JP2003301099A - Polycarbonate resin composition and optical disk substrate made thereof - Google Patents

Polycarbonate resin composition and optical disk substrate made thereof

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JP2003301099A
JP2003301099A JP2002106488A JP2002106488A JP2003301099A JP 2003301099 A JP2003301099 A JP 2003301099A JP 2002106488 A JP2002106488 A JP 2002106488A JP 2002106488 A JP2002106488 A JP 2002106488A JP 2003301099 A JP2003301099 A JP 2003301099A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polycarbonate resin composition excellent in precision transfer properties, high rigidity, low water absorption, and transparency; and an optical disk substrate and an optical disk obtained from the composition. <P>SOLUTION: This resin composition is characterized in that it contains 0.1-20 pts.wt. stilbene compound represented by formula [I] in 100 pts.wt. polycarbonate resin. The optical disk substrate is obtained from the composition. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スタンパー形状に
対する精密転写性、高剛性、低吸水性、透明性を併せ持
つポリカーボネート樹脂組成物およびそれから得られた
光ディスク基板および光ディスクに関する。さらに詳し
くは、CD(コンパクトディスク)やMO(光磁気ディ
スク)、DVD(Digital Versatile
Disk)などの光ディスク分野において精密転写性
で且つ、環境変化によるディスクの反りが少ない光ディ
スク基板および光ディスクに関する。特に本発明は、記
録容量の極めて大きな高密度光ディスク用の基板に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polycarbonate resin composition having precision transferability for stamper shapes, high rigidity, low water absorption, and transparency, and an optical disk substrate and an optical disk obtained therefrom. More specifically, CD (compact disc), MO (magneto-optical disc), DVD (Digital Versatile)
The present invention relates to an optical disc substrate and an optical disc that have a precise transfer property in the field of optical discs such as Disc) and have less warp of the disc due to environmental changes. In particular, the present invention relates to a substrate for a high density optical disc having an extremely large recording capacity.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ディスクの記録密度は、CDの0.6
GBからDVDの4.7GBと向上の一途を辿ってい
る。しかしながら、情報技術の進展に伴い、光ディスク
分野の市場発展は目覚しく、今後はより膨大な情報を記
録できる高密度光ディスクの登場が期待されている。例
えば、デジタル放送などに対応できる100Gbit/
inch2以上の記録密度を有する光ディスクが要望さ
れている。
2. Description of the Related Art The recording density of an optical disk is 0.6 of that of a CD.
It has been improving steadily from GB to 4.7 GB for DVD. However, with the progress of information technology, the market development in the optical disc field has been remarkable, and in the future, it is expected that a high density optical disc capable of recording a vast amount of information will appear. For example, 100 Gbit / that can support digital broadcasting
There is a demand for an optical disc having a recording density of inch 2 or more.

【0003】光ディスクの高密度化は、グルーブもしく
はピットの間隔、すなわちトラックピッチを狭めてトラ
ック方向の記録密度を高めることで達成される。例え
ば、CDからDVDへの高密度化へあたっては、トラッ
クピッチを1.6μmから、0.74μmへと狭めるこ
とにより記録密度を高める措置がとられている。
The high density of the optical disk is achieved by narrowing the groove or pit spacing, that is, the track pitch to increase the recording density in the track direction. For example, in order to increase the density from CD to DVD, measures are taken to increase the recording density by narrowing the track pitch from 1.6 μm to 0.74 μm.

【0004】光ディスク基板は熱可塑性樹脂を射出成形
(射出圧縮成形)して製造される。その際、金型に取り
付けた、スタンパー上に予め刻印された記録再生信号の
もとになる微細な凹凸形状が、スタンパーから基板表面
に転写される。従って、基板の成形時にはスタンパーの
凹凸形状をいかに精度良く転写できるか、即ち精密転写
性が重要となる。特に、高密度光ディスク基板の成形に
おいては、かかる重要性が顕著なものとなる。
The optical disk substrate is manufactured by injection molding (injection compression molding) of a thermoplastic resin. At that time, a fine concavo-convex shape which is a source of a recording / reproducing signal, which is attached to the mold and is pre-engraved on the stamper, is transferred from the stamper to the substrate surface. Therefore, how accurately the uneven shape of the stamper can be transferred at the time of molding the substrate, that is, the precision transfer property is important. Especially, in molding a high density optical disk substrate, such importance becomes remarkable.

【0005】高密度光ディスクにおいては、高転写率の
基板よりなることに加え、従来の光ディスクに比べ、基
板の反りや環境変化に対する反り変化が小さいことが、
以下の理由により重要となる。高密度化に伴い、レーザ
ーの短波長化およびピックアップレンズが高NA化され
るため、微小な基板の反りでもコマ収差が大きくなり、
フォーカスエラーやトラッキングエラーを引き起こすか
らである。また、高NA化によってピックアップレンズ
と基板との距離が接近するため、レンズと基板の接触を
回避するためにも、基板の反りおよび環境変化による反
り変化は小さいことが重要となる。
In the high density optical disc, in addition to the substrate having a high transfer rate, the warp of the substrate and the change in the warp due to the environmental change are smaller than those in the conventional optical disc.
It is important for the following reasons. As the density becomes higher, the wavelength of the laser becomes shorter and the NA of the pickup lens becomes higher, so that the coma aberration becomes large even if the substrate warps even slightly.
This is because it causes a focus error and a tracking error. Further, since the distance between the pickup lens and the substrate becomes shorter due to the increase in NA, it is important that the substrate warp and the warp change due to the environmental change are small in order to avoid contact between the lens and the substrate.

【0006】従来、CD(コンパクトディスク)やMO
(光磁気ディスク)、DVD(Digital Ver
satile Disk)などの光ディスクの基板に
は、透明性、耐熱性、機械的特性および寸法安定性等が
優れていることから、ポリカーボネートが使用されてき
た。
Conventionally, CD (compact disc) and MO
(Magneto-optical disk), DVD (Digital Ver.
Polycarbonate has been used for a substrate of an optical disc such as a Satele Disk) because of its excellent transparency, heat resistance, mechanical properties and dimensional stability.

【0007】しかしながら、光ディスクの高密度化に伴
い、ポリカーボネートから形成された光ディスク基板
も、精密転写性と反りの点から十分満足いくものではな
くなってきている。
However, with the increase in density of optical discs, optical disc substrates made of polycarbonate have become less than satisfactory in terms of precision transferability and warpage.

