JP4679109B2 - Method for producing negative photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

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Description

本発明は、平版印刷版の製造方法に関し、詳しくは、感光性を有し画像を形成するネガ型感光性平版印刷版の製造方法に関する。更に詳しくは、揮発性の高い有機溶剤を多く含む塗工液を塗布、乾燥し作製されるネガ型感光性平版印刷版の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate, and more particularly to a method for producing a negative photosensitive lithographic printing plate that has photosensitivity and forms an image. More specifically, the present invention relates to a method for producing a negative photosensitive lithographic printing plate produced by applying and drying a coating liquid containing a large amount of a highly volatile organic solvent.

一般に、アルミニウム板を支持体とするネガ型感光性平版印刷版は、支持体上に感光性組成物を塗布し、陰画などを通して活性化光を照射露光し、露光部が硬化し、現像液により露光部を残し未露光部を溶解除去する事で親水性表面を有するアルミニウム支持体上に、露光パターンに応じた形で、親油性表面を有する硬化した被膜を形成するものである。   In general, a negative photosensitive lithographic printing plate having an aluminum plate as a support is obtained by applying a photosensitive composition on the support, exposing to exposure to activating light through a negative, etc., curing the exposed area, and using a developer. A cured coating having an oleophilic surface is formed on an aluminum support having a hydrophilic surface by dissolving and removing the unexposed portion while leaving the exposed portion.

上記の感光性組成物としては、ジアゾ樹脂に高分子化合物を組み合わせたものが広く用いられており、米沢輝彦著、「PS版概論」(印刷学会出版部発行)や、永松元太郎、乾英夫著、「感光性高分子」(講談社発行)、山岡亜夫、松永元太郎著、「フォトポリマーテクノロジー」(日刊工業発行)等に詳しく述べられている。   As the above-mentioned photosensitive composition, a combination of a diazo resin and a polymer compound is widely used. By Yonezawa Teruhiko, “Introduction to PS Version” (published by the Printing Society of Japan), Mototaro Nagamatsu and Hideo Inui. , “Photosensitive polymer” (published by Kodansha), Ayao Yamaoka, Mototaro Matsunaga, “Photopolymer Technology” (published by Nikkan Kogyo), etc.

又、近年のコンピューターの進歩によりデジタル化された原稿データを直接レーザービームを用いてフィルムを介在させずに印刷版に直接画像露光を行うCTPシステムが各社から提案されている。例えば、特開平7−20629号公報、同7−271029号公報等に挙げられている、赤外線吸収剤が光熱変換し露光部を局部的に高温にし、この際酸発生剤が発生する酸によりレゾール樹脂およびノボラック樹脂が架橋することで画像部を形成する平版印刷版。又、「印刷雑誌」78巻、9頁、1995年等に解説がなされている、重合開始剤、光増感色素、重合性モノマーを含む光重合反応を利用した平版印刷版等がある。   Further, various companies have proposed CTP systems that directly expose image data on a printing plate by using a laser beam directly without interposing a film by the progress of computers in recent years. For example, as disclosed in JP-A-7-20629, JP-A-7-271029, etc., an infrared absorber is subjected to photothermal conversion, and the exposed portion is locally heated to a high temperature. A lithographic printing plate in which an image portion is formed by crosslinking a resin and a novolac resin. Further, there are lithographic printing plates utilizing a photopolymerization reaction containing a polymerization initiator, a photosensitizing dye, and a polymerizable monomer, which are described in “Printing Magazine”, vol. 78, p. 9, 1995.

しかしながら、上記感光性平版印刷版は、感度等の安定性、長期保存性を確保するのが難しいという問題があり、このために、感光層上部に酸素バリア性を高めるとともに表面の傷防止等を目的としたポリビニルアルコール等からなるオーバー層を設けることが通常行われている。このようなオーバー層の存在によりレーザー露光の際に光の散乱等による画質の低下の問題や、現像の際に、アルカリ現像に先立ってオーバー層除去のためのプレ水洗工程が必要となること、および製造にあたって感光層塗布後に更にオーバー層を塗布する工程が必要である等の問題があった。   However, the above-described photosensitive lithographic printing plate has a problem that it is difficult to ensure stability such as sensitivity and long-term storage stability. For this reason, the oxygen barrier property is enhanced on the upper part of the photosensitive layer, and surface scratches are prevented. It is common practice to provide an overlayer made of the desired polyvinyl alcohol or the like. Due to the presence of such an over layer, there is a problem of deterioration in image quality due to light scattering during laser exposure, and when developing, a pre-water washing step for removing the over layer is required prior to alkali development. In addition, there is a problem in that a process for applying an overlayer is necessary after the photosensitive layer is applied.

これらの問題を改良する為に、オーバー層を設けず、重合開始剤と色素増感剤および重合性化合物を有し、色素増感剤が吸収した光エネルギーを重合開始剤より発生するラジカルによる重合性化合物の重合を利用する技術として、特開2001−290271号公報(特許文献1)、特開2001−272778号公報、(特許文献2)、特開2002−28734号公報(特許文献3)に側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重合体、光ラジカル発生剤、増感色素を含有する感光組成物が開示されている。この様な高感度の感光性組成物を利用した平版印刷版では、感度、非画像部の溶出性、印刷性能としての耐刷性、汚れ性が良好で安定的な品質で製造する事が難しく、特に有機溶剤系の塗布乾燥では蒸発速度が速く、乾燥工程に搬送される前に、不均一な塗工面が形成される事が多い。不均一な塗工面は品質のフレを招く重要な問題である。不均一な塗工面が形成される1つの原因として、有機溶剤の蒸発潜熱により塗布膜の温度が低下し塗布雰囲気中の水分が塗膜上に結露する可能性があり、この有機溶剤系特有の現象を回避する方法として、高沸点の溶剤を使用する事が一般に行われてきた。しかしながら、高沸点の溶剤を使用する事は、逆に乾燥工程での乾燥風による吹きムラを助長し均一な塗工面が得られない原因となったり、乾燥スピードが遅くなる為、生産性が悪化するといった様な問題が発生する。   In order to improve these problems, there is no overlayer, polymerization initiator, dye sensitizer and polymerizable compound, polymerization by radicals generated from the polymerization initiator with light energy absorbed by the dye sensitizer JP-A-2001-290271 (Patent Document 1), JP-A-2001-272778, (Patent Document 2), and JP-A-2002-28734 (Patent Document 3) as techniques using polymerization of a functional compound. A photosensitive composition containing a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain, a photo radical generator, and a sensitizing dye is disclosed. It is difficult to produce a lithographic printing plate using such a high-sensitivity photosensitive composition with stable quality with good sensitivity, non-image area elution, printing durability as printing performance, and stain resistance. In particular, in organic solvent-based coating and drying, the evaporation rate is fast, and a non-uniform coated surface is often formed before being conveyed to the drying process. A non-uniform coating surface is an important issue that leads to quality fluctuations. One reason for the formation of a non-uniform coating surface is that the latent heat of vaporization of the organic solvent can lower the temperature of the coating film and cause moisture in the coating atmosphere to condense on the coating film. As a method for avoiding the phenomenon, it has been generally performed to use a solvent having a high boiling point. However, the use of a high boiling point solvent, on the contrary, promotes uneven blown air due to the drying air in the drying process, resulting in a failure to obtain a uniform coating surface, and slowing the drying speed, thus reducing productivity. Problems such as

この生産性を向上する為に、乾燥温度を高くする対策が取られるのだが、高温乾燥にする事により、特に露光部が画像となり未露光部が非画像部となるネガ型感光性平版印刷版に於いては、非画像部の溶出性や保存性に影響が現れる事が往々にして見られる。又、高温乾燥である事により良好な性能が得られる乾燥条件の範囲が狭くなり、生産安定性に欠ける。
特開2001−29071号公報 特開2001−272778号公報 特開2002−28734号公報
In order to improve this productivity, measures to increase the drying temperature are taken, but by using high-temperature drying, a negative photosensitive lithographic printing plate in which the exposed area becomes an image and the unexposed area becomes a non-image area, in particular. In this case, it is often observed that the elution property and the storage property of the non-image area are affected. Moreover, the range of drying conditions for obtaining good performance is narrowed by high-temperature drying, resulting in poor production stability.
JP 2001-29071 A JP 2001-272778 A JP 2002-28734 A

本発明は、アルミニウム支持体上に、側鎖に重合性二重結合を有するポリマー及び重合開始剤を少なくとも含有する感光層を設けたネガ型感光性平版印刷版の製造方法において、印刷性能として耐刷性、汚れ性が良好で尚かつ、均一な塗布面が得られ安定した品質のネガ型感光性平版印刷版を効率的に製造する方法を提供する事を課題とする。   The present invention provides a negative photosensitive lithographic printing plate in which a photosensitive layer containing at least a polymer having a polymerizable double bond in a side chain and a polymerization initiator is provided on an aluminum support. It is an object of the present invention to provide a method for efficiently producing a negative photosensitive lithographic printing plate having good printability and dirtiness and having a uniform coated surface and having a stable quality.

本発明の上記課題は、以下の手段により達成された。   The above object of the present invention has been achieved by the following means.

