JP2008203349A - Photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Photosensitive lithographic printing plate Download PDF

Info

Publication number
JP2008203349A
JP2008203349A JP2007036885A JP2007036885A JP2008203349A JP 2008203349 A JP2008203349 A JP 2008203349A JP 2007036885 A JP2007036885 A JP 2007036885A JP 2007036885 A JP2007036885 A JP 2007036885A JP 2008203349 A JP2008203349 A JP 2008203349A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
lithographic printing
printing plate
ring
photosensitive lithographic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007036885A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Hirata
賢治 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority to JP2007036885A priority Critical patent/JP2008203349A/en
Publication of JP2008203349A publication Critical patent/JP2008203349A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative photosensitive lithographic printing plate which has a highly safe light feature not incurring soiled paper or printing failure when printing even if handled for long time under white fluorescent light. <P>SOLUTION: This negative photosensitive lithographic printing plate has a photosensitive layer containing a polymer containing a monomer having a polymerizing double bond on the side chain as a copolymerizing component, a photopolymerization initiator, and a tocopherol compound, on the base plate. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は主に各種レーザーを用いて画像を形成する走査露光用の感光性平版印刷版に関する。特に380nmから1300nmの波長範囲にある光に感度を有するネガ型感光性平版印刷版に関する。   The present invention mainly relates to a photosensitive lithographic printing plate for scanning exposure which forms an image using various lasers. In particular, the present invention relates to a negative photosensitive lithographic printing plate having sensitivity to light in the wavelength range of 380 nm to 1300 nm.

従来から広く用いられているネガタイプの感光性平板印刷版は、アルミニウム支持体上に塗布された感光性塗膜(感光層)を有する。この塗膜は、露光された部分(露光部)は硬化し、露光されなかった部分(未露光部)は現像処理で溶出される。硬化した部分が画像部として残り印刷時にインキを受理し、一方、溶出した部分は親水性のアルミニウム表面が露出し、印刷時に水(湿し水)を受理することによって印刷がなされる。   The negative type photosensitive lithographic printing plate that has been widely used conventionally has a photosensitive coating film (photosensitive layer) coated on an aluminum support. In this coating film, the exposed portion (exposed portion) is cured, and the unexposed portion (unexposed portion) is eluted by a development process. The cured portion remains as an image portion and accepts ink during printing, while the eluted portion exposes the hydrophilic aluminum surface, and printing is performed by receiving water (fountain solution) during printing.

近年、画像形成技術の進歩に伴い、可視光に対して高感度を示す感光性平版印刷版が求められるようになってきた。例えば、アルゴンレーザー、ヘリウム・ネオンレーザー、赤色LED等を用いた出力機に対応した感光性平版印刷版の研究も活発に行われている。   In recent years, with the advance of image forming technology, photosensitive lithographic printing plates exhibiting high sensitivity to visible light have been demanded. For example, research on a photosensitive lithographic printing plate corresponding to an output machine using an argon laser, a helium / neon laser, a red LED, or the like has been actively conducted.

更に、半導体レーザーの著しい進歩によって750〜1300nmの近赤外レーザー光源を容易に利用できるようになったことに伴い、該レーザー光に対応する感光性平版印刷版が注目されている。   Furthermore, with the remarkable progress of semiconductor lasers, a near-infrared laser light source of 750 to 1300 nm can be easily used, and photosensitive lithographic printing plates corresponding to the laser light have attracted attention.

光重合を利用し、かつ近赤外レーザーに対応した感光性平版印刷版としては、例えば、特開平8−114916号、特開2000−122273号、特開2002−278080号、特開2002−283752号、特開2002−241547号、特開2004−126031号公報等に記載されている。   Examples of photosensitive lithographic printing plates that utilize photopolymerization and are compatible with near-infrared lasers include, for example, JP-A-8-114916, JP-A-2000-122273, JP-A-2002-278080, and JP-A-2002-283752. No., JP-A No. 2002-241547, JP-A No. 2004-126031, and the like.

