JP2006278127A - Manufacturing method of device, manufacturing method of el device, el device and electronic apparatus - Google Patents

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Hideyuki Kimura
秀之 木村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a device arbitrarily controlling the shape of a film in forming a film material on a substrate. <P>SOLUTION: This manufacturing method of a device is characterized by including: a first application process for applying, to a surface of a substrate, a liquid composition prepared by dissolving or dispersing a functional material in a solvent; a first drying process for forming an interim coating by drying the applied liquid composition; a second application process for applying, to the formed interim coating, a solvent capable of dissolving the interim coating; and a second drying process for forming a functional film 110b by drying the applied solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、デバイスの製造方法、EL装置(エレクトロルミネッセンス装置)の製造方法、その製造方法により得られるEL装置、及び該EL装置を備えた電子機器に関するものである。   The present invention relates to a device manufacturing method, an EL device (electroluminescence device) manufacturing method, an EL device obtained by the manufacturing method, and an electronic apparatus including the EL device.

近年、有機又は無機のEL材料(エレクトロルミネッセンス材料)をインク化し、このインクを基体上に吐出するインクジェット法により、EL装置を製造する技術が開発されている(例えば、特許文献1参照)。このようなインクジェット法を用いて、マイクロオーダーの液滴を画素領域に配することにより、EL装置を製造することは、材料の利用効率を考えると、スピンコートなどの方法に比べて有効である。
特許第3328297号公報
In recent years, a technique for manufacturing an EL device by an ink jet method in which an organic or inorganic EL material (electroluminescence material) is converted into an ink and the ink is discharged onto a substrate has been developed (for example, see Patent Document 1). Using such an ink jet method to arrange micro-order droplets in the pixel region, manufacturing an EL device is more effective than methods such as spin coating in view of material utilization efficiency. .
Japanese Patent No. 3328297

特許文献1のような手法を用いてEL装置を作製する場合、例えば赤色発光、緑色発光、青色発光などの複数の発光色の材料を所定配列で形成することが一般的である。ここで、インクジェット法により配した液滴を乾燥するに際しては、各色の材料をインクジェット法により配した後、個別に乾燥する方法と、全ての色の材料をインクジェット法により配した後、一括で乾燥する方法とが考えられる。また、特に一括乾燥を採用する場合は、各色の発光材料に対する溶媒を共通化して、同様の乾燥条件で乾燥させることが好ましいと考えられる。   When an EL device is manufactured using a technique such as Patent Document 1, it is common to form a plurality of light emitting color materials such as red light emission, green light emission, and blue light emission in a predetermined arrangement. Here, when drying the droplets distributed by the ink jet method, each color material is arranged by the ink jet method and then individually dried, and all color materials are arranged by the ink jet method and then dried collectively. It can be thought of as a way to do this. In particular, when batch drying is adopted, it is considered preferable to use a common solvent for the light emitting materials of the respective colors and to dry under similar drying conditions.

しかしながら、各色発光材料は溶媒に対する溶解性が異なるため、各色で溶媒を共通化した際には、一の色では粘度が高くなり、他の色では粘度が低くなってしまい、液滴の塗布性が低下する場合も生じ得ることとなる。また、溶媒の共通化により各色の溶液の粘度が異なるものとなり、これにより各色で乾燥後の画素内膜形状が異なるといった弊害も生じ得る。   However, since each color light-emitting material has different solubility in solvents, when a common solvent is used for each color, the viscosity of one color increases and the viscosity of the other colors decreases, so that the coating properties of the droplets are reduced. It may also occur when the value decreases. In addition, the viscosity of the solution of each color differs due to the common use of the solvent, which may cause a problem that the shape of the inner film of the pixel after drying is different for each color.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであって、EL装置に限らず電子デバイス全般において、膜材料を基板上に成膜する際に、該膜形状を任意にコントロールできる製造方法を提供することを目的としている。特に、異なる膜材料をそれぞれ同一基板上にパターン成膜する際に、成膜される各材料の膜について全ての膜形状を任意にコントロールでき、ひいては各材料について平坦な膜を得ることが可能な手法を提供することを目的としている。   The present invention has been made to solve the above-described problem, and is a manufacturing method capable of arbitrarily controlling the film shape when a film material is formed on a substrate, not only in an EL apparatus, but in all electronic devices in general. The purpose is to provide. In particular, when patterning different film materials on the same substrate, it is possible to arbitrarily control all the film shapes of the film of each material to be formed, and it is possible to obtain a flat film for each material. The purpose is to provide a method.

また、本発明は、特にEL装置の製造方法について、発光材料を基板上に成膜する際に、該膜形状を任意にコントロールできる製造方法を提供することを目的としている。特に、異なる発光材料をそれぞれ同一基板上にパターン成膜する際に、成膜される各発光材料の膜について全ての膜形状を任意にコントロールでき、ひいては各発光材料について平坦な膜を得ることが可能な手法を提供することを目的とし、そのような方法の採用により、発光特性に優れたEL装置を提供することを目的としている。さらに、本発明は、このようなEL装置を備えた電子機器を提供することを目的としている。   Another object of the present invention is to provide a manufacturing method that can arbitrarily control the film shape when a light emitting material is formed on a substrate, particularly for a manufacturing method of an EL device. In particular, when patterning different light emitting materials on the same substrate, all film shapes can be arbitrarily controlled for each light emitting material film to be formed, and as a result, a flat film can be obtained for each light emitting material. An object of the present invention is to provide a possible technique, and an object of the present invention is to provide an EL device having excellent light emission characteristics by adopting such a method. Another object of the present invention is to provide an electronic apparatus including such an EL device.

上記課題を解決するために、本発明のデバイスの製造方法は、能材料を溶媒に溶解ないし分散させた液状組成物を基板上に塗布する第1塗布工程と、塗布した液状組成物を乾燥して仮塗膜を形成する第1乾燥工程と、形成した仮塗膜に対して、該仮塗膜を溶解ないし分散させることが可能な溶媒を塗布する第2塗布工程と、塗布した溶媒を乾燥して機能膜を形成する第2乾燥工程と、を有してなることを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problems, a device manufacturing method of the present invention includes a first application step of applying a liquid composition in which an active material is dissolved or dispersed in a solvent on a substrate, and drying the applied liquid composition. A first drying step for forming a temporary coating film, a second coating step for applying a solvent capable of dissolving or dispersing the temporary coating film to the formed temporary coating film, and drying the applied solvent. And a second drying step of forming a functional film.

このような製造方法によると、第2塗布工程の際に塗布する溶媒で仮塗膜の表面形状を調整することが可能となり、その結果、第2乾燥工程後に得られる機能膜の膜形状を任意にコントロールできるものとなる。特に、第2塗布工程で用いる溶媒の溶解性次第で膜形状は異なるものとなるため、該溶媒の種類によって膜形状をコントロールすることができ、ひいては所望特性のデバイスを製造することができるようになる。
また、第1塗布工程及び第1乾燥工程で形成する仮塗膜は、この段階では膜形状は凹凸があったり厚さが不均一であっても良い。第2塗布工程で塗布される溶媒により修復されるからである。このような背景により、第1塗布工程及び第1乾燥工程においては仮塗膜の形状について留意する必要がなく、当該工程を迅速且つ簡便に行うことができ、例えば第1塗布工程をインクジェット法を用いて行うような場合には、インクジェットヘッドから吐出し易いように液状組成物を採用することができ、当該液状組成物の設計の自由度が広がるとともに、吐出の安定性も確保することができるようになる。その結果、当該デバイスの製造効率が向上し、ひいては歩留り向上、コスト削減に寄与することが可能となる。
According to such a manufacturing method, it becomes possible to adjust the surface shape of the temporary coating film with the solvent applied in the second application step, and as a result, the shape of the functional film obtained after the second drying step can be arbitrarily set. Can be controlled. In particular, since the film shape varies depending on the solubility of the solvent used in the second coating step, the film shape can be controlled depending on the type of the solvent, and thus a device having desired characteristics can be manufactured. Become.
In addition, the temporary coating film formed in the first coating process and the first drying process may have irregularities or uneven thickness at this stage. It is because it is restored by the solvent applied in the second application step. Due to such a background, it is not necessary to pay attention to the shape of the temporary coating film in the first coating process and the first drying process, and the process can be performed quickly and easily. In the case of using the liquid composition, a liquid composition can be adopted so that the liquid can be easily discharged from the inkjet head, and the degree of freedom in designing the liquid composition is widened, and the discharge stability can be secured. It becomes like this. As a result, the manufacturing efficiency of the device can be improved, which in turn can contribute to yield improvement and cost reduction.

なお、前記第1塗布工程と前記第2塗布工程とにおいて、それぞれ用いる溶媒を異ならせることができる。つまり、機能材料を含んだ液状組成物を構成する溶媒と、機能材料を含まない膜形状コントロール用の溶媒とを異ならせることで、それぞれの塗布工程における扱いを容易化させることができる。具体的には、第1塗布工程では、液状組成物の塗布性を考慮して、当該液状組成物が低粘度となるように溶媒を選択することができ、第2塗布工程では、膜形状のコントロールの観点から機能材料に対する溶解性に応じて溶媒を選択することができる。ここで、それぞれ用いる溶媒が異なるというのは、溶媒の種類が異なる他、混合溶媒であれば溶媒の組成比が異なることを含む意味である。   Note that different solvents can be used in the first application step and the second application step, respectively. That is, by making the solvent constituting the liquid composition containing the functional material different from the solvent for controlling the film shape that does not contain the functional material, the handling in each coating step can be facilitated. Specifically, in the first application step, the solvent can be selected so that the liquid composition has a low viscosity in consideration of the applicability of the liquid composition, and in the second application step, the film shape is changed. From the viewpoint of control, the solvent can be selected according to the solubility in the functional material. Here, the different solvents to be used mean that the composition ratio of the solvents is different in the case of a mixed solvent in addition to different types of solvents.

上記デバイスの製造方法のうち、前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、第1の機能を有する第1機能材料を含む第1液状組成物と、前記第1の機能とは異なる第2の機能を有する第2機能材料を含む第2液状組成物とを含むものであって、これら第1液状組成物と第2液状組成物とをそれぞれ異なる領域に塗布する一方、前記第2塗布工程においては、前記第1機能材料からなる第1仮塗膜と前記第2機能材料からなる第2仮塗膜とのいずれか一方の膜に対して、該膜を溶解ないし分散させることが可能な溶媒を塗布するものとすることができる。このように第1仮塗膜と第2仮塗膜とを含む場合は、全ての仮塗膜に対して第2の塗布を施す必要はなく、膜形状をコントロールしたい所望の仮塗膜に対してのみに施すものとすれば、製造効率の向上を図ることが可能となる。なお、この場合、溶媒が塗布されない仮塗膜は、実質的には第1乾燥工程後に形成される膜が機能膜として構成されることとなる。   In the device manufacturing method, in the first application step, the liquid composition includes a first liquid composition containing a first functional material having a first function, and a second function different from the first function. A second liquid composition containing a second functional material having the above function, wherein the first liquid composition and the second liquid composition are applied to different regions, respectively, while the second application step Can dissolve or disperse the film in either one of the first temporary coating film made of the first functional material and the second temporary coating film made of the second functional material. A solvent can be applied. Thus, when including the 1st temporary coating film and the 2nd temporary coating film, it is not necessary to give 2nd application | coating with respect to all the temporary coating films, but with respect to the desired temporary coating film which wants to control film | membrane shape If it is applied only to the manufacturing process, manufacturing efficiency can be improved. In this case, the temporary coating film to which the solvent is not applied substantially has a film formed after the first drying step as a functional film.

また、上記デバイスの製造方法のうち、前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、第1の機能を有する第1機能材料を含む第1液状組成物と、前記第1の機能とは異なる第2の機能を有する第2機能材料を含む第2液状組成物とを含むものであって、これら第1液状組成物と第2液状組成物とをそれぞれ異なる領域に塗布する一方、前記第2塗布工程においては、前記第1機能材料からなる第1仮塗膜と前記第2機能材料からなる第2仮塗膜とに対して、それぞれ異なる溶媒を塗布するものとすることができる。このように第1仮塗膜と第2仮塗膜の双方に第2の塗布を施す場合は、それぞれ異なる溶媒を用いるのが好ましい。異なる溶媒を用いることで、第1仮塗膜と第2仮塗膜の双方の膜形状を好適にコントロールすることができるようになる。   In the device manufacturing method, in the first application step, the liquid composition is different from the first liquid composition including a first functional material having a first function, and the first function. A second liquid composition containing a second functional material having a second function, wherein the first liquid composition and the second liquid composition are applied to different regions, respectively, In the application step, different solvents can be applied to the first temporary coating film made of the first functional material and the second temporary coating film made of the second functional material. Thus, when performing 2nd application | coating to both a 1st temporary coating film and a 2nd temporary coating film, it is preferable to use a respectively different solvent. By using different solvents, the film shapes of both the first temporary coating film and the second temporary coating film can be suitably controlled.

次に、上記課題を解決するために、本発明のEL装置の製造方法は、発光材料を溶媒に溶解ないし分散させた液状組成物を基板上に塗布する第1塗布工程と、塗布した液状組成物を乾燥して仮塗膜を形成する第1乾燥工程と、形成した仮塗膜に対して、該仮塗膜を溶解ないし分散させることが可能な溶媒を塗布する第2塗布工程と、塗布した溶媒を乾燥して発光層を形成する第2乾燥工程と、を有してなることを特徴とする。   Next, in order to solve the above-described problems, the method for manufacturing an EL device according to the present invention includes a first coating step in which a liquid composition in which a light emitting material is dissolved or dispersed in a solvent is coated on a substrate, and a coated liquid composition. A first drying step of drying a product to form a temporary coating film; a second coating step of applying a solvent capable of dissolving or dispersing the temporary coating film to the formed temporary coating film; And a second drying step of forming a light emitting layer by drying the solvent.

