JP2006267188A - Negative type lithography plate - Google Patents

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Shoji Akaiwa
昌治 赤岩
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative type lithography plate for photo-sensing on near infrared region superior in handleability under a white lamp without any influence in printing. <P>SOLUTION: The negative type lithography plate having a photopolymerization photosensitive layer on a support has a pigment having absorbancy in a wavelength region of ≥750 nm and contains a hydrazine compound. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、近赤外領域に感光するネガ型平版印刷版において、印刷性に影響が無く、白灯下での取り扱い性に優れた、ネガ型平版印刷版に関するものである。   The present invention relates to a negative lithographic printing plate that has no influence on printability and is excellent in handleability under white light in a negative lithographic printing plate that is sensitive to the near infrared region.

近年、コンピューター上で作成したデジタルデータをもとにフィルム上に出力せずに直接印刷版上に出力するコンピュータートゥープレート(CTP)技術が開発され、出力機として種々のレーザーを搭載した各種プレートセッターとこれらに適合する感光性平版印刷版の開発が盛んに行われている。なかでも750nm以上の近赤外領域に発光する半導体レーザーやYAGレーザーを利用した出力機においては光源の出力が数100mWから数ワットクラスの高出力レーザーが搭載されているため、極めて高いエネルギーでの画像形成が可能となっている。こうしたCTPに適合する感光性平版印刷版としては、例えば特開平7−20629号、特開平7−271029号、特開平9−185160号、特開平9−197671号、特開平9−222731号、特開平9−239945号、特開平10−142780号公報等に記載されるような、潜在的酸発生剤と近赤外吸収色素の組み合わせにおいて光熱変換により発生する熱を利用した潜在的酸発生剤の分解と、このレーザー照射部において生成する酸を利用した酸触媒熱架橋を用いてネガ型の画像形成方法が開示されている。或いは、従来からの高感度フォトポリマー技術の応用であるフォトンモード記録を近赤外光に応用した系として、例えば特開2000−122274号、特開2000−131833号、特開2000−181059号、特開2000−194124号公報などには光重合開始剤とエチレン性不飽和化合物を含むフォトポリマー系において、光重合開始剤を近赤外光において分光増感する種々の色素を用いることにより高感度なネガ型記録材料が与えられている。   In recent years, computer-to-plate (CTP) technology has been developed to output directly on a printing plate without outputting it on film based on digital data created on a computer. Various plate setters equipped with various lasers as output machines The development of photosensitive lithographic printing plates suitable for these has been actively conducted. In particular, in an output device using a semiconductor laser or a YAG laser that emits light in the near infrared region of 750 nm or more, a high-power laser with a light source output of several hundreds mW to several watts is mounted, so the energy is extremely high. Image formation is possible. Examples of photosensitive lithographic printing plates compatible with CTP include, for example, JP-A-7-20629, JP-A-7-271029, JP-A-9-185160, JP-A-9-197671, JP-A-9-222731. A latent acid generator utilizing heat generated by photothermal conversion in a combination of a latent acid generator and a near-infrared absorbing dye, as described in Kaihei 9-239945, JP-A-10-142780, etc. A negative-type image forming method is disclosed using decomposition and acid-catalyzed thermal crosslinking using an acid generated in the laser irradiation part. Alternatively, as systems in which photon mode recording, which is an application of conventional high-sensitivity photopolymer technology, is applied to near-infrared light, for example, JP 2000-122274 A, JP 2000-131833 A, JP 2000-181559 A, JP-A-2000-194124 discloses a photopolymer system containing a photopolymerization initiator and an ethylenically unsaturated compound, which is highly sensitive by using various dyes that spectrally sensitize the photopolymerization initiator in near infrared light. Negative recording materials are provided.

一方、従来から知られている光重合性の感光層を有する平版印刷版では、取り扱い時に安全光として用いる蛍光灯などから、放射される紫外線により開始剤の所望されない分解が起こり、非画像部に汚れを生じる問題があり、安全光発光スペクトルの付近に主な吸収スペクトルを有する着色剤を含有する技術が知られおり、このことは例えば、特開2003−233192号(特許文献1)、特開平8−160608号(特許文献2)、特開平8−062830号(特許文献3)等に記載されている。しかしながら、更なる向上が望まれていた。   On the other hand, in a lithographic printing plate having a conventionally known photopolymerizable photosensitive layer, undesired decomposition of the initiator occurs due to ultraviolet rays emitted from a fluorescent lamp or the like used as safety light at the time of handling, and in a non-image area. There is a problem of causing stains, and a technique containing a colorant having a main absorption spectrum in the vicinity of the safe light emission spectrum is known. This is disclosed in, for example, JP-A-2003-233192 (Patent Document 1), No. 8-160608 (Patent Document 2), JP-A-8-062830 (Patent Document 3), and the like. However, further improvements have been desired.

一方、ヒドラジン化合物を用いた従来技術としては、特開平11−160883号(特許文献4)で親水性膨潤層の架橋剤として用いることが記載されている。また熱転写による画像形成方法として特開平6−214398号(特許文献5)に記載がされている。しかしながら、本発明の様な効果については知られていなかった。
特開2003−233192号公報 特開平8−160608号公報 特開平8−062830号公報 特開平11−160883号公報 特開平6−214398号公報
On the other hand, as a conventional technique using a hydrazine compound, JP-A-11-160883 (Patent Document 4) describes use as a crosslinking agent for a hydrophilic swelling layer. JP-A-6-214398 (Patent Document 5) describes an image forming method by thermal transfer. However, the effect as in the present invention has not been known.
JP 2003-233192 A JP-A-8-160608 Japanese Patent Laid-Open No. 8-062830 JP-A-11-160883 JP-A-6-214398

従って、本発明の目的は、印刷性に影響が無く、白灯下で取り扱い性に優れた近赤外領域に感光するネガ型平版印刷版を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a negative lithographic printing plate that is sensitive to the near-infrared region with no influence on printability and excellent handleability under white light.

本発明の上記目的は、以下に示す手段によって達成された。
1.支持体上に光重合性の感光層を有するネガ型平版印刷版において該感光層中に、750nm以上の波長領域に吸収を有する色素を含有し、かつヒドラジン化合物を含有することを特徴とするネガ型平版印刷版。
2.該ヒドラジン化合物が下記一般式の化合物であることを特徴とする請求項1記載のネガ型平版印刷版。
The above object of the present invention has been achieved by the following means.
1. A negative lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer on a support, wherein the photosensitive layer contains a dye having absorption in a wavelength region of 750 nm or more and contains a hydrazine compound. Type lithographic printing plate.
2. 2. The negative lithographic printing plate according to claim 1, wherein the hydrazine compound is a compound having the following general formula.

