JP2006286845A - レーザ加工装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 穴あけ加工や彫刻加工等を高い加工効率で行うのに適した中間領域のパルス幅を持つレーザビームを発生させることができるとともに、そのレーザビームのピーク強度とパルス幅とを任意に制御することができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】 レーザビームを発生させるレーザ発振器において、レーザダイオード及びレーザダイオード電源により、レーザ媒体を励起するために10マイクロ秒程度の立ち上がり時間を持つ立ち上がりの急峻な励起パルス(符号31の励起用電流波形参照)によりレーザ媒体を励起する。これにより、パルス幅が1マイクロ秒程度のパルスが数マイクロ秒間隔で並んだ一群の緩和発振パルス列を含むレーザビーム(符号32のレーザパルス波形参照)が発生される。
【選択図】 図2
【解決手段】 レーザビームを発生させるレーザ発振器において、レーザダイオード及びレーザダイオード電源により、レーザ媒体を励起するために10マイクロ秒程度の立ち上がり時間を持つ立ち上がりの急峻な励起パルス(符号31の励起用電流波形参照)によりレーザ媒体を励起する。これにより、パルス幅が1マイクロ秒程度のパルスが数マイクロ秒間隔で並んだ一群の緩和発振パルス列を含むレーザビーム(符号32のレーザパルス波形参照)が発生される。
【選択図】 図2
Description
本発明は、レーザビームを被加工物に照射して当該被加工物にレーザ加工を施すレーザ加工装置に係り、とりわけ、レーザ加工として穴あけ加工や彫刻加工等を行うのに適したレーザ加工装置に関する。
従来から、この種の穴あけ加工や彫刻加工等(例えば、各種の金属に対する彫刻や彫印、鉄鋼板の表面処理、電極材料の表面処理、セラミック等の非金属に対する表面処理や穴溝加工等)を行う際には、レーザビームを被加工物に直接照射して当該被加工物にレーザ加工を施すレーザ加工装置が広く用いられている。特に、この種の穴あけ加工や彫刻加工等では、Qスイッチレーザパルスやジャイアントレーザパルスといったパルス形態のレーザビームが用いられるのが一般的であり、当該レーザビームのピークパワーや繰り返し速度等を制御しながら加工が行われる。具体的には例えば、特許第3221427号明細書には、Qスイッチパルスレーザによりプリント配線基板の穴あけ加工を行う方法が記載されている。また、特許第3388078号明細書には、Qスイッチパルスレーザにより冷間圧延用ワークロールの表面に穴あけ加工を施す方法が記載されている。
ところで、上述した穴あけ加工や彫刻加工等は、通常、次のような加工プロセスに従って行われる。すなわち、レーザビームが被加工物に照射されると、被加工物の表面でレーザビームが吸収されて材料の加熱及び蒸散が起こり、これにより、被加工物に対して所望の穴あけ加工や彫刻加工等が行われる。この際、被加工物の加工状態はレーザビームの強度に著しく依存する。具体的には、レーザビームの強度が低すぎる場合には、被加工物の材料の加熱のみが起こり、蒸散が起こらないので、穴あけ加工や彫刻加工等が十分に行われない。これに対し、レーザビームの強度が高すぎる場合には、被加工物の表面に発生したプラズマにレーザビームのエネルギーの大半が吸収されて、蒸散量が低下することとなる。このため、この場合でも、穴あけ加工や彫刻加工等が十分に行われない。
以上から、被加工物に対して効率良く高速に穴あけ加工や彫刻加工等を行うためには、被加工物の材料に適した適度な強度のレーザビームを用いる必要がある。また、被加工物の材料を効果的に蒸散させるためには、レーザビームの強度だけではなくレーザビームのエネルギー量が重要である。すなわち、被加工物に対して最適な条件で穴あけ加工や彫刻加工等を行うためには、被加工物の材料に応じてレーザビームの強度とエネルギー量とを最適化する必要があり、そのためには、被加工物の材料に応じてレーザビームのピーク強度とパルス幅とを任意に制御できるようにすることが理想的である。
ここで、穴あけ加工の場合を例にとり、十分な加工を可能とする加工速度とレーザビームのレーザ強度(パルス幅)との間の関係を模式的に示すと、図4のようになる。また、穴あけ加工時におけるレーザビーム中の1つのレーザパルスによる加工深さと当該レーザパルスのレーザ強度(パルス幅)との関係を模式的に示すと、図5のようになる。すなわち、図4及び図5から分かるように、加工効率の良い穴あけ加工を実現するレーザビームのレーザ強度(パルス幅)の最適値は、レーザ強度(パルス幅)が大きすぎずかつ小さすぎない中間領域に位置している。