【0008】転写性の改善の要求に対しては、これまで
も成形技術および材料改質の両側面から種々検討がなさ
れてきた。前者については、例えば、基板成形時のシリ
ンダー温度や金型温度を高く設定する方法が有効である
ことが確認されている。しかしながら、この方法は高温
成形であるがゆえに、金型内での冷却時間を長くしなけ
ればならず、成形サイクルが伸びて生産性に劣るという
問題が発生する。無理に、ハイサイクル化して成形を行
なうと、金型から基板を取り出す際に離型不良が生じ、
ピットやグルーブが変形するため、逆に、転写精度が低
下するという問題が発生する。後者については、例え
ば、高流動性を付与するためにポリカーボネート樹脂中
に低分子量体を多く含有させる方法(特開平9−208
684号公報、特開平11−1551号公報など)、あ
るいは特定の長鎖アルキルフェノールを末端停止剤とし
て使用する方法(特開平11−269260号公報な
ど)が提案されている。しかし、この低分子量体の含有
量を増加する方法、あるいは、長鎖アルキルフェノール
による末端基の改変方法は、一般に熱安定性の低下が大
きく、したがって、成形時に熱分解を促進する結果、デ
ィスク基板の機械的強度が著しく低下して、金型からの
突出し力により基板の割れを生じたり、また光ディスク
基板の取り扱い時にも基板の破損が起こることになる。
To meet the demand for improved transferability, various studies have been made from both sides of molding technology and material modification. Regarding the former, it has been confirmed that, for example, a method of setting the cylinder temperature and the mold temperature at the time of molding the substrate high is effective. However, since this method is high-temperature molding, it is necessary to lengthen the cooling time in the mold, which causes a problem that the molding cycle is extended and productivity is deteriorated. If you forcibly make the cycle high and perform molding, a mold release defect occurs when you take out the substrate from the mold,
Since the pits and grooves are deformed, on the contrary, there arises a problem that the transfer accuracy is lowered. Regarding the latter, for example, a method of containing a large amount of a low molecular weight substance in a polycarbonate resin in order to impart high fluidity (JP-A-9-208).
No. 684, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-1551, etc.) or a method of using a specific long-chain alkylphenol as a terminal terminating agent (Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-269260, etc.) has been proposed. However, the method of increasing the content of this low molecular weight product or the method of modifying the end group with a long-chain alkylphenol generally causes a large decrease in thermal stability, and therefore accelerates thermal decomposition at the time of molding, resulting in disc substrate The mechanical strength is remarkably reduced, the substrate is cracked due to the force of protrusion from the mold, and the substrate is damaged during handling of the optical disc substrate.

【0009】この様に従来の技術は、いずれも樹脂の流
動性を向上させることによる転写性の改善効果を狙った
ものであるが、実用に耐えうる基板を高効率で得られる
ものではなかった。
As described above, all of the conventional techniques are aimed at the effect of improving the transferability by improving the fluidity of the resin, but they have not been able to obtain a practically efficient substrate with high efficiency. .

【0010】一方、反りの改善要求に対しても、成形技
術および材料改質の両側面から種々検討がなされてき
た。前者については、成形条件を詳細に調整することに
よって、基板の反りを小さく抑え込むことができるが、
同時にスタンパー形状を精密に転写させるのは困難であ
った。後者については、曲げまたは引張り弾性率が高い
剛性のある材料を使用することが有効であることが知ら
れている。このため、ポリカーボネート樹脂の剛性を改
良することを目的として、ガラス繊維や充填材などの添
加物を配合する手法が試みられている。しかし、上記添
加物は、ポリカーボネート樹脂の剛性を向上させるが、
添加物が表面に露出し、転写精度が低下するという問題
があった。
On the other hand, various requests have been made to improve the warpage from both sides of molding technology and material modification. Regarding the former, by adjusting the molding conditions in detail, the warpage of the substrate can be suppressed to a small level,
At the same time, it was difficult to accurately transfer the stamper shape. For the latter, it is known to be effective to use a rigid material having a high bending or tensile modulus. Therefore, for the purpose of improving the rigidity of the polycarbonate resin, a method of blending additives such as glass fiber and a filler has been attempted. However, although the above additives improve the rigidity of the polycarbonate resin,
There is a problem that the additive is exposed on the surface and the transfer accuracy is lowered.

【0011】環境変化に対する反りについては、吸水変
形を抑えるために、特開2000−11449号公報で
は、“基板と、この基板に配置されて情報信号を記録す
るための記録層とその記録層に積層される透明保護層を
有し、透明保護層側から光を入射する事で情報信号の記
録/再生を行なうディスク状の情報記録媒体であり、こ
の基板は、樹脂製のコア層と、コア層に一体となってお
り、一方の面に記録層側の情報信号の凹凸が存在し、コ
ア層に比べて流動性を有する樹脂製の表層とから構成さ
れていることを特徴とする情報記録媒体”であって、基
板表層の吸水率を0.3%以下の樹脂を用いる基板が提
案されており、2色成形、サンドイッチ成形による複雑
な基板構成で問題を解決する方向が示されている。
Regarding the warpage due to environmental changes, in order to suppress water absorption deformation, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-11449 discloses that "a substrate, a recording layer arranged on this substrate for recording an information signal, and a recording layer thereof. A disc-shaped information recording medium having a transparent protective layer to be laminated, and recording / reproducing an information signal by entering light from the transparent protective layer side. This substrate comprises a resin core layer and a core. Information recording characterized in that it is integrated with the layer, and one surface has unevenness of the information signal on the recording layer side, and is composed of a resin surface layer having fluidity compared to the core layer. A substrate that is a “medium” and uses a resin having a water absorption rate of 0.3% or less on the surface layer of the substrate has been proposed, and a direction for solving the problem is shown by a complicated substrate configuration by two-color molding or sandwich molding. .

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、スタンパー
形状に対する精密転写性、高剛性、低吸水性および透明
性を併せ持つポリカーボネート樹脂組成物およびそれか
ら得られた、高転写率で、且つ、反りにくい光ディスク
基板および光ディスク、とりわけ高密度光ディスク用基
板を提供することを目的とするものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a polycarbonate resin composition having precision transferability with respect to a stamper shape, high rigidity, low water absorption and transparency, and a high transfer rate and low warpage obtained from the same. It is an object of the present invention to provide an optical disk substrate and an optical disk, especially a high density optical disk substrate.

【0013】本発明における「精密転写性」とは、熱可
塑性樹脂成形材料を用いて射出成形により光ディスク基
板を製造した場合に、スタンパーに刻印された微細な凹
凸形状を忠実に転写することができる性質のことであ
る。
The term "precision transferability" as used in the present invention means that when an optical disk substrate is manufactured by injection molding using a thermoplastic resin molding material, the fine concave-convex shape stamped on the stamper can be faithfully transferred. It is a property.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明者らの研究によれ
ば、前記本発明の目的は、ポリカーボネート樹脂100
重量部に対し下記式[I]で表されるスチルベン化合物
0.1〜20重量部を含むことを特徴とするポリカーボ
ネート樹脂組成物および該樹脂からなる光ディスク基板
および光記録媒体によって達成されることが見出され
た。
According to the research conducted by the present inventors, the above-mentioned object of the present invention is to provide a polycarbonate resin 100.
What is achieved by a polycarbonate resin composition comprising 0.1 to 20 parts by weight of a stilbene compound represented by the following formula [I], and an optical disk substrate and an optical recording medium made of the resin, based on parts by weight. Was found.