Figure 2006267188
Figure 2006267188

式中、Arはアリール基を表し、R0は、水素原子または−N(R01)(R02)で表される基を表す。R01、R02は、それぞれ独立の水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロ環基、または、置換もしくは無置換のピリジニウム基を表す。また、R01、R02は、互いに連結して環を形成していてもよい。nは1又は2の整数を表す。
3.該感光層が側鎖にエチレン性不飽和二重結合を有し、かつカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として有するポリマーを含有する請求項1記載のネガ型平版印刷版。 4.該感光層が有機ホウ素塩を含有する上記1記載のネガ型平版印刷版。
In the formula, Ar represents an aryl group, and R 0 represents a hydrogen atom or a group represented by —N (R 01 ) (R 02 ). R 01 and R 02 each represents an independent hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, or a substituted or unsubstituted pyridinium group. R 01 and R 02 may be connected to each other to form a ring. n represents an integer of 1 or 2.
3. The negative lithographic printing plate according to claim 1, wherein the photosensitive layer contains a polymer having an ethylenically unsaturated double bond in a side chain and a carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component. 4). The negative lithographic printing plate as described in 1 above, wherein the photosensitive layer contains an organic boron salt.

本発明によれば、上記手段によることで、印刷性に影響がなく、白灯下で取り扱い性に優れた近赤外領域に感光するネガ型平版印刷版を提供することにある。   According to the present invention, by the above means, there is provided a negative lithographic printing plate that is sensitive to the near-infrared region having no influence on printability and excellent handleability under white light.

本発明のネガ型平版印刷版に使用される感光層について説明する。光重合性の感光層は、光重合開始剤と重合性のモノマー、オリゴマーあるいはポリマーを含有する。本発明の感光層には、側鎖にエチレン性不飽和二重結合を有し、かつカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として有するポリマーを含有するのが好ましい。   The photosensitive layer used in the negative planographic printing plate of the present invention will be described. The photopolymerizable photosensitive layer contains a photopolymerization initiator and a polymerizable monomer, oligomer or polymer. The photosensitive layer of the present invention preferably contains a polymer having an ethylenically unsaturated double bond in the side chain and a carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component.

側鎖に重合性二重結合を有しかつカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として有するポリマーについて説明する。カルボキシル基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸2−カルボキシエチルエステル、メタクリル酸2−カルボキシエチルエステル、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン等のような例が挙げられる。   A polymer having a polymerizable double bond in the side chain and having a carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component will be described. As the carboxyl group-containing monomer, acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid 2-carboxyethyl ester, methacrylic acid 2-carboxyethyl ester, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid monoalkyl ester, Examples include 4-carboxystyrene and the like.

上記のポリマー側鎖に重合性二重結合を導入する場合のモノマーとしては、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、1−プロペニル−アクリレート、1−プロペニル−メタクリレート、β−フェニル−ビニル−メタクリレート、β−フェニル−ビニル−アクリレート、ビニルメタクリルアミド、ビニルアクリルアミド、α−クロロ−ビニル−メタクリレート、α−クロロ−ビニル−アクリレート、β−メトキシ−ビニル−メタクリレート、β−メトキシ−ビニル−アクリレート、ビニル−チオ−アクリレート、ビニル−チオ−メタクリレート等が挙げられる。   As monomers for introducing a polymerizable double bond into the polymer side chain, allyl acrylate, allyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, 1-propenyl-acrylate, 1-propenyl-methacrylate, β-phenyl-vinyl- Methacrylate, β-phenyl-vinyl-acrylate, vinyl methacrylamide, vinyl acrylamide, α-chloro-vinyl-methacrylate, α-chloro-vinyl-acrylate, β-methoxy-vinyl-methacrylate, β-methoxy-vinyl-acrylate, vinyl -Thio-acrylate, vinyl-thio-methacrylate and the like.

本発明に用いられるポリマーとして特に好ましくは、ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有し、かつカルボキシ基含有モノマーを共重合成分として有するポリマーである。ビニル基が置換したフェニル基は直接もしくは連結基を介して主鎖と結合したものであり、連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した基が挙げられる。また、前記フェニル基は置換可能な基もしくは原子で置換されていても良く、また、前記ビニル基はハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等で置換されていても良い。上記した側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重合体とは、更に詳細には、下記化2で表される基を側鎖に有するものである。   The polymer used in the present invention is particularly preferably a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in a side chain and a carboxy group-containing monomer as a copolymerization component. The phenyl group substituted with a vinyl group is bonded to the main chain directly or through a linking group, and the linking group is not particularly limited, and includes any group, atom, or a combination thereof. The phenyl group may be substituted with a substitutable group or atom, and the vinyl group is a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, It may be substituted with an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group or the like. More specifically, the polymer having a phenyl group in which a vinyl group is substituted on the side chain described above has a group represented by the following chemical formula 2 in the side chain.

Figure 2006267188
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式中、Z1は連結基を表し、R1、R2、及びR3は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等であり、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等で置換されていても良い。R4は置換可能な基または原子を表す。n1は0または1を表し、m1は0〜4の整数を表し、k1は1〜4の整数を表す。 In the formula, Z 1 represents a linking group, and R 1 , R 2 , and R 3 are a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, and an aryl group. A group, an alkoxy group, an aryloxy group, and the like, and these groups may be substituted with an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxy group, or the like. R 4 represents a substitutable group or atom. n 1 represents 0 or 1, m 1 represents an integer of 0 to 4, and k 1 represents an integer of 1 to 4.

上記一般式について更に詳細に説明する。Z1の連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−N(R5)−、−C(O)−O−、−C(R6)=N−、−C(O)−、スルホニル基、複素環基、及び下記化3で表される基等の単独もしくは2以上が複合した基が挙げられる。ここでR5及びR6は、水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。更に、上記した連結基には、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。 The above general formula will be described in more detail. As the linking group for Z 1 , an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, —N (R 5 ) —, —C (O) —O—, —C (R 6 ) ═N—, Examples include —C (O) —, a sulfonyl group, a heterocyclic group, and a group represented by the following chemical formula 3 alone or in combination of two or more. Here, R 5 and R 6 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or the like. Furthermore, the above-described linking group may have a substituent such as an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.

Figure 2006267188
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上記複素環基としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、更にこれらの複素環には置換基が結合していても良い。
化2で表される基の例を以下に示すが、これらの例に限定されるものではない。
Examples of the heterocyclic group include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thiatriazole ring, indole ring. , Indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline ring, quinoxaline ring, etc. A nitrogen-containing heterocyclic ring, a furan ring, a thiophene ring, and the like, and a substituent may be bonded to these heterocyclic rings.
Although the example of group represented by Chemical formula 2 is shown below, it is not limited to these examples.

Figure 2006267188
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上記化2で表される基の中には好ましいものが存在する。即ち、R1及びR2が水素原子でR3が水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)であるものが好ましい。更に、Z1の連結基としては複素環を含むものが好ましく、k1は1または2であるものが好ましい。 Among the groups represented by the chemical formula 2, there are preferable ones. That is, it is preferable that R 1 and R 2 are hydrogen atoms and R 3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.). Further, as the linking group for Z 1 , those containing a heterocyclic ring are preferred, and those in which k 1 is 1 or 2 are preferred.

化2で示される基を有し、かつカルボキシ基含有モノマーを共重合成分として有するポリマーの例を下記に示す。式中、数字は共重合体トータル組成100質量%中に於ける各繰り返し単位の質量%を表す。   Examples of polymers having a group represented by Chemical Formula 2 and having a carboxy group-containing monomer as a copolymerization component are shown below. In the formula, the number represents the mass% of each repeating unit in the copolymer total composition of 100 mass%.