特許第3221427号明細書
特許第3388078号明細書
しかしながら、上述した穴あけ加工や彫刻加工等で主として用いられるQスイッチレーザパルスは、例えばNd:YAGレーザ等の固体レーザと音響光学素子や電気光学素子等のQスイッチ素子とを用いる一般的なQスイッチ型レーザ発振器であれば、そのパルス幅は数ナノ秒〜500ナノ秒程度となる。これは、図4及び図5に当てはめて考えると、符号Bの領域(レーザ強度の大きい(パルス幅の小さい)領域)に相当するものとなっている。一方で、Qスイッチレーザパルス以外の一般的なレーザパルスである電源変調レーザパルスでは、100マイクロ秒以上のパルス幅が一般的であり、図4及び図5に当てはめて考えると、符号Aの領域(レーザ強度の小さい(パルス幅の大きい)領域)に相当するものとなっている。すなわち、従来においては、穴あけ加工や彫刻加工等を高い加工効率で行うのに適した中間領域のパルス幅(1マイクロ秒〜100マイクロ秒程度のパルス幅)を持つレーザビームを簡便に発生させる適切な方法が存在しておらず、その結果、上述したような穴あけ加工や彫刻加工等を行う場合に、その加工速度が制限され、加工効率が悪化する要因となっていた。
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、穴あけ加工や彫刻加工等を高い加工効率で行うのに適した中間領域のパルス幅を持つレーザビームを発生させることができるとともに、そのレーザビームのピーク強度とパルス幅とを任意に制御することができるレーザ加工装置を提供することを目的とする。
本発明は、レーザビームを被加工物に照射して当該被加工物にレーザ加工を施すレーザ加工装置において、レーザビームを発生させるレーザ発振器と、前記レーザ発振器により発生されたレーザビームを被加工物に照射して当該被加工物にレーザ加工を施す加工ユニットとを備え、前記レーザ発振器は、一対の共振器ミラーと、これらの一対の共振器ミラーの間に配置されたレーザ媒体と、前記レーザ媒体を励起するレーザ励起源とを有し、前記レーザ励起源により発生された立ち上がりの急峻な励起パルスにより前記レーザ媒体を励起することにより、前記レーザ媒体から一群の緩和発振パルス列を含むレーザビームを発生させることを特徴とするレーザ加工装置を提供する。
なお、本発明において、前記レーザ発振器の前記レーザ励起源により発生される前記励起パルスは、1マイクロ秒〜100マイクロ秒程度の立ち上がり時間を持つことが好ましい。
また、本発明においては、前記レーザ発振器の前記レーザ励起源により発生される前記励起パルスの立ち上がり時間、励起時間及び繰り返し周波数のうちの少なくとも一つを変化させるよう前記レーザ励起源を制御する制御装置をさらに備えることが好ましい。
さらに、本発明において、前記レーザ発振器の前記レーザ媒体は固体レーザ媒質からなり、前記レーザ励起源は前記固体レーザ媒質を励起する励起光を照射するレーザダイオードを有することが好ましい。
本発明によれば、レーザビームを発生させるレーザ発振器において、レーザ励起源により、レーザ媒体を励起するために立ち上がりの急峻な励起パルスによりレーザ媒体を励起することにより、パルス幅が1マイクロ秒〜100マイクロ秒程度のパルスが数マイクロ秒間隔で並んだ一群の緩和発振パルス列を含むレーザビームを発生させるようにしているので、被加工物に対して効率良く高速に穴あけ加工や彫刻加工等を行うことが可能となり、加工効率及び加工速度を著しく高めることができる。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図1に示すように、本実施形態に係るレーザ加工装置1は、レーザビームLを被加工物20に照射して当該被加工物20にレーザ加工を施すためのものであり、レーザビームLを発生させるレーザ発振器10と、レーザ発振器10により発生されたレーザビームLを被加工物20に照射して当該被加工物20にレーザ加工を施す加工ユニット15とを備えている。
このうち、レーザ発振器10は、一群のパルス列を含むレーザビームLを発生させるものであり、一対の共振器ミラー11a,11bと、一対の共振器ミラー11a,11bの間に配置されたNd:YAG結晶(固体レーザ媒質)からなるレーザ媒体12と、レーザ媒体12を励起する励起光を照射するレーザダイオード13と、レーザダイオード13に電源ケーブル14aを介して接続されたレーザダイオード電源14とを有している。なお、レーザダイオード13及びレーザダイオード電源14によりレーザ励起源が構成されている。
