストライプとが交差する方向(好ましくは直交する方向)に延びるように構成する。このような構成をとれば、透明電極21の部分電極の1つと反射電極23の部分電極の1つとを選択して電圧を印加すれば、それらの交差する点に位置する有機EL層が発光するというパッシブマトリクス駆動が可能となる。   When producing a display, it is desirable to produce the transparent electrode 21 and the reflective electrode 23 in a matrix driveable configuration. For example, each of the transparent electrode 21 and the reflective electrode 23 is formed from a plurality of stripe-shaped partial electrodes, and extends in a direction (preferably a direction orthogonal) where the stripe of the transparent electrode 21 and the stripe of the reflective electrode 23 intersect. Constitute. If such a structure is taken, if one of the partial electrodes of the transparent electrode 21 and one of the partial electrodes of the reflective electrode 23 are selected and a voltage is applied, the organic EL layer located at the intersection of them emits light. Passive matrix driving is possible.

あるいはまた、透明電極21または反射電極23のいずれかを一体として形成される共通電極とし、他方の電極を複数の部分電極から作製し、該複数の部分電極のそれぞれに対してスイッチング素子(TFTなど)を1対1で接続する構成を採ることができる。このような構成では、所望する位置に相当するスイッチング素子をオン状態にすることによって該当位置の有機EL層を発光させる、アクティブマトリクス駆動が可能となる。   Alternatively, either the transparent electrode 21 or the reflective electrode 23 is formed as a common electrode integrally formed, and the other electrode is manufactured from a plurality of partial electrodes, and a switching element (TFT or the like) is provided for each of the plurality of partial electrodes. ) Can be employed in a one-to-one connection. With such a configuration, it is possible to perform active matrix driving in which an organic EL layer at a corresponding position emits light by turning on a switching element corresponding to a desired position.

前述の説明においては、色変換フィルタ10の上に有機EL素子20を形成する例について説明したが、図6に示すように別個の支持基板34上に反射電極33、有機EL層32および透明電極31を形成した有機EL素子30を、透明電極31とガスバリア層14とを対向させた状態で色変換フィルタ10と貼り合わせることによって有機ELディスプレイを形成してもよい。   In the above description, the example in which the organic EL element 20 is formed on the color conversion filter 10 has been described. However, as illustrated in FIG. 6, the reflective electrode 33, the organic EL layer 32, and the transparent electrode are provided on a separate support substrate 34. An organic EL display may be formed by pasting the organic EL element 30 having 31 formed thereon with the color conversion filter 10 in a state where the transparent electrode 31 and the gas barrier layer 14 are opposed to each other.

透明電極31、有機EL層32および反射電極33のそれぞれは、前述の透明電極21、有機EL層22および反射電極23に記載したような材料を用いて形成することができる。ただし、複数の部分電極からなる透明電極31が必要になる場合には、所望の形状を与えるマスクを用いて複数の部分電極からなる透明電極31を形成することが望ましい。また、複数の部分電極からなる反射電極33が必要になる場合には、所望の形状を与えるマスクを用いて複数の部分電極からなる反射電極33を形成してもよいし、あるいはフォトリソグラフ法によるパターニングを用いて複数の部分電極からなる反射電極33を形成してもよい。   Each of the transparent electrode 31, the organic EL layer 32, and the reflective electrode 33 can be formed using the materials described for the transparent electrode 21, the organic EL layer 22, and the reflective electrode 23. However, when the transparent electrode 31 composed of a plurality of partial electrodes is required, it is desirable to form the transparent electrode 31 composed of a plurality of partial electrodes using a mask that gives a desired shape. In addition, when the reflective electrode 33 composed of a plurality of partial electrodes is required, the reflective electrode 33 composed of a plurality of partial electrodes may be formed using a mask that gives a desired shape, or by a photolithographic method. The reflective electrode 33 composed of a plurality of partial electrodes may be formed by patterning.

