JP2006273426A - Embossing carrier tape and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子部品の搬送等に用いられるエンボスキャリアテープおよびその製造方法に関するものである。 The present invention relates to an embossed carrier tape used for transporting electronic components and the like and a method for manufacturing the same.
電子部品等を実装機に搬送する際には、電子部品等の部品を収容するための部品収納部となる凹部が形成されたキャリアテープが用いられている。
キャリアテープとしては、基材の一部を打抜き加工により取り除いた後、基材裏面にボトムテープを装着して凹部を形成したパンチドキャリアテープ、基材の一部を凹形に加工して凹部を形成したエンボスキャリアテープ、基材の一部を圧縮加工することによって凹部を形成したプレスキャリアテープ等が一般的である。
When transporting an electronic component or the like to a mounting machine, a carrier tape in which a recess serving as a component storage portion for storing a component such as an electronic component is used.
The carrier tape is a punched carrier tape in which a part of the base material is removed by punching and then a bottom tape is attached to the back surface of the base material to form a concave part. In general, an embossed carrier tape in which a concave portion is formed by compressing a part of a substrate is generally used.
近年、電子部品の微細化が進み、例えば縦、横の寸法が、1.0×0.5mm(1005チップ)、0.6×0.3mm(0603チップ)、0.4×0.2mm(0402チップ)等の電子部品のような微細部品を収納するのに適した凹部を有するキャリアテープが用いられるようになってきた。
従来、かかる微細部品に用いられるキャリアテープは、基材として紙基材を用いたものが一般的であり、かかる紙基材を用いたキャリアテープとしては、パンチドキャリアテープまたはプレスキャリアテープが一般的であった。しかし、これらのキャリアテープは、凹部を形成する際に、プレスパンチによるせん断または圧縮加工が施されるため、ケバ、バリ等の異物が必ず発生するという問題がある。このような異物は実装精度や実装率の低下を招いてしまう。さらに、紙基材を用いた場合、吸湿による寸法変化、紙基材同士または紙基材と実装機ガイド部との摩擦による紙粉の発生、剥離帯電による実装ミス等が生じやすい。
そのため、現在、紙基材を用いたキャリアテープに代えて、導電性プラスチック等のプラスチック基材を用いたキャリアテープに対する市場要求が高まっている。
基材としてプラスチック基材を用いる場合、キャリアテープとしては、コストおよび寸法精度に優れることから、エンボスキャリアテープが最良であるとされている。たとえばパンチドキャリアテープは材料コストが高く、また、プレスキャリアテープは、プラスチック基材が紙基材に比べて圧縮成形性が低く、所定の形状を得にくいことからあまり使用されない。
In recent years, miniaturization of electronic components has progressed. For example, vertical and horizontal dimensions are 1.0 × 0.5 mm (1005 chips), 0.6 × 0.3 mm (0603 chips), 0.4 × 0.2 mm ( Carrier tapes having recesses suitable for housing fine parts such as electronic parts such as 0402 chips) have come to be used.
Conventionally, carrier tapes used for such fine parts generally use a paper base material as a base material, and a carrier tape using such a paper base material is generally a punched carrier tape or a press carrier tape. It was the target. However, since these carrier tapes are subjected to shearing or compression by a press punch when the recesses are formed, there is a problem that foreign matters such as burrs and burrs are inevitably generated. Such foreign matter causes a reduction in mounting accuracy and mounting rate. Further, when a paper base material is used, a dimensional change due to moisture absorption, generation of paper powder due to friction between paper base materials or between the paper base material and the mounting machine guide portion, mounting errors due to peeling charging, and the like are likely to occur.
For this reason, market demand for carrier tapes using plastic substrates such as conductive plastics instead of carrier tapes using paper substrates is currently increasing.
When a plastic substrate is used as the substrate, an embossed carrier tape is said to be the best as the carrier tape because of its excellent cost and dimensional accuracy. For example, a punched carrier tape has a high material cost, and a press carrier tape is less frequently used because a plastic substrate has a lower compression moldability than a paper substrate and it is difficult to obtain a predetermined shape.