このような製造方法によると、第2塗布工程の際に塗布する溶媒で仮塗膜の表面形状を調整することが可能となり、その結果、第2乾燥工程後に得られる発光層の層形状(膜形状)を任意にコントロールできるものとなる。特に、第2塗布工程で用いる溶媒の溶解性次第で層形状(膜形状)は異なるものとなるため、該溶媒の種類によって層形状をコントロールすることができ、その結果、発光むらの少ないEL装置を、ひいては層形状により定まる所望の発光特性を具備したEL装置を製造することができるようになる。
また、第1塗布工程及び第1乾燥工程で形成する仮塗膜は、この段階では膜形状は凹凸があったり厚さが不均一であっても良い。第2塗布工程で塗布される溶媒により修復されるからである。このような背景により、第1塗布工程及び第1乾燥工程においては仮塗膜の膜形状に留意する必要がなく、当該工程を迅速且つ簡便に行うことができ、例えば第1塗布工程をインクジェット法を用いて行うような場合には、インクジェットヘッドから吐出し易いように液状組成物を採用することができ、当該液状組成物の設計の自由度が広がるとともに、吐出の安定性も確保することができるようになる。その結果、当該EL装置の製造効率が向上し、ひいては歩留り向上、コスト削減に寄与することが可能となる。
According to such a manufacturing method, it becomes possible to adjust the surface shape of the temporary coating film with the solvent applied in the second coating step, and as a result, the layer shape (film) of the light emitting layer obtained after the second drying step. (Shape) can be controlled arbitrarily. In particular, since the layer shape (film shape) differs depending on the solubility of the solvent used in the second coating step, the layer shape can be controlled depending on the type of the solvent, and as a result, an EL device with little uneven emission. Thus, an EL device having desired light emission characteristics determined by the layer shape can be manufactured.
In addition, the temporary coating film formed in the first coating process and the first drying process may have irregularities or uneven thickness at this stage. It is because it is restored by the solvent applied in the second application step. With such a background, it is not necessary to pay attention to the film shape of the temporary coating film in the first coating process and the first drying process, and the process can be performed quickly and easily. For example, the first coating process is performed by an inkjet method. In the case of using a liquid composition, a liquid composition can be adopted so that it can be easily discharged from an inkjet head, and the degree of freedom in designing the liquid composition can be widened and the stability of discharge can be secured. become able to. As a result, the manufacturing efficiency of the EL device can be improved, which in turn can contribute to yield improvement and cost reduction.

なお、前記第1塗布工程と前記第2塗布工程とにおいて、それぞれ用いる溶媒を異ならせることができる。つまり、発光材料を含んだ液状組成物を構成する溶媒と、発光材料を含まない層形状コントロール用の溶媒とを異ならせることで、それぞれの塗布工程における扱いを容易化させることができる。具体的には、第1塗布工程では、液状組成物の塗布性を考慮して、当該液状組成物が低粘度となるように溶媒を選択することができ、第2塗布工程では、層形状のコントロールの観点から発光材料に対する溶解性に応じて溶媒を選択することができる。ここで、それぞれ用いる溶媒が異なるというのは、溶媒の種類が異なる他、混合溶媒であれば溶媒の組成比が異なることを含む意味である。   Note that different solvents can be used in the first application step and the second application step, respectively. That is, by making the solvent constituting the liquid composition containing the light emitting material different from the solvent for controlling the layer shape not containing the light emitting material, the handling in each coating step can be facilitated. Specifically, in the first application step, the solvent can be selected so that the liquid composition has a low viscosity in consideration of the applicability of the liquid composition. In the second application step, the layer shape From the viewpoint of control, the solvent can be selected according to the solubility in the luminescent material. Here, the different solvents to be used mean that the composition ratio of the solvents is different in the case of a mixed solvent in addition to different types of solvents.

前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、第1発光材料を含む第1液状組成物と、前記第1発光材料とは異なる色の発光を呈する第2発光材料を含む第2液状組成物とを含むものであって、これら第1液状組成物と第2液状組成物とをそれぞれ異なる領域に塗布する一方、前記第2塗布工程においては、前記第1発光材料からなる第1仮塗膜と前記第2発光材料からなる第2仮塗膜とのいずれか一方の仮塗膜に対して、該仮塗膜を溶解ないし分散させることが可能な溶媒を塗布するものとすることができる。このように第1仮塗膜と第2仮塗膜とを含む場合は、全ての仮塗膜に対して第2の塗布を施す必要はなく、膜形状をコントロールしたい所望の仮塗膜に対してのみに施すものとすれば、製造効率の向上を図ることが可能となる。なお、この場合、溶媒が塗布されない仮塗膜は、実質的には第1乾燥工程後に形成される膜が発光層として構成されることとなる。   In the first coating step, the liquid composition includes a first liquid composition containing a first light emitting material and a second liquid composition containing a second light emitting material that emits light of a color different from that of the first light emitting material. And the first liquid composition and the second liquid composition are applied to different regions, respectively, while in the second application step, the first temporary coating film made of the first light emitting material. A solvent capable of dissolving or dispersing the temporary coating film may be applied to any one of the temporary coating film and the second temporary coating film made of the second light emitting material. Thus, when including the 1st temporary coating film and the 2nd temporary coating film, it is not necessary to give 2nd application | coating with respect to all the temporary coating films, but with respect to the desired temporary coating film which wants to control film | membrane shape If it is applied only to the manufacturing process, manufacturing efficiency can be improved. In this case, in the temporary coating film to which the solvent is not applied, the film formed after the first drying step is substantially constituted as the light emitting layer.

また、前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、第1発光材料を含む第1液状組成物と、前記第1発光材料とは異なる色の発光を呈する第2発光材料を含む第2液状組成物とを含むものであって、これら第1液状組成物と第2液状組成物とをそれぞれ異なる領域に塗布する一方、前記第2塗布工程においては、前記第1発光材料からなる第1仮塗膜と前記第2発光材料からなる第2仮塗膜とに対して、それぞれ異なる溶媒を塗布するものとすることができる。このように第1仮塗膜と第2仮塗膜の双方に第2の塗布を施す場合は、それぞれ異なる溶媒を用いるのが好ましい。異なる溶媒を用いることで、第1仮塗膜と第2仮塗膜の双方の膜形状を好適にコントロールすることができるようになる。   In the first application step, the liquid composition includes a first liquid composition containing a first light emitting material and a second liquid containing a second light emitting material that emits light of a color different from that of the first light emitting material. The first liquid composition and the second liquid composition are applied to different regions, respectively, while the second application step includes a first temporary material made of the first light emitting material. Different solvents may be applied to the coating film and the second temporary coating film made of the second light emitting material. Thus, when performing 2nd application | coating to both a 1st temporary coating film and a 2nd temporary coating film, it is preferable to use a respectively different solvent. By using different solvents, the film shapes of both the first temporary coating film and the second temporary coating film can be suitably controlled.

また、前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、赤色発光材料を含む赤色液状組成物と、緑色発光材料を含む緑色液状組成物と、青色発光材料を含む青色液状組成物とを含むものであって、これら赤色、緑色、青色の各液状組成物をそれぞれ異なる領域に塗布する一方、前記第2塗布工程においては、前記赤色発光材料からなる赤色仮塗膜と、前記緑色発光材料からなる緑色仮塗膜と、前記青色発光材料からなる青色仮塗膜とのうちいずれか一の仮塗膜に対して、該仮塗膜を溶解することが可能な溶媒を塗布するものとすることができる。このように赤色仮塗膜と緑色仮塗膜と青色仮塗膜とを含む場合は、全ての仮塗膜に対して第2の塗布を施す必要はなく、膜形状をコントロールしたい所望の仮塗膜に対してのみに施すものすれば、製造効率の向上を図ることが可能となる。なお、この場合、溶媒が塗布されない色の仮塗膜は、実質的には第1乾燥工程後に形成される膜が、その色の発光層として構成されることとなる。   In the first application step, the liquid composition includes a red liquid composition containing a red light emitting material, a green liquid composition containing a green light emitting material, and a blue liquid composition containing a blue light emitting material. The red, green, and blue liquid compositions are applied to different areas, respectively, and in the second application step, the red temporary coating film made of the red light emitting material and the green light emitting material are used. A solvent capable of dissolving the temporary coating film is applied to any one of the green temporary coating film and the blue temporary coating film made of the blue light emitting material. it can. Thus, when a red temporary coating film, a green temporary coating film and a blue temporary coating film are included, it is not necessary to apply the second coating to all the temporary coating films, and a desired temporary coating whose film shape is to be controlled is desired. If it is applied only to the film, it is possible to improve the production efficiency. In this case, in the temporary coating film of the color to which the solvent is not applied, the film formed after the first drying step is configured as the light emitting layer of that color.

さらに、前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、赤色発光材料を含む赤色液状組成物と、緑色発光材料を含む緑色液状組成物と、青色発光材料を含む青色液状組成物とを含むものであって、これら赤色、緑色、青色の各液状組成物をそれぞれ異なる領域に塗布する一方、前記第2塗布工程においては、前記赤色発光材料からなる赤色仮塗膜と、前記緑色発光材料からなる緑色仮塗膜と、前記青色発光材料からなる青色仮塗膜とに対して、それぞれ異なる溶媒を塗布するものとすることができる。各色について異なる溶媒を用いることで、各色発光層の層形状を好適にコントロールすることができるようになる。   Further, in the first coating step, the liquid composition includes a red liquid composition containing a red light emitting material, a green liquid composition containing a green light emitting material, and a blue liquid composition containing a blue light emitting material. The red, green, and blue liquid compositions are applied to different areas, respectively, and in the second application step, the red temporary coating film made of the red light emitting material and the green light emitting material are used. Different solvents may be applied to the green temporary coating film and the blue temporary coating film made of the blue light emitting material. By using a different solvent for each color, the layer shape of each color light emitting layer can be suitably controlled.

次に、上記課題を解決するために、本発明のEL装置は、上記方法を用いて製造されたことを特徴とする。このようなEL装置は、発光むら等が生じ難く、発光特性が優れたものとなる。また、本発明の電子機器は、上記EL装置を備えることを特徴とする。このようなEL装置を例えば表示部に具備した電子機器は、表示特性に優れたものとなる。   Next, in order to solve the above-described problem, an EL device of the present invention is manufactured using the above-described method. Such an EL device is less likely to cause uneven light emission and has excellent light emission characteristics. According to another aspect of the present invention, there is provided an electronic apparatus including the above-described EL device. For example, an electronic device including such an EL device in a display unit has excellent display characteristics.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、本実施の形態では、本発明に係る製造方法により製造されるEL装置の一例として有機EL装置の構成について説明した後、その製造方法を説明するものとする。また、本実施の形態では、各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, the structure of an organic EL device is described as an example of an EL device manufactured by the manufacturing method according to the present invention, and then the manufacturing method is described. Further, in the present embodiment, in each drawing, the scale is different for each layer and each member so that each layer and each member has a size that can be recognized on the drawing.

(EL装置)
図1は、本発明に係る製造方法により製造された有機EL装置について、その配線構造を示す説明図であって、図2は、該有機EL装置の平面模式図、図3は、該有機EL装置の表示領域の断面模式図である。
(EL device)
FIG. 1 is an explanatory view showing the wiring structure of an organic EL device manufactured by the manufacturing method according to the present invention, FIG. 2 is a schematic plan view of the organic EL device, and FIG. 3 is the organic EL device. It is a cross-sectional schematic diagram of the display area of an apparatus.

図1に示すように、本実施形態の有機EL装置は、複数の走査線101と、走査線101に対して交差する方向に延びる複数の信号線102と、信号線102に対して並列する方向に延びる複数の電源線103とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線101及び信号線102の各交点付近に、画素領域Pが設けられている。   As shown in FIG. 1, the organic EL device of the present embodiment includes a plurality of scanning lines 101, a plurality of signal lines 102 extending in a direction intersecting the scanning lines 101, and a direction parallel to the signal lines 102. A plurality of power supply lines 103 extending in a line are respectively wired, and a pixel region P is provided in the vicinity of each intersection of the scanning line 101 and the signal line 102.

信号線102には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ側駆動回路104が接続されている。また、走査線101には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査側駆動回路105が接続されている。
更に、画素領域Pの各々には、走査線101を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の薄膜トランジスタ122と、このスイッチング用の薄膜トランジスタ122を介して信号線102から供給される画素信号を保持する保持容量capと、該保持容量capによって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用の薄膜トランジスタ123と、この駆動用薄膜トランジスタ123を介して電源線103に電気的に接続したときに当該電源線103から駆動電流が流れ込む画素電極(陽極)111と、この画素電極111と対向電極(陰極)12との間に挟み込まれた有機EL層110とが設けられている。画素電極111と対向電極12と有機EL層110により、発光素子が構成されている。
Connected to the signal line 102 is a data side driving circuit 104 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch. Further, a scanning side driving circuit 105 including a shift register and a level shifter is connected to the scanning line 101.
Further, in each pixel region P, a switching thin film transistor 122 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 101, and a pixel signal supplied from the signal line 102 via this switching thin film transistor 122. A storage capacitor cap that holds the pixel signal, a driving thin film transistor 123 to which a pixel signal held by the storage capacitor cap is supplied to the gate electrode, and the power supply line 103 via the driving thin film transistor 123 In addition, a pixel electrode (anode) 111 into which a driving current flows from the power line 103 and an organic EL layer 110 sandwiched between the pixel electrode 111 and the counter electrode (cathode) 12 are provided. The pixel electrode 111, the counter electrode 12, and the organic EL layer 110 constitute a light emitting element.