支持基板34は、透明であっても不透明であってもよく、積層される層の形成に用いられる条件(溶媒、温度等)に耐えるものであるべきであり、および寸法安定性に優れていることが好ましい。好ましい材料は、金属、セラミック、ガラス、シリコンなど半導体、ならびにポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。あるいはまた、ポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂またはポリイミド樹脂などから形成される可撓性フィルムを基板として用いてもよい。また、アクティブマトリクス駆動型の有機ELディスプレイを形成する場合には、支持基板34上に複数のスイッチング素子を設け、複数の部分電極からなる反射電極33のそれぞれの部分電極と1対1で接続し、透明電極31を一体の部分からなる共通電極として用いることが望ましい。   The support substrate 34 may be transparent or opaque, should be able to withstand the conditions (solvent, temperature, etc.) used to form the layer to be laminated, and has excellent dimensional stability. It is preferable. Preferred materials include metals, ceramics, glass, semiconductors such as silicon, and resins such as polyethylene terephthalate and polymethyl methacrylate. Alternatively, a flexible film formed from polyolefin, acrylic resin, polyester resin, polyimide resin, or the like may be used as the substrate. When an active matrix driving type organic EL display is formed, a plurality of switching elements are provided on the support substrate 34 and connected to the respective partial electrodes of the reflective electrode 33 formed of a plurality of partial electrodes on a one-to-one basis. It is desirable to use the transparent electrode 31 as a common electrode composed of an integral part.

色変換フィルタ10と有機EL素子30との貼り合わせは、紫外線硬化型接着剤など当該技術において知られている任意の手段を用いて行うことができる。   The color conversion filter 10 and the organic EL element 30 can be bonded together using any means known in the art such as an ultraviolet curable adhesive.

以下、本発明の積層体からなるガスバリア層を適用したカラー有機ELディスプレイの作製を、図3および図5を参照しながら説明する。なお、以下の実施例および比較例では、60×80画素(各画素はRGBの副画素を含む)、画素ピッチ0.33mmのカラー有機ELディスプレイを作製した。   Hereinafter, the production of a color organic EL display to which the gas barrier layer comprising the laminate of the present invention is applied will be described with reference to FIGS. In the following Examples and Comparative Examples, a color organic EL display having 60 × 80 pixels (each pixel includes RGB subpixels) and a pixel pitch of 0.33 mm was produced.

(実施例1)
透明基板11としてのコーニングガラス(50×50×1.0mm)上に、青色カラーフィルタ材料(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製:カラーモザイクCB−7001)をスピンコート法によって塗布した。次いでフォトリソグラフ法によるパターニングを実施し、幅0.1mm、ピッチ0.33mm、および膜厚10μmの複数のストライプからなる青色変換フィルタ層12Bを形成した。
Example 1
A blue color filter material (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd .: Color Mosaic CB-7001) was applied on Corning glass (50 × 50 × 1.0 mm) as the transparent substrate 11 by spin coating. Next, patterning by a photolithographic method was performed to form a blue conversion filter layer 12B composed of a plurality of stripes having a width of 0.1 mm, a pitch of 0.33 mm, and a film thickness of 10 μm.

次に、蛍光色素として、クマリン6(0.7質量部)を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PEGMA、120質量部)中に溶解させた。次に100質量部の光重合性樹脂VPA100/P5(新日鐵化学株式会社製)を添加して溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を上記の透明基板11上にスピンコート法にて塗布し、フォトリソグラフ法によるパターニングを実施し、幅0.1mm、ピッチ0.33mm、および膜厚10μmの複数のストライプからなる緑色変換フィルタ層12Gを形成した。   Next, coumarin 6 (0.7 parts by mass) was dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate (PEGMA, 120 parts by mass) as a fluorescent dye. Next, 100 parts by mass of photopolymerizable resin VPA100 / P5 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was added and dissolved to obtain a coating solution. This coating solution is applied onto the transparent substrate 11 by spin coating, and patterning is performed by photolithography, so that green conversion comprising a plurality of stripes having a width of 0.1 mm, a pitch of 0.33 mm, and a thickness of 10 μm is performed. A filter layer 12G was formed.