【0015】[0015]

【化2】 [Chemical 2]

【0016】(式中、複数のR1は各々独立に、水素原
子、炭素数が1〜8のアルキル基、塩素原子、臭素原子
またはシアノ基であり、複数のR2は各々独立に、水素
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、シアノ
基、ニトリル基、カルボキシアミド基またはカルボキシ
イミド基を表す。) 以下、本発明をさらに詳細に説明する。本発明で使用さ
れるポリカーボネート樹脂は、通常二価フェノールとカ
ーボネート前駆体とを界面重合法または溶融重合法で反
応させて得られるものである。ここで使用される二価フ
ェノールの代表的な例としてはハイドロキノン、レゾル
シノール、4,4’−ジヒドロキシジフェニル、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス{(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチル)フェニル}メタン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビ
スフェノール−A)、2,2−ビス{(4−ヒドロキシ
−3−メチル)フェニル}プロパン、2,2−ビス
{(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル)フェニル}プ
ロパン、2,2−ビス{(3,5−ジブロモ−4−ヒド
ロキシ)フェニル}プロパン、2,2−ビス{(3−イ
ソプロピル−4−ヒドロキシ)フェニル}プロパン、
2,2−ビス{(4−ヒドロキシ−3−フェニル)フェ
ニル}プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−3−メチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−3,3−ジメチルブタン、2,4−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−2−メチルブタン、2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−イソプロピル
シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、9,9
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9
−ビス{(4−ヒドロキシ−3−メチル)フェニル}フ
ルオレン、1,1’−ビス−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−オルト−ジイソプロピルベンゼン、1,1’−ビ
ス−(4−ヒドロキシフェニル)−メタ−ジイソプロピ
ルベンゼン、1,1’−ビス−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−パラ−ジイソプロピルベンゼン、1,3−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−5,7−ジメチルアダマ
ンタン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,
4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4’−
ジヒドロキシジフェニルケトン、4,4’−ジヒドロキ
シジフェニルエーテルおよび4,4’−ジヒドロキシジ
フェニルエステル、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2メチルプロパン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−2−エチルヘキサン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン等が
挙げられる、これらは単独または2種以上を混合して使
用できる。
(In the formula, a plurality of R 1 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom or a cyano group, and a plurality of R 2 are independently hydrogen. It represents an atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a cyano group, a nitrile group, a carboxamide group or a carboximide group.) The present invention will be described in more detail below. The polycarbonate resin used in the present invention is usually obtained by reacting a dihydric phenol with a carbonate precursor by an interfacial polymerization method or a melt polymerization method. Typical examples of the dihydric phenol used here are hydroquinone, resorcinol, 4,4′-dihydroxydiphenyl, bis (4-hydroxyphenyl) methane, bis {(4-hydroxy-3,5-dimethyl) phenyl. } Methane, 1,1
-Bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane,
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol-A), 2,2-bis {(4-hydroxy-3-methyl) phenyl} propane, 2,2-bis {(4-hydroxy-3, 5-dimethyl) phenyl} propane, 2,2-bis {(3,5-dibromo-4-hydroxy) phenyl} propane, 2,2-bis {(3-isopropyl-4-hydroxy) phenyl} propane,
2,2-bis {(4-hydroxy-3-phenyl) phenyl} propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl)
-3-Methylbutane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3-dimethylbutane, 2,4-bis (4
-Hydroxyphenyl) -2-methylbutane, 2,2-
Bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1
-Bis (4-hydroxyphenyl) -4-isopropylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 9,9
-Bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9
-Bis {(4-hydroxy-3-methyl) phenyl} fluorene, 1,1'-bis- (4-hydroxyphenyl) -ortho-diisopropylbenzene, 1,1'-bis- (4-hydroxyphenyl) -meta -Diisopropylbenzene, 1,1'-bis- (4-hydroxyphenyl) -para-diisopropylbenzene, 1,3-bis (4-hydroxyphenyl) -5,7-dimethyladamantane, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone ,
4,4'-dihydroxydiphenyl sulfoxide, 4,
4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-
Dihydroxydiphenyl ketone, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether and 4,4'-dihydroxydiphenyl ester, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2 methylpropane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2 -Ethylhexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -4-methylpentane and the like can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0017】なかでも2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン(ビスフェノールA)、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−2メチルプロパン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペン
タンが好ましい。
Among them, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A), 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2 methylpropane, 2,
2-bis (4-hydroxyphenyl) -4-methylpentane is preferred.

【0018】前記二価フェノールを使用してポリカーボ
ネートを製造する際に使用されるカーボネート前駆体と
してはカルボニルハライド、カーボネートエステルまた
はハロホルメート等が挙げられ、具体的にはホスゲン、
ジフェニルカーボネートまたは二価フェノールのジハロ
ホルメート等が挙げられるが、ホスゲンまたはジフェニ
ルカーボネートが好ましい。
Examples of the carbonate precursor used when producing a polycarbonate using the above dihydric phenol include carbonyl halide, carbonate ester, haloformate, and the like. Specifically, phosgene,
Examples thereof include diphenyl carbonate or dihaloformate of dihydric phenol, and phosgene or diphenyl carbonate is preferable.

【0019】上記二価フェノールとカーボネート前駆体
を例えば溶液重合法または溶融重合法等によって反応さ
せてポリカーボネート樹脂を製造するに当っては、必要
に応じて触媒、末端停止剤、二価フェノールの酸化防止
剤等を使用してもよい。
When a polycarbonate resin is produced by reacting the above-mentioned dihydric phenol with a carbonate precursor by, for example, a solution polymerization method or a melt polymerization method, a catalyst, an end terminating agent, and oxidation of the dihydric phenol may be added, if necessary. You may use an inhibitor etc.

【0020】界面重合法による反応は、通常二価フェノ
ールとホスゲンとの反応であり、酸結合剤および有機溶
媒の存在下に反応させる。酸結合剤としては、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物またはピリジン等のアミン化合物が用いられる。有
機溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素が用いられる。また、反応促進
のために例えばトリエチルアミン、テトラ−n−ブチル
アンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルホスホニ
ウムブロマイド等の第三級アミン、第四級アンモニウム
化合物、第四級ホスホニウム化合物等の触媒を用いるこ
ともできる。その際、反応温度は通常0〜40℃、反応
時間は10分〜5時間程度、反応中のpHは9以上に保
つのが好ましい。
The reaction by the interfacial polymerization method is usually a reaction between a dihydric phenol and phosgene, which is carried out in the presence of an acid binder and an organic solvent. As the acid binder, for example, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide or an amine compound such as pyridine is used. As the organic solvent, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chlorobenzene are used. It is also possible to use a catalyst such as a tertiary amine such as triethylamine, tetra-n-butylammonium bromide, or tetra-n-butylphosphonium bromide, a quaternary ammonium compound, or a quaternary phosphonium compound for accelerating the reaction. it can. At that time, the reaction temperature is usually 0 to 40 ° C., the reaction time is preferably 10 minutes to 5 hours, and the pH during the reaction is preferably 9 or more.

