JP2006302504A - Method for manufacturing optical disk substrate - Google Patents

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真 石田
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泰裕 清水
Kyoichi Kubo
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a highly reliable optical disk substrate which can be obtained in a high nondefective rate. <P>SOLUTION: The method for manufacturing an optical disk substrate by molding a polycarbonate resin is a method for manufacturing an optical disk substrate, wherein in the polycarbonate resin, the total number of contaminations whose particle size is ≥15 μm is ≥1 piece/40g and ≤37 pieces/40g, and copper or contaminations containing copper among the contaminations are ≤12 pieces/40g. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、異物を低減した光ディスク基板に関し、異物の総量を制限するのみならず、特にその熱物性を考慮に入れ、特定の熱物性を持つ異物の占める比率を制限したポリカーボネート樹脂よりなる光ディスク基板に関するものである。   The present invention relates to an optical disc substrate with reduced foreign matter, and not only restricts the total amount of foreign matter, but also takes into account its thermal properties, in particular, an optical disc substrate made of a polycarbonate resin with a restricted proportion of foreign matters having specific thermal properties. It is about.

透明熱可塑性樹脂には、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、非晶性ポリオレフィン樹脂などが存在するが、これらはコンパクトディスク、光磁気ディスク等の光ディスク基板に代表される光学用途材料として使用されている。光ディスクは基板上に形成されたミクロンサイズの凹凸を利用してレーザー光による情報の記録や再生を行う為に、基板中の異物(塵埃や炭化物など)が情報の記録や再生の信頼性に対して極めて大きな影響を与える。したがって、基板を構成する透明熱可塑性樹脂に対しては異物の量が少ないことが要求されている。こういった一連の透明熱可塑性樹脂の中で特にポリカーボネート樹脂は、耐熱性や低吸水性に優れ、また特に透明性に優れているがゆえに、広く世界的に使用されている。この光ディスク基板材料として特に汎用的に使用されているポリカーボネート樹脂を例に取り説明すれば、基板を構成する透明熱可塑性樹脂に対しては異物の量が少ないことが要求されているため従来は、原料中の異物を精製過程や造粒過程等においてフィルターで濾過するなどして異物の低減化を図っており、例えば特開昭61−90345号公報、特開昭63−91231号公報、特公平7−109655号公報、特開2000−173101号公報、等に記載されているような技術が提案されている。   Transparent thermoplastic resins include acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, and amorphous polyolefin resin. These are used as optical materials such as compact discs and magneto-optical discs. Yes. Optical discs use micron-sized irregularities formed on a substrate to record and reproduce information using laser light, so that foreign matter (dust, carbides, etc.) in the substrate is responsible for the reliability of information recording and reproduction. Have a huge impact. Therefore, a small amount of foreign matter is required for the transparent thermoplastic resin constituting the substrate. Among these series of transparent thermoplastic resins, polycarbonate resins are particularly widely used worldwide because they are excellent in heat resistance and low water absorption, and are particularly excellent in transparency. As an example of this optical disk substrate material, polycarbonate resin that is used for general purposes will be described as an example. Conventionally, since the transparent thermoplastic resin constituting the substrate is required to have a small amount of foreign matter, Foreign substances in the raw material are reduced by filtering them through a filter in the purification process, granulation process, etc., for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-90345, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-91231, Techniques such as those described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-109655 and 2000-173101 have been proposed.

このうち特開昭61−90345号公報には、光ディスク基板中に含まれる粒径0.5μm以上の大きさの異物の量を1×10個/g以下とし、かつこの条件を満足させるためにモノマー等の使用原料中の異物を蒸留および/または濾過によって除去するとともに、製造設備の洗浄および製造過程における異物の混入を防止する必要のあることが開示されている。 Of these, JP-A-61-90345 discloses that the amount of foreign matter having a particle size of 0.5 μm or more contained in an optical disk substrate is 1 × 10 5 particles / g or less, and this condition is satisfied. In addition, it is disclosed that it is necessary to remove foreign substances in raw materials used such as monomers by distillation and / or filtration, and to prevent foreign substances from being mixed during cleaning of the manufacturing equipment and the manufacturing process.

また、特開昭63−91231号公報には、信頼性の高い光ディスク基板を得るためには粒径1μm以上の大きさの異物の量を10,000個/g以下とすることが必要であり、かつこの条件を満足させるために有機溶媒により溶解せしめた溶液を濾過したり、溶融状態のときに焼結金属フィルタを通したりして異物微粒子を除去した樹脂組成物で光ディスク基板を形成する技術が開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-91231 requires that the amount of foreign matter having a particle size of 1 μm or more be 10,000 pieces / g or less in order to obtain a highly reliable optical disc substrate. In addition, a technique for forming an optical disk substrate with a resin composition in which foreign particles are removed by filtering a solution dissolved in an organic solvent in order to satisfy this condition or by passing a sintered metal filter in a molten state. Is disclosed.

また、特公平7−109655号公報には、光ディスク基板における情報の記録や再生に対して十分な信頼性を得るために、異物強度なる概念を用いて、特に粒径1.1μm以下の大きさの異物の量を10,000μm/g以下まで低減させる必要があると開示されている。 In Japanese Patent Publication No. 7-109655, in order to obtain sufficient reliability for recording and reproduction of information on an optical disk substrate, the concept of foreign matter strength is used, and in particular, the particle size is 1.1 μm or less. It is disclosed that the amount of foreign matter needs to be reduced to 10,000 μm 2 / g or less.

また、特開2000−173101号公報には、エラーが少なく、極めて信頼性の高い光ディスク基板を得るために、特に粒径区分ごとの異物個数を考慮に入れ、全ての粒径区分について異物を低減させた光学用ポリカーボネート樹脂成形材料および該材料よりなる光ディスク基板についての技術が開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-173101 discloses that in order to obtain an optical disk substrate with few errors and extremely high reliability, in particular, the number of foreign matters for each particle size category is taken into consideration, and foreign matters are reduced for all particle size categories. A technique for an optical polycarbonate resin molding material and an optical disk substrate made of the material is disclosed.