Figure 2006267188
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本発明のポリマーは、更に他のモノマーを共重合体成分として含んでもよい。他のモノマーとしては、スチレン、4−メチルスチレン、4−ヒドロキシスチレン、4−アセトキシスチレン、4−カルボキシスチレン、4−アミノスチレン、クロロメチルスチレン、4−メトキシスチレン等のスチレン誘導体、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ドデシル等のメタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸アリールエステル或いはアルキルアリールエステル類、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸メトキシジエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸メトキシポリエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸ポリプロピレングリコールモノエステル等のアルキレンオキシ基を有するメタクリル酸エステル類、メタクリル酸2−ジメチルアミノエチル、メタクリル酸2−ジエチルアミノエチル等のアミノ基含有メタクリル酸エステル類、或いはアクリル酸エステルとしてこれら対応するメタクリル酸エステルと同様の例、或いは、リン酸基を有するモノマーとしてビニルホスホン酸等、或いは、アリルアミン、ジアリルアミン等のアミノ基含有モノマー類、或いは、ビニルスルホン酸およびその塩、アリルスルホン酸およびその塩、メタリルスルホン酸およびその塩、スチレンスルホン酸およびその塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸およびその塩等のスルホン酸基を有するモノマー類、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等の含窒素複素環を有するモノマー類、或いは4級アンモニウム塩基を有するモノマーとして4−ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミドのメチルクロライドによる4級化物、N−ビニルイミダゾールのメチルクロライドによる4級化物、4−ビニルベンジルピリジニウムクロライド等、或いはアクリロニトリル、メタクリロニトリル、またアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メトキシエチルアクリルアミド、4−ヒドロキシフェニルアクリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド誘導体、さらにはアクリロニトリル、メタクリロニトリル、フェニルマレイミド、ヒドロキシフェニルマレイミド、酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、またメチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、その他、N−ビニルピロリドン、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アリルアルコール、ビニルトリメトキシシラン、グリシジルメタクリレート等各種モノマー、が挙げられる。   The polymer of the present invention may further contain another monomer as a copolymer component. Other monomers include styrene derivatives such as styrene, 4-methylstyrene, 4-hydroxystyrene, 4-acetoxystyrene, 4-carboxystyrene, 4-aminostyrene, chloromethylstyrene, 4-methoxystyrene, methyl methacrylate, Methacrylic acid alkyl esters such as ethyl methacrylate, butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, and dodecyl methacrylate, aryl methacrylates or alkylaryl esters such as phenyl methacrylate and benzyl methacrylate , 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, methoxydiethylene glycol monoester methacrylate, methoxyethylene methacrylate Methacrylic acid esters having an alkyleneoxy group such as glycol monoester and methacrylic acid polypropylene glycol monoester, amino group-containing methacrylic acid esters such as 2-dimethylaminoethyl methacrylate and 2-diethylaminoethyl methacrylate, or acrylic acid esters Examples of these corresponding methacrylic acid esters, or monomers having a phosphoric acid group such as vinylphosphonic acid, amino group-containing monomers such as allylamine and diallylamine, or vinylsulfonic acid and its salts, allylsulfone Monomers having a sulfonic acid group such as acid and its salt, methallylsulfonic acid and its salt, styrenesulfonic acid and its salt, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and its salt As monomers having a nitrogen-containing heterocyclic ring such as 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, N-vinylimidazole, N-vinylcarbazole, or monomers having a quaternary ammonium base, 4-vinylbenzyltrimethylammonium chloride, acryloyloxyethyl Trimethylammonium chloride, methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, quaternized product of dimethylaminopropylacrylamide with methyl chloride, quaternized product of N-vinylimidazole with methyl chloride, 4-vinylbenzylpyridinium chloride, or acrylonitrile, methacrylonitrile, Acrylamide, methacrylamide, dimethylacrylamide, diethylacrylamide, N-isopropyl acrylate Acrylamide or methacrylamide derivatives such as amide, diacetone acrylamide, N-methylol acrylamide, N-methoxyethyl acrylamide, 4-hydroxyphenyl acrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, phenylmaleimide, hydroxyphenylmaleimide, vinyl acetate, chloroacetic acid Vinyl esters such as vinyl, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl stearate, vinyl benzoate, and vinyl ethers such as methyl vinyl ether and butyl vinyl ether, N-vinyl pyrrolidone, acryloyl morpholine, tetrahydrofurfuryl methacrylate, vinyl chloride , Various monomers such as vinylidene chloride, allyl alcohol, vinyltrimethoxysilane, glycidyl methacrylate, etc. And the like.

本発明に係わるポリマーの分子量については好ましい範囲が存在し、重量平均分子量として1000から100万の範囲にあることが好ましく、さらに5000から50万の範囲にあることがさらに好ましい。   There is a preferred range for the molecular weight of the polymer according to the present invention, and the weight average molecular weight is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and more preferably in the range of 5,000 to 500,000.

本発明の感光層は、光重合開始剤を含有する。光重合開始剤としては公知の化合物用いることができる。例えば、有機ホウ素塩、トリハロアルキル置換された化合物(例えばトリハロアルキル置換された含窒素複素環化合物としてs−トリアジン化合物およびオキサジアゾール誘導体、トリハロアルキルスルホニル化合物)、ヘキサアリールビスイミダゾール、チタノセン化合物、ケトオキシム化合物、チオ化合物、有機過酸化物、オニウム塩(特開2003−114532号公報に記載のヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩)等が挙げられる。これらの光重合開始剤の中でも、特に有機ホウ素塩、トリハロアルキル置換化合物が好ましく用いられる。更に好ましくは、有機ホウ素塩とトリハロアルキル置換化合物を組み合わせて用いることである。   The photosensitive layer of the present invention contains a photopolymerization initiator. Known compounds can be used as the photopolymerization initiator. For example, organic boron salts, trihaloalkyl-substituted compounds (for example, s-triazine compounds and oxadiazole derivatives, trihaloalkylsulfonyl compounds as trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds), hexaarylbisimidazoles, titanocene compounds, ketoximes Compounds, thio compounds, organic peroxides, onium salts (iodonium salts, diazonium salts, sulfonium salts described in JP-A-2003-114532) and the like. Among these photopolymerization initiators, organic boron salts and trihaloalkyl-substituted compounds are particularly preferably used. More preferably, an organic boron salt and a trihaloalkyl-substituted compound are used in combination.

有機ホウ素塩を構成する有機ホウ素アニオンは、下記一般式で表される。   The organic boron anion constituting the organic boron salt is represented by the following general formula.

Figure 2006267188
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式中、R11、R12、R13およびR14は各々同じであっても異なっていてもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、複素環基を表す。これらの内で、R11、R12、R13およびR14の内の一つがアルキル基であり、他の置換基がアリール基である場合が特に好ましい。 In the formula, each of R 11 , R 12 , R 13 and R 14 may be the same or different, and represents an alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group or heterocyclic group. To express. Of these, it is particularly preferred that one of R 11 , R 12 , R 13 and R 14 is an alkyl group and the other substituent is an aryl group.