走査線101が駆動されてスイッチング用の薄膜トランジスタ122がオンになると、そのときの信号線102の電位が保持容量capに保持され、該保持容量capの状態に応じて駆動用の薄膜トランジスタ123のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ123のチャネルを介して、電源線103から画素電極111に電流が流れ、更に有機EL層110を介して陰極12に電流が流れる。有機EL層110では、流れる電流量に応じて発光が生じる。   When the scanning line 101 is driven and the switching thin film transistor 122 is turned on, the potential of the signal line 102 at that time is held in the holding capacitor cap, and the driving thin film transistor 123 is turned on / off according to the state of the holding capacitor cap. The off state is determined. Then, current flows from the power supply line 103 to the pixel electrode 111 through the channel of the driving thin film transistor 123, and further current flows to the cathode 12 through the organic EL layer 110. In the organic EL layer 110, light emission occurs according to the amount of current flowing.

本実施形態の有機EL装置は、図3に示すように、ガラス等からなる透明な基板2と、マトリックス状に配置された発光素子を具備して基板2上に形成された発光素子部11と、発光素子部11上に形成された陰極12とを具備している。ここで、発光素子部11と陰極12とにより表示素子10が構成される。
基板2は、例えばガラス等の透明基板であり、図2に示すように、基板2の中央に位置する表示領域2aと、基板2の周縁に位置して表示領域2aを囲む非表示領域2cとに区画されている。なお、表示領域2aは、マトリックス状に配置された発光素子によって形成される領域であり。
As shown in FIG. 3, the organic EL device of the present embodiment includes a transparent substrate 2 made of glass or the like, and a light emitting element unit 11 formed on the substrate 2 including light emitting elements arranged in a matrix. And a cathode 12 formed on the light emitting element portion 11. Here, the display element 10 is configured by the light emitting element portion 11 and the cathode 12.
The substrate 2 is a transparent substrate such as glass, for example, and as shown in FIG. 2, a display region 2a located at the center of the substrate 2 and a non-display region 2c that is located at the periphery of the substrate 2 and surrounds the display region 2a. It is divided into. The display area 2a is an area formed by light emitting elements arranged in a matrix.

また、非表示領域2cには、前述の電源線103(103R、103G、103B)が配線されている。表示領域2aの両側には、前述の走査側駆動回路105、105が配置されている。更に、走査側駆動回路105、105の両側には、走査側駆動回路105、105に接続される駆動回路用制御信号配線105aと駆動回路用電源配線105bとが設けられている。表示領域2aの図示上側には製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行う検査回路106が配置されている。   Further, the aforementioned power supply lines 103 (103R, 103G, 103B) are wired in the non-display area 2c. On the both sides of the display area 2a, the above-described scanning side drive circuits 105 and 105 are arranged. Further, on both sides of the scanning side driving circuits 105 and 105, a driving circuit control signal wiring 105a and a driving circuit power wiring 105b connected to the scanning side driving circuits 105 and 105 are provided. On the upper side of the display area 2a in the figure, an inspection circuit 106 for inspecting the quality and defects of the display device during manufacturing or at the time of shipment is arranged.

図3の断面構成図には、3つの画素領域Aが図示されている。本実施形態の有機EL装置では、基板2上に、TFTなどの回路等が形成された回路素子部14、有機EL層110が形成された発光素子部11及び陰極12が順次積層されて構成されており、有機EL層110から基板2側に発せられた光が、回路素子部14及び基板2を透過して基板2の下側(観測者側)に出射されるとともに、有機EL層110から基板2の反対側に発せられた光が陰極12により反射されて、回路素子部14及び基板2を透過して基板2の下側(観測者側)に出射されるようになっている。なお、上記陰極12として、透明な材料を用いるならば、陰極側から発光する光を出射させることができる。透明な陰極材料としては、ITO(インジウムスズ酸化物)、Pt、Ir、Ni、もしくはPdを挙げることができる。   In the cross-sectional configuration diagram of FIG. 3, three pixel regions A are illustrated. In the organic EL device of this embodiment, a circuit element unit 14 in which circuits such as TFTs are formed, a light emitting element unit 11 in which an organic EL layer 110 is formed, and a cathode 12 are sequentially stacked on a substrate 2. The light emitted from the organic EL layer 110 to the substrate 2 side passes through the circuit element unit 14 and the substrate 2 and is emitted to the lower side (observer side) of the substrate 2 and from the organic EL layer 110. Light emitted to the opposite side of the substrate 2 is reflected by the cathode 12, passes through the circuit element unit 14 and the substrate 2, and is emitted to the lower side (observer side) of the substrate 2. If a transparent material is used as the cathode 12, light emitted from the cathode side can be emitted. Examples of the transparent cathode material include ITO (indium tin oxide), Pt, Ir, Ni, or Pd.

回路素子部14には、基板2上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜2cが形成され、この下地保護膜2c上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜141が形成されている。半導体膜141には、ソース領域141a及びドレイン領域141bが高濃度リンイオン打ち込みにより形成されている。前記リンイオンが導入されなかった部分がチャネル領域141cとなっている。   In the circuit element portion 14, a base protective film 2c made of a silicon oxide film is formed on the substrate 2, and an island-shaped semiconductor film 141 made of polycrystalline silicon is formed on the base protective film 2c. In the semiconductor film 141, a source region 141a and a drain region 141b are formed by high concentration phosphorus ion implantation. A portion where the phosphorus ions are not introduced is a channel region 141c.

また、前記下地保護膜2c及び半導体膜141を覆う透明なゲート絶縁膜142が形成され、ゲート絶縁膜142上にはAl、Mo、Ta、Ti、W等からなるゲート電極143(走査線101)が形成され、ゲート電極143及びゲート絶縁膜142上には透明な第1層間絶縁膜144aと第2層間絶縁膜144bが形成されている。ゲート電極143は半導体膜141のチャネル領域141cに対応する位置に設けられている。また、第1、第2層間絶縁膜144a、144bを貫通して、半導体膜141のソース、ドレイン領域141a、141bにそれぞれ接続されるコンタクトホール145,146が形成されている。   Further, a transparent gate insulating film 142 covering the base protective film 2c and the semiconductor film 141 is formed, and a gate electrode 143 (scanning line 101) made of Al, Mo, Ta, Ti, W or the like is formed on the gate insulating film 142. A transparent first interlayer insulating film 144a and a second interlayer insulating film 144b are formed on the gate electrode 143 and the gate insulating film 142. The gate electrode 143 is provided at a position corresponding to the channel region 141c of the semiconductor film 141. In addition, contact holes 145 and 146 are formed through the first and second interlayer insulating films 144a and 144b and connected to the source and drain regions 141a and 141b of the semiconductor film 141, respectively.

そして、第2層間絶縁膜144b上には、ITO等からなる透明な画素電極111が所定の形状にパターニングされて形成され、一方のコンタクトホール145がこの画素電極111に接続されている。また、もう一方のコンタクトホール146が電源線103に接続されている。このようにして、回路素子部14には、各画素電極111に接続された駆動用の薄膜トランジスタ123が形成されている。   On the second interlayer insulating film 144b, a transparent pixel electrode 111 made of ITO or the like is formed by patterning into a predetermined shape, and one contact hole 145 is connected to the pixel electrode 111. The other contact hole 146 is connected to the power supply line 103. In this way, the driving thin film transistor 123 connected to each pixel electrode 111 is formed in the circuit element unit 14.

発光素子部11は、複数の画素電極111…上の各々に積層された有機EL層110と、各画素電極111及び有機EL層110の間に備えられて各有機EL層110を区画するバンク(隔壁)部112とを主体として構成されている。有機EL層110上には陰極12が配置されている。これら画素電極111、有機EL層110及び陰極12によって発光素子が構成されている。ここで、画素電極111は、例えばITOにより形成されてなり、平面視略矩形状にパターン形成されている。この各画素電極111…を仕切る形にてバンク部112が備えられている。   The light emitting element unit 11 includes an organic EL layer 110 stacked on each of the plurality of pixel electrodes 111... And a bank (dividing each organic EL layer 110 provided between each pixel electrode 111 and the organic EL layer 110. The partition wall 112 is a main component. A cathode 12 is disposed on the organic EL layer 110. The pixel electrode 111, the organic EL layer 110, and the cathode 12 constitute a light emitting element. Here, the pixel electrode 111 is made of, for example, ITO, and is patterned in a substantially rectangular shape in plan view. Bank sections 112 are provided so as to partition the pixel electrodes 111.

バンク部112は、図3に示すように、基板2側に位置する第1隔壁部としての無機物バンク層(第1バンク層)112aと、基板2から離れて位置する第2隔壁部としての有機物バンク層(第2バンク層)112bとが積層された構成を備えている。無機物バンク層112aは、例えばTiOやSiO等により形成され、有機物バンク層112bは、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等により形成される。 As shown in FIG. 3, the bank 112 includes an inorganic bank layer (first bank layer) 112a as a first partition located on the substrate 2 side, and an organic substance as a second partition located away from the substrate 2. A bank layer (second bank layer) 112b is stacked. The inorganic bank layer 112a is formed of, for example, TiO 2 or SiO 2 , and the organic bank layer 112b is formed of, for example, an acrylic resin or a polyimide resin.

無機物バンク層112a及び有機物バンク層112bは、画素電極111の周縁部上に乗り上げるように形成されている。平面的には、画素電極111の周囲と無機物バンク層112aとが部分的に重なるように配置された構造となっている。また、有機物バンク層112bも同様であり、画素電極111の一部と平面的に重なるように配置されている。また無機物バンク層112aは、有機物バンク層112bの縁端よりも画素電極111の中央側に更に突出するように形成されている。このようにして、無機物バンク層112aの各第1積層部(突出部)112eが画素電極111の内側に形成されることにより、画素電極111の形成位置に対応する下部開口部112cが設けられている。   The inorganic bank layer 112 a and the organic bank layer 112 b are formed so as to run on the peripheral edge of the pixel electrode 111. In plan view, the periphery of the pixel electrode 111 and the inorganic bank layer 112a are arranged so as to partially overlap. The same applies to the organic bank layer 112b, and the organic bank layer 112b is disposed so as to overlap a part of the pixel electrode 111 in a planar manner. The inorganic bank layer 112a is formed so as to protrude further toward the center of the pixel electrode 111 than the edge of the organic bank layer 112b. In this manner, each first stacked portion (projecting portion) 112e of the inorganic bank layer 112a is formed inside the pixel electrode 111, so that a lower opening 112c corresponding to the formation position of the pixel electrode 111 is provided. Yes.

また、有機物バンク層112bには、上部開口部112dが形成されている。この上部開口部112dは、画素電極111の形成位置及び下部開口部112cに対応するように設けられている。上部開口部112dは、図3に示すように、下部開口部112cより間口が広く、画素電極111より狭く形成されている。また、上部開口部112dの上部の位置と、画素電極111の端部とがほぼ同じ位置になるように形成される場合もある。この場合は、図3に示すように、有機物バンク層112bの上部開口部112dの断面が傾斜した形状となる。このようにして、バンク部112には、下部開口部112c及び上部開口部112dが連通された開口部112gが形成されている。   An upper opening 112d is formed in the organic bank layer 112b. The upper opening 112d is provided so as to correspond to the formation position of the pixel electrode 111 and the lower opening 112c. As shown in FIG. 3, the upper opening 112 d has a wider opening than the lower opening 112 c and is narrower than the pixel electrode 111. In some cases, the upper position of the upper opening 112d and the end of the pixel electrode 111 are substantially the same position. In this case, as shown in FIG. 3, the upper opening 112d of the organic bank layer 112b has an inclined cross section. In this way, the bank 112 has an opening 112g in which the lower opening 112c and the upper opening 112d communicate with each other.

また、バンク部112には、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域が形成されている。親液性を示す領域は、無機物バンク層112aの第1積層部112e及び画素電極111の電極面であり、これらの領域は、酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理されている。また、撥液性を示す領域は、上部開口部112dの壁面及び有機物バンク層112の上面112fであり、これらの領域は、テトラフルオロメタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理(撥液性に処理)されている。   In the bank portion 112, a region showing lyophilicity and a region showing liquid repellency are formed. The region showing lyophilicity is the first stacked portion 112e of the inorganic bank layer 112a and the electrode surface of the pixel electrode 111, and these regions are surface-treated lyophilically by plasma treatment using oxygen as a processing gas. Yes. The regions exhibiting liquid repellency are the wall surface of the upper opening 112d and the upper surface 112f of the organic bank layer 112. The surface of these regions is fluorinated (plasma repellent) by plasma treatment using tetrafluoromethane as a processing gas. Processed liquid).

有機EL層110は、画素電極111上に積層された正孔注入/輸送層110aと、正孔注入/輸送層110a上に隣接して形成された発光層110bとから構成されている。
正孔注入/輸送層110aは、発光層110bに正孔を注入する機能を有するとともに、正孔注入/輸送層110a内部において正孔を輸送する機能を有する。このような正孔注入/輸送層110aを画素電極111と発光層110bの間に設けることにより、発光層110bの発光効率、寿命等の素子特性が向上する。また、発光層110bでは、正孔注入/輸送層110aから注入された正孔と、陰極12から注入される電子が再結合し、発光が行われる。
The organic EL layer 110 includes a hole injection / transport layer 110a laminated on the pixel electrode 111 and a light emitting layer 110b formed adjacent to the hole injection / transport layer 110a.
The hole injection / transport layer 110a has a function of injecting holes into the light emitting layer 110b and a function of transporting holes inside the hole injection / transport layer 110a. By providing such a hole injecting / transporting layer 110a between the pixel electrode 111 and the light emitting layer 110b, device characteristics such as light emitting efficiency and life of the light emitting layer 110b are improved. Further, in the light emitting layer 110b, the holes injected from the hole injection / transport layer 110a and the electrons injected from the cathode 12 are recombined to emit light.