1)アルミニウム支持体上に、重合性二重結合としてビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有し且つカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として有するポリマー及び重合開始剤を少なくとも含有する感光層を設けたネガ型感光性平版印刷版の製造方法において、前記感光層塗工液の溶媒である有機溶剤の80質量%以上が沸点が110℃未満の有機溶剤であり、感光層塗工液の塗布工程が下記条件式1を満足し、かつ乾燥工程が下記条件式2を満足することを特徴とするネガ型感光性平版印刷版の製造方法。
T1−T2>−18(℃) 式1
T1−T3<30(℃) 式2
式中、T1はアルミニウム支持体に塗布された感光層の表面温度(℃)を表し、T2は塗布工程の露点(℃)を表し、T3は沸点が110℃未満の有機溶剤の平均的な沸点を表す。
1) A photosensitive layer containing at least a polymer having a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group as a polymerizable double bond in the side chain and a carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component on an aluminum support. In the method for producing a negative photosensitive lithographic printing plate provided, 80% by mass or more of the organic solvent that is the solvent of the photosensitive layer coating solution is an organic solvent having a boiling point of less than 110 ° C., and the application of the photosensitive layer coating solution A process for producing a negative photosensitive lithographic printing plate, wherein the process satisfies the following conditional expression 1 and the drying process satisfies the following conditional expression 2.
T1-T2> −18 (° C.) Formula 1
T1−T3 <30 (° C.) Formula 2
In the formula, T1 represents the surface temperature (° C.) of the photosensitive layer coated on the aluminum support, T2 represents the dew point (° C.) of the coating process, and T3 represents the average boiling point of the organic solvent having a boiling point of less than 110 ° C. Represents.

2)前記感光層が更に重合性モノマーを含有する前記1)記載のネガ型感光性平版印刷版の製造方法。   2) The method for producing a negative photosensitive lithographic printing plate as described in 1) above, wherein the photosensitive layer further contains a polymerizable monomer.

3)前記感光層塗工液の塗布工程の時間が3秒以上20秒以内である前記1)又は2)記載のネガ型感光性平版印刷版の製造方法。   3) The method for producing a negative photosensitive lithographic printing plate as described in 1) or 2) above, wherein the time for applying the photosensitive layer coating solution is from 3 seconds to 20 seconds.

4)塗布前の支持体を加温し、支持体上に塗布液を塗布する環境温度より高くし塗布する前記1)、2)又は3)記載のネガ型感光性平版印刷版の製造方法。   4) The method for producing a negative photosensitive lithographic printing plate as described in 1), 2) or 3) above, wherein the substrate is heated at a temperature before coating and the temperature is higher than the environmental temperature for coating the coating solution on the substrate.

5)塗布後の支持体を加温し、支持体上に塗布液を塗布する環境温度より高くする前記1)、2)、3)又は4)記載のネガ型感光性平版印刷版の製造方法。   5) The method for producing a negative photosensitive lithographic printing plate as described in 1), 2), 3) or 4) above, wherein the substrate after coating is heated to a temperature higher than the environmental temperature at which the coating solution is applied onto the substrate. .

6)支持体上に塗布液を塗布する環境温度より、塗工液の温度を高くする前記1)、2)、3)、4)又は5)記載のネガ型感光性平版印刷版の製造方法。   6) The method for producing a negative photosensitive lithographic printing plate as described in 1), 2), 3), 4) or 5) above, wherein the temperature of the coating solution is higher than the environmental temperature at which the coating solution is applied onto the support. .

本発明によって、アルミニウム支持体上に、側鎖に重合性二重結合を有するポリマー及び重合開始剤を少なくとも含有する感光層を設けたネガ型感光性平版印刷版の製造方法において、印刷性能として耐刷性、汚れ性が良好で尚かつ、均一な塗布面が得られ安定した品質のネガ型感光性平版印刷版を効率的に製造する事ができる。   According to the present invention, in a method for producing a negative photosensitive lithographic printing plate in which a photosensitive layer containing at least a polymer having a polymerizable double bond in a side chain and a polymerization initiator is provided on an aluminum support, the printing performance is improved. It is possible to efficiently produce a negative photosensitive lithographic printing plate having good printability and stain resistance and having a uniform coated surface and a stable quality.

以下本発明について詳細に説明する。
アルミニウム支持体上に本発明の感光層を設けたネガ型平版印刷版の製造過程において、塗布工程でのアルミニウム支持体上に塗布された感光層の表面温度(T1)と、塗布工程の環境の露点(T2)との差(T1−T2)が、塗布された感光層の塗布面に影響を及ぼすことを見いだした。即ち、T1とT2の差がマイナス側に大きくなると塗布面が不均一になり、従って上記差をマイナス側で小さくすること(T1−T2>−18℃)により上記課題が解決することを見いだした。
The present invention will be described in detail below.
In the production process of a negative lithographic printing plate in which the photosensitive layer of the present invention is provided on an aluminum support, the surface temperature (T1) of the photosensitive layer coated on the aluminum support in the coating process and the environment of the coating process It has been found that the difference (T1-T2) from the dew point (T2) affects the coated surface of the coated photosensitive layer. That is, when the difference between T1 and T2 becomes larger on the minus side, the coated surface becomes non-uniform, and accordingly, the above problem can be solved by reducing the difference on the minus side (T1-T2> −18 ° C.). .

本発明の前記式1において、好ましくは、T1−T2>−15℃であり、より好ましくはT1−T2>−10℃である。   In Formula 1 of the present invention, T1-T2> −15 ° C. is preferable, and T1-T2> −10 ° C. is more preferable.

本発明の感光層の塗工液は、沸点が110℃未満の有機溶剤を全有機溶剤50質量%以上含有する。このような揮発性の高い有機溶剤を高比率で含有する塗工液を、アルミニウム支持体上に塗布した場合、上述した問題が起こりやすくなる。即ち、揮発性の高い有機溶剤の蒸発潜熱によって、塗布された感光層の表面温度(T1)が低下して、塗布工程の露点(T2)より大きく低下する現象が起こる。T1とT2の差がマイナス側に大きくなると、塗布工程の雰囲気中の水分が感光層の塗布面上に結露して付着し、水分が付着した部分とその他の領域で乾燥速度の差が生じ塗布面の不均一性を招く要因となっているのではないかと考えている。   The photosensitive layer coating solution of the present invention contains an organic solvent having a boiling point of less than 110 ° C. in an amount of 50% by mass or more. When a coating liquid containing such a highly volatile organic solvent in a high ratio is applied on an aluminum support, the above-described problems are likely to occur. That is, the surface temperature (T1) of the coated photosensitive layer is lowered due to the latent heat of vaporization of the highly volatile organic solvent, resulting in a phenomenon in which the surface temperature drops below the dew point (T2) of the coating process. When the difference between T1 and T2 increases to the minus side, moisture in the atmosphere of the coating process is condensed and attached on the coating surface of the photosensitive layer, resulting in a difference in drying speed between the portion where moisture has adhered and other regions. I think this may be a factor that causes surface non-uniformity.

本発明において、T2で表される塗布工程の露点とは、塗布装置が設置されている場所及び乾燥工程(乾燥ドライヤー)の入り口までの雰囲気の露点であり、T1とT2の差は感光層の表面温度(T1)と同位置で対比されたものである。   In the present invention, the dew point of the coating process represented by T2 is the dew point of the atmosphere up to the place where the coating apparatus is installed and the entrance of the drying process (drying dryer), and the difference between T1 and T2 is the difference in the photosensitive layer. The comparison is made at the same position as the surface temperature (T1).

感光層の表面温度(T1)は、低沸点有機溶剤の蒸発潜熱によって塗布してから時間経過とともに低下し、一方、塗布工程の雰囲気は塗布設置場所から乾燥工程入り口までは通常は同じ雰囲気に設定されているので、T1とT2の差は乾燥工程入り口付近がマイナス側に最も大きくなる。   The surface temperature (T1) of the photosensitive layer decreases with the lapse of time after coating due to the latent heat of vaporization of the low-boiling organic solvent. On the other hand, the atmosphere in the coating process is usually set to the same atmosphere from the coating installation location to the drying process entrance. Therefore, the difference between T1 and T2 is greatest on the minus side near the entrance of the drying process.

本発明において、T1とT2の差、即ちT1−T2>−18℃を満足させる手段としては、感光層の表面温度(T1)の低下を抑制する方法、塗布工程の露点(T2)を低くする方法、及びこれらを組み合わせた方法がある。   In the present invention, as means for satisfying the difference between T1 and T2, that is, T1-T2> −18 ° C., a method for suppressing a decrease in the surface temperature (T1) of the photosensitive layer and a dew point (T2) in the coating process are lowered. There are methods and a combination of these methods.

T1の低下を抑制する方法としては、以下の方法が挙げられる。
1)感光層の塗布液の温度を予め高く設定しておく。
2)アルミニウム支持体を塗布直前あるいは塗布直後に加熱して高くする。
3)塗布工程の時間を短くする。即ち、感光層の塗工液を塗布してから乾燥工程に入るまでの時間を短くする。
Examples of methods for suppressing the decrease in T1 include the following methods.
1) The temperature of the coating solution for the photosensitive layer is set high in advance.
2) The aluminum support is heated and raised immediately before or immediately after application.
3) Shorten the coating process time. That is, the time from applying the coating solution for the photosensitive layer to entering the drying step is shortened.

上記方法について更に具体的に説明する。
1)感光層の塗布液の温度は常温である場合が多いが、塗布工程の乾球温度より5〜10℃以上高くしておく。即ち25〜40℃に設定する。
2)アルミニウム支持体の温度を加熱ローラ等の加熱手段で、塗布直前あるいは直後に25〜50℃になるように加熱する。
3)塗布工程の時間を20秒以内になるように設定する。下限の時間は3秒程度は必要である。
The above method will be described more specifically.
1) The temperature of the coating solution for the photosensitive layer is often room temperature, but it is 5 to 10 ° C. higher than the dry bulb temperature in the coating process. That is, it is set to 25 to 40 ° C.
2) The temperature of the aluminum support is heated by a heating means such as a heating roller so that the temperature becomes 25 to 50 ° C. immediately before or after application.
3) Set the coating process time to be within 20 seconds. The lower limit time is about 3 seconds.

本発明は、乾燥工程においても前述した条件式2を満足しなければならない。即ち、乾燥工程における感光層の表面温度(T1)と、塗布液中に含有する沸点が110℃未満の有機溶剤の平均的な沸点(T3)との差が大きくなりすぎると、平版印刷版としての印刷性能(耐刷性、耐汚れ性等)が高いレベルで安定的に得られず、上記差を30℃より小さくすることによって上記課題が解決することを見いだした。   The present invention must satisfy the above-described conditional expression 2 also in the drying step. That is, if the difference between the surface temperature (T1) of the photosensitive layer in the drying step and the average boiling point (T3) of the organic solvent having a boiling point of less than 110 ° C. contained in the coating solution becomes too large, a lithographic printing plate is obtained. It has been found that the above-mentioned problems can be solved by making the above difference smaller than 30 ° C., because the printing performance (printing durability, stain resistance, etc.) is not stably obtained at a high level.

