JP2006274353A - Barrel plating device and production method of electronic part - Google Patents

Barrel plating device and production method of electronic part Download PDF

Info

Publication number
JP2006274353A
JP2006274353A JP2005095342A JP2005095342A JP2006274353A JP 2006274353 A JP2006274353 A JP 2006274353A JP 2005095342 A JP2005095342 A JP 2005095342A JP 2005095342 A JP2005095342 A JP 2005095342A JP 2006274353 A JP2006274353 A JP 2006274353A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
barrel
plating
electronic component
power supply
axial direction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005095342A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Okura
猛 大倉
Yoshihiro Fukuda
吉宏 福田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2005095342A priority Critical patent/JP2006274353A/en
Publication of JP2006274353A publication Critical patent/JP2006274353A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a barrel plating device capable of surely forming a plating film of a desired thickness to a portion to be formed with the plating film even when downsizing is progressed. <P>SOLUTION: The barrel plating device charges an electronic part element 31 as a material to be plated into a barrel 2 and applies plating thereto while rotating the barrel 2 within a plating solution 22 in state state of inclining the axial direction of the barrel 2 with respect to a horizontal direction. The barrel 2 has a pair of end surfaces 2b, 2c arranged at both ends in the axial direction and is extended from the inner side of the at least one end surface of a pair of the end surfaces 2b, 2c into the inside of the barrel 2 and is equipped with feeding terminals 6, 16 bent so as to extend in the direction along the inside surface of the end surfaces 2b, 2c. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば電子部品素体にめっき膜を形成するのに用いられるバレルめっき装置及び該バレルめっき装置を用いた電子部品の製造方法に関し、より詳細には、バレル内においてめっき膜を確実に形成することを可能とする構造が備えられたバレルめっき装置及び該バレルめっき装置を用いた電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to, for example, a barrel plating apparatus used for forming a plating film on an electronic component element body and a method of manufacturing an electronic component using the barrel plating apparatus. The present invention relates to a barrel plating apparatus having a structure capable of being formed and an electronic component manufacturing method using the barrel plating apparatus.

従来、例えば、積層セラミック電子部品などの外部電極を形成するにあたり、導電ペーストの焼き付けにより下地電極を形成した後、該下地電極上にめっき膜を形成する方法が多用されている。このようなめっき膜の形成に際しては、多数のセラミック電子部品に一度にめっき膜を形成するために、バレルめっき法が用いられている。   Conventionally, for example, in forming an external electrode such as a multilayer ceramic electronic component, a method in which a base electrode is formed by baking a conductive paste and then a plating film is formed on the base electrode. In forming such a plating film, a barrel plating method is used to form a plating film on many ceramic electronic components at once.

下記の特許文献1には、上記のようなバレルめっき法を用いた電子部品の製造方法の一例が開示されている。図8は、特許文献1に記載のバレルめっきに用いられるバレルを示す斜視図である。六角筒状のバレル101内に、被めっき物としての電子部品素体と導電性メディアとが投入される。そして、特に図示はしないが、バレル101の側面には、多数の貫通孔が形成されており、バレル101は、めっき液に浸漬された状態で、その軸方向周りに回転される。そして、バレル101を回転しつつ、給電端子102,103から電界を印加することにより、内部の電子部品素体の外表面にめっき膜が形成される。   Patent Document 1 below discloses an example of a method for manufacturing an electronic component using the above barrel plating method. FIG. 8 is a perspective view showing a barrel used for barrel plating described in Patent Document 1. FIG. In the hexagonal cylindrical barrel 101, an electronic component element body and a conductive medium as an object to be plated are placed. Although not particularly illustrated, a large number of through holes are formed in the side surface of the barrel 101, and the barrel 101 is rotated around its axial direction while being immersed in the plating solution. A plating film is formed on the outer surface of the internal electronic component body by applying an electric field from the power supply terminals 102 and 103 while rotating the barrel 101.

なお、上記給電端子102,103の先端部は給電を果たすために露出されているが、先端部以外の部分は絶縁性材料で被覆されているのが、普通である。
特開2004−111534号公報
In addition, although the front-end | tip part of the said electric power feeding terminals 102 and 103 is exposed in order to perform electric power feeding, it is normal that parts other than a front-end | tip part are coat | covered with the insulating material.
JP 2004-111534 A

近年、電子部品の小型化が進んでいる。積層セラミック電子部品などにおいても、外部電極が形成されるセラミック焼結体の寸法は、0.6mm×0.3mm×0.3mmや、0.4mm×0.2mm×0.2mm程度にまで小さくなってきている。このような小型の電子部品にバレルめっき装置を用いてめっき膜を形成しようとした場合、従来とは異なり、必要な部分にめっき膜が形成されないものがあった。あるいは、必要な部分にめっき膜が形成されたとしても、膜厚が所望の膜厚に達しないものがあった。   In recent years, electronic components have been downsized. Also in multilayer ceramic electronic components, the size of the ceramic sintered body on which the external electrode is formed is as small as 0.6 mm × 0.3 mm × 0.3 mm or 0.4 mm × 0.2 mm × 0.2 mm. It has become to. When attempting to form a plating film on such a small electronic component using a barrel plating apparatus, there is a case where the plating film is not formed on a necessary portion, unlike the conventional case. Alternatively, even if a plating film is formed at a necessary portion, there is a film that does not reach a desired film thickness.

すなわち、特許文献1に記載のような従来のバレルめっき装置を用いた場合、電子部品の小型化を進めると、必要な部分に所望の膜厚で確実にめっき膜を形成することができないことがあった。   That is, when a conventional barrel plating apparatus as described in Patent Document 1 is used, if a reduction in the size of an electronic component is advanced, it may not be possible to reliably form a plating film with a desired film thickness on a necessary portion. there were.

特許文献1に記載のバレル101では、電気めっきに際して電界を印加するために、給電端子102,103が、バレル101内に延ばされている。図9は、特許文献1に記載のバレル101を模式的に示す縦断面図である。バレル101は、軸方向両端に、第1,第2の端面101a,101bを有する。端面101a,101bから第1,第2の給電端子102,103がバレル101に延ばされている。第1の給電端子102は、端面101aの内面から軸方向に延ばされている引き出し部102aと、引き出し部102aの先端で下方に折り曲げて設けられた下方延長部102bと、下方延長部102bの下端からバレル101の長さ方向中央に向って延ばされた先端部102cとを有する。同様に、第2の給電端子103も、引き出し部103a、下方延長部103b及び先端部103cを有する。なお、上記給電端子102,103では、先端部102c,103cは、給電作用果たすために露出されているが、引き出し部102a,103a及び下方延長部102b,103bは絶縁性材料で被覆されている。   In the barrel 101 described in Patent Document 1, power supply terminals 102 and 103 are extended into the barrel 101 in order to apply an electric field during electroplating. FIG. 9 is a longitudinal sectional view schematically showing the barrel 101 described in Patent Document 1. As shown in FIG. The barrel 101 has first and second end faces 101a and 101b at both axial ends. First and second power supply terminals 102 and 103 are extended from the end faces 101 a and 101 b to the barrel 101. The first power supply terminal 102 includes a lead portion 102a extending in the axial direction from the inner surface of the end surface 101a, a lower extension portion 102b bent downward at the tip of the lead portion 102a, and a lower extension portion 102b. And a tip portion 102c extending from the lower end toward the center in the length direction of the barrel 101. Similarly, the second power supply terminal 103 also has a lead-out part 103a, a downward extension part 103b, and a tip part 103c. In the power supply terminals 102 and 103, the tip portions 102c and 103c are exposed to perform a power supply function, but the lead-out portions 102a and 103a and the lower extensions 102b and 103b are covered with an insulating material.

バレル101では、上記のように、給電端子102,103がバレル101内において、バレル101の長さ方向中央まで延ばされているため、バレル101を回転させてめっきを行った場合、場合によっては、被めっき物としての電子部品素体104においてめっき不良が生じることがあった。すなわち、バレル101内には、多数の電子部品素体と図示しない導電性メディアとが投入されており、かつめっきに際しては、めっき液105にバレル101が浸漬される。   In the barrel 101, as described above, since the power supply terminals 102 and 103 are extended to the center in the length direction of the barrel 101 in the barrel 101, in some cases, when the barrel 101 is rotated and plating is performed. In some cases, defective plating may occur in the electronic component body 104 as an object to be plated. That is, a large number of electronic component bodies and conductive media (not shown) are placed in the barrel 101, and the barrel 101 is immersed in the plating solution 105 during plating.