有機ホウ素塩を構成するカチオンとしては、アルカリ金属イオンおよびオニウム化合物が挙げられるが、好ましくは、オニウム塩であり、例えばテトラアルキルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩等のホスホニウム塩が挙げられる。特に好ましい有機ホウ素塩の例を下記に示す。   Examples of the cation constituting the organic boron salt include alkali metal ions and onium compounds, and preferred are onium salts such as ammonium salts such as tetraalkylammonium salts, sulfonium salts such as triarylsulfonium salts, and triaryls. Examples thereof include phosphonium salts such as alkylphosphonium salts. Examples of particularly preferred organic boron salts are shown below.

Figure 2006267188
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Figure 2006267188
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他の好ましい光重合開始剤として、トリハロアルキル置換化合物が挙げられる。上記トリハロアルキル置換化合物とは、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物としてs−トリアジン誘導体およびオキサジアゾール誘導体が挙げられ、或いは、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環或いは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   Other preferred photopolymerization initiators include trihaloalkyl-substituted compounds. Specifically, the trihaloalkyl-substituted compound is a compound having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group or a tribromomethyl group in the molecule. As a preferable example, the trihaloalkyl group is a nitrogen-containing complex. Examples of the compound bonded to the ring group include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives, or trihaloalkylsulfonyl compounds in which the trihaloalkyl group is bonded to an aromatic ring or a nitrogen-containing heterocycle via a sulfonyl group. .

トリハロアルキル置換した含窒素複素環化合物やトリハロアルキルスルホニル化合物の特に好ましい例を以下に示す。   Particularly preferred examples of trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds and trihaloalkylsulfonyl compounds are shown below.

Figure 2006267188
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Figure 2006267188
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上述したような光重合開始剤の含有量は、前述したポリマーに対して、1〜100質量%の範囲が好ましく、更には1〜40質量%の範囲で含まれることが好ましい。   The content of the photopolymerization initiator as described above is preferably in the range of 1 to 100% by mass and more preferably in the range of 1 to 40% by mass with respect to the polymer described above.

本発明の感光層に使用する増感色素については、750nm以上の近赤外から赤外光の波長領域の光において光重合開始剤の分解を増感するものであり、種々のカチオン性色素、アニオン性色素および電荷を有しない中性の色素としてメロシアニン、クマリン、キサンテン、チオキサンテン、アゾ色素等が使用できる。これらの内で特に好ましい例は、カチオン色素としてのシアニン、カルボシアニン、へミシアニン、メチン、ポリメチン、トリアリールメタン、インドリン、アジン、チアジン、キサンテン、オキサジン、アクリジン、ローダミン、およびアザメチン色素から選ばれる色素である。これらのカチオン性色素との組み合わせに於いては特に高感度でかつ保存性に優れるために好ましく使用される。
特に好ましい増感色素の例を以下に示す。
The sensitizing dye used in the photosensitive layer of the present invention sensitizes the decomposition of the photopolymerization initiator in the near infrared to infrared wavelength region of 750 nm or more, and various cationic dyes, Merocyanine, coumarin, xanthene, thioxanthene, azo dye and the like can be used as the anionic dye and neutral dye having no charge. Among these, particularly preferable examples are dyes selected from cyanine, carbocyanine, hemicyanine, methine, polymethine, triarylmethane, indoline, azine, thiazine, xanthene, oxazine, acridine, rhodamine, and azamethine dyes as cationic dyes. It is. In combination with these cationic dyes, they are preferably used because of their particularly high sensitivity and excellent storage stability.
Examples of particularly preferred sensitizing dyes are shown below.

Figure 2006267188
Figure 2006267188

Figure 2006267188
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上記増感色素の含有量としては、感光層1m2当たり1〜300mg程度が適当である。好ましくは10〜100mg/m2である。 The content of the sensitizing dye is suitably about 1 to 300 mg per 1 m 2 of the photosensitive layer. Preferably it is 10-100 mg / m < 2 >.

本発明の感光層は、白灯下での取り扱い性を優れたものにするために、ヒドラジン化合物を含有する。特に好ましくは下記一般式で表すヒドラジン化合物を含有する。   The photosensitive layer of the present invention contains a hydrazine compound in order to make it easy to handle under white light. Particularly preferably, it contains a hydrazine compound represented by the following general formula.

Figure 2006267188
Figure 2006267188

式中、Arはアリール基を表し、R0は、水素原子または−N(R01)(R02)で表される基を表す。R01、R02は、それぞれ独立の水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロ環基、または、置換もしくは無置換のピリジニウム基を表す。また、R01、R02は、互いに連結して環を形成していてもよい。nは1又は2の整数を表す。 In the formula, Ar represents an aryl group, and R 0 represents a hydrogen atom or a group represented by —N (R 01 ) (R 02 ). R 01 and R 02 each represents an independent hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, or a substituted or unsubstituted pyridinium group. R 01 and R 02 may be connected to each other to form a ring. n represents an integer of 1 or 2.

式中、Arで表されるアリール基は、具体的には、置換基を有してもよいフェニル基、またはナフチル基であり、その置換基の例としては、アルキル基、アリール基、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルケニル基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルキリデンアミノ基、ウレイド基、チオ尿素基、チオアミド基、ヘテロ環基、またはこれらの組み合わせ等が挙げられる。   In the formula, the aryl group represented by Ar is specifically a phenyl group which may have a substituent, or a naphthyl group. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, Examples thereof include a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkenyl group, an amino group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkylideneamino group, a ureido group, a thiourea group, a thioamide group, a heterocyclic group, and combinations thereof.

更にまた、アリール基は、その中にカラー用カプラー等の不動性写真用添加剤として知られているバラスト基が組み込まれているものでもよい。バラスト基とは、8個以上の炭素原子を有する比較的不活性な基であり、例えば、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基等の中から選ぶことができる。   Furthermore, the aryl group may incorporate a ballast group known as an immobile photographic additive such as a color coupler. The ballast group is a relatively inert group having 8 or more carbon atoms, and can be selected from, for example, an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, and a phenoxy group.

また、R0で表される−N(R01)(R02)は、下記一般式で表すように互いに連結して環を形成していてもよい。 Further, —N (R 01 ) (R 02 ) represented by R 0 may be connected to each other to form a ring as represented by the following general formula.

Figure 2006267188
Figure 2006267188

式中、R03は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、または置換もしくは無置換のアルケニル基を表わす。R04は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のアルコキシ基を表わす。X-は、アニオンを表わす。 In the formula, R 03 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, or a substituted or unsubstituted alkenyl group. R 04 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted alkoxy group. X represents an anion.

上記一般式で表されるヒドラジン化合物の含有量としては、感光層1m2当たり1〜500mg程度が適当である。好ましくは10〜200mg/m2である。以下に具体例を示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。 The content of the hydrazine compound represented by the above general formula is suitably about 1 to 500 mg per 1 m 2 of the photosensitive layer. Preferably it is 10-200 mg / m < 2 >. Specific examples are shown below, but the present invention is not limited to these examples.

Figure 2006267188
Figure 2006267188

Figure 2006267188
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本発明の感光層は、更に重合性のモノマーあるいはオリゴマーとして、エチレン性不飽和化合物を含有するのが好ましい。これを組み合わせることによって更に高感度が実現でき、また印刷性能に優れた平版印刷版を得ることができる。   The photosensitive layer of the present invention preferably further contains an ethylenically unsaturated compound as a polymerizable monomer or oligomer. By combining this, a higher sensitivity can be realized, and a lithographic printing plate excellent in printing performance can be obtained.