次に、蛍光色素として、クマリン6(0.6質量部)、ローダミン6G(0.3質量部)、ベーシックバイオレット11(0.3質量部)を、120質量部のPEGMA中に溶解させた。次に100質量部の光重合性樹脂VPA100/P5を添加して溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を上記の透明基板11上にスピンコート法にて塗布し、フォトリソグラフ法によるパターニングを実施し、幅0.1mm、ピッチ0.33mm、および膜厚6μmの複数のストライプからなる赤色変換フィルタ層12Rを形成した。   Next, coumarin 6 (0.6 parts by mass), rhodamine 6G (0.3 parts by mass), and basic violet 11 (0.3 parts by mass) were dissolved in 120 parts by mass of PEGMA as fluorescent dyes. Next, 100 parts by mass of a photopolymerizable resin VPA100 / P5 was added and dissolved to obtain a coating solution. This coating solution is applied onto the transparent substrate 11 by spin coating, and patterned by photolithography to convert red into a plurality of stripes having a width of 0.1 mm, a pitch of 0.33 mm, and a film thickness of 6 μm. A filter layer 12R was formed.

RGBの色変換フィルタ層12が形成された基板の上に、UV硬化型樹脂(エポキシ変性アクリレート)をスピンコート法にて塗布し、高圧水銀灯に暴露して平坦化層13を形成した。この際に、各色の色変換フィルタ層12のパターンの変形はなかった。ここで、平坦化層13は、色変換フィルタ層が形成されている領域(表示領域)をカバーし、それより広い領域にパターンを形成するが、そのパターン端部で基板からの膜厚を測定して8μmとなるように平坦化膜13を形成した。さらに、表示領域では、平坦化層13の基板からの高さは10μm以上となり、色変換フィルタ層間の段差およびその間隙における段差をある程度トレースするものの、十分に平坦化(段差はPeak-to-Valleyで、0.5μm程度)することができた。   On the substrate on which the RGB color conversion filter layer 12 was formed, a UV curable resin (epoxy-modified acrylate) was applied by a spin coating method and exposed to a high-pressure mercury lamp to form a planarization layer 13. At this time, the pattern of the color conversion filter layer 12 of each color was not deformed. Here, the flattening layer 13 covers a region (display region) where the color conversion filter layer is formed and forms a pattern in a wider region, but the film thickness from the substrate is measured at the end of the pattern. Then, the planarizing film 13 was formed so as to be 8 μm. Further, in the display area, the height of the planarization layer 13 from the substrate is 10 μm or more, and although the level difference between the color conversion filter layers and the level difference in the gap are traced to some extent, the leveling is sufficiently flat (the level difference is Peak-to-Valley). And about 0.5 μm).

次に、2対の無機膜61(a,b)および高分子膜62(a,b)の積層体、ならびに無機絶縁膜63からなるガスバリア層14を形成した。無機膜61aおよび61bは、室温におけるRFマグネトロンスパッタ法によって形成された膜厚300nmのSiO膜であった。この際にスパッタターゲットとしてSiを用い、スパッタガスとしてArと酸素との混合ガスを用い、反応性スパッタによってSiOを生成した。高分子膜62aおよび62bは、アクリルモノマーを真空加熱蒸着によって無機膜61aまたは61bの上に付着し、その後180℃で30分間にわたって加熱してアクリルモノマーを重合させてアクリル樹脂を形成することによって形成した。高分子膜62aおよび62bの膜厚は、それぞれ1μmであった。最後に高分子膜62bの上に、無機膜61aおよび61bと同様の方法によって膜厚300nmのSiO膜を形成し、無機絶縁膜63を得た。 Next, a gas barrier layer 14 composed of a laminate of two pairs of inorganic films 61 (a, b) and polymer films 62 (a, b) and an inorganic insulating film 63 was formed. The inorganic films 61a and 61b were 300 nm thick SiO x films formed by RF magnetron sputtering at room temperature. At this time, Si x was generated by reactive sputtering using Si as the sputtering target and a mixed gas of Ar and oxygen as the sputtering gas. The polymer films 62a and 62b are formed by depositing acrylic monomer on the inorganic film 61a or 61b by vacuum heating vapor deposition and then heating at 180 ° C. for 30 minutes to polymerize the acrylic monomer to form an acrylic resin. did. The film thicknesses of the polymer films 62a and 62b were each 1 μm. Finally, an SiO x film having a film thickness of 300 nm was formed on the polymer film 62b by the same method as the inorganic films 61a and 61b, and the inorganic insulating film 63 was obtained.