エンボスキャリアテープの製造は、現在、ロータリータイプの凸部が設けられた金型を用いた真空成形による方法が一般的であり、たとえば回転する金型の凸部にプラスチック基材を接触させた後、金型の内側から真空引きすることにより、該プラスチック基材を凸部に密着させて凹部を形成している。
このようなエンボスキャリアテープは、通常、テーピングや実装の容易性、成形の容易性等を考慮して、図6に示すように、凹部31が、開口部側が広がるようなテーパ形状とされている。たとえば特許文献1には、エンボスキャリアテープの凹部の側面部31aの傾斜角を、テープ表面の垂直方向Vに対して3°〜10°に形成することが記載されている。また、特許文献2には、真空成形時に、回転する金型凸部を凹部から抜くためには、凹部の側面部31aに、プラスチック基材の表面の垂直方向Vに対する十分に大きな傾斜角度(5°程度)が必要であることが記載されている。さらに加えて、基材表面から凹部の側面部31aにかけての部分31bの曲がりが0.30mm程度の曲率半径となるように形成することも行われている。
Such an embossed carrier tape is usually formed in a tapered shape such that the
しかし、上記のようなテーパ形状の凹部は、寸法精度が悪く、微細部品を収納した際、凹部の内面と微細部品との間の隙間が大きく、微細部品の収納率が良くないという問題がある。たとえば、微細部品を所定の配置で収納することが困難であったり、部品収納部内で微細部品が動きやすいため、当初は所定の配置で収納されても、振動や衝撃等により配置がずれることがある。このような収納率の低さは、テーピング機の高速化および実装工程における高実装密度化、狭隣接実装化の妨げとなり、テーピング時の部品収納率、マウント時の実装精度や実装率を低下させる原因となる。 However, the taper-shaped recess as described above has a problem that the dimensional accuracy is poor, and when a fine component is stored, the gap between the inner surface of the recess and the fine component is large, and the storage rate of the fine component is not good. . For example, it is difficult to store fine parts in a predetermined arrangement, or the fine parts are easy to move in the part storage part, so even if initially stored in a predetermined arrangement, the arrangement may be shifted due to vibration or impact. is there. Such low storage rate hinders taping machine speedup, high mounting density in mounting process, and narrow adjacent mounting, and reduces component storage ratio during taping, mounting accuracy and mounting ratio during mounting. Cause.
矩形性の高い凹部を形成するために、クリアランスを小さくしてプレス成形を行うことが考えられる。すなわち、プレス成形による凹部の形成は、たとえば基材を、成形パンチと、該成形パンチが挿入される孔を有するダイプレートとの間に配置し、次いで成形パンチをダイプレートの孔のなかに挿入して基材を延伸させることによって行うことができる。このとき、成形パンチの側面と孔の側面との間の隙間、すなわちクリアランスが小さいほど、矩形性の高い凹部が形成できる。
しかし、クリアランスが小さくなるほど、基材の一部が局所的に延伸され、その部分が薄肉化して強度が低下し、破損しやすくなるという問題がある。そのため、プレス成形によりエンボスキャリアテープを製造しようとした場合、ある程度のクリアランスを確保する必要があり、結果、図6に示すように、凹部31の側面部31aの傾斜角度や、基材表面から側面部31aにかけての部分31bの曲がりが大きくなってしまい、矩形性の高い凹部を形成することは困難である。
In order to form a concave portion having high rectangularity, it is conceivable to perform press molding with a reduced clearance. That is, the formation of the recess by press molding is performed, for example, by placing the base material between a molding punch and a die plate having a hole into which the molding punch is inserted, and then inserting the molding punch into the hole of the die plate. And by stretching the substrate. At this time, the smaller the gap between the side surface of the molding punch and the side surface of the hole, that is, the clearance, the higher the rectangular recess can be formed.
However, there is a problem that as the clearance becomes smaller, a part of the base material is stretched locally, the part becomes thinner, the strength is lowered, and breakage easily occurs. Therefore, when it is going to manufacture an embossed carrier tape by press molding, it is necessary to ensure a certain amount of clearance. As a result, as shown in FIG. The bending of the
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、凹部の矩形性が高く、かつ破損しにくいエンボスキャリアテープおよびその製造方法を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the said situation, Comprising: It aims at providing the embossing carrier tape which the rectangularity of a recessed part is high, and is hard to be damaged, and its manufacturing method.
本発明者は、鋭意検討の結果、基材の厚さと凹部の深さとの比を所定範囲内とすることにより上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明のエンボスキャリアテープは、プレス成形により、基材に、底部および該底部の周縁部から立ち上がる側面部からなる凹部と、該凹部に対応して前記基材の裏面から突出する突出部とが形成されているエンボスキャリアテープであって、前記基材の厚さTおよび前記凹部の深さK0が下記式(1)を満たすことを特徴とする。
0<K0/T≦0.90 …(1)
本発明のエンボスキャリアテープにおいては、前記側面部が、当該エンボスキャリアテープの表面から0〜0.13mmの曲率半径で曲げられ、かつ当該エンボスキャリアテープの表面の垂直方向に対して0〜2°の傾斜角を有することが好ましい。
As a result of intensive studies, the inventor has found that the above problem can be solved by setting the ratio between the thickness of the base material and the depth of the recess within a predetermined range, and has completed the present invention.
That is, the embossed carrier tape of the present invention is formed by press molding on a base material, a concave portion including a bottom portion and a side portion rising from the peripheral edge portion of the bottom portion, and a protruding portion protruding from the back surface of the base material corresponding to the concave portion. The embossed carrier tape in which the thickness T of the base material and the depth K 0 of the concave portion satisfy the following formula (1).