上記従来技術は、総異物量あるいは詳細な粒径区分ごとの異物量と最終的記録媒体の情報エラーとの関係について細かく検討しているものであるが、必ずしも実際のディスク製造工程の欠陥排除の実態を反映していない。現在、一般的に普及しているコンパクトディスク用の基板材料においては微小異物の全体量の低減のみで十分な再生信頼性が得られているが、それは一般に微小異物が少なければ総異物(より大きな異物)も少なくなるとの考えによるものである。しかしながら、デジタルバーサタイルディスク(DVD−ROM、DVD−video、DVD−R、DVD−RAM等)で代表される高密度光ディスク用の基板材料においては無差別に総異物を規制するのみでは品質および経済性の両面から見て必ずしも満足するものではないものであることがわかった。実際、光ディスク基板を生産するメーカーは日常的には欠陥検査機にて製品を検査し、良品あるいは不良品の判断をおこなっている。欠陥検査機とは、基板に光を当て、得られる透過あるいは反射光内の微小な影を検出して、良品あるいは不良品の判断をするものである。当然のことながら、この検査機に判断された特定値以上の欠陥を持つ光ディスク基板は、エラーが高く信頼性に劣るため不良品として排除される。   In the above prior art, the relationship between the total amount of foreign matter or the amount of foreign matter for each detailed particle size category and the information error of the final recording medium is examined in detail, but it does not necessarily eliminate defects in the actual disk manufacturing process. It does not reflect the actual situation. Currently, in general substrate materials for compact discs, sufficient reproduction reliability is obtained only by reducing the total amount of minute foreign matter. This is due to the idea that foreign matter) is also reduced. However, in the case of substrate materials for high-density optical discs represented by digital versatile discs (DVD-ROM, DVD-video, DVD-R, DVD-RAM, etc.), quality and economic efficiency can be achieved only by restricting all foreign substances indiscriminately. It turned out that it was not necessarily satisfied from both sides. In fact, manufacturers that produce optical disk substrates routinely inspect products with defect inspection machines to determine whether they are good or defective. A defect inspection machine is a device that determines whether a product is non-defective or defective by irradiating a substrate with light and detecting a minute shadow in the transmitted or reflected light obtained. As a matter of course, an optical disk substrate having a defect exceeding a specific value determined by the inspection machine has a high error and is inferior in reliability, and thus is excluded as a defective product.

このようにポリカーボネートに代表される光学用透明熱可塑性樹脂成形材料および該材料よりなる光ディスク基板についての品質的向上の要求が高まっている一方で、近年の光学式ディスク基板の普及に伴う生産量の増大から、基板生産性向上に対する要求も高まっている。現在光ディスク基板は大量生産されているが故に、たとえ数%の良品率の向上であっても光ディスク基板生産者における経済的メリットは甚大なものである。   Thus, while the demand for quality improvement of optical transparent thermoplastic resin molding materials typified by polycarbonate and optical disk substrates made of such materials is increasing, the amount of production accompanying the recent spread of optical disk substrates has increased. Due to the increase, the demand for improved substrate productivity is also increasing. Since optical disk substrates are currently mass-produced, even if the yield rate is improved by several percent, the economic merit for optical disk substrate producers is enormous.

本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、基板形成用樹脂中に、該樹脂との熱物性の差の大きい異物が存在すると、射出成形して基板を得る時の樹脂冷却過程において、該異物周辺の樹脂に光学的に大きな歪を生じることが判明した。これら樹脂との熱物性の差の大きい異物の周辺に生じた光学的歪は、欠陥検査機により欠陥として検出されてしまう。すなわち、該樹脂との熱物性の差の大きい異物は、結果的にその周辺の光学的歪を含めて検出される可能性が高くなり、その異物の実際の大きさ以上に大きな異物欠陥として検査機に判断される。このことが、高良品率で信頼性の高い光学用光ディス基板を得る妨げとなっていた。   As a result of repeated studies by the present inventors, if a foreign material having a large difference in thermal properties with the resin is present in the resin for substrate formation, the foreign material in the resin cooling process when obtaining a substrate by injection molding. It has been found that optical distortion is generated in the surrounding resin. Optical distortion generated around a foreign material having a large difference in thermophysical properties from these resins is detected as a defect by a defect inspection machine. In other words, a foreign material having a large difference in thermophysical property with the resin is likely to be detected including the optical distortion in the vicinity thereof, and is inspected as a foreign material defect larger than the actual size of the foreign material. It is judged by the opportunity. This has been a hindrance to obtaining a high-quality and highly reliable optical optical substrate.

本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、該問題点について鋭意検討を重ねた結果、樹脂中に存在する種々の異物のうち、銅または銅含有異物が樹脂との熱物性の差が大きいためか光学的歪みが大きいこと、その熱物性の差として熱伝導率の差が大きく効いていることを見出した。一方で樹脂生産工程上、異物の低減は一般的に製造コストの上昇を伴うものである。本発明者らは、ある一定量以下の異物含有量を目指す場合には、樹脂生産工程上膨大なコストアップを伴わざるを得ないことも見出した。かくして、樹脂中の特定の大きさの異物量を製品品質および製造コストの両面から許容される範囲内に制限し、そのうち、樹脂との熱伝導率の差が特定値以上の異物の占める比率を規定すること、殊に銅または銅含有異物の占める比率を特定値以下に規定することによって、異物の周辺に大きな光学的歪が発生するのが抑制され、驚くほど高良品率で信頼性の高い光学用ディスク基板が得られることを見出し本発明に到達した。   The present invention has been made in view of the above problems, and as a result of intensive studies on the problems, among various foreign substances present in the resin, copper or copper-containing foreign substances are different in thermophysical properties from the resin. It is found that the optical distortion is large because of the large thermal conductivity, and that the difference in thermal conductivity is greatly effective as the difference in thermal properties. On the other hand, in the resin production process, the reduction of foreign matters is generally accompanied by an increase in manufacturing cost. The inventors of the present invention have also found that enormous cost increases in the resin production process when aiming for a foreign matter content of a certain amount or less. In this way, the amount of foreign matter of a specific size in the resin is limited within the allowable range in terms of product quality and manufacturing cost, of which the proportion of foreign matter whose thermal conductivity difference from the resin exceeds a specific value By defining the ratio, especially the ratio of copper or copper-containing foreign matters to a specific value or less, it is possible to suppress the occurrence of large optical distortion around the foreign matters, and surprisingly high yield and high reliability. The present inventors have found that an optical disk substrate can be obtained and have reached the present invention.