次に、ガスバリア層14の上面に、スパッタ法によってIDIXO(出光興産株式会社製、インジウムおよび亜鉛の酸化物と酸化インジウムとの混合物)を全面成膜した。次に、レジストとしてOFRP−800(東京応化工業株式会社製)を用いるフォトリソグラフ法にてパターニングを行い、幅0.094mm、ピッチ0.11mm、および膜厚100nmの複数のストライプ状部分電極からなる透明電極21を形成した。   Next, IDIXO (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd., a mixture of indium and zinc oxide and indium oxide) was formed on the entire surface of the gas barrier layer 14 by sputtering. Next, patterning is performed by a photolithographic method using OFRP-800 (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) as a resist, and a plurality of striped partial electrodes having a width of 0.094 mm, a pitch of 0.11 mm, and a film thickness of 100 nm are formed. A transparent electrode 21 was formed.

次いで、透明電極21以下の構造を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層の4層からなる有機EL層22を、真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して、真空槽内圧を1×10-4Paまで減圧した。正孔注入層として、膜厚100nmの銅フタロシアニン(CuPc)を、正孔輸送層として、膜厚20nmの4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(α−NPD)を、有機発光層として、膜厚30nmの4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)を、そして電子注入層として、膜厚20nmのトリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体(Alq)を積層した。 Next, the substrate having the structure below the transparent electrode 21 is mounted in a resistance heating vapor deposition apparatus, and an organic EL layer 22 composed of four layers of a hole injection layer / a hole transport layer / an organic light emitting layer / an electron injection layer, Films were sequentially formed without breaking the vacuum. During film formation, the internal pressure of the vacuum chamber was reduced to 1 × 10 −4 Pa. Copper phthalocyanine (CuPc) with a film thickness of 100 nm is used as the hole injection layer, and 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (α with a film thickness of 20 nm is used as the hole transport layer. -NPD) as the organic light-emitting layer, 30 nm-thick 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi), and as the electron injection layer, 20 nm-thick tris (8-hydroxy) A quinoline) aluminum complex (Alq 3 ) was laminated.

引き続いて、真空を破ることなしに、透明電極21のストライプパターンと直交する方向に延びる幅0.3mおよびピッチ0.330mmのストライプパターンが得られるマスクを用いて、膜厚200nmのMg/Ag(質量比10/1)を堆積させて複数のストライプ状部分電極からなる反射電極23を形成して、図5に示した構造を有する色変換フィルタ10/有機EL素子20の積層体を得た。   Subsequently, using a mask capable of obtaining a stripe pattern having a width of 0.3 m and a pitch of 0.330 mm extending in a direction orthogonal to the stripe pattern of the transparent electrode 21 without breaking the vacuum, a 200 nm thick Mg / Ag ( A reflective electrode 23 composed of a plurality of striped partial electrodes was formed by depositing a mass ratio of 10/1) to obtain a laminate of the color conversion filter 10 / organic EL element 20 having the structure shown in FIG.

こうして得られた積層体をグローブボックス内乾燥窒素雰囲気下(酸素および水分濃度ともに10ppm以下)において、封止ガラス(図示せず)とUV硬化接着剤を用いて封止して、有機ELディスプレイを得たた。   The laminated body thus obtained was sealed with a sealing glass (not shown) and a UV curable adhesive in a glove box in a dry nitrogen atmosphere (both oxygen and moisture concentrations were 10 ppm or less), and an organic EL display was obtained. Got.

(比較例1)
ガスバリア層14として、単層のSiO膜(膜厚300nm)を用いたことを除いて実施例1を繰り返して、カラー有機ELディスプレイを作製した。本比較例における単層のSiO膜は、実施例1における無機膜61aと同様の条件で作製した。
(Comparative Example 1)
Example 1 was repeated except that a single layer SiO x film (film thickness 300 nm) was used as the gas barrier layer 14 to produce a color organic EL display. The single-layer SiO x film in this comparative example was produced under the same conditions as the inorganic film 61a in Example 1.