【0021】また、かかる重合反応において、通常末端
停止剤が使用される。かかる末端停止剤として単官能フ
ェノール類を使用することができる。単官能フェノール
類は末端停止剤として分子量調節のために一般的に使用
され、また得られたポリカーボネート樹脂は、末端が単
官能フェノール類に基づく基によって封鎖されているの
で、そうでないものと比べて熱安定性に優れている。か
かる単官能フェノール類としては、一般にはフェノール
または低級アルキル置換フェノールであって、下記式
[II]
In addition, in such a polymerization reaction, a terminal stopper is usually used. Monofunctional phenols can be used as such an end terminator. Monofunctional phenols are commonly used as molecular terminating agents for molecular weight control, and the resulting polycarbonate resins are compared to those that do not because the ends are blocked by groups based on monofunctional phenols. Excellent thermal stability. Such monofunctional phenols are generally phenols or lower alkyl-substituted phenols represented by the following formula [II]

【0022】[0022]

【化3】 [Chemical 3]

【0023】[式中、Aは水素原子または炭素数1〜9
の直鎖または分岐のアルキル基あるいはフェニル置換ア
ルキル基であり、rは1〜5、好ましくは1〜3の整数
である。]で表される単官能フェノール類を示すことが
できる。
[In the formula, A is a hydrogen atom or 1 to 9 carbon atoms.
Is a linear or branched alkyl group or a phenyl-substituted alkyl group, and r is an integer of 1 to 5, preferably 1 to 3. ] Monofunctional phenols represented by can be shown.

【0024】上記単官能フェノール類の具体例として
は、例えばフェノール、p−tert−ブチルフェノー
ル、p−クミルフェノールおよびイソオクチルフェノー
ルが挙げられる。
Specific examples of the above monofunctional phenols include phenol, p-tert-butylphenol, p-cumylphenol and isooctylphenol.

【0025】また、他の単官能フェノール類としては、
長鎖のアルキル基あるいは脂肪族エステル基を置換基と
して有するフェノール類または安息香酸クロライド類、
もしくは長鎖のアルキルカルボン酸クロライド類を使用
することができ、これらを用いてポリカーボネート重合
体の末端を封鎖すると、これらは末端停止剤または分子
量調節剤として機能するのみならず、樹脂の溶融流動性
が改良され、成形加工が容易になるばかりでなく、基板
としての物性、特に樹脂の吸水率を低くする効果があ
り、また基板の複屈折率が低減される効果もあり、好ま
しく使用される。なかでも、下記式[III]および
[IV]
As other monofunctional phenols,
Phenols or benzoic acid chlorides having a long-chain alkyl group or an aliphatic ester group as a substituent,
Alternatively, long-chain alkylcarboxylic acid chlorides can be used, and when these are used to block the ends of the polycarbonate polymer, they not only function as a terminal stopper or a molecular weight modifier, but also melt flowability of the resin. Is not only improved and the molding process is facilitated, but also has the effect of lowering the physical properties of the substrate, in particular the water absorption of the resin, and the effect of reducing the birefringence of the substrate, and is therefore preferably used. Above all, the following formulas [III] and [IV]

【0026】[0026]

【化4】 [Chemical 4]

【0027】[0027]

【化5】 [Chemical 5]

【0028】[式中、Xは−R−CO−O−または−R
−O−CO−である、ここでRは単結合または炭素数1
〜10、好ましくは1〜5の二価の脂肪族炭化水素基を
示し、nは10〜50の整数を示す。]で表される長鎖
のアルキル基を置換基として有するフェノール類が好ま
しく使用される。
[Wherein, X is -R-CO-O- or -R
-O-CO-, where R is a single bond or 1 carbon atom
-10, preferably 1-5 divalent aliphatic hydrocarbon group is shown, and n shows the integer of 10-50. ] Phenols having a long-chain alkyl group represented by the formula as a substituent are preferably used.

【0029】前記式(III)の置換フェノール類とし
てはnが10〜30、特に10〜26のものが好まし
く、その具体例としては例えばデシルフェノール、ドデ
シルフェノール、テトラデシルフェノール、ヘキサデシ
ルフェノール、オクタデシルフェノール、エイコシルフ
ェノール、ドコシルフェノールおよびトリアコンチルフ
ェノール等を挙げることができる。
The substituted phenols of the above formula (III) are preferably those in which n is 10 to 30, particularly 10 to 26, and specific examples thereof include decylphenol, dodecylphenol, tetradecylphenol, hexadecylphenol and octadecyl. Phenol, eicosylphenol, docosylphenol, triacontylphenol and the like can be mentioned.

【0030】また、前記式(IV)の置換フェノール類
としてはXが−R−CO−O−であり、Rが単結合であ
る化合物が適当であり、nが10〜30、特に10〜2
6のものが好適であって、その具体例としては例えばヒ
ドロキシ安息香酸デシル、ヒドロキシ安息香酸ドデシ
ル、ヒドロキシ安息香酸テトラデシル、ヒドロキシ安息
香酸ヘキサデシル、ヒドロキシ安息香酸エイコシル、ヒ
ドロキシ安息香酸ドコシルおよびヒドロキシ安息香酸ト
リアコンチルが挙げられる。
Suitable substituted phenols of the above formula (IV) are compounds in which X is —R—CO—O— and R is a single bond, and n is 10 to 30, particularly 10 to 2.
6 are preferred, and specific examples thereof include decyl hydroxybenzoate, dodecyl hydroxybenzoate, tetradecyl hydroxybenzoate, hexadecyl hydroxybenzoate, eicosyl hydroxybenzoate, docosyl hydroxybenzoate and triacontyl hydroxybenzoate. Can be mentioned.

【0031】これらの末端停止剤は、得られたポリカー
ボネート樹脂の全末端に対して少くとも5モル%、好ま
しくは少くとも10モル%末端に導入されることが望ま
しく、また、末端停止剤は単独でまたは2種以上混合し
て使用してもよい。
It is desirable that these terminal terminators are introduced at the terminal of at least 5 mol%, preferably at least 10 mol% based on all the terminals of the obtained polycarbonate resin, and the terminator alone is used. Or you may use it in mixture of 2 or more types.

【0032】溶融重合法による反応は、通常二価フェノ
ールとカーボネートエステルとのエステル交換反応が代
表的であり、不活性ガスの存在下に二価フェノールとカ
ーボネートエステルとを加熱しながら混合して、生成す
るアルコールまたはフェノールを留出させる方法により
行われる。反応温度は生成するアルコールまたはフェノ
ールの沸点等により異なるが、通常120〜350℃の
範囲である。反応後期には反応系を10〜0.1Tor
r(1,300〜13Pa)程度に減圧して生成するア
ルコールまたはフェノールの留出を容易にさせる。反応
時間は通常1〜4時間程度である。
A typical example of the reaction by the melt polymerization method is a transesterification reaction between a dihydric phenol and a carbonate ester. The dihydric phenol and the carbonate ester are mixed while heating in the presence of an inert gas, It is carried out by a method of distilling the produced alcohol or phenol. The reaction temperature varies depending on the boiling point of the alcohol or phenol to be produced, but is usually in the range of 120 to 350 ° C. In the latter half of the reaction, the reaction system is 10 to 0.1 Tor
The pressure is reduced to about r (1,300 to 13 Pa) to facilitate the distillation of the produced alcohol or phenol. The reaction time is usually about 1 to 4 hours.