これらの感光性平版印刷版は、一般に露光前にレーザー露光装置(イメージセッター)専用のカセットやスキッドに装填しなければならないが、その作業中に感光性平版印刷版が室内蛍光灯の光に曝露されて、性能が低下する場合がある。近年、より明るい作業環境、特に白色蛍光灯下で長時間の取り扱いに耐えうる性能(高いセーフライト性)が感光性平版印刷版には求められている。感光性平版印刷版のセーフライト性が低い場合、室内の照度を落とす方法や、蛍光灯の種類を白色から黄色、赤色等に変更する方法等で対応は可能であるが、製版作業の効率は悪化する。セーフライト性の低い感光性平版印刷版は、蛍光灯等の室内灯に曝露される事で、現像処理時に非画像部に残膜が生じる現像性低下の問題、更に印刷時には地汚れを生じる問題があり、一方画像部の膜強度にも影響を及ぼし、特にハイライト網点画像、細線画像、微小画像等に於ける耐刷不良を起こす問題もある。   These photosensitive lithographic printing plates generally have to be loaded in a cassette or skid dedicated to a laser exposure device (image setter) prior to exposure. During this operation, the photosensitive lithographic printing plate is exposed to the light of a room fluorescent lamp. Performance may be degraded. In recent years, photosensitive lithographic printing plates have been required to have a brighter working environment, particularly a performance (high safe light property) that can withstand long-time handling under a white fluorescent lamp. If the photosensitive lithographic printing plate has low safelight properties, it can be handled by reducing the illuminance in the room or changing the type of fluorescent light from white to yellow, red, etc. Getting worse. A photosensitive lithographic printing plate with low safe light property is exposed to indoor lamps such as fluorescent lamps, resulting in a problem of deterioration in developability in which a residual film is formed in a non-image area during development processing, and also a problem of causing soiling during printing. On the other hand, the film strength of the image area is also affected, and there is also a problem that printing durability is deteriorated particularly in a highlight halftone image, a fine line image, a minute image, and the like.

一般的に知られている光重合を利用したネガ型の感光性平版印刷版は、アクリレート系の重合性二重結合を有するモノマーあるいはポリマーの光重合反応を利用したものである。このようなアクリレート系の重合反応は、露光時における酸素の存在が露光による重合反応を著しく阻害し、十分な画像形成ができなくなるので、これを防ぐために感光層上部に酸素バリア性を高めるためにポリビニルアルコールやポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂からなる酸素遮断層(オーバー層)を設けることが通常行われている。この事は例えば、特開平8−137096号、特開平9−160226号、特開平9−236911号、特開2001−166488号公報等に記載されており、上述した特許公報に記載されている近赤外レーザー用の感光性平版印刷版も同様にオーバー層が設けられている。このオーバー層に紫外線吸収剤や赤色染料等を含有し、セーフライト性を向上させる方法が特開2003−233192号(特許文献1)、特開2004−252201号公報(特許文献2)等に開示されている。しかしながら、このようなオーバー層の存在によりレーザー露光の際に光の散乱等による画質の低下の問題や、現像の際に、アルカリ現像に先立ってオーバー層除去のためのプレ水洗工程が必要となること、および製造にあたって感光層塗布後に更にオーバー層を塗布する工程が必要である等の問題があった。   A generally known negative photosensitive lithographic printing plate utilizing photopolymerization utilizes a photopolymerization reaction of a monomer or polymer having an acrylate polymerizable double bond. In such an acrylate-based polymerization reaction, the presence of oxygen at the time of exposure significantly inhibits the polymerization reaction due to the exposure, so that sufficient image formation cannot be performed. Usually, an oxygen barrier layer (overlayer) made of a water-soluble resin such as polyvinyl alcohol or polyvinylpyrrolidone is provided. This is described, for example, in JP-A-8-137096, JP-A-9-160226, JP-A-9-236911, JP-A-2001-166488, and the like, which are described in the above-mentioned patent publications. A photosensitive lithographic printing plate for an infrared laser is similarly provided with an overlayer. Methods for improving the safe light property by containing an ultraviolet absorber or a red dye in the over layer are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-233192 (Patent Document 1) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-252201 (Patent Document 2). Has been. However, due to the presence of such an over layer, there is a problem of image quality deterioration due to light scattering during laser exposure, and a pre-water washing step for removing the over layer is required prior to alkali development during development. In addition, there is a problem in that a step of applying an overlayer after applying the photosensitive layer is necessary in manufacturing.

