JP2006276881A - Method for manufacturing plasma display panel - Google Patents

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JP2006276881A JP2006151438A JP2006151438A JP2006276881A JP 2006276881 A JP2006276881 A JP 2006276881A JP 2006151438 A JP2006151438 A JP 2006151438A JP 2006151438 A JP2006151438 A JP 2006151438A JP 2006276881 A JP2006276881 A JP 2006276881A
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Naoshi Akiguchi
尚士 秋口
Kazuto Nishida
一人 西田
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a plasma display panel capable of securing reliability against the flow of a high-current and concurrently coping with narrowed pitch of an electrode part for providing a high-definition panel. <P>SOLUTION: In mounting a flexible substrate to the plasma display panel, an electrode 2 formed on a glass substrate 1 and having unevenness on the surface, and an electrode 6 of the flexible substrate 5 are overlaid via an adhesive 3. By the heating and the pressing from the upper part of the flexible substrate, the unevenness of the surface of the electrode of the glass substrate bites into the electrode of the flexible substrate so that the joint is performed. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものであり、特に、ガラス基板上の厚膜電極に、フレキシブル基板の電極を接合するプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a plasma display panel, and more particularly to a method for manufacturing a plasma display panel in which an electrode of a flexible substrate is bonded to a thick film electrode on a glass substrate.

従来、ガラス基板上の厚膜電極へのフレキシブル基板の実装に関する技術としては、プラズマディスプレイパネルへの実装として、フレキシブル基板の電極とガラス基板の厚膜電極を加熱加圧ツールで押圧して半田付けする方法が知られている。図8においては、プラズマディスプレイパネルのガラス基板1の電極2に、あらかじめ、半田めっきされたフレキシブル基板5の電極6を合わせ、フレキシブル基板5の上から、加熱加圧ツール7(図1参照)で押圧して、フレキシブル基板5の半田10を溶解して半田付けされた構成を示している。   Conventionally, as a technique for mounting a flexible substrate on a thick film electrode on a glass substrate, soldering is performed by pressing the electrode on the flexible substrate and the thick film electrode on the glass substrate with a heating and pressing tool as mounting on a plasma display panel. How to do is known. In FIG. 8, the electrode 6 of the flexible substrate 5 plated with solder in advance is aligned with the electrode 2 of the glass substrate 1 of the plasma display panel, and the heating and pressurizing tool 7 (see FIG. 1) is placed on the flexible substrate 5. A configuration is shown in which the solder 10 of the flexible substrate 5 is melted and soldered by pressing.

このようなプラズマディスプレイパネルへのフレキシブル基板の実装においては、例えば端子間電圧が250V程度となるような高電流が流されることへの信頼性確保と同時に、パネルの高精細化のための電極の狭ピッチ化が求められている。狭ピッチの電極に従来の半田付け方法を適用すれば、半田の濡れが悪かったり、半田ブリッジが発生し、実装品質言い換えれば接合品質がよくなく、従来の半田付け方法ではパネルの高精細化のための電極の狭ピッチに対応が難しいという課題があった。   In mounting a flexible substrate on such a plasma display panel, for example, the reliability of a high current flowing such that the inter-terminal voltage is about 250 V is ensured, and at the same time, electrodes for high definition of the panel are used. Narrow pitch is required. If the conventional soldering method is applied to narrow pitch electrodes, solder wettability or solder bridging will occur and the mounting quality, in other words, the joint quality will not be good. Therefore, there is a problem that it is difficult to cope with the narrow pitch of the electrodes.

本発明の目的は、接合品質の不安定性を排除し、高電流化に対応し、かつ、電極の狭ピッチ化に対応することができて、高信頼性の接合品質を実現することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することである。   The object of the present invention is to eliminate the instability of the bonding quality, to cope with higher currents, and to cope with the narrower pitch of the electrodes, and can realize the plasma with high reliability. It is to provide a method for manufacturing a display panel.

この課題を解決するために、プラズマディスプレイパネルにおける本発明は、以下のように構成している。   In order to solve this problem, the present invention in a plasma display panel is configured as follows.

本発明の第1態様によれば、ガラス基板に形成されかつ表面に凹凸を有する電極とフレキシブル基板の電極とを接着剤を介して重ね合わせ、上記フレキシブル基板の上から加熱加圧することにより、上記ガラス基板の電極の表面の凹凸を上記フレキシブル基板の電極に食い込ませて接合するプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。   According to the first aspect of the present invention, the electrode formed on the glass substrate and having an uneven surface and the electrode of the flexible substrate are overlapped with an adhesive and heated and pressed from above the flexible substrate. Provided is a method for manufacturing a plasma display panel in which unevenness on the surface of an electrode of a glass substrate is bitten into the electrode of the flexible substrate and bonded.

本発明の他の第1態様によれば、ガラス基板に形成された電極とフレキシブル基板の電極とを接着剤で接合したプラズマディスプレイパネルにおいて、
上記ガラス基板の電極が形成された表面側のフレキシブル基板と上記ガラス基板の境界及び上記ガラス基板の上記表面側とは反対の裏面側のフレキシブル基板と上記ガラス基板の境界及び上記ガラス基板と上記フレキシブル基板の接合部分の両端部を紫外線硬化樹脂により覆ったことを特徴とするプラズマディスプレイパネルを提供する。
According to another first aspect of the present invention, in the plasma display panel in which the electrode formed on the glass substrate and the electrode of the flexible substrate are bonded with an adhesive,
The boundary between the front substrate on which the electrodes of the glass substrate are formed and the glass substrate and the flexible substrate on the back side opposite to the front surface side of the glass substrate and the boundary between the glass substrate and the glass substrate and the flexible Provided is a plasma display panel characterized in that both ends of a bonded portion of a substrate are covered with an ultraviolet curable resin.

本発明の他の第2態様によれば、ガラス基板に形成された電極とフレキシブル基板の電極とを接着剤で接合したプラズマディスプレイパネルにおいて、
上記ガラス基板の電極が形成された表面側のフレキシブル基板と上記ガラス基板の境界及び上記ガラス基板の上記表面側とは反対の裏面側のフレキシブル基板と上記ガラス基板の境界及び上記ガラス基板と上記フレキシブル基板の接合部分の両端部をシリコーン樹脂により覆ったことを特徴とするプラズマディスプレイパネルを提供する。
According to another second aspect of the present invention, in the plasma display panel in which the electrode formed on the glass substrate and the electrode of the flexible substrate are bonded with an adhesive,
The boundary between the front substrate on which the electrodes of the glass substrate are formed and the glass substrate and the flexible substrate on the back side opposite to the front surface side of the glass substrate and the boundary between the glass substrate and the glass substrate and the flexible Provided is a plasma display panel characterized in that both ends of a bonding portion of a substrate are covered with a silicone resin.

本発明の他の第3態様によれば、上記ガラス基板の電極は、銀電極であることを特徴とする本発明の他の第1又は2の態様に記載のプラズマディスプレイパネルを提供する。   According to another third aspect of the present invention, there is provided the plasma display panel according to the other first or second aspect of the present invention, wherein the electrode of the glass substrate is a silver electrode.

なお、プラズマディスプレイパネルの電極接合方法における本発明は、以下のように構成している。   The present invention in the electrode joining method of the plasma display panel is configured as follows.