本発明によれば、下記(1)〜(5)の光ディスク基板の製造方法が提供される。
(1)ポリカーボネート樹脂を成形して光ディスク基板を製造する方法であって、該ポリカーボネート樹脂が、粒径15μm以上である異物総個数が1個/40g以上、37個/40g以下であり、かつそのうち銅または銅含有異物が12個/40g以下であることを特徴とする光ディスク基板の製造方法。
(2)該ポリカーボネート樹脂が、10,000〜22,000の粘度平均分子量を有する前記(1)項記載の方法。
(3)成形を射出成形で行う前記(1)項または(2)項記載の方法。
(4)射出成形をシリンダー温度300〜400℃、金型温度50〜140℃で行う前記(3)項記載の方法。
(5)光ディスク基板がDVD基板である前記(1)〜(4)項記載の方法。
According to the present invention, the following optical disk substrate manufacturing methods (1) to (5) are provided.
(1) A method for producing an optical disk substrate by molding a polycarbonate resin, wherein the total number of foreign matters having a particle diameter of 15 μm or more is 1/40 g or more and 37/40 g or less, A manufacturing method of an optical disk substrate, wherein copper or copper-containing foreign matter is 12 pieces / 40 g or less.
(2) The method according to (1) above, wherein the polycarbonate resin has a viscosity average molecular weight of 10,000 to 22,000.
(3) The method according to (1) or (2), wherein the molding is performed by injection molding.
(4) The method according to (3) above, wherein the injection molding is performed at a cylinder temperature of 300 to 400 ° C and a mold temperature of 50 to 140 ° C.
(5) The method according to any one of (1) to (4) above, wherein the optical disk substrate is a DVD substrate.

本発明は、樹脂中に存在する異物の総量を制限するのみならず、それら種々の異物のうち、該樹脂との熱伝導率差を基準として選択的にその異物の占める比率を制限したことを特徴とする光ディスク基板の製造方法に関するものであり、高良品率で信頼性の高い光学用光ディス基板を得られ、特にデジタルビデオディスク(DVD)等の高密度光ディスクの提供に対して、その奏する効果は格別のものである。   The present invention not only restricts the total amount of foreign matter present in the resin, but also selectively restricts the proportion of the foreign matter among these various foreign matters based on the difference in thermal conductivity with the resin. The present invention relates to a featured optical disk substrate manufacturing method, which can provide a high-quality and highly reliable optical optical disc substrate, and is particularly effective for providing a high-density optical disc such as a digital video disc (DVD). The effect is exceptional.

本発明において「異物」とは原料からポリカーボネート樹脂を製造し、さらに光ディスク基板を成形するまでのあらゆる工程から混入する汚染物質のことであり、例えば使用原料(モノマー、溶剤など)に含まれる不純物やダスト、製造設備に付着しているダストまたは成形過程で発生する炭化物など塩化メチレン等の溶媒に不溶な全ての成分を示す。   In the present invention, “foreign matter” refers to contaminants mixed in from any process until the polycarbonate resin is produced from the raw material and further the optical disk substrate is molded. For example, impurities contained in the used raw material (monomer, solvent, etc.) All components that are insoluble in solvents such as methylene chloride, such as dust, dust adhering to manufacturing equipment, or carbides generated during the molding process.

本発明によればデジタルビデオディスク等の高密度光ディスクに用いる高良品率で信頼性の高い光学用ディスク基板を得るには、該基板を成形するために供する成形材料として、前記(1)項に示す条件を満たすポリカーボネート樹脂であることが必要である。本発明の成形材料は前記(1)項の条件を満足していることが必要であり、条件が外れた材料から成形された高密度光ディスク基板では、経済的に高良品率で信頼性の高い光学用ディスク基板を得られない。   According to the present invention, in order to obtain a high-quality and highly reliable optical disk substrate used for a high-density optical disk such as a digital video disk, the molding material to be used for molding the substrate is described in the above item (1). It must be a polycarbonate resin that satisfies the conditions shown. The molding material of the present invention needs to satisfy the condition of the above item (1), and a high density optical disk substrate molded from a material out of the condition is economically high and has high reliability and high reliability. An optical disk substrate cannot be obtained.

本発明において異物総個数をカウントする異物粒径を15μm以上としたのは、異物周辺の光学的歪みまで欠陥検査機が認識した場合、この位の粒径以上の異物、特に銅含有異物が存在する場合に具体的に許容限界以上(例えば100μm以上)の欠陥として検出する場合が多いからである。但し、同じ大きさの異物であっても基板の厚さ方向のどの位置に存在するかによって光学的歪の程度が異なる。厚み方向で、中央部分から外れてくると歪は小さくなる。
このことは15μm未満の異物ならいくら存在しても良いことを意味するものではない。15μm未満の異物は別の観点から少ないほうが良い。
In the present invention, the particle size for counting the total number of foreign particles is set to 15 μm or more. When the defect inspection machine recognizes the optical distortion around the foreign particles, there is a foreign particle having a particle size larger than this, especially copper-containing foreign particles. This is because, in many cases, the defect is specifically detected as a defect exceeding the allowable limit (for example, 100 μm or more). However, the degree of optical distortion varies depending on the position of the foreign substance of the same size in the thickness direction of the substrate. In the thickness direction, the strain decreases as it moves away from the central portion.
This does not mean that any foreign material less than 15 μm may be present. It is better that the number of foreign matters less than 15 μm is small from another viewpoint.

本発明では異物除去工程の製造コストに与える負担から、異物総個数の下限を1個/40gと設定している。該負担を軽減させる観点から言えば、3個/40gまで、さらには5個/40gまで許容することもできる。
なお、異物総個数がこれら下限値に近い場合、銅または銅含有異物の割合は、測定サンプルの数を増やして異物総数を多くしその平均値としてもとめることができる。
In the present invention, the lower limit of the total number of foreign matters is set to 1/40 g because of the burden on the manufacturing cost of the foreign matter removing step. From the viewpoint of reducing the burden, it is possible to allow up to 3/40 g, and further to 5/40 g.
When the total number of foreign matters is close to these lower limit values, the ratio of copper or copper-containing foreign matters can be obtained as an average value by increasing the number of measurement samples to increase the total number of foreign matters.