ところが、バレル101をめっき液105に浸漬するに際しては、めっき液105の液面の上方からバレル101がめっき液105に浸漬される。従って、バレル101内に存在していた空気が、バレル101内に残存し、バレル101の内部の上方で大きな空気溜まり106が形成されることがある。この空気溜まり106が形成されると、浸漬時に電子部品素体104が空気溜まり106とめっき液105との界面に浮いてしまう。また、この状態で、バレル101を回転し、めっきを行った場合、回転を伴って上方に移動した電子部品素体104も空気溜まり106とめっき液105との界面に移動して浮き上がり、その後、矢印Aで示すように界面から下方に落下することがあった。   However, when the barrel 101 is immersed in the plating solution 105, the barrel 101 is immersed in the plating solution 105 from above the surface of the plating solution 105. Therefore, the air existing in the barrel 101 may remain in the barrel 101 and a large air reservoir 106 may be formed above the inside of the barrel 101. When the air reservoir 106 is formed, the electronic component body 104 floats at the interface between the air reservoir 106 and the plating solution 105 during immersion. Further, in this state, when the barrel 101 is rotated and plating is performed, the electronic component body 104 moved upward with the rotation also moves to the interface between the air reservoir 106 and the plating solution 105, and then floats. As indicated by arrow A, it sometimes dropped downward from the interface.

この場合、下方に落下した電子部品素体104の内、いくつかの電子部品素体104が給電端子102,103の引き出し部102a,103a上に載置されることがあった。前述したように、引き出し部102a,103aは絶縁性材料で被覆されている。そのため、給電端子102,103の引き出し部102a,103aと付着している電子部品素体104において、該付着部分においてめっき膜が形成されないことがあった。   In this case, among the electronic component bodies 104 that have dropped down, some electronic component bodies 104 may be placed on the lead-out portions 102 a and 103 a of the power supply terminals 102 and 103. As described above, the lead portions 102a and 103a are covered with an insulating material. Therefore, in the electronic component base body 104 attached to the lead portions 102a and 103a of the power supply terminals 102 and 103, a plating film may not be formed on the attached portion.

すなわち、従来の筒状バレルを用いたバレルめっき方法や、該バレルめっき方法を用いた電子部品の製造方法では、多数の被めっき物に確実にめっき膜を形成することができないことがあった。   That is, in the conventional barrel plating method using a cylindrical barrel and the electronic component manufacturing method using the barrel plating method, it may be impossible to reliably form a plating film on a large number of objects to be plated.

よって、本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、筒状バレルをめっき液に浸漬した状態で、筒状バレルを回転させつつ、バレルめっきを行うバレルめっき装置であって、被めっき物の外表面にめっき膜を確実に形成することが可能なバレルめっき装置、並びに該めっき装置を用いた電子部品の製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a barrel plating apparatus that performs barrel plating while rotating a cylindrical barrel in a state in which the above-described disadvantages of the prior art are solved and the cylindrical barrel is immersed in a plating solution. An object of the present invention is to provide a barrel plating apparatus capable of reliably forming a plating film on the outer surface of a plated product, and a method for manufacturing an electronic component using the plating apparatus.

本発明に係るバレルめっき装置は、内部に複数の被めっき物及び複数の導電性メディアが収納される筒状のバレルと、前記バレルをバレルの軸方向周りに回転させる回転駆動源と、前記バレルの軸方向を水平方向に対して傾斜させた状態で、前記バレルを軸方向周りに回転させるように前記バレルを保持させるバレル保持装置とを備え、前記筒状のバレルが、軸方向両端に配置された一対の端面を有し、前記一対の端面の少なくとも一方の端面の内側からバレル内に延ばされており、但し該端面の内面に沿う方向に延びるように折り曲げられている給電端子をさらに備えることを特徴とする。   A barrel plating apparatus according to the present invention includes a cylindrical barrel in which a plurality of objects to be plated and a plurality of conductive media are housed, a rotary drive source that rotates the barrel around the axial direction of the barrel, and the barrel And a barrel holding device for holding the barrel so that the barrel is rotated about the axial direction in a state where the axial direction of the cylinder is inclined with respect to the horizontal direction, and the cylindrical barrels are arranged at both ends in the axial direction. A power supply terminal that is extended into the barrel from the inside of at least one end face of the pair of end faces, and is bent so as to extend along the inner face of the end faces. It is characterized by providing.

本発明に係るバレルめっき装置のある特定の局面では、前記給電端子が、前記端面から内側に延び、かつ折り曲げ部を介して端面の内面に沿う方向に下方に延ばされている先端部を有し、前記端面の内面から折り曲げ部までの距離が、前記被めっき物及び導電性メディアの外形寸法の内の最も大きい寸法よりも大きくされている。   In a specific aspect of the barrel plating apparatus according to the present invention, the power supply terminal has a tip portion that extends inward from the end surface and extends downward in a direction along the inner surface of the end surface through a bent portion. And the distance from the inner surface of the said end surface to a bending part is made larger than the largest dimension in the external dimensions of the said to-be-plated thing and electroconductive media.

本発明に係るバレルめっき装置の他の特定の局面では、上記給電端子は、上記第1,第2の端面の双方に設けられている。   In another specific aspect of the barrel plating apparatus according to the present invention, the power supply terminal is provided on both the first and second end faces.

本発明に係るバレルめっき装置のさらに他の特定局面では、上記給電端子は、第1,第2の内、第1の端面側においてのみ設けられており、前記バレル保持装置により、バレルの第2の端面が第1の端面よりも高い位置となるようにバレルが傾斜されるように構成されている。   In still another specific aspect of the barrel plating apparatus according to the present invention, the power supply terminal is provided only on the first end face side of the first and second, and the barrel holding device causes the second of the barrel. The barrel is inclined so that the end face of the first end face is higher than the first end face.

本発明に係るバレルめっき装置のさらに別の特定の局面では、前記給電端子の前記端面の内面に固定されている基端部分が、前記端面の回転中心からずらされた位置とされている。   In still another specific aspect of the barrel plating apparatus according to the present invention, the base end portion fixed to the inner surface of the end surface of the power supply terminal is set to a position shifted from the rotation center of the end surface.

本発明に係る電子部品の製造方法は、本発明に従って構成されたバレルめっき装置を用いることを特徴とし、前記筒状のバレル内に、複数の電子部品素体と、複数の導電性メディアとを収納する工程と、前記バレルをめっき液に浸漬し、該バレルの軸方向が傾斜された状態で、前記回転駆動源によりバレルを回転させ、バレルめっきを行う工程とを備える。   An electronic component manufacturing method according to the present invention uses a barrel plating apparatus configured according to the present invention, and a plurality of electronic component bodies and a plurality of conductive media are provided in the cylindrical barrel. A step of storing, and a step of performing barrel plating by immersing the barrel in a plating solution and rotating the barrel with the rotational drive source in a state where the axial direction of the barrel is inclined.

本発明に係る電子部品の製造方法のある特定の局面では、上記バレルの軸方向の水平方向に対する傾斜角度は2°以上、30°以下の範囲とされる。   In a specific aspect of the method for manufacturing an electronic component according to the present invention, the inclination angle of the barrel with respect to the horizontal direction in the axial direction is in a range of 2 ° to 30 °.

本発明に係る電子部品の製造方法の他の特定の局面では、バレルめっきに際し、バレル内にめっき液に浮遊する複数の浮遊体が投入される。   In another specific aspect of the method for manufacturing an electronic component according to the present invention, a plurality of floating bodies floating in a plating solution are introduced into the barrel during barrel plating.

本発明に係るバレルめっき装置は、筒状のバレルと、バレルをバレルの軸方向周りに回転させる回転駆動源と、バレルの軸方向を水平方向に対して傾斜させた状態でバレルを軸方向周りに回転させるようにバレルを保持するバレル保持装置とを備える。従って、バレルめっきに際し、めっき液に浸漬された状態で、バレルを水平方向に対して傾斜させた状態で回転駆動源により回転させつつバレルめっきを行うことができる。   A barrel plating apparatus according to the present invention includes a cylindrical barrel, a rotational drive source that rotates the barrel around the axial direction of the barrel, and the barrel around the axial direction in a state where the axial direction of the barrel is inclined with respect to the horizontal direction. And a barrel holding device for holding the barrel so as to rotate. Therefore, in the barrel plating, the barrel plating can be performed while being rotated by the rotary drive source in a state where the barrel is inclined with respect to the horizontal direction while being immersed in the plating solution.

この場合、一対の端面の少なくとも一方の端面の内側からバレル内に給電端子が延ばされているが、該給電端子は端面の内面に沿う方向に延びるように折り曲げられているため、バレルの上方から被めっき物が下方に落下してきたとしても、被めっき物が給電端子上に載置し難い。すなわち、給電端子の先端部分が給電端子の端面に取り付けられている基端部分よりも下方に位置している部分よりも、先端部分が内面に沿うように下方に折り曲げられているため、端面の内面に沿うように延ばされている部分では、被めっき物が載置され難い。   In this case, the power supply terminal is extended into the barrel from the inner side of at least one of the pair of end faces, but the power supply terminal is bent so as to extend along the inner surface of the end face. Even if the object to be plated falls from below, the object to be plated is difficult to be placed on the power supply terminal. That is, since the tip end portion of the power feed terminal is bent downward along the inner surface rather than the portion positioned below the base end portion attached to the end face of the power feed terminal, In the portion extended along the inner surface, the object to be plated is difficult to be placed.

