JP2006292870A - カラーフィルタの製造方法および固体撮像装置の製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法および固体撮像装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006292870A JP2006292870A JP2005110825A JP2005110825A JP2006292870A JP 2006292870 A JP2006292870 A JP 2006292870A JP 2005110825 A JP2005110825 A JP 2005110825A JP 2005110825 A JP2005110825 A JP 2005110825A JP 2006292870 A JP2006292870 A JP 2006292870A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- filter pattern
- photosensitive resin
- pattern
- color
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
【課題】カラーフィルタパターンの位置精度を向上させることができるカラーフィルタの製造方法、および当該カラーフィルタを備えた固体撮像装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被処理基板1上に、パターン非形成領域を取り囲む配置をもつ1色目のカラーフィルタパターン31を形成する。次に、カラーフィルタパターン31を被覆するように被処理基板1上に、2色目以降の化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aを形成する。次に、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aを露光する。ここで、1色目のカラーフィルタパターン31で囲まれた領域よりも内側が感光領域32bとなるように露光する。次に、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aに対して加熱処理を行う。その後、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aを現像して、2色目以降のカラーフィルタパターン32を形成する。
【選択図】図4
【解決手段】被処理基板1上に、パターン非形成領域を取り囲む配置をもつ1色目のカラーフィルタパターン31を形成する。次に、カラーフィルタパターン31を被覆するように被処理基板1上に、2色目以降の化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aを形成する。次に、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aを露光する。ここで、1色目のカラーフィルタパターン31で囲まれた領域よりも内側が感光領域32bとなるように露光する。次に、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aに対して加熱処理を行う。その後、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aを現像して、2色目以降のカラーフィルタパターン32を形成する。
【選択図】図4
Description
本発明は、例えば、固体撮像装置や表示装置に適用されるカラーフィルタの製造方法、およびカラーフィルタを備えた固体撮像装置の製造方法に関する。
固体撮像装置及び表示装置で用いられるカラーフィルタの製造方法として、着色感光性組成物を用いるフォトリソグラフィ法がある(例えば、特許文献1,2参照)。フォトリソグラフィ法では、カラーフィルタパターンの線幅変動や、ステッパー(投影露光装置)の重ね合わせ精度に起因するカラーフィルタパターンの位置ずれが発生する場合がある。
図5は、従来の固体撮像装置の断面図である。
図5に示すように、フォトダイオードからなる受光部101が形成された半導体基板100上に、転送電極102が形成され、さらに上層にカラーフィルタ103が形成される。図5では、1色目カラーフィルタパターン103−1と、2色目カラーフィルタパターン103−2のみを図示している。カラーフィルタ103上には、オンチップマイクロレンズ104が配置される。各受光部101に対してカラーフィルタパターン103−1,103−2が適切に配置されていることで、最適な集光状態が実現する。
特開2000−156485号公報
特開2001−249218号公報
しかしながら、上記したように、2色目カラーフィルタパターン103−2の位置が、ステッパー(投影露光機)の重ね合わせ精度の影響によりずれてしまう場合がある。この場合には、例えば隣接する画素へのカラーフィルタパターンのはみ出しによる光路混色(図中、B参照)や、カラーフィルタパターンの位置ずれによる、フィルタ実効膜厚の低減(図中、C参照)が起きる。その結果、固体撮像装置では色むらや色再現性の悪化に繋がってしまう。
カラーフィルタパターンの位置ずれによる影響は、単位画素サイズの縮小により益々大きくなってきている。このため、固体撮像装置の特性改善、歩留まりの安定化および向上を図るために、カラーフィルタパターンの形成精度を高めることが望まれている。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、カラーフィルタパターンの位置精度を向上させることができるカラーフィルタの製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、画素サイズが縮小しても、位置精度の良いカラーフィルタパターンを形成することができ、色再現性に優れた固体撮像装置の製造方法を提供することにある。