ここで、レーザダイオード13は、レーザ媒体12を励起する励起光として、立ち上がりの急峻な励起パルスを発生する半導体レーザであり、レーザダイオード13により発生された立ち上がりの急峻な励起パルスによりレーザ媒体12が励起されることにより、レーザ媒体12から一群の緩和発振パルス列を含むレーザビームLが発生されるようになっている。
より具体的には、レーザダイオード13はレーザダイオード電源14により駆動されており、レーザダイオード電源14により与えられる立ち上がりの急峻な電流パルスに起因して上述した立ち上がりの急峻な励起パルスが発生されるようになっている。なお、レーザダイオード13により発生される励起パルスは、1マイクロ秒〜100マイクロ秒程度(より好ましくは1マイクロ秒〜10マイクロ秒程度)の立ち上がり時間を持つことが好ましい。
また、レーザダイオード電源14には制御装置19が接続されており、レーザ発振器10のレーザダイオード13により発生される励起パルスの立ち上がり時間、励起時間及び繰り返し周波数のうちの少なくとも一つを変化させるようレーザダイオード電源14を制御することができるようになっている。
一方、加工ユニット15は、レーザ発振器10により発生されたレーザビームLを被加工物20に照射するためのものであり、レーザ発振器10から出射されたレーザビームLを被加工物20の方向へ折り返すミラー16と、ミラー16により折り返されたレーザビームLを集光する加工レンズ17とを有している。なお、被加工物20は、加工ステージ18上に固定されており、加工ステージ18により被加工物20上でのレーザビームLの照射位置を相対的に移動させることにより、被加工物20に対して任意の形状で穴あけ加工や彫刻加工等を行うことができるようになっている。なお、加工ステージ18は、制御装置19に接続されている。
次に、このような構成からなるレーザ加工装置1の作用について説明する。
図1に示すレーザ加工装置1のレーザ発振器10において、レーザダイオード13がレーザダイオード電源14により駆動されると、レーザダイオード電源14により与えられる電流パルスに起因してレーザダイオード13により励起パルスが発生する。このようにして発生した励起パルスは、レーザ媒体12を励起する励起光としてレーザ媒体12に照射される。これにより、レーザ媒体12が励起状態となり、共振器ミラー11a,11bの間で光が繰り返し反射されることによりレーザビームLが出射される。
このとき、レーザダイオード電源14は、レーザダイオード13から立ち上がりの急峻な励起パルス(1マイクロ秒〜100マイクロ秒程度の立ち上がり時間を持つ励起パルス)が発生されるよう、立ち上がりの急峻な電流パルスをレーザダイオード13に与える。これにより、レーザダイオード13により立ち上がりの急峻な励起パルスが発生されると、この励起パルスによりレーザ媒体12が励起され、その結果、レーザ媒体12から一群の緩和発振パルス列を含むレーザビームLが発生される。
ここで、図2及び図3は、レーザダイオード電源14により与えられる励起用電流波形31,33と、その結果得られたレーザパルス波形32,34との関係を示す図である。図2及び図3に示すように、レーザダイオード電源14により立ち上がり時間が10マイクロ秒程度の電流パルスがレーザダイオード13に与えられると、それに起因して、レーザ媒体12から、パルス幅が1マイクロ秒程度のパルスが数マイクロ秒間隔で並んだ一群の緩和発振パルス列を含むレーザビームLが発生される。
このように本実施形態によれば、レーザビームLを発生させるレーザ発振器10において、レーザダイオード13及びレーザダイオード電源14により、レーザ媒体12を励起するために1マイクロ秒〜100マイクロ秒程度の立ち上がり時間を持つ立ち上がりの急峻な励起パルスによりレーザ媒体12を励起するようにしているので、パルス幅が1マイクロ秒程度のパルスが数マイクロ秒間隔で並んだ一群の緩和発振パルス列を含むレーザビームLを発生させることができる。これにより、被加工物20に対して効率良く高速に穴あけ加工や彫刻加工等を行うことが可能となり、加工効率及び加工速度を著しく高めることができる。特に、穴あけ加工においては、一群の緩和発振パルス列のみで数十マイクロメータ程度の微細穴あけ加工が可能となる。
また、本実施形態によれば、制御装置19により、レーザ発振器10のレーザダイオード13により発生される励起パルスの立ち上がり時間、励起時間及び繰り返し周波数のうちの少なくとも一つを変化させるようレーザダイオード電源14を制御するようにしているので、レーザビームLのピーク強度とパルス幅とを任意に制御して、所望の加工効率及び加工速度で被加工物20に対する穴あけ加工や彫刻加工等を精度良く行うことができる。
1 レーザ加工装置
10 レーザ発振器
11a,11b 共振器ミラー
12 レーザ媒体
13 レーザダイオード