なお、給電端子では、先端部が給電作用を果たすために露出されているが、端面から内部に引き出された引き出し部などの他の部分は絶縁性材料で被覆されている。   In the power supply terminal, the tip portion is exposed to perform a power supply function, but other portions such as a lead portion drawn out from the end face to the inside are covered with an insulating material.

従って、たとえめっき液に浸漬した状態でバレルの内部上方に空気溜まりが生じ、該空気溜まりとめっき液との界面に被めっき物が移動した後、該界面から下方に被めっき物が落下してきたとしても、上記給電端子の引き出し部上に被めっき物が載置され難い。そのため、被めっき物に給電できないことによるめっき不良が生じ難い。よって、多数の被めっき物に確実にめっき膜を形成することが可能となる。   Therefore, even if immersed in the plating solution, an air pool is generated in the upper part of the barrel, and after the object to be plated has moved to the interface between the air pool and the plating solution, the object to be plated has fallen downward from the interface. However, it is difficult to place an object to be plated on the lead-out portion of the power supply terminal. Therefore, poor plating due to the inability to supply power to the object to be plated is unlikely to occur. Therefore, it is possible to reliably form a plating film on a large number of objects to be plated.

給電端子が、前記端面から内側に延び、かつ折り曲げ部分を介して端面の内面に沿う方向に延ばされている先端部を有し、端面の内面から折り曲げ部までの距離が、被めっき物及び導電性メディアの外形寸法の内、最大寸法より大きくされている場合には、端面の内面と給電端子の折り曲げ部とによって被めっき物及び導電性メディアの攪拌を阻害することがないので、めっき膜厚のばらつきを抑制することができる。   The power supply terminal has a tip portion extending inward from the end surface and extending in a direction along the inner surface of the end surface through the bent portion, and the distance from the inner surface of the end surface to the bent portion is determined by If the outer dimension of the conductive medium is larger than the maximum dimension, the inner surface of the end surface and the bent portion of the power supply terminal do not hinder the stirring of the object to be plated and the conductive medium. Variation in thickness can be suppressed.

本発明においては、上記給電端子は、第1,第2の端面の双方において設けられてもよい。その場合には、第1,第2の端面に設けられた給電端子から電界を印加してめっきを行うことができる。   In the present invention, the power supply terminal may be provided on both the first and second end faces. In that case, plating can be performed by applying an electric field from a power supply terminal provided on the first and second end faces.

また、給電端子は、第1,第2の端面の内、第1の端面側においてのみ設けられていてもよい。その場合には、好ましくは、バレル保持装置により、バレルの第2の端面が第1の端面よりも高い位置となるように傾斜される。この場合には、めっき液の浸漬状態でバレル内部に上方に空気溜まりが生じしたとしても、空気溜まりは第2の端面側に位置する。そして、第2の端面側においては給電端子は、空気溜まりの下方に存在しないため、空気溜まりとめっき液との界面に漂っていた被めっき物が下方に落下したとしても、下方に給電端子が存在しないため、給電端子と被めっき物との付着によるめっき不良がより一層生じ難い。   Further, the power supply terminal may be provided only on the first end face side of the first and second end faces. In that case, it is preferably inclined by the barrel holding device so that the second end surface of the barrel is positioned higher than the first end surface. In this case, even if an air pool is generated upward in the barrel while the plating solution is immersed, the air pool is located on the second end face side. On the second end face side, since the power supply terminal does not exist below the air reservoir, even if the object to be plated that has drifted at the interface between the air reservoir and the plating solution falls downward, the power supply terminal does not exist below. Since it does not exist, poor plating due to adhesion between the power supply terminal and the object to be plated is more unlikely to occur.

また、給電端子の端面の内面に固定されている基端部分が、端面の回転中心からずらされている場合は、給電端子の基端部分に被めっき物が乗り上げた場合であっても、ずらした距離が大きいほど回転によるめっき液の流れにより、被めっき物が給電端子上から落下し易くなる。従って、めっき不良をより一層確実に軽減することができる。なお、基端部分の引き出し位置から端面の回転中心までの距離が大きければ大きいほど(ずらし量が大きければ大きいほど)めっき液の流れが強くなるので、被めっき物が給電端子上からより落下しやすくなる。   In addition, when the base end portion fixed to the inner surface of the end surface of the power supply terminal is shifted from the center of rotation of the end surface, even if the object to be plated rides on the base end portion of the power supply terminal, the shift is performed. As the distance increases, the plating object flows more easily from the power supply terminal due to the flow of the plating solution by rotation. Accordingly, plating defects can be further reliably reduced. Note that the greater the distance from the extraction position of the base end portion to the center of rotation of the end face (the greater the shift amount), the stronger the plating solution flow, so that the object to be plated falls more from the power supply terminal. It becomes easy.

本発明に係る電子部品の製造方法では、本発明のバレルめっき装置を用いて、電子部品が製造される。そして、筒状のバレル内に、複数の電子部品素体及び複数の導電性メディアを投入し、バレルをめっき液に浸漬し、バレルの軸方向を水平方向に対して傾斜した状態で、回転駆動源によりバレルを回転させて、バレルめっきが行われる。従って、バレル内上方に空気溜まりが生じたとしても、該空気溜まりとめっき液との界面に捕捉された被めっき物がバレルの回転によるめっき液の流れに伴って下方に落下したとしても、給電端子上に電子部品素体が載置され難いため、電子部品素体と給電端子との接触によるめっき不良を低減することが可能となる。   In the electronic component manufacturing method according to the present invention, the electronic component is manufactured using the barrel plating apparatus of the present invention. Then, a plurality of electronic component bodies and a plurality of conductive media are placed in a cylindrical barrel, the barrel is immersed in a plating solution, and the barrel is tilted with respect to the horizontal direction to rotate. Barrel plating is performed by rotating the barrel with a source. Therefore, even if an air puddle is generated in the upper part of the barrel, even if the object to be plated captured at the interface between the air puddle and the plating solution falls downward with the flow of the plating solution due to the rotation of the barrel, the power supply Since it is difficult to place the electronic component body on the terminal, it is possible to reduce plating defects due to contact between the electronic component body and the power supply terminal.

上記バレルの軸方向の傾斜角度を2°以上、30°以下の範囲とした場合には、被めっき物と給電端子との付着によるめっき不良をより確実に低減することが可能となる。   When the inclination angle of the barrel in the axial direction is in the range of 2 ° or more and 30 ° or less, it is possible to more reliably reduce plating defects due to adhesion between the object to be plated and the power supply terminal.

バレルめっきに際し、バレル内のめっき液に浮遊する複数の浮遊体を投入した場合には、バレル内部上方に空気溜まりが生じたとしても、該空気溜まりとめっき液との界面に、浮遊体が漂うことになるため、該界面において電子部品素体が捕捉され難い。従って、電子部品素体が下方に確実に落下することなるため、電子部品素体の上記界面における浮遊によるめっき不良を低減することができる。   In the case of barrel plating, when a plurality of floating bodies floating in the plating solution in the barrel are introduced, even if an air pool is generated inside the barrel, the floating body floats at the interface between the air pool and the plating solution. Therefore, it is difficult for the electronic component body to be captured at the interface. Therefore, since the electronic component element body surely falls downward, plating defects due to floating at the interface of the electronic component element body can be reduced.

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。   Hereinafter, the present invention will be clarified by describing specific embodiments of the present invention with reference to the drawings.

図4は、本発明の一実施形態に係るバレルめっき装置を説明するための略図的正面図である。バレルめっき装置1は、筒状のバレル2を有する。バレル2は、図8に示した従来のバレルめっき装置のバレル101と同様に、筒状の形状を有する。本実施形態では、バレル2は、六角筒状の形状を有する。もっとも、バレル2の横断面形状は六角形に限定されず、他の多角形であってもよい。   FIG. 4 is a schematic front view for explaining a barrel plating apparatus according to an embodiment of the present invention. The barrel plating apparatus 1 has a cylindrical barrel 2. The barrel 2 has a cylindrical shape, similar to the barrel 101 of the conventional barrel plating apparatus shown in FIG. In the present embodiment, the barrel 2 has a hexagonal cylindrical shape. But the cross-sectional shape of the barrel 2 is not limited to a hexagon, and may be another polygon.

バレル2の外周側面、すなわち6つの側面には、複数の貫通孔2aが形成されている。貫通孔2aは、バレル2の内部とバレル2の外部とを連通させるために設けられている。   A plurality of through holes 2 a are formed on the outer peripheral side surface of the barrel 2, that is, six side surfaces. The through-hole 2 a is provided for communicating the inside of the barrel 2 with the outside of the barrel 2.

なお、貫通孔2aは、少なくとも側面に形成されておればよい。従って、貫通孔2aはバレル2の6つの側面の両端に位置している一対の端面にも形成されていてもよい。   In addition, the through-hole 2a should just be formed in the side surface at least. Therefore, the through holes 2 a may be formed on a pair of end surfaces located at both ends of the six side surfaces of the barrel 2.