一方、特開2001−290271号、特開2002−244288号、特開2002−287340号公報では、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するモノマーあるいはポリマーの光重合反応を利用したネガ型の感光性平版印刷版が記載されている。これらは上記アクリレート系と異なりオーバー層を有していなくても良く、且つ十分な画像形成をできるだけの高い感度を有しており、特に感光層に光重合開始剤として有機ホウ素塩を含有する感光性平版印刷版が非常に高感度である。但し、該感光性平版印刷版は高感度が故にセーフライト性には不利であり、感光層中にヒンダードフェノール化合物及びヒンダードアミン化合物を含有する方法が特開2006−39178号公報(特許文献3)に開示されているが、セーフライト性が充分に満足できるものではなかった。   On the other hand, in JP-A-2001-290271, JP-A-2002-244288, and JP-A-2002-287340, a negative type using a photopolymerization reaction of a monomer or polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain. A photosensitive lithographic printing plate is described. Unlike the above acrylates, they do not have to have an overlayer, and have a high sensitivity enough to form a sufficient image. In particular, a photosensitive layer containing an organic boron salt as a photopolymerization initiator in the photosensitive layer. Sexual lithographic printing plates are very sensitive. However, the photosensitive lithographic printing plate is disadvantageous for safe light properties because of its high sensitivity, and a method of containing a hindered phenol compound and a hindered amine compound in the photosensitive layer is disclosed in JP-A-2006-39178 (Patent Document 3). However, the safelight property was not fully satisfactory.

他方、感光性平版印刷版にトコフェロール化合物を利用する事は、例えば特開平2−304568号(特許文献4)、特開平6−222554号公報(特許文献5)に記載されている様に、ジアゾ樹脂を有する感光性平版印刷版の保存性を改善する事ができる技術として知られている。
特開2003−233192号公報 特開2004−252201号公報 特開2006−39178号公報 特開平2−304568号公報 特開平6−222554号公報
On the other hand, the use of a tocopherol compound in a photosensitive lithographic printing plate is described in, for example, diazo compounds as described in JP-A-2-304568 (Patent Document 4) and JP-A-6-222554 (Patent Document 5). It is known as a technique that can improve the storage stability of a photosensitive lithographic printing plate having a resin.
JP 2003-233192 A Japanese Patent Laid-Open No. 2004-252201 JP 2006-39178 A JP-A-2-304568 JP-A-6-222554

従って、本発明の目的は、白色蛍光灯下で長時間の取り扱いを行っても、印刷時に汚れや耐刷不良の問題を起こさない、高いセーフライト性を有するネガ型感光性平版印刷版を提供する事にある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a negative photosensitive lithographic printing plate having high safelight properties that does not cause the problem of smudges or poor printing durability during printing even when handled for a long time under a white fluorescent lamp. There is to do.

本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
1)支持体上に、側鎖に重合性二重結合を有するモノマーを共重合成分として含むポリマー、光重合開始剤、及びトコフェロール化合物を含む感光層を有することを特徴とするネガ型感光性平版印刷版。
2)前記感光層が更に、ヒンダードフェノール化合物を含有する1)に記載のネガ型感光性平版印刷版。
The above object of the present invention has been achieved by the following invention.
1) A negative photosensitive lithographic plate comprising a photosensitive layer containing a polymer containing a monomer having a polymerizable double bond in the side chain as a copolymerization component, a photopolymerization initiator, and a tocopherol compound on a support. Printed version.
2) The negative photosensitive lithographic printing plate according to 1), wherein the photosensitive layer further contains a hindered phenol compound.

本発明によれば、白色蛍光灯下で長時間の取り扱いに耐えうる、高いセーフライト性を有しているネガ型感光性平版印刷版である。   According to the present invention, it is a negative photosensitive lithographic printing plate having high safelight properties that can withstand long-time handling under a white fluorescent lamp.