本発明で使用される樹脂は、光学用途に使用可能な透明性を有するポリカーボネート樹脂である。
ポリカーボネート樹脂は、その製法は限定されないが、通常二価フェノールとカーボネート前駆体とを溶液重合法または溶融重合法で反応させて得られるものが挙げられる。ここで使用される二価フェノールの代表的な例としては、ハイドロキノン、レゾルシノール、4,4′−ジヒドロキシジフェニル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス{(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル)フェニル}メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(通称ビスフェノールA)、2,2−ビス{(4−ヒドロキシ−3−メチル)フェニル}プロパン、2,2−ビス{(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル)フェニル}プロパン、2,2−ビス{(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシ)フェニル}プロパン、2,2−ビス{(3−イソプロピル−4−ヒドロキシ)フェニル}プロパン、2,2−ビス{(4−ヒドロキシ−3−フェニル)フェニル}プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチルブタン、2,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−イソプロピルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス{(4−ヒドロキシ−3−メチル)フェニル}フルオレン、α,α′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−o−ジイソプロピルベンゼン、α,α′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン、α,α′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−5,7−ジメチルアダマンタン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4′−ジヒドロキシジフェニルケトン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルエーテルおよび4,4′−ジヒドロキシジフェニルエステル等があげられ、これらは単独または2種以上を混合して使用できる。
The resin used in the present invention is a polycarbonate resin having transparency that can be used for optical applications.
The production method of the polycarbonate resin is not limited, but a polycarbonate resin is usually obtained by reacting a dihydric phenol and a carbonate precursor by a solution polymerization method or a melt polymerization method. Representative examples of the dihydric phenol used here include hydroquinone, resorcinol, 4,4'-dihydroxydiphenyl, bis (4-hydroxyphenyl) methane, bis {(4-hydroxy-3,5-dimethyl). Phenyl} methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (commonly referred to as bisphenol A) ), 2,2-bis {(4-hydroxy-3-methyl) phenyl} propane, 2,2-bis {(4-hydroxy-3,5-dimethyl) phenyl} propane, 2,2-bis {(3 , 5-Dibromo-4-hydroxy) phenyl} propane, 2,2-bis {(3-isopropyl-4-hydroxy) phenyl} propane 2,2-bis {(4-hydroxy-3-phenyl) phenyl} propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -3-methylbutane, 2, 2-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3-dimethylbutane, 2,4-bis (4-hydroxyphenyl) -2-methylbutane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 2,2- Bis (4-hydroxyphenyl) -4-methylpentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-isopropylcyclohexane, 1,1-bis (4 -Hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bi {(4-hydroxy-3-methyl) phenyl} fluorene, α, α′-bis (4-hydroxyphenyl) -o-diisopropylbenzene, α, α′-bis (4-hydroxyphenyl) -m-diisopropylbenzene, α, α'-bis (4-hydroxyphenyl) -p-diisopropylbenzene, 1,3-bis (4-hydroxyphenyl) -5,7-dimethyladamantane, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone, 4,4 ' -Dihydroxydiphenyl sulfoxide, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxydiphenyl ketone, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, 4,4'-dihydroxydiphenyl ester, etc. The above can be mixed and used.

なかでもビスフェノールA、2,2−ビス{(4−ヒドロキシ−3−メチル)フェニル}プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンおよびα,α′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼンからなる群より選ばれた少なくとも1種のビスフェノールより得られる単独重合体または共重合体が好ましく、特に、ビスフェノールAの単独重合体および1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンとビスフェノールA、2,2−ビス{(4−ヒドロキシ−3−メチル)フェニル}プロパンまたはα,α′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼンとの共重合体が好ましく使用される。   Among them, bisphenol A, 2,2-bis {(4-hydroxy-3-methyl) phenyl} propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -3 -Methylbutane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3-dimethylbutane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -4-methylpentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) A homopolymer or copolymer obtained from at least one bisphenol selected from the group consisting of 3,3,5-trimethylcyclohexane and α, α'-bis (4-hydroxyphenyl) -m-diisopropylbenzene In particular, a homopolymer of bisphenol A and 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl Preferred is a copolymer of rucyclohexane and bisphenol A, 2,2-bis {(4-hydroxy-3-methyl) phenyl} propane or α, α'-bis (4-hydroxyphenyl) -m-diisopropylbenzene. Is done.

カーボネート前駆体としてはカルボニルハライド、カーボネートエステルまたはハロホルメート等が使用され、具体的にはホスゲン、ジフェニルカーボネートまたは二価フェノールのジハロホルメート等が挙げられる。   As the carbonate precursor, carbonyl halide, carbonate ester, haloformate or the like is used, and specific examples include phosgene, diphenyl carbonate, dihaloformate of dihydric phenol, and the like.

上記二価フェノールとカーボネート前駆体を溶液重合法または溶融重合法によって反応させてポリカーボネート樹脂を製造するに当っては、必要に応じて触媒、末端停止剤、二価フェノールの酸化防止剤等を使用してもよい。またポリカーボネート樹脂は三官能以上の多官能性芳香族化合物を共重合した分岐ポリカーボネート樹脂であっても、芳香族または脂肪族の二官能性カルボン酸を共重合したポリエステルカーボネート樹脂であってもよく、また、得られたポリカーボネート樹脂の2種以上を混合した混合物であってもよい。   When producing polycarbonate resin by reacting the above dihydric phenol and carbonate precursor by solution polymerization method or melt polymerization method, use catalyst, terminal terminator, dihydric phenol antioxidant, etc. as necessary. May be. The polycarbonate resin may be a branched polycarbonate resin copolymerized with a trifunctional or higher polyfunctional aromatic compound, or may be a polyester carbonate resin copolymerized with an aromatic or aliphatic difunctional carboxylic acid, Moreover, the mixture which mixed 2 or more types of the obtained polycarbonate resin may be sufficient.

溶液重合法による反応は、通常二価フェノールとホスゲンとの反応であり、酸結合剤および有機溶媒の存在下に反応させる。酸結合剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物またはピリジン等のアミン化合物が用いられる。有機溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素が用いられる。また、反応促進のために例えばトリエチルアミン、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイド等の第三級アミン、第四級アンモニウム化合物、第四級ホスホニウム化合物等の触媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常0〜40℃、反応時間は10分〜5時間程度、反応中のpHは9以上に保つのが好ましい。   The reaction by the solution polymerization method is usually a reaction between a dihydric phenol and phosgene, and is reacted in the presence of an acid binder and an organic solvent. As the acid binder, for example, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide or an amine compound such as pyridine is used. As the organic solvent, for example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chlorobenzene are used. In order to accelerate the reaction, a catalyst such as a tertiary amine such as triethylamine, tetra-n-butylammonium bromide or tetra-n-butylphosphonium bromide, a quaternary ammonium compound or a quaternary phosphonium compound may be used. it can. At that time, the reaction temperature is usually 0 to 40 ° C., the reaction time is preferably about 10 minutes to 5 hours, and the pH during the reaction is preferably maintained at 9 or more.