本発明の第1態様によれば、導電粒子が分散された接着剤シートを介して、ガラス基板に形成された厚膜の電極とフレキシブル基板の電極とを重ね合わせ、
上記フレキシブル基板の上から圧着ツールで、加熱加圧して、上記接着剤シートを硬化して、上記ガラス基板の電極と上記フレキシブル基板の電極を導通させるようにしたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極接合方法を提供する。
According to the first aspect of the present invention, the thick film electrode formed on the glass substrate and the electrode of the flexible substrate are overlapped via the adhesive sheet in which the conductive particles are dispersed,
A plasma display panel characterized in that the adhesive sheet is cured by heating and pressing with a crimping tool from above the flexible substrate, and the electrode of the glass substrate and the electrode of the flexible substrate are made conductive. An electrode bonding method is provided.

このような構成によれば、ガラス基板上の電極とフレキシブル基板の電極とを半田を用いることなく導通させるため、両電極間での良好な接続を確保することができ、半田による不具合、つまり、半田の酸化や腐食のために、電気的な導通に不具合を生じることや、半田付けの際の半田の濡れが悪かったり、半田ブリッジが発生し、接合品質が悪くなることがなくなり、電極の狭ピッチ化に対応できる、高信頼性の接合品質を実現することができる。   According to such a configuration, since the electrodes on the glass substrate and the electrodes on the flexible substrate are made conductive without using solder, it is possible to ensure a good connection between both electrodes, that is, problems due to solder, that is, Due to the oxidation and corrosion of the solder, there is no problem in electrical continuity, solder wettability during soldering, solder bridges, and poor joint quality. Highly reliable joint quality that can cope with pitching can be realized.

本発明の第2態様によれば、上記ガラス基板の電極は銀電極であり、前記接着剤シートの導電粒子はニッケル粒子である第1態様に記載のプラズマディスプレイパネルの電極接合方法を提供する。   According to a second aspect of the present invention, there is provided the electrode joining method for a plasma display panel according to the first aspect, wherein the electrode of the glass substrate is a silver electrode, and the conductive particles of the adhesive sheet are nickel particles.

本発明の第3態様によれば、前記接着剤シートの導電粒子は金めっきされたニッケル粒子である第2態様に記載のプラズマディスプレイパネルの電極接合方法を提供する。   According to a third aspect of the present invention, there is provided the electrode joining method for a plasma display panel according to the second aspect, wherein the conductive particles of the adhesive sheet are gold-plated nickel particles.

上記第2,3態様によれば、プラズマディスプレイパネルが高温に曝された場合でも、導電粒子の酸化が生じず、電気的な導通阻害が防止できる。   According to the second and third aspects, even when the plasma display panel is exposed to a high temperature, the conductive particles are not oxidized, and electrical conduction hindrance can be prevented.

本発明の第4態様によれば、仮止め用接着剤シートを介して、ガラス基板に形成された厚膜の電極とフレキシブル基板の電極とを重ね合わせ、
上記フレキシブル基板の上から圧着ツールで、加熱加圧して、上記接着剤シートを硬化して、上記ガラス基板の電極の表面の凹凸が上記フレキシブル基板の電極に食い込むことにより両電極を導通させるようにしたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極接合方法を提供する。
According to the fourth aspect of the present invention, the thick film electrode formed on the glass substrate and the electrode of the flexible substrate are overlapped via the adhesive sheet for temporary fixing,
The adhesive sheet is cured by heating and pressing with a crimping tool from above the flexible substrate so that the unevenness of the surface of the electrode of the glass substrate bites into the electrode of the flexible substrate so that both electrodes are made conductive. An electrode bonding method for a plasma display panel is provided.

第4態様によれば、厚膜電極の表面に生じる凹凸を利用して、この凹凸が対向する電極の表面に食い込むことにより両電極を電気的に接合するようにしたので、導電粒子が不要となり、導電粒子を接着剤シート中で例えば均一に配置することなどが不要となる。さらに、ガラス基板上の電極とフレキシブル基板の電極とを半田を用いることなく導通させるため、両電極間での良好な接続を確保することができ、半田による不具合、つまり、半田の酸化や腐食のために、電気的な導通に不具合を生じることや、半田付けの際の半田の濡れが悪かったり、半田ブリッジが発生し、接合品質が悪くなることがなくなり、電極の狭ピッチ化に対応できる、高信頼性の接合品質を実現することができる。   According to the fourth aspect, since the unevenness generated on the surface of the thick film electrode is used and the electrodes are electrically joined by biting into the surface of the opposing electrode, the conductive particles become unnecessary. For example, it is not necessary to arrange the conductive particles uniformly in the adhesive sheet. Furthermore, since the electrodes on the glass substrate and the electrodes on the flexible substrate are made conductive without using solder, it is possible to ensure a good connection between the two electrodes, and to prevent defects caused by solder, that is, oxidation and corrosion of the solder. For this reason, there is a problem in electrical continuity, solder wetness during soldering, solder bridges are generated, bonding quality does not deteriorate, and it is possible to cope with a narrow pitch of electrodes. Highly reliable joint quality can be realized.

本発明の第5態様によれば、上記フレキシブル基板の電極と上記ガラス基板の電極とが接合された部分をシリコーン樹脂で覆い隠し、
上記シリコーン樹脂を硬化するようにした第1〜4態様のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの電極接合方法を提供する。
According to the fifth aspect of the present invention, the portion where the electrode of the flexible substrate and the electrode of the glass substrate are joined is covered with a silicone resin,
The electrode bonding method for a plasma display panel according to any one of the first to fourth aspects, wherein the silicone resin is cured.

第5態様によれば、両電極の接合部分への水や腐食性ガスの侵入を防止でき、電極や導電粒子の酸化が生じず、電気的な導通阻害が防止できる。   According to the fifth aspect, it is possible to prevent water and corrosive gas from entering the joint portion of both electrodes, the electrode and conductive particles are not oxidized, and electrical conduction hindrance can be prevented.

本発明の第6態様によれば、上記シリコーン樹脂の厚さは0.3μmから2mm程度とするようにした第5態様に記載のプラズマディスプレイパネルの電極接合方法を提供する。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the electrode joining method for a plasma display panel according to the fifth aspect, wherein the thickness of the silicone resin is about 0.3 μm to 2 mm.

本発明の第7態様によれば、上記シリコーン樹脂は、上記フレキシブル基板の電極と上記ガラス基板の電極とが接合された部分の表裏の両面を覆いかつ上記接合部分の端部において表裏両側の上記シリコーン樹脂が一体的に連結されるようにした第5又は6態様に記載のプラズマディスプレイパネルの電極接合方法を提供する。   According to the seventh aspect of the present invention, the silicone resin covers both the front and back surfaces of the portion where the electrode of the flexible substrate and the electrode of the glass substrate are bonded, and the both sides of the front and back surfaces at the end of the bonded portion. The electrode bonding method for a plasma display panel according to the fifth or sixth aspect, wherein the silicone resin is integrally connected.

第6,7態様によれば、両電極の接合部分への水や腐食性ガスの侵入を防止でき、電極や導電粒子の酸化が生じず、電気的な導通阻害が防止できる。   According to the sixth and seventh aspects, it is possible to prevent water and corrosive gas from entering the joint portion of both electrodes, and the electrodes and conductive particles are not oxidized, thereby preventing electrical conduction inhibition.

本発明第8態様によれば、上記フレキシブル基板の電極と上記ガラス基板の電極とが接合された部分を紫外線硬化型樹脂で覆い隠し、
上記紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させるようにした第1〜4態様のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの電極接合方法を提供する。
According to the eighth aspect of the present invention, the portion where the electrode of the flexible substrate and the electrode of the glass substrate are joined is covered with an ultraviolet curable resin,
The electrode bonding method for a plasma display panel according to any one of the first to fourth aspects, wherein the ultraviolet curable resin is cured by irradiation with ultraviolet rays.

