JP2006296731A - ゲルマニウム温浴装置 - Google Patents

Abstract

【課題】温湯を浄化・加熱するための処理装置の小型化を図る。
【解決手段】温浴槽の温湯を取り出して浄化・加熱を行い再び温浴槽に供給する処理装置１を、連通孔９を備えた仕切板１０により内部を上部室１１と下部室１２とに区画した容器本体１３と、容器本体１３の上部を気密に閉塞する上蓋１５と、連通孔９を囲むように上部室１１に配置したフィルタ１７と、下部室１２を貫通するよう配置した殺菌燈２７及び加熱ヒータ２８と、温浴槽の温湯を吸引して容器本体１３の上部室１１に供給するポンプ３４とにより構成し、温浴槽から上部室１１に導入された温湯の不純物がフィルタ１７により除去されて下部室１２に導かれ、殺菌燈２７により殺菌されると共に加熱ヒータ２８により加熱された温湯が温浴槽に導かれるようにする。
【選択図】図６

Description

本発明はゲルマニウム温浴装置に関し、特に温浴槽の温湯を浄化・加熱する処理装置の小型化を可能にしたゲルマニウム温浴装置に関する。

従来より、ゲルマニウムは、体内の酸素量を増やし、血液をきれいにし、体内の老廃物を排泄し、免疫力、自然治癒カを高めるといった非常に優れた効果を発揮することが知られており、このため、ゲルマニウムの粉末を溶かした温湯に身体或いは身体の一部を浸漬することにより前記治療効果を利用するようにしたゲルマニウム温浴槽が種々提案されている。

このようなゲルマニウム温浴槽では、適度な温度に加温した温湯を循環して用いているために、レジオネラ属菌（L. pneumophila）等の雑菌が混入した場合に適度な水温によって増殖する問題があり、このためにゲルマニウム温浴槽等では種々の方法で殺菌することが行われている。

また、ゲルマニウム温浴槽では、水を適度な温度に加熱するための加熱装置を備えており、更に、温湯は使用していると皮膚の老廃物や油脂等の不純物が混入して汚濁してくるので、温湯を濾過して前記不純物を除去するためのフィルタ等を備えている。

前記温浴槽の温湯を殺菌する方法としては、熱水殺菌するものが特許文献１に示されており、また、紫外線線ランプを用いて殺菌するものが特許文献２に示されている。
特開平１１−２２６５６３号公報 特開平１０−３３７５６９号公報

しかし、ゲルマニウム温浴槽では、前記したように、温湯を殺菌するための殺菌装置を備えると共に、温湯を適度な温度に保温するための加熱装置、及び、不純物を除去するためのフィルタ等による濾過装置を備える必要があるが、従来のゲルマニウム温浴槽では、前記殺菌装置と、加熱装置と、濾過装置は夫々独自に構成されており、これらの装置を有機的に一体に結合した装置は存在していない。このため、従来は、独立に備えた前記殺菌装置と、加熱装置と、濾過装置と温浴槽との管を専用の配管等で接続する構成としており、よって装置全体の構成が大型になり、設置スペースが大きくなってしまい、このために利用範囲が制限されるという問題を有していた。

本発明は、上記実情に鑑みてなしたもので、温湯を浄化・加熱するための処理装置の小型化を可能にしたゲルマニウム温浴装置を提供しようとするものである。

請求項１の発明は、ゲルマニウムを添加した温湯を張って身体を浸漬することによりゲルマニウム温浴を行う温浴槽と、該温浴槽の温湯を取り出して浄化・加熱を行い再び前記温浴槽に供給する処理装置とを有するゲルマニウム温浴装置であって、前記処理装置は、連通孔を備えた仕切板により内部を上部室と下部室とに区画した容器本体と、容器本体の上部を気密に閉塞する上蓋と、前記連通孔を囲むように前記容器本体の上部室に配置したフィルタと、前記下部室を貫通するよう配置した殺菌燈及び加熱ヒータと、前記温浴槽の温湯を吸引して前記容器本体の上部室に供給するポンプとを有し、温浴槽から前記上部室に導入された温湯の不純物がフィルタにより除去されて下部室に導かれ、殺菌燈により殺菌されると共に加熱ヒータにより加熱された温湯が前記温浴槽に導かれるようにしたことを特徴とするゲルマニウム温浴装置、に係るものである。