本発明に係わるエチレン性不飽和化合物としては、分子内に2個以上の重合性二重結合を有する重合性化合物が挙げられる。好ましいエチレン性不飽和化合物の例としては、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールグリセロールトリアクリレート、グリセロールエポキシトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等の多官能アクリル系モノマーが挙げられる。   Examples of the ethylenically unsaturated compound according to the present invention include polymerizable compounds having two or more polymerizable double bonds in the molecule. Examples of preferred ethylenically unsaturated compounds include 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trisacryloyloxyethyl isocyanurate, tripropylene Polyfunctional acrylic monomers such as glycol diacrylate, ethylene glycol glycerol triacrylate, glycerol epoxy triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate and the like can be mentioned.

或いは、上記の重合性化合物に代えてラジカル重合性を有するオリゴマーも好ましく使用され、アクリロイル基、メタクリロイル基を導入した各種オリゴマーとしてポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等も同様に使用されるが、これらもエチレン性不飽和化合物として同様に好ましく用いることができる。   Alternatively, an oligomer having radical polymerizability is preferably used in place of the above-described polymerizable compound, and polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, etc. as various oligomers into which acryloyl group or methacryloyl group is introduced Are also used in the same manner, but these can also be preferably used as ethylenically unsaturated compounds.

エチレン性不飽和化合物として、更に好ましい態様は、分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以上を有する重合性化合物が挙げられる。該化合物を使用した場合に於いて、発生するラジカルにより生成するスチリルラジカル同士の再結合により効果的に架橋を行うため、高感度の感光性平版印刷版を作成する上で極めて好ましい。   A more preferred embodiment of the ethylenically unsaturated compound is a polymerizable compound having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups in the molecule. When this compound is used, crosslinking is effectively carried out by recombination of styryl radicals generated by the generated radicals, so that it is extremely preferable for producing a highly sensitive photosensitive lithographic printing plate.

分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以上有する重合性化合物は、代表的には下記一般式で表される。   A polymerizable compound having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups in the molecule is typically represented by the following general formula.

Figure 2006267188
Figure 2006267188

式中、Z2は連結基を表し、R21、R22及びR23は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等であり、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等で置換されていても良い。R24は置換可能な基または原子を表す。m2は0〜4の整数を表し、k2は2以上の整数を表す。 In the formula, Z 2 represents a linking group, and R 21 , R 22 and R 23 are a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, and an aryl group. An alkoxy group, an aryloxy group, and the like, and these groups may be substituted with an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxy group, or the like. R 24 represents a substitutable group or atom. m 2 represents an integer of 0 to 4, and k 2 represents an integer of 2 or more.

更に詳細に説明する。Z2の連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−N(R25)−、−C(O)−O−、−C(R26)=N−、−C(O)−、スルホニル基、複素環基等の単独もしくは2以上が複合した基が挙げられる。ここでR25及びR26は、水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。更に、上記した連結基には、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。 Further details will be described. As the linking group for Z 2 , an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, —N (R 25 ) —, —C (O) —O—, —C (R 26 ) ═N—, Examples include —C (O) —, a sulfonyl group, a heterocyclic group, or a group in which two or more are combined. Here, R 25 and R 26 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or the like. Furthermore, the above-described linking group may have a substituent such as an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.

上記複素環基としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらには置換基が結合していても良い。   Examples of the heterocyclic group include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thiatriazole ring, indole ring. , Indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline ring, quinoxaline ring, etc. A nitrogen-containing heterocyclic ring, a furan ring, a thiophene ring and the like, and a substituent may be bonded to these.

上記化24で表される化合物の中でも好ましい化合物が存在する。即ち、R21及びR22は水素原子でR23は水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)で、k2は2〜10の化合物が好ましい。以下に化24で表される化合物の具体例を示すが、これらの例に限定されるものではない。 Among the compounds represented by the formula 24, there are preferable compounds. That is, R 21 and R 22 are hydrogen atoms, R 23 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.), and k 2 is preferably a compound having 2-10. Specific examples of the compound represented by Chemical Formula 24 are shown below, but are not limited to these examples.

Figure 2006267188
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上記のようなエチレン性不飽和化合物が、感光性平版印刷版の感光層中に占める割合に関しては好ましい範囲が存在し、感光層トータル100質量部中においてエチレン性不飽和化合物は1質量部から60質量部の範囲で含まれることが好ましく、さらに5質量部から50質量部の範囲で含まれることが特に好ましい。   There is a preferred range for the proportion of the ethylenically unsaturated compound as described above in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate, and the ethylenically unsaturated compound is from 1 part by mass to 60 parts in a total of 100 parts by mass of the photosensitive layer. It is preferably contained in the range of 5 parts by mass, more preferably in the range of 5 to 50 parts by mass.

本発明の感光層に着色剤を含有する事が好ましい。画像部の視認性を高めるる為に使用されるものであるが、更に好ましくは、セーフライト性向上の為に、可視光領域に吸収を有するものである。これら着色剤の例としては、下記のような、無機顔料、有機顔料、色素などが挙げることができる。   The photosensitive layer of the present invention preferably contains a colorant. It is used for improving the visibility of the image area, and more preferably has absorption in the visible light region in order to improve the safelight property. Examples of these colorants include inorganic pigments, organic pigments, and dyes as described below.

無機顔料としては、雲母状酸化鉄、鉛丹、黄鉛、銀朱、群青、二酸化チタン、被覆雲母、ストンチームクロメート、チタニウムイエロー、ジンククロロメート、モリブデン赤、酸化クロム、鉛酸カルシウム等が挙げられる。又、有機顔料としては、カーボンブラック、フタロシアニン顔料、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、縮合アゾ顔料、イソインドリノン顔料、キノフタロン顔料、ニッケルアゾ顔料、ペリノン顔料、ペリレン顔料、アンスロン顔料、キナクリドン顔料、アンスラキノン顔料、チオインジゴ顔料、ジオキサジン顔料、インダスロン顔料、ピランスロン顔料等が挙げられる。又、色素としては、フタロシアニン系色素、トリアリールメタン系色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素等の各種の色素が挙げられる。   Examples of inorganic pigments include mica-like iron oxide, red lead, yellow lead, silver vermilion, ultramarine, titanium dioxide, coated mica, stone team chromate, titanium yellow, zinc chromate, molybdenum red, chromium oxide, calcium leadate, and the like. . Organic pigments include carbon black, phthalocyanine pigment, monoazo pigment, disazo pigment, condensed azo pigment, isoindolinone pigment, quinophthalone pigment, nickel azo pigment, perinone pigment, perylene pigment, anthrone pigment, quinacridone pigment, anthraquinone pigment, Examples thereof include thioindigo pigments, dioxazine pigments, indanthrone pigments, and pyranthrone pigments. Examples of the dye include various dyes such as a phthalocyanine dye, a triarylmethane dye, an anthraquinone dye, and an azo dye.