正孔注入/輸送層110aは、下部開口部112c内に位置して画素電極111上に形成されている。また、発光層110bは、正孔注入/輸送層110a上に形成されており、その厚さが50nm〜80nmの範囲とされている。発光層110bは、赤色(R)に発光する赤色発光層110b1、緑色(G)に発光する緑色発光層110b2、及び青色(B)に発光する青色発光層110b3の3種類を有し、図2に示したように、各発光層110b1〜110b3がストライプ配置されている。そして、図3に示すように、赤色発光層110b1は赤色画素ARを、緑色発光層110b2は緑色画素AGを、青色発光層110b3は青色画素ABを構成している。   The hole injection / transport layer 110a is formed on the pixel electrode 111 in the lower opening 112c. The light emitting layer 110b is formed on the hole injection / transport layer 110a and has a thickness in the range of 50 nm to 80 nm. The light emitting layer 110b has three types, a red light emitting layer 110b1 that emits red (R), a green light emitting layer 110b2 that emits green (G), and a blue light emitting layer 110b3 that emits blue (B). As shown in FIG. 5, the light emitting layers 110b1 to 110b3 are arranged in stripes. As shown in FIG. 3, the red light emitting layer 110b1 forms a red pixel AR, the green light emitting layer 110b2 forms a green pixel AG, and the blue light emitting layer 110b3 forms a blue pixel AB.

なお、正孔注入/輸送層110aを形成する材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸等の混合物を用いることができる。また、発光層110bを形成する材料としては、例えば、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、またはこれらの高分子材料にルブレン、ペリレン、9,10-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等をドープして用いることができる。このような材料の採用により、正孔注入/輸送層110aは水溶性(親水性)を示す一方、発光層110bは油溶性(疎水性)を示すこととなる。   As a material for forming the hole injection / transport layer 110a, for example, a mixture of a polythiophene derivative such as polyethylenedioxythiophene and polystyrene sulfonic acid can be used. Examples of the material for forming the light emitting layer 110b include (poly) paraphenylene vinylene derivatives, polyphenylene derivatives, polyfluorene derivatives, polyvinyl carbazole, polythiophene derivatives, perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, or these. The polymer material can be doped with rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, quinacridone, and the like. By adopting such a material, the hole injection / transport layer 110a exhibits water solubility (hydrophilicity), while the light emitting layer 110b exhibits oil solubility (hydrophobicity).

陰極12は、発光素子部11の全面に形成されており、画素電極111と対になって有機EL層110に電流を流す役割を果たす。この陰極12は、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。このとき、発光層に近い側の陰極には仕事関数が低いものを設けることが好ましく、特にこの形態においては発光層110bに直接に接して発光層110bに電子を注入する役割を果たす。   The cathode 12 is formed on the entire surface of the light emitting element portion 11 and plays a role of flowing a current through the organic EL layer 110 in a pair with the pixel electrode 111. For example, the cathode 12 is formed by laminating a calcium layer and an aluminum layer. At this time, it is preferable to provide a cathode having a low work function on the cathode near the light emitting layer, and in this embodiment, in particular, it plays a role of injecting electrons into the light emitting layer 110b in direct contact with the light emitting layer 110b.

また、発光層110bと陰極12との間に発光効率を高めるためのLiFを形成する場合もある。なお、赤色及び緑色の発光層110b1、1110b2にはフッ化リチウムに限らず、他の材料を用いても良い。従ってこの場合は青色(B)発光層110b3のみにフッ化リチウムからなる層を形成し、他の赤色及び緑色の発光層110b1、110b2にはフッ化リチウム以外のものを積層しても良い。また、赤色及び緑色の発光層110b1、110b2上にはフッ化リチウムを形成せず、カルシウムのみを形成しても良い。   In some cases, LiF for increasing the light emission efficiency is formed between the light emitting layer 110 b and the cathode 12. The red and green light emitting layers 110b1 and 1110b2 are not limited to lithium fluoride, and other materials may be used. Therefore, in this case, a layer made of lithium fluoride may be formed only on the blue (B) light emitting layer 110b3, and layers other than lithium fluoride may be laminated on the other red and green light emitting layers 110b1 and 110b2. Alternatively, only calcium may be formed on the red and green light emitting layers 110b1 and 110b2 without forming lithium fluoride.

また、陰極12を形成するアルミニウムは、発光層110bから発した光を基板2側に反射させるもので、Al膜の他、Ag膜、AlとAgの積層膜等からなることが好ましい。更にアルミニウム上にSiO、SiO、SiN等からなる酸化防止用の保護層を設けても良い。 The aluminum forming the cathode 12 reflects light emitted from the light emitting layer 110b toward the substrate 2, and is preferably made of an Ag film, an Al / Ag laminated film, or the like in addition to the Al film. Furthermore, an antioxidant protective layer made of SiO, SiO 2 , SiN or the like may be provided on aluminum.

図3に示す発光素子部11上には、実際の有機EL装置では封止部が備えられる。この封止部は、例えば基板2の周囲に環状に封止樹脂を塗布し、さらに封止缶により封止することにより形成することができる。前記封止樹脂は、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等からなり、特に、熱硬化樹脂の1種であるエポキシ樹脂よりなることが好ましい。この封止部は、陰極12または発光素子部11内に形成された発光層の酸化を防止する目的で設けられる。また、前記封止缶の内側には水、酸素等を吸収するゲッター剤を設け、封止缶の内部に侵入した水又は酸素を吸収できるようにしてもよい。   In the actual organic EL device, a sealing portion is provided on the light emitting element portion 11 shown in FIG. The sealing portion can be formed by, for example, applying a sealing resin in a ring shape around the substrate 2 and further sealing with a sealing can. The sealing resin is made of a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, or the like, and is particularly preferably made of an epoxy resin that is a kind of thermosetting resin. This sealing portion is provided for the purpose of preventing oxidation of the light emitting layer formed in the cathode 12 or the light emitting element portion 11. Further, a getter agent that absorbs water, oxygen, or the like may be provided inside the sealing can so that water or oxygen that has entered the sealing can can be absorbed.

(有機EL装置の製造方法)
次に、上記有機EL装置を製造する方法について図面を参照して説明する。
本実施形態の製造方法は、(1)バンク部形成工程、(2)バンク部表面処理工程(撥液化工程)、(3)正孔注入/輸送層形成工程、(4)発光層形成工程、(5)陰極形成工程及び(6)封止工程等を有する。
なお、ここで説明する製造方法は一例であって、必要に応じてその他の工程が追加されたり、上記の工程の一部が除かれたりする。また、(3)正孔注入/輸送層形成工程、(4)発光層形成工程は、液滴吐出装置を用いた液体吐出法(インクジェット法)を用いて行われる。
(Method for manufacturing organic EL device)
Next, a method for manufacturing the organic EL device will be described with reference to the drawings.
The manufacturing method of the present embodiment includes (1) a bank portion forming step, (2) a bank portion surface treatment step (liquid repellency step), (3) a hole injection / transport layer forming step, (4) a light emitting layer forming step, (5) It has a cathode forming step and (6) a sealing step.
In addition, the manufacturing method demonstrated here is an example, Comprising: Another process is added as needed, A part of said process is removed. The (3) hole injection / transport layer forming step and (4) light emitting layer forming step are performed using a liquid discharge method (inkjet method) using a droplet discharge device.

(1)バンク部形成工程
バンク部形成工程では、基板2の所定位置に図4に示すようなバンク部112を形成する。バンク部112は、第1のバンク層として無機物バンク層112aが形成され、第2のバンク層として有機物バンク層112bが形成された構造を有している。なお、基板2には、薄膜トランジスタ(TFT)123及びこれに接続された画素電極111を予め形成しておくものとする。
(1) Bank Portion Forming Step In the bank portion forming step, a bank portion 112 as shown in FIG. The bank part 112 has a structure in which an inorganic bank layer 112a is formed as a first bank layer, and an organic bank layer 112b is formed as a second bank layer. Note that a thin film transistor (TFT) 123 and a pixel electrode 111 connected thereto are formed in advance on the substrate 2.

(1)−1 無機物バンク層112aの形成
まず、図4に示すように、基板上の所定位置に無機物バンク層112aを形成する。無機物バンク層112aが形成される位置は、第2層間絶縁膜144b及び画素電極111上である。なお、第2層間絶縁膜144bは薄膜トランジスタ、走査線、信号線、等が配置された回路素子部14上に形成されている。無機物バンク層112aは、例えば、SiO、TiO等の無機物材料にて構成することができる。これらの材料は、例えばCVD法、コート法、スパッタ法、蒸着法等によって形成される。更に、無機物バンク層112aの膜厚は50nm〜200nmの範囲が好ましく、特に150nmがよい。
(1) -1 Formation of Inorganic Bank Layer 112a First, as shown in FIG. 4, the inorganic bank layer 112a is formed at a predetermined position on the substrate. The position where the inorganic bank layer 112 a is formed is on the second interlayer insulating film 144 b and the pixel electrode 111. The second interlayer insulating film 144b is formed on the circuit element portion 14 in which a thin film transistor, a scanning line, a signal line, and the like are arranged. The inorganic bank layer 112a can be made of an inorganic material such as SiO 2 or TiO 2 , for example. These materials are formed by, for example, a CVD method, a coating method, a sputtering method, a vapor deposition method, or the like. Furthermore, the film thickness of the inorganic bank layer 112a is preferably in the range of 50 nm to 200 nm, particularly 150 nm.

無機物バンク層112aは、層間絶縁層144及び画素電極111の全面に無機物膜を形成し、その後無機物膜をフォトリソグラフィ法等によりパターニングすることにより、開口部(下部開口部112c)を有する形にて形成される。なお、このとき、無機物バンク層112aは画素電極111の周縁部と一部重なるように形成され、これにより有機EL層110の平面的な発光領域が制御される。   The inorganic bank layer 112a has an opening (lower opening 112c) by forming an inorganic film on the entire surface of the interlayer insulating layer 144 and the pixel electrode 111 and then patterning the inorganic film by a photolithography method or the like. It is formed. At this time, the inorganic bank layer 112 a is formed so as to partially overlap with the peripheral edge of the pixel electrode 111, thereby controlling the planar light emitting region of the organic EL layer 110.

(1)−2 有機物バンク層112bの形成
次に、第2のバンク層としての有機物バンク層112bを形成する。
具体的には、図4に示すように、無機物バンク層112a上に有機物バンク層112bを形成する。有機物バンク層112bを構成する材料として、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶剤性を有する材料を用いる。これらの材料を用い、有機物バンク層112bをフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。なお、パターニングする際、有機物バンク層112bに上部開口部112dを形成する。
(1) -2 Formation of Organic Bank Layer 112b Next, an organic bank layer 112b as a second bank layer is formed.
Specifically, as shown in FIG. 4, the organic bank layer 112b is formed on the inorganic bank layer 112a. As the material constituting the organic bank layer 112b, a material having heat resistance and solvent resistance such as acrylic resin and polyimide resin is used. Using these materials, the organic bank layer 112b is formed by patterning using a photolithography technique or the like. When patterning, an upper opening 112d is formed in the organic bank layer 112b.

上部開口部112dは、図4に示すように、無機物バンク層112aに形成された下部開口部112cより広く形成する事が好ましい。更に、有機物バンク層112bは断面形状がテーパー状をなすことが好ましく、有機物バンク層112bの最底面では画素電極111の幅より狭く、有機物バンク層112bの最上面では画素電極111の幅とほぼ同一の幅に形成する事が好ましい。これにより、無機物バンク層112aの下部開口部112cを囲む第1積層部112eが、有機物バンク層112bよりも画素電極111の中央側に突出された形になる。このようにして、有機物バンク層112bに形成された上部開口部112d、無機物バンク層112aに形成された下部開口部112cを連通させることにより、無機物バンク層112a及び有機物バンク層112bを貫通する開口部112gが形成される。   As shown in FIG. 4, the upper opening 112d is preferably formed wider than the lower opening 112c formed in the inorganic bank layer 112a. Furthermore, the organic bank layer 112b preferably has a tapered cross-sectional shape. The bottom surface of the organic bank layer 112b is narrower than the width of the pixel electrode 111, and the top surface of the organic bank layer 112b is substantially the same as the width of the pixel electrode 111. It is preferable to form in the width. As a result, the first stacked portion 112e surrounding the lower opening 112c of the inorganic bank layer 112a protrudes toward the center of the pixel electrode 111 from the organic bank layer 112b. In this manner, the upper opening 112d formed in the organic bank layer 112b and the lower opening 112c formed in the inorganic bank layer 112a are connected to each other, thereby opening the inorganic bank layer 112a and the organic bank layer 112b. 112g is formed.

また、有機物バンク層112bの厚さは、0.1μm〜3.5μmの範囲が好ましく、特に2μm程度がよい。このような範囲とする理由は以下の通りである。
すなわち、厚さが0.1μm未満では、後述する正孔注入/輸送層110a及び発光層110bの合計厚より有機物バンク層112bが薄くなり、発光層110bが上部開口部112dから溢れてしまうおそれがあるので好ましくない。また、厚さが3.5μmを超えると、上部開口部112dによる段差が大きくなり、上部開口部112dにおける陰極12のステップカバレッジが確保できなくなるので好ましくない。また、有機物バンク層112bの厚さを2μm以上とすれば、陰極12と駆動用の薄膜トランジスタ123との絶縁を高めることができる点で好ましい。
The thickness of the organic bank layer 112b is preferably in the range of 0.1 μm to 3.5 μm, and particularly preferably about 2 μm. The reason for this range is as follows.
That is, when the thickness is less than 0.1 μm, the organic bank layer 112b becomes thinner than the total thickness of the hole injection / transport layer 110a and the light emitting layer 110b described later, and the light emitting layer 110b may overflow from the upper opening 112d. This is not preferable. On the other hand, if the thickness exceeds 3.5 μm, the step due to the upper opening 112d becomes large, and step coverage of the cathode 12 in the upper opening 112d cannot be secured, which is not preferable. Further, if the thickness of the organic bank layer 112b is 2 μm or more, it is preferable in that the insulation between the cathode 12 and the driving thin film transistor 123 can be enhanced.