請求項２の発明は、前記フィルタは、ゲルマニウムの粒子は通過しそれより大きい粒子の不純物を除去するように形成されていることを特徴とする請求項１に記載のゲルマニウム温浴装置、に係るものである。

請求項３の発明は、前記殺菌燈は、石英ガラスで包囲された紫外線ランプであることを特徴とする請求項１又は２に記載のゲルマニウム温浴装置、に係るものである。

請求項４の発明は、前記処理装置は、前記温浴槽と一体に形成したケーシングの内部に収容されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載のゲルマニウム温浴装置、に係るものである。

請求項５の発明は、前記温浴槽は、手を浸漬する上部浴槽と足を浸漬する下部浴槽の少なくとも一方を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載のゲルマニウム温浴装置、に係るものである。

請求項６の発明は、前記上部浴槽と下部浴槽を有し、上部浴槽に供給された温湯がオーバーフローにより下部浴槽に供給され、該下部浴槽の溶湯が前記ポンプに吸引されることを特徴とする請求項５に記載のゲルマニウム温浴装置、に係るものである。

本発明のゲルマニウム温浴装置によれば、処理装置を構成する容器本体の内部を、連通孔を備えた仕切板にて上部室と下部室とに区画し、上部室には、前記仕切板の連通孔を囲むようにフィルタを配置し、他方、下部室には、側壁を貫通させて殺菌燈と加熱ヒータを設けたので、前記フィルタによる温湯中の不純物の除去と、殺菌燈による殺菌と、加熱ヒータによる温湯温度の調節とによる温湯の浄化・加熱の操作を連続して効果的に行うことができ、よって処理装置を著しく小型に形成できる効果がある。

更に、上記したように小型の処理装置は、温浴槽が一体に構成されたケーシング内に収容することができ、よってコンパクトな構成で利用し易いゲルマニウム温浴装置を提供できる効果がある。

以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。

図１〜４は本発明を実施する形態の一例を示すもので、図１はケーシングの扉を開けた状態のゲルマニウム温浴装置の正面図、図２は図１のＩＩ−ＩＩ方向矢視図、図３は図１のＩＩＩ−ＩＩＩ方向矢視図、図４は図１のＩＶ−ＩＶ方向矢視図である。

図１、図２に示す如く、温湯の浄化・加熱を行う処理装置１が収容されたケーシング２の左右側部には、手を浸漬する上部浴槽３ａ，４ａと、足を浸漬する下部浴槽３ｂ，４ｂからなる温浴槽が一体に構成されている。前記ケーシング２の前面には開閉扉５が設けてあり、該開閉扉５には前記処理装置１の運転用のタッチパネル６が設けられている。また、前記上部浴槽３ａ，４ａと下部浴槽３ｂ，４ｂには、使用しない時に上部を閉じておくことができる開閉蓋７ａ，７ｂを設けている。

図１〜図４では、ケーシング２の左右側部に、椅子８に３人ずつ座って計６人が同時に手足を温浴できる長尺の上部浴槽３ａ，４ａと下部浴槽３ｂ，４ｂからなる温浴槽を備えた場合について例示したが、温浴槽は上部浴槽３ａ，４ａのみ、或いは下部浴槽３ｂ，４ｂのみを備えるようにしてもよく、また、ケーシング２の左右の一側のみに設けてもよく、また図１、図２に加えてケーシング２の後方にも更に追加して備えてもよく、また温浴槽の長さは必要に応じて任意に変更することができる。

前記ケーシング２内に収容する処理装置１は、図５〜図７に示す如く、複数の連通孔９を備えた仕切板１０により内部を上部室１１と下部室１２とに区画した容器本体１３を有しており、該容器本体１３の上部はＯリング等のシール材１４を介して上蓋１５により気密に閉塞されている。上蓋１５はボルト１４ａによって着脱が可能に成っており、後述するフィルタの交換時に上部室１１を開放できるようになっている。