0 <K 0 /T≦0.90 (1)
In the embossed carrier tape of the present invention, the side surface portion is bent with a radius of curvature of 0 to 0.13 mm from the surface of the embossed carrier tape, and 0 to 2 ° with respect to the vertical direction of the surface of the embossed carrier tape. It is preferable to have an inclination angle of
また、本発明のエンボスキャリアテープの製造方法は、凹部形成用金型Aを挿入可能な孔を有する金型B上に基材を配置し、該基材の一部を凹部形成用金型Aでプレスして前記金型Bの孔内に延伸することにより、底部および該底部の周縁部から立ち上がる側面部からなる凹部と、該凹部に対応して前記基材の裏面から突出する突出部とを形成するプレス成形工程を有し、前記凹部の深さK0および前記基材の厚さTが下記式(1)を満たすことを特徴とする。
0<K0/T≦0.90 …(1)
本発明のエンボスキャリアテープの製造方法においては、前記凹部形成用金型Aの幅L1および前記金型Bの孔の幅L2が下記式(2)を満たすことが好ましい。
0.75≦L1/L2≦1.00 …(2)
Moreover, the manufacturing method of the embossed carrier tape of this invention arrange | positions a base material on the metal mold | die B which has the hole which can insert the metal mold | die A for recessed part formation, and molds A for recessed part formation. And a recess formed of a bottom surface and a side surface rising from the peripheral edge of the bottom, and a protrusion protruding from the back surface of the base material corresponding to the recess, forming a has a press molding process, the thickness T of the depth K 0 and the base of the recess and satisfies the following formula (1).
0 <K 0 /T≦0.90 (1)
In the manufacturing method of the embossed carrier tape of this invention, it is preferable that the width | variety L1 of the said metal mold | die A for recessed part formation and the width | variety L2 of the hole of the said metal mold | die B satisfy | fill following formula (2).
0.75 ≦ L1 / L2 ≦ 1.00 (2)
本発明により、凹部の矩形性が高く、かつ破損しにくいエンボスキャリアテープおよびその製造方法が提供される。
また、本発明のエンボスキャリアテープおよびその製造方法によれば、形成される凹部の矩形性が高いことから、凹部の寸法精度、テーピング時の部品収納率、マウント時の実装精度や実装率等の向上が実現される。
According to the present invention, there are provided an embossed carrier tape having a rectangular concave portion and being hard to break, and a manufacturing method thereof.
In addition, according to the embossed carrier tape of the present invention and the manufacturing method thereof, since the rectangularity of the recessed portion to be formed is high, the dimensional accuracy of the recessed portion, the component storage rate at the time of taping, the mounting accuracy at the time of mounting, the mounting rate Improvement is realized.
<エンボスキャリアテープ>
図1〜2に本発明のエンボスキャリアテープの一実施形態を示す。
図1は本実施形態のエンボスキャリアテープ10の上面図であり、図2は、該エンボスキャリアテープ10を、図1中のX−X’の位置で、長さ方向に沿って切断した際の概略断面図である。
本実施形態のエンボスキャリアテープ10は、基材をプレス成形してなるものであって、プレス成形により加工されていない部分(以下、非加工部という。)11と、略直方体状の部品を収納するための凹部12,12・・・と、該凹部12に対応して、非加工部11の裏面(凹部12が開口している側とは反対側の面)11bによって形成される平面から突出する突出部13,13・・・とが形成されている。
凹部12は、底部12aおよび該底部12aの周縁部から立ち上がる側面部12bから構成されている。
また、キャリアテープの側縁にはスプロケットホール(送り穴)14,14・・・が形成されている。
<Embossed carrier tape>
1 and 2 show an embodiment of an embossed carrier tape of the present invention.
FIG. 1 is a top view of the embossed
The embossed
The
Further, sprocket holes (feed holes) 14, 14... Are formed on the side edges of the carrier tape.
エンボスキャリアテープ10においては、基材の厚さ(非加工部11の厚さ)Tおよび凹部12の深さK0が下記式(1)を満たす必要がある。
0<K0/T≦0.90 …(1)
式(1)は、凹部12の深さK0と、基材の厚さT、すなわち非加工部11の厚さとの関係を表すものであり、式(1)は、凹部12の深さK0が、基材の厚さTの90%以下であることを意味する。かかる構成においては、凹部12の底部12aが、非加工部11の、凹部12が開口している側の表面(表表面)11aによって形成される平面と、裏表面11bによって形成される平面と間に位置している。そのため、プレス成形により凹部12を高矩形性となるよう形成した場合に、凹部12の周辺等においてもエンボスキャリアテープ10の厚さが充分に保持され、エンボスキャリアテープの破損が防止できる。
これに対し、K0/Tが0.90超であると、凹部12の周辺、たとえば非加工部11の表面11aから凹部12の側面部12bにかけての曲げられた部分(以下、曲がり部という。)15や側面部12b、側面部12bと底部12aとの境界部分16等において、エンボスキャリアテープ10の厚さが薄くなり、破損を生じやすくなる。
K0/Tの値は、0.30以上0.90以下が好ましく、0.50以上0.80以下がより好ましい。
In the embossed
0 <K 0 /T≦0.90 (1)
Equation (1) represents the relationship between the depth K 0 of the
On the other hand, if K 0 / T is more than 0.90, a bent portion (hereinafter referred to as a bent portion) around the
The value of K 0 / T is preferably 0.30 or more and 0.90 or less, and more preferably 0.50 or more and 0.80 or less.