また、かかる重合反応において、通常末端停止剤が使用される。かかる末端停止剤として単官能フェノール類を使用することができる。単官能フェノール類は末端停止剤として分子量調節のために一般的に使用され、また得られたポリカーボネート樹脂は、末端が単官能フェノール類に基づく基によって封鎖されているので、そうでないものと比べて熱安定性に優れている。かかる単官能フェノール類としては、一般にはフェノールまたは低級アルキル置換フェノールであって、下記一般式(1)で表される単官能フェノール類を示すことができる。   In such a polymerization reaction, a terminal stopper is usually used. Monofunctional phenols can be used as such end terminators. Monofunctional phenols are commonly used as end terminators for molecular weight control, and the resulting polycarbonate resins are compared to those that do not because the ends are blocked by groups based on monofunctional phenols. Excellent thermal stability. Such monofunctional phenols are generally phenols or lower alkyl-substituted phenols, and can be monofunctional phenols represented by the following general formula (1).

Figure 2006302504
Figure 2006302504

[式中、Aは水素原子または炭素数1〜9、好ましくは1〜8の脂肪族炭化水素基であり、rは1〜5、好ましくは1〜3の整数である]。 [Wherein, A is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 9, preferably 1 to 8 carbon atoms, and r is an integer of 1 to 5, preferably 1 to 3].

上記単官能フェノール類の具体例としては、例えばフェノール、p−tert−ブチルフェノール、p−クミルフェノールおよびイソオクチルフェノールが挙げられる。   Specific examples of the monofunctional phenols include phenol, p-tert-butylphenol, p-cumylphenol and isooctylphenol.

また、他の単官能フェノール類としては、長鎖のアルキル基あるいは脂肪族エステル基を置換基として有するフェノール類または安息香酸クロライド類、もしくは長鎖のアルキルカルボン酸クロライド類を使用することができ、これらを用いてポリカーボネート共重合体の末端を封鎖すると、これらは末端停止剤または分子量調節剤として機能するのみならず、樹脂の溶融流動性が改良され、成形加工が容易になるばかりでなく、基板としての物性、特に樹脂の吸水率を低くする効果があり、また、基板の複屈折が低減される効果もあり好ましく使用される。なかでも、下記一般式(2)および(3)で表される長鎖のアルキル基を置換基として有するフェノール類が好ましく使用される。   In addition, as other monofunctional phenols, phenols or benzoic acid chlorides having long chain alkyl groups or aliphatic ester groups as substituents, or long chain alkyl carboxylic acid chlorides can be used, When these are used to block the ends of the polycarbonate copolymer, they not only function as end terminators or molecular weight regulators, but also improve the melt fluidity of the resin, facilitating the molding process, It is preferably used because it has the effect of lowering the physical properties, particularly the water absorption of the resin, and the effect of reducing the birefringence of the substrate. Of these, phenols having a long-chain alkyl group represented by the following general formulas (2) and (3) as a substituent are preferably used.

Figure 2006302504
Figure 2006302504

Figure 2006302504
Figure 2006302504

[式中、Xは−R−O−、−R−CO−O−または−R−O−CO−である、ここでRは単結合または炭素数1〜10、好ましくは1〜5の二価の脂肪族炭化水素基を示し、nは10〜50の整数を示す。]
かかる式(2)の置換フェノール類としてはnが10〜30、特に10〜26のものが好ましく、その具体例としては例えばデシルフェノール、ドデシルフェノール、テトラデシルフェノール、ヘキサデシルフェノール、オクタデシルフェノール、エイコシルフェノール、ドコシルフェノールおよびトリアコンチルフェノール等を挙げることができる。
[Wherein, X is —R—O—, —R—CO—O— or —R—O—CO—, wherein R is a single bond or a carbon number of 1 to 10, preferably 1 to 5; A valent aliphatic hydrocarbon group, and n represents an integer of 10 to 50. ]
As the substituted phenols of the formula (2), those having n of 10 to 30, particularly 10 to 26 are preferable. Specific examples thereof include decylphenol, dodecylphenol, tetradecylphenol, hexadecylphenol, octadecylphenol, eico. Examples include silphenol, docosylphenol, and triacontylphenol.

また、式(3)の置換フェノール類としてはXが−R−CO−O−であり、Rが単結合である化合物が適当であり、nが10〜30、特に10〜26のものが好適であって、その具体例としては例えばヒドロキシ安息香酸デシル、ヒドロキシ安息香酸ドデシル、ヒドロキシ安息香酸テトラデシル、ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシル、ヒドロキシ安息香酸エイコシル、ヒドロキシ安息香酸ドコシルおよびヒドロキシ安息香酸トリアコンチルが挙げられる。   Further, as the substituted phenols of the formula (3), those in which X is —R—CO—O— and R is a single bond are suitable, and those in which n is 10 to 30, particularly 10 to 26 are suitable. Specific examples thereof include decyl hydroxybenzoate, dodecyl hydroxybenzoate, tetradecyl hydroxybenzoate, hexadecyl hydroxybenzoate, eicosyl hydroxybenzoate, docosyl hydroxybenzoate and triacontyl hydroxybenzoate.

これらの末端停止剤は、得られたポリカーボネート樹脂の全末端に対して少なくとも5モル%、好ましくは少なくとも10モル%末端に導入されることが望ましく、また、末端停止剤は単独でまたは2種以上混合して使用してもよい。   These end terminators are desirably introduced at the end of at least 5 mol%, preferably at least 10 mol% with respect to all the ends of the obtained polycarbonate resin, and the end terminators may be used alone or in combination of two or more. You may mix and use.