第8態様によれば、短時間で、両電極の接合部分への水や腐食性ガスの侵入が防止でき、かつ、電極や導電粒子の酸化が生じない、電気的な導通阻害が防止できる被覆が形成でき、高信頼性の接合品質を実現できる。   According to the eighth aspect, in a short period of time, water or corrosive gas can be prevented from entering the joined portion of both electrodes, and the electrode and conductive particles can be prevented from being oxidized. It is possible to form a highly reliable joint quality.

本発明によれば、ガラス基板上の電極とフレキシブル基板の電極の良好な接続を確保し、高電流化に対応し、かつ、電極の狭ピッチ化に対応する、高信頼性の接合品質の接合方法が実現できるという効果が得られる。   According to the present invention, it is possible to secure a good connection between an electrode on a glass substrate and an electrode of a flexible substrate, to cope with a high current, and to cope with a narrow pitch of the electrode, with a highly reliable joining quality. The effect that a method is realizable is acquired.

以下、本発明の実施の形態について、図面に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法を示し、プラズマディスプレイパネルのガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6の接合後の断面図を示している。また、図7は両電極2,6の接合状態での平面図である。図13は上記第1実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法のフローチャートである。この接合方法は、図1において、ガラス基板1上に形成された厚膜電極の一例としての厚さ5〜15μm程度の厚膜銀電極2に、導電粒子4の一例としてニッケル粒子が分散された接着剤シート3を貼り付ける工程(図13ステップS1)と、フレキシブル基板5の電極6を、接着剤シート3を介して、前記ガラス基板1上の電極2と重ね合わせる工程(図13ステップS2)と、次いで、フレキシブル基板5の上から圧着ツール7で、加熱加圧して、前記接着剤シート3を硬化して、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6を導電粒子4を介して導通させる工程(図13ステップS3)から構成されている。圧着ツール7は、その下端部に接着剤シート加熱用ヒータ500を内蔵するとともに、その上端にエアシリンダ−(例えば、藤倉ゴム工業株式会社製の「ベロフラムシリンダー」)201を配置し、モータ200により圧着ツール7全体が昇降されるようにしている。モータ200により圧着ツール7が下降して、受台202上のガラス基板1上のフレキシブル基板5に接触したのち、ヒータ500により加熱して前記接着剤シート3を硬化しつつ、空気を供給してエアシリンダ−201が駆動されることにより、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6とを圧着させて、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6を導電粒子4を介して導通させるようにしている。なお、この加熱及び加圧装置は以下の実施形態においても使用することができる。
(First embodiment)
FIG. 1 shows an electrode joining method for a plasma display panel according to a first embodiment of the present invention, and shows a cross-sectional view after joining an electrode 2 on a glass substrate 1 and an electrode 6 on a flexible substrate 5 of the plasma display panel. Yes. FIG. 7 is a plan view of the electrodes 2 and 6 in a joined state. FIG. 13 is a flowchart of a method of bonding a flexible substrate to a glass substrate by the electrode bonding method of the plasma display panel according to the first embodiment. In this bonding method, nickel particles as an example of conductive particles 4 are dispersed in a thick film silver electrode 2 having a thickness of about 5 to 15 μm as an example of the thick film electrode formed on the glass substrate 1 in FIG. A process of attaching the adhesive sheet 3 (step S1 in FIG. 13) and a process of superposing the electrode 6 of the flexible substrate 5 on the electrode 2 on the glass substrate 1 through the adhesive sheet 3 (step S2 in FIG. 13). Then, the adhesive sheet 3 is cured by heating and pressing with the crimping tool 7 from above the flexible substrate 5, and the electrode 2 on the glass substrate 1 and the electrode 6 on the flexible substrate 5 are connected via the conductive particles 4. And the step of conducting (step S3 in FIG. 13). The crimping tool 7 has a heater 500 for heating the adhesive sheet at the lower end thereof, and an air cylinder (for example, “Bellofram cylinder” manufactured by Fujikura Rubber Industrial Co., Ltd.) 201 at the upper end thereof. Thus, the entire crimping tool 7 is moved up and down. After the crimping tool 7 is lowered by the motor 200 and comes into contact with the flexible substrate 5 on the glass substrate 1 on the cradle 202, air is supplied while being heated by the heater 500 to cure the adhesive sheet 3. When the air cylinder 201 is driven, the electrode 2 on the glass substrate 1 and the electrode 6 on the flexible substrate 5 are pressure-bonded, and the conductive particles 4 are bonded to the electrode 2 on the glass substrate 1 and the electrode 6 on the flexible substrate 5. Through. This heating and pressurizing apparatus can also be used in the following embodiments.

接着剤シート3の材質は、特に限定されるものではないが、好ましくは、熱硬化性樹脂である。接着剤シート3の形状は、特に限定されないが、幅は1mm以上、厚さは15〜60μmが望ましい。接着剤シート3の幅が1mm未満では、0.5A以上の電流を流せなくなり、パネルが動作しなくなるため好ましくない。また、接着剤シート3の厚さが15μm未満では、接着強度が不足し剥がれやすく、厚さが60μmを越えると導通できなくなる。接着剤シート3の厚さとしては、厚膜電極2の厚さ5〜15μmに対応して35〜40μmとするのがさらに好ましい。その理由は、この範囲であれば接着剤シート3のはみ出し量が適切であり、これより大きくなると、圧着ツール7に接着剤シート3が付着してしまうため好ましくない。接着剤シート3の貼り付け長さは、ガラス基板1とフレキシブル基板5とが圧着する幅より長ければよく、特に制限はない。   The material of the adhesive sheet 3 is not particularly limited, but is preferably a thermosetting resin. The shape of the adhesive sheet 3 is not particularly limited, but the width is preferably 1 mm or more and the thickness is preferably 15 to 60 μm. If the width of the adhesive sheet 3 is less than 1 mm, it is not preferable because a current of 0.5 A or more cannot flow and the panel does not operate. Further, when the thickness of the adhesive sheet 3 is less than 15 μm, the adhesive strength is insufficient and the film is easily peeled off, and when the thickness exceeds 60 μm, conduction is not possible. The thickness of the adhesive sheet 3 is more preferably 35 to 40 μm corresponding to the thickness 5 to 15 μm of the thick film electrode 2. The reason is that the amount of protrusion of the adhesive sheet 3 is appropriate within this range, and if it exceeds this range, the adhesive sheet 3 adheres to the crimping tool 7, which is not preferable. The adhesion length of the adhesive sheet 3 is not particularly limited as long as it is longer than the width by which the glass substrate 1 and the flexible substrate 5 are pressure-bonded.

接着剤シート3に分散されている導電粒子4の粒径は、3〜15μmが望ましい。3μm未満では、0.5A以上の電流を流せなくなり、パネルが動作しなくなるため好ましくなく、15μmを越えると電極間のショート不良が発生しやすくなるため好ましくない。   The particle size of the conductive particles 4 dispersed in the adhesive sheet 3 is desirably 3 to 15 μm. If it is less than 3 μm, it is not preferable because a current of 0.5 A or more cannot be flown and the panel does not operate, and if it exceeds 15 μm, a short defect between the electrodes tends to occur.