凹部12の深さK0は、収納しようとする部品の厚さ以上となるよう適宜設定される。
The depth K 0 of the
基材の厚さTは、上記式(1)を満たすものであれば特に限定されず、形成しようとする凹部13の深さK0に応じて適宜設定すればよい。
基材の材質としては、特に限定されず、紙基材、プラスチック基材等が挙げられる。プラスチック基材としては、熱可塑性樹脂製の基材、熱硬化性樹脂製の基材等が挙げられる。
熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリウレタン、ナイロン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂およびこれら2種以上を混合したポリマーアロイ等が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ジアリルフタレート樹脂等が挙げられる。
中でも、これらの樹脂やこれらの樹脂を含むポリマーアロイに、非イオン系界面活性剤、陽イオン系界面活性剤、陰イオン系界面活性剤等の帯電防止剤、導電性カーボン、カーボンやステンレス等の導電性繊維、酸化スズや酸化チタン等の導電性金属酸化物、アニリン、ピロール、チオフェン等の有機導電性物質等の導電剤を添加して帯電防止や導電性を付与したものを用いた基材や、プラスチック基材の表面に帯電防止剤や導電性物質を塗布することで、帯電防止層や導電層を設けたもの等の導電性プラスチック基材が好ましい。
プラスチック基材は、同じ材料や異なる材料を2層以上積層したものであってもよい。
The thickness T of the base material is not particularly limited as long as the above formula (1) is satisfied, and may be appropriately set according to the depth K 0 of the
The material of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include a paper substrate and a plastic substrate. Examples of the plastic substrate include a thermoplastic resin substrate and a thermosetting resin substrate.
Examples of the thermoplastic resin include polystyrene, polyvinyl chloride, polyester, polyamide, polyacetal, polyurethane, nylon, acrylic resin, polycarbonate, polyolefin resin, fluorine resin, and a polymer alloy in which two or more of these are mixed. Examples of the thermosetting resin include phenol resin, melamine resin, urea resin, diallyl phthalate resin and the like.
Among these resins, non-ionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants and other antistatic agents, conductive carbon, carbon, stainless steel, etc. Base materials using conductive fibers, conductive metal oxides such as tin oxide and titanium oxide, and conductive agents such as organic conductive substances such as aniline, pyrrole, and thiophene to provide antistatic properties and conductivity In addition, a conductive plastic substrate such as an antistatic layer or a conductive layer provided by applying an antistatic agent or a conductive substance to the surface of the plastic substrate is preferable.
The plastic substrate may be a laminate of two or more layers of the same material or different materials.
さらに、本発明においては、凹部12の幅A0と突出部13の幅S0とが下記式(2’)を満たすことが好ましい。
0.75≦A0/S0≦1.00 …(2’)
式(2’)を満たすエンボスキャリアテープ10は、破損しにくく、同時に、凹部12の矩形性が非常に高い。そのため、凹部12内に部品を所定の配置で収納でき、しかも収納した部品が動きにくく、テーピング時の部品収納率、マウント時の実装精度や実装率等が向上する。特に、A0/S0の値が1.00に近いほど、凹部12の側面部12bの当該エンボスキャリアテープ10の表面10aの垂直方向Vに対する傾斜角が0°に近くなり、凹部12の矩形性が向上するため好ましく、なかでも、傾斜角が0〜2°の範囲内であると、部品を所定の配置で収納しやすくなり、しかも収納した部品が動きにくくなるため、テーピング時の部品収納率、マウント時の実装精度や実装率等が向上する。
A0およびS0の値は、それぞれ、後述する本発明の製造方法において示すL1およびL2の値に対応しており、L1/L2の値を調節することによりA0/S0の値を調節できる。
Furthermore, in the present invention, it is preferable that the width A 0 of the recess 12 and the width S 0 of the
0.75 ≦ A 0 / S 0 ≦ 1.00 (2 ′)
The
The values of A 0 and S 0 correspond to the values of L 1 and
本発明においては、凹部12の側面部12bが、エンボスキャリアテープ10の表面から曲げられている曲率半径、すなわち曲がり部15における曲率半径が、0〜0.13mmであることが好ましい。これにより、部品を所定の配置で収納しやすくなり、しかも収納した部品が動きにくくなるため、テーピング時の部品収納率、マウント時の実装精度や実装率等が向上する。
曲率半径は、たとえば後述するように、凹部の形成に使用する凹部形成用金型A(凹部形成用成形パンチ1)の先端の押圧面の曲率半径を調節したり、該押圧面にコーティングを施す等により調節できる。
In the present invention, it is preferable that the radius of curvature of the
The radius of curvature is adjusted, for example, as described later, by adjusting the radius of curvature of the pressing surface at the tip of the recess forming mold A (molding punch 1 for forming the recess) or coating the pressing surface. It can be adjusted by etc.