溶融重合法による反応は、通常二価フェノールとカーボネートエステルとのエステル交換反応であり、不活性ガスの存在下に二価フェノールとカーボネートエステルとを加熱しながら混合して、生成するアルコールまたはフェノールを留出させる方法により行われる。反応温度は生成するアルコールまたはフェノールの沸点等により異なるが、通常120〜350℃の範囲である。反応後期には反応系を10〜0.1Torr程度に減圧して生成するアルコールまたはフェノールの留出を容易にさせる。反応時間は通常1〜4時間程度である。   The reaction by the melt polymerization method is usually a transesterification reaction between a dihydric phenol and a carbonate ester. In the presence of an inert gas, the dihydric phenol and the carbonate ester are mixed with heating, and the resulting alcohol or phenol is mixed. It is performed by the method of distilling. The reaction temperature varies depending on the boiling point of the alcohol or phenol produced, but is usually in the range of 120 to 350 ° C. In the latter stage of the reaction, the reaction system is decompressed to about 10 to 0.1 Torr to facilitate the distillation of the alcohol or phenol produced. The reaction time is usually about 1 to 4 hours.

カーボネートエステルとしては、置換されていてもよい炭素数6〜10のアリール基、アラルキル基あるいは炭素数1〜4のアルキル基などのエステルが挙げられる。具体的にはジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネート、ビス(クロロフェニル)カーボネート、m―クレジルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス(ジフェニル)カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネートなどが挙げられ、なかでもジフェニルカーボネートが好ましい。   Examples of the carbonate ester include esters such as an optionally substituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aralkyl group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Specific examples include diphenyl carbonate, ditolyl carbonate, bis (chlorophenyl) carbonate, m-cresyl carbonate, dinaphthyl carbonate, bis (diphenyl) carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, and dibutyl carbonate. Is preferred.

また、重合速度を速めるために重合触媒を用いることができ、かかる重合触媒としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、二価フェノールのナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属化合物、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属化合物、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルアミン、トリエチルアミン等の含窒素塩基性化合物、アルカリ金属やアルカリ土類金属のアルコキシド類、アルカリ金属やアルカリ土類金属の有機酸塩類、亜鉛化合物類、ホウ素化合物類、アルミニウム化合物類、珪素化合物類、ゲルマニウム化合物類、有機スズ化合物類、鉛化合物類、オスミウム化合物類、アンチモン化合物類、マンガン化合物類、チタン化合物類、ジルコニウム化合物類などの通常エステル化反応、エステル交換反応に使用される触媒を用いることができる。触媒は単独で使用してもよいし、2種以上組み合わせ使用してもよい。これらの重合触媒の使用量は、原料の二価フェノール1モルに対し、好ましくは1×10−8〜1×10−3当量、より好ましくは1×10−7〜5×10−4当量の範囲で選ばれる。 A polymerization catalyst can be used to increase the polymerization rate. Examples of such polymerization catalyst include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium salt of dihydric phenol, alkali metal compounds such as potassium salt, calcium hydroxide, Alkaline earth metal compounds such as barium hydroxide and magnesium hydroxide, nitrogen-containing basic compounds such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, trimethylamine and triethylamine, alkoxides of alkali metals and alkaline earth metals, alkali metals And organic earth salts of alkaline earth metals, zinc compounds, boron compounds, aluminum compounds, silicon compounds, germanium compounds, organotin compounds, lead compounds, osmium compounds, antimony compounds, manganese compounds , Tan compounds, usually the esterification reaction, such as zirconium compounds, there can be used a catalyst used in the transesterification reaction. A catalyst may be used independently and may be used in combination of 2 or more types. The amount of these polymerization catalysts used is preferably 1 × 10 −8 to 1 × 10 −3 equivalent, more preferably 1 × 10 −7 to 5 × 10 −4 equivalent, relative to 1 mol of dihydric phenol as a raw material. Selected by range.

ポリカーボネート樹脂の分子量は、粘度平均分子量(M)で10,000〜22,000が好ましく、12,000〜20,000がより好ましく、13,000〜18,000が特に好ましい。かかる粘度平均分子量を有するポリカーボネート樹脂は、光学用材料として十分な強度が得られ、また、成形時の溶融流動性も良好であり成形歪みが発生せず好ましい。本発明でいう粘度平均分子量は塩化メチレン100mLにポリカーボネート樹脂0.7gを20℃で溶解した溶液から求めた比粘度(ηsp)を次式に挿入して求めたものである。
ηsp/c=[η]+0.45×[η]c(但し[η]は極限粘度)
[η]=1.23×10−40.83
c=0.7
The molecular weight of the polycarbonate resin is preferably 10,000 to 22,000, more preferably 12,000 to 20,000, and particularly preferably 13,000 to 18,000 in terms of viscosity average molecular weight (M). A polycarbonate resin having such a viscosity average molecular weight is preferable because it provides sufficient strength as an optical material and has good melt fluidity during molding and does not cause molding distortion. The viscosity average molecular weight referred to in the present invention is obtained by inserting the specific viscosity (η sp ) obtained from a solution obtained by dissolving 0.7 g of a polycarbonate resin in 100 mL of methylene chloride at 20 ° C. into the following equation.
η sp /c=[η]+0.45×[η] 2 c (where [η] is the intrinsic viscosity)
[Η] = 1.23 × 10 −4 M 0.83
c = 0.7

原料ポリカーボネート樹脂は、従来公知の方法(溶液重合法、溶融重合法など)により製造した後、溶液状態において濾過処理をしたり、造粒(脱溶媒)後の粒状原料を例えば加熱条件下でアセトンなどの貧溶媒で洗浄したりして低分子量成分や未反応成分等の不純物や異物を除去することが好ましい。さらに射出成形に供するためのペレット状ポリカーボネート樹脂を得る押出工程(ペレット化工程)では溶融状態の時に濾過精度10μmの焼結金属フィルターを通すなどして異物を除去したりすることが好ましい。殊に樹脂との熱伝導率の差が5[W/(m・K)]以上である異物、就中銅または銅含有異物の混入量の少ない樹脂を得るには、重合原料としてかかる異物の少ない原料を選択することおよびかかる異物の発生の少ない装置を使用することなども要望される。またペレットにした後の工程でも、磁選機を設置するなどして、銅または銅含有異物を除去したりすることも好ましい。さらには根本的な対策として、本発明において特定する異物を発生するのに関係すると考えられる材質の配管、機材および機器を工程に出来る限り使用しないようにしたりすることも好ましい。必要により、例えばリン系等の酸化防止剤などの添加剤を加えることも好ましい。いずれにしても射出成形前の原料樹脂は異物、不純物、溶媒などの含有量を極力低くしておくことが必要である。   The raw material polycarbonate resin is produced by a conventionally known method (solution polymerization method, melt polymerization method, etc.), and then subjected to filtration treatment in a solution state or the granular raw material after granulation (desolvation) is heated, for example, under acetone. It is preferable to remove impurities and foreign matters such as low molecular weight components and unreacted components by washing with a poor solvent such as Furthermore, in the extrusion process (pelletizing process) for obtaining a pellet-like polycarbonate resin for use in injection molding, it is preferable to remove foreign matters by passing it through a sintered metal filter having a filtration accuracy of 10 μm in the molten state. In particular, in order to obtain a foreign material having a difference in thermal conductivity of 5 [W / (m · K)] or more from the resin, especially a resin having a small amount of copper or copper-containing foreign material, the foreign material as a polymerization raw material It is also desired to select a small amount of raw material and to use an apparatus with little occurrence of such foreign matter. Also in the step after the pelletization, it is also preferable to remove copper or copper-containing foreign matters by installing a magnetic separator. Furthermore, as a fundamental measure, it is also preferable that piping, equipment, and equipment of materials considered to be related to the generation of the foreign matter specified in the present invention are not used in the process as much as possible. If necessary, it is also preferable to add additives such as phosphorus-based antioxidants. In any case, it is necessary for the raw material resin before injection molding to keep the content of foreign matters, impurities, solvents, etc. as low as possible.