上記顔料、色素は、単独で用いてもかまわないが、2種以上を併用して用いてもかまわない。   The above pigments and dyes may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

上記顔料は、ペイントコンディショナー、ボールミル、ジェットミル、ホモジナイザー等の分散機で有機溶剤に分散した状態で平版印刷版の感光層に添加する事が好ましく、色素については有機溶剤に溶解した状態で添加することが好ましい。   The pigment is preferably added to the photosensitive layer of the lithographic printing plate in a state dispersed in an organic solvent with a disperser such as a paint conditioner, a ball mill, a jet mill, or a homogenizer, and the dye is added in a state dissolved in the organic solvent. It is preferable.

本発明の感光層は、上述した成分以外にも種々の目的で他の成分を添加することも好ましく行われる。例えば、保存性を向上させる目的で、ヒンダードフェノール化合物やヒンダードアミン化合物を添加することが好ましく行われる。これらの化合物の添加量は、重合体100質量部に対して0.1質量部から10質量部の範囲で使用することが好ましい。   In the photosensitive layer of the present invention, other components may be preferably added for various purposes in addition to the components described above. For example, for the purpose of improving the storage stability, it is preferable to add a hindered phenol compound or a hindered amine compound. The addition amount of these compounds is preferably used in the range of 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer.

本発明の感光層を構成する他の要素として重合禁止剤の添加も好ましく行うことが出来る。例えば、キノン系、フェノール系等の化合物が好ましく使用され、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、カテコール、t−ブチルカテコール、2−ナフトール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等の化合物が好ましく用いられる。これらの重合禁止剤と先に述べたエチレン性不飽和化合物との好ましい割合は、エチレン性不飽和化合物 質量部に対して0.001から0.1質量部の範囲で使用することが好ましい。   A polymerization inhibitor can be preferably added as another element constituting the photosensitive layer of the present invention. For example, compounds such as quinone and phenol are preferably used, and compounds such as hydroquinone, p-methoxyphenol, catechol, t-butylcatechol, 2-naphthol, and 2,6-di-t-butyl-p-cresol are used. Preferably used. The preferred proportion of these polymerization inhibitors and the aforementioned ethylenically unsaturated compounds is preferably used in the range of 0.001 to 0.1 parts by mass with respect to parts by mass of the ethylenically unsaturated compounds.

本発明の感光層を構成する要素については上述の要素以外にも種々の目的で他の要素を追加して含有することも出来る。例えばブロッキングを防止する目的もしくは現像後の画像のシャープネス性を向上させる等の目的で無機物微粒子あるいは有機物微粒子を添加することも好ましく行われる。   The elements constituting the photosensitive layer of the present invention may contain other elements in addition to the above elements for various purposes. For example, inorganic fine particles or organic fine particles are also preferably added for the purpose of preventing blocking or improving the sharpness of an image after development.

本発明の感光層を塗布可能な支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のような金属がラミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。   The support on which the photosensitive layer of the present invention can be applied is a dimensionally stable plate-like material, such as paper, paper laminated with plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate ( For example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal Etc.), and paper or plastic film on which the above metal is laminated or vapor-deposited.

好ましい支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板、及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、さらにアルミニウムがラミネート又は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は総量で10重量%以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で支持体として用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。   A preferable support includes a polyester film or an aluminum plate, and among them, an aluminum plate having good dimensional stability and relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The total content of foreign elements in the alloy is 10% by weight or less. Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used as a support in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための、例えば、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸若しくは硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。   Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like is performed to remove the rolling oil on the surface, if desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.

このように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化被膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。   The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to an anodization treatment to enhance the water retention and wear resistance of the surface as desired. As an electrolyte used for anodizing treatment of an aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. . The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には、電解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化被膜の量は1.0g/m2より少ないと耐膜性が不十分であったり、非画像部に傷が付き易くなって、特に平版印刷用原版の場合、印刷時に傷の部分にインキが付着する、いわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。 The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by weight solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / day. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are suitable. When the amount of the anodic oxide coating is less than 1.0 g / m 2 , the film resistance is insufficient, or the non-image area is easily damaged, particularly in the case of a lithographic printing original plate, So-called “scratch stains” to which ink adheres tend to occur.

陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明で使用可能な親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、米国特許第3,181,461号、米国特許第3,280,734号及び米国特許第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えば、ケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理される。他に、特公昭36−22063号に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム、米国特許第3,276,868号、米国特許第4,153,461号、米国特許第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。   After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. Examples of the hydrophilization treatment usable in the present invention include US Pat. No. 2,714,066, US Pat. No. 3,181,461, US Pat. No. 3,280,734 and US Pat. No. 3,902,734. There is an alkali metal silicate (for example, aqueous sodium silicate) method as disclosed in US Pat. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063, U.S. Pat. No. 3,276,868, U.S. Pat. No. 4,153,461, U.S. Pat. No. 4,689,272. A method of treating with polyvinylphosphonic acid as disclosed is used.

本発明のネガ型平版印刷版の感光層は、製造コストの面を考慮して単層塗布が好ましく、感光層の厚みに関しては、支持体上に0.5μmから10μmの範囲の乾燥厚みで形成することが好ましく、さらに1μmから5μmの範囲であることが耐刷性を大幅に向上させるために極めて好ましい。また、感光層は、公知の種々の塗布方式を用いて支持体上に塗布、乾燥される。   The photosensitive layer of the negative lithographic printing plate of the present invention is preferably applied in a single layer in consideration of the production cost, and the thickness of the photosensitive layer is formed on the support with a dry thickness ranging from 0.5 μm to 10 μm. It is preferable that the thickness be in the range of 1 μm to 5 μm in order to greatly improve the printing durability. The photosensitive layer is coated and dried on the support using various known coating methods.

塗布方式としては、例えばロールコーティング、ディップコーティング、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、ホッパーコーティング、ブレードコーティング、ワイヤドクターコーティングなどが挙げられる。   Examples of the coating method include roll coating, dip coating, air knife coating, gravure coating, hopper coating, blade coating, and wire doctor coating.

次に本発明のネガ型平版印刷版の製版処理について説明する。製版処理は露光後、現像、水洗、仕上げ処理が施されるが、通常、現像、水洗、仕上げ処理は1つの処理装置の中で、連続的に行われ、乾燥工程を経て製版が完了する。   Next, the plate making process of the negative planographic printing plate of the present invention will be described. The plate-making treatment is subjected to development, washing and finishing after exposure, but usually the development, washing and finishing are continuously performed in one processing apparatus, and the plate-making is completed through a drying step.