他方、バレル2は、支持部材3に回転可能に支持されている。支持部材3は、一対の支持板4,5を有する。支持板4,5は、上下方向に延びるように配置されている。また、支持板4,5には、バレル2を回転可能に支持するために、スリーブ4a,5aが設けられている。スリーブ4a,5aにより、バレル2が回転可能に支持されている。   On the other hand, the barrel 2 is rotatably supported by the support member 3. The support member 3 has a pair of support plates 4 and 5. The support plates 4 and 5 are arranged so as to extend in the vertical direction. The support plates 4 and 5 are provided with sleeves 4a and 5a in order to rotatably support the barrel 2. The barrel 2 is rotatably supported by the sleeves 4a and 5a.

バレル2は、その軸方向が支持板4,5を結ぶ方向に延びるように配置されている。図4に示すように、初期状態では、支持板4,5は、上下方向に延び、従ってバレル2の軸方向は水平方向に一致している。   The barrel 2 is arranged so that its axial direction extends in a direction connecting the support plates 4 and 5. As shown in FIG. 4, in the initial state, the support plates 4 and 5 extend in the vertical direction, and therefore the axial direction of the barrel 2 coincides with the horizontal direction.

他方、スリーブ4aには、給電端子としての陰極端子6が取り付けられている。陰極端子6は、スリーブ4aを経てバレル2の端面2bからバレル2内に延ばされている。この陰極端子6は、めっきに際し陽極からの電流を通電させるために設けられており、陰極端子6のバレル内に延びている部分が陰極を構成している。   On the other hand, a cathode terminal 6 as a power supply terminal is attached to the sleeve 4a. The cathode terminal 6 extends from the end surface 2b of the barrel 2 into the barrel 2 via the sleeve 4a. The cathode terminal 6 is provided in order to pass a current from the anode during plating, and the portion of the cathode terminal 6 extending into the barrel constitutes the cathode.

また、スリーブ4aとは反対側の面にスリーブ5aが配置されており、スリーブ5aを介して他方の給電端子としての陰極端子16がバレル2の他方の端面2cからバレル2内に延ばされている。   A sleeve 5a is arranged on the surface opposite to the sleeve 4a, and a cathode terminal 16 as the other power supply terminal is extended from the other end surface 2c of the barrel 2 into the barrel 2 via the sleeve 5a. Yes.

支持板4とバレル3との間には、歯車7が配置されている。歯車7は、バレル2と一体に回転するようにバレル2に取り付けられており、かつバレル2の軸方向中心を中心にバレル2とともに回転する。また、支持板4,5間には、ロッド8が回転可能に取り付けられている。このロッド8と一体に歯車9が設けられている。歯車9はロッド8とともに回転するように構成されており、かつ前述した歯車7と噛み合わされている。   A gear 7 is disposed between the support plate 4 and the barrel 3. The gear 7 is attached to the barrel 2 so as to rotate integrally with the barrel 2, and rotates together with the barrel 2 around the axial center of the barrel 2. A rod 8 is rotatably mounted between the support plates 4 and 5. A gear 9 is provided integrally with the rod 8. The gear 9 is configured to rotate with the rod 8 and is meshed with the gear 7 described above.

また、支持板4,5間には、回転駆動源を構成するモーター11が取り付けられている。モーター11の回転軸12に歯車13が一体に設けられている。歯車13は、前述した歯車9に噛み合わされている。従って、モーター11を動作させ、回転軸12を回転させた場合、それにともなってバレル2が軸方向周りに回転され得る。   Further, a motor 11 constituting a rotational drive source is attached between the support plates 4 and 5. A gear 13 is integrally provided on the rotating shaft 12 of the motor 11. The gear 13 is meshed with the gear 9 described above. Therefore, when the motor 11 is operated and the rotating shaft 12 is rotated, the barrel 2 can be rotated around the axial direction accordingly.

なお、バレル2をその軸方向周りに回転するための回転駆動源は上記モーター11、並びに歯車7,9,13を組み合わせた構造に限定されるものではない。例えば、モーター11の回転軸を直接バレル2に連結してもよく、また複数の歯車に代えて、無端ベルトなどの動力伝達機構を用いてモーターとバレル2とを連結してもよい。   The rotational drive source for rotating the barrel 2 around its axial direction is not limited to the structure in which the motor 11 and the gears 7, 9, 13 are combined. For example, the rotating shaft of the motor 11 may be directly connected to the barrel 2, or the motor and the barrel 2 may be connected using a power transmission mechanism such as an endless belt instead of the plurality of gears.

図4に示すように、上記支持板4,5の上方には、支持板4,5を連結する連結バー14が架け渡されている。連結バー14の上方に保持プレート15が配置されている。保持プレート15の下面に脚部15a,15bが一体に設けられている。脚部15aが支持板4側に、脚部15bが支持板5側に配置されている。また、連結バー14は、脚部15a,15bに固定されている。   As shown in FIG. 4, a connecting bar 14 that connects the support plates 4 and 5 is bridged above the support plates 4 and 5. A holding plate 15 is disposed above the connecting bar 14. Legs 15 a and 15 b are integrally provided on the lower surface of the holding plate 15. The leg portion 15a is disposed on the support plate 4 side, and the leg portion 15b is disposed on the support plate 5 side. The connecting bar 14 is fixed to the leg portions 15a and 15b.

他方、保持プレート15は、上下方向に延びる保持ロッド17にシャフト15cを中心に回転可能に連結されている。保持ロッド17は、略図的に示す往復駆動源18に連結されており、往復駆動源18を駆動することにより、上下方向に移動し得るように構成されている。すなわち、保持ロッド17及び往復駆動源18からなるバレル移動装置により、支持部材4,5に支持されたバレル2は、図4に示されている上方に位置している第1の状態と、後述するように下方のめっき液に浸漬された第2の状態との間で移動され得るように構成されている。   On the other hand, the holding plate 15 is connected to a holding rod 17 extending in the vertical direction so as to be rotatable about a shaft 15c. The holding rod 17 is connected to a reciprocating drive source 18 schematically shown, and is configured to move in the vertical direction by driving the reciprocating drive source 18. That is, the barrel 2 supported by the support members 4 and 5 by the barrel moving device including the holding rod 17 and the reciprocating drive source 18 is in the first state shown in FIG. Thus, it is configured to be movable between the second state immersed in the lower plating solution.

往復駆動源18は、モーターなどの回転駆動源と、回転駆動力を往復駆動力に変化する動力変換機構とを組み合わせたもの、あるいは油圧シリンダーやエアーシリンダーなどの往復駆動源により構成され得る。すなわち、往復駆動源18の機構は特に限定されるものではない。   The reciprocating drive source 18 can be constituted by a combination of a rotational driving source such as a motor and a power conversion mechanism that changes the rotational driving force into a reciprocating driving force, or a reciprocating driving source such as a hydraulic cylinder or an air cylinder. That is, the mechanism of the reciprocating drive source 18 is not particularly limited.

また、保持プレート15の上面には、エアーシリンダー19のシリンダーロッド19aの下端が連結されている。エアーシリンダー19を駆動することにより、図4に示した初期状態からシリンダーロッド19aの一部をシリンダー本体19b内に引き込んだ状態とすることができる。   Further, the lower end of the cylinder rod 19 a of the air cylinder 19 is connected to the upper surface of the holding plate 15. By driving the air cylinder 19, the cylinder rod 19a can be partially pulled into the cylinder body 19b from the initial state shown in FIG.

図5に示すように、シリンダーロッド19aが引き込まれた状態とされると、保持プレート15がシリンダー本体19b側に寄せられる。その結果、保持プレート15が保持ロッド17に、シャフト15cを介して連結されているので、保持プレート15が、シリンダーロッド19a側において上方に移動し、保持プレート15の脚部15b側が上方に引き上げられる。すなわち、保持ロッド17は上下方向に延びており、保持プレート15の主面との間の角度θが90°よりも小さくなる。これにともなって、支持板4,5もまた傾斜し、支持板4,5間に支持されているバレル2の軸方向は、水平方向と角度α=(90°−θ)だけ傾斜されることになる。このバレル2の軸方向と水平方向となす角度αを傾斜角度とする。本実施形態では、この傾斜角度αが0°よりも大きくなるように、すなわちバレル2の軸方向が水平方向に対して傾斜されることにより、後述するようにバレル2内の空気を円滑にかつ確実にバレル外に排出させることができる。なお、好ましくは、後述するように、上記傾斜角度は2°〜30°の範囲とされる。   As shown in FIG. 5, when the cylinder rod 19a is in a retracted state, the holding plate 15 is moved toward the cylinder body 19b. As a result, since the holding plate 15 is connected to the holding rod 17 via the shaft 15c, the holding plate 15 moves upward on the cylinder rod 19a side, and the leg portion 15b side of the holding plate 15 is pulled upward. . That is, the holding rod 17 extends in the vertical direction, and the angle θ between the holding rod 17 and the main surface of the holding plate 15 is smaller than 90 °. Accordingly, the support plates 4 and 5 are also inclined, and the axial direction of the barrel 2 supported between the support plates 4 and 5 is inclined by an angle α = (90 ° −θ) with the horizontal direction. become. An angle α between the axial direction of the barrel 2 and the horizontal direction is defined as an inclination angle. In this embodiment, the inclination angle α is larger than 0 °, that is, the axial direction of the barrel 2 is inclined with respect to the horizontal direction. It can be reliably discharged out of the barrel. Preferably, the inclination angle is in the range of 2 ° to 30 °, as will be described later.