上記ポリカーボネート樹脂より光ディスク基板を製造する場合には射出成形機(射出圧縮成形機を含む)を用いる。この射出成形機としては一般的に使用されているものでよいが、炭化物の発生を抑制しディスク基板の信頼性を高める観点からシリンダーやスクリューとして樹脂との付着性が低く、かつ耐食性、耐摩耗性を示す材料を使用してなるものを用いるのが好ましい。射出成形の条件としてはシリンダー温度300〜400℃、金型温度50〜140℃が好ましく、これらにより光学的に優れた光ディスク基板を得ることができる。成形工程での環境は、本発明の目的から考えて、可能な限りクリーンであることが好ましい。また、成形に供する材料を十分乾燥して水分を除去することや、溶融樹脂の分解を招くような滞留を起こさないように配慮することも重要となる。   When manufacturing an optical disk substrate from the polycarbonate resin, an injection molding machine (including an injection compression molding machine) is used. This injection molding machine may be generally used, but it has low adhesion to the resin as a cylinder or screw from the viewpoint of suppressing the generation of carbides and increasing the reliability of the disk substrate, and also has corrosion resistance and wear resistance. It is preferable to use a material made of a material exhibiting properties. As conditions for injection molding, a cylinder temperature of 300 to 400 ° C. and a mold temperature of 50 to 140 ° C. are preferable, and an optically excellent optical disk substrate can be obtained. The environment in the molding process is preferably as clean as possible in view of the object of the present invention. It is also important to take into consideration that the material used for molding is sufficiently dried to remove moisture, and that no retention that causes decomposition of the molten resin occurs.

実施例1
粘度平均分子量が15,000のビスフェノール−Aタイプのポリカーボネート樹脂パウダーを、外部異物の混入および内部異物の発生をコントロールした条件で、溶液重合法によって得た後、ペレタイズにてペレットを得た。該ペレットを、予め0.05μmのフィルターで濾過した塩化メチレンに溶解させ、この試料を15μmのフィルターにて濾過し、フィルター捕集物を得、目視にて異物個数を数えた。総異物個数は35個/40gであった。また、これら捕集異物を、XMA分析装置OXFORD社製Link ISIS 300−Iを用いてより詳細に分析したところ、銅含有異物が8個/40g検出された。
次に光学用ディスク基板射出成形機である名機製作所M−35B−D−DMを使用し、シリンダ温度370℃、金型温度118℃にて連続的に1,000枚のDVD基板を成形し、得た基板の良品率をin−lineでBasler製欠陥検査機によって測定した。この欠陥検査機は、2,048ピクセルの解像度を持つラインスキャンカメラを用い、DVD基板周方向に回転し12,000スキャンすることで得たDVD基板全面の画像を、パソコン上で処理することで、その基板についての良品・不良品の判定を下すものである。欠陥検査機の良品、不良品の判定は100μmを基準としておこなった。得られた良品率の値を表1に示す。
なお、欠陥検査機が不良品と判定した基板の約100μmと認識・判定した欠陥部分を偏光板および顕微鏡を用いて目視にて良く観察したところ、ほぼその寸法の異物が存在する場合もあったが、約15μmの異物が存在する場合も多かった。約15μmの異物が存在する部分の樹脂を溶媒(クロロホルム)で溶かし、その中から異物を取り出して、上記XMA分析装置を用いて分析したところ、多くの場所でCuが検出された。
Example 1
A bisphenol-A type polycarbonate resin powder having a viscosity average molecular weight of 15,000 was obtained by a solution polymerization method under the conditions in which mixing of external foreign matters and generation of internal foreign matters was controlled, and then pellets were obtained by pelletizing. The pellet was dissolved in methylene chloride filtered in advance with a 0.05 μm filter, and this sample was filtered with a 15 μm filter to obtain a filter collection, and the number of foreign matters was counted visually. The total number of foreign matters was 35/40 g. Further, when these collected foreign substances were analyzed in more detail using Link ISIS 300-I manufactured by XMA analyzer OXFORD, 8/40 g of copper-containing foreign substances were detected.
Next, using an optical disk substrate injection molding machine M-35B-D-DM, 1,000 DVD substrates were continuously molded at a cylinder temperature of 370 ° C and a mold temperature of 118 ° C. Then, the yield rate of the obtained substrate was measured in-line by a Basler defect inspection machine. This defect inspection machine uses a line scan camera with a resolution of 2,048 pixels and processes the image on the entire surface of the DVD substrate obtained by rotating in the circumferential direction of the DVD substrate and scanning it for 12,000 on a personal computer. In this case, it is determined whether the substrate is non-defective or defective. The quality of the defect inspection machine was determined based on 100 μm. Table 1 shows the obtained yield rate values.
In addition, when the defect part recognized / determined to be about 100 μm of the substrate determined to be defective by the defect inspection machine was visually observed using a polarizing plate and a microscope, there was a case where foreign matter of almost the same size was present. However, there were many cases where foreign matter of about 15 μm was present. When a portion of the resin containing about 15 μm of foreign matter was dissolved in a solvent (chloroform), the foreign matter was taken out from the resin and analyzed using the XMA analyzer, Cu was detected in many places.