上記の目的を達成するため、本発明のカラーフィルタの製造方法は、被処理基板上に、パターン非形成領域を取り囲む配置をもつ1色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、前記カラーフィルタパターンを被覆するように前記被処理基板上に、2色目以降の化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を形成する工程と、前記1色目のカラーフィルタパターンで囲まれた領域よりも内側における前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を露光する工程と、前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂に対して加熱処理を行う工程と、前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を現像して、2色目以降のカラーフィルタパターンを形成する工程とを有する。
上記の目的を達成するため、本発明の固体撮像装置の製造方法は、画素毎に受光部が形成された被処理基板上に、カラーフィルタを有する固体撮像装置の製造方法であって、前記被処理基板上に、パターン非形成領域を取り囲む配置をもつ1色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、前記カラーフィルタパターンを被覆するように前記被処理基板上に、2色目以降の化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を形成する工程と、前記1色目のカラーフィルタパターンで囲まれた領域よりも内側における前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を露光する工程と、前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂に対して加熱処理を行う工程と、前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を現像して、2色目以降のカラーフィルタパターンを形成する工程とを有する。
上記の本発明では、2色目以降のカラーフィルタパターンの形成では、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を用いる。化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂には、例えばベース樹脂と、架橋剤と、光酸発生剤と、色素が含まれる。
露光工程では、1色目のカラーフィルタパターンで囲まれた領域よりも内側における化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を露光する。露光が施された感光領域では、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂中の光酸発生剤が励起されて酸が放出される。
露光工程では、1色目のカラーフィルタパターンで囲まれた領域よりも内側における化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を露光する。露光が施された感光領域では、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂中の光酸発生剤が励起されて酸が放出される。
次に、加熱処理を行うと、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂に含まれる架橋剤が、酸によってベース樹脂と縮合反応して架橋する結果、現像液に対して不要な分子構造をもつ不溶化領域が形成される。1つの架橋反応が起こると、そこで酸が生成されて、次の反応を引き起こすというように、連鎖反応的に架橋が進む。上記の架橋反応は、隣接する1色目のカラーフィルタパターンによりせき止められる。この結果、現像液に不溶な不溶化領域が、1色目のカラーフィルタパターン間に選択的に形成される。
その後、現像することにより、不溶化領域が残り、2色目以降のカラーフィルタパターンが形成される。
その後、現像することにより、不溶化領域が残り、2色目以降のカラーフィルタパターンが形成される。
本発明のカラーフィルタの製造方法によれば、カラーフィルタパターンの位置精度を向上させることができる。
本発明の固体撮像装置の製造方法によれば、画素サイズが縮小しても、位置精度の良いカラーフィルタパターンを形成することができ、色再現性に優れた固体撮像装置を製造することができる。
本発明の固体撮像装置の製造方法によれば、画素サイズが縮小しても、位置精度の良いカラーフィルタパターンを形成することができ、色再現性に優れた固体撮像装置を製造することができる。
以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。本実施形態では、CCD(Charge Coupled Device)型の固体撮像装置に用いられるカラーフィルタの製造方法に本発明を適用した例について説明する。ただし、MOS型の固体撮像装置や、表示装置のカラーフィルタの製造方法に本発明を適用することもできる。
図1は、本実施形態に係るカラーフィルタの製造方法により製造されるカラーフィルタのパターン配置の一例を示す平面図である。
カラーフィルタ30は、グリーンカラーフィルタパターン31と、レッドカラーフィルタパターン32と、ブルーカラーフィルタパターン33とにより構成されている。本実施形態のカラーフィルタ30は、原色ベイヤー配列のカラーフィルタである。各カラーフィルタパターン31〜33は、画素毎に形成されている。