なお、図5では、上記筒状のバレル2がめっき液22内に浸漬された状態で、上記のように傾斜されているが、バレル2の傾斜はめっき液22への浸漬の前に行われていてもよく、めっき液浸漬後に行われてもよい。また、上記支持板4,5、ロッド14、保持プレート15、シャフト15c、保持ロッド17及びエアシリンダ19などにより、本発明におけるバレル保持装置にあたる傾斜装置が形成されている。もっとも、バレル2の軸方向水平方向に対して傾斜させる傾斜装置は図示の構造に限定されるものではない。   In FIG. 5, the cylindrical barrel 2 is tilted as described above while being immersed in the plating solution 22. However, the barrel 2 is tilted before being immersed in the plating solution 22. It may be carried out after the plating solution is immersed. The support plates 4 and 5, the rod 14, the holding plate 15, the shaft 15 c, the holding rod 17, the air cylinder 19, and the like form an inclination device corresponding to the barrel holding device in the present invention. However, the tilting device that tilts the barrel 2 with respect to the horizontal direction in the axial direction is not limited to the illustrated structure.

上記支持部材3の下方には、めっき槽21が配置されている。めっき槽21内には、めっき液22が注入されている。なお、めっき槽21内には図示しない陽極が配置されている。めっき液22の液面の上方が開かれており、該めっき液22の上方に上記支持部材3が配置されている。   A plating tank 21 is disposed below the support member 3. A plating solution 22 is injected into the plating tank 21. Note that an anode (not shown) is disposed in the plating tank 21. The upper surface of the plating solution 22 is opened, and the support member 3 is disposed above the plating solution 22.

次に、図1(a)及び(b)を参照して、上記バレル2の詳細を説明する。図1(a)及び(b)は、上記バレル2の内部構造を説明するための模式的縦断面図及び横断面図である。   Next, the details of the barrel 2 will be described with reference to FIGS. FIGS. 1A and 1B are a schematic longitudinal sectional view and a transverse sectional view for explaining the internal structure of the barrel 2.

バレル2は、軸方向両端に第1,第2の端面2b,2cを有する。バレル2は、軸方向周りに回転されるが、前述したように、バレル2の軸方向は水平方向から所定の角度傾斜された状態で回転され得るように構成されている。   The barrel 2 has first and second end faces 2b and 2c at both ends in the axial direction. The barrel 2 is rotated around the axial direction, and as described above, the barrel 2 is configured to be rotated in a state inclined at a predetermined angle from the horizontal direction.

そして、第1の端面2bから第1の陰極端子6が、第2の端面2cから第2の陰極端子16がバレル2の内側に延ばされている。第1の陰極端子6は、その基端6aが端面2bの内面の中心から引き出されている。そして、折り曲げ部分6bにおいて端面2bの内面に沿う方向に折り曲げられている。すなわち、第1の陰極端子6は、基端6aと、折り曲げ部分6bとの間に位置している内方突出部と、折り曲げ部6bから端面2bの内面に沿う方向に延ばされた先端部6cとを有する。なお、給電端子としての陰極端子6では、上記先端部6cが露出されて給電作用を果たすように構成されているが、残りの部分は絶縁性材料で被覆されている。すなわち、上記内方突出部は絶縁性材料で被覆されている。従って、内方突出部上に電子部品素体31が乗り上げた場合には、電子部品素体31と内方突出部との付着部分においてめっきが施されない。   The first cathode terminal 6 extends from the first end surface 2 b and the second cathode terminal 16 extends from the second end surface 2 c to the inside of the barrel 2. As for the 1st cathode terminal 6, the base end 6a is pulled out from the center of the inner surface of the end surface 2b. And it bend | folds in the direction in alignment with the inner surface of the end surface 2b in the bending part 6b. That is, the first cathode terminal 6 includes an inward protruding portion located between the base end 6a and the bent portion 6b, and a distal end portion extending from the bent portion 6b in a direction along the inner surface of the end surface 2b. 6c. The cathode terminal 6 serving as a power supply terminal is configured such that the tip portion 6c is exposed and performs a power supply function, but the remaining portion is covered with an insulating material. That is, the inward protruding portion is covered with an insulating material. Therefore, when the electronic component body 31 rides on the inward projecting portion, plating is not performed on the adhesion portion between the electronic component body 31 and the inward projecting portion.

第2の陰極端子16も同様に、基端16aが第2の端面2cの内面の回転中心から引き出されており、折り曲げ部16bを介して端面2cの内面に沿う方向に延びるように折り曲げられている。すなわち、基端16aと折り曲げ部16bとの間の内方突出部と、先端部16cとを有する。   Similarly, the second cathode terminal 16 has the base end 16a drawn out from the rotation center of the inner surface of the second end surface 2c, and is bent so as to extend in the direction along the inner surface of the end surface 2c via the bent portion 16b. Yes. That is, it has the inward protrusion part between the base end 16a and the bending part 16b, and the front-end | tip part 16c.

次に、図1及び図4と、図2,図3及び図5とを参照して、本実施形態のバレルめっき装置を用いて電子部品を製造する方法を説明する。   Next, a method for manufacturing an electronic component using the barrel plating apparatus of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 4 and FIGS.

本実施形態の電子部品の製造方法では、図2に示す電子部品素体31にめっき膜を形成する。電子部品素体31は、積層セラミックコンデンサを構成する焼結体32を有する。焼結体32内には、内部電極33a〜33iがセラミック層を介して重なり合うように配置されている。内部電極33a,33c,33e,33g,33iが端面32aに引き出されており、内部電極33b,33d,33f,33hが端面32bが引き出されている。端面32,32aを覆うように、Agペーストの焼付けにより形成された下地電極層34a,35aが形成されている。   In the electronic component manufacturing method of the present embodiment, a plating film is formed on the electronic component element body 31 shown in FIG. The electronic component body 31 includes a sintered body 32 that constitutes a multilayer ceramic capacitor. In the sintered body 32, the internal electrodes 33a to 33i are arranged so as to overlap with each other through a ceramic layer. The internal electrodes 33a, 33c, 33e, 33g, 33i are drawn out to the end face 32a, and the internal electrodes 33b, 33d, 33f, 33h are drawn out from the end face 32b. Base electrode layers 34a and 35a formed by baking an Ag paste are formed so as to cover the end faces 32 and 32a.

図1(a)に示すように、多数の電子部品素体31が前述したバレル2内に投入される。また、上記電子部品素体31に加えて複数の導電性メディア23、例えばスチールボールがバレル2に投入される。他方、電子部品素体31及び導電性メディアが投入されたバレル2は、初期の第1の状態では、図4に示すように、めっき液22の上方に配置される。この状態では、支持板4,5は上下方向に延びるように配置されており、バレル2の軸方向の前述した軸角度は0°である。すなわち、バレル2の軸方向は水平方向に延びている。   As shown in FIG. 1A, a large number of electronic component bodies 31 are put into the barrel 2 described above. In addition to the electronic component body 31, a plurality of conductive media 23, such as steel balls, are put into the barrel 2. On the other hand, the barrel 2 into which the electronic component body 31 and the conductive medium are put is disposed above the plating solution 22 in the initial first state, as shown in FIG. In this state, the support plates 4 and 5 are disposed so as to extend in the vertical direction, and the above-described axial angle of the barrel 2 in the axial direction is 0 °. That is, the axial direction of the barrel 2 extends in the horizontal direction.

次に、シリンダー19を駆動し、シリンダーロッド19aの一部を引き込み、保持プレート15を図1に示すように傾ける。その結果、バレル2の軸角度が0°よりも大きくなるようにバレル2が傾斜される。   Next, the cylinder 19 is driven, a part of the cylinder rod 19a is pulled in, and the holding plate 15 is tilted as shown in FIG. As a result, the barrel 2 is inclined so that the axial angle of the barrel 2 is greater than 0 °.

次に、往復駆動源18を駆動し、保持ロッド17を下方に移動させ、バレル2を下方に移動し、第2の状態とする。   Next, the reciprocating drive source 18 is driven, the holding rod 17 is moved downward, and the barrel 2 is moved downward to enter the second state.