即ち、乾燥工程において、塗布された感光層の乾燥が進行するに伴い感光層の表面温度(T1)は上昇し、乾燥終了付近では乾燥風の乾球温度とほぼ同じまで上昇する。従って、一般的な乾燥工程では、乾燥終了付近における感光層の表面温度(T1)が最も高くなる。本発明の感光層、即ち、側鎖に重合性二重結合を有し、かつカルボキシル基を含有モノマーを共重合成分として有するポリマー、光重合開始剤、及び低沸点の有機溶剤を高比率で含有する感光層においては、上記T1とT3の差を30℃未満にすることによって印刷性能(耐刷性、耐汚れ性)が高レベルの印刷版が安定的に製造できることを見いだした。特に、製造直後のみならず、長期間の保存後であっても非画像部の溶出性が改良され、その結果耐汚れ性が向上した。   That is, in the drying process, the surface temperature (T1) of the photosensitive layer rises as the applied photosensitive layer is dried, and rises to almost the same as the dry bulb temperature of the drying air near the end of drying. Therefore, in the general drying process, the surface temperature (T1) of the photosensitive layer near the end of drying is the highest. The photosensitive layer of the present invention, that is, a polymer having a polymerizable double bond in the side chain and having a carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component, a photopolymerization initiator, and a low boiling point organic solvent in a high ratio In the photosensitive layer, it was found that a printing plate having a high level of printing performance (printing durability and stain resistance) can be stably produced by making the difference between T1 and T3 less than 30 ° C. In particular, not only immediately after production but also after long-term storage, the elution of the non-image area was improved, and as a result, the stain resistance was improved.

条件式2において、T3は110℃未満の有機溶剤の平均的な沸点を表す。即ち、該有機溶剤が1種類の場合は、その有機溶剤の沸点であるが、2種以上を併用する場合は、含有比率(質量比)を加味して計算した数値となる。
例えば、沸点が90℃の有機溶剤を沸点が110℃未満の全有機溶剤の60質量%含有し、かつ沸点が70℃の有機溶剤を40質量%含有する場合の平均的な沸点は、以下のようにして求める。
90℃×0.6+70℃×0.4=82℃
In conditional expression 2, T3 represents the average boiling point of the organic solvent below 110 ° C. That is, when there is only one kind of the organic solvent, it is the boiling point of the organic solvent, but when two or more kinds are used in combination, it is a numerical value calculated in consideration of the content ratio (mass ratio).
For example, when the organic solvent having a boiling point of 90 ° C. contains 60% by mass of the total organic solvent having a boiling point of less than 110 ° C. and 40% by mass of the organic solvent having a boiling point of 70 ° C., the average boiling point is as follows: So ask.
90 ° C x 0.6 + 70 ° C x 0.4 = 82 ° C

本発明において、感光層には更に重合性モノマーを含有する事が好ましく、これによって高感度及び高耐刷力の平版印刷版が得られるが、その版面、保存後における溶出性が悪化する。従って、更に重合性モノマーを含有する系において本発明の製造方法は有効となる。   In the present invention, the photosensitive layer preferably further contains a polymerizable monomer, whereby a lithographic printing plate having high sensitivity and high printing durability can be obtained, but its plate surface and elution property after storage are deteriorated. Therefore, the production method of the present invention is effective in a system further containing a polymerizable monomer.

前述したように、本発明は条件式1と2を組み合わせる事によって初めて所期の目的が達成される。即ち、条件式1のみを満足させるのであれば、110℃未満の有機溶剤の比率を小さくし、高沸点の有機溶剤を多く使用した塗工液を用いる事により蒸発潜熱を抑えれば良いが、それでは、高温乾燥を行う事が必要になり高感度のネガ型感光性平版印刷版を安定的に製造する事は難しくなる。そこで、沸点110℃未満の有機溶剤を50質量%以上含有する高感度ネガ型感光性平版印刷版の製造過程において、式1と式2を共に満足した感光層塗工液の塗布工程及び乾燥工程がこれらの問題を解決する。   As described above, the intended purpose of the present invention can be achieved only by combining conditional expressions 1 and 2. That is, if only the conditional expression 1 is satisfied, the ratio of the organic solvent below 110 ° C. may be reduced, and the latent heat of vaporization may be suppressed by using a coating liquid using a large amount of high-boiling organic solvent, Then, it becomes necessary to perform high temperature drying, and it becomes difficult to stably produce a high sensitivity negative photosensitive lithographic printing plate. Therefore, in the production process of a high-sensitivity negative photosensitive lithographic printing plate containing 50% by mass or more of an organic solvent having a boiling point of less than 110 ° C., a coating process and a drying process of the photosensitive layer coating solution satisfying both formulas 1 and 2 Solve these problems.

本発明において、アルミニウム支持体上に設けられる感光層の組成は、詳しくは後述するが、少なくとも、側鎖に重合性二重結合を有しかつカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として有するポリマー、及び光重合開始剤を含有し、好ましくは更に重合性モノマーを含有する。更に、増感色素、重合禁止剤、界面活性剤、着色顔料等が必要に応じて添加される。従って、感光層の塗工液は、上記したような薬剤が有機溶剤中に溶解あるいは分散された状態で含有する。   In the present invention, the composition of the photosensitive layer provided on the aluminum support will be described in detail later, but at least a polymer having a polymerizable double bond in the side chain and a carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component, and It contains a photopolymerization initiator, and preferably further contains a polymerizable monomer. Furthermore, a sensitizing dye, a polymerization inhibitor, a surfactant, a color pigment, and the like are added as necessary. Accordingly, the coating solution for the photosensitive layer contains the above-described chemicals in a state dissolved or dispersed in an organic solvent.

塗工液中における上記した全薬剤の濃度は、5〜30質量%程度の濃度で調製される。その中でポリマーの濃度は、1〜25質量%の濃度で含有するのが好ましい。感光層の乾燥膜厚は、0.5〜10μmの範囲で形成するのが好ましく、特に1〜5μmの範囲が好ましい。従って、塗工液の塗布量は、予め設定された感光層の厚み及び塗工液中のポリマー濃度から設定される。   The concentration of all the above-mentioned drugs in the coating solution is prepared at a concentration of about 5 to 30% by mass. Among them, the polymer concentration is preferably 1 to 25% by mass. The dry film thickness of the photosensitive layer is preferably formed in the range of 0.5 to 10 μm, particularly preferably in the range of 1 to 5 μm. Therefore, the coating amount of the coating solution is set from the preset thickness of the photosensitive layer and the polymer concentration in the coating solution.

塗布方式としては、例えばロールコーティング、ディップコーティング、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、ホッパーコーティング、ブレードコーティング、ワイヤドクターコーティングなどが挙げられる。   Examples of the coating method include roll coating, dip coating, air knife coating, gravure coating, hopper coating, blade coating, and wire doctor coating.

本発明の塗工液に使用される全有機溶剤の50質量%以上含有する沸点が110℃未満の有機溶剤としては、大気圧下で沸点が110℃未満の有機溶剤であれば特に限定される物ではなく使用できる。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、シクロヘキサン、酢酸メチル、酢酸エチル等が挙げられる。特に好ましい有機溶剤としてテトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソランが挙げられる。全有機溶剤に対して50質量%以上含有する必要があり、好ましくは、70質量%以上、更に好ましくは、80質量%以上含有する事である。   The organic solvent having a boiling point of less than 110 ° C. containing 50% by mass or more of the total organic solvent used in the coating liquid of the present invention is particularly limited as long as it is an organic solvent having a boiling point of less than 110 ° C. under atmospheric pressure. Can be used instead of things. For example, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, cyclohexane, methyl acetate, ethyl acetate and the like can be mentioned. Particularly preferred organic solvents include tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and 1,3-dioxolane. It is necessary to contain 50% by mass or more with respect to the total organic solvent, preferably 70% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more.

前記有機溶剤の他に塗工液中の分散体の安定性、塗工面の安定助剤等、種々の目的に応じて、110℃以上の高沸点溶剤を含有する事は好ましい形態の1つで、例えば、N.Nジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノエチルエーテル等が、好ましく用いられる。しかし、感光層中に多量に残存する事は前述した様に、経時保存安定性の悪化、印刷性能としての耐刷性の悪化を引き起こす原因になる為好ましくない。含有量には注意が必要で好ましくは全有機溶剤の30質量%以下、更に好ましくは20%以下である。   In addition to the organic solvent, it is one of the preferred embodiments to contain a high boiling point solvent of 110 ° C. or higher depending on various purposes such as the stability of the dispersion in the coating liquid and the coating surface stability aid. For example, N.A. N dimethylformamide, cyclohexanone, ethylene glycol monoethyl ether and the like are preferably used. However, a large amount remaining in the photosensitive layer is not preferable because it causes deterioration of storage stability with time and deterioration of printing durability as printing performance as described above. The content needs attention and is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% or less of the total organic solvent.