原色ベイヤー配列では、グリーンカラーフィルタパターン31は、市松状に配置されている。市松状に配置されたグリーンカラーフィルタパターン31の間の領域(グリーンカラーフィルタパターン31の非形成領域)に、レッドカラーフィルタパターン32およびブルーカラーフィルタパターン33が配置されている。
本実施形態では、市松状に配置されたグリーンカラーフィルタパターン31の間の領域において、特定の全ての列にはレッドカラーフィルタパターン32が配置され、当該列に隣接する列には、ブルーカラーフィルタパターン33が配置される。これにより、グリーンカラーフィルタパターン31とレッドカラーフィルタパターン32が交互に繰り返し並んだ列と、グリーンカラーフィルタパターン31とブルーカラーフィルタパターン33が交互に繰り返し並んだ列が形成されている。
図2は、カラーフィルタを備える固体撮像装置の一例を示す断面図である。図2は、図1のA−A’線に沿った断面図に相当する。
固体撮像装置では、単位画素は、受光部5と、読み出しゲート部6と、垂直転送部7とを有する。図示はしないが、単位画素はマトリックス状に配置されており、これに対応してカラーフィルタパターン31〜33が、マトリックス状に配置されている(図1参照)。
例えば、n型のシリコン基板(以下、半導体基板10という)に、p型ウェル11が形成されている。p型ウェル11は、オーバーフローバリアを形成する。
受光部5は、p型ウェル11に形成されたn型の信号電荷蓄積領域12によって構成される。信号電荷蓄積領域12の表層には図示はしないが暗電流を抑制するためのp+の正孔蓄積領域が形成されている。
受光部5には、信号電荷蓄積領域12、p型ウェル11および半導体基板10により、npn構造が形成されている。このnpn構造は、受光部5に強い光が入射して過剰に発生した信号電荷がp型ウェル11により形成されるオーバーフローバリアを超えると、当該信号電荷を半導体基板10側に排出する縦型オーバーフロードレイン構造を構成する。
垂直転送部7は、信号電荷蓄積領域12と所定間隔を隔ててp型ウェル11に形成されたn型の転送チャネル領域13と、転送チャネル領域13上に酸化シリコン膜からなるゲート絶縁膜20を介して形成された例えばポリシリコンからなる転送電極21により構成されている。
読み出しゲート部6は、信号電荷蓄積領域12と転送チャネル領域13との間のp型ウェル(読み出しゲート領域14)と、読み出しゲート領域14上にゲート絶縁膜20を介して形成された転送電極21により構成されている。読み出しゲート領域14は、n型の信号電荷蓄積領域12と転送チャネル領域13との間に、電位障壁を形成する。読み出し時には、転送電極に正の読み出し電圧が印加されて、読み出しゲート領域14の電位障壁が引き下げられて、信号電荷は信号電荷蓄積領域12から転送チャネル領域13へと移される。
信号電荷蓄積領域12に対して読み出し側とは反対側には、p型のチャネルストップ領域15が形成されている。チャネルストップ領域15は、信号電荷に対して電位障壁を形成し、信号電荷の流出入を防止する。
転送電極21上には、例えば酸化シリコンからなる絶縁膜23を介して、転送電極21を被覆する遮光膜24が形成されている。遮光膜24には受光部5を露出させる開口部が形成されている。
遮光膜24上には、例えばBPSG(Boron Phosphorous Silicate glass)や窒化シリコンからなる平坦化膜25が形成されている。平坦化膜25の表面は、平坦化されている。なお、平坦化膜25内に層内レンズが形成されていてもよい。
平坦化膜25上には、カラーフィルタ30が形成されている。カラーフィルタ30のうち、グリーンカラーフィルタパターン31と、レッドカラーフィルタパターン32のみが図示されているが、他の領域においては、ブルーカラーフィルタパターン33が形成されている。
グリーンカラーフィルタパターン31は、本実施形態では、市松状に配置されている(図1参照)。グリーンカラーフィルタパターン31は、本実施形態では、1色目(1番目)に形成される。グリーンカラーフィルタパターン31の材料に特に限定はない。
レッドカラーフィルタパターン32およびブルーカラーフィルタパターン33は、本実施形態では、2色目以降に形成される。これらの2色目以降のカラーフィルタ材料としては、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を用いる。化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂には、例えばベース樹脂と、架橋剤と、光酸発生剤と、色素(レッドあるいはブルー)が含まれる。色素としては、例えば染料が用いられるが、顔料を用いても良い。
カラーフィルタ30上には、例えばアクリル熱硬化樹脂からなる平坦化膜34が形成されている。平坦化膜34上には、オンチップマイクロレンズ35が形成されている。
上記の固体撮像装置では、入射光は、オンチップマイクロレンズ35により集光されて各カラーフィルタパターン31〜33に到達する。所定の波長領域の光のみが各カラーフィルタパターン31〜33を通過し、受光部5に入射する。受光部5に入射した光は、入射光量に応じた信号電荷に光電変換されて、信号電荷蓄積領域12に蓄積される。その後、転送チャネル領域13に読み出されて、垂直転送部7により垂直方向に転送される。
次に、上記の固体撮像装置の製造方法について、図2〜図4を参照して説明する。
まず、図2に示すカラーフィルタ30の下層までを形成する。すなわち、イオン注入法により、半導体基板10に、p型ウェル11、信号電荷蓄積領域12、転送チャネル領域13、読み出しゲート領域14、チャネルストップ領域15を形成する。続いて、半導体基板10上にゲート絶縁膜20を形成した後に、転送電極21を形成する。なお、転送電極21を形成した後に、転送電極をマスクとしたイオン注入により、信号電荷蓄積領域12を形成してもよい。続いて、転送電極21上に、絶縁膜23を介して遮光膜24を形成する。続いて、遮光膜24上に、例えばBPSGからなる平坦化膜25を形成する。これにより、カラーフィルタ30の下層の構造が形成される。なお、平坦化膜25が形成された半導体基板10を被処理基板1とする。