【0033】カーボネートエステルとしては、置換基を
有していてもよい炭素数6〜10のアリール基、アラル
キル基あるいは炭素数1〜4のアルキル基などのエステ
ルが挙げられる。具体的にはジフェニルカーボネート、
ジトリルカーボネート、ビス(クロロフェニル)カーボ
ネート、m―クレジルカーボネート、ジナフチルカーボ
ネート、ビス(ジフェニル)カーボネート、ジメチルカ
ーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネ
ートなどが挙げられ、なかでもジフェニルカーボネート
が好ましい。
Examples of the carbonate ester include an ester such as an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aralkyl group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a substituent. Specifically, diphenyl carbonate,
Examples thereof include ditolyl carbonate, bis (chlorophenyl) carbonate, m-cresyl carbonate, dinaphthyl carbonate, bis (diphenyl) carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, dibutyl carbonate, and among them, diphenyl carbonate is preferable.

【0034】また、重合速度を高めるために重合触媒を
用いることができ、かかる重合触媒としては、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、二価フェノールのナ
トリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属化合物;水酸
化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等
のアルカリ土類金属化合物;テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシ
ド、トリメチルアミン、トリエチルアミン等の含窒素塩
基性化合物;アルカリ金属やアルカリ土類金属のアルコ
キシド類;アルカリ金属やアルカリ土類金属の有機酸塩
類;その他に亜鉛化合物類、ホウ素化合物類、アルミニ
ウム化合物類、珪素化合物類、ゲルマニウム化合物類、
有機スズ化合物類、鉛化合物類、オスミウム化合物類、
アンチモン化合物類、マンガン化合物類、チタン化合物
類、ジルコニウム化合物類などの通常エステル化反応、
エステル交換反応に使用される触媒を用いることができ
る。触媒は単独で使用してもよいし、2種以上組み合わ
せ使用してもよい。これらの重合触媒の使用量は、原料
の二価フェノール1モルに対し、好ましくは1×10 -8
〜1×10-3当量、より好ましくは1×10-7〜5×1
-4当量の範囲で選ばれる。
Also, a polymerization catalyst is used to increase the polymerization rate.
As the polymerization catalyst, for example, water can be used.
Sodium oxide, potassium hydroxide, dihydric phenol
Alkali metal compounds such as thorium salt and potassium salt;
Calcium oxide, barium hydroxide, magnesium hydroxide, etc.
Alkaline earth metal compounds of tetramethylammonium
Hydroxide, tetraethylammonium hydroxy
Nitrogen-containing salts such as sodium chloride, trimethylamine and triethylamine
Basic compound; Alcohol of alkali metal or alkaline earth metal
Xides; organic acid salts of alkali metals and alkaline earth metals
Kinds; In addition, zinc compounds, boron compounds, aluminum
Um compounds, silicon compounds, germanium compounds,
Organotin compounds, lead compounds, osmium compounds,
Antimony compounds, manganese compounds, titanium compounds
Esterification reaction of zirconium compounds, zirconium compounds, etc.,
The catalyst used in the transesterification reaction can be used
It The catalysts may be used alone or in combination of two or more.
You may use it. The amount of these polymerization catalysts used depends on the raw materials.
1 mol per 1 mol of the dihydric phenol -8
~ 1 x 10-3Equivalent, more preferably 1 × 10-7~ 5 x 1
0-FourIt is selected within the equivalent range.

【0035】また、かかる重合反応において、フェノー
ル性の末端基を減少するために、重縮反応の後期あるい
は終了後に、例えばビス(クロロフェニル)カーボネー
ト、ビス(ブロモフェニル)カーボネート、ビス(ニト
ロフェニル)カーボネート、ビス(フェニルフェニル)
カーボネート、クロロフェニルフェニルカーボネート、
ブロモフェニルフェニルカーボネート、ニトロフェニル
フェニルカーボネート、フェニルフェニルカーボネー
ト、メトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネート
およびエトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネー
ト等の化合物を加えることが好ましい。なかでも2−ク
ロロフェニルフェニルカーボネート、2−メトキシカル
ボニルフェニルフェニルカーボネートおよび2−エトキ
シカルボニルフェニルフェニルカーボネートが好まし
く、特に2−メトキシカルボニルフェニルフェニルカー
ボネートが好ましく使用される。
In the polymerization reaction, in order to reduce the number of phenolic terminal groups, for example, bis (chlorophenyl) carbonate, bis (bromophenyl) carbonate, bis (nitrophenyl) carbonate may be added after or at the end of the polycondensation reaction. , Bis (phenylphenyl)
Carbonate, chlorophenyl phenyl carbonate,
It is preferable to add compounds such as bromophenylphenyl carbonate, nitrophenylphenyl carbonate, phenylphenyl carbonate, methoxycarbonylphenylphenyl carbonate and ethoxycarbonylphenylphenyl carbonate. Of these, 2-chlorophenylphenyl carbonate, 2-methoxycarbonylphenylphenyl carbonate and 2-ethoxycarbonylphenylphenyl carbonate are preferable, and 2-methoxycarbonylphenylphenyl carbonate is particularly preferable.

【0036】ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量
は、10,000〜30,000の範囲内に制御される
ことが好ましく、12,000〜20,000の範囲内
にあることがより好ましい。かかる粘度平均分子量を有
するポリカーボネート樹脂光学用成形材料は、光学用材
料として十分な強度が得られ、また、成形時の溶融流動
性も良好であり成形歪みが発生せず好ましい。過剰に低
い分子量では、成形後の基板としての強度に問題が生
じ、また逆に過剰に高いと成形時の溶融流動性が悪く、
基板に好ましくない光学歪みが増大する原料ポリカーボ
ネート樹脂は、従来公知の常法(溶液重合法、溶融重合
法など)により製造した後、溶液状態において濾過処理
を行ない未反応成分等の不純物や異物を除去することが
好ましい。
The viscosity average molecular weight of the polycarbonate resin is preferably controlled within the range of 10,000 to 30,000, and more preferably within the range of 12,000 to 20,000. A polycarbonate resin optical molding material having such a viscosity average molecular weight is preferable because sufficient strength as an optical material can be obtained and the melt fluidity at the time of molding is good and molding distortion does not occur. If the molecular weight is excessively low, the strength of the substrate after molding will be problematic. On the contrary, if the molecular weight is excessively high, the melt fluidity during molding will be poor.
A raw material polycarbonate resin in which unfavorable optical distortion is increased in a substrate is produced by a conventionally known conventional method (solution polymerization method, melt polymerization method, etc.) and then filtered in a solution state to remove impurities and foreign matters such as unreacted components. It is preferable to remove.