実施例2
粘度平均分子量が15,000のビスフェノール−Aタイプのポリカーボネート樹脂パウダーを、外部異物の混入および内部異物の発生をコントロールした条件で、溶液重合法によって得た。このパウダーに粒径15〜20μmの銅粉を添加し、ペレタイズにてペレットを得た。該ペレットを、予め0.05μmのフィルターで濾過した塩化メチレンに溶解させ、この試料を15μmのフィルターにて濾過し、フィルター捕集物を得、目視にて異物個数を数えた。総異物個数は37個/40gであった。また、これら捕集異物を、XMA分析装置OXFORD社製Link ISIS 300−Iを用いてより詳細に分析したところ、銅含有異物が12個/40g検出された。
次に実施例1と同様の良品率評価をおこなった。得られた良品率の値を表1に示す。
Example 2
A bisphenol-A type polycarbonate resin powder having a viscosity average molecular weight of 15,000 was obtained by a solution polymerization method under conditions in which mixing of external foreign matters and generation of internal foreign matters were controlled. Copper powder having a particle size of 15 to 20 μm was added to this powder, and pellets were obtained by pelletizing. The pellet was dissolved in methylene chloride filtered in advance with a 0.05 μm filter, and this sample was filtered with a 15 μm filter to obtain a filter collection, and the number of foreign matters was counted visually. The total number of foreign matters was 37/40 g. Moreover, when these collected foreign materials were analyzed in detail using Link ISIS 300-I manufactured by XMA analyzer OXFORD, 12/40 g of copper-containing foreign materials were detected.
Next, the yield rate evaluation similar to Example 1 was performed. Table 1 shows the obtained yield rate values.

比較例
粘度平均分子量が15,000のビスフェノール−Aタイプのポリカーボネート樹脂パウダーを、外部異物の混入および内部異物の発生をコントロールした条件で、溶液重合法によって得た。このパウダーに粒径15〜20μmの銅粉を添加し、ペレタイズにてペレットを得た。該ペレットを、予め0.05μmのフィルターで濾過した塩化メチレンに溶解させ、この試料を15μmのフィルターにて濾過し、フィルター捕集物を得、目視にて異物個数を数えた。総異物個数は39個/40gであった。また、これら捕集異物を、XMA分析装置OXFORD社製Link ISIS 300−Iを用いてより詳細に分析したところ、銅含有異物が29個/40g検出された。
このペレットを使用した以外は実施例1と同様の実験をおこなった。得られた良品率の値を表1に示す。なおここで、銅の熱伝導率は336[W/(m・K)]以上(化学便覧(日本化学会編/丸善株式会社))であり、また、ポリカーボネート樹脂の熱伝導率は0.203[W/(m・K)]以下(化学装置便覧(化学工業会編/丸善株式会社))であり、両者の熱伝導率差は5[W/(m・K)]以上である
Comparative Example A bisphenol-A type polycarbonate resin powder having a viscosity average molecular weight of 15,000 was obtained by a solution polymerization method under the conditions in which mixing of external foreign matters and generation of internal foreign matters were controlled. Copper powder having a particle size of 15 to 20 μm was added to this powder, and pellets were obtained by pelletizing. The pellet was dissolved in methylene chloride filtered in advance with a 0.05 μm filter, and this sample was filtered with a 15 μm filter to obtain a filter collection, and the number of foreign matters was counted visually. The total number of foreign matters was 39/40 g. Further, when these collected foreign substances were analyzed in more detail using Link ISIS 300-I manufactured by XMA analyzer OXFORD, 29/40 g of copper-containing foreign substances were detected.
The same experiment as in Example 1 was performed except that this pellet was used. Table 1 shows the obtained yield rate values. Here, the thermal conductivity of copper is 336 [W / (m · K)] or more (Chemical Handbook (edited by the Chemical Society of Japan / Maruzen Co., Ltd.)), and the thermal conductivity of polycarbonate resin is 0.203. [W / (m · K)] or less (Chemical Equipment Handbook (Chemical Industry Association / Maruzen Co., Ltd.)), the difference in thermal conductivity between the two being 5 [W / (m · K)] or more

Figure 2006302504
Figure 2006302504

この結果から、高良品率で信頼性の高い光学用光ディス基板を得るためには、本発明に従い、樹脂中に存在する異物の総量を制限するのみならず、それら種々の異物のうち、該樹脂との熱伝導率差を基準として選択的にその異物の占める比率を制限したポリカーボネート樹脂を使用する必要があることが分かる。   From this result, in order to obtain a high-quality and highly reliable optical optical disc substrate, according to the present invention, not only the total amount of foreign matter present in the resin is limited, but among these various foreign matters, It can be seen that it is necessary to use a polycarbonate resin that selectively restricts the proportion of the foreign matter based on the difference in thermal conductivity with the resin.

Claims (5)

ポリカーボネート樹脂を成形して光ディスク基板を製造する方法であって、該ポリカーボネート樹脂が、粒径15μm以上である異物総個数が1個/40g以上、37個/40g以下であり、かつそのうち銅または銅含有異物が12個/40g以下であることを特徴とする光ディスク基板の製造方法。 A method for producing an optical disk substrate by molding a polycarbonate resin, wherein the total number of foreign matters having a particle size of 15 μm or more is 1/40 g or more and 37/40 g or less, and copper or copper A manufacturing method of an optical disk substrate, wherein the number of contained foreign matters is 12 pieces / 40 g or less. 該ポリカーボネート樹脂が、10,000〜22,000の粘度平均分子量を有する請求項1記載の方法。 The method of claim 1 wherein the polycarbonate resin has a viscosity average molecular weight of 10,000 to 22,000. 成形を射出成形で行う請求項1または2に記載の方法。 The method according to claim 1 or 2, wherein the molding is performed by injection molding. 射出成形をシリンダー温度300〜400℃、金型温度50〜140℃で行う請求項3記載の方法。 The method according to claim 3, wherein the injection molding is performed at a cylinder temperature of 300 to 400 ° C and a mold temperature of 50 to 140 ° C. 光ディスク基板がDVD基板である請求項1〜4記載の方法。
5. The method according to claim 1, wherein the optical disk substrate is a DVD substrate.
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JPH05239334A (en) * 1992-02-27 1993-09-17 Nippon G Ii Plast Kk Production of polycarbonate composition for optical use
JP2000173101A (en) * 1998-12-10 2000-06-23 Teijin Chem Ltd Molding material of polycarbonate resin for optical use and optical disk substrate
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