本発明に使用される支持体については、研磨され、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板であり、一般に平版印刷版に使用されるアルミニウム支持体が使用される。一般に平版印刷版に使用されるアルミニウム支持体とは、印刷時における湿し水に対する濡れ(保水性)を良くするため、また感光層との密着を良くするため、その表面を粗面化することが行われる。この粗面化処理(いわゆるグレイニング)には、ボールグレイニング、ワイヤグレイニング、ブラシグレイニング等の機械的粗面化処理、塩化物、フッ化物等で化学的にアルミニウムを溶解することにより行う化学的粗面化処理、及び電気化学的にアルミニウムを溶解することにより行う電解粗面化処理、及びこれらの方法を併用した粗面化方法が知られている。例えば特開昭48−28123号、同53−123204号、同54−146234号、同55−25381、同55−132294号、同56−55291号、同56−150593号、同56−28893号、同58−167196号、米国特許第2,344,510号、同第3,861,917号、同第4,301,229号などがある。アルミ板の表面形状についても、米国特許第2,344,510号は機械的粗面化と電解粗面化を行い重畳的に複合した砂目構造、米国特許第4,301,229号はピット径の累積度数分布と中心線平均粗さ、米国特許第3,861,917号は粗面の深さ、カナダ特許第955449号は粗面の山の高さと直径、西ドイツ特許第1,813,443号は粗面の高低差についてそれぞれ記載されている。このような粗面化処理を行った後、硫酸、リン酸、硝酸あるいはそれらの混合液などの電解液中で陽極酸化処理が施される。   About the support body used for this invention, it is the aluminum plate which is grind | polished and has an anodized film, and the aluminum support body generally used for a lithographic printing plate is used. In general, an aluminum support used for a lithographic printing plate is a surface roughened in order to improve wettability (water retention) against dampening water during printing and to improve adhesion to the photosensitive layer. Is done. This roughening treatment (so-called graining) is performed by mechanically roughening treatment such as ball graining, wire graining or brush graining, or by chemically dissolving aluminum with chloride, fluoride or the like. A chemical surface roughening treatment, an electrolytic surface roughening treatment performed by electrochemically dissolving aluminum, and a surface roughening method using these methods in combination are known. For example, JP-A 48-28123, 53-123204, 54-146234, 55-25381, 55-132294, 56-55291, 56-150593, 56-28893, No. 58-167196, U.S. Pat. Nos. 2,344,510, 3,861,917, and 4,301,229. Regarding the surface shape of the aluminum plate, U.S. Pat. No. 2,344,510 is a grained structure in which mechanical roughening and electrolytic roughening are combined and superimposed, and U.S. Pat. No. 4,301,229 is pit. Cumulative frequency distribution of diameters and centerline average roughness, US Pat. No. 3,861,917 is the depth of the rough surface, Canadian Patent No. 955449 is the height and diameter of the rough surface, West German Patent 1,813, No. 443 describes the level difference of the rough surface. After such surface roughening treatment, anodization treatment is performed in an electrolytic solution such as sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid or a mixture thereof.

本発明に使用される、側鎖に重合性二重結合を有しかつカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として有するポリマーについて説明する。カルボキシル基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸2−カルボキシエチルエステル、メタクリル酸2−カルボキシエチルエステル、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン等のような例が挙げられる。   The polymer having a polymerizable double bond in the side chain and having a carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component used in the present invention will be described. As the carboxyl group-containing monomer, acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid 2-carboxyethyl ester, methacrylic acid 2-carboxyethyl ester, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid monoalkyl ester, Examples include 4-carboxystyrene and the like.

上記のポリマー側鎖に重合性二重結合を導入する場合のモノマーとしては、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、1−プロペニル−アクリレート、1−プロペニル−メタクリレート、β−フェニル−ビニル−メタクリレート、β−フェニル−ビニル−アクリレート、ビニルメタクリルアミド、ビニルアクリルアミド、α−クロロ−ビニル−メタクリレート、α−クロロ−ビニル−アクリレート、β−メトキシ−ビニル−メタクリレート、β−メトキシ−ビニル−アクリレート、ビニル−チオ−アクリレート、ビニル−チオ−メタクリレート等が挙げられる。   As monomers for introducing a polymerizable double bond into the polymer side chain, allyl acrylate, allyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, 1-propenyl-acrylate, 1-propenyl-methacrylate, β-phenyl-vinyl- Methacrylate, β-phenyl-vinyl-acrylate, vinyl methacrylamide, vinyl acrylamide, α-chloro-vinyl-methacrylate, α-chloro-vinyl-acrylate, β-methoxy-vinyl-methacrylate, β-methoxy-vinyl-acrylate, vinyl -Thio-acrylate, vinyl-thio-methacrylate and the like.

本発明に用いられるポリマーとして特に好ましくは、重合性二重結合としてビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有し、かつカルボキシ基含有モノマーを共重合成分として有するポリマーである。ビニル基が置換したフェニル基は直接もしくは連結基を介して主鎖と結合したものであり、連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した基が挙げられる。また、前記フェニル基は置換可能な基もしくは原子で置換されていても良く、また、前記ビニル基はハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等で置換されていても良い。上記した側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重合体とは、更に詳細には、下記化1で表される基を側鎖に有するものである。   Particularly preferred as the polymer used in the present invention is a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group as a polymerizable double bond in the side chain and a carboxy group-containing monomer as a copolymerization component. The phenyl group substituted with a vinyl group is bonded to the main chain directly or through a linking group, and the linking group is not particularly limited, and includes any group, atom, or a combination thereof. The phenyl group may be substituted with a substitutable group or atom, and the vinyl group is a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, It may be substituted with an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group or the like. More specifically, the polymer having a phenyl group in which a vinyl group is substituted on the side chain described above has a group represented by the following chemical formula 1 in the side chain.

Figure 0004679109
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式中、Z1は連結基を表し、R1、R2、及びR3は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等であり、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等で置換されていても良い。R4は置換可能な基または原子を表す。n1は0または1を表し、m1は0〜4の整数を表し、k1は1〜4の整数を表す。 In the formula, Z 1 represents a linking group, and R 1 , R 2 , and R 3 are a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, and an aryl group. A group, an alkoxy group, an aryloxy group, and the like, and these groups may be substituted with an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxy group, or the like. R 4 represents a substitutable group or atom. n 1 represents 0 or 1, m 1 represents an integer of 0 to 4, and k 1 represents an integer of 1 to 4.

上記一般式について更に詳細に説明する。Z1の連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−N(R5)−、−C(O)−O−、−C(R6)=N−、−C(O)−、スルホニル基、複素環基、及び下記化2で表される基等の単独もしくは2以上が複合した基が挙げられる。ここでR5及びR6は、水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。更に、上記した連結基には、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。 The above general formula will be described in more detail. As the linking group for Z 1 , an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, —N (R 5 ) —, —C (O) —O—, —C (R 6 ) ═N—, Examples include —C (O) —, a sulfonyl group, a heterocyclic group, and a group represented by the following chemical formula 2 alone or in combination of two or more. Here, R 5 and R 6 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or the like. Furthermore, the above-described linking group may have a substituent such as an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.

Figure 0004679109
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上記複素環基としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、更にこれらの複素環には置換基が結合していても良い。
化1で表される基の例を以下に示すが、これらの例に限定されるものではない。
Examples of the heterocyclic group include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thiatriazole ring, indole ring. , Indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline ring, quinoxaline ring, etc. A nitrogen-containing heterocyclic ring, a furan ring, a thiophene ring, and the like, and a substituent may be bonded to these heterocyclic rings.
Although the example of group represented by Chemical formula 1 is shown below, it is not limited to these examples.

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上記化1で表される基の中には好ましいものが存在する。即ち、R1及びR2が水素原子でR3が水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)であるものが好ましい。更に、Z1の連結基としては複素環を含むものが好ましく、k1は1または2であるものが好ましい。 Among the groups represented by the above chemical formula 1, preferred ones exist. That is, it is preferable that R 1 and R 2 are hydrogen atoms and R 3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.). Furthermore, as the linking group for Z 1 , those containing a heterocyclic ring are preferred, and those in which k 1 is 1 or 2 are preferred.

化1で示される基を有し、かつカルボキシ基含有モノマーを共重合成分として有するポリマーの例を下記に示す。式中、数字は共重合体トータル組成100質量%中に於ける各繰り返し単位の質量%を表す。   Examples of polymers having a group represented by Chemical Formula 1 and having a carboxy group-containing monomer as a copolymerization component are shown below. In the formula, the number represents the mass% of each repeating unit in the copolymer total composition of 100 mass%.