接着剤シート3は、ガラス基板1側に貼り付けられるものに限らず、フレキシブル基板5側に貼り付けられるようにしてもよく、また、ガラス基板1及びフレキシブル基板5のいずれにも貼り付けられずに、両基板1,5が重ね合わされるときに所定の位置に位置決めされるように配置されてもよい。   The adhesive sheet 3 is not limited to be attached to the glass substrate 1 side, and may be attached to the flexible substrate 5 side, and is not attached to either the glass substrate 1 or the flexible substrate 5. In addition, the two substrates 1 and 5 may be arranged so as to be positioned at a predetermined position when they are overlapped.

ガラス基板1やフレキシブル基板5の材質は、特に限定されない。厚膜の銀電極2は、スクリーン印刷やフォトグラフ法により形成され、焼成される。電極2の材質は特に限定されない。フレキシブル基板5の電極6の材質も、特に限定されないが、好ましくは、銅にニッケルめっき後、さらに金めっきしたものがある。   The material of the glass substrate 1 or the flexible substrate 5 is not particularly limited. The thick film silver electrode 2 is formed by screen printing or a photolithography method and baked. The material of the electrode 2 is not particularly limited. The material of the electrode 6 of the flexible substrate 5 is not particularly limited, but preferably, the copper is nickel-plated and then gold-plated.

圧着ツール7による加圧力の一例としては、20kg/cm程度が好ましい。 As an example of the pressure applied by the crimping tool 7, about 20 kg / cm 2 is preferable.

上記第1実施形態によれば、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6とを半田を用いることなく導通させるため両電極2,6間での良好な接続を確保することができ、半田による不具合、つまり、半田の酸化や腐食のために、電気的な導通に不具合を生じることや、半田付けの際の半田の濡れが悪かったり、半田ブリッジが発生し、接合品質が悪くなることがなくなり、かつ、高電流化に対応することができ、さらに、電極の狭ピッチ化、例えば0.3mm以下のピッチにも対応できる、高信頼性の接合品質を実現することができる。   According to the first embodiment, since the electrode 2 on the glass substrate 1 and the electrode 6 of the flexible substrate 5 are made conductive without using solder, a good connection between the electrodes 2 and 6 can be secured. , Defects caused by solder, that is, due to oxidation and corrosion of the solder, it causes problems in electrical continuity, poor solder wetting during soldering, solder bridges, and poor joint quality In addition, it is possible to realize a highly reliable bonding quality that can cope with an increase in current and that can cope with a narrow pitch of electrodes, for example, a pitch of 0.3 mm or less.

(第2実施形態)
図2は、本発明の第2実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法において、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6の接合後の断面図を示している。図7は両電極2,6の接合状態での平面図である。第1実施形態と異なるのは、図2において、接着剤シート3に分散された導電粒子4が、8μm±2μmの粒径のニッケル粒子の表面に金めっきしたものである点である。
(Second Embodiment)
FIG. 2 shows a cross-sectional view after joining the electrode 2 on the glass substrate 1 and the electrode 6 on the flexible substrate 5 in the electrode joining method of the plasma display panel according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7 is a plan view of the joined state of both electrodes 2 and 6. The difference from the first embodiment is that, in FIG. 2, the conductive particles 4 dispersed in the adhesive sheet 3 are gold-plated on the surface of nickel particles having a particle diameter of 8 μm ± 2 μm.

導電粒子4に被覆される金の厚さは、特に限定されない。また、金めっき方法等についても、特に限定されない。接着剤シート3の材質、形状や、導電粒子4の大きさ、ガラス基板1、ガラス基板1上の電極2やフレキシブル基板5、フレキシブル基板5上の電極6の材質、形成方法については、第1実施形態と同様である。   The thickness of the gold coated on the conductive particles 4 is not particularly limited. Also, the gold plating method and the like are not particularly limited. Regarding the material and shape of the adhesive sheet 3, the size of the conductive particles 4, the material of the glass substrate 1, the electrode 2 on the glass substrate 1, the flexible substrate 5, and the electrode 6 on the flexible substrate 5, and the formation method, This is the same as the embodiment.

第2実施形態によれば、第1実施形態の奏する作用効果に加えて、プラズマディスプレイパネルが高温に曝された場合でも、導電粒子4の酸化が生じず、電気的な導通阻害が防止できる。   According to the second embodiment, in addition to the operational effects of the first embodiment, even when the plasma display panel is exposed to a high temperature, the conductive particles 4 are not oxidized, and electrical conduction inhibition can be prevented.

(第3実施形態)
図3は、本発明の第3実施形態においてプラズマディスプレイパネルの電極接合方法において、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6の接合後の断面図を示している。図7は両電極2,6の接合状態での平面図である。図14は上記第3実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法のフローチャートである。第1,第2実施形態と異なるのは、図3において、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6の接合部を各電極の両端も含めて覆い隠すように、シリコーン樹脂8が塗布されている点(図14のステップS4参照)である。このようにシリコーン樹脂8を接合部に塗布する理由は、以下のとおりである。一般に、プラズマディスプレイパネルにおいては端子間に250V程度の高電圧がかけられるため、水分と金属イオンが電極間に存在すると、高電圧と合わさってマイグレーションが発生する原因となってしまう。そこで、シリコーン樹脂8を接合部を覆うように塗布すれば、電極間の接合部に水分が侵入することが確実に防止でき、マイグレーションの発生を効果的に防止することができる。このように水分の侵入を防止するためには、シリコーン樹脂8は少なくとも0.3μm以上の厚さが必要であり、2mmを超える厚さとした場合には、シリコーン樹脂8の硬化に相当な時間を要してしまい、実用上問題がある。よって、シリコーン樹脂8の厚さは0.3μmから2mm程度、好ましくは0.5μmから2mm程度とするのが実際的であり、好ましい。
(Third embodiment)
FIG. 3 shows a cross-sectional view after joining the electrode 2 on the glass substrate 1 and the electrode 6 on the flexible substrate 5 in the electrode joining method of the plasma display panel in the third embodiment of the present invention. FIG. 7 is a plan view of the joined state of both electrodes 2 and 6. FIG. 14 is a flowchart of a method of bonding a flexible substrate to a glass substrate by the electrode bonding method of the plasma display panel according to the third embodiment. 3 differs from the first and second embodiments in FIG. 3 in that the silicone resin 8 is formed so as to cover the joint portion between the electrode 2 of the glass substrate 1 and the electrode 6 of the flexible substrate 5 including both ends of each electrode. It is the point (refer step S4 of FIG. 14) being apply | coated. The reason for applying the silicone resin 8 to the joint portion in this way is as follows. In general, since a high voltage of about 250 V is applied between terminals in a plasma display panel, if moisture and metal ions are present between electrodes, the high voltage causes a migration. Therefore, if the silicone resin 8 is applied so as to cover the joint, moisture can be reliably prevented from entering the joint between the electrodes, and migration can be effectively prevented. Thus, in order to prevent moisture from entering, the silicone resin 8 needs to have a thickness of at least 0.3 μm or more. When the thickness exceeds 2 mm, a considerable time is required for curing the silicone resin 8. This is a problem in practical use. Therefore, it is practical and preferable that the thickness of the silicone resin 8 is about 0.3 μm to 2 mm, preferably about 0.5 μm to 2 mm.