本発明においては、特に、凹部12の側面部12bが、エンボスキャリアテープ10の表面から0〜0.13mmの曲率半径で曲げられ、かつ当該エンボスキャリアテープ10の表面10aの垂直方向Vに対して0〜2°の傾斜角を有していることが好ましい。
In the present invention, in particular, the
本発明のエンボスキャリアテープにおいて、凹部に収納される部品としては、例えば、セラミックコンデンサ、抵抗、ICチップなどの電子部品が挙げられる。
本発明のエンボスキャリアテープは、特に、部品サイズが1005サイズ(長辺寸法;1.0mm、短辺寸法;0.5mm、厚さ寸法;0.5mm)以下の微細部品用として好適である。これは、部品のサイズが小さくなるほど、凹部12の矩形性および曲がり部15の曲率半径が、テーピング時の部品収納率、マウント時の実装精度や実装率等に与える影響が大きくなるためである。ここで、1005サイズ以下のサイズとは、1005サイズの他に、例えば、0402サイズ(長辺寸法;0.4mm、短辺寸法;0.2mm、厚さ寸法;0.2mm)、0603サイズ(長辺寸法;0.6mm、短辺寸法;0.3mm、厚さ寸法;0.3mm)などが挙げられる。
In the embossed carrier tape of the present invention, examples of the components housed in the recess include electronic components such as ceramic capacitors, resistors, and IC chips.
The embossed carrier tape of the present invention is particularly suitable for fine parts having a part size of 1005 (long side dimension: 1.0 mm, short side dimension: 0.5 mm, thickness dimension: 0.5 mm) or less. This is because the rectangularity of the
本発明のエンボスキャリアテープは、下記本発明のエンボスキャリアテープの製造方法により製造できる。 The embossed carrier tape of the present invention can be produced by the following method for producing an embossed carrier tape of the present invention.
<エンボスキャリアテープの製造方法>
本発明のエンボスキャリアテープの製造方法は、凹部形成用金型Aを挿入可能な孔を有する金型B上に基材を配置し、該基材の一部を凹部形成用金型Aでプレスして前記金型Bの孔内に延伸することにより、底部および該底部の周縁部から立ち上がる側面部からなる凹部と、該凹部に対応して前記基材の裏面から突出する突出部とを形成するプレス成形工程を有し、前記凹部の深さK0および前記基材の厚さTが下記式(1)を満たすことを特徴とする。
0<K0/T≦0.90 …(1)
式(1)についての説明は上述したとおりである。
<Method for producing embossed carrier tape>
In the method for producing an embossed carrier tape of the present invention, a substrate is placed on a mold B having a hole into which a recess forming mold A can be inserted, and a part of the substrate is pressed by the recess forming mold A. Then, by extending into the hole of the mold B, a concave portion including a bottom portion and a side portion rising from a peripheral portion of the bottom portion, and a protruding portion protruding from the back surface of the base material corresponding to the concave portion are formed. to have a press molding process, the thickness T of the depth K 0 and the base of the recess and satisfies the following formula (1).
0 <K 0 /T≦0.90 (1)
The description of the formula (1) is as described above.
図3〜5に、本発明のエンボスキャリアテープの製造方法の好ましい一実施形態を説明するための概略図を示す。
本実施形態は、凹部形成用成形パンチ1(凹部形成用金型A)と、該凹部形成用成形パンチ1を挿入可能な孔2aを有するダイプレート2(金型B)と、ストリッパープレート3と、ノックアウトパンチ4とを用いて行うことができる。
まず、図3に示すように、厚さTの基材5を、ダイプレート2とストリッパープレート3との間に配置し、狭持する。
次いで、凹部形成用成形パンチ1を、ダイプレート2方向に下降させる。これにより、図4に示すように、基材5の一部がダイプレート2の孔2a内へと延伸され、基材5のストリッパープレート3側に開口する深さK0の凹部12と、基材5のダイプレート2側に突出する突出部13とが形成される。
次いで、図5に示すように、凹部形成用成形パンチ1を後退させた後、ストリッパープレート3を上昇させるとともに、ノックアウトパンチ4をストリッパープレート3方向に上昇させて突出部13をダイプレート2の上面まで押し上げる。
次いで、このようにして凹部12および突出部13が形成された基材5を一定量フィードして同様の操作を順次繰り返すことにより、長さ方向に沿って複数の凹部12および突出部13が形成されたエンボスキャリアテープを得る。
The schematic for demonstrating preferable one Embodiment of the manufacturing method of the embossed carrier tape of this invention to FIGS. 3-5 is shown.