(比較例2)
ガスバリア層14を形成しなかったことを除いて実施例1を繰り返して、カラー有機ELディスプレイを作製した。したがって、本比較例のカラー有機ELディスプレイは、図1に示したような従来技術の構造を有するものである。
(Comparative Example 2)
A color organic EL display was produced by repeating Example 1 except that the gas barrier layer 14 was not formed. Therefore, the color organic EL display of this comparative example has the structure of the prior art as shown in FIG.

(評価)
実施例1および比較例1〜2にしたがって、それぞれ3個のカラー有機ELディスプレイを作製し、加速条件における連続駆動試験を行った。駆動条件として、駆動周波数60Hz、デューティ比1/60で、1画素当たりの電流量を100μAに設定した。連続駆動試験開始時(初期)の非発光面積を特定し、および発光輝度を測定した。その後、温度85℃の加速条件において500時間にわたる連続駆動試験を行い、連続駆動試験終了時(加速試験後)の非発光面積を特定し、および発光輝度を測定した。結果を第1表に示す。なお、加速試験後の非発光面積の増加率および輝度保持率は、各実施例および比較例における初期の値を1とする比で示した。加速試験後の非発光面積の増加率比は、比較例1の増加率を1とする、実施例1および比較例2における非発光面積の増加率の比である。第1表に示した結果は、各実施例および比較例に関して、3個のカラー有機ELディスプレイの平均値である。
(Evaluation)
In accordance with Example 1 and Comparative Examples 1 and 2, three color organic EL displays were produced, and a continuous driving test under accelerated conditions was performed. As driving conditions, the current amount per pixel was set to 100 μA at a driving frequency of 60 Hz and a duty ratio of 1/60. The non-light-emitting area at the start (initial) of the continuous driving test was specified, and the light emission luminance was measured. Thereafter, a continuous driving test was performed for 500 hours under an acceleration condition at a temperature of 85 ° C., a non-light-emitting area at the end of the continuous driving test (after the acceleration test) was specified, and emission luminance was measured. The results are shown in Table 1. In addition, the increase rate of the non-light-emitting area and the luminance retention after the acceleration test are shown as a ratio in which the initial value in each example and comparative example is 1. The increase rate ratio of the non-light emitting area after the acceleration test is the ratio of the increase rate of the non-light emitting area in Example 1 and Comparative Example 2 where the increase rate in Comparative Example 1 is 1. The results shown in Table 1 are average values of three color organic EL displays for each of the examples and comparative examples.

Figure 2006302656
Figure 2006302656

第1表から分かるように、単層のSiOx層をガスバリア層として用いて比較例1およびガスバリア層14を用いなかった比較例2のディスプレイにおいては、加速試験後に非発光部分の面積が2倍以上に増大し、その結果として輝度の保持率は50%を下回った。これに対して、本発明の積層体からなるガスバリア層14のディスプレイにおいては、非発光面積の増加が大幅に抑制され、同時に高い輝度保持率を示した。   As can be seen from Table 1, in the display of Comparative Example 1 using a single SiOx layer as the gas barrier layer and not using the gas barrier layer 14, the area of the non-light-emitting portion is more than doubled after the acceleration test. As a result, the luminance retention was less than 50%. On the other hand, in the display of the gas barrier layer 14 made of the laminate of the present invention, an increase in the non-light emitting area was significantly suppressed, and at the same time, a high luminance retention was shown.

以上のことから、本発明の積層体からなるガスバリア層14が有機EL素子の特性低下の抑制に有効であり、これを用いることによって、長期にわたって安定した発光特性を維持する有機ELディスプレイを提供することが可能となった。   From the above, the gas barrier layer 14 made of the laminate of the present invention is effective in suppressing deterioration of the characteristics of the organic EL element, and by using this, an organic EL display that maintains stable light emission characteristics over a long period of time is provided. It became possible.