ここで、図9は上記第3実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によりプラズマディスプレイパネルのガラス基板の電極とフレキシブル基板の電極とを接合する状態を示す部分斜視図である。101aは表面側のガラス基板、101bは裏面側のガラス基板、103はACF(異方導電性シート)である。また、図10は、上記第3実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によりプラズマディスプレイパネルのガラス基板の電極とフレキシブル基板の電極とを接合したのちシリコ−ン樹脂を塗布する状態を示す部分斜視図である。さらに、図11は、図10において、プラズマディスプレイパネルのガラス基板の電極とフレキシブル基板の電極との接合部分の表裏両面に塗布したシリコ−ン樹脂が上記接合部分の端面にて境界を形成することなく連続的にかつ一体的に連結される状態(8a参照)を示す部分拡大断面図である。 シリコーン樹脂8は、いかなる種類のシリコーン樹脂でもよいが、好ましくは、室温硬化型シリコーン樹脂である。このような室温硬化型シリコーン樹脂8を使用した場合には、塗布後、室温で放置して自然乾燥させるだけでよい。シリコーン樹脂8の材質としては、銀電極2に水分などが接触して腐食しないようにするため、脱アルコール型又は脱アセトン型のシリコーンが好ましい。シリコーン樹脂8の厚さとしては、0.3μmから2mm程度、好ましくは0.5μmから2mm程度とするのが実際的であり、好ましい。   Here, FIG. 9 is a partial perspective view showing a state in which the electrode of the glass substrate and the electrode of the flexible substrate of the plasma display panel are joined by the electrode joining method of the plasma display panel according to the third embodiment. 101a is a glass substrate on the front surface side, 101b is a glass substrate on the back surface side, and 103 is an ACF (anisotropic conductive sheet). FIG. 10 is a view showing a state in which a silicone resin is applied after the electrodes of the glass substrate and the flexible substrate of the plasma display panel are joined by the electrode joining method of the plasma display panel according to the third embodiment. It is a perspective view. Further, FIG. 11 shows that in FIG. 10, the silicone resin applied to both the front and back surfaces of the joined portion between the glass substrate electrode and the flexible substrate electrode of the plasma display panel forms a boundary at the end face of the joined portion. It is a partial expanded sectional view which shows the state (refer 8a) connected without being continuous and integrated. The silicone resin 8 may be any type of silicone resin, but is preferably a room temperature curable silicone resin. When such room temperature curable silicone resin 8 is used, it is only necessary to leave it at room temperature and dry naturally after application. The material of the silicone resin 8 is preferably a dealcohol-free or acetone-free silicone so that moisture or the like does not come into contact with the silver electrode 2 and corrode. The thickness of the silicone resin 8 is practically and preferably about 0.3 to 2 mm, preferably about 0.5 to 2 mm.

このように室温硬化型シリコーン樹脂を、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6の接合部を各電極の両端も含めて覆い隠すように塗布するとき、より詳細には、以下のように行う。図15に示すように、ディスペンサーを使用して、まず、図9に示すような矩形のプラズマディスプレイパネルの場合には、その4辺の各辺の接合部における表面及び裏面のうちいずれか一方、例えば表面側の接合部に室温硬化型シリコーン樹脂8を塗布する(図15ステップS4a)。そして、このまま室温に放置して自然乾燥させ(図15ステップS4b)、たとえば、3から5分程度経過すれば、表裏反転しても室温硬化型シリコーン樹脂8が垂れない状態となるため、表裏反転したのち、表面及び裏面のうちいずれか他方、例えば裏面側の接合部に室温硬化型シリコーン樹脂8を塗布する(図15ステップS4c)。このとき、室温硬化型シリコーン樹脂8が完全に硬化した状態ではなく半硬化状態のとき、例えば、室温硬化型シリコーン樹脂8を塗布してから5分経過後から60分経過後までの間に、他方の面の接合部に室温硬化型シリコーン樹脂8を塗布することにより、図10に示すように、電極5の単面において表面側接合部から裏面側接合部に達しようとしている部分の室温硬化型シリコーン樹脂8が、図10及び11において8aにより示すように、裏面側で塗布される室温硬化型シリコーン樹脂8と境界面を形成することなく混ざり合って一体化することになり、より確実に接合部を覆うことができる。もし、表裏両面に塗布したシリコーン樹脂8の間で境界が形成されてしまうと、その境界から水分が接合部分に侵入する恐れがあるため好ましくない。   When the room temperature curable silicone resin is applied in such a manner as to cover the joint between the electrode 2 of the glass substrate 1 and the electrode 6 of the flexible substrate 5 including both ends of each electrode, the following details are given. Do as follows. As shown in FIG. 15, using a dispenser, first, in the case of a rectangular plasma display panel as shown in FIG. 9, one of the front surface and the back surface at the joint portion of each of the four sides, For example, the room temperature curable silicone resin 8 is applied to the joint portion on the front side (step S4a in FIG. 15). Then, it is left to stand at room temperature and naturally dried (step S4b in FIG. 15). For example, after about 3 to 5 minutes, the room temperature curable silicone resin 8 does not drip even if the front and back are reversed. After that, the room temperature curable silicone resin 8 is applied to either the front surface or the back surface, for example, the joint on the back surface side (step S4c in FIG. 15). At this time, when the room temperature curable silicone resin 8 is not completely cured but in a semi-cured state, for example, between 5 minutes and 60 minutes after applying the room temperature curable silicone resin 8, By applying room temperature curable silicone resin 8 to the joint portion on the other surface, as shown in FIG. 10, room temperature curing of the portion of the single surface of electrode 5 that is about to reach the back surface side joint portion from the front surface side joint portion. As shown by 8a in FIGS. 10 and 11, the mold-type silicone resin 8 is mixed and integrated with the room temperature curable silicone resin 8 applied on the back surface side without forming a boundary surface. The joint can be covered. If a boundary is formed between the silicone resins 8 applied to both the front and back surfaces, it is not preferable because moisture may enter the bonded portion from the boundary.

接着剤シート3に分散されている導電粒子4の種類は、ニッケル粒子または、金めっきされたニッケル粒子である。   The kind of the conductive particles 4 dispersed in the adhesive sheet 3 is nickel particles or gold-plated nickel particles.

接着剤シート3の材質、形状や、導電粒子4の大きさ、ガラス基板1、ガラス基板1上の電極2やフレキシブル基板5、フレキシブル基板5上の電極6の材質、形成方法については、前記と同様である。   Regarding the material and shape of the adhesive sheet 3, the size of the conductive particles 4, the material of the glass substrate 1, the electrode 2 on the glass substrate 1, the flexible substrate 5, and the electrode 6 on the flexible substrate 5, and the formation method thereof, It is the same.

第3実施形態によれば、第1実施形態の奏する作用効果に加えて、シリコーン樹脂8により、電極2,6間の接合部分への水や腐食性ガスの侵入を防止でき、電極2,6や導電粒子4の酸化が生じず、電気的な導通阻害が防止できる。   According to the third embodiment, in addition to the operational effects of the first embodiment, the silicone resin 8 can prevent water and corrosive gas from entering the joint between the electrodes 2 and 6, and the electrodes 2 and 6 can be prevented. In addition, oxidation of the conductive particles 4 does not occur, and electrical conduction hindrance can be prevented.