(2)バンク部表面処理工程
さらに、形成されたバンク部112、及び画素電極111の表面は、プラズマ処理により適切な表面処理が施される。具体的には、バンク部112表面の撥液化処理、及び画素電極111の親液化処理を行う。
(2) Bank part surface treatment process Furthermore, the surface of the formed bank part 112 and the pixel electrode 111 is subjected to an appropriate surface treatment by plasma treatment. Specifically, a lyophobic process on the surface of the bank unit 112 and a lyophilic process for the pixel electrode 111 are performed.

まず、画素電極111の表面処理は、酸素ガスを用いたOプラズマ処理により行うことができ、例えばプラズマパワー100kW〜800kW、酸素ガス流量50ml/min〜100ml/min、板搬送速度0.5mm/sec〜10mm/sec、基板温度70℃〜90℃の条件で処理することで、画素電極111表面を含む領域を親液化することができる。また、このOプラズマ処理により画素電極111表面の洗浄、及び仕事関数の調整も同時に行われる。 First, the surface treatment of the pixel electrode 111 can be performed by O 2 plasma treatment using oxygen gas, for example, plasma power 100 kW to 800 kW, oxygen gas flow rate 50 ml / min to 100 ml / min, plate conveyance speed 0.5 mm / min. By processing under conditions of sec to 10 mm / sec and a substrate temperature of 70 ° C. to 90 ° C., the region including the surface of the pixel electrode 111 can be made lyophilic. Moreover, the cleaning of the surface of the pixel electrode 111 and the adjustment of the work function are simultaneously performed by this O 2 plasma treatment.

次いで、バンク部112の表面処理は、テトラフルオロメタンを用いたCFプラズマ処理により行うことができ、例えばプラズマパワー100kW〜800kW、テトラフルオロメタンガス流量50ml/min〜100ml/min、基板搬送速度0.5mm/sec〜10mm/sec、基板温度70℃〜90℃の条件で処理することで、バンク部112の上部開口部112d及び上面112fを撥液化することができる。 Next, the surface treatment of the bank portion 112 can be performed by CF 4 plasma treatment using tetrafluoromethane. For example, the plasma power is 100 kW to 800 kW, the tetrafluoromethane gas flow rate is 50 ml / min to 100 ml / min, the substrate transport speed is 0. By performing the treatment under conditions of 5 mm / sec to 10 mm / sec and a substrate temperature of 70 ° C. to 90 ° C., the upper opening 112d and the upper surface 112f of the bank 112 can be made liquid repellent.

(3)正孔注入/輸送層形成工程
次に、発光素子を形成するために、まず画素電極111上に正孔注入/輸送層を形成する。本実施の形態の正孔注入/輸送層形成工程では、インクジェット法を採用しているが、スピンコート法等、その他の液相による塗布法を採用することができる。
(3) Hole Injection / Transport Layer Formation Step Next, a hole injection / transport layer is first formed on the pixel electrode 111 in order to form a light emitting element. In the hole injection / transport layer forming step of the present embodiment, an ink jet method is employed, but other liquid phase coating methods such as a spin coating method can be employed.

上述した通り、正孔注入/輸送層形成工程ではインクジェット法により、つまり液滴吐出装置として例えばインクジェット装置を用いることにより、正孔注入/輸送層形成材料を含む液状組成物を画素電極111上に吐出する。その後に乾燥処理及び熱処理を行い、画素電極111上に正孔注入/輸送層110aを形成する。本工程で用いる液状組成物としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン(NMP)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。   As described above, in the hole injecting / transporting layer forming step, a liquid composition containing the hole injecting / transporting layer forming material is applied onto the pixel electrode 111 by an ink jet method, that is, by using, for example, an ink jet device as a droplet discharge device. Discharge. Thereafter, a drying process and a heat treatment are performed to form the hole injection / transport layer 110 a on the pixel electrode 111. As the liquid composition used in this step, for example, a composition obtained by dissolving a mixture of a polythiophene derivative such as polyethylenedioxythiophene (PEDOT) and polystyrenesulfonic acid (PSS) in a polar solvent can be used. Examples of the polar solvent include isopropyl alcohol (IPA), normal butanol, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone (NMP), 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI) and its derivatives, carbitol acetate And glycol ethers such as butyl carbitol acetate.

より具体的な組成としては、PEDOT/PSS混合物(PEDOT/PSS=1:20):12.52重量%、IPA:10重量%、NMP:27.48重量%、DMI:50重量%のものを例示できる。なお、上記液状組成物の粘度は1mPa・s〜20mPa・s程度が好ましく、特に4mPa・s〜15mPa・s程度が良い。   As a more specific composition, a PEDOT / PSS mixture (PEDOT / PSS = 1: 20): 12.52% by weight, IPA: 10% by weight, NMP: 27.48% by weight, DMI: 50% by weight It can be illustrated. The viscosity of the liquid composition is preferably about 1 mPa · s to 20 mPa · s, particularly about 4 mPa · s to 15 mPa · s.

吐出された組成物の液滴110cは、図5に示すように、親液処理された画素電極111上に広がり、下部、上部開口部112c、112d内に充填される。仮に、第1組成物滴110cが所定の吐出位置から外れて上面112f上に吐出されたとしても、上面112fが第1組成物滴110cで濡れることがなく、弾かれた第1組成物滴110cが下部、上部開口部112c、112d内に転がり込む。   As shown in FIG. 5, the discharged droplets 110c of the composition spread on the lyophilic pixel electrode 111 and fill the lower and upper openings 112c and 112d. Even if the first composition droplet 110c deviates from the predetermined ejection position and is ejected onto the upper surface 112f, the upper surface 112f is not wetted by the first composition droplet 110c, and the repelled first composition droplet 110c. Rolls into the lower and upper openings 112c and 112d.

画素電極111上に吐出する組成物の量は、下部、上部開口部112c、112dの大きさ、形成しようとする正孔注入/輸送層の厚さ、液状組成物中の正孔注入/輸送層形成材料の濃度等により決定される。また、液状組成物の液滴110cは1回のみならず、数回に分けて同一の画素電極111上に吐出しても良い。この場合、各回における液状組成物の量は同一でも良く、各回毎に液状組成物を変えても良い。更に電極111の同一箇所のみならず、各回毎に電極111内の異なる箇所に前記液状組成物を吐出しても良い。   The amount of the composition discharged onto the pixel electrode 111 is the size of the lower and upper openings 112c and 112d, the thickness of the hole injection / transport layer to be formed, and the hole injection / transport layer in the liquid composition. It is determined by the concentration of the forming material. Further, the liquid composition droplet 110c may be ejected on the same pixel electrode 111 not only once but also several times. In this case, the amount of the liquid composition at each time may be the same, and the liquid composition may be changed every time. Furthermore, you may discharge the said liquid composition not only to the same location of the electrode 111 but to the different location in the electrode 111 each time.

次に、図6に示すような乾燥工程を行う。つまり、吐出後の第1組成物を乾燥処理し、第1組成物に含まれる溶媒を蒸発させ、正孔注入/輸送層110aを形成する。乾燥処理を行うと、液状組成物に含まれる溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層112a及び有機物バンク層112bに近いところで起き、溶媒の蒸発に併せて正孔注入/輸送層形成材料が濃縮されて析出する。これにより図6に示すように、画素電極111上に正孔注入/輸送層110aが形成される。   Next, a drying process as shown in FIG. 6 is performed. That is, the first composition after discharge is dried, the solvent contained in the first composition is evaporated, and the hole injection / transport layer 110a is formed. When the drying process is performed, the evaporation of the solvent contained in the liquid composition mainly occurs near the inorganic bank layer 112a and the organic bank layer 112b, and the hole injection / transport layer forming material is concentrated along with the evaporation of the solvent. To precipitate. As a result, as shown in FIG. 6, the hole injection / transport layer 110 a is formed on the pixel electrode 111.

上記の乾燥処理は、例えば窒素雰囲気中、室温で圧力を例えば133.3Pa(1Torr)程度にして行う。圧力が低すぎると組成物の液滴110cが突沸してしまうので好ましくない。また、温度を室温以上にすると、極性溶媒の蒸発速度が高まり、平坦な膜を形成する事ができない。乾燥処理後は、窒素中、好ましくは真空中で200℃で10分程度加熱する熱処理を行うことで、正孔注入/輸送層110a内に残存する極性溶媒や水を除去することが好ましい。   The drying process is performed, for example, in a nitrogen atmosphere at room temperature and a pressure of, for example, about 133.3 Pa (1 Torr). If the pressure is too low, the composition droplets 110c will bump, which is not preferable. On the other hand, if the temperature is higher than room temperature, the evaporation rate of the polar solvent increases and a flat film cannot be formed. After the drying treatment, it is preferable to remove the polar solvent and water remaining in the hole injecting / transporting layer 110a by performing heat treatment in nitrogen, preferably in vacuum, at 200 ° C. for about 10 minutes.

上記の正孔注入/輸送層形成工程では、吐出された組成物の液滴110cが、下部、上部開口部112c、112d内に満たされる一方で、撥液処理された有機物バンク層112bで液状組成物がはじかれて下部、上部開口部112c、112d内に転がり込む。これにより、吐出した組成物の液滴110cを必ず下部、上部開口部112c、112d内に充填することができ、電極面111a上に正孔注入/輸送層110aを形成することができる。   In the hole injecting / transporting layer forming step, the discharged composition droplet 110c is filled in the lower and upper openings 112c and 112d, while the liquid repellent treated organic bank layer 112b is used as a liquid composition. Objects are repelled and roll into the lower and upper openings 112c and 112d. Thus, the discharged droplets 110c of the composition can be surely filled in the lower and upper openings 112c and 112d, and the hole injection / transport layer 110a can be formed on the electrode surface 111a.

(4)発光層形成工程
発光層形成工程は、発光層形成材料塗布工程及び乾燥工程とからなる。
ここでは、発光層形成材料塗布工程に先立って、上述したバンク部表面処理工程と同様に、図6に示すように形成された正孔注入/輸送層110aの表面を酸素プラズマ処理により親液化する一方、周縁部110a2及びバンク部112表面についてはCFプラズマ処理により撥液化するものとしている。
(4) Light emitting layer forming process The light emitting layer forming process includes a light emitting layer forming material coating process and a drying process.
Here, prior to the light emitting layer forming material application step, the surface of the hole injection / transport layer 110a formed as shown in FIG. 6 is made lyophilic by oxygen plasma treatment, as in the bank surface treatment step described above. On the other hand, the peripheral part 110a2 and the bank part 112 surface are made liquid repellent by CF 4 plasma treatment.

そして、表面処理工程後、前述の正孔注入/輸送層形成工程と同様、インクジェット法により発光層形成用の液状組成物を正孔注入/輸送層110a上に吐出する(第1塗布工程)。その後、吐出した液状組成物を乾燥処理(及び熱処理)して仮塗膜110d(図9参照)を形成する(第1乾燥工程)一方、該仮塗膜110dに対して溶媒を塗布(第2塗布工程)してリペア処理を行い、乾燥後(第2乾燥工程)、正孔注入/輸送層110a上に発光層110bを形成するものとしている。そこで、以下、仮塗膜形成工程及びリペア処理工程について説明する。なお、本実施の形態では、仮塗膜110dの形成とリペア処理の2段階で発光層110bを形成するものとしているが、例えば仮塗膜110dの形成後、リペア処理を2回以上行うものとしても良い。   Then, after the surface treatment step, the liquid composition for forming the light emitting layer is ejected onto the hole injection / transport layer 110a by the ink jet method in the same manner as the hole injection / transport layer formation step described above (first coating step). Thereafter, the discharged liquid composition is dried (and heat-treated) to form a temporary coating 110d (see FIG. 9) (first drying step), while a solvent is applied to the temporary coating 110d (second). A repair process is performed in the coating step, and after drying (second drying step), the light emitting layer 110b is formed on the hole injection / transport layer 110a. Therefore, hereinafter, the temporary coating film forming step and the repair processing step will be described. In the present embodiment, the light emitting layer 110b is formed in two stages of the provisional coating 110d and the repair process. For example, after the provisional coating 110d is formed, the repair process is performed twice or more. Also good.

(4)−1 仮塗膜形成工程(第1塗布工程及び第1乾燥工程)
図7に、仮塗膜形成工程におけるインクジェット法による発光層形成用材料を含む液状組成物(仮塗膜形成用液状組成物)の塗布工程を示す。図示の通り、インクジェットヘッドH5と基板2とを相対的に移動し、インクジェットヘッドに形成された吐出ノズルH6から各色(例えばここでは青色(B))発光層形成材料(発光材料)を含有する液状組成物(仮塗膜形成用液状組成物)が吐出される。吐出の際には、下部、上部開口部112c、112d内に位置する正孔注入/輸送層110aに吐出ノズルを対向させ、インクジェットヘッドH5と基板2とを相対移動させながら仮塗膜形成用液状組成物が吐出される。吐出ノズルH6から吐出される液量は1滴当たりの液量が制御されている。このように液量が制御された液が吐出ノズルから吐出され、仮塗膜形成用液状組成物の液滴を正孔注入/輸送層110a上に吐出する。
(4) -1 Temporary coating film forming step (first coating step and first drying step)
In FIG. 7, the application | coating process of the liquid composition (liquid composition for temporary coating film formation) containing the light emitting layer forming material by the inkjet method in a temporary coating film formation process is shown. As shown in the drawing, a liquid containing a light emitting layer forming material (light emitting material) of each color (for example, blue (B) in this case) is moved from the discharge nozzle H6 formed on the ink jet head relative to the ink jet head H5 and the substrate 2. The composition (liquid composition for forming a temporary coating film) is discharged. At the time of discharge, the discharge nozzle is opposed to the hole injection / transport layer 110a located in the lower and upper openings 112c and 112d, and the liquid for forming a temporary coating film is moved while the inkjet head H5 and the substrate 2 are moved relative to each other. The composition is discharged. The amount of liquid discharged from the discharge nozzle H6 is controlled per drop. The liquid whose amount is controlled in this way is discharged from the discharge nozzle, and droplets of the temporary coating-forming liquid composition are discharged onto the hole injection / transport layer 110a.