In this embodiment, a recess forming punch 1 (recess forming mold A), a die plate 2 (mold B) having a
First, as shown in FIG. 3, the
Next, the concave forming punch 1 is lowered in the direction of the
Next, as shown in FIG. 5, after the recess forming punch 1 is retracted, the
Next, a plurality of
このとき、凹部12の形成は、基材の厚さTおよび凹部12の深さK0が、上述した式(1)を満たすように行う必要がある。
At this time, it is necessary to form the
本発明においては、凹部形成用成形パンチ1の幅L1およびダイプレート2の孔2aの幅L2が下記式(2)を満たすことが好ましい。
0.75≦L1/L2≦1.00 …(2)
式(2)は、凹部形成用成形パンチ1の幅L1と、ダイプレート2の孔2aの幅L2との関係を表すものであり、凹部形成用成形パンチ1の外側面とダイプレート2の孔2aの内側面との間の隙間、すなわちクリアランスが、L2の12.5%以下であることを意味する。
L1/L2が上記範囲内であることにより、上述した式(2’)を満たすエンボスキャリアテープが得られる。
また、L1とL2との差が小さいほど、凹部12側面部の傾斜角を小さくできる。そのため、0≦L2−L1≦120μmの範囲内であることが好ましい。
In the present invention, it is preferable that the width L1 of the concave forming punch 1 and the width L2 of the
0.75 ≦ L1 / L2 ≦ 1.00 (2)
Expression (2) represents the relationship between the width L1 of the recess forming punch 1 and the width L2 of the
When L1 / L2 is within the above range, an embossed carrier tape satisfying the above-described formula (2 ′) can be obtained.
Moreover, the inclination | tilt angle of the recessed
凹部形成用成形パンチ1の幅L1は、形成しようとする凹部12の幅A0に応じて設定される。
ダイプレート2の孔2aの幅L2は、形成しようとする突出部13の幅S0に応じて設定される。
ストリッパープレート3において、凹部形成用成形パンチ1が配置される孔3aの幅L3は、L1≦L3≦L1+5μmの範囲内であることが好ましい。これにより、成形パンチ1の位置精度が向上し、エンボスキャリアテープの寸法バラツキを抑えることができる。
Width of the recess forming mold punch 1 L1 is set in accordance with the width A 0 of the
Width L2 of the
In the
プレス成形の際には、加熱をしてもよいし、しなくてもよい。基材5が熱可塑性樹脂を含む場合には、その熱可塑性樹脂の2次転移点以上の温度で加熱することが好ましい。
本発明においては、特に、加熱をしない冷間成形が、凹部12を、より高い寸法精度で形成できるため好ましい。
During press molding, heating may or may not be performed. When the
In the present invention, cold forming without heating is particularly preferable because the
凹部形成用成形パンチ1の先端の押圧面は曲面であってもよい。その場合、押圧面の曲率半径は、部品の寸法W×0.15mm以下であることが好ましく、W×0.05mm〜W×0.15mmであることがより好ましい。凹部形成用成形パンチ1の先端がこのような形状になっていれば、成形の際、凹部形成用成形パンチ1が、基材中を、基材の表面を引きずり込むことなくダイプレート方向に移動する。そのため、曲がり部の曲率半径を0〜0.13mmにすることができる。
また、凹部形成用成形パンチ1の先端は、ダイヤモンドライクコーティング(DLC)、チタンコーティング、フッ素コーティング等のコーティング処理が施されていることが好ましい。凹部形成用成形パンチ1の先端にコーティング処理を施し、摩擦係数を小さくすることにより、上記と同様、曲がり部の曲率半径を0〜0.13mmにすることができる。
The pressing surface at the tip of the concave forming punch 1 may be a curved surface. In that case, the radius of curvature of the pressing surface is preferably the dimension W × 0.15 mm or less of the part, and more preferably W × 0.05 mm to W × 0.15 mm. If the tip of the concave forming punch 1 has such a shape, the concave forming punch 1 moves in the direction of the die plate in the base without dragging the surface of the base. . Therefore, the curvature radius of the bent portion can be set to 0 to 0.13 mm.
The tip of the recess forming punch 1 is preferably subjected to a coating treatment such as diamond-like coating (DLC), titanium coating, or fluorine coating. By applying a coating process to the tip of the concave forming punch 1 and reducing the friction coefficient, the radius of curvature of the bent portion can be set to 0 to 0.13 mm as described above.