(第4実施形態)
図4は、本発明の第4実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法において、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6の接合後の断面図を示している。図7は両電極2,6の接合状態での平面図である。図16は、上記第4実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法のフローチャートである。前記第1〜3実施形態と異なるのは、図3において、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6との接合部を覆い隠すように、紫外線硬化型樹脂9が塗布されている点(図16ステップS14)及びその紫外線硬化型樹脂9に紫外線を照射して硬化させる点(図16ステップS15)である。
(Fourth embodiment)
FIG. 4 shows a cross-sectional view after joining the electrode 2 on the glass substrate 1 and the electrode 6 on the flexible substrate 5 in the electrode joining method of the plasma display panel according to the fourth embodiment of the present invention. FIG. 7 is a plan view of the joined state of both electrodes 2 and 6. FIG. 16 is a flowchart of a method of bonding a flexible substrate to a glass substrate by the electrode bonding method of the plasma display panel according to the fourth embodiment. The difference from the first to third embodiments is that, in FIG. 3, an ultraviolet curable resin 9 is applied so as to cover the joint between the electrode 2 on the glass substrate 1 and the electrode 6 of the flexible substrate 5. This is a point (step S14 in FIG. 16) and a point (step S15 in FIG. 16) where the ultraviolet curable resin 9 is irradiated with ultraviolet rays.

紫外線硬化型樹脂9は、いかなる種類の紫外線硬化型樹脂でもよいが、硬化強度が大きく耐湿性が良いエポキシアクリレート系樹脂が好ましい。   The ultraviolet curable resin 9 may be any type of ultraviolet curable resin, but is preferably an epoxy acrylate resin having high curing strength and good moisture resistance.

接着剤シート3に分散されている導電粒子4の種類は、ニッケル粒子または、金めっきされたニッケル粒子である。   The kind of the conductive particles 4 dispersed in the adhesive sheet 3 is nickel particles or gold-plated nickel particles.

接着剤シート3の材質、形状や、導電粒子4の大きさ、ガラス基板1、ガラス基板上電極2やフレキシブル基板5、フレキシブル基板電極6の材質、形成方法については、前記第1実施形態と同様である。   The material and shape of the adhesive sheet 3, the size of the conductive particles 4, the material of the glass substrate 1, the glass substrate upper electrode 2, the flexible substrate 5, and the flexible substrate electrode 6, and the formation method are the same as in the first embodiment. It is.

第4実施形態によれば、第1実施形態の奏する作用効果に加えて、紫外線硬化型樹脂9により、短時間で、電極2,6間の接合部分への水や腐食性ガスの侵入が防止でき、かつ、電極2,6や導電粒子4の酸化が生じない、電気的な導通阻害が防止できる被覆が形成でき、高信頼性の接合品質を実現できる。   According to the fourth embodiment, in addition to the operational effects of the first embodiment, the ultraviolet curable resin 9 prevents water and corrosive gas from entering the joint between the electrodes 2 and 6 in a short time. In addition, it is possible to form a coating that does not cause oxidation of the electrodes 2 and 6 and the conductive particles 4 and can prevent electrical conduction inhibition, thereby realizing a highly reliable bonding quality.

(第5実施形態)
図5,6は、本発明の第5実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法を示す。図7は両電極2,6の接合状態での平面図である。図17は、上記第5実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法のフローチャートである。この第5実施形態は、第1〜4実施形態とは異なり、接着剤シート3に導電粒子4を含まずに、両電極2,6を接合する方法(図17ステップS23参照)を示す。
(Fifth embodiment)
5 and 6 show an electrode bonding method for a plasma display panel according to a fifth embodiment of the present invention. FIG. 7 is a plan view of the joined state of both electrodes 2 and 6. FIG. 17 is a flowchart of a method for bonding a flexible substrate to a glass substrate by the electrode bonding method for a plasma display panel according to the fifth embodiment. Unlike the first to fourth embodiments, the fifth embodiment shows a method of joining the electrodes 2 and 6 without including the conductive particles 4 in the adhesive sheet 3 (see step S23 in FIG. 17).

この第5実施形態では、ガラス基板1の厚膜電極2に対して導電粒子が含有されていない接着剤シート3を介してフレキシブル基板5等の電極6に圧着して加熱することにより、表面粗さが2から3μm程度の厚膜電極2の表面に厚膜ゆえに元々形成されている凹凸がフレキシブル基板5等の電極(銅製)6に食い込むようになり、両電極2,6が電気的に接合される。この場合、接着剤シート3は、加圧により最終的に両電極間を電気的に接触させる前に両電極2,6の位置を一時的に位置決めするとともに、後工程でシリコ−ン樹脂8が両電極間に入り込むのを防止するためのものであり、導電粒子は含有されていない。この場合の加圧力としては40〜50kg/cm、加熱温度としては180℃以上が好ましい。厚膜電極2の表面の凹凸は一例としては±2μm程度である。両電極2,6の接合幅は3mm程度以上とするのが実用的である。 In this fifth embodiment, the thick surface electrode 2 of the glass substrate 1 is pressed against the electrode 6 such as the flexible substrate 5 via the adhesive sheet 3 containing no conductive particles, and heated, so that the surface roughness is increased. The unevenness originally formed on the surface of the thick film electrode 2 having a thickness of about 2 to 3 μm bites into the electrode (copper) 6 such as the flexible substrate 5 and the both electrodes 2 and 6 are electrically joined. Is done. In this case, the adhesive sheet 3 temporarily positions the electrodes 2 and 6 before finally bringing both electrodes into electrical contact by pressurization, and the silicone resin 8 is used in a later step. This is to prevent the electrode from entering between the two electrodes, and does not contain conductive particles. In this case, the applied pressure is preferably 40 to 50 kg / cm 2 , and the heating temperature is preferably 180 ° C. or higher. As an example, the unevenness of the surface of the thick film electrode 2 is about ± 2 μm. It is practical that the joining width of both electrodes 2 and 6 is about 3 mm or more.

接着剤シート3としては、異方導電性シート(ACF)であってもよく、またこのACFに限らず、任意の仮止め用の接着剤シートとしては、例えばACFと比較して安価なエポキシ樹脂を使用することができる。   The adhesive sheet 3 may be an anisotropic conductive sheet (ACF). The adhesive sheet 3 is not limited to this ACF, and as an adhesive sheet for arbitrary temporary fixing, for example, an epoxy resin that is less expensive than ACF. Can be used.

第5実施形態によれば、厚膜電極2の表面に生じる凹凸を利用して、この凹凸が対向する電極6の表面に食い込むことにより両電極2,6を電気的に接合するようにしたので、導電粒子が不要となり、導電粒子を接着剤シート3中で例えば均一に配置することなどが不要となる。さらに、上記第5実施形態によれば、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6とを半田を用いることなく導通させるため両電極2,6間での良好な接続を確保することができ、半田による不具合、つまり、半田の酸化や腐食のために、電気的な導通に不具合を生じることや、半田付けの際の半田の濡れが悪かったり、半田ブリッジが発生し、接合品質が悪くなることがなくなり、かつ、高電流化に対応することができ、さらに、電極の狭ピッチ化、例えば0.3mm以下のピッチにも対応できる、高信頼性の接合品質を実現することができる。   According to the fifth embodiment, since the unevenness generated on the surface of the thick film electrode 2 is used and the unevenness bites into the surface of the opposing electrode 6, the electrodes 2 and 6 are electrically joined. The conductive particles become unnecessary, and it becomes unnecessary to arrange the conductive particles uniformly in the adhesive sheet 3, for example. Furthermore, according to the said 5th Embodiment, since the electrode 2 on the glass substrate 1 and the electrode 6 of the flexible substrate 5 are made conductive without using solder, it is possible to ensure a good connection between the electrodes 2 and 6. The failure of the solder, that is, due to the oxidation and corrosion of the solder, the electrical continuity is defective, the solder is poorly wet during soldering, the solder bridge is generated, and the joint quality is improved. It is possible to realize a highly reliable bonding quality that does not deteriorate, can cope with a high current, and can also cope with a narrow pitch of an electrode, for example, a pitch of 0.3 mm or less. .