次に、図3(a)に示すように、被処理基板1上に、例えば、フォトリソグラフィ法により、1色目として例えばグリーンカラーフィルタパターン31を形成する。1色目のグリーンカラーフィルタパターン31の形成方法に関しては、フォトリソグラフィ法に限定するものではなく、例えば染色法を用いても良い。1色目のグリーンカラーフィルタパターン31は、パターン非形成領域(被処理基板1が露出する領域)を取り囲むパターンとする。例えば、グリーンカラーフィルタパターン31は、市松状配置とする(図1参照)。
次に2色目のカラーフィルタパターンをフォトリソグラフィ法で作製していくが、この際に化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を用いる。例えば、図3(b)に示すように、被処理基板1およびグリーンカラーフィルタパターン31を被覆するように、2色目(本例ではレッド)となる化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aを塗布する。化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aには、例えばベース樹脂と、架橋剤と、光酸発生剤と、色素が含まれる。色素としては、例えば染料が用いられるが、顔料を用いても良い。
次に、図3(c)に示すように、被処理基板1上の化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aに対して、ステッパー(投影露光機)を用いて2色目のカラーフィルタパターンを露光する。この際に、本来の露光領域である画素サイズ(1色目のグリーンカラーフィルタパターン31間の領域)よりも任意に縮小したサイズのマスク40を用い、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aの感光領域32bを狭めておく。例えば、グリーンカラーフィルタパターン31に対して0.05〜0.3μmだけ内側の領域が感光領域32bとなるように露光する。化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aでは、光照射により光酸発生剤が励起されて酸が放出される。
グリーンカラーフィルタパターン31に対して0.05μm以上としたのは、現在のリソグラフィ技術のアライメント誤差が0.05μm程度であることから、このアライメント誤差を補償するためである。0.3μm以下としたのは、0.3μm以下であれば後述する処理により、グリーンカラーフィルタパターン31に対して自己整合的に2色目のカラーフィルタパターンを形成できることが確認されているからである。
次に、熱処理(PEB:Post Exposure Bake)処理を行う。図4(d)に示すように、熱処理を行うと、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aに含まれる架橋剤が、酸によってベース樹脂と縮合反応して架橋する結果、現像液に対して不要な分子構造をもつ不溶化領域32cが形成される。1つの架橋反応が起こると、そこで酸が生成されて、次の反応を引き起こすというように、連鎖反応的に架橋が進む。上記の架橋反応は、隣接する1色目のグリーンカラーフィルタパターン31の側壁まで到達し、アルカリ現像液に不溶な不溶化領域32cが、グリーンカラーフィルタパターン31間に選択的に形成される。これは、1色目のカラーフィルタパターンによりセルフアライメント的(自己整合)に酸の拡散が制御されるからである。
次に、図4(e)に示すように、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aをアルカリ水溶液により現像処理することで、2色目としてレッドカラーフィルタパターン32が形成される。
レッドカラーフィルタパターン32と同様の方法により、ブルーカラーフィルタパターン33を形成することにより、セルフアライメント的(自己整合)にカラーフィルタ30を形成することが可能となる。
カラーフィルタ30の形成後、カラーフィルタ30の表面凹凸を平坦化する目的で、カラーフィルタ30上に透明な平坦化膜34を形成する(図2参照)。平坦化膜34としては、例えばアクリル熱硬化樹脂が用いられる。
次に、平坦化膜34上に、感光性を有するマイクロレンズ材を形成し、フォトリソグラフィ技術によりマイクロレンズ材をパターン加工する。続いて、膜中の残存感光剤を紫外線照射により分解し、短波長領域の透過率を向上させるブリーチング処理を行った後、マイクロレンズ材の熱軟化点以上の熱を加えて、マイクロレンズ形状を得る。これにより、各画素に対応するオンチップマイクロレンズ35が形成される。
以上のようにして、固体撮像装置が完成する。
本実施形態に係るカラーフィルタの製造方法では、まず、1色目として、パターン非形成領域を取り囲む例えば市松状のグリーンカラーフィルタパターン31を形成した後、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を用いて2色目以降のカラーフィルタパターンを形成する。
2色目以降のブルーあるいはレッドカラーフィルタパターンの形成において、グリーンカラーフィルタパターン31により囲まれる領域の内側を露光した後に、熱処理を行うことにより、露光のアライメント誤差に影響を受けずに、自己整合的にグリーンカラーフィルタ31により囲まれる領域に2色目以降のカラーフィルタを形成することができる。この結果、2色目以降のレッドカラーフィルタパターン32およびブルーカラーフィルタパターン33の位置精度を向上させることができる。