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
実施例1
図1,2に示す形状の、0402サイズのセラミックコンデンサ(短辺寸法W=0.20mm、厚さ寸法N=0.20mm)用のエンボスキャリアテープを以下のようにして製造した。
まず、厚さT=0.30mmの基材シート(カーボンコーティングA−PETシート)をプレス成形機に移送した。このプレス成形機は、図3〜5に示したのと同様、成形パンチと、ストリッパープレートと、角穴が形成されたダイプレートとを備えたものであり、成形パンチの先端は曲率半径0.02mmの曲面であり、成形パンチの短辺寸法L1=0.25mm、ダイプレートの角穴の短辺寸法L2=0.27mm、クリアランス(角穴に成形パンチを挿入した際の成形パンチとダイプレートの角穴内面との隙間)[(L2−L1)/2]=10μmのものである。
次いで、基材シートを成形パンチとダイプレートとの間に配置し、成形パンチをダイプレート方向に移動させて、凹部と突出部とを形成した。
次いで、成形パンチを後退させた後、ストリッパープレートを上昇させるとともに、角穴内のノックアウトパンチをダイプレート方向に上昇させることによって突出部をダイプレートの上面まで押し上げ、基材シートを一定量移送した後、200ショット/分の成形サイクルで同様のプレス成形を行ってエンボスキャリアテープを得た。
形成された凹部の深さK0=0.24mm、短辺寸法A0=0.23mm、突出部の短辺寸法S0=0.27mmであり(K0/T=0.80、A0/S0=0.85)、凹部の側面の傾斜角は1.6°、曲がり部の曲率半径は0.13mmであった。また、凹部同士の間隔は1mmとした。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited to this.
Example 1
An embossed carrier tape for a 0402 size ceramic capacitor (short side dimension W = 0.20 mm, thickness dimension N = 0.20 mm) having the shape shown in FIGS. 1 and 2 was produced as follows.
First, a base sheet (carbon coating A-PET sheet) having a thickness T = 0.30 mm was transferred to a press molding machine. This press molding machine is provided with a molding punch, a stripper plate, and a die plate in which square holes are formed, as shown in FIGS. 02mm curved surface, molding punch short side dimension L1 = 0.25mm, die plate square hole short side dimension L2 = 0.27mm, clearance (molding punch and die plate when molding punch is inserted into square hole Of the inner surface of the square hole) [(L2−L1) / 2] = 10 μm.
Next, the base sheet was placed between the molding punch and the die plate, and the molding punch was moved in the direction of the die plate to form a recess and a protrusion.
Next, after retreating the molding punch, the stripper plate is raised, and the protrusion is pushed up to the upper surface of the die plate by raising the knockout punch in the square hole in the die plate direction, and then the substrate sheet is transferred by a certain amount The same press molding was performed at a molding cycle of 200 shots / minute to obtain an embossed carrier tape.
The depth K 0 of the formed recess is 0.24 mm, the short side dimension A 0 is 0.23 mm, and the short side dimension S 0 of the protrusion is 0.27 mm (K 0 /T=0.80, A 0 / S 0 = 0.85), the inclination angle of the side surface of the concave portion was 1.6 °, and the curvature radius of the bent portion was 0.13 mm. The interval between the recesses was 1 mm.
得られたエンボスキャリアテープを以下のようにして評価した。
(1)テーピングエラー率
テーピング機(角チップ用高速タイプ、テーピング速度1000チップ/分)を用い、エンボスキャリアテープの凹部に0402サイズのセラミックコンデンサを収納した。その際のテーピングエラー率を下記の式から求めた。その結果、テーピングエラー率は250ppmであった。
(テーピングエラー率)=[(部品収納部に収納されなかったセラミックコンデンサ数)/(全セラミックコンデンサ数)]×1000000(ppm)
(2)実装エラー率
実装機(高速モジュラータイプ、装着精度:±0.05mm/チップ)を用い、装着タクト0.15秒/チップで、エンボスキャリアテープの凹部に収納したセラミックコンデンサ0402を実装した。その際の実装エラー率を下記の式から求めた。その結果、実装エラー率は800ppmであった。
ここで、実装されなかったセラミックコンデンサは、凹部に所定の配置で収納されていなかったものである。したがって、実装エラー率は、エンボスキャリアテープの部品収納部に、所定の配置で収納されていなかったセラミックコンデンサ数を表す。
(実装エラー率)=[(実装されなかったセラミックコンデンサ数)/(全セラミックコンデンサ数)]×1000000(ppm)
The obtained embossed carrier tape was evaluated as follows.
(1) Taping error rate Using a taping machine (high speed type for square chip, taping speed 1000 chips / min), a 0402 size ceramic capacitor was accommodated in the recess of the embossed carrier tape. The taping error rate at that time was obtained from the following equation. As a result, the taping error rate was 250 ppm.