従来技術の有機ELディスプレイの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the organic EL display of a prior art. 本発明の色変換フィルタの1つの実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the color conversion filter of this invention. 本発明の色変換フィルタのガスバリア層の1つの実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the gas barrier layer of the color conversion filter of this invention. 本発明の色変換フィルタのガスバリア層の別の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another embodiment of the gas barrier layer of the color conversion filter of this invention. 本発明の有機ELディスプレイの1つの実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the organic electroluminescent display of this invention. 本発明の有機ELディスプレイの別の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another embodiment of the organic electroluminescent display of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10、40 色変換フィルタ
11、41 透明基板
12、42(R,G,B) 色変換フィルタ層
13、43 平坦化層
14 ガスバリア層
20、30、50 有機EL素子
21、31、51 透明電極
22、32、52 有機EL層
23、33、53 反射電極
34 支持基板
61(a、b) 無機膜
62(a、b) 高分子膜
63 無機絶縁膜
10, 40 Color conversion filter 11, 41 Transparent substrate 12, 42 (R, G, B) Color conversion filter layer 13, 43 Flattening layer 14 Gas barrier layer 20, 30, 50 Organic EL element 21, 31, 51 Transparent electrode 22 , 32, 52 Organic EL layer 23, 33, 53 Reflective electrode 34 Support substrate 61 (a, b) Inorganic film 62 (a, b) Polymer film 63 Inorganic insulating film

Claims (7)

透明基板と、前記透明基板上に設けられた1つまたは複数種の色変換フィルタ層と、前記色変換層を覆って形成される平坦化層と、前記平坦化層上に形成されるガスバリア層とを備えた色変換フィルタであって、
前記ガスバリア層は、少なくとも2対の無機膜および高分子膜の積層体と、該積層体の上に設けられた無機絶縁膜とから構成されていることを特徴とする色変換フィルタ。
A transparent substrate; one or more color conversion filter layers provided on the transparent substrate; a planarization layer formed to cover the color conversion layer; and a gas barrier layer formed on the planarization layer A color conversion filter comprising:
2. The color conversion filter according to claim 1, wherein the gas barrier layer comprises a laminate of at least two pairs of inorganic films and polymer films, and an inorganic insulating film provided on the laminate.
前記無機膜のそれぞれは、それぞれ独立的に、導電性透明金属酸化物、絶縁性酸化物、絶縁性窒化物、絶縁性炭化物、または絶縁性酸化窒化物から形成されていることを特徴とする請求項1に記載の色変換フィルタ。   Each of the inorganic films is independently formed of a conductive transparent metal oxide, an insulating oxide, an insulating nitride, an insulating carbide, or an insulating oxynitride. Item 2. The color conversion filter according to Item 1. 前記高分子膜のそれぞれは、それぞれ独立的に、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエステル樹脂またはポリオレフィン樹脂から形成されていることを特徴とする請求項1に記載の色変換フィルタ。   The color conversion filter according to claim 1, wherein each of the polymer films is independently formed of an acrylic resin, a methacrylic resin, a polyester resin, or a polyolefin resin. 前記無機絶縁膜が、絶縁性酸化物、絶縁性窒化物、絶縁性炭化物、または絶縁性酸化窒化物から形成されていることを特徴とする請求項1に記載の色変換フィルタ。   The color conversion filter according to claim 1, wherein the inorganic insulating film is formed of an insulating oxide, an insulating nitride, an insulating carbide, or an insulating oxynitride. 前記無機絶縁膜が、SiO、AlO、SiN,AlN、SiO、AlO、TiO、BN、またはSiCから形成されていることを特徴とする請求項4に記載の色変換フィルタ。 5. The inorganic insulating film is formed of SiO x , AlO x , SiN x , AlN x , SiO x N y , AlO x N y , TiO 2 , BN, or SiC. Color conversion filter. 請求項1から5のいずれかに記載の色変換フィルタ上に、少なくとも透明電極、有機EL層および反射電極が順次積層されている有機EL素子が形成されていることを特徴とする有機ELディスプレイ。   An organic EL display in which an organic EL element in which at least a transparent electrode, an organic EL layer, and a reflective electrode are sequentially stacked is formed on the color conversion filter according to claim 1. 請求項1から5のいずれかに記載の色変換フィルタと、支持基板上に少なくとも反射電極、有機EL層および透明電極が順次積層されている有機EL素子とを貼り合わせて形成されている有機ELディスプレイ。
An organic EL formed by bonding the color conversion filter according to claim 1 and an organic EL element in which at least a reflective electrode, an organic EL layer, and a transparent electrode are sequentially laminated on a support substrate. display.
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