本発明は光重合性の感光層を有するネガ型感光性平版印刷版であり、該感光層には、側鎖に重合性二重結合を有するモノマーを共重合成分として含むポリマー、光重合開始剤、及びトコフェロール化合物を有する。   The present invention is a negative photosensitive lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer, and the photosensitive layer includes a polymer containing a monomer having a polymerizable double bond in the side chain as a copolymerization component, a photopolymerization initiator. And a tocopherol compound.

[側鎖に重合性二重結合を有するモノマーを共重合成分として含むポリマー]
本発明の感光性平版印刷版の感光層が含有する側鎖に重合性二重結合を有するモノマーを共重合成分として含むポリマー(以下重合性二重結合ポリマーと称す)とは、側鎖に重合性二重結合を有するモノマー(例えばアリルアクリレート、アリルメタクリレート、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、1−プロペニルアクリレート、1−プロペニルメタクリレート、β−フェニルビニルメタクリレート、β−フェニルビニルアクリレート、ビニルメタクリルアミド、ビニルアクリルアミド、α−クロロビニルメタクリレート、α−クロロビニルアクリレート、β−メトキシビニルメタクリレート、β−メトキシビニルアクリレート、ビニルチオアクリレート、ビニルチオメタクリレート等)を共重合成分として含むポリマーであり、更に前記共重合成分と共に水溶性基含有モノマー(例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン、4−スルホスチレン、アクリロニトリル等)を共重合成分として含むポリマーであることが好ましい。
[Polymer containing monomer having polymerizable double bond in side chain as copolymerization component]
The polymer containing a monomer having a polymerizable double bond in the side chain contained in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention as a copolymerization component (hereinafter referred to as a polymerizable double bond polymer) is polymerized in the side chain. Monomers having an ionic double bond (for example, allyl acrylate, allyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, 1-propenyl acrylate, 1-propenyl methacrylate, β-phenyl vinyl methacrylate, β-phenyl vinyl acrylate, vinyl methacrylamide, vinyl acrylamide, α-chlorovinyl methacrylate, α-chlorovinyl acrylate, β-methoxyvinyl methacrylate, β-methoxyvinyl acrylate, vinylthioacrylate, vinylthiomethacrylate, etc.) as a copolymerization component, and Water-soluble group-containing monomers (for example, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid monoalkyl ester, 4-carboxystyrene, 4-sulfostyrene, acrylonitrile, etc.) A polymer included as a copolymerization component is preferable.

本発明に用いられる重合性二重結合ポリマーとして特に好ましくは、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するモノマーとカルボキシ基含有モノマー(例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン等)の共重合成分からなるポリマーである(以下ビニルフェニル基含有ポリマーと称す)。側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するモノマーとは、ビニル基が置換したフェニル基が直接もしくは連結基を介して主鎖と結合したものであり、連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した連結基が挙げられる。また、前記ビニルフェニル基のフェニル基には、ビニル基以外にも置換基を有していても良く、例えばハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等で置換されていても良い。上記したビニルフェニル基含有ポリマーとは、更に詳細には、下記一般式で表される基を側鎖に有するものである。   The polymerizable double bond polymer used in the present invention is particularly preferably a monomer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain and a carboxy group-containing monomer (for example, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, maleic acid). Monoalkyl ester, fumaric acid monoalkyl ester, 4-carboxystyrene and the like) (hereinafter referred to as vinylphenyl group-containing polymer). The monomer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain is a phenyl group substituted with a vinyl group bonded to the main chain directly or via a linking group, and the linking group is not particularly limited and is arbitrary. Or a linking group formed by combining them. Further, the phenyl group of the vinylphenyl group may have a substituent other than the vinyl group, for example, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group. It may be substituted with a group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group or the like. More specifically, the above-described vinylphenyl group-containing polymer has a group represented by the following general formula in the side chain.

Figure 2008203349
Figure 2008203349

式中、Zは連結基を表し、R11、R12及びR13は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等であり、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等で置換されていても良い。R14は置換可能な基または原子を表す。nは0または1を表し、mは0〜4の整数を表し、kは1〜4の整数を表す。 In the formula, Z 1 represents a linking group, and R 11 , R 12 and R 13 are a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, and an aryl group. An alkoxy group, an aryloxy group, and the like, and these groups may be substituted with an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxy group, or the like. R 14 represents a substitutable group or atom. n 1 represents 0 or 1, m 1 represents an integer of 0 to 4, and k 1 represents an integer of 1 to 4.