14 レーザダイオード電源
14a 電源ケーブル
15 加工ユニット
16 ミラー
17 加工レンズ
18 加工ステージ
19 制御装置
20 被加工物
31,33 励起用電流波形
32,34 レーザパルス波形
L レーザビーム
10 レーザ発振器
11a,11b 共振器ミラー
12 レーザ媒体
13 レーザダイオード
14 レーザダイオード電源
14a 電源ケーブル
15 加工ユニット
16 ミラー
17 加工レンズ
18 加工ステージ
19 制御装置
20 被加工物
31,33 励起用電流波形
32,34 レーザパルス波形
L レーザビーム
Claims (4)
- レーザビームを被加工物に照射して当該被加工物にレーザ加工を施すレーザ加工装置において、
レーザビームを発生させるレーザ発振器と、
前記レーザ発振器により発生されたレーザビームを被加工物に照射して当該被加工物にレーザ加工を施す加工ユニットとを備え、
前記レーザ発振器は、一対の共振器ミラーと、これらの一対の共振器ミラーの間に配置されたレーザ媒体と、前記レーザ媒体を励起するレーザ励起源とを有し、前記レーザ励起源により発生された立ち上がりの急峻な励起パルスにより前記レーザ媒体を励起することにより、前記レーザ媒体から一群の緩和発振パルス列を含むレーザビームを発生させることを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記レーザ発振器の前記レーザ励起源により発生される前記励起パルスは、1マイクロ秒〜100マイクロ秒程度の立ち上がり時間を持つことを特徴とする、請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記レーザ発振器の前記レーザ励起源により発生される前記励起パルスの立ち上がり時間、励起時間及び繰り返し周波数のうちの少なくとも一つを変化させるよう前記レーザ励起源を制御する制御装置をさらに備えたことを特徴とする、請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。
- 前記レーザ発振器の前記レーザ媒体は固体レーザ媒質からなり、前記レーザ励起源は前記固体レーザ媒質を励起する励起光を照射するレーザダイオードを有することを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005103391A JP2006286845A (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | レーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005103391A JP2006286845A (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | レーザ加工装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2006286845A true JP2006286845A (ja) | 2006-10-19 |
Family
ID=37408430
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005103391A Pending JP2006286845A (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | レーザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006286845A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101272407B1 (ko) * | 2010-03-15 | 2013-06-07 | 오므론 가부시키가이샤 | 레이저 가공 장치, 레이저 광원 장치, 및, 레이저 광원 장치의 제어 방법 |
-
2005
- 2005-03-31 JP JP2005103391A patent/JP2006286845A/ja active Pending
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KR101272407B1 (ko) * | 2010-03-15 | 2013-06-07 | 오므론 가부시키가이샤 | 레이저 가공 장치, 레이저 광원 장치, 및, 레이저 광원 장치의 제어 방법 |
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