また、上記のレッドカラーフィルタパターン32あるいはブルーカラーフィルタパターン33を形成するための化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂としては、顔料分散型よりも染料内添型が好ましい。色素粒子が固体レベルで分散した顔料よりも、分子レベルで分散した染料を用いることにより、画質のざらつき感をなくして、良好な画質を得ることができるからである。ただし、顔料分散型を用いても良い。
上記のようにカラーフィルタの製造方法によれば、2色目以降のカラーフィルタパターンをセルフアライメント的(自己整合)に形成することができることから、画素サイズが縮小しても、位置精度の向上したカラーフィルタを製造することができる。
従って、上記のカラーフィルタを備えた固体撮像装置の製造方法によれば、カラーフィルタ形成位置のずれや、カラーフィルタの形成線幅変動に起因する特性変化が極めて少なく、色再現性に優れた固体撮像装置を製造することができる。
本発明は、上記の実施形態の説明に限定されない。
例えば、本発明は、CCD型固体撮像装置以外にも、MOS型固体撮像装置や、表示装置のカラーフィルタの製造方法に適用することができる。
例えば、本発明は、CCD型固体撮像装置以外にも、MOS型固体撮像装置や、表示装置のカラーフィルタの製造方法に適用することができる。
また、2色目としてブルーカラーフィルタパターン33を形成した後に、3色目としてレッドカラーフィルタパターン32を形成してもよい。また、1色目は、グリーンカラーフィルタパターン31以外のカラーフィルタパターンを形成してもよい。
本実施形態では、原色系のカラーコーディング方式を例に説明したが、補色系のカラーコーディング方式を採用してもよい。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
1…被処理基板、5…受光部、6…読み出しゲート部、7…垂直転送部、10…半導体基板、11…p型ウェル、12…信号電荷蓄積領域、13…転送チャネル領域、14…読み出しゲート領域、15…チャネルストップ領域、20…ゲート絶縁膜、21…転送電極、23…絶縁膜、24…遮光膜、25…平坦化膜、30…カラーフィルタ、31…グリーンカラーフィルタパターン、32…レッドカラーフィルタパターン、32a…化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂、32b…感光領域、32c…不溶化領域、33…ブルーカラーフィルタパターン、34…平坦化膜、35…オンチップマイクロレンズ、100…半導体基板、101…受光部、102…転送電極、103…カラーフィルタ、103−1…1色目カラーフィルタパターン、103−2…2色目カラーフィルタパターン、104…オンチップマイクロレンズ
Claims (4)
- 被処理基板上に、パターン非形成領域を取り囲む配置をもつ1色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、
前記カラーフィルタパターンを被覆するように前記被処理基板上に、2色目以降の化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を形成する工程と、
前記1色目のカラーフィルタパターンで囲まれた領域よりも内側における前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を露光する工程と、
前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂に対して加熱処理を行う工程と、
前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を現像して、2色目以降のカラーフィルタパターンを形成する工程と
を有するカラーフィルタの製造方法。 - 前記1色目のカラーフィルタパターンを形成する工程において、市松状のカラーフィルタパターンを形成する
請求項1記載のカラーフィルタの製造方法。 - 画素毎に受光部が形成された被処理基板上に、カラーフィルタを有する固体撮像装置の製造方法であって、
前記被処理基板上に、パターン非形成領域を取り囲む配置をもつ1色目のカラーフィルタパターンを形成する工程と、
前記カラーフィルタパターンを被覆するように前記被処理基板上に、2色目以降の化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を形成する工程と、
前記1色目のカラーフィルタパターンで囲まれた領域よりも内側における前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を露光する工程と、
前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂に対して加熱処理を行う工程と、
前記化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂を現像して、2色目以降のカラーフィルタパターンを形成する工程と
を有する固体撮像装置の製造方法。 - 前記1色目のカラーフィルタパターンを形成する工程において、市松状のカラーフィルタパターンを形成する
請求項3記載の固体撮像装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005110825A JP2006292870A (ja) | 2005-04-07 | 2005-04-07 | カラーフィルタの製造方法および固体撮像装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005110825A JP2006292870A (ja) | 2005-04-07 | 2005-04-07 | カラーフィルタの製造方法および固体撮像装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006292870A true JP2006292870A (ja) | 2006-10-26 |