Figure 0004679109
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本発明のポリマーは、更に他のモノマーを共重合体成分として含んでもよい。他のモノマーとしては、スチレン、4−メチルスチレン、4−ヒドロキシスチレン、4−アセトキシスチレン、4−カルボキシスチレン、4−アミノスチレン、クロロメチルスチレン、4−メトキシスチレン等のスチレン誘導体、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ドデシル等のメタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸アリールエステル或いはアルキルアリールエステル類、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸メトキシジエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸メトキシポリエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸ポリプロピレングリコールモノエステル等のアルキレンオキシ基を有するメタクリル酸エステル類、メタクリル酸2−ジメチルアミノエチル、メタクリル酸2−ジエチルアミノエチル等のアミノ基含有メタクリル酸エステル類、或いはアクリル酸エステルとしてこれら対応するメタクリル酸エステルと同様の例、或いは、リン酸基を有するモノマーとしてビニルホスホン酸等、或いは、アリルアミン、ジアリルアミン等のアミノ基含有モノマー類、或いは、ビニルスルホン酸およびその塩、アリルスルホン酸およびその塩、メタリルスルホン酸およびその塩、スチレンスルホン酸およびその塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸およびその塩等のスルホン酸基を有するモノマー類、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等の含窒素複素環を有するモノマー類、或いは4級アンモニウム塩基を有するモノマーとして4−ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミドのメチルクロライドによる4級化物、N−ビニルイミダゾールのメチルクロライドによる4級化物、4−ビニルベンジルピリジニウムクロライド等、或いはアクリロニトリル、メタクリロニトリル、またアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メトキシエチルアクリルアミド、4−ヒドロキシフェニルアクリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド誘導体、さらにはアクリロニトリル、メタクリロニトリル、フェニルマレイミド、ヒドロキシフェニルマレイミド、酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、またメチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、その他、N−ビニルピロリドン、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アリルアルコール、ビニルトリメトキシシラン、グリシジルメタクリレート等各種モノマー、が挙げられる。   The polymer of the present invention may further contain another monomer as a copolymer component. Other monomers include styrene derivatives such as styrene, 4-methylstyrene, 4-hydroxystyrene, 4-acetoxystyrene, 4-carboxystyrene, 4-aminostyrene, chloromethylstyrene, 4-methoxystyrene, methyl methacrylate, Methacrylic acid alkyl esters such as ethyl methacrylate, butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, and dodecyl methacrylate, aryl methacrylates or alkylaryl esters such as phenyl methacrylate and benzyl methacrylate , 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, methoxydiethylene glycol monoester methacrylate, methoxyethylene methacrylate Methacrylic acid esters having an alkyleneoxy group such as glycol monoester and methacrylic acid polypropylene glycol monoester, amino group-containing methacrylic acid esters such as 2-dimethylaminoethyl methacrylate and 2-diethylaminoethyl methacrylate, or acrylic acid esters Examples of these corresponding methacrylic acid esters, or monomers having a phosphoric acid group such as vinylphosphonic acid, amino group-containing monomers such as allylamine and diallylamine, or vinylsulfonic acid and its salts, allylsulfone Monomers having a sulfonic acid group such as acid and its salt, methallylsulfonic acid and its salt, styrenesulfonic acid and its salt, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and its salt As monomers having a nitrogen-containing heterocyclic ring such as 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, N-vinylimidazole, N-vinylcarbazole, or monomers having a quaternary ammonium base, 4-vinylbenzyltrimethylammonium chloride, acryloyloxyethyl Trimethylammonium chloride, methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, quaternized product of dimethylaminopropylacrylamide with methyl chloride, quaternized product of N-vinylimidazole with methyl chloride, 4-vinylbenzylpyridinium chloride, or acrylonitrile, methacrylonitrile, Acrylamide, methacrylamide, dimethylacrylamide, diethylacrylamide, N-isopropyl acrylate Acrylamide or methacrylamide derivatives such as amide, diacetone acrylamide, N-methylol acrylamide, N-methoxyethyl acrylamide, 4-hydroxyphenyl acrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, phenylmaleimide, hydroxyphenylmaleimide, vinyl acetate, chloroacetic acid Vinyl esters such as vinyl, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl stearate, vinyl benzoate, and vinyl ethers such as methyl vinyl ether and butyl vinyl ether, N-vinyl pyrrolidone, acryloyl morpholine, tetrahydrofurfuryl methacrylate, vinyl chloride , Various monomers such as vinylidene chloride, allyl alcohol, vinyltrimethoxysilane, glycidyl methacrylate, etc. And the like.

本発明に係わるポリマーの分子量については好ましい範囲が存在し、質量平均分子量として1000から100万の範囲にあることが好ましく、さらに5000から50万の範囲にあることがさらに好ましい。   There is a preferable range for the molecular weight of the polymer according to the present invention, and the mass average molecular weight is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and more preferably in the range of 5,000 to 500,000.

本発明の重合開始剤としては、光照射によりラジカルを発生し得る化合物であれば任意の化合物を使用することができる。例えば、トリハロアルキル置換された化合物(例えばトリハロアルキル置換された含窒素複素環化合物として トリアジン化合物およびオキサジアゾール誘導体、トリハロアルキルスルホニル化合物)、ヘキサアリールビスイミダゾール、チタノセン化合物、ケトオキシム化合物、チオ化合物、有機過酸化物等が挙げられる。これらの光重合開始剤の中でも、有機ホウ素塩、が好ましく用いられ、更に好ましくは、有機ホウ素塩、トリハロアルキル置換化合物を使用することである。好ましく用いられる有機ホウ素塩としては、化12で示される有機ホウ素アニオンを有する化合物を用いることである。   As the polymerization initiator of the present invention, any compound can be used as long as it is a compound capable of generating radicals by light irradiation. For example, trihaloalkyl-substituted compounds (for example, triazine compounds and oxadiazole derivatives as trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds, trihaloalkylsulfonyl compounds), hexaarylbisimidazoles, titanocene compounds, ketoxime compounds, thio compounds, organic compounds A peroxide etc. are mentioned. Among these photopolymerization initiators, organic boron salts are preferably used, and more preferably, organic boron salts and trihaloalkyl-substituted compounds are used. As the organic boron salt preferably used, a compound having an organic boron anion represented by Chemical formula 12 is used.

Figure 0004679109
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化12において、R11,R12,R13およびR14は各々同じであっても異なっていても良く、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、複素環基を表す。これらの内で、R11,R12,R13およびR14の内の一つがアルキル基であり、他の置換基がアリール基である場合が特に好ましい。 In the chemical formula 12, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 may be the same or different, and may be an alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, heterocyclic group. Represents. Of these, it is particularly preferred that one of R 11 , R 12 , R 13 and R 14 is an alkyl group and the other substituent is an aryl group.

上記の有機ホウ素塩としては、先に示した化12で表される有機ホウ素アニオンを含む塩であり、塩を形成するカチオンとしてはアルカリ金属イオンおよびオニウム化合物が好ましく使用される。特に好ましい例は、有機ホウ素アニオンとのオニウム塩として、テトラアルキルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩等のホスホニウム塩が挙げられる。特に好ましい有機ホウ素塩の例を以下に示す。   As said organic boron salt, it is a salt containing the organic boron anion represented by the chemical formula 12 shown previously, and an alkali metal ion and an onium compound are preferably used as a cation which forms a salt. Particularly preferable examples of the onium salt with an organic boron anion include ammonium salts such as tetraalkylammonium salts, sulfonium salts such as triarylsulfonium salts, and phosphonium salts such as triarylalkylphosphonium salts. Examples of particularly preferred organic boron salts are shown below.

Figure 0004679109
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感光層中に於ける有機ホウ素塩の割合については好ましい範囲が存在し、感光層トータル100質量部において該有機ホウ素塩は0.1質量部から50質量部の範囲で含まれていることが好ましい。   There is a preferable range for the proportion of the organic boron salt in the photosensitive layer, and the organic boron salt is preferably contained in the range of 0.1 to 50 parts by mass in 100 parts by mass of the photosensitive layer. .

本発明に係わる有機ホウ素塩と併用し使用する、好ましい重合開始剤としてトリハロアルキル置換化合物が挙げられる。ここで言うトリハロアルキル置換化合物とは、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物としてs−トリアジン誘導体およびオキサジアゾール誘導体が挙げられ、或いは、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環或いは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   A preferred polymerization initiator used in combination with the organic boron salt according to the present invention is a trihaloalkyl-substituted compound. The trihaloalkyl-substituted compound mentioned here is specifically a compound having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group or a tribromomethyl group in the molecule, and preferred examples include the trihaloalkyl group. Examples of the compound bonded to the nitrogen heterocyclic group include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives, or a trihaloalkylsulfonyl compound in which the trihaloalkyl group is bonded to an aromatic ring or a nitrogen-containing heterocyclic ring via a sulfonyl group. Can be mentioned.

トリハロアルキル置換した含窒素複素環化合物やトリハロアルキルスルホニル化合物の特に好ましい例を以下に示す。   Particularly preferred examples of trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds and trihaloalkylsulfonyl compounds are shown below.

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トリハロアルキル置換化合物を用いる場合に於いて、その感光性平版印刷版の感光層中に於ける好ましい範囲が存在し、感光層トータル100質量部中に於ける割合として0.1質量部から50質量部の範囲で含まれることが好ましい。さらに、これらは前述した有機ホウ素塩とともに感光層中に含まれている場合において特に感度が向上するため好ましく、この場合有機ホウ素塩に対する割合としては、有機ホウ素塩1質量部に対してトリハロアルキル置換化合物は0.1質量部から50質量部の範囲で含まれていることが好ましい。   When a trihaloalkyl-substituted compound is used, there is a preferred range in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate, and the proportion in the total 100 parts by mass of the photosensitive layer is 0.1 to 50 parts by mass. It is preferably included in the range of parts. Further, these are preferable because the sensitivity is particularly improved when they are contained in the photosensitive layer together with the above-described organic boron salt. In this case, the ratio to the organic boron salt is trihaloalkyl substitution with respect to 1 part by mass of the organic boron salt. The compound is preferably contained in the range of 0.1 to 50 parts by mass.

本発明のネガ型感光性平版印刷版の感光層は、重合性モノマーを含有するのが好ましい。これを組み合わせることによって更に高感度が実現でき、また印刷性能に優れた平版印刷版を得ることができる。   The photosensitive layer of the negative photosensitive lithographic printing plate of the present invention preferably contains a polymerizable monomer. By combining this, a higher sensitivity can be realized, and a lithographic printing plate excellent in printing performance can be obtained.

重合性モノマーとしては、重合性二重結合を有する重合性化合物が挙げられる。好ましい重合性モノマーの例としては、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールグリセロールトリアクリレート、グリセロールエポキシトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等の多官能アクリル系モノマーが挙げられる。   Examples of the polymerizable monomer include polymerizable compounds having a polymerizable double bond. Examples of preferred polymerizable monomers include 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trisacryloyloxyethyl isocyanurate, tripropylene glycol diacrylate. Examples thereof include polyfunctional acrylic monomers such as acrylate, ethylene glycol glycerol triacrylate, glycerol epoxy triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and pentaerythritol tetraacrylate.

或いは、上記の重合性化合物に代えてラジカル重合性を有するオリゴマーも好ましく使用され、アクリロイル基、メタクリロイル基を導入した各種オリゴマーとしてポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等も同様に使用されるが、これらもエチレン性不飽和化合物として同様に好ましく用いることができる。   Alternatively, an oligomer having radical polymerizability is preferably used in place of the above-described polymerizable compound, and polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, etc. as various oligomers into which acryloyl group or methacryloyl group is introduced Are also used in the same manner, but these can also be preferably used as ethylenically unsaturated compounds.