上記一般式について更に詳細に説明する。Zの連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−N(R15)−、−C(O)−O−、−C(R16)=N−、−C(O)−、スルホニル基、複素環基、及び下記基で表される基等の単独もしくは2つ以上が複合した基が挙げられる。ここでR15及びR16は、水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。更に、上記した連結基には、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。 The above general formula will be described in more detail. As the linking group for Z 1 , an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, —N (R 15 ) —, —C (O) —O—, —C (R 16 ) ═N—, Examples include —C (O) —, a sulfonyl group, a heterocyclic group, and a group represented by the following groups, alone or in combination of two or more. Here, R 15 and R 16 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or the like. Furthermore, the above-described linking group may have a substituent such as an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.

Figure 2008203349
Figure 2008203349

上記複素環基としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、更にこれらの複素環には置換基が結合していても良い。前記一般式で表される基の例を以下に示すが、これらの例に限定されるものではない。   Examples of the heterocyclic group include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thiatriazole ring, indole ring. , Indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline ring, quinoxaline ring, etc. A nitrogen-containing heterocyclic ring, a furan ring, a thiophene ring, and the like, and a substituent may be bonded to these heterocyclic rings. Examples of the group represented by the general formula are shown below, but are not limited to these examples.

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

前記一般式で表される基の中には好ましいものが存在する。即ち、R11及びR12が水素原子でR13が水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)であるものが好ましい。更に、Zの連結基としては複素環を含むものが好ましく、kは1または2であるものが好ましい。 Among the groups represented by the general formula, there are preferable ones. That is, it is preferable that R 11 and R 12 are hydrogen atoms and R 13 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.). Furthermore, as the linking group for Z 1 , those containing a heterocyclic ring are preferred, and those in which k 1 is 1 or 2 are preferred.

本発明の感光層に含有するビニルフェニル基含有ポリマーは、前述の様にカルボキシ基含有モノマーを導入する事でアルカリ可溶性ポリマーとする事が好ましい。ビニルフェニル基含有ポリマーに含まれるカルボキシ基含有モノマーの割合として、5質量%以上99質量%以下であることが好ましく、これ以下の割合では共重合体がアルカリ水溶液に溶解しない場合がある。より好ましくは、共重合体組成中に含まれるカルボキシル基含有モノマーの割合は、10質量%以上80質量%以下であり、特に20質量%以上70質量%以下が好ましい。また共重合体組成中に含まれる側鎖にビニルフェニル基を有するモノマーの割合は、1質量%以上95質量%以下であることが好ましく、より好ましくは10質量%以上80質量%以下であり、特に20質量%以上75質量%以下が好ましい。   The vinylphenyl group-containing polymer contained in the photosensitive layer of the present invention is preferably an alkali-soluble polymer by introducing a carboxy group-containing monomer as described above. The proportion of the carboxy group-containing monomer contained in the vinylphenyl group-containing polymer is preferably 5% by mass or more and 99% by mass or less. If the proportion is less than this, the copolymer may not be dissolved in the alkaline aqueous solution. More preferably, the ratio of the carboxyl group-containing monomer contained in the copolymer composition is 10% by mass or more and 80% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or more and 70% by mass or less. The proportion of the monomer having a vinylphenyl group in the side chain contained in the copolymer composition is preferably 1% by mass to 95% by mass, more preferably 10% by mass to 80% by mass, 20 mass% or more and 75 mass% or less are especially preferable.

上記のカルボキシ基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸−2−カルボキシエチルエステル、メタクリル酸−2−カルボキシエチルエステル、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン等のような例が挙げられる。   As the carboxy group-containing monomer, acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid-2-carboxyethyl ester, methacrylic acid-2-carboxyethyl ester, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid Examples include monoalkyl esters, 4-carboxystyrene and the like.