【0037】本発明において使用されるスチルベン化合
物は、下記式[I]で表される化合物である。
The stilbene compound used in the present invention is a compound represented by the following formula [I].

【0038】[0038]

【化6】 [Chemical 6]

【0039】(式中、複数のR1は各々独立に、水素原
子、炭素数が1〜8のアルキル基、塩素原子、臭素原子
またはシアノ基であり、複数のR2は各々独立に、水素
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、シアノ
基、ニトリル基、カルボキシアミド基またはカルボキシ
イミド基を表す。)
(In the formula, a plurality of R 1 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom or a cyano group, and a plurality of R 2 are independently hydrogen. Represents an atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a cyano group, a nitrile group, a carboxamide group or a carboximide group.)

【0040】前記式[I]において、好ましくは複数の
1が各々独立に水素原子または炭素数1〜8のアルキ
ル基であり、複数のR2が各々独立に水素原子、アルキ
ル基、アリール基またはアルコキシ基である化合物であ
る。具体的な化合物としてはスチルベンまたは4,4ジ
メチルスチルベンが好ましい。
In the above formula [I], preferably a plurality of R 1 's each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a plurality of R 2 's each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Alternatively, the compound is an alkoxy group. As a specific compound, stilbene or 4,4 dimethylstilbene is preferable.

【0041】前記スチルベン化合物は、ポリカーボネー
ト樹脂100重量部に対して、0.1〜20重量部、好
ましくは0.5〜10重量部使用される。
The stilbene compound is used in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polycarbonate resin.

【0042】本発明の組成物を調製する時には、任意の
方法が採用される。例えば溶液状態のポリカーボネート
樹脂に、前記スチルベン化合物を混合した後、溶媒を留
去し、次いでベント式押出機等で、溶融ペレット化する
方法、または、ポリカーボネート樹脂と前記スチルベン
化合物をスーパーミキサー、タンブラー、ナウターミキ
サー等で混合し、二軸ルーダー等でペレット化する方法
等が用いられる。また、必要に応じて安定剤、酸化防止
剤、光安定剤、着色材、滑り材、離型剤等の添加剤を加
える事もできる。さらに射出成形に供するためのペレッ
ト状ポリカーボネート樹脂を得る押出工程(ペレット化
工程)では溶融状態の時に濾過精度10μmの焼結金属
フィルターを通すなどして異物を除去することが好まし
い。必要により、例えばリン系等の酸化防止剤などの添
加剤を加えることも好ましい。いずれにしても射出成形
前の原料樹脂は異物、不純物、溶媒などの含有量を極力
低くしておくことが必要である。
Any method may be employed in preparing the compositions of the present invention. For example, a polycarbonate resin in a solution state, after mixing the stilbene compound, the solvent is distilled off, then by a vent-type extruder or the like, a method of melt pelletization, or a polycarbonate resin and the stilbene compound super mixer, tumbler, A method of mixing with a Nauta mixer or the like and pelletizing with a biaxial ruder or the like is used. If necessary, additives such as a stabilizer, an antioxidant, a light stabilizer, a coloring material, a sliding material, and a release agent can be added. Further, in the extrusion step (pelletizing step) of obtaining a pellet-shaped polycarbonate resin for injection molding, it is preferable to remove foreign matters by passing through a sintered metal filter having a filtration accuracy of 10 μm in a molten state. If necessary, it is also preferable to add an additive such as a phosphorus-based antioxidant. In any case, it is necessary that the content of foreign materials, impurities, solvents, etc. in the raw material resin before injection molding be as low as possible.

【0043】上記ポリカーボネート樹脂より光ディスク
基板を製造する場合には射出成形機(射出圧縮成形機を
含む)を用いる。この射出成形機としては一般的に使用
されているものでよいが、炭化物の発生を抑制しディス
ク基板の信頼性を高める観点からシリンダーやスクリュ
ーとして樹脂との付着性が低く、かつ耐食性、耐摩耗性
を示す材料を使用してなるものを用いるのが好ましい。
射出成形の条件としてはシリンダー温度300〜400
℃、金型温度50〜140℃が好ましく、これらにより
光学的に優れた光ディスク基板を得ることができる。成
形工程での環境は、本発明の目的から考えて、可能な限
りクリーンであることが好ましい。また、成形に供する
材料を十分乾燥して水分を除去することや、溶融樹脂の
分解を招くような滞留を起こさないように配慮すること
も重要となる。
When an optical disk substrate is manufactured from the above polycarbonate resin, an injection molding machine (including an injection compression molding machine) is used. This injection molding machine may be one that is generally used, but from the viewpoint of suppressing the generation of carbides and improving the reliability of the disk substrate, it has low adhesion to resin as a cylinder or screw, and has corrosion resistance and wear resistance. It is preferable to use a material formed of a material exhibiting properties.
Cylinder temperature is 300-400 as conditions for injection molding.
C. and a mold temperature of 50 to 140.degree. C. are preferable, and an optically excellent optical disk substrate can be obtained by these. The environment in the molding process is preferably as clean as possible in view of the purpose of the present invention. In addition, it is important to sufficiently dry the material to be molded to remove water, and to take measures so as not to cause retention that would cause decomposition of the molten resin.

【0044】このように成形された光ディスク基板は、
コンパクトディスク(CD)、や光磁気ディスク(M
O)、DVDなど現行の光ディスクはもちろん、ディス
ク基板上に被せた厚さ0.1mmの透明なカバー層を介
して記録再生を行なうBlu−ray Disc(B
D)等に代表される高密度光ディスク用基板としても好
適に使用される。
The optical disk substrate molded in this way is
Compact disc (CD), magneto-optical disc (M
O), DVD, and other existing optical discs, as well as the Blu-ray Disc (B) that performs recording / reproduction through a transparent cover layer with a thickness of 0.1 mm that covers the disc substrate.
It is also suitably used as a substrate for a high density optical disc represented by D).