この第5実施形態においても、第3,4実施形態を適用すれば、紫外線硬化型樹脂9、または、シリコーン樹脂8により、電極2,6間の接合部分への水や腐食性ガスの侵入を防止でき、電極2,6や導電粒子4の酸化が生じず、電気的な導通阻害が防止できる。例えば、図12は、上記第5実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法の変形例として、図5の接合方法での接合後の状態の後にシリコーン樹脂をさらに塗布した状態を示す断面図である。   Also in the fifth embodiment, if the third and fourth embodiments are applied, the ultraviolet curable resin 9 or the silicone resin 8 allows water or corrosive gas to enter the joint between the electrodes 2 and 6. It is possible to prevent the electrodes 2 and 6 and the conductive particles 4 from being oxidized, thereby preventing electrical conduction inhibition. For example, FIG. 12 is a cross-sectional view showing a state in which a silicone resin is further applied after the state after joining in the joining method of FIG. 5 as a modification of the electrode joining method of the plasma display panel according to the fifth embodiment. is there.

前記第1〜4実施形態において、導電粒子4の材質としては特に限定されないが、厚膜電極2が銀電極の場合には、銀の酸化を防止する観点から、導電粒子4はニッケル粒子、金メッキされたニッケル粒子、又は金そのものからなる粒子とするのが好ましい。   In the first to fourth embodiments, the material of the conductive particles 4 is not particularly limited. However, when the thick film electrode 2 is a silver electrode, the conductive particles 4 are nickel particles or gold plating from the viewpoint of preventing silver oxidation. Preferably, the particles are made of nickel particles or gold itself.

なお、本発明は、DCタイプ及びACタイプの両方のプラズマディスプレスパネルに適用できるものである。   The present invention is applicable to both DC type and AC type plasma display panels.

次に、本発明の具体例としての実施例を説明する。   Next, specific examples of the present invention will be described.

(実施例1)
図1を参照しながら説明する。
(Example 1)
This will be described with reference to FIG.

ガラス1(厚さ3mm)上にスクリーン印刷法と焼成により形成された厚膜の銀電極2(厚さ10μm、0.3mmピッチ)に、導電粒子4としてニッケル粒子(粒径5μm)が分散された接着剤シート3(熱硬化性エポキシ樹脂、幅3mm、厚さ40μm)を貼り付ける。このとき、加熱温度は100℃、加圧力は10kg/cm、加圧時間は5秒加圧である。次いで、フレキシブル基板5の電極6を前記ガラス基板1の電極2に合わせるように貼り付ける。次いで、前記フレキシブル基板5の上から圧着ツール7で、加熱加圧して、前記の接着剤シート3を硬化し、ガラス基板1上に厚膜銀電極2とフレキシブル基板5の電極6を導通させる。このとき、加熱温度は170℃、加圧力は20kg/cm、加圧時間は20秒加圧である。 Nickel particles (particle size 5 μm) are dispersed as conductive particles 4 on a thick film silver electrode 2 (thickness 10 μm, 0.3 mm pitch) formed by screen printing and baking on glass 1 (thickness 3 mm). Adhesive sheet 3 (thermosetting epoxy resin, width 3 mm, thickness 40 μm) is pasted. At this time, the heating temperature is 100 ° C., the applied pressure is 10 kg / cm 2 , and the pressurizing time is 5 seconds. Next, the electrode 6 of the flexible substrate 5 is attached so as to match the electrode 2 of the glass substrate 1. Next, the adhesive sheet 3 is cured by heating and pressing with the crimping tool 7 from above the flexible substrate 5, and the thick film silver electrode 2 and the electrode 6 of the flexible substrate 5 are made conductive on the glass substrate 1. At this time, the heating temperature is 170 ° C., the applied pressure is 20 kg / cm 2 , and the pressurizing time is 20 seconds.

なお、以上の説明では、ガラス基板、ガラス基板上の電極、フレキシブル基板、フレキシブル基板の電極、接着剤シート、導電粒子等の材質、大きさ、厚みや、また、工程での圧力、温度、時間を限定したが、これらは、一つの例であり、限定されるものではない。   In the above description, the material, size and thickness of the glass substrate, electrodes on the glass substrate, flexible substrate, flexible substrate electrode, adhesive sheet, conductive particles, etc., and the pressure, temperature, time in the process However, these are only examples and are not limited.

(実施例2)
実施例1における接着剤シート3に分散されている導電粒子4を金めっきニッケル粒子(粒径5μm)に置き換えたものを使用した。金めっきは、フラッシュめっき法により作製した。
(Example 2)
What replaced the electroconductive particle 4 disperse | distributed in the adhesive agent sheet 3 in Example 1 by the gold plating nickel particle (particle diameter of 5 micrometers) was used. Gold plating was produced by flash plating.

その他の工程と条件は、実施例1と同じ。   Other steps and conditions are the same as those in Example 1.

(実施例3)
実施例1における、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6を接合、導通させたものに、その接合部を覆い隠すように、シリコーン樹脂8(脱アルコール型シリコーン樹脂、SE4486、東レダウコーニングシリコーン社製)を塗布し、硬化させた(25℃で3時間放置させて硬化)。
(Example 3)
In Example 1, the electrode 2 on the glass substrate 1 and the electrode 6 on the flexible substrate 5 are joined and made conductive, and the silicone resin 8 (dealcohol-free silicone resin, SE4486, Toray Industries Inc. (Manufactured by Dow Corning Silicone Co., Ltd.) was applied and cured (set at 25 ° C. for 3 hours to cure).

その他の工程と条件は、実施例1と同じ。   Other steps and conditions are the same as those in Example 1.

(実施例4)
実施例1における、ガラス基板1上の電極2とフレキシブル基板5の電極6を接合、導通させたものに、その接合部を覆い隠すように、紫外線硬化型樹脂8(エポキシアクリレート系樹脂、PSR−310、互応化学社製)を塗布し、硬化させた。(紫外線365nm、1000mJ/cm、10秒照射硬化)。
(Example 4)
In Example 1, the ultraviolet curable resin 8 (epoxy acrylate-based resin, PSR-) is formed so as to cover the bonded portion of the electrode 2 on the glass substrate 1 and the electrode 6 of the flexible substrate 5 that are bonded and conductive. 310, manufactured by Kyodo Chemical Co., Ltd.) and applied to cure. (UV 365 nm, 1000 mJ / cm, 10 second irradiation curing).

その他の工程と条件は、実施例1と同じ。   Other steps and conditions are the same as those in Example 1.

(比較例)
ガラス1(厚さ3mm)上にスクリーン印刷法と焼成により形成された厚膜の銀電極2(厚さ10μm、0.3mmピッチ)に、半田めっき(めっき厚さ15μm)されたフレキシブル基板5の電極6を前記ガラス基板1の電極2に合わせ、ついで、前記フレキシブル基板5の上から圧着ツール7で、加熱加圧して、半田10を溶融させ、ガラス基板1上に厚膜銀電極2とフレキシブル基板5の電極6を導通させた。(230℃、2kg/cm、3秒加圧)。
(Comparative example)
The flexible substrate 5 is solder-plated (plating thickness 15 μm) on a thick silver electrode 2 (thickness 10 μm, 0.3 mm pitch) formed on the glass 1 (thickness 3 mm) by screen printing and baking. The electrode 6 is aligned with the electrode 2 of the glass substrate 1, and then heated and pressed by the crimping tool 7 from above the flexible substrate 5 to melt the solder 10, and the thick film silver electrode 2 and the flexible film are formed on the glass substrate 1. The electrode 6 of the substrate 5 was made conductive. (230 ℃, 2kg / cm 2 , 3 seconds pressurization).