本発明のビニルフェニル基含有ポリマーは、更に他のモノマーを共重合体成分として含んでもよい。他のモノマーとしては、スチレン、4−メチルスチレン、4−ヒドロキシスチレン、4−アセトキシスチレン、4−カルボキシスチレン、4−アミノスチレン、クロロメチルスチレン、4−メトキシスチレン等のスチレン誘導体、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ドデシル等のメタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸アリールエステル或いはアルキルアリールエステル類、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸メトキシジエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸メトキシポリエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸ポリプロピレングリコールモノエステル等のアルキレンオキシ基を有するメタクリル酸エステル類、メタクリル酸−2−ジメチルアミノエチル、メタクリル酸−2−ジエチルアミノエチル等のアミノ基含有メタクリル酸エステル類、或いはアクリル酸エステルとしてこれら対応するメタクリル酸エステルと同様の例、或いは、リン酸基を有するモノマーとしてビニルホスホン酸等、或いは、アリルアミン、ジアリルアミン等のアミノ基含有モノマー類、或いは、ビニルスルホン酸およびその塩、アリルスルホン酸およびその塩、メタリルスルホン酸およびその塩、スチレンスルホン酸およびその塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸およびその塩等のスルホン酸基を有するモノマー類、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等の含窒素複素環を有するモノマー類、或いは4級アンモニウム塩基を有するモノマーとして4−ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミドのメチルクロライドによる4級化物、N−ビニルイミダゾールのメチルクロライドによる4級化物、4−ビニルベンジルピリジニウムクロライド等、或いはアクリロニトリル、メタクリロニトリル、またアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メトキシエチルアクリルアミド、4−ヒドロキシフェニルアクリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド誘導体、さらにはアクリロニトリル、メタクリロニトリル、フェニルマレイミド、ヒドロキシフェニルマレイミド、酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、またメチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、その他、N−ビニルピロリドン、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アリルアルコール、ビニルトリメトキシシラン、グリシジルメタクリレート等各種モノマーが挙げられる。   The vinylphenyl group-containing polymer of the present invention may further contain another monomer as a copolymer component. Other monomers include styrene derivatives such as styrene, 4-methylstyrene, 4-hydroxystyrene, 4-acetoxystyrene, 4-carboxystyrene, 4-aminostyrene, chloromethylstyrene, 4-methoxystyrene, methyl methacrylate, Methacrylic acid alkyl esters such as ethyl methacrylate, butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, and dodecyl methacrylate, aryl methacrylates such as phenyl methacrylate and benzyl methacrylate, or alkylaryl Esters, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, methoxydiethylene glycol monomethacrylate, methoxypolymethacrylate Methacrylic acid esters having an alkyleneoxy group such as lenglycol monoester, methacrylic acid polypropylene glycol monoester, amino group-containing methacrylic acid esters such as methacrylic acid-2-dimethylaminoethyl, methacrylic acid-2-diethylaminoethyl, or Examples similar to these corresponding methacrylic acid esters as acrylic acid esters, vinylphosphonic acid or the like as a monomer having a phosphoric acid group, amino group-containing monomers such as allylamine or diallylamine, or vinylsulfonic acid and its salts Monosulfonic acid groups such as allylsulfonic acid and its salts, methallylsulfonic acid and its salts, styrenesulfonic acid and its salts, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and its salts Monomers, nitrogen-containing heterocycles such as 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, N-vinylimidazole and N-vinylcarbazole, or 4-vinylbenzyltrimethylammonium chloride as a monomer having a quaternary ammonium base, Acryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, quaternized product of dimethylaminopropylacrylamide with methyl chloride, quaternized product of N-vinylimidazole with methyl chloride, 4-vinylbenzylpyridinium chloride, etc., or acrylonitrile, methacrylate Ronitrile, acrylamide, methacrylamide, dimethylacrylamide, diethylacrylamide, N-isopropyl alcohol Acrylamide or methacrylamide derivatives such as rilamide, diacetone acrylamide, N-methylol acrylamide, N-methoxyethyl acrylamide, 4-hydroxyphenyl acrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, phenylmaleimide, hydroxyphenylmaleimide, vinyl acetate, chloroacetic acid Vinyl esters such as vinyl, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl stearate, vinyl benzoate, vinyl ethers such as methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, and others, N-vinyl pyrrolidone, acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl methacrylate, vinyl chloride , Vinylidene chloride, allyl alcohol, vinyltrimethoxysilane, glycidyl methacrylate, etc. Nomar, and the like.