本実施形態では、上記青色画素ABに対して青色発光層形成材料を含む仮塗膜形成用液状組成物110e1を配置した後、他の発光層用の仮塗膜形成用液状組成物110f1,110g1の吐出を行う。
つまり、図8に示すように、基板2上に滴下された青色画素AB用の仮塗膜形成用液状組成物110e1を乾燥させることなく、緑色画素AG用の液状組成物110f1及び赤色画素AR用の液状組成物110g1の吐出配置を行うようになっている。このように各色画素AR,AG,ABに対して仮塗膜を形成するための液状組成物110e1〜110g1の滴下を行うに際しては、各色用の液状組成物をそれぞれ充填した複数の吐出ヘッドを、それぞれ独立に走査して基板2上への液状組成物110e1〜110g1の配置を行ってもよく、前記複数の吐出ヘッドを一体的に走査することにより、ほぼ同時に液状組成物110e1〜110g1の配置を行うようにしてもよい。
In this embodiment, after disposing the temporary coating film-forming liquid composition 110e1 containing the blue light-emitting layer forming material for the blue pixel AB, the temporary coating film-forming liquid compositions 110f1 and 110g1 for the other light-emitting layers. Is discharged.
That is, as shown in FIG. 8, the liquid composition 110f1 for the green pixel AG and the red pixel AR are used without drying the temporary coating-forming liquid composition 110e1 for the blue pixel AB dropped on the substrate 2. The liquid composition 110g1 is discharged and arranged. As described above, when the liquid compositions 110e1 to 110g1 for forming a temporary coating film are dropped on the color pixels AR, AG, and AB, a plurality of ejection heads respectively filled with the liquid compositions for the respective colors are used. The liquid compositions 110e1 to 110g1 may be arranged on the substrate 2 by scanning each independently, and the liquid compositions 110e1 to 110g1 are arranged almost simultaneously by scanning the plurality of ejection heads integrally. You may make it perform.

図8に示すように、吐出された各液状組成物110e1〜110g1は、正孔注入/輸送層110a上の全面に広がって下部、上部開口部112c、112d内に満たされる。その一方で、撥液処理された上面112fでは各液状組成物110e1〜110g1が所定の吐出位置から外れて上面112f上に吐出されたとしても、上面112fが液状組成物110e1〜110g1で濡れることがなく、液状組成物110e1〜110g1が下部、上部開口部112c、112d内に転がり込む。   As shown in FIG. 8, the discharged liquid compositions 110e1 to 110g1 spread over the entire surface of the hole injection / transport layer 110a and fill the lower and upper openings 112c and 112d. On the other hand, even if the liquid compositions 110e1 to 110g1 are discharged from the predetermined discharge position on the upper surface 112f on the upper surface 112f subjected to the liquid repellent treatment, the upper surface 112f may get wet with the liquid compositions 110e1 to 110g1. The liquid compositions 110e1 to 110g1 roll into the lower and upper openings 112c and 112d.

各正孔注入/輸送層110a上に吐出する液状組成物量は、下部、上部開口部112c、112dの大きさ、形成しようとする発光層110bの厚さ、液状組成物中の発光層材料の濃度等により決定される。なお、ここでは、発光層を形成するのに必要十分な量の液状組成物を吐出するものとしており、つまり仮塗膜を形成する発光層形成材料(発光材料)のみで発光層110bが形成されるものとなる。また、液状組成物110e1〜110g1は1回のみならず、数回に分けて同一の正孔注入/輸送層110a上に吐出しても良い。この場合、各回における液状組成物の量は同一でも良く、各回毎に液状組成物の液量を変えても良い。更に正孔注入/輸送層110aの同一箇所のみならず、各回毎に正孔注入/輸送層110a内の異なる箇所に液状組成物を吐出配置しても良い。   The amount of the liquid composition discharged onto each hole injection / transport layer 110a is the size of the lower and upper openings 112c and 112d, the thickness of the light emitting layer 110b to be formed, and the concentration of the light emitting layer material in the liquid composition. Etc. Here, a sufficient amount of the liquid composition necessary for forming the light emitting layer is discharged, that is, the light emitting layer 110b is formed only from the light emitting layer forming material (light emitting material) for forming the temporary coating film. Will be. Further, the liquid compositions 110e1 to 110g1 may be discharged not only once but also several times onto the same hole injection / transport layer 110a. In this case, the amount of the liquid composition at each time may be the same, and the amount of the liquid composition may be changed every time. Furthermore, the liquid composition may be discharged and arranged not only at the same location of the hole injection / transport layer 110a but also at different locations within the hole injection / transport layer 110a each time.

発光層形成材料としては、ポリフルオレン系高分子誘導体や、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機EL材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等をドープすることにより用いることができる。そして、これら発光層形成材料を溶解ないし分散させるための溶媒は、各色毎に同じ種類のもの、具体的にはトリメチルベンゼンとキシレンとの混合溶媒(トリメチルベンゼン:キシレン=5:5(体積比))を用いた。   Examples of the light emitting layer forming material include polyfluorene polymer derivatives, (poly) paraphenylene vinylene derivatives, polyphenylene derivatives, polyvinyl carbazole, polythiophene derivatives, perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, and organic polymers mentioned above. An EL material can be used after being doped. For example, it can be used by doping rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, quinacridone and the like. The solvent for dissolving or dispersing these light emitting layer forming materials is the same type for each color, specifically, a mixed solvent of trimethylbenzene and xylene (trimethylbenzene: xylene = 5: 5 (volume ratio)). ) Was used.

次に、上記各色画素AR,AG,ABの仮塗膜形成用液状組成物110e1〜110g1を所定の位置に配置し終えた後、一括に乾燥処理することにより仮塗膜110d1〜110d3が正孔注入/輸送層110a上の全面に形成される。すなわち、乾燥により液状組成物110e1〜110g1に含まれる溶媒が蒸発し、図9に示すような赤色(R)仮塗膜110d1、緑色(G)仮塗膜110d2、青色(B)仮塗膜110d3が形成される。   Next, after the liquid compositions 110e1 to 110g1 for forming the temporary coating film of the respective color pixels AR, AG, and AB have been arranged at predetermined positions, the temporary coating films 110d1 to 110d3 are formed into holes by performing a drying process at once. It is formed on the entire surface of the injection / transport layer 110a. That is, the solvent contained in the liquid compositions 110e1 to 110g1 is evaporated by drying, and the red (R) temporary coating 110d1, the green (G) temporary coating 110d2, and the blue (B) temporary coating 110d3 as shown in FIG. Is formed.

また、各仮塗膜形成用液状組成物110e1〜110g1の乾燥は、真空乾燥により行うことが好ましく、具体例を挙げるならば、窒素雰囲気中、室温で圧力を133.3Pa(1Torr)程度とした条件により行うことができる。圧力が低すぎると液状組成物110e1〜110g1が突沸してしまうので好ましくない。また、温度を室温以上にすると、溶媒の蒸発速度が高まり、仮塗膜形成材料(すなわち発光層形成材料)が上部開口部112d壁面に多く付着してしまうので好ましくない。   Moreover, it is preferable to dry each liquid composition 110e1-110g1 for temporary coating film formation by vacuum drying, and if a specific example is given, the pressure shall be about 133.3Pa (1 Torr) at room temperature in nitrogen atmosphere. It can be performed depending on conditions. If the pressure is too low, the liquid compositions 110e1 to 110g1 are bumped, which is not preferable. Further, when the temperature is set to room temperature or higher, the evaporation rate of the solvent is increased, and a large amount of the temporary coating film forming material (that is, the light emitting layer forming material) adheres to the wall surface of the upper opening 112d.

なお、この仮塗膜形成工程では、塗布性向上を図るために、各色仮塗膜毎に同じ種類の溶媒(共通溶媒)を用いて仮塗膜を形成しており、その結果、図9に示すように各色の仮塗膜110d1〜110d3はそれぞれ異なる膜形状を備えることとなる。つまり、各色の発光層形成材料について、上記共通溶媒に対する溶解性が異なるため、形成される仮塗膜110d1〜110d3において膜形状の違いが生じるものとなっている。具体的には、図9に示す通り、赤色の仮塗膜110d1は凹形状、緑色の仮塗膜110d2は平坦形状、青色の仮塗膜110d3は凸形状に形成されている。   In addition, in this temporary coating film formation process, in order to improve applicability | paintability, the temporary coating film is formed using the same kind of solvent (common solvent) for every color temporary coating film, As a result, in FIG. As shown, the temporary coating films 110d1 to 110d3 of the respective colors have different film shapes. That is, the light-emitting layer forming materials of the respective colors have different solubility in the common solvent, so that the film shapes differ in the temporary coating films 110d1 to 110d3 to be formed. Specifically, as shown in FIG. 9, the red temporary coating film 110d1 has a concave shape, the green temporary coating film 110d2 has a flat shape, and the blue temporary coating film 110d3 has a convex shape.

(4)−2 リペア処理工程(第2塗布工程及び第2乾燥工程)
次に、形成した仮塗膜110d上に溶媒を塗布することでリペア処理を行う。図10に、リペア処理工程におけるインクジェット法による溶媒の塗布工程を示す。図示の通り、インクジェットヘッドH5と基板2とを相対的に移動し、インクジェットヘッドに形成された吐出ノズルH6から各色毎に溶媒(例えば図10では青色画素ABに対してトリメチルベンゼンとキシレンの混合溶媒110e2)が吐出される。吐出の際には、下部、上部開口部112c、112d内に位置する仮塗膜110dに吐出ノズルを対向させ、インクジェットヘッドH5と基板2とを相対移動させながら溶媒110e2が吐出される。吐出ノズルH6から吐出される液量は1滴当たりの液量が制御されている。このように液量が制御された液が吐出ノズルから仮塗膜110d上に吐出される。
(4) -2 Repair processing step (second coating step and second drying step)
Next, a repair process is performed by applying a solvent on the formed temporary coating film 110d. FIG. 10 shows a solvent application process by an ink jet method in the repair process. As shown in the drawing, the inkjet head H5 and the substrate 2 are moved relative to each other, and a solvent for each color (for example, a mixed solvent of trimethylbenzene and xylene with respect to the blue pixel AB in FIG. 10) from the discharge nozzle H6 formed in the inkjet head. 110e2) is discharged. When discharging, the solvent 110e2 is discharged while the discharge nozzle is opposed to the temporary coating film 110d located in the lower and upper openings 112c and 112d and the inkjet head H5 and the substrate 2 are moved relative to each other. The amount of liquid discharged from the discharge nozzle H6 is controlled per drop. The liquid whose amount is controlled in this way is discharged from the discharge nozzle onto the temporary coating film 110d.

青色画素ABに対して溶媒110e2を吐出した後、他の色に対しても吐出を順次行うものとしている。つまり、図11に示すように、仮塗膜110d3上に滴下された青色画素AB用の溶媒110e2を乾燥させることなく、緑色画素AG用の溶媒110f2及び赤色画素AR用の溶媒110g2の吐出配置を行うようになっている。   After the solvent 110e2 is ejected to the blue pixel AB, ejection is sequentially performed for other colors. That is, as shown in FIG. 11, the discharge arrangement of the solvent 110f2 for the green pixel AG and the solvent 110g2 for the red pixel AR is not performed without drying the solvent 110e2 for the blue pixel AB dropped on the temporary coating film 110d3. To do.

ここで、本実施形態では、各色画素AR,AG,AB毎に吐出する溶媒を異ならせている。具体的には、図11に示すように、青色画素ABに対して吐出する青色用溶媒110e2は、トリメチルベンゼンとキシレンが体積比7:3で含有されたもの、緑色画素AGに対して吐出する緑色用溶媒110f2は、トリメチルベンゼンとキシレンが体積比5:5で含有されたもの、赤色画素ARに対して吐出する赤色用溶媒110g2は、トリメチルベンゼンとキシレンが体積比3:7で含有されたものを用いている。なお、緑色画素AGに対しては必ずしも溶媒を塗布する必要はないが、飽和した溶媒雰囲気により再溶解の影響が考えられるので、当該緑色画素AGに対しても溶媒を吐出しておくことが好ましい。   Here, in the present embodiment, the solvent to be ejected is different for each color pixel AR, AG, AB. Specifically, as shown in FIG. 11, the blue solvent 110e2 discharged to the blue pixel AB is a liquid containing trimethylbenzene and xylene at a volume ratio of 7: 3 and discharged to the green pixel AG. The green solvent 110f2 contains trimethylbenzene and xylene at a volume ratio of 5: 5, and the red solvent 110g2 discharged to the red pixel AR contains trimethylbenzene and xylene at a volume ratio of 3: 7. Something is used. Note that it is not always necessary to apply a solvent to the green pixel AG, but it is preferable to discharge the solvent to the green pixel AG because the effect of re-dissolution may be caused by a saturated solvent atmosphere. .

このように各色画素AR,AG,ABに対してリペア処理用の溶媒110e2〜110g2の滴下を行うに際しては、各色用の溶媒をそれぞれ充填した複数の吐出ヘッドを、それぞれ独立に走査して基板2上への溶媒110e2〜110g2の配置を行ってもよく、前記複数の吐出ヘッドを一体的に走査することにより、ほぼ同時に溶媒110e2〜110g2の配置を行うようにしてもよい。   As described above, when the repairing solvents 110e2 to 110g2 are dropped onto the respective color pixels AR, AG, and AB, the plurality of ejection heads filled with the respective color solvents are independently scanned to scan the substrate 2. The solvents 110e2 to 110g2 may be arranged on the top, and the solvents 110e2 to 110g2 may be arranged almost simultaneously by scanning the plurality of ejection heads integrally.