重合性モノマーとして、更に好ましい態様は、分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以上を有する重合性化合物が挙げられる。該化合物を使用した場合に於いて、発生するラジカルにより生成するスチリルラジカル同士の再結合により効果的に架橋を行うため、高感度のネガ型感光性平版印刷版を作成する上で極めて好ましい。   A more preferable embodiment of the polymerizable monomer includes a polymerizable compound having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups in the molecule. When this compound is used, crosslinking is effectively carried out by recombination of styryl radicals generated by the generated radicals, which is extremely preferable for producing a highly sensitive negative photosensitive lithographic printing plate.

分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以上有する重合性化合物は、代表的には下記一般式で表される。   A polymerizable compound having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups in the molecule is typically represented by the following general formula.

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式中、Z2は連結基を表し、R21、R22及びR23は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等であり、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等で置換されていても良い。R24は置換可能な基または原子を表す。m2は0〜4の整数を表し、k2は2以上の整数を表す。 In the formula, Z 2 represents a linking group, and R 21 , R 22 and R 23 are a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, and an aryl group. An alkoxy group, an aryloxy group, and the like, and these groups may be substituted with an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxy group, or the like. R 24 represents a substitutable group or atom. m 2 represents an integer of 0 to 4, and k 2 represents an integer of 2 or more.

更に詳細に説明する。Z2の連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−N(R25)−、−C(O)−O−、−C(R26)=N−、−C(O)−、スルホニル基、複素環基等の単独もしくは2以上が複合した基が挙げられる。ここでR25及びR26は、水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。更に、上記した連結基には、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。 Further details will be described. As the linking group for Z 2 , an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, —N (R 25 ) —, —C (O) —O—, —C (R 26 ) ═N—, Examples include —C (O) —, a sulfonyl group, a heterocyclic group, or a group in which two or more are combined. Here, R 25 and R 26 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or the like. Furthermore, the above-described linking group may have a substituent such as an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.

上記複素環基としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらには置換基が結合していても良い。   Examples of the heterocyclic group include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thiatriazole ring, indole ring. , Indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline ring, quinoxaline ring, etc. A nitrogen-containing heterocyclic ring, a furan ring, a thiophene ring and the like, and a substituent may be bonded to these.

上記化17で表される化合物の中でも好ましい化合物が存在する。即ち、R21及びR22は水素原子でR23は水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)で、k2は2〜10の化合物が好ましい。以下に化17で表される化合物の具体例を示すが、これらの例に限定されるものではない。 Among the compounds represented by the formula 17, there are preferable compounds. That is, R 21 and R 22 are hydrogen atoms, R 23 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.), and k 2 is preferably a compound having 2-10. Specific examples of the compound represented by Chemical Formula 17 are shown below, but the invention is not limited to these examples.

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上記のような重合性モノマーが、ネガ型感光性平版印刷版の感光層中に占める割合に関しては好ましい範囲が存在し、感光層トータル100質量部中において重合性モノマーは1質量部から60質量部の範囲で含まれることが好ましく、さらに5質量部から50質量部の範囲で含まれることが特に好ましい。   There is a preferred range for the proportion of the polymerizable monomer as described above in the photosensitive layer of the negative photosensitive lithographic printing plate, and the polymerizable monomer is 1 to 60 parts by mass in 100 parts by mass of the photosensitive layer. It is preferable that it is contained in the range of 5 mass parts to 50 mass parts.

本発明のネガ型感光性平版印刷板の感光層に増感色素を添加することは好ましい。添加する増感色素としては、380nm〜1300nmの波長域において重合開始剤の分解を増感するものであり、種々のカチオン性色素、アニオン性色素および電荷を有しない中性の色素としてメロシアニン、クマリン、キサンテン、チオキサンテン、アゾ色素等が使用できる。これらの内で特に好ましい例は、カチオン色素としてのシアニン、カルボシアニン、へミシアニン、メチン、ポリメチン、トリアリールメタン、インドリン、アジン、チアジン、キサンテン、オキサジン、アクリジン、ローダミン、およびアザメチン色素から選ばれる色素である。これらのカチオン性色素との組み合わせに於いては特に高感度でかつ保存性に優れるために好ましく使用される。さらには近年380〜410nmの範囲に発振波長を有するバイオレット半導体レーザーを搭載した出力機(プレートセッター)が開発されている。この出力機に対応する高感度である感光系としては増感色素としてピリリウム系化合物やチオピリリウム系化合物を含む系が好ましい。本発明に関わる好ましい増感色素の例を以下に示す。   It is preferable to add a sensitizing dye to the photosensitive layer of the negative photosensitive lithographic printing plate of the present invention. As the sensitizing dye to be added, those which sensitize the decomposition of the polymerization initiator in a wavelength range of 380 nm to 1300 nm, and various cationic dyes, anionic dyes and neutral dyes having no charge include merocyanine and coumarin. , Xanthene, thioxanthene, azo dyes and the like can be used. Among these, particularly preferable examples are dyes selected from cyanine, carbocyanine, hemicyanine, methine, polymethine, triarylmethane, indoline, azine, thiazine, xanthene, oxazine, acridine, rhodamine, and azamethine dyes as cationic dyes. It is. In combination with these cationic dyes, they are preferably used because of their particularly high sensitivity and excellent storage stability. Furthermore, in recent years, an output machine (plate setter) equipped with a violet semiconductor laser having an oscillation wavelength in the range of 380 to 410 nm has been developed. As a photosensitive system having high sensitivity corresponding to this output machine, a system containing a pyrylium compound or a thiopyrylium compound as a sensitizing dye is preferable. Examples of preferred sensitizing dyes according to the present invention are shown below.

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750nm以上の近赤外から赤外光の波長領域の光に感光性を持たせる系に於いて増感色素として特に好ましい例を以下に示す。   Examples particularly preferred as a sensitizing dye in a system for imparting photosensitivity to light in the near infrared to infrared wavelength region of 750 nm or more are shown below.

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上記のような増感色素と重合開始剤との量的な比率に於いて好ましい範囲が存在する。増感色素1重量部に対して光重合開始剤は0.01重量部から100重量部の範囲で用いることが好ましく、更に好ましくは光重合開始剤は0.1重量部から50重量部の範囲で使用することが好ましい。   There is a preferred range in the quantitative ratio of the sensitizing dye and the polymerization initiator as described above. The photopolymerization initiator is preferably used in the range of 0.01 parts by weight to 100 parts by weight with respect to 1 part by weight of the sensitizing dye, more preferably in the range of 0.1 parts by weight to 50 parts by weight. Is preferably used.

本発明の感光性平版印刷版の感光層に着色剤を含有する事が好ましい。画像部の視認性を高める為に使用されるものであるが、更に好ましくは、セーフライト性向上の為に、可視光領域に吸収を有するものである。又、画質向上の為に、感光波長域の着色剤を含有する事も好ましい。これら着色剤の例としては、下記のような、無機顔料、有機顔料、色素などが挙げることができる。   The photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention preferably contains a colorant. It is used for improving the visibility of the image area, and more preferably has absorption in the visible light region in order to improve the safelight property. It is also preferable to contain a colorant in the photosensitive wavelength region for improving the image quality. Examples of these colorants include inorganic pigments, organic pigments, and dyes as described below.

無機顔料としては、雲母状酸化鉄、鉛丹、黄鉛、銀朱、群青、二酸化チタン、被覆雲母、ストンチームクロメート、チタニウムイエロー、ジンククロロメート、モリブデン赤、酸化クロム、鉛酸カルシウム等が挙げられる。又、有機顔料としては、カーボンブラック、フタロシアニン顔料、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、縮合アゾ顔料、イソインドリノン顔料、キノフタロン顔料、ニッケルアゾ顔料、ペリノン顔料、ペリレン顔料、アンスロン顔料、キナクリドン顔料、アンスラキノン顔料、チオインジゴ顔料、ジオキサジン顔料、インダスロン顔料、ピランスロン顔料等が挙げられる。又、色素としては、フタロシアニン系色素、トリアリールメタン系色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素等の各種の色素が挙げられる。   Examples of inorganic pigments include mica-like iron oxide, red lead, yellow lead, silver vermilion, ultramarine, titanium dioxide, coated mica, stone team chromate, titanium yellow, zinc chromate, molybdenum red, chromium oxide, calcium leadate, and the like. . Organic pigments include carbon black, phthalocyanine pigment, monoazo pigment, disazo pigment, condensed azo pigment, isoindolinone pigment, quinophthalone pigment, nickel azo pigment, perinone pigment, perylene pigment, anthrone pigment, quinacridone pigment, anthraquinone pigment, Examples thereof include thioindigo pigments, dioxazine pigments, indanthrone pigments, and pyranthrone pigments. Examples of the dye include various dyes such as a phthalocyanine dye, a triarylmethane dye, an anthraquinone dye, and an azo dye.

上記顔料、色素は、単独で用いてもかまわないが、2種以上を併用して用いてもよい。   The above pigments and dyes may be used alone, but two or more of them may be used in combination.

感光性平版印刷版を構成する他の要素として重合禁止剤の添加も好ましく行うことが出来る。例えば、キノン系、フェノール系等の化合物が好ましく使用され、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、カテコール、t−ブチルカテコール、2−ナフトール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等の化合物が好ましく用いられる。これらの重合禁止剤と先に述べたエチレン性不飽和化合物との好ましい割合は、エチレン性不飽和化合物 質量部に対して0.001から0.1質量部の範囲で使用することが好ましい。   A polymerization inhibitor can also be preferably added as another element constituting the photosensitive lithographic printing plate. For example, compounds such as quinone and phenol are preferably used, and compounds such as hydroquinone, p-methoxyphenol, catechol, t-butylcatechol, 2-naphthol, and 2,6-di-t-butyl-p-cresol are used. Preferably used. The preferred proportion of these polymerization inhibitors and the aforementioned ethylenically unsaturated compounds is preferably used in the range of 0.001 to 0.1 parts by mass with respect to parts by mass of the ethylenically unsaturated compounds.