なお、上記バレル2の軸角度を0°よりも大きくなるようにバレル2を傾斜させる工程は、往復駆動源18によるバレル2の下方への移動に先立って行われている。もっとも、往復駆動源18によりバレル2を下方に移動させるに際し、同時にシリンダー18を駆動し、バレル2を傾斜させてもよい。いずれにしても、バレル2がめっき液22に浸漬された状態で、バレル2の軸角度が変化されておればよい。その結果、図5に示すように、バレル2は傾斜された状態でめっき液2に浸漬される。   The step of inclining the barrel 2 so that the axial angle of the barrel 2 becomes larger than 0 ° is performed prior to the downward movement of the barrel 2 by the reciprocating drive source 18. However, when the barrel 2 is moved downward by the reciprocating drive source 18, the cylinder 18 may be simultaneously driven to tilt the barrel 2. In any case, the axial angle of the barrel 2 may be changed while the barrel 2 is immersed in the plating solution 22. As a result, as shown in FIG. 5, the barrel 2 is immersed in the plating solution 2 in an inclined state.

傾斜された状態でめっき液22にバレル2が浸漬されると、バレル2内の空気は上方に移動し、貫通孔2aから外部に排出される。この場合、バレル2が傾斜されていると、図5に示す位置において、バレル2の内、側面の上方に位置する側面部分2bが水平方向に対して傾斜しているため、傾斜している側面部分2bの内側を移動し易くなり、側面部分2bに開口している貫通孔2aから速やかに排出される。   When the barrel 2 is immersed in the plating solution 22 in an inclined state, the air in the barrel 2 moves upward and is discharged to the outside from the through hole 2a. In this case, when the barrel 2 is inclined, the side surface portion 2b located above the side surface of the barrel 2 is inclined with respect to the horizontal direction at the position shown in FIG. It becomes easy to move inside the portion 2b, and it is quickly discharged from the through hole 2a opened in the side surface portion 2b.

すなわち、側面部分2bが水平方向に延ばされている場合には、側面部分2bの内面に接触している気泡が移動し難くなり、残存するおそれがある。これに対して、側面部分2bが傾斜していると、空気が側面部分2bの内面を伝って移動し易くなり、貫通孔2aから外部に容易に排出される。   That is, when the side surface portion 2b is extended in the horizontal direction, the bubbles in contact with the inner surface of the side surface portion 2b are difficult to move and may remain. On the other hand, when the side surface portion 2b is inclined, air easily moves along the inner surface of the side surface portion 2b and is easily discharged to the outside from the through hole 2a.

この状態で、第1,第2の陰極端子6,16とめっき液に浸漬されている陽極との間に電流を流すことにより、めっきを行うことができる。この場合、貫通孔2aから内部の空気が容易に排出されるため、空気溜まりが生じ難い。従って、空気溜まりとめっき液との界面に被めっき物としての電子部品素体が捕捉され難く、多数の電子部品素体31に確実にめっき膜を形成することができる。   In this state, plating can be performed by passing a current between the first and second cathode terminals 6 and 16 and the anode immersed in the plating solution. In this case, since the internal air is easily discharged from the through hole 2a, it is difficult for an air reservoir to occur. Therefore, it is difficult for the electronic component element body as the object to be plated to be captured at the interface between the air reservoir and the plating solution, and the plating film can be reliably formed on the numerous electronic component element bodies 31.

加えて、たとえ、空気がバレル2の内部に残存し、図1(a)に示すように、空気溜まりBがバレル2の内部上方に存在したとしても、本実施形態では、電子部品素体31の外表面にめっき膜を確実に形成することができる。すなわち、空気溜まりBが存在すると、空気溜まりBとめっき液22との界面に、電子部品素体31が捕捉されやすくなる。そして、回転に伴って、捕捉されていた電子部品素体31が図1の矢印Cで示すように下方に落下することとなる。しかしながら、バレル2の軸方向が前述したように傾斜されており、かつ給電端子としての第1,第2の陰極端子6,16は、端面2b,2cの内面に沿うように下方に折り曲げられている。従って、陰極端子6,16に、上方から落下してきた電子部品素体31が載置され難い。   In addition, even if air remains inside the barrel 2 and the air reservoir B exists above the inside of the barrel 2 as shown in FIG. A plating film can be reliably formed on the outer surface of the film. That is, when the air reservoir B exists, the electronic component element body 31 is easily captured at the interface between the air reservoir B and the plating solution 22. With the rotation, the captured electronic component body 31 falls downward as indicated by an arrow C in FIG. However, the axial direction of the barrel 2 is inclined as described above, and the first and second cathode terminals 6 and 16 as power supply terminals are bent downward along the inner surfaces of the end faces 2b and 2c. Yes. Therefore, it is difficult to place the electronic component body 31 that has dropped from above on the cathode terminals 6 and 16.

図9に示したように、従来のバレルめっき装置では、給電端子上に、落下してきた電子部品素体が載置し、両者の接触によるめっき不良が生じがちであった。これに対し、本実施形態では、給電端子と電子部品素体31との接触によるめっき不良を確実に抑制することができる。   As shown in FIG. 9, in the conventional barrel plating apparatus, the dropped electronic component body is placed on the power supply terminal, and the plating failure tends to occur due to the contact between the two. On the other hand, in this embodiment, plating defects due to contact between the power supply terminal and the electronic component body 31 can be reliably suppressed.

従って、たとえ、傾斜されているバレル2内に空気溜まりBが生じたとしても、確実にめっき不良を低減することが可能となる。   Therefore, even if the air pool B is generated in the inclined barrel 2, it is possible to reliably reduce plating defects.

このようにして、図3に示すNiめっき膜34b,35bを形成する。しかる後、めっき液を交換することにより、Niめっき膜34b,35b上に、Snめっき膜34c,35cを形成する。従って、図3に示すように、下地電極層34a,35a上に、Niめっき膜34b,35b及びSnめっき膜34c,35cが積層された外部電極34,35が形成される。上記のようにして、積層セラミックコンデンサ37が得られる。   In this way, Ni plating films 34b and 35b shown in FIG. 3 are formed. Thereafter, the Sn plating films 34c and 35c are formed on the Ni plating films 34b and 35b by exchanging the plating solution. Therefore, as shown in FIG. 3, external electrodes 34 and 35 in which Ni plating films 34b and 35b and Sn plating films 34c and 35c are laminated are formed on the base electrode layers 34a and 35a. A multilayer ceramic capacitor 37 is obtained as described above.

好ましくは、陰極端子6,16の上記内方突出部の内方突出寸法、すなわち基端6a,16aから折り曲げ部6b,16bまでに至る寸法Xは、被めっき物としての電子部品素体31及び導電性メディアの外形寸法の内、最大寸法よりも大きいことが望ましく、それによって、内方突出部上への電子部品素体31の乗り上げをより確実に防止することができる。   Preferably, the inwardly protruding dimensions of the inwardly protruding portions of the cathode terminals 6 and 16, that is, the dimension X extending from the base ends 6a and 16a to the bent portions 6b and 16b are the electronic component body 31 as the object to be plated and It is desirable that the outer dimension of the conductive medium is larger than the maximum dimension, thereby preventing the electronic component body 31 from riding on the inward projecting portion.

図6(a)〜(c)は、上記実施形態のバレルめっき装置の変形例を説明するための縦断面図、第1の端面内側部分を模式的に示す斜視図及び横断面図である。   6A to 6C are a longitudinal sectional view for explaining a modification of the barrel plating apparatus of the above embodiment, a perspective view schematically showing a first end face inner portion, and a transverse sectional view.

本変形例のバレルめっき装置では、バレル42は、軸方向両端に第1,第2の端面42a,42bを有する。ここでは、第1の端面42aの内面にのみ、給電端子としての第1の陰極端子46が設けられている。すなわち、第2の端面42b側には陰極端子は設けられていない。そして、バレル42は、第2の端面42b側が第1の端面42a側よりも上方となるように傾斜された状態で回転される。従って、たとえ空気溜まりが生じたとしても、空気溜まりBは、第2の端面42b側に位置することになる。よって、空気溜まりBとめっき液22との界面に捕捉された電子部品素体31が下方に落下したとしても、第1の端面42a側には落下しない。よって、給電端子としての陰極端子46上に電子部品素体31が載置され難いため、より一層確実にめっき不良を軽減することができる。   In the barrel plating apparatus of this modification, the barrel 42 has first and second end faces 42a and 42b at both ends in the axial direction. Here, the first cathode terminal 46 as a power supply terminal is provided only on the inner surface of the first end face 42a. That is, no cathode terminal is provided on the second end face 42b side. The barrel 42 is rotated in an inclined state so that the second end face 42b side is higher than the first end face 42a side. Therefore, even if an air pool occurs, the air pool B is positioned on the second end face 42b side. Therefore, even if the electronic component body 31 captured at the interface between the air reservoir B and the plating solution 22 falls downward, it does not fall to the first end face 42a side. Therefore, it is difficult to place the electronic component body 31 on the cathode terminal 46 serving as a power supply terminal, so that it is possible to reduce plating defects more reliably.