前記容器本体１３の上部室１１には、前記仕切板１０の連通孔９の夫々に設けた係合筒１６に下端中心を嵌合させた筒状のフィルタ１７が設けてある。更に、該各フィルタ１７の上端には、フィルタ１７の中心に嵌合する係合筒１８とフィルタ１７の上端に当接するフランジ１９とからなる係止部材２０が設けてあり、該係止部材２０の係合筒１８は上方に突出していてその上端は閉塞材２１で閉塞されている。更に、前記係止部材２０の上部には、上部室１１の側壁と僅かな間隙を有して上部室１１内に配置され、前記係合筒１８の上端の突出部に嵌合する位置決め穴２２を備えた中蓋２３が設けてあり、前記仕切板１０の係合筒１６へのフィルタの係合と前記係止部材２０の係合筒１８に位置決め穴２２が嵌合した中蓋２３とによってフィルタ１７の位置が規定されるようになっている。更に前記中蓋２３と上蓋１５の間には、フィルタ１７を下方に押すように付勢されたバネ２４が設けられている。図中２５は前記上蓋１５に設けた上部室１１の空気抜き弁である。

前記フィルタ１７は、前記上部浴槽３ａ，４ａに投入するゲルマニウム粉末の粒子が例えば３μｍ程度である場合に、５μｍ程度の大きさの篩目（メッシュ）になるように形成されており、これによってフィルタ１７はゲルマニウムは通過させるがそれより大きい粒子の不純物は除去することができる。このとき、前記上部室１１内或いはその他の場所において温湯中の皮膚の老廃物や油脂等の不純物を固めて分離し易くするための薬剤を添加するようにしてもよい。

前記容器本体１３の下部室１２には、側壁２６を貫通する殺菌燈２７が配置されていると共に、側壁２６を貫通する加熱ヒータ２８が設けられている。図示の例では、前記殺菌燈２７と加熱ヒータ２８は夫々横方向に３本ずつ配置している。

前記殺菌燈２７は、石英ガラス２９で包囲した紫外線ランプ３０によって構成している。

前記容器本体１３の下部室１２の下部には、前記下部浴槽３ｂ，４ｂの温湯を戻り流路３１を介して吸引して、導入管３２及び導入口３３により前記容器本体１３の上部室１１に導入するポンプ３４を配置している。また、下部室１２に設けた流出口３５から取り出される清浄になった温湯は温湯供給管３６により前記上部浴槽３ａ，４ａに供給するようにしている。

図８は、前記上部浴槽３ａ，４ａ及び下部浴槽３ｂ，４ｂと、処理装置１との間に温湯を循環させる流路の概略図を示したもので、左右の下部浴槽３ｂ，４ｂの温湯は、戻り湯温センサ３７を備えた流出口３８から流量調整及び止水弁３９を有する戻り流路３１によりポンプ３４に吸引され、該ポンプ３４で圧力が高められた温湯は、逆止弁４０を有する導入管３２により導入口３３から前記容器本体１３の上部室１１に導入されるようになっている。上部室１１に導入された温湯は、フィルタ１７によって不純物が除去される。この時、温湯中の皮膚の老廃物や油脂等の不純物を固める添加を添加しておくと、温湯中の不純物はフィルタ１７によって効果的に分離される。フィルタ１７によって不純物が除去された温湯はフィルタの中を流下して連通孔９から下部室１２に流入する。

下部室１２に流入した温湯は、石英ガラス２９で包囲された紫外線ランプ３０からなる殺菌燈２７の紫外線によって殺菌されて清浄な温湯となり、同時に加熱ヒータ２８による加熱によって所定温度に温度が調整された後、下部室１２の流出口３５から温湯供給管３６に流出される。温湯供給管３６に流出した清浄な温湯は、三方弁４１を介して供給湯温センサ４２を有する分岐部４３に導かれて２方向の分岐流路４４，４５に分岐され、分岐流路４４，４５の夫々に設けた供給流量調整及び止水弁４６を介して前記上部浴槽３ａ，４ａの温湯供給口４７に供給されるようになっている。上部浴槽３ａ，４ａの温湯供給口４７への清浄な温湯の供給は、前記ポンプ３４により容器本体１３に供給する溶湯の供給圧力によって行われるようになっている。

前記加熱ヒータ２８は、前記供給湯温センサ４２の検出温度に基づいて温湯の温度が設定温度になるように自動的に制御するようになっている。また、前記三方弁４１の出口には流量センサ４８が設けてあり、この流量センサ４８による流量の検出によって、一定としている温湯の流量（例えば４０リットル／分）が減少した時に、前記フィルタ１７の目詰まりを検出してフィルタ１７の交換時期を予測し、また、ポンプ３４の無負荷運転を防止し、更に加熱ヒータ２８の空焚きを防止することができる。