本発明の現像液としては、pH8以上であれば、任意のアルカリ水溶液を使用することができる。アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、水酸化リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、第2リン酸カリウム、第2リン酸アンモニウム、第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウムおよび第3リン酸アンモニウム等の無機アルカリ剤や、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N−エチルエタノールアイミン、N−n−ブチルエタノールアミン、N−t−ブチルエタノールアミン、N−n−ブチルジエタノールアミン、N−t−ブチルジエタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−アミノエチルエタノールアミン、N−アミノエチルプロパノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド等の有機アルカリ剤、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウムおよびケイ酸リチウムのようなアルカリ金属ケイ酸塩やケイ酸アンモニウム等が挙げられる。これらは、1種または2種以上組み合わせて使用することができる。   As the developer of the present invention, any aqueous alkaline solution can be used as long as the pH is 8 or more. Examples of the alkali agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, lithium hydroxide, sodium borate, potassium borate, ammonium borate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, ammonium bicarbonate, sodium carbonate, Inorganic alkaline agents such as potassium carbonate, ammonium carbonate, dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, dibasic ammonium phosphate, trisodium phosphate, tribasic potassium phosphate and tribasic ammonium phosphate, monomethylamine , Dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine , Monoisopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N-ethylethanolimine, Nn-butylethanolamine, Nt-butylethanolamine, Nn-butyldiethanolamine, Nt-butyldiethanolamine N-methylethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-aminoethylethanolamine, N-aminoethylpropanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, etc. Examples include organic alkali agents, alkali metal silicates such as sodium silicate, potassium silicate and lithium silicate, and ammonium silicate. These can be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられる現像液にはその他の種々界面活性剤と併用することができ、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。これらの併用する界面活性剤は、現像液中に0.001〜10質量%、より好ましくは0.01〜5質量%の範囲で添加される。   The developer used in the present invention can be used in combination with other various surfactants, and examples thereof include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. These surfactants used in combination are added to the developer in the range of 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass.

本発明に用いられる現像液には、種々現像安定化剤が用いる事がでいる。それらの好ましい例として、特開平6−282079号公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩及びジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例として挙げられる。更には、特開昭50−51324号公報記載のアニオン界面活性剤又は両性界面活性剤、また特開昭55−95946号公報記載の水溶性カチオン性ポリマー、特開昭56−142528号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質がある。更に、特開昭59−84241号公報のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特開昭61−215554号公報記載の重量平均分子量300以上のポリエチレングリコール、特開昭63−175858号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平2−39157号公報の酸又はアルコールニ4モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。   Various development stabilizers can be used in the developer used in the present invention. Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium salts such as diphenyliodonium chloride. Furthermore, anionic surfactants or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are described. There are water-soluble amphoteric polyelectrolytes that have been described. Further, an organic boron compound to which an alkylene glycol is added as described in JP-A No. 59-84241, a polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more as described in JP-A No. 61-215554, and a cation as described in JP-A No. 63-175858. And a fluorine-containing surfactant having a functional group, a water-soluble ethylene oxide adduct obtained by adding 4 mol or more of an acid or an alcohol or an alcohol disclosed in JP-A-2-39157, and a water-soluble polyalkylene compound.

本発明に用いられる現像液は使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさない程度が適当であり、含有物にもよるが、通常、濃縮液:水=1:0〜1:10程度に濃縮する事ができる。又、容器としてはアルカリ性であることから、炭酸ガスを透過しない、しかも安全上輸送中に破損することのない材料を用いることが好ましく、通常ハードボトル、キュービテナー等の樹脂製容器が好ましく用いられる。   It is advantageous in terms of transportation that the developer used in the present invention is a concentrated solution in which the water content is less than that in use, and is diluted with water at the time of use. The degree of concentration in this case is suitably such that each component does not cause separation or precipitation, and depending on the content, it can usually be concentrated to about concentrate: water = 1: 0 to 1:10. In addition, since the container is alkaline, it is preferable to use a material that does not permeate carbon dioxide and that does not break during transportation for safety. Usually, a resin container such as a hard bottle or a cubicener is preferably used.

本発明の処理方法においては、露光後通常自動現像機で処理を行う。自動現像機は、一般に現像部と後処理部とからなり、印刷版を搬送する装置と、各処理液槽及びスプレー槽から成り、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで組み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像及び後処理するものである。又、最近は現像液が満たされた現像槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて現像処理する方法が開発されており、この様な現像方法も本発明に好適に適用できる。この様な自動現像液においては、現像処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。   In the processing method of the present invention, the processing is performed with a normal automatic processor after exposure. The automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for transporting the printing plate, each processing liquid tank and a spray tank, and is assembled by a pump while horizontally transporting the exposed printing plate. Each processing solution is sprayed from a spray nozzle to develop and post-process. Recently, a developing method has been developed in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll in a developing tank filled with a developing solution, and such a developing method can also be suitably applied to the present invention. . Such an automatic developer can be processed while replenishing the replenisher according to the development processing amount, operating time, and the like.

この様な組成の現像液で現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムやデンプン誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明の印刷版の後処理はこれらの処理を種々組み合わせて用いることができ、例えば、現像→水洗→界面活性剤を含有するリンス液処理や現像→水洗→フィニッシャー液による処理がリンス液やフィニッシャー液の疲労が少なく好ましい。更にリンス液やフィニッシャー液を用いた向流多段処理も好ましい態様である。これらの後処理は、一般に現像部と後処理部とからなる自動現像機を用いて行われる。後処理液は、スプレーノズルから吹き付ける方法、処理液が満たされた処理槽中を搬送する方法が用いられる。又、現像後一定量の少量の水性水を版面に供給して水洗し、その廃液を現像液原液の希釈水として再利用する方法も知られている。この様な自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することが出来る。また、実質的に未使用の後処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。この様な処理によって得られた平版印刷版は、オフセット印刷機に掛けられ、印刷に用いられる。   The printing plate developed with the developer having such a composition is subjected to post-processing with a washing water, a rinse solution containing a surfactant, a finisher mainly composed of gum arabic or starch derivatives, or a protective gum solution. The In the post-treatment of the printing plate of the present invention, these treatments can be used in various combinations. For example, development → water washing → rinsing liquid treatment containing surfactant or development → water washing → finisher liquid treatment is a rinse liquid or finisher. Less liquid fatigue is preferable. Furthermore, a countercurrent multistage process using a rinse liquid or a finisher liquid is also a preferred embodiment. These post-processing are generally performed using an automatic developing machine including a developing unit and a post-processing unit. As the post-treatment liquid, a method of spraying from a spray nozzle or a method of conveying through a treatment tank filled with the treatment liquid is used. A method is also known in which a small amount of aqueous water is supplied to the plate surface after development and washed with water, and the waste solution is reused as dilution water for the developer stock solution. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being replenished with the respective replenishing solution according to the processing amount and operating time. In addition, a so-called disposable processing method in which treatment is performed with a substantially unused post-treatment liquid can also be applied. The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing.

以下実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、効果はもとより本発明はこれら実施例に限定されるものではない。実施例中の部は質量部を、%は質量%を示す。   The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples as well as the effects. The part in an Example shows a mass part and% shows the mass%.

下記処方による感光層の塗工液を表1の様に作製し、厚みが0.29mmである砂目立て処理および陽極酸化処理を施したアルミニウム板上に乾燥膜厚が5μmになる様に塗設しサンプルを作製した。尚製造条件については表2に示す。   A photosensitive layer coating solution having the following formulation is prepared as shown in Table 1, and coated on a grained and anodized aluminum plate having a thickness of 0.29 mm so that the dry film thickness is 5 μm. A sample was prepared. The manufacturing conditions are shown in Table 2.

<感光層の塗工液>
ポリマー (P−1;質量平均分子量約9万) 30部
ポリマーの溶剤として1,3−ジオキソラン 70部
重合開始剤 (BC−5) 4部
(BS−1) 2部
重合性モノマー (C−5) 15部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 10部
増感色素 (S−33) 0.4部
重合禁止剤 2,6−ジ−t−ブチルクレゾール 0.2部
溶媒 表1記載量(部)
平均粒径185nmのカーボンブラック 4部
<Coating solution for photosensitive layer>
Polymer (P-1; mass average molecular weight of about 90,000) 30 parts 1,3-dioxolane as a solvent for polymer 70 parts Polymerization initiator (BC-5) 4 parts
(BS-1) 2 parts Polymerizable monomer (C-5) 15 parts Pentaerythritol tetraacrylate 10 parts Sensitizing dye (S-33) 0.4 part Polymerization inhibitor 2,6-di-t-butylcresol 0. 2 parts Solvents listed in Table 1 (parts)
4 parts of carbon black with an average particle size of 185 nm

Figure 0004679109
Figure 0004679109

中の支持体の加熱は、加熱ローラーを使用し、塗布直前に支持体が30℃になるように加熱した。又、乾燥工程温度(℃)は乾燥風の乾球温度を表す。又、塗布工程の表面温度は非接触赤外温度計を使用し測定した結果を示す。 The support in Table 2 was heated using a heating roller so that the support was 30 ° C. immediately before coating. The drying process temperature (° C.) represents the dry bulb temperature of the drying air. Moreover, the surface temperature of the coating process indicates the result of measurement using a non-contact infrared thermometer.

Figure 0004679109
Figure 0004679109

上記の様にして作製したサンプルの表面の均一性を下記評価基準にて目視に判断した。結果を表3に示した。   The uniformity of the surface of the sample produced as described above was judged visually according to the following evaluation criteria. The results are shown in Table 3.

