JP2006287013A - 荷電粒子ビーム応用装置 - Google Patents
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Abstract
マルチビーム形成部でのビームアライメントを効率よく行うことを可能にする荷電粒子ビーム露光装置を提供する。
【解決手段】
マルチビーム形成部下流でマルチビームを偏向し、縮小光学系内に設置した絞りBA上を走査した像を観察する。絞りの光学的位置を、最上段投影レンズの後側焦点位置BFからずらすことで、マルチビーム数を反映した像が観察できる。マルチビーム形成部内の角度調整機構および像回転調整機構を操作して所望の数のマルチビーム像になるように調整することで、マルチビーム形成部内のビームアライメントを行う。また、ビームアライメントに伴い変化するマルチビーム形成部からの射出角度は、走査像が視野略中心にくるようにアライナを調整することで、下流の投影光学系内で遮蔽されることなく検出できる。
【選択図】 図2
Description
Claims (5)
- 荷電粒子源から放射される荷電粒子ビームを複数の荷電粒子ビームに形成するマルチビーム形成部と、前記マルチビーム形成部を射出した前記複数のマルチ電子ビームを射出部近傍で同時に走査する偏向手段と、前記複数の荷電粒子ビームを被露光基板に一段もしくは多段レンズで投影する投影光学系と、前記複数の荷電粒子ビームを検出する検出器とを備えた荷電粒子ビーム応用装置において、前記投影光学系は、前記投影光学系の最上段レンズの後側焦点位置に設置した絞りと、前記絞りの光学的位置を前記最上段レンズの後側焦点位置から光軸方向に移動させる移動手段とを有し、前記移動手段によって前記絞りの光学的位置を前記最上段レンズの後側焦点位置からずらすことにより、前記複数の荷電粒子ビームを分離して検出し得るよう構成したことを特徴とする荷電粒子ビーム応用装置。
- 請求項1に記載の荷電粒子ビーム応用装置において、前記マルチビーム形成部は、一個もしくは複数個の開口を有する複数枚の開口群と、前記複数枚の開口群それぞれの間における荷電粒子ビームの角度を調整する角度調整手段と、前記複数枚の開口群それぞれの間における荷電粒子ビームの像回転を調整する回転調整手段とを有し、前記角度調整手段と前記回転調整手段とを調整することにより、前記マルチビーム形成部内のビーム通過を可能とする構成としたことを特徴とする荷電粒子ビーム応用装置。
- 請求項1に記載の荷電粒子ビーム応用装置において、前記偏向手段を、前記マルチビーム形成部から射出した荷電粒子ビームの角度を調整するアライナで構成し、前記アライナによる偏向において、前記検出器で決められた値以上の電流値を検出できる偏向領域が、偏向領域中心近傍となるように前記アライナを調整することにより、前記検出器へのビーム通過を可能とする構成としたことを特徴とする荷電粒子ビーム応用装置。
- 請求項1に記載の荷電粒子ビーム応用装置において、前記検出器は、前記複数の荷電粒子ビームの同時検出を可能にする検出面を有する検出器であることを特徴とする荷電粒子ビーム応用装置。
- 請求項1に記載の荷電粒子ビーム応用装置において、前記荷電粒子ビームは、電子ビームもしくはイオンビームであることを特徴とする荷電粒子ビーム応用装置。
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US8642959B2 (en) | 2007-10-29 | 2014-02-04 | Micron Technology, Inc. | Method and system of performing three-dimensional imaging using an electron microscope |
TWI675261B (zh) * | 2016-11-11 | 2019-10-21 | 日商紐富來科技股份有限公司 | 多帶電粒子束描繪裝置及多帶電粒子束描繪方法 |
TWI675262B (zh) * | 2016-11-18 | 2019-10-21 | 日商紐富來科技股份有限公司 | 多帶電粒子束描繪裝置及多帶電粒子束描繪方法 |
US10541105B2 (en) | 2017-02-24 | 2020-01-21 | Nuflare Technology, Inc. | Multi charged particle beam writing apparatus and adjusting method for multi charged particle beam writing apparatus |
TWI713074B (zh) * | 2018-06-19 | 2020-12-11 | 日商紐富來科技股份有限公司 | 多帶電粒子束描繪裝置及其粒子束評價方法 |
JP2022511369A (ja) * | 2018-10-19 | 2022-01-31 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | マルチビーム検査装置において電子ビームをアライメントするシステム及び方法 |
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2005
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8642959B2 (en) | 2007-10-29 | 2014-02-04 | Micron Technology, Inc. | Method and system of performing three-dimensional imaging using an electron microscope |
US9390882B2 (en) | 2007-10-29 | 2016-07-12 | Micron Technology, Inc. | Apparatus having a magnetic lens configured to diverge an electron beam |
TWI675261B (zh) * | 2016-11-11 | 2019-10-21 | 日商紐富來科技股份有限公司 | 多帶電粒子束描繪裝置及多帶電粒子束描繪方法 |
US10504696B2 (en) | 2016-11-11 | 2019-12-10 | Nuflare Technology, Inc. | Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method |
TWI675262B (zh) * | 2016-11-18 | 2019-10-21 | 日商紐富來科技股份有限公司 | 多帶電粒子束描繪裝置及多帶電粒子束描繪方法 |
US10497539B2 (en) | 2016-11-18 | 2019-12-03 | Nuflare Technology, Inc. | Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method |
US10541105B2 (en) | 2017-02-24 | 2020-01-21 | Nuflare Technology, Inc. | Multi charged particle beam writing apparatus and adjusting method for multi charged particle beam writing apparatus |
TWI713074B (zh) * | 2018-06-19 | 2020-12-11 | 日商紐富來科技股份有限公司 | 多帶電粒子束描繪裝置及其粒子束評價方法 |
JP2022511369A (ja) * | 2018-10-19 | 2022-01-31 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | マルチビーム検査装置において電子ビームをアライメントするシステム及び方法 |
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