また、本変形例では、図6(b)に示されているように、上記陰極端子46の基端46aは、第1の端面42aの回転中心からずらされた位置とされている。従って、第1の端面42aの回転中心からずらされて陰極端子46の基端46aが第1の端面42aから内部に引き出されているため、たとえ内方突出部上に電子部品素体31が乗り上げたとしても、回転に伴ってめっき液の回転方向への流れが生じ、内方突出部に付着した電子部品素体を落とすため電子部品素体31と内方突出部との付着によるめっき不良を確実に軽減することができる。   In the present modification, as shown in FIG. 6B, the base end 46a of the cathode terminal 46 is shifted from the rotation center of the first end face 42a. Accordingly, the base end 46a of the cathode terminal 46 is shifted from the center of rotation of the first end face 42a and pulled out from the first end face 42a, so that the electronic component element body 31 rides on the inward projecting portion. Even if it rotates, the flow of the plating solution in the rotation direction occurs, and the electronic component element adhering to the inward protruding portion is dropped, so that the plating defect due to the adhesion between the electronic component element 31 and the inward protruding portion is caused. It can be certainly reduced.

また、前述した実施形態及び図6に示した変形例では、好ましくは、上記バレル2,42の傾斜角度は、2°〜30°の範囲とされる。傾斜角度が2°未満では、バレル2,42内に存在し得る空気を迅速に上部端面側おいて上方に移動させることができず、空気溜まりBとめっき液22との界面に捕捉された電子部品素体31が陰極端子上に落下し易くなるおそれがある。また、上記角度が30°を超えると、やはり、空気溜まりBとめっき液22との界面に捕捉された電子部品素体31が落下した場合、逆に第1の端面2b,42a側の陰極端子に乗り上げるおそれがある。攪拌性が悪化し、膜厚ばらつき悪化、複めっき物同士のくっつき等の不良が増加するおそれもある。   In the above-described embodiment and the modification shown in FIG. 6, the inclination angle of the barrels 2 and 42 is preferably in the range of 2 ° to 30 °. If the inclination angle is less than 2 °, the air that may exist in the barrels 2 and 42 cannot be quickly moved upward on the upper end face side, and electrons trapped at the interface between the air pool B and the plating solution 22 are not captured. There is a possibility that the component body 31 easily falls on the cathode terminal. On the other hand, when the angle exceeds 30 °, when the electronic component body 31 trapped at the interface between the air reservoir B and the plating solution 22 falls, the cathode terminal on the first end face 2b, 42a side is reversed. There is a risk of getting on. Stirability deteriorates, and there is a possibility that defects such as film thickness variation deterioration and sticking between multiple plating products may increase.

図7(a)及び(b)は、本発明のバレルめっき装置のさらに他の変形例を説明するための横断面及び縦断面図である。本変形例では、バレル42内において、めっき液22に浮遊する複数の浮遊体51が収納されている。その他の点については、バレル42は図6に示したバレル42と同様とされている。このように、本発明においては、バレル42内に、複数の浮遊体51を浮遊させてもよい。このような浮遊体51を浮遊させることにより、浮遊体43は、空気溜まりBが存在したとしても、空気溜まりBとめっき液22との界面に漂うこととなる。従って、電子部品素体31が上記界面に捕捉されることを確実に抑制することができ、それによってめっき不良を確実に軽減することができる。このような浮遊体51については、めっき液22に浮遊し得る限り、特に限定されず、従ってめっき液22よりも比重の軽い適宜の材料からなる浮遊体を用いればよい。より好ましくは、浮遊体51は、電子部品素体31よりも比重の小さいものが望ましく、それによって上記界面への電子部品素体31の近接をより確実に防止することができる。   7 (a) and 7 (b) are a cross-sectional view and a vertical cross-sectional view for explaining still another modification of the barrel plating apparatus of the present invention. In this modification, a plurality of floating bodies 51 floating in the plating solution 22 are stored in the barrel 42. In other respects, the barrel 42 is the same as the barrel 42 shown in FIG. Thus, in the present invention, a plurality of floating bodies 51 may be suspended in the barrel 42. By floating such a floating body 51, the floating body 43 floats at the interface between the air pool B and the plating solution 22 even if the air pool B exists. Therefore, it is possible to reliably suppress the electronic component element body 31 from being captured by the interface, thereby reliably reducing plating defects. Such a floating body 51 is not particularly limited as long as it can float in the plating solution 22. Therefore, a floating body made of an appropriate material having a specific gravity lighter than that of the plating solution 22 may be used. More preferably, the floating body 51 desirably has a specific gravity smaller than that of the electronic component element body 31, whereby the proximity of the electronic component element body 31 to the interface can be more reliably prevented.

なお、上記実施形態では、被めっき物として、上記積層セラミックコンデンサを得るための電子部品素体31を示したが、本発明に係るバレルめっき装置は、電子部品素体31に限らず、他の電子部品素体、あるいは電子部品素体以外の被めっき物のめっきにも用いることができる。   In the above embodiment, the electronic component element body 31 for obtaining the multilayer ceramic capacitor is shown as an object to be plated. However, the barrel plating apparatus according to the present invention is not limited to the electronic component element body 31, It can also be used for plating an electronic component element body or an object to be plated other than the electronic component element body.

(a)及び(b)は、本発明の一実施形態に用いられる筒状のバレル内を説明するための縦断面図及び横断面図。(A) And (b) is the longitudinal cross-sectional view and cross-sectional view for demonstrating the inside of the cylindrical barrel used for one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態でめっき膜が形成される電子部品素体を説明するための正面断面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Front sectional drawing for demonstrating the electronic component element | base_body in which a plating film is formed in one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態においてめっき膜が形成された電子部品としての積層セラミックコンデンサを示す正面断面図。1 is a front sectional view showing a multilayer ceramic capacitor as an electronic component on which a plating film is formed in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係るバレルめっき装置において、バレルが傾斜される前の状態を示す正面断面図。In the barrel plating apparatus which concerns on one Embodiment of this invention, front sectional drawing which shows the state before a barrel is inclined. 本発明の一実施形態の電子部品の製造方法において、バレルをめっき液に傾斜させた状態で浸漬する工程を説明するための正面断面図。The front sectional view for explaining the process of immersing in the state where the barrel was inclined in the plating solution in the manufacturing method of the electronic component of one embodiment of the present invention. (a)は、本発明で用いられるバレルの変形例を示す縦断面図、(b)は、第1の端面側の内部構造示す斜視図、(c)は、該バレルの横断面図。(A) is a longitudinal cross-sectional view which shows the modification of the barrel used by this invention, (b) is a perspective view which shows the internal structure of the 1st end surface side, (c) is a cross-sectional view of this barrel. (a)及び(b)は、本発明で用いられるバレルめっき装置におけるバレルめっき方法のさらに他の変形例を説明するための横断面図及び縦断面図。(A) And (b) is the cross-sectional view and longitudinal cross-sectional view for demonstrating the further another modification of the barrel-plating method in the barrel-plating apparatus used by this invention. 従来のバレルめっき装置に用いられる筒状バレルを示す斜視図。The perspective view which shows the cylindrical barrel used for the conventional barrel plating apparatus. 従来のバレルめっき装置における問題点を説明するための略図的縦断面図。The schematic longitudinal cross-sectional view for demonstrating the problem in the conventional barrel plating apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1…バレルめっき装置
2…バレル
2a…貫通孔
2b,2c…端面
3…支持部材
4,5…支持板
4a,5a…スリーブ
6…陰極端子
6a…基端部
6b…折り曲げ部
6c…先端部
7…歯車
8…ロッド
9…歯車
11…モーター
12…回転軸
13…歯車
14…連結バー
15…保持プレート
15a,15b…脚部
15c…シャフト
16…陰極端子
16a…基端部
16b…折り曲げ部
16c…先端部
17…保持ロッド
18…移動装置
19…シリンダー
19a…シリンダーロッド
19b…シリンダー本体
21…めっき槽
22…めっき液
23…導電性メディア
31…電子部品素体
32…セラミック焼結体
32a,32b…端面
33a〜33i…内部電極
34,35…外部電極
34a,35a…下地電極層
34b,35b…Niめっき膜
34c,35c…Snめっき膜
37…積層セラミックコンデンサ
42…バレル
42a,42b…第1,第2の端面
46…陰極端子
46a…基端部
46b…折り曲げ部分
46c…先端部
51…浮遊体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Barrel plating apparatus 2 ... Barrel 2a ... Through-hole 2b, 2c ... End surface 3 ... Support member 4,5 ... Support plate 4a, 5a ... Sleeve 6 ... Cathode terminal 6a ... Base end part 6b ... Bending part 6c ... Tip part 7 ... Gear 8 ... Rod 9 ... Gear 11 ... Motor 12 ... Rotary shaft 13 ... Gear 14 ... Connecting bar 15 ... Holding plate 15a, 15b ... Leg 15c ... Shaft 16 ... Cathode terminal 16a ... Base end 16b ... Bending part 16c ... Tip portion 17 ... Holding rod 18 ... Moving device 19 ... Cylinder 19a ... Cylinder rod 19b ... Cylinder body 21 ... Plating tank 22 ... Plating solution 23 ... Conductive medium 31 ... Electronic component body 32 ... Ceramic sintered body 32a, 32b ... End faces 33a to 33i ... internal electrodes 34, 35 ... external electrodes 34a, 35a ... base electrode layers 34b, 35b ... Ni Film 34c, 35c ... Sn plating film 37 ... laminated ceramic capacitor 42 ... barrel 42a, 42b ... first and second end surfaces 46 ... cathode terminal 46a ... base portion 46b ... bent portion 46c ... tip 51 ... float