本発明の現像液としては、pH9以上であれば、任意のアルカリ水溶液を使用することができる。アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、水酸化リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、第2リン酸カリウム、第2リン酸アンモニウム、第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウムおよび第3リン酸アンモニウム等の無機アルカリ剤や、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N−エチルエタノールアイミン、N−n−ブチルエタノールアミン、N−t−ブチルエタノールアミン、N−n−ブチルジエタノールアミン、N−t−ブチルジエタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−アミノエチルエタノールアミン、N−アミノエチルプロパノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド等の有機アルカリ剤、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウムおよびケイ酸リチウムのようなアルカリ金属ケイ酸塩やケイ酸アンモニウム等が挙げられる。これらは、1種または2種以上組み合わせて使用することができる。   As the developer of the present invention, any aqueous alkaline solution can be used as long as the pH is 9 or more. Examples of the alkali agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, lithium hydroxide, sodium borate, potassium borate, ammonium borate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, ammonium bicarbonate, sodium carbonate, Inorganic alkaline agents such as potassium carbonate, ammonium carbonate, dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, dibasic ammonium phosphate, trisodium phosphate, tribasic potassium phosphate and tribasic ammonium phosphate, monomethylamine , Dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine , Monoisopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N-ethylethanolimine, Nn-butylethanolamine, Nt-butylethanolamine, Nn-butyldiethanolamine, Nt-butyldiethanolamine N-methylethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-aminoethylethanolamine, N-aminoethylpropanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, etc. Examples include organic alkali agents, alkali metal silicates such as sodium silicate, potassium silicate and lithium silicate, and ammonium silicate. These can be used alone or in combination of two or more.

本発明の好ましい実施態様としてケイ酸塩を含有せず、無機アルカリ剤および有機アルカリ剤の内1種または2種を組み合わせによって形成されたpHが12未満の現像液である。さらに好ましくは、pHが10以上で12未満の現像液である。   A preferred embodiment of the present invention is a developer having a pH of less than 12 formed by combining one or two of an inorganic alkali agent and an organic alkali agent without containing silicate. More preferably, it is a developer having a pH of 10 or more and less than 12.

本発明に用いられる現像液にはその他の種々界面活性剤と併用することができ、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。これらの併用する界面活性剤は、現像液中に0.001〜10質量%、より好ましくは0.01〜5質量%の範囲で添加される。   The developer used in the present invention can be used in combination with other various surfactants, and examples thereof include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. These surfactants used in combination are added to the developer in the range of 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass.

本発明に用いられる現像液には、種々現像安定化剤が用いる事がでいる。それらの好ましい例として、特開平6−282079号公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩及びジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例として挙げられる。更には、特開昭50−51324号公報記載のアニオン界面活性剤又は両性界面活性剤、また特開昭55−95946号公報記載の水溶性カチオン性ポリマー、特開昭56−142528号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質がある。更に、特開昭59−84241号公報のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特開昭61−215554号公報記載の重量平均分子量300以上のポリエチレングリコール、特開昭63−175858号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平2−39157号公報の酸又はアルコールに4モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。   Various development stabilizers can be used in the developer used in the present invention. Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium salts such as diphenyliodonium chloride. Furthermore, anionic surfactants or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are described. There are water-soluble amphoteric polyelectrolytes that have been described. Further, an organoboron compound to which an alkylene glycol is added as described in JP-A-59-84241, a polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more as described in JP-A-61-215554, and a cation as described in JP-A-63-175858. And a water-soluble ethylene oxide adduct obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol disclosed in JP-A-2-39157, a water-soluble polyalkylene compound, and the like.

本発明の処理方法においては、露光後、通常自動現像機で処理を行う。自動現像機は、一般に現像部と後処理部とからなり、印刷版を搬送する装置と、各処理液槽及びスプレー槽から成り、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで組み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像及び後処理するものである。又、最近は現像液が満たされた現像槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて現像処理する方法が開発されており、この様な現像方法も本発明に好適に適用できる。この様な自動現像液においては、現像処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。   In the processing method of the present invention, after exposure, processing is usually performed by an automatic developing machine. The automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for transporting the printing plate, each processing liquid tank and a spray tank, and is assembled by a pump while horizontally transporting the exposed printing plate. Each processing solution is sprayed from a spray nozzle to develop and post-process. Recently, a developing method has been developed in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll in a developing tank filled with a developing solution, and such a developing method can also be suitably applied to the present invention. . Such an automatic developer can be processed while replenishing the replenisher according to the development processing amount, operating time, and the like.

この様な組成の現像液で現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムやデンプン誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明の印刷版の後処理はこれらの処理を種々組み合わせて用いることができ、例えば、現像→水洗→界面活性剤を含有するリンス液処理や現像→水洗→フィニッシャー液による処理がリンス液やフィニッシャー液の疲労が少なく好ましい。更にリンス液やフィニッシャー液を用いた向流多段処理も好ましい態様である。これらの後処理は、一般に現像部と後処理部とからなる自動現像機を用いて行われる。後処理液は、スプレーノズルから吹き付ける方法、処理液が満たされた処理槽中を搬送する方法が用いられる。又、現像後一定量の少量の水性水を版面に供給して水洗し、その廃液を現像液原液の希釈水として再利用する方法も知られている。この様な自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することが出来る。また、実質的に未使用の後処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。この様な処理によって得られた平版印刷版は、オフセット印刷機に掛けられ、印刷に用いられる。   The printing plate developed with the developer having such a composition is subjected to post-processing with a washing water, a rinse solution containing a surfactant, a finisher mainly composed of gum arabic or starch derivatives, or a protective gum solution. The In the post-treatment of the printing plate of the present invention, these treatments can be used in various combinations. For example, development → water washing → rinsing liquid treatment containing surfactant or development → water washing → finisher liquid treatment is a rinse liquid or finisher. Less liquid fatigue is preferable. Furthermore, a countercurrent multistage process using a rinse liquid or a finisher liquid is also a preferred embodiment. These post-processing are generally performed using an automatic developing machine including a developing unit and a post-processing unit. As the post-treatment liquid, a method of spraying from a spray nozzle or a method of conveying through a treatment tank filled with the treatment liquid is used. A method is also known in which a small amount of aqueous water is supplied to the plate surface after development and washed with water, and the waste solution is reused as dilution water for the developer stock solution. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being replenished with the respective replenishing solution according to the processing amount and operating time. In addition, a so-called disposable processing method in which treatment is performed with a substantially unused post-treatment liquid can also be applied. The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing.

以下実施例によって本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the present invention is not limited to these examples.

<感光性平版印刷版の作製>
下記の処方による感光性組成液を作製した。本発明のヒドラジン化合物として化23記載のH−1(実施例1)、H−5(実施例2)、H−8(実施例3)および化24記載のH−17(実施例4)を0.4重量部添加したものと、比較として、これらを無添加したものをワイヤドクターコーターで厚みが0.30mmである砂目立て処理および陽極酸化処理を施したアルミ板上に下記の感光性組成物の塗布液を乾燥厚みが2.6ミクロンになるよう塗布を行い、75℃の乾燥器内にて7分間乾燥を行い、ネガ型感光性平版印刷版を作製した。
<感光性組成物の塗布液>
ポリマー (P−1;質量平均分子量約9万) 10質量部
光重合開始剤 (BC−5) 2質量部
(BS−1) 1質量部
エチレン性不飽和化合物 (C−1) 5質量部
増感色素 (S−33) 0.3質量部
重合禁止剤 2,6−ジ−t−ブチルクレゾール 0.1質量部
溶媒 1,3−ジオキソラン 70質量部
シクロヘキサノン 20質量部
平均粒径185nmのカーボンブラック
25%メチルエチルケトン溶液 0.1質量部
<Preparation of photosensitive lithographic printing plate>
A photosensitive composition liquid according to the following formulation was prepared. H-1 (Example 1), H-5 (Example 2), H-8 (Example 3) described in Chemical Formula 23 and H-17 (Example 4) described in Chemical Formula 24 are used as hydrazine compounds of the present invention. For comparison, the following photosensitive composition on an aluminum plate subjected to graining treatment and anodizing treatment with a wire doctor coater having a thickness of 0.30 mm was added to the case where 0.4 parts by weight was added. The product coating solution was applied to a dry thickness of 2.6 microns and dried in a 75 ° C. drier for 7 minutes to produce a negative photosensitive lithographic printing plate.
<Coating liquid for photosensitive composition>
Polymer (P-1; mass average molecular weight of about 90,000) 10 parts by mass Photopolymerization initiator (BC-5) 2 parts by mass
(BS-1) 1 part by weight Ethylenically unsaturated compound (C-1) 5 parts by weight Sensitizing dye (S-33) 0.3 part by weight Polymerization inhibitor 2,6-di-t-butylcresol 0.1 Part by mass Solvent 1,3-dioxolane 70 parts by mass
20 parts by mass of cyclohexanone
Carbon black with an average particle size of 185 nm
0.1% by mass of 25% methyl ethyl ketone solution