更に、図１、図２に示す如く、前記上部浴槽３ａ，４ａと下部浴槽３ｂ，４ｂの端部同志を連結している固定管材４９を利用して、上部浴槽３ａ，４ａのオーバーフロー出口５０と、下部浴槽３ｂ，４ｂに連通する流入口５１に連通する流路５２を形成し、前記上部浴槽３ａ，４ａからオーバーフローした温湯が流路５２を通って前記下部浴槽３ｂ，４ｂに流入するようにしている。

次に、上記形態例の作動を説明する。

前記上部浴槽３ａ，４ａ及び下部浴槽３ｂ，４ｂを略満たすように給水し、ポンプ３４を駆動すると共に加熱ヒータ２８による加熱を行い、更に、殺菌燈２７の紫外線ランプ３０を点灯して紫外線による殺菌を行う。

前記ポンプ３４を駆動すると、図８に示すように、左右の下部浴槽３ｂ，４ｂの温湯が供給流量調整及び止水弁３９を有する戻り流路３１を介してポンプ３４に吸引され、該ポンプ３４で圧力が高められた温湯は、逆止弁４０を有する導入管３２により導入口３３から前記容器本体１３の上部室１１に導入される。上部室１１に導入された温湯の圧力は、フィルタ１７の外周に均一に作用するが、上部の係止部材２０の上端が閉塞材２１で閉塞されているために、係止部材２０が下向きに押圧され、よってフィルタ１７は前記バネ２４による押下げ力に加えて、温湯の圧力によって仕切板１０に確実に押付けられた状態に保持される。従って、上部室１１に導入された温湯は、前記ポンプ３４の供給圧力によってフィルタ１７を通過するが、このフィルタ１７を通過する際に不純物が除去され、不純物が除去された温湯はフィルタ１７の中を流下して連通孔９から下部室１２に流入する。

下部室１２に流入した温湯は、紫外線ランプ３０からなる殺菌燈２７の紫外線によって殺菌され、これにより清浄な温湯となる。この時、紫外線ランプ３０は石英ガラス２９で包囲されているので、紫外線が遮断されることなく効果的な殺菌を行うことができる。

更に、下部室１２の温湯は加熱ヒータ２８により加熱されて所定温度に調整される。

下部室１２で浄化・加熱された温湯は、流出口３５から温湯供給管３６に流出し、三方弁４１、流量センサ４８、供給湯温センサ４２を有する分岐部４３、供給流量調整及び止水弁４６を有する分岐流路４４，４５を介して温湯供給口４７から前記上部浴槽３ａ，４ａに供給される。

上部浴槽３ａ，４ａに供給された温湯は、オーバーフローによりオーバーフロー出口５０から固定管材４９の流路５２に流入し、流入口５１から下部浴槽３ｂ，４ｂに流入する。これによって温湯の循環が行われる。

前記加熱ヒータ２８は、前記供給湯温センサ４２の検出温度に基づいて温湯の温度が設定温度になるように自動的に制御されており、温湯の温度が設定温度になると、温湯にゲルマニウム粉末を溶解させる。これにより、図１〜図４のゲルマニウム温浴装置では、左右の椅子８に３人ずつ座ることにより、計６人が同時に上部浴槽３ａ，４ａと下部浴槽３ｂ，４ｂに手足を浸漬してゲルマニウム温湯による治療を行うことができる。

また、前記前記三方弁を備えているので、下部室１２の温湯を上部浴槽３ａ，４ａに供給する状態と、上部浴槽３ａ，４ａの温湯を外部に排水する状態と、処理装置１内の温湯を外部に排水して上部室１１のフィルタ１７の交換を行う状態とに、簡単な構成にて容易に切り替えることができる。

前記三方弁４１の出口には流量センサ４８が設けてあるので、常時一定になるようにポンプ３４で調整されている温湯の流量が減少したことを検出することによって、前記フィルタ１７の目詰まりを検出してフィルタ１７の交換時期を予測することができ、また、ポンプ３４の無負荷運転を防止し、更に加熱ヒータ２８の空焚きを防止することができる。