図11に示すように、吐出された各溶媒110e2〜110g2は、仮塗膜110d上に広がって下部、上部開口部112c、112d内に満たされる。その一方で、撥液処理された上面112fでは各溶媒110e2〜110g2が所定の吐出位置から外れて上面112f上に吐出されたとしても、上面112fが溶媒110e2〜110g2で濡れることがなく、溶媒110e2〜110g2が下部、上部開口部112c、112d内に転がり込む。なお、各仮塗膜110d上に吐出する溶媒量及び溶媒比率は、形成しようとする発光層110bの形状により決定される。   As shown in FIG. 11, each of the discharged solvents 110e2 to 110g2 spreads on the temporary coating film 110d and fills the lower and upper openings 112c and 112d. On the other hand, even if each of the solvents 110e2 to 110g2 is discharged from the predetermined discharge position and discharged onto the upper surface 112f on the liquid repellent upper surface 112f, the upper surface 112f does not get wet with the solvents 110e2 to 110g2, and the solvent 110e2 ˜110 g2 rolls into the lower and upper openings 112c and 112d. In addition, the amount of solvent discharged on each temporary coating film 110d and the solvent ratio are determined by the shape of the light emitting layer 110b to be formed.

次に、上記各色画素AR,AG,ABの溶媒110e2〜110g2を所定の位置に配置し終えた後、一括に乾燥処理することにより、図12に示すように発光層110bが形成される。すなわち、乾燥により溶媒110e2〜110g2が蒸発し、図12に示すような各色発光層110b1,110b2,110b3が形成される。この場合、リペア処理により仮塗膜110dで生じていた凹凸形状が修復され、当該発光層110b1,110b2,110b3においては、その表面は平坦になっており、発光むらが生じ難い構成となっている。   Next, after disposing the solvents 110e2 to 110g2 of the color pixels AR, AG, and AB at predetermined positions, the light emitting layer 110b is formed as shown in FIG. That is, the solvents 110e2 to 110g2 are evaporated by drying, and the respective color light emitting layers 110b1, 110b2, and 110b3 as shown in FIG. 12 are formed. In this case, the uneven shape generated in the temporary coating film 110d is repaired by the repair process, and the light emitting layers 110b1, 110b2, and 110b3 have a flat surface, and light emission unevenness is unlikely to occur. .

なお、各溶媒110e2〜110g2の乾燥は、真空乾燥により行うことが好ましく、具体例を挙げるならば、窒素雰囲気中、室温で圧力を133.3Pa(1Torr)程度とした条件により行うことができる。圧力が低すぎると溶媒110e2〜110g2が突沸してしまうので好ましくない。   The solvents 110e2 to 110g2 are preferably dried by vacuum drying. To give a specific example, the solvent 110e2 to 110g2 can be dried under a nitrogen atmosphere at room temperature and under a pressure of about 133.3 Pa (1 Torr). If the pressure is too low, the solvents 110e2 to 110g2 will be bumped, which is not preferable.

次いで、上記真空乾燥が終了したならば、ホットプレート等の加熱手段を用いて発光層110bのアニール処理を行うことが好ましい。このアニール処理は、各有機EL層の発光特性を最大限に引き出せる共通の温度と時間で行う。このようにして、画素電極111上に正孔注入/輸送層110a及び発光層110bが形成される。   Next, when the vacuum drying is completed, it is preferable to anneal the light emitting layer 110b using a heating means such as a hot plate. This annealing process is performed at a common temperature and time that can maximize the light emission characteristics of each organic EL layer. In this manner, the hole injection / transport layer 110a and the light emitting layer 110b are formed on the pixel electrode 111.

ここで、本実施形態の発光層形成工程では、当該発光層110bを構成する発光層構成材料(機能材料、発光材料)を溶媒に溶解ないし分散させた仮塗膜形成用の液状組成物110e1〜110g1を正孔注入/輸送層110a上に塗布し、該塗布した液状組成物110e1〜110g1を乾燥することで仮塗膜110d1〜110d3を形成した後、該仮塗膜110d1〜110d3上に、当該発光層110bを溶解ないし分散させることが可能な溶媒(リペア処理用溶媒)110e2〜110g2を仮塗膜110d(110d3〜110d1)上に塗布し、これを乾燥して発光層110bを形成するものとしている。このような方法の採用により、発光層110bにおいて膜厚むらが生じたり、膜が部分的に形成されない等の欠陥が生じ難くなり、ひいては発光むら等が生じ難い発光特性の良好な有機EL装置を提供することが可能となる。   Here, in the light emitting layer forming step of the present embodiment, the liquid composition 110e1 for forming a temporary coating film in which the light emitting layer constituting material (functional material, light emitting material) constituting the light emitting layer 110b is dissolved or dispersed in a solvent. 110 g1 is applied onto the hole injecting / transporting layer 110a, and the applied liquid compositions 110e1 to 110g1 are dried to form the temporary coatings 110d1 to 110d3. Then, the temporary coatings 110d1 to 110d3 are formed on the temporary coatings 110d1 to 110d3. A solvent (repair processing solvent) 110e2 to 110g2 capable of dissolving or dispersing the light emitting layer 110b is applied onto the temporary coating film 110d (110d3 to 110d1) and dried to form the light emitting layer 110b. Yes. By adopting such a method, an organic EL device having good light emission characteristics in which unevenness in film thickness in the light emitting layer 110b or defects such as a film not being partially formed does not easily occur, and in other words, unevenness in light emission hardly occurs. It becomes possible to provide.

特に本実施形態では、色毎に異なるリペア処理用溶媒を用いているため、各色に最適なリペア処理を施すことができるものとなっている。
また、本実施形態の方法の採用により、仮塗膜形成工程においては、形成する膜形状に拘らずインクジェットヘッドから吐出し易いように溶媒を選択することができ、用いる液状組成物の設計の自由度が広がるとともに、吐出の安定性も確保することができるようになる。その結果、当該EL装置の製造効率を向上させることができ、ひいては歩留り向上、コスト削減に寄与することが可能となった。
In particular, in the present embodiment, since a different repair processing solvent is used for each color, an optimal repair processing can be performed for each color.
In addition, by adopting the method of the present embodiment, in the temporary coating film forming step, the solvent can be selected so that it can be easily ejected from the inkjet head regardless of the shape of the film to be formed, and the design of the liquid composition to be used is free. As the degree increases, the stability of ejection can be ensured. As a result, the manufacturing efficiency of the EL device can be improved, and as a result, it is possible to contribute to yield improvement and cost reduction.

(5)陰極形成工程
次に、図13に示すように、画素電極(陽極)111と対をなす陰極12を形成する。即ち、各色発光層110b及び有機物バンク層112bを含む基板2上の領域全面に、例えばカルシウム層とアルミニウム層とを順次積層した構成の陰極12を形成する。これにより、各色発光層110bの形成領域全体に、陰極12が積層され、赤色、緑色、青色の各色に対応する有機EL素子がそれぞれ形成される。
(5) Cathode Formation Step Next, as shown in FIG. 13, the cathode 12 that forms a pair with the pixel electrode (anode) 111 is formed. That is, the cathode 12 having a structure in which, for example, a calcium layer and an aluminum layer are sequentially stacked is formed on the entire surface of the substrate 2 including the light emitting layers 110b and the organic bank layers 112b. Thereby, the cathode 12 is laminated | stacked on the whole formation area of each color light emitting layer 110b, and the organic EL element corresponding to each color of red, green, and blue is each formed.

陰極12は、例えば蒸着法、スパッタ法、CVD法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成することが、熱による発光層110bの損傷を防止できる点で好ましい。また陰極12上に、酸化防止のためにSiO、SiN等の保護層を設けても良い。 The cathode 12 is preferably formed by, for example, an evaporation method, a sputtering method, a CVD method, or the like, and particularly preferably formed by an evaporation method in terms of preventing damage to the light emitting layer 110b due to heat. Further, a protective layer such as SiO 2 or SiN may be provided on the cathode 12 to prevent oxidation.

(6)封止工程
最後に、有機EL素子が形成された基板2と、別途用意した封止基板とを封止樹脂を介して封止する。例えば、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からなる封止樹脂を基板2の周縁部に塗布し、封止樹脂上に封止基板を配置する。封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極12にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極12に侵入して陰極12が酸化されるおそれがあるので好ましくない。
(6) Sealing process Finally, the board | substrate 2 with which the organic EL element was formed, and the sealing substrate prepared separately are sealed via sealing resin. For example, a sealing resin made of a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin is applied to the peripheral portion of the substrate 2 and the sealing substrate is disposed on the sealing resin. The sealing step is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, argon, or helium. If it is carried out in the air, when a defect such as a pinhole has occurred in the cathode 12, water or oxygen may enter the cathode 12 from the defective portion and the cathode 12 may be oxidized, which is not preferable.

この後、基板2の配線に陰極12を接続するとともに、基板2上あるいは外部に設けられる駆動IC(駆動回路)に回路素子部14の配線を接続することにより、本実施形態の有機EL装置が完成する。   Thereafter, the cathode 12 is connected to the wiring of the substrate 2, and the wiring of the circuit element unit 14 is connected to a driving IC (driving circuit) provided on or outside the substrate 2, whereby the organic EL device of the present embodiment. Complete.

以上のような製造方法によると、形成される発光層110bにおいて膜厚むらが少なく、膜の一部が抜ける等の不具合が少ない有機EL装置を提供でき、ひいては当該有機EL装置の発光特性を高めることが可能となる。   According to the manufacturing method as described above, an organic EL device can be provided in which the light emitting layer 110b to be formed has less unevenness in film thickness and less inconveniences such as part of the film missing, and as a result, the light emission characteristics of the organic EL device are improved. It becomes possible.

なお、溶媒110e2〜110g2の選択は、形成された仮塗膜110dの形状によって適宜決定される。例えば図15(a)に示すように、仮塗膜110dが深い凹形状となっている場合には、キシレンとトリメチルベンゼンとを7;3で混合した溶媒を採用することができる。そして、図15(b)に示すように、仮塗膜110dの凹形状が図15(a)の場合よりも若干浅いような場合には、キシレンとトリメチルベンゼンとを6;4で混合した溶媒を採用することができる。   The selection of the solvents 110e2 to 110g2 is appropriately determined depending on the shape of the formed temporary coating film 110d. For example, as shown in FIG. 15A, when the temporary coating film 110d has a deep concave shape, a solvent in which xylene and trimethylbenzene are mixed in 7; 3 can be used. As shown in FIG. 15 (b), when the concave shape of the temporary coating film 110d is slightly shallower than in the case of FIG. 15 (a), a solvent in which xylene and trimethylbenzene are mixed in 6; 4. Can be adopted.

一方、例えば図15(e)に示すように、仮塗膜110dが高い凸形状となっている場合には、キシレンとトリメチルベンゼンとを3;7で混合した溶媒を採用することができる。そして、図15(d)に示すように、仮塗膜110dの凸形状が図15(e)の場合よりも若干低いような場合には、キシレンとトリメチルベンゼンとを4;6で混合した溶媒を採用することができる。そして、図15(c)のような平坦な仮塗膜110dに対しては、リペア処理を行わないか、仮塗膜形成工程で用いた溶媒(キシレンとトリメチルベンゼンとを5;5で混合した溶媒)を用いて処理することができる。   On the other hand, for example, as shown in FIG. 15 (e), when the temporary coating film 110d has a high convex shape, a solvent in which xylene and trimethylbenzene are mixed in 3; 7 can be employed. And as shown in FIG.15 (d), when the convex shape of the temporary coating film 110d is a little lower than the case of FIG.15 (e), the solvent which mixed xylene and trimethylbenzene by 4; 6. Can be adopted. Then, the flat temporary coating film 110d as shown in FIG. 15C is not repaired or the solvent used in the temporary coating film forming step (xylene and trimethylbenzene is mixed in 5; 5). Solvent).

なお、リペア処理で用いる溶媒としては、キシレンとトリメチルベンゼンの混合溶媒の他、アニソールとキシレンの混合溶媒等を採用することもでき、このような混合溶媒においてもリペア処理につき各色毎に溶媒の体積比を異ならせて用いることで、各色毎に好適なリペア処理を施すことができる。   In addition, as a solvent used in the repair process, a mixed solvent of xylene and trimethylbenzene, a mixed solvent of anisole and xylene, etc. can also be adopted. Even in such a mixed solvent, the volume of the solvent for each color for each repair process. By using different ratios, it is possible to perform a suitable repair process for each color.

また、本実施形態では、仮塗膜形成工程とリペア処理工程において同種の溶媒を塗布するものとしているが、各工程において溶媒を異ならせることができるのは言うまでもない。具体的には、仮塗膜形成工程では、液状組成物110e1〜110g1の塗布性を考慮して、当該液状組成物110e1〜110g1が低粘度となるように溶媒を選択する一方、リペア処理工程では、膜形状のコントロールの観点から発光層形成材料に対する溶解性に応じて溶媒110e2〜110g2を選択することができる。   In this embodiment, the same type of solvent is applied in the temporary coating film forming step and the repair processing step, but it goes without saying that the solvent can be different in each step. Specifically, in the temporary coating film forming step, the liquid composition 110e1 to 110g1 is selected so that the liquid composition 110e1 to 110g1 has low viscosity in consideration of the applicability of the liquid composition 110e1 to 110g1, while in the repair processing step. From the viewpoint of controlling the film shape, the solvents 110e2 to 110g2 can be selected according to the solubility in the light emitting layer forming material.