上記のようにして作製した平版印刷版を用いて、蛍光灯800ルクスの白灯下にて30分間さらした後に、それぞれのサンプルについてサーマル用出力機(大日本スクリーン製造(株)製イメージセッターPT−R4000(発振波長830nm、出力100mW))を使用して露光を行った後、プロセッサPD−912−M(大日本スクリーン製造(株)製)を用いて、下記処方の現像液で28℃17秒間の処理を行い、続いて下記処方のガム液を塗布した。
<現像液>
N−エチルエタノールアミン 37g
リン酸(85%溶液) 10g
水酸化テトラメチルアンモニウム(25%溶液) 60g
アルキルナフタレンスルホン酸Na(35%溶液) 30g
ジエチレントリアミン5酢酸 1g
水で 1L
pHは11.3(25℃)
<ガム液>
リン酸1カリ 20g
アラビアガム 30g
デヒドロ酢酸ナトリウム 0.5g
EDTA2Na 1g
水で 1L
The lithographic printing plate produced as described above was exposed to a fluorescent lamp of 800 lux under a white lamp for 30 minutes, and each sample was subjected to a thermal output machine (Image Setter PT manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.). -R4000 (oscillation wavelength: 830 nm, output: 100 mW)) and then using a processor PD-912-M (Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.) with a developer of the following formulation at 28 ° C. 17 Then, a gum solution having the following formulation was applied.
<Developer>
N-ethylethanolamine 37g
Phosphoric acid (85% solution) 10g
60g tetramethylammonium hydroxide (25% solution)
Alkyl naphthalenesulfonic acid Na (35% solution) 30 g
Diethylenetriaminepentaacetic acid 1g
1L with water
pH is 11.3 (25 ° C)
<Gum solution>
Phosphoric acid 1 potassium 20g
Gum arabic 30g
Sodium dehydroacetate 0.5g
EDTA2Na 1g
1L with water

上記のようにして作製した平版印刷版について印刷性能を評価した。その結果を表1に示す。
<耐刷力>
印刷機ハイデルベルグKORD(Heidelberg社製オフセット印刷機の商標)、インキ(大日本インキ化学工業(株)製のニューチャンピオン墨H)及び市販のPS版用給湿液(アストロマークIII 日研化学(株)製)を用いて印刷を行い、インキ乗りの不良、或いは線飛びが生じるときのいずれかにより印刷が不可能になったときの印刷枚数で、以下の基準で評価した。
○:10万枚以上
△:5万〜9万枚
×:5万枚未満
Printing performance of the lithographic printing plate produced as described above was evaluated. The results are shown in Table 1.
<Press life>
Printing machine Heidelberg KORD (trademark of offset printing machine manufactured by Heidelberg), ink (New Champion ink H manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) and commercially available PS plate moisturizer (ASTROMARK III Nikken Chemical Co., Ltd.) )), And the number of printed sheets when printing was impossible due to either poor ink loading or line skipping was evaluated according to the following criteria.
○: 100,000 or more △: 50,000 to 90,000 ×: less than 50,000

<地汚れ>
印刷機ハイデルベルグKORD(Heidelberg社製オフセット印刷機の商標)、インキ(東洋インキ製造(株)製のHYECOO紅(M))及び市販のPS版用給湿液(アストロマークIII 日研化学(株)製)を用いて2万枚まで印刷を行い、非画像部の地汚れを以下の基準で評価した。
○:2万枚で全く汚れは発生していない。
△:1万枚で汚れが発生する。
×:2千枚で汚れが発生する。
<Soil dirt>
Printing machine Heidelberg KORD (trademark of offset printing machine manufactured by Heidelberg), ink (HYECOO red (M) manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.) and commercially available PS plate moisturizer (ASTROMARK III Nikken Chemical Co., Ltd.) The product was printed up to 20,000 sheets, and the non-image area was stained according to the following criteria.
○: No contamination at 20,000 sheets.
Δ: Dirt is generated after 10,000 sheets.
X: Dirt is generated on 2,000 sheets.

Figure 2006267188
Figure 2006267188

上記結果より、比較例に比べて本発明である、ヒドラジン化合物を含有したネガ型平版印刷版が白灯下での取り扱い性に優れていることがわかる。   From the above results, it can be seen that the negative lithographic printing plate containing the hydrazine compound, which is the present invention, is superior in handleability under white light as compared with the comparative example.

Claims (4)

支持体上に光重合性の感光層を有するネガ型平版印刷版において該感光層中に、750nm以上の波長領域に吸収を有する色素を含有し、かつヒドラジン化合物を含有することを特徴とするネガ型平版印刷版。   A negative lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer on a support, wherein the photosensitive layer contains a dye having absorption in a wavelength region of 750 nm or more and contains a hydrazine compound. Type lithographic printing plate. 該ヒドラジン化合物が下記一般式の化合物であることを特徴とする請求項1記載のネガ型平版印刷版。
Figure 2006267188
式中、Arはアリール基を表し、R0は、水素原子または−N(R01)(R02)で表される基を表す。R01、R02は、それぞれ独立の水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロ環基、または、置換もしくは無置換のピリジニウム基を表す。また、R01、R02は、互いに連結して環を形成していてもよい。nは1又は2の整数を表す。
2. The negative lithographic printing plate according to claim 1, wherein the hydrazine compound is a compound having the following general formula.
Figure 2006267188
In the formula, Ar represents an aryl group, and R 0 represents a hydrogen atom or a group represented by —N (R 01 ) (R 02 ). R 01 and R 02 each represents an independent hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, or a substituted or unsubstituted pyridinium group. R 01 and R 02 may be connected to each other to form a ring. n represents an integer of 1 or 2.
該感光層が側鎖にエチレン性不飽和二重結合を有し、かつカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として有するポリマーを含有する請求項1記載のネガ型平版印刷版。   The negative lithographic printing plate according to claim 1, wherein the photosensitive layer contains a polymer having an ethylenically unsaturated double bond in a side chain and a carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component. 該感光層が有機ホウ素塩を含有する請求項1記載のネガ型平版印刷版。   The negative lithographic printing plate according to claim 1, wherein the photosensitive layer contains an organic boron salt.
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