前記フィルタ１７を交換する場合には、三方弁４１によって処理装置１内の温湯を外部に排水した後、ボルト１４ａを弛めて上蓋１５を除去すると共に中蓋２３を取り外すことで容易に交換することができる。

上記した如く、処理装置１を構成する容器本体１３の内部を、連通孔９を備えた仕切板１０により上部室１１と下部室１２とに区画し、上部室１１には、前記仕切板１０の連通孔９を囲むようにフィルタ１７を配置し、他方、下部室１２には、側壁２６を貫通させて殺菌燈２７と加熱ヒータ２８を設けたので、前記フィルタ１７による温湯中の不純物の除去と、殺菌燈２７による殺菌と、加熱ヒータ２８による温湯温度の調節とによる浄化・加熱を連続して効果的に行うことができ、よって処理装置１を著しく小型に形成することができる。更に、上記した小型の処理装置１は、上部浴槽３ａ，４ａと下部浴槽３ｂ，４ｂを一体に構成したケーシング２内に収容することができ、よってコンパクトな構成で利用し易いゲルマニウム温浴装置を提供することができる。

なお、本発明のゲルマニウム温浴装置は、上記形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。

本発明を実施する形態の一例としてのゲルマニウム温浴装置の全体を示す正面図である。 図１のＩＩ−ＩＩ方向矢視図である。 図１のＩＩＩ−ＩＩＩ方向矢視図である。 図１のＩＶ−ＩＶ方向矢視図である。 図１における処理装置の正面図である。 図５のＶＩ−ＶＩ方向矢視図である。 処理装置の斜視図である。 上部浴槽及び下部浴槽と処理装置との間に温湯を循環させる流路の概略図である。

符号の説明

１ 処理装置
２ ケーシング
３ａ，４ａ 上部浴槽（温浴槽）
３ｂ，４ｂ 下部浴槽（温浴槽）
９ 連通孔
１０ 仕切板
１１ 上部室
１２ 下部室
１３ 容器本体
１４ シール材
１５ 上蓋
１７ フィルタ
２３ 中蓋
２６ 側壁
２７ 殺菌燈
２８ 加熱ヒータ
２９ 石英ガラス
３０ 紫外線ランプ
３４ ポンプ
５０ オーバーフロー出口
５１ 流入口
５２ 流路

Claims (6)

1. ゲルマニウムを添加した温湯を張って身体を浸漬することによりゲルマニウム温浴を行う温浴槽と、該温浴槽の温湯を取り出して浄化・加熱を行い再び前記温浴槽に供給する処理装置とを有するゲルマニウム温浴装置であって、前記処理装置は、連通孔を備えた仕切板により内部を上部室と下部室とに区画した容器本体と、容器本体の上部を気密に閉塞する上蓋と、前記連通孔を囲むように前記容器本体の上部室に配置したフィルタと、前記下部室を貫通するよう配置した殺菌燈及び加熱ヒータと、前記温浴槽の温湯を吸引して前記容器本体の上部室に供給するポンプとを有し、温浴槽から前記上部室に導入された温湯の不純物がフィルタにより除去されて下部室に導かれ、殺菌燈により殺菌されると共に加熱ヒータにより加熱された温湯が前記温浴槽に導かれるようにしたことを特徴とするゲルマニウム温浴装置。
2. 前記フィルタは、ゲルマニウムの粒子は通過しそれより大きい粒子の不純物を除去するように形成されていることを特徴とする請求項１に記載のゲルマニウム温浴装置。
3. 前記殺菌燈は、石英ガラスで包囲された紫外線ランプであることを特徴とする請求項１又は２に記載のゲルマニウム温浴装置。
4. 前記処理装置は、前記温浴槽と一体に形成したケーシングの内部に収容されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載のゲルマニウム温浴装置。
5. 前記温浴槽は、手を浸漬する上部浴槽と足を浸漬する下部浴槽の少なくとも一方を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載のゲルマニウム温浴装置。
6. 前記上部浴槽と下部浴槽を有し、上部浴槽に供給された温湯がオーバーフローにより下部浴槽に供給され、該下部浴槽の溶湯が前記ポンプに吸引されることを特徴とする請求項５に記載のゲルマニウム温浴装置。

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