また、本実施形態では、全ての色の画素に対して体積比は異なるものの種類の同じ2溶媒からなる混合溶媒によりリペア処理を行っているが、色毎に溶媒種を異ならせることもできる。さらに、本実施形態では、全ての色の画素に対してリペア処理を行うものとしているが、例えば膜形状に欠陥が生じた色の画素、或いは欠陥が生じ易い色の画素に対して選択的にリペア処理を行うものとしても良い。さらに、本実施形態では、発光層形成工程においてリペア処理を行うものとしているが、このようなリペア処理は例えば正孔注入/輸送層形成工程において施すことも可能である。   Further, in this embodiment, the repair process is performed using a mixed solvent composed of the same two solvents with different volume ratios for pixels of all colors, but the solvent type may be different for each color. Furthermore, in the present embodiment, repair processing is performed on all color pixels. For example, a pixel having a defect in the film shape or a pixel having a color that easily causes a defect is selectively used. A repair process may be performed. Furthermore, in the present embodiment, the repair process is performed in the light emitting layer forming process. However, such a repair process can be performed in the hole injection / transport layer forming process, for example.

また、図14に示すように、正孔注入/輸送層110a上に電子ブロック層113を形成した場合にも、上記同様の本発明に係る方法を採用することができる。このような方法の採用により、電子ブロック層113上に形成される発光層110bの膜厚が均一となるとともに、当該発光層11bにおける膜の欠陥が殆ど生じないものとなる。   Further, as shown in FIG. 14, the method according to the present invention similar to the above can also be adopted when the electron block layer 113 is formed on the hole injection / transport layer 110a. By adopting such a method, the thickness of the light emitting layer 110b formed on the electron blocking layer 113 becomes uniform, and the film defects in the light emitting layer 11b hardly occur.

さらに、本実施形態では有機EL装置を例に説明したが、上述の製造方法を無機EL装置の製造時に採用できることは言うまでもない。或いは、基板上に配線等を有する半導体装置、その他の機能膜を有するデバイスにおいて、当該配線等の機能膜を形成する際、簡易的に仮塗膜を形成した後、リペア処理するものとすれば、該機能膜の膜厚均一化、膜表面の平坦化を実現することが可能となる。   Furthermore, although the organic EL device has been described as an example in the present embodiment, it is needless to say that the above-described manufacturing method can be adopted when manufacturing the inorganic EL device. Alternatively, in the case of forming a functional film such as a wiring in a semiconductor device having wiring or the like on a substrate or other device having a functional film, a repair film should be repaired after a temporary coating film is simply formed. Thus, it is possible to achieve uniform thickness of the functional film and flattening of the film surface.

(電子機器)
図16は、本発明の方法により製造された有機EL装置を具備した電子機器の一実施形態を示している。本実施形態の電子機器は、上述した方法により製造された有機EL装置を表示手段として備えている。ここでは、携帯電話の一例を斜視図で示しており、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記の有機EL装置を用いた表示部を示している。このように有機EL装置を表示手段として備える電子機器では、良好な表示特性を得ることができる。
(Electronics)
FIG. 16 shows an embodiment of an electronic apparatus equipped with an organic EL device manufactured by the method of the present invention. The electronic apparatus of this embodiment includes an organic EL device manufactured by the above-described method as a display unit. Here, an example of a mobile phone is shown in a perspective view, reference numeral 1000 indicates a mobile phone body, and reference numeral 1001 indicates a display unit using the organic EL device. Thus, in an electronic apparatus provided with an organic EL device as a display means, good display characteristics can be obtained.

本発明に係る方法により製造された有機EL装置の回路図。1 is a circuit diagram of an organic EL device manufactured by a method according to the present invention. 同、平面構成図。FIG. 同、表示領域の断面構成図。The cross-sectional block diagram of a display area same as the above. 実施形態に係る製造方法を説明する工程図。Process drawing explaining the manufacturing method which concerns on embodiment. 実施形態に係る製造方法を説明する工程図。Process drawing explaining the manufacturing method which concerns on embodiment. 実施形態に係る製造方法を説明する工程図。Process drawing explaining the manufacturing method which concerns on embodiment. 実施形態に係る製造方法を説明する工程図。Process drawing explaining the manufacturing method which concerns on embodiment. 実施形態に係る製造方法を説明する工程図。Process drawing explaining the manufacturing method which concerns on embodiment. 実施形態に係る製造方法を説明する工程図。Process drawing explaining the manufacturing method which concerns on embodiment. 実施形態に係る製造方法を説明する工程図。Process drawing explaining the manufacturing method which concerns on embodiment. 実施形態に係る製造方法を説明する工程図。Process drawing explaining the manufacturing method which concerns on embodiment. 実施形態に係る製造方法を説明する工程図。Process drawing explaining the manufacturing method which concerns on embodiment. 実施形態に係る製造方法を説明する工程図。Process drawing explaining the manufacturing method which concerns on embodiment. 有機EL装置の一変形例を模式的に示す断面構成図。The cross-sectional block diagram which shows typically the modification of an organic electroluminescent apparatus. 異なる形状の仮塗膜を幾つか示す断面模式図。The cross-sectional schematic diagram which shows some temporary coating films of a different shape. 電子機器の一例を示す斜視構成図。FIG. 11 is a perspective configuration diagram illustrating an example of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

2…基板、110…有機EL層、110a…正孔注入/輸送層、110b…発光層(機能膜)、111…画素電極、112…バンク部(隔壁部)   DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 ... Substrate, 110 ... Organic EL layer, 110a ... Hole injection / transport layer, 110b ... Light emitting layer (functional film), 111 ... Pixel electrode, 112 ... Bank part (partition wall part)

Claims (12)

機能材料を溶媒に溶解ないし分散させた液状組成物を基板上に塗布する第1塗布工程と、
塗布した液状組成物を乾燥して仮塗膜を形成する第1乾燥工程と、
形成した仮塗膜に対して、該仮塗膜を溶解ないし分散させることが可能な溶媒を塗布する第2塗布工程と、
塗布した溶媒を乾燥して機能膜を形成する第2乾燥工程と、
を有してなることを特徴とするデバイスの製造方法。
A first coating step in which a liquid composition in which a functional material is dissolved or dispersed in a solvent is coated on a substrate;
A first drying step of drying the applied liquid composition to form a temporary coating film;
A second application step of applying a solvent capable of dissolving or dispersing the temporary coating film to the formed temporary coating film;
A second drying step of drying the applied solvent to form a functional film;
A device manufacturing method comprising:
前記第1塗布工程と前記第2塗布工程とにおいて、それぞれ用いる溶媒が異なることを特徴とする請求項1に記載のデバイスの製造方法。   The device manufacturing method according to claim 1, wherein different solvents are used in the first application step and the second application step. 前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、第1の機能を有する第1機能材料を含む第1液状組成物と、前記第1の機能とは異なる第2の機能を有する第2機能材料を含む第2液状組成物とを含むものであって、これら第1液状組成物と第2液状組成物とをそれぞれ異なる領域に塗布する一方、
前記第2塗布工程においては、前記第1機能材料からなる第1仮塗膜と前記第2機能材料からなる第2仮塗膜とのいずれか一方の膜に対して、該膜を溶解ないし分散させることが可能な溶媒を塗布することを特徴とする請求項1又は2に記載のデバイスの製造方法。
In the first coating step, the liquid composition includes a first liquid composition containing a first functional material having a first function, and a second functional material having a second function different from the first function. A second liquid composition containing the first liquid composition and the second liquid composition applied to different regions, respectively,
In the second coating step, the film is dissolved or dispersed in any one of the first temporary coating film made of the first functional material and the second temporary coating film made of the second functional material. The device manufacturing method according to claim 1, wherein a solvent capable of being applied is applied.
前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、第1の機能を有する第1機能材料を含む第1液状組成物と、前記第1の機能とは異なる第2の機能を有する第2機能材料を含む第2液状組成物とを含むものであって、これら第1液状組成物と第2液状組成物とをそれぞれ異なる領域に塗布する一方、
前記第2塗布工程においては、前記第1機能材料からなる第1仮塗膜と前記第2機能材料からなる第2仮塗膜とに対して、それぞれ異なる溶媒を塗布することを特徴とする請求項1又は2に記載のデバイスの製造方法。
In the first coating step, the liquid composition includes a first liquid composition containing a first functional material having a first function, and a second functional material having a second function different from the first function. A second liquid composition containing the first liquid composition and the second liquid composition applied to different regions, respectively,
In the second application step, different solvents are applied to the first temporary coating film made of the first functional material and the second temporary coating film made of the second functional material, respectively. Item 3. A device manufacturing method according to Item 1 or 2.
発光材料を溶媒に溶解ないし分散させた液状組成物を基板上に塗布する第1塗布工程と、
塗布した液状組成物を乾燥して仮塗膜を形成する第1乾燥工程と、
形成した仮塗膜に対して、該仮塗膜を溶解ないし分散させることが可能な溶媒を塗布する第2塗布工程と、
塗布した溶媒を乾燥して発光層を形成する第2乾燥工程と、
を有してなることを特徴とするEL装置の製造方法。
A first coating step in which a liquid composition in which a light emitting material is dissolved or dispersed in a solvent is coated on a substrate;
A first drying step of drying the applied liquid composition to form a temporary coating film;
A second application step of applying a solvent capable of dissolving or dispersing the temporary coating film to the formed temporary coating film;
A second drying step of drying the applied solvent to form a light emitting layer;
A method for manufacturing an EL device, comprising:
前記第1塗布工程と前記第2塗布工程とにおいて、それぞれ用いる溶媒が異なることを特徴とする請求項5に記載のEL装置の製造方法。   6. The method of manufacturing an EL device according to claim 5, wherein a solvent used in each of the first application step and the second application step is different. 前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、第1発光材料を含む第1液状組成物と、前記第1発光材料とは異なる色の発光を呈する第2発光材料を含む第2液状組成物とを含むものであって、これら第1液状組成物と第2液状組成物とをそれぞれ異なる領域に塗布する一方、
前記第2塗布工程においては、前記第1発光材料からなる第1仮塗膜と前記第2発光材料からなる第2仮塗膜とのいずれか一方の仮塗膜に対して、該仮塗膜を溶解ないし分散させることが可能な溶媒を塗布することを特徴とする請求項5又は6に記載のEL装置の製造方法。
In the first coating step, the liquid composition includes a first liquid composition containing a first light emitting material and a second liquid composition containing a second light emitting material that emits light of a color different from that of the first light emitting material. And applying the first liquid composition and the second liquid composition to different regions,
In the second coating step, the temporary coating film is applied to any one of the first temporary coating film made of the first luminescent material and the second temporary coating film made of the second luminescent material. 7. The method for producing an EL device according to claim 5, wherein a solvent capable of dissolving or dispersing the material is applied.
前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、第1発光材料を含む第1液状組成物と、前記第1発光材料とは異なる色の発光を呈する第2発光材料を含む第2液状組成物とを含むものであって、これら第1液状組成物と第2液状組成物とをそれぞれ異なる領域に塗布する一方、
前記第2塗布工程においては、前記第1発光材料からなる第1仮塗膜と前記第2発光材料からなる第2仮塗膜とに対して、それぞれ異なる溶媒を塗布することを特徴とする請求項5又は6に記載のEL装置の製造方法。
In the first coating step, the liquid composition includes a first liquid composition containing a first light emitting material and a second liquid composition containing a second light emitting material that emits light of a color different from that of the first light emitting material. And applying the first liquid composition and the second liquid composition to different regions,
In the second application step, different solvents are applied to the first temporary coating film made of the first luminescent material and the second temporary coating film made of the second luminescent material, respectively. Item 7. A method for manufacturing an EL device according to Item 5 or 6.
前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、赤色発光材料を含む赤色液状組成物と、緑色発光材料を含む緑色液状組成物と、青色発光材料を含む青色液状組成物とを含むものであって、これら赤色、緑色、青色の各液状組成物をそれぞれ異なる領域に塗布する一方、
前記第2塗布工程においては、前記赤色発光材料からなる赤色仮塗膜と、前記緑色発光材料からなる緑色仮塗膜と、前記青色発光材料からなる青色仮塗膜とのうちいずれか一の仮塗膜に対して、該仮塗膜を溶解することが可能な溶媒を塗布することを特徴とする請求項5又は6に記載のEL装置の製造方法。
In the first application step, the liquid composition includes a red liquid composition containing a red light emitting material, a green liquid composition containing a green light emitting material, and a blue liquid composition containing a blue light emitting material. While applying these red, green and blue liquid compositions to different areas,
In the second coating step, any one of a temporary red coating film made of the red light emitting material, a green temporary coating film made of the green light emitting material, and a blue temporary coating film made of the blue light emitting material. The method for producing an EL device according to claim 5, wherein a solvent capable of dissolving the temporary coating film is applied to the coating film.
前記第1塗布工程において、前記液状組成物は、赤色発光材料を含む赤色液状組成物と、緑色発光材料を含む緑色液状組成物と、青色発光材料を含む青色液状組成物とを含むものであって、これら赤色、緑色、青色の各液状組成物をそれぞれ異なる領域に塗布する一方、
前記第2塗布工程においては、前記赤色発光材料からなる赤色仮塗膜と、前記緑色発光材料からなる緑色仮塗膜と、前記青色発光材料からなる青色仮塗膜とに対して、それぞれ異なる溶媒を塗布することを特徴とする請求項5又は6に記載のEL装置の製造方法。
In the first coating step, the liquid composition includes a red liquid composition containing a red light emitting material, a green liquid composition containing a green light emitting material, and a blue liquid composition containing a blue light emitting material. While applying these red, green and blue liquid compositions to different areas,
In the second coating step, different solvents are used for the red temporary coating film made of the red light emitting material, the green temporary coating film made of the green light emitting material, and the blue temporary coating film made of the blue light emitting material. The method for manufacturing an EL device according to claim 5, wherein the EL device is applied.
請求項5ないし10のいずれか1項に記載の方法を用いて製造されたことを特徴とするEL装置。   An EL device manufactured using the method according to claim 5. 請求項11に記載のEL装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the EL device according to claim 11.
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