(Taping error rate) = [(number of ceramic capacitors not stored in the component storage section) / (total number of ceramic capacitors)] × 1000000 (ppm)
(2) Mounting error rate Using a mounting machine (high-speed modular type, mounting accuracy: ± 0.05 mm / chip), the ceramic capacitor 0402 housed in the recess of the embossed carrier tape was mounted at a mounting tact of 0.15 seconds / chip. . The mounting error rate at that time was obtained from the following formula. As a result, the mounting error rate was 800 ppm.
Here, the ceramic capacitor that was not mounted was not accommodated in the recess in a predetermined arrangement. Therefore, the mounting error rate represents the number of ceramic capacitors that are not stored in a predetermined arrangement in the component storage portion of the embossed carrier tape.
(Mounting error rate) = [(Number of ceramic capacitors not mounted) / (Number of total ceramic capacitors)] × 1000000 (ppm)
比較例1
実施例1において、ダイプレートの角穴の短辺寸法L2=0.37mmとし、クリアランス[(L2−L1)/2]=60μmとした以外は実施例1と同様にして、0402サイズのセラミックコンデンサ(短辺寸法W=0.20mm、厚さ寸法N=0.20mm)用のエンボスキャリアテープを製造した。
その結果、形成された凹部の深さK0=0.24mm、短辺寸法A0=0.23mm、突出部の短辺寸法S0=0.37mmであり(K0/T=0.80、A0/S0=0.62)、凹部の側面の傾斜角は15°、曲がり部の曲率半径は0.60mmであった。
また、得られたエンボスキャリアテープを実施例1と同様に評価した結果、テーピングエラー率は3000ppm、実装エラー率は40000ppmであった。
Comparative Example 1
A 0402 size ceramic capacitor in the same manner as in Example 1 except that the short side dimension L2 = 0.37 mm of the die plate square hole in Example 1 and the clearance [(L2-L1) / 2] = 60 μm. An embossed carrier tape for a short side dimension W = 0.20 mm and a thickness dimension N = 0.20 mm was manufactured.
As a result, the depth K 0 of the formed recess is 0.24 mm, the short side dimension A 0 is 0.23 mm, and the short side dimension S 0 of the protrusion is 0.37 mm (K 0 /T=0.80). A 0 / S 0 = 0.62), the inclination angle of the side surface of the concave portion was 15 °, and the radius of curvature of the bent portion was 0.60 mm.
Moreover, as a result of evaluating the obtained embossed carrier tape similarly to Example 1, the taping error rate was 3000 ppm and the mounting error rate was 40000 ppm.
1…凹部形成用成形パンチ(凹部形成用金型A)、2…ダイプレート(金型B)、2a…孔、3…ストリッパープレート、4…ノックアウトパンチ、5…基材、10…エンボスキャリアテープ、11…非加工部、12…凹部、13…突出部、14…スプロケットホール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Molding punch for recessed part formation (mold A for recessed part formation), 2 ... Die plate (die B), 2a ... Hole, 3 ... Stripper plate, 4 ... Knockout punch, 5 ... Base material, 10 ... Embossed carrier tape , 11 ... Non-processed part, 12 ... Recessed part, 13 ... Projection part, 14 ... Sprocket hole
Claims (4)
前記基材の厚さTおよび前記凹部の深さK0が下記式(1)を満たすことを特徴とするエンボスキャリアテープ。
0<K0/T≦0.90 …(1) An embossed carrier tape in which, by press molding, a base material is formed with a concave portion including a bottom portion and a side portion rising from a peripheral portion of the bottom portion, and a protruding portion protruding from the back surface of the base material corresponding to the concave portion. There,
Embossed carrier tape depth K 0 of the thickness T and the recess of said substrate characterized by satisfying the following formula (1).
0 <K 0 /T≦0.90 (1)
前記凹部の深さK0および前記基材の厚さTが下記式(1)を満たすことを特徴とするエンボスキャリアテープの製造方法。
0<K0/T≦0.90 …(1) A base material is placed on a mold B having a hole into which the concave portion forming mold A can be inserted, and a part of the base material is pressed by the concave portion forming mold A and stretched into the hole of the mold B. And a press forming step of forming a concave portion including a bottom portion and a side portion rising from a peripheral portion of the bottom portion, and a protruding portion protruding from the back surface of the base material corresponding to the concave portion,
A method for manufacturing an embossed carrier tape, wherein the depth K 0 of the recess and the thickness T of the base material satisfy the following formula (1).
0 <K 0 /T≦0.90 (1)
0.75≦L1/L2≦1.00 …(2)
The method for producing an embossed carrier tape according to claim 3, wherein the width L1 of the recess-forming mold A and the width L2 of the hole of the mold B satisfy the following formula (2).
0.75 ≦ L1 / L2 ≦ 1.00 (2)
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