実施例1〜4と比較例のサンプルをn=50個ずつ作製し、各種の信頼性試験後の導通不良率とIC部品交換時の基板の破損不良率を調べた。   N = 50 samples of Examples 1 to 4 and Comparative Example were prepared, and the failure rate of continuity after various reliability tests and the failure rate of breakage of the substrate during IC component replacement were examined.

Figure 2006276881
Figure 2006276881

このように、比較例と比べて、本実施例によれば、不良率および破損率を0にすることができることがわかる。   Thus, it can be seen that the defect rate and the breakage rate can be reduced to 0 according to the present embodiment as compared with the comparative example.

なお、本発明はプラズマディスプレイパネルに適用した例を説明したが、プラズマディスプレイパネル以外に、情報又はデータなどを表示するために高電圧を端子間にかけるディプレイ装置にも適用することができる。   Although the present invention has been described with reference to an example applied to a plasma display panel, the present invention can also be applied to a display device that applies a high voltage between terminals in order to display information or data in addition to the plasma display panel.

本発明の第1実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法の接合工程での接合状態を示す一部断面図である。It is a partial cross section figure which shows the joining state in the joining process of the joining method of the flexible substrate to the glass substrate by the electrode joining method of the plasma display panel concerning 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法の接合工程での接合状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the joining state in the joining process of the joining method of the flexible substrate to the glass substrate by the electrode joining method of the plasma display panel concerning 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法の接合工程での接合状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the joining state in the joining process of the joining method of the flexible substrate to the glass substrate by the electrode joining method of the plasma display panel concerning 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法の接合工程での接合状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the joining state in the joining process of the joining method of the flexible substrate to the glass substrate by the electrode joining method of the plasma display panel concerning 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法の接合工程での接合状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the joining state in the joining process of the joining method of the flexible substrate to the glass substrate by the electrode joining method of the plasma display panel concerning 5th Embodiment of this invention. 図5の接合方法での接合後の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state after joining by the joining method of FIG. 上記接合状態を示す平面図である。It is a top view which shows the said joining state. 従来のガラス基板へのフレキシブル基板の実装方法の接合工程での接合状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the joining state in the joining process of the mounting method of the flexible substrate to the conventional glass substrate. 本発明の上記第3実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によりプラズマディスプレイパネルのガラス基板の電極とフレキシブル基板の電極とを接合する状態を示す部分斜視図である。It is a fragmentary perspective view which shows the state which joins the electrode of the glass substrate of a plasma display panel, and the electrode of a flexible substrate with the electrode joining method of the plasma display panel concerning the said 3rd Embodiment of this invention. 本発明の上記第3実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によりプラズマディスプレイパネルのガラス基板の電極とフレキシブル基板の電極とを接合したのちシリコ−ン樹脂を塗布する状態を示す部分斜視図である。FIG. 6 is a partial perspective view showing a state in which a silicon resin is applied after the electrodes of the glass substrate and the flexible substrate of the plasma display panel are joined by the electrode joining method of the plasma display panel according to the third embodiment of the present invention. is there. 図10において、プラズマディスプレイパネルのガラス基板の電極とフレキシブル基板の電極との接合部分の表裏両面に塗布したシリコ−ン樹脂が上記接合部分の端面にて境界を形成することなく連続的にかつ一体的に連結される状態を示す部分拡大断面図である。In FIG. 10, the silicone resin applied to both the front and back surfaces of the joint portion between the glass substrate electrode and the flexible substrate electrode of the plasma display panel is continuously and integrally formed without forming a boundary at the end face of the joint portion. It is a partial expanded sectional view which shows the state connected in general. 本発明の第5実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法の変形例として、図5の接合方法での接合後の状態の後にシリコーン樹脂をさらに塗布した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which applied the silicone resin after the state after the joining by the joining method of FIG. 5 as a modification of the electrode joining method of the plasma display panel concerning 5th Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法のフローチャートである。It is a flowchart of the bonding method of the flexible substrate to the glass substrate by the electrode bonding method of the plasma display panel concerning 1st Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法のフローチャートである。It is a flowchart of the joining method of the flexible substrate to the glass substrate by the electrode joining method of the plasma display panel concerning 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法のさらに詳細なフローチャートである。It is a more detailed flowchart of the bonding method of the flexible substrate to the glass substrate by the electrode bonding method of the plasma display panel concerning 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法のフローチャートである。It is a flowchart of the bonding method of the flexible substrate to the glass substrate by the electrode bonding method of the plasma display panel concerning 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの電極接合方法によるガラス基板へのフレキシブル基板の接合方法のフローチャートである。It is a flowchart of the joining method of the flexible substrate to the glass substrate by the electrode joining method of the plasma display panel concerning 5th Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 ガラス基板
2 ガラス基板上の電極
3 接着剤シート
4 導電粒子
5 フレキシブル基板
6 フレキシブル基板の電極
7 圧着ツール
8 シリコーン樹脂
9 紫外線硬化樹脂
10 半田
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Electrode on glass substrate 3 Adhesive sheet 4 Conductive particle 5 Flexible substrate 6 Flexible substrate electrode 7 Crimping tool 8 Silicone resin 9 UV curable resin 10 Solder

Claims (4)

ガラス基板に形成された表面に凹凸を有する電極とフレキシブル基板の電極とを導電粒子が分散された接着剤を介して重ね合わせ、上記接着剤を硬化して上記ガラス基板の電極と上記フレキシブル基板の電極とを接合させるとともに、上記ガラス基板の上記電極と上記フレキシブル基板の上記電極の接合部を覆うように樹脂が形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。   An electrode having irregularities on the surface formed on the glass substrate and an electrode of the flexible substrate are overlapped with an adhesive in which conductive particles are dispersed, and the adhesive is cured to form the electrode of the glass substrate and the flexible substrate. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising: bonding an electrode; and forming a resin so as to cover a bonding portion between the electrode of the glass substrate and the electrode of the flexible substrate. 複数のフレキシブル基板に対して、上記接着剤が連続していることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。   The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 1, wherein the adhesive is continuous with a plurality of flexible substrates. 上記ガラス基板の上記電極と上記複数のフレキシブル基板の上記電極の接合部を連続して覆うように上記樹脂が形成されていることを特徴とする請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。   3. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 2, wherein the resin is formed so as to continuously cover a joint portion between the electrode of the glass substrate and the electrode of the plurality of flexible substrates. 上記ガラス基板の上記電極が形成された表面側の上記フレキシブル基板と上記ガラス基板の境界及び上記ガラス基板の上記表面側とは反対の裏面側の上記フレキシブル基板と上記ガラス基板の境界及び上記ガラス基板と上記フレキシブル基板の接合部分の両端部を覆うように上記樹脂を形成することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
The boundary between the flexible substrate and the glass substrate on the surface side where the electrode of the glass substrate is formed, and the boundary between the flexible substrate and the glass substrate on the back side opposite to the surface side of the glass substrate, and the glass substrate 4. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 1, wherein the resin is formed so as to cover both end portions of the joint portion of the flexible substrate. 5.
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