Claims (8)

内部に複数の被めっき物及び複数の導電性メディアが収納される筒状のバレルと、
前記バレルをバレルの軸方向周りに回転させる回転駆動源と、
前記バレルの軸方向を水平方向に対して傾斜させた状態で、前記バレルを軸方向周りに回転させるように前記バレルを保持するバレル保持装置とを備え、
前記筒状のバレルが、軸方向両端に配置された一対の端面を有し、
前記一対の端面の少なくとも一方の端面の内側からバレル内に延ばされており、但し該端面の内面に沿う方向に延びるように折り曲げられている給電端子をさらに備えることを特徴とする、バレルめっき装置。
A cylindrical barrel in which a plurality of objects to be plated and a plurality of conductive media are stored,
A rotational drive source for rotating the barrel around the axial direction of the barrel;
A barrel holding device for holding the barrel so as to rotate the barrel around the axial direction in a state where the axial direction of the barrel is inclined with respect to the horizontal direction;
The cylindrical barrel has a pair of end faces disposed at both axial ends;
Barrel plating characterized by further comprising a power supply terminal that extends into the barrel from the inner side of at least one of the pair of end surfaces, but is bent so as to extend along the inner surface of the end surfaces. apparatus.
前記給電端子が、前記端面から内側に延びる内方突出部と、内方突出部の先端で折り曲げられている折り曲げ部と、折り曲げ部を介して端面の内面に沿う方向に下方に延ばされている先端部とを有し、前記端面の内面から折り曲げ部までの距離が、前記被めっき物及び導電性メディアの外形寸法の内の最大外形寸法よりも大きくされている、請求項1に記載のバレルめっき装置。   The power supply terminal is extended downward in a direction along the inner surface of the end surface through the bent portion, an inward protruding portion extending inward from the end surface, a bent portion bent at the tip of the inner protruding portion, and The distance from the inner surface of the said end surface to a bending part is made larger than the largest external dimension among the external dimensions of the said to-be-plated thing and an electroconductive medium. Barrel plating equipment. 前記給電端子が、前記第1,第2の端面の双方において設けられている、請求項1に記載のバレルめっき装置。   The barrel plating apparatus according to claim 1, wherein the power supply terminal is provided on both the first and second end faces. 前記給電端子が、第1,第2の端面の内、第1の端面側においてのみ設けられており、前記バレル保持装置により、前記バレルの第2の端面が第1の端面よりも高い位置となるようにバレルが傾斜されるように構成されている、請求項1に記載のバレルめっき装置。   The power supply terminal is provided only on the first end face side of the first and second end faces, and the barrel holding device causes the second end face of the barrel to be higher than the first end face. The barrel plating apparatus according to claim 1, wherein the barrel is configured so as to be inclined. 前記給電端子の前記端面の内面に固定されている基端部分が、前記端面の回転中心からずらされた位置とされていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のバレルめっき装置。   The base end portion fixed to the inner surface of the end face of the power feeding terminal is set to a position shifted from the rotation center of the end face. Barrel plating equipment. 請求項1〜5のいずれか1項に記載のバレルめっき装置を用いた電子部品の製造方法であって、
前記筒状のバレル内に、複数の電子部品素体と、複数の導電性メディアとを収納する工程と、
前記バレルをめっき液に浸漬し、該バレルの軸方向が傾斜された状態で、前記回転駆動源によりバレルを回転させ、バレルめっきを行う工程とを備える、電子部品の製造方法。
An electronic component manufacturing method using the barrel plating apparatus according to any one of claims 1 to 5,
A step of storing a plurality of electronic component bodies and a plurality of conductive media in the cylindrical barrel;
A method of manufacturing an electronic component, comprising: dipping the barrel in a plating solution, rotating the barrel with the rotary drive source in a state where the axial direction of the barrel is inclined, and performing barrel plating.
前記バレルの軸方向の傾斜角度を2°以上、30°以下の範囲とする、請求項6に記載の電子部品の製造方法。   The method for manufacturing an electronic component according to claim 6, wherein an inclination angle of the barrel in the axial direction is in a range of 2 ° to 30 °. 前記バレルめっきに際し、前記バレル内にめっき液に浮遊する複数の浮遊体を投入することを特徴とする、請求項6または7に記載の電子部品の製造方法。

The method for manufacturing an electronic component according to claim 6 or 7, wherein a plurality of floating bodies floating in a plating solution are introduced into the barrel during the barrel plating.

JP2005095342A 2005-03-29 2005-03-29 Barrel plating device and production method of electronic part Pending JP2006274353A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005095342A JP2006274353A (en) 2005-03-29 2005-03-29 Barrel plating device and production method of electronic part

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005095342A JP2006274353A (en) 2005-03-29 2005-03-29 Barrel plating device and production method of electronic part

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006274353A true JP2006274353A (en) 2006-10-12

Family

ID=37209386

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005095342A Pending JP2006274353A (en) 2005-03-29 2005-03-29 Barrel plating device and production method of electronic part

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006274353A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009127120A (en) * 2007-11-28 2009-06-11 Tdk Corp Barrel plating apparatus
JP2009132954A (en) * 2007-11-29 2009-06-18 Kondo:Kk Barrel device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0849097A (en) * 1994-08-08 1996-02-20 Takeshi Hosono Electroplasting device
JPH08239798A (en) * 1995-02-28 1996-09-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Barrel plating method for electronic parts
JPH09119000A (en) * 1995-10-26 1997-05-06 Murata Mfg Co Ltd Manufacture of electronic parts and barrel plating device
JP2002256500A (en) * 2001-02-27 2002-09-11 Beitekku Japan:Kk Barrel plating equipment

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0849097A (en) * 1994-08-08 1996-02-20 Takeshi Hosono Electroplasting device
JPH08239798A (en) * 1995-02-28 1996-09-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Barrel plating method for electronic parts
JPH09119000A (en) * 1995-10-26 1997-05-06 Murata Mfg Co Ltd Manufacture of electronic parts and barrel plating device
JP2002256500A (en) * 2001-02-27 2002-09-11 Beitekku Japan:Kk Barrel plating equipment

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009127120A (en) * 2007-11-28 2009-06-11 Tdk Corp Barrel plating apparatus
JP4692779B2 (en) * 2007-11-28 2011-06-01 Tdk株式会社 Barrel plating equipment
JP2009132954A (en) * 2007-11-29 2009-06-18 Kondo:Kk Barrel device
JP4664348B2 (en) * 2007-11-29 2011-04-06 株式会社コンドウ Barrel equipment

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4933968B2 (en) Ceramic electronic components
JP6747411B2 (en) Electronic parts
JP4208009B2 (en) Manufacturing method of multilayer ceramic electronic component
WO2007119281A1 (en) Laminated electronic component and method for manufacturing same
CN1574129A (en) Multilayer ceramic electronic component and mounting structure and method for the same
JP2006274353A (en) Barrel plating device and production method of electronic part
JP4868145B2 (en) Ceramic electronic component and method for manufacturing the same
US20070137776A1 (en) Image drum and method for manufacturing the image drum
JP4720181B2 (en) Barrel plating apparatus and electronic component manufacturing method
JP2005517613A (en) Apparatus and method for conveying flat workpieces on a conveyor processing line
JP2011174157A (en) Plating device, plating method, and method for producing chip type electronic component
JP3265948B2 (en) Electronic component manufacturing method and barrel plating apparatus
JP2010109028A (en) Wiring board and method of manufacturing the same
JP4766279B2 (en) Barrel plating equipment
JP4457963B2 (en) Barrel plating equipment
KR101442352B1 (en) Barrel gilding device
JP6885010B2 (en) Manufacturing method of electronic parts
JP2008001971A (en) Barrel plating device
JP4826595B2 (en) Work carrier and plating equipment
JPH11350199A (en) Plating apparatus and plating method
CN102115906B (en) Device and method for electroplating substrate
JP5056888B2 (en) Plating apparatus, plating method and chip type electronic component manufacturing method
JP2008001970A (en) Barrel type plating apparatus and cathode arrangement for barrel type plating apparatus
JP2004111534A (en) Method of manufacturing electronic part
KR20160072561A (en) Device for embedded substrate, method of manufacturing the same and printed circuit board with embedded device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071211

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101206

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20101214

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110209

A02 Decision of refusal

Effective date: 20111018

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02