【0045】本発明のポリカーボネート樹脂光学用成形
材料は、高精密転写性に優れているので、グルーブ列も
しくはピット列の間隔が0.1μm〜0.8μm、好ま
しくは0.1〜0.5μm、さらに好ましくは0.1〜
0.35μmである光ディスク基板を成形によって容易
に得ることが可能となる。またグルーブもしくはピット
の光学的深さが、記録再生に使用されるレーザ光の波長
λと基板の屈折率nに対してλ/8n〜λ/2n、好ま
しくはλ/6n〜λ/2n、さらに好ましくはλ/4n
〜λ/2nの範囲にある光ディスク基板を得ることがで
きる。かくして記録密度が100Gbit/inch2
以上である高密度光学ディスク記録媒体の基材を容易に
提供することができる。
Since the polycarbonate resin optical molding material of the present invention is excellent in high precision transferability, the interval between groove rows or pit rows is 0.1 μm to 0.8 μm, preferably 0.1 to 0.5 μm. More preferably 0.1
It is possible to easily obtain an optical disk substrate of 0.35 μm by molding. The optical depth of the groove or pit is λ / 8n to λ / 2n, preferably λ / 6n to λ / 2n, with respect to the wavelength λ of the laser light used for recording and reproduction and the refractive index n of the substrate, and further, Preferably λ / 4n
It is possible to obtain an optical disk substrate in the range of λ / 2n. Thus, the recording density is 100 Gbit / inch2.
It is possible to easily provide the base material of the high-density optical disc recording medium as described above.

【0046】[0046]

【実施例】以下、実施例を挙げて詳細に説明するが、本
発明はその趣旨を超えない限り、何らこれに限定される
ものではない。実施例および比較例において「部」は重
量部である。なお評価は下記の方法に従った。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto as long as the gist thereof is not exceeded. In the examples and comparative examples, "parts" are parts by weight. The evaluation was according to the following method.

【0047】(1)粘度平均分子量 塩化メチレン100mLにポリカーボネート樹脂0.7
gを溶解した20℃溶液を用いて求めた比粘度(ηs
p)を次式に挿入して求めた。 ηsp/c=[η]+0.45×[η]2c(但し
[η]は極限粘度) [η]=1.23×10-40.83 c=0.7
(1) Viscosity average molecular weight 100 mL of methylene chloride and 0.7% of polycarbonate resin
specific viscosity (ηs
p) was inserted into the following equation to obtain. ηsp / c = [η] + 0.45 × [η] 2 c (where [η] is the intrinsic viscosity) [η] = 1.23 × 10 −4 M 0.83 c = 0.7

【0048】(2)ガラス転移温度 TAインスツルメント社製の熱分析システム DSC−
2910を使用して、窒素雰囲気下(窒素流量:40m
l/min)、昇温速度:20℃/minの条件下で測
定した。
(2) Glass Transition Temperature TA Instrument Thermal Analysis System DSC-
2910, under nitrogen atmosphere (nitrogen flow: 40 m
1 / min) and the rate of temperature rise: 20 ° C./min.

【0049】(3)吸水率 ASTM D−570に従い、φ45mm成形プレート
を水中浸漬し重量変化率(重量%)により求めた。
(3) Water Absorption Rate According to ASTM D-570, a φ45 mm molded plate was dipped in water to obtain the weight change rate (% by weight).

【0050】(4)曲げ弾性率 ASTM D−790に従い、測定した。(4) Flexural modulus It was measured according to ASTM D-790.

【0051】(5)転写性 日精樹脂工業製の射出成形機 MO40D−3H、深さ
200nm、間隔0.5μm、幅0.2μmの溝が刻ま
れたスタンパーを用いて、直径120mm、厚さ1.2
mmの光ディスク基板を成形した。なお、シリンダー温
度は360℃、型締め力は40トン一定とし、金型温度
を表1に記載の通り各樹脂ごとに設定した。上記基板に
スタンパーから転写した溝の深さを、原子間力顕微鏡
(セイコー電子工業 SPI3700)を用いて、半径
40mmの位置にて5箇所を測定した。転写性は、次式
で示される転写率として表した。この値が大きいほど転
写性に優れている。 転写率(%)=100×ディスクの溝深さ/スタンパー
の溝深さ
(5) Transferability An injection molding machine MO40D-3H manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd., a depth of 200 nm, a stamper having grooves of 0.5 μm and a width of 0.2 μm, and a diameter of 120 mm and a thickness of 1 was used. .2
A mm optical disc substrate was molded. The cylinder temperature was 360 ° C., the mold clamping force was constant at 40 tons, and the mold temperature was set for each resin as shown in Table 1. The depth of the groove transferred from the stamper to the substrate was measured at 5 positions at a radius of 40 mm using an atomic force microscope (Seiko Denshi Kogyo SPI3700). The transferability was expressed as a transfer rate represented by the following formula. The larger this value, the better the transferability. Transfer rate (%) = 100 x disc groove depth / stamper groove depth

【0052】(6)初期機械特性(初期R−Tilt) 日精樹脂工業製の射出成形機 MO40D−3Hを用い
て、直径120mm、厚さ1.2mmの光ディスク基板
を成形した。その後、射出成形により得られたディスク
基板の信号面側に反射膜、誘電体層1、相変化記録膜、
誘電体層2をスパッタ蒸着させ、その上にポリカーボネ
ート製薄膜カバー層を貼りあわせ光ディスクを作成し
た。続いて、ディスクが互いに接触しないようスペーサ
ーを挟み、温度23℃、湿度50%RH環境に2日間以
上放置した。熱収縮および環境変化に対するTiltの
変化が安定した時点でジャパン・イー・エム(株)製3
次元形状測定器DLD−3000UによりTiltの評
価を行い、初期機械特性とした。
(6) Initial Mechanical Properties (Initial R-Tilt) An optical disk substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm was molded using an injection molding machine MO40D-3H manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd. After that, a reflection film, a dielectric layer 1, a phase-change recording film, on the signal surface side of the disk substrate obtained by injection molding,
The dielectric layer 2 was sputter-deposited, and a polycarbonate thin film cover layer was attached thereon to form an optical disk. Subsequently, spacers were sandwiched so that the disks did not come into contact with each other, and the disks were left for 2 days or more in an environment of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH. Made by Japan EM Co., Ltd. when the Tilt changes due to heat shrinkage and environmental changes become stable.
Tilt was evaluated by a dimensional shape measuring instrument DLD-3000U to obtain initial mechanical properties.

【0053】(7)反り変形量の最大値(ΔR−Til
tmax) 初期機械特性を評価した基板を30℃、湿度90%RH
の恒温恒湿機に72hr放置した後、このディスクを2
3℃、湿度50%RHの環境下に移し、その後のディス
クの反り変形量の最大値(ΔR−Tiltmax)をジ
ャパン・イー・エム(株)製3次元形状測定器DLD−
3000Uにより評価した。実施例1〜3、比較例1〜
2 二価フェノール成分としてビスフェノールAを使用して
得られた粘度平均分子量が15,200のポリカーボネ
ート樹脂(帝人化成製)100重量部に対し、添加物を
表1に記載した重量部で添加し、均一に混合した。続い
て、かかるパウダーをベント式二軸押出機[神戸製鋼
(株)製KTX−46]によりシリンダー温度260℃
で脱気しながら溶融混練し、樹脂組成物のペレットを得
た。この樹脂組成物ペレットを用いて、上記に記載の方
法によって、各種物性を評価した。評価結果を表1に示
す。
(7) Maximum value of warp deformation amount (ΔR-Til
tmax) The substrate evaluated for initial mechanical properties is 30 ° C., humidity 90% RH
After leaving it in the constant temperature and humidity chamber for 72 hours,
After moving to an environment of 3 ° C. and humidity of 50% RH, the maximum value of the warp deformation amount of the disk (ΔR-Tiltmax) after that is three-dimensional shape measuring device DLD- manufactured by Japan EM Co., Ltd.
It was evaluated by 3000 U. Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 to
2 Addition of the additive in an amount of parts by weight shown in Table 1 to 100 parts by weight of a polycarbonate resin having a viscosity average molecular weight of 15,200 (manufactured by Teijin Chemicals) obtained by using bisphenol A as a dihydric phenol component, Mix evenly. Subsequently, the powder was subjected to a vent type twin-screw extruder [KTX-46 manufactured by Kobe Steel, Ltd.] at a cylinder temperature of 260 ° C.
The mixture was melt-kneaded while being degassed to obtain pellets of the resin composition. Using this resin composition pellet, various physical properties were evaluated by the methods described above. The evaluation results are shown in Table 1.