本発明に係わるビニルフェニル基含有ポリマーの分子量については好ましい範囲が存在し、重量平均分子量として1000から100万の範囲にあることが好ましく、5000から50万の範囲にあることがさらに好ましい。   There is a preferred range for the molecular weight of the vinylphenyl group-containing polymer according to the present invention, and the weight average molecular weight is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and more preferably in the range of 5,000 to 500,000.

前記一般式で示される基を有し、かつカルボキシ基含有モノマーを共重合成分として有するビニルフェニル基含有ポリマーの例を下記に示す。式中、数字は共重合体トータル組成100質量%中に於ける各繰り返し単位の質量%を表す。   Examples of the vinylphenyl group-containing polymer having a group represented by the above general formula and having a carboxy group-containing monomer as a copolymerization component are shown below. In the formula, the number represents the mass% of each repeating unit in the copolymer total composition of 100 mass%.

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

[光重合開始剤]
本発明の感光性平版印刷版の感光層は光重合開始剤を含有する。光重合開始剤としては公知の化合物を用いることができる。例えば、有機ホウ素塩、トリハロアルキル置換された化合物(例えばトリハロアルキル置換された含窒素複素環化合物としてs−トリアジン化合物およびオキサジアゾール誘導体、トリハロアルキルスルホニル化合物)、ヘキサアリールビスイミダゾール、チタノセン化合物、ケトオキシム化合物、チオ化合物、有機過酸化物、オニウム塩(特開2003−114532号公報に記載のヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩)等が挙げられる。これらの光重合開始剤の中でも、特に有機ホウ素塩が高感度であり好ましく用いられる。更に好ましくは、有機ホウ素塩とトリハロアルキル置換化合物を組み合わせて用いることであり、更に高感度になる。
[Photopolymerization initiator]
The photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention contains a photopolymerization initiator. Known compounds can be used as the photopolymerization initiator. For example, organic boron salts, trihaloalkyl-substituted compounds (for example, s-triazine compounds and oxadiazole derivatives, trihaloalkylsulfonyl compounds as trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds), hexaarylbisimidazoles, titanocene compounds, ketoximes Compounds, thio compounds, organic peroxides, onium salts (iodonium salts, diazonium salts, sulfonium salts described in JP-A-2003-114532) and the like. Among these photopolymerization initiators, organic boron salts are particularly preferred because of their high sensitivity. More preferably, a combination of an organic boron salt and a trihaloalkyl-substituted compound is used, resulting in higher sensitivity.

有機ホウ素塩を構成する有機ホウ素アニオンは、下記一般式で表される。   The organic boron anion constituting the organic boron salt is represented by the following general formula.

Figure 2008203349
Figure 2008203349

式中、R21、R22、R23およびR24は各々同じであっても異なっていてもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、複素環基を表す。これらの内で、R21、R22、R23およびR24の内の一つがアルキル基であり、他の置換基がアリール基である場合が特に好ましい。 In the formula, each of R 21 , R 22 , R 23 and R 24 may be the same or different, and represents an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group or a heterocyclic group. To express. Of these, it is particularly preferred that one of R 21 , R 22 , R 23 and R 24 is an alkyl group and the other substituent is an aryl group.

有機ホウ素塩を構成するカチオンとしては、アルカリ金属イオンおよびオニウム化合物が挙げられるが、好ましくはオニウム塩であり、例えばテトラアルキルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩等のホスホニウム塩が挙げられる。又、有機ホウ素塩を構成するカチオンとして、カチオン性増感色素でも良い。特に好ましい有機ホウ素塩の例を下記に示す。   Examples of the cation constituting the organic boron salt include alkali metal ions and onium compounds, but onium salts are preferred, for example, ammonium salts such as tetraalkylammonium salts, sulfonium salts such as triarylsulfonium salts, and triarylalkyls. Examples thereof include phosphonium salts such as phosphonium salts. Moreover, a cationic sensitizing dye may be used as the cation constituting the organic boron salt. Examples of particularly preferred organic boron salts are shown below.