○:均一な塗布面
○△:ほぼ均一な塗布面、問題ないレベル
×:不均一な塗布面
○: Uniform coating surface ○ △: Almost uniform coating surface, no problem level ×: Non-uniform coating surface

同様にして作製したサンプルを830nm半導体レーザーを搭載した外面ドラム方式プレートセッター、大日本スクリーン製造株式会社製PT−R4000を使用して、ドラム回転速度1000rpm解像度2400dpi、レーザー照射エネルギー100mJ/cm2の条件で印刷テストチャート画像の露光を行った。露光後に自動現像機として大日本スクリーン製造株式会社製PS版用自動現像機PD−1310を使用し、下記現像液を使用して現像処理28℃の液温で15秒間処理)を行ない、続いて下記処方のガム液を塗布した。 A sample prepared in the same manner as above, using an external drum type plate setter mounted with a 830 nm semiconductor laser, PT-R4000 manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd., drum rotation speed 1000 rpm resolution 2400 dpi, laser irradiation energy 100 mJ / cm 2 The print test chart image was exposed at. After exposure, Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. PS plate automatic developing machine PD-1310 was used as an automatic developing machine, and the following developing solution was used to carry out the developing process at a liquid temperature of 28 ° C. for 15 seconds, followed by A gum solution having the following formulation was applied.

<現像液>
35%アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム
(花王(株)社製界面活性剤) 30g
KOH 25g
20%珪酸カリ水溶液(SiO2を20%含む) 50g
N−アミノエチルエタノールアミン 30g
水で 1L
<ガム液>
リン酸1カリ 5g
アラビアガム 25g
デヒドロ酢酸 0.5g
EDTA2Na 1g
水で 1L
<Developer>
35% sodium alkylnaphthalene sulfonate
(Surfactant manufactured by Kao Corporation) 30g
KOH 25g
50 g of 20% potassium silicate aqueous solution (containing 20% SiO 2 ) 50 g
N-aminoethylethanolamine 30g
1L with water
<Gum solution>
1g potassium phosphate 5g
Gum arabic 25g
Dehydroacetic acid 0.5g
EDTA2Na 1g
1L with water

上記のようにして作成した平版印刷版について、印刷試験を行った。印刷試験として、
汚れ性としては、印刷機はハイデルベルグTOK(Heidelberg社製オフセット印刷機の商標)、インキはFINE INKニュウーチャンピオン紫S(大日本インキ化学工業(株)社製)、湿し水はEu−3(富士写真フイルム(株)社製のPS版用湿し水)の0.5%水溶液を使用し、3万枚印刷したサンプルの地汚れを評価。耐刷性としては、印刷機はハイデルベルグTOK(Heidelberg社製オフセット印刷機の商標)を使用し、インキはBEST ONE墨H(T&KTOKA(株)社製)、湿し水はアストロマークIII(株式会社日研化学研究所社製湿し水)の1%水溶液を使用し、画像部が欠落し印刷ができなくなった枚数で評価。汚れ性、耐刷性については、下記評価基準にて評価し、表3にまとめた。
A printing test was performed on the planographic printing plate prepared as described above. As a printing test,
As for stains, the printing press is Heidelberg TOK (trademark of Heidelberg's offset printing press), the ink is FINE INK New Champion Purple S (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), and the dampening solution is Eu-3 ( Using a 0.5% aqueous solution of a fountain solution for PS plates manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., we evaluated the scumming of 30,000 printed samples. As for printing durability, Heidelberg TOK (trademark of Heidelberg's offset printing machine) is used as the printing press, ink is BEST ONE black H (manufactured by T & KTOKA), and fountain solution is Astro Mark III (Co., Ltd.). Evaluation was performed using a 1% aqueous solution of dampening water manufactured by Nikken Chemical Research Co., Ltd. The stain resistance and printing durability were evaluated according to the following evaluation criteria and are summarized in Table 3.

汚れ性
○ :極めて良好
○△:良好
× :全面汚れ
耐刷性
○ :20万枚以上
○△:10万枚〜20万枚
× :5万枚以下
Dirtability ○: Extremely good ○ △: Good ×: Whole surface dirt Printing durability ○: 200,000 sheets or more ○ △: 100,000 to 200,000 sheets ×: 50,000 sheets or less

Figure 0004679109
Figure 0004679109

上記結果より、サンプル1(比較)ではT1−T2>−18(℃)を満たしていない為、不均一な塗布面しか得られず、耐刷性への影響が見られる。サンプル2、3(共に本発明)でT1−T2の値が変化したのは塗布工程時間の影響で、サンプル3が15秒であるのに対してサンプル2は25秒であった。サンプル4、5(いずれも本発明)は、それぞれ、塗布前支持体、塗工液の温度を上昇させた効果が現れている。サンプル6、7(共に本発明)は、塗布前支持体、塗工液の温度を共に上昇させた効果により、高い塗布工程の露点、又沸点の低いテトラヒドロフランを主溶剤とした塗工液でも良好な性能の印刷版が得られた。サンプル8(本発明)では、乾燥温度を100℃しサンプルを作製したが問題ない性能を示した。サンプル9(比較)はT1−T330(℃)を満たしておらず、非画像部の溶出性が悪く印刷物が汚れる結果となった。サンプル10(比較)は、T1−T2>−18(℃)及びT1−T330(℃)を満たしているが、沸点110℃未満の有機溶剤が50質量%未満で乾燥が不充分で耐刷性の悪い結果となった。 From the above results, sample 1 (comparison) does not satisfy T1-T2> −18 (° C.), so only a non-uniform coated surface can be obtained, and the influence on printing durability is observed. The change in the value of T1-T2 between samples 2 and 3 (both of the present invention) was due to the effect of the coating process time. Sample 3 was 15 seconds, while sample 2 was 25 seconds. Samples 4 and 5 (both of the present invention) have an effect of increasing the temperature of the support before coating and the coating solution, respectively. Samples 6 and 7 (both of the present invention) can be used as a coating liquid containing dew point in a high coating process or tetrahydrofuran having a low boiling point as a main solvent due to the effect of raising the temperature of the support before coating and the coating liquid. A printing plate with good performance was obtained. Sample 8 (invention) produced a sample at a drying temperature of 100 ° C. , but showed satisfactory performance. Sample 9 (comparison) did not satisfy T1-T3 < 30 (° C.), resulting in poor elution of the non-image area and smeared printed matter. Sample 10 (comparative) satisfies T1-T2> −18 (° C.) and T1-T3 < 30 (° C.), but the organic solvent having a boiling point of less than 110 ° C. is less than 50% by mass and is insufficiently dried. The printability was poor.

以上の結果より、本発明が効率的な塗布速度で、均一な塗布面が得られ、安定した良好な印刷性を示す事が判る。   From the above results, it can be seen that the present invention provides a uniform coated surface at an efficient coating speed and exhibits stable and good printability.

Claims (1)

アルミニウム支持体上に、重合性二重結合としてビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有し且つカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として有するポリマー及び重合開始剤を少なくとも含有する感光層を設けたネガ型感光性平版印刷版の製造方法において、前記感光層塗工液の溶媒である有機溶剤の80質量%以上が沸点が110℃未満の有機溶剤であり、感光層塗工液の塗布工程が下記条件式1を満足し、かつ乾燥工程が下記条件式2を満足することを特徴とするネガ型感光性平版印刷版の製造方法。
T1−T2>−18(℃) 式1
T1−T3<30(℃) 式2
式中、T1はアルミニウム支持体に塗布された感光層の表面温度(℃)を表し、T2は塗布工程の露点(℃)を表し、T3は沸点が110℃未満の有機溶剤の平均的な沸点を表す。
A photosensitive layer containing at least a polymer having a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group as a polymerizable double bond in the side chain and a carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component was provided on an aluminum support. In the method for producing a negative photosensitive lithographic printing plate, 80% by mass or more of the organic solvent that is the solvent of the photosensitive layer coating solution is an organic solvent having a boiling point of less than 110 ° C., and the coating process of the photosensitive layer coating solution is performed. A method for producing a negative photosensitive lithographic printing plate, wherein the following conditional expression 1 is satisfied, and the drying step satisfies the following conditional expression 2.
T1-T2> −18 (° C.) Formula 1
T1−T3 <30 (° C.) Formula 2
In the formula, T1 represents the surface temperature (° C.) of the photosensitive layer coated on the aluminum support, T2 represents the dew point (° C.) of the coating process, and T3 represents the average boiling point of the organic solvent having a boiling point of less than 110 ° C. Represents.
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0895266A (en) * 1994-09-22 1996-04-12 Dainippon Ink & Chem Inc Production of electrophotographic photoreceptor
JPH08314135A (en) * 1995-05-12 1996-11-29 Konica Corp Photosensitive composition and photosensitive planographic printing plate
JPH1184635A (en) * 1997-09-02 1999-03-26 Mitsubishi Chem Corp Production of photosensitive planographic printing plate
JPH11119417A (en) * 1997-10-15 1999-04-30 Konica Corp Production of photosensitive planographic printing plate
JP2001242621A (en) * 2000-03-01 2001-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate of planographic printing plate
JP2002278066A (en) * 2001-03-21 2002-09-27 Mitsubishi Paper Mills Ltd Photosensitive composition and photosensitive planographic printing plate material
JP2003337409A (en) * 2002-05-17 2003-11-28 Mitsubishi Chemicals Corp Positive photosensitive composition, positive photosensitive image forming material and positive image forming method using the same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0895266A (en) * 1994-09-22 1996-04-12 Dainippon Ink & Chem Inc Production of electrophotographic photoreceptor
JPH08314135A (en) * 1995-05-12 1996-11-29 Konica Corp Photosensitive composition and photosensitive planographic printing plate
JPH1184635A (en) * 1997-09-02 1999-03-26 Mitsubishi Chem Corp Production of photosensitive planographic printing plate
JPH11119417A (en) * 1997-10-15 1999-04-30 Konica Corp Production of photosensitive planographic printing plate
JP2001242621A (en) * 2000-03-01 2001-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate of planographic printing plate
JP2002278066A (en) * 2001-03-21 2002-09-27 Mitsubishi Paper Mills Ltd Photosensitive composition and photosensitive planographic printing plate material
JP2003337409A (en) * 2002-05-17 2003-11-28 Mitsubishi Chemicals Corp Positive photosensitive composition, positive photosensitive image forming material and positive image forming method using the same

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