【0054】この樹脂組成物のペレットから、日精樹脂
工業製の射出成形機 MO40D−3H、深さ200n
m、間隔0.5μm、幅0.2μmの溝が刻まれたスタ
ンパーを用いて、直径120mm、厚さ1.2mmの光
ディスク基板を成形した。なお、シリンダー温度は36
0℃、型締め力は40トン一定とし、金型温度を表1に
記載の通り各樹脂ごとに設定した。このディスク基板を
用いて、上記に記載の方法によって、各種基板特性を評
価した。評価結果を表1に示す。なお、表1に記載した
スチルベン化合物は、下記の通りである。 スチルベン:東京化成工業製 trans−スチルベン 4,4ジメチルスチルベン:東京化成工業製 4,4−
ジメチル−trans−スチルベン
From the pellets of this resin composition, an injection molding machine MO40D-3H manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd., depth 200n
An optical disk substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm was formed by using a stamper in which grooves each having m, an interval of 0.5 μm and a width of 0.2 μm were engraved. The cylinder temperature is 36
The mold clamping temperature was set to 0 ° C., the mold clamping force was kept constant at 40 tons, and the mold temperature was set for each resin as shown in Table 1. Using this disc substrate, various substrate characteristics were evaluated by the methods described above. The evaluation results are shown in Table 1. The stilbene compounds listed in Table 1 are as follows. Stilbene: manufactured by Tokyo Kasei Kogyo trans-stilbene 4,4 Dimethyl stilbene: manufactured by Tokyo Kasei Kogyo 4,4-
Dimethyl-trans-stilbene

【0055】[0055]

【表1】 [Table 1]

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明によれば、特定のポリカーボネー
ト樹脂を成形してなる光記録媒体、とりわけ高密度記録
媒体としての、スタンパー形状を高精密に転写した光デ
ィスク基板の提供が可能になり、その奏する効果は格別
なものである。
According to the present invention, it is possible to provide an optical disk substrate having a stamper shape transferred with high precision as an optical recording medium formed by molding a specific polycarbonate resin, particularly a high density recording medium. The effect produced is exceptional.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/24 563 G11B 7/24 563D 563E (72)発明者 常守 秀幸 東京都千代田区内幸町1丁目2番2号 帝 人化成株式会社内 Fターム(参考) 4J002 CG001 EA036 GS02 5D029 KA07 WB11 WB17 WC01 WC04 WC05 WD10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G11B 7/24 563 G11B 7/24 563D 563E (72) Inventor Hideyuki Tsunemori 1-chome, Uchiyuki-cho, Chiyoda-ku, Tokyo No. 2 F-term in Teijin Kasei Co., Ltd. (reference) 4J002 CG001 EA036 GS02 5D029 KA07 WB11 WB17 WC01 WC04 WC05 WD10

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリカーボネート樹脂100重量部に対
し下記式[I]で表されるスチルベン化合物を0.1〜
20重量部含むことを特徴とするポリカーボネート樹脂
組成物。 【化1】 (式中、複数のR1は各々独立に、水素原子、炭素数が
1〜8のアルキル基、塩素原子、臭素原子またはシアノ
基であり、複数のR2は各々独立に、水素原子、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、シアノ基、ニトリル
基、カルボキシアミド基またはカルボキシイミド基を表
す。)
1. A stilbene compound represented by the following formula [I] is added in an amount of 0.1 to 100 parts by weight of a polycarbonate resin.
A polycarbonate resin composition comprising 20 parts by weight. [Chemical 1] (In the formula, a plurality of R 1 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom or a cyano group, and a plurality of R 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group. Represents a group, an aryl group, an alkoxy group, a cyano group, a nitrile group, a carboxamide group or a carboximide group.)
【請求項2】 式[I]中の複数のR1が各々独立に水
素原子または炭素数1〜8のアルキル基であり、複数の
2が各々独立に水素原子、アルキル基、アリール基ま
たはアルコキシ基である請求項1記載のポリカーボネー
ト樹脂組成物。
2. A plurality of R 1 s in the formula [I] are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a plurality of R 2 s are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or The polycarbonate resin composition according to claim 1, which is an alkoxy group.
【請求項3】 ポリカーボネート樹脂は、20℃の塩化
メチレン溶液で測定された粘度平均分子量が10,00
0〜30,000の範囲内にある請求項1または2記載
のポリカーボネート樹脂組成物。
3. The polycarbonate resin has a viscosity average molecular weight of 10,000 as measured in a methylene chloride solution at 20 ° C.
The polycarbonate resin composition according to claim 1 or 2, which is in the range of 0 to 30,000.
【請求項4】 請求項1〜3記載のいずれかのポリカー
ボネート樹脂組成物よりなる光学用成形材料。
4. An optical molding material comprising the polycarbonate resin composition according to claim 1.
【請求項5】 請求項4記載の光学用成形材料を用いて
成形された光ディスク基板。
5. An optical disk substrate molded using the optical molding material according to claim 4.
【請求項6】 請求項4記載の光学用成形材料を用いて
成形されたグルーブ列もしくはピット列の間隔が0.1
μm〜0.8μmである光ディスク基板。
6. A groove row or pit row formed by using the optical molding material according to claim 4 has an interval of 0.1.
An optical disk substrate having a size of μm to 0.8 μm.
【請求項7】 請求項4記載の光学用成形材料を用いて
成形されたグルーブもしくはピットの光学的深さが、記
録再生に使われるレーザー光の波長λと基板の屈折率n
に対してλ/8n〜λ/2nの範囲である請求項5記載
の光ディスク基板。
7. The optical depth of a groove or pit molded using the optical molding material according to claim 4 is such that the wavelength λ of laser light used for recording and reproduction and the refractive index n of the substrate.
The optical disk substrate according to claim 5, wherein the range is λ / 8n to λ / 2n.
【請求項8】 請求項5〜7記載のいずれかの光ディス
ク基板を用いた光学記録媒体。
8. An optical recording medium using the optical disk substrate according to claim 5.
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