Family
ID=37413539
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005110825A Abandoned JP2006292870A (ja) | 2005-04-07 | 2005-04-07 | カラーフィルタの製造方法および固体撮像装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006292870A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8786739B2 (en) | 2008-09-17 | 2014-07-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion device and imaging system |
JP2015011855A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-01-19 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 |
-
2005
- 2005-04-07 JP JP2005110825A patent/JP2006292870A/ja not_active Abandoned
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8786739B2 (en) | 2008-09-17 | 2014-07-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion device and imaging system |
JP2015011855A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-01-19 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8853758B2 (en) | Solid-state imaging device, method of manufacturing solid-state imaging device, and electronic apparatus | |
KR100710210B1 (ko) | 씨모스 이미지 센서 및 그 제조방법 | |
CN100466282C (zh) | Cmos图像传感器的制造方法 | |
US8137901B2 (en) | Method for fabricating an image sensor | |
JP2010034141A (ja) | 固体撮像装置とその製造方法 | |
JP2004235635A (ja) | Cmosイメージセンサの製造方法 | |
US20090152660A1 (en) | Photomask, Image Sensor, and Method of Manufacturing the Image Sensor | |
US8030117B2 (en) | Image sensor and method for manufacturing the same | |
JP2006128433A (ja) | 光フィルタ付き光学装置及びその製造方法 | |
KR100720509B1 (ko) | 이미지 센서 및 이의 제조 방법 | |
JP2005244217A (ja) | ドーピングマスク、これを用いた電荷転送イメージ素子の製造方法及び半導体素子の製造方法 | |
KR100731130B1 (ko) | 씨모스 이미지 센서 및 그 제조방법 | |
KR100717281B1 (ko) | 이미지 센서의 형성 방법 및 그에 의해 형성된 이미지 센서 | |
JP2006258916A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
JP2006317776A (ja) | カラーフィルタの製造方法、および固体撮像装置の製造方法 | |
US20050045805A1 (en) | Solid-state image sensor and a manufacturing method thereof | |
KR20080053569A (ko) | 마이크로 렌즈 형성용 패턴 마스크, 이미지 센서 및 이의제조 방법 | |
JP2006196634A (ja) | カラー固体撮像装置の製造方法 | |
JP2007184322A (ja) | 固体撮像装置およびその製造方法、並びにカメラ | |
JP2006292870A (ja) | カラーフィルタの製造方法および固体撮像装置の製造方法 | |
JP2000022117A (ja) | 固体撮像装置の製造方法 | |
JP4765376B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法、固体撮像装置の製造方法 | |
JP2802733B2 (ja) | カラー固体撮像素子及びその製造方法 | |
JPH11317511A (ja) | 固体撮像装置の製造方法 | |
KR100698092B1 (ko) | 씨모스 이미지 센서의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080311 |
|
A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20080416 |