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

他の好ましい光重合開始剤として、トリハロアルキル置換化合物が挙げられ、特にトリハロアルキル置換化合物と有機ホウ素塩と組み合わせるのが好ましい。上記トリハロアルキル置換化合物とは、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも1個以上有する化合物であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物としてs−トリアジン誘導体およびオキサジアゾール誘導体が挙げられ、或いは、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環或いは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   Other preferred photopolymerization initiators include trihaloalkyl-substituted compounds, and it is particularly preferable to combine a trihaloalkyl-substituted compound with an organic boron salt. The above-mentioned trihaloalkyl-substituted compound is specifically a compound having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group or tribromomethyl group in the molecule. As a preferred example, the trihaloalkyl group is a nitrogen-containing compound. Examples of the compound bonded to the heterocyclic group include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives, or trihaloalkylsulfonyl compounds in which the trihaloalkyl group is bonded to an aromatic ring or a nitrogen-containing heterocyclic ring via a sulfonyl group. It is done.

トリハロアルキル置換した含窒素複素環化合物やトリハロアルキルスルホニル化合物の特に好ましい例を以下に示す。   Particularly preferred examples of trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds and trihaloalkylsulfonyl compounds are shown below.

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

上述したような光重合開始剤の含有量は、重合性二重結合ポリマー100質量%に対して、1〜100質量%の範囲が好ましく、更には1〜40質量%の範囲で含まれることが好ましい。   The content of the photopolymerization initiator as described above is preferably in the range of 1 to 100% by mass and more preferably in the range of 1 to 40% by mass with respect to 100% by mass of the polymerizable double bond polymer. preferable.

[トコフェロール化合物]
本発明の好ましい態様である感光性平版印刷版の感光層が光重合開始剤として有機ホウ素塩を含有した場合、感光性平版印刷版の感度は高くなる為、セーフライト性は不利になる。作用機構は定かでないが、本発明の感光性平版印刷版の感光層にトコフェロール化合物を含有する事で、平版印刷版のセーフライト性改良に有効である事を見出した。
[Tocopherol compound]
When the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate which is a preferred embodiment of the present invention contains an organic boron salt as a photopolymerization initiator, the sensitivity of the photosensitive lithographic printing plate is increased, so that the safelight property is disadvantageous. Although the mechanism of action is not clear, it has been found that the inclusion of a tocopherol compound in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is effective in improving the safelight properties of the lithographic printing plate.

本発明の感光性平版印刷版の感光層が含有するトコフェロール化合物はトコフェロール(α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール)、トコフェロール誘導体(例えば酢酸−α−トコフェロール、ニコチン酸−α−トコフェロール等)が含まれ、特に好ましいのはトコフェロールである。トコフェロール化合物の含有量は、重合性二重結合ポリマー100質量%に対して、0.01〜50質量%の範囲が好ましく、更には0.1〜5質量%の範囲で含まれることが好ましい。   The tocopherol compound contained in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is a tocopherol (α-tocopherol, β-tocopherol, γ-tocopherol, δ-tocopherol), a tocopherol derivative (for example, acetic acid-α-tocopherol, nicotinic acid-α -Tocopherol etc.) are included, and particularly preferred is tocopherol. The content of the tocopherol compound is preferably in the range of 0.01 to 50% by mass and more preferably in the range of 0.1 to 5% by mass with respect to 100% by mass of the polymerizable double bond polymer.

[ヒンダードフェノール化合物]
本発明の感光性平版印刷版の感光層には、トコフェロール化合物とヒンダードフェノール化合物を組み合わせる事で、感光性平版印刷板のセーフライト性の改良に極めて有効に作用する。ヒンダードフェノール化合物には従来から公知の化合物を用いる事ができ、例えば2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス−(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン等が挙げられる。ヒンダードフェノール化合物の含有量は、重合性二重結合ポリマー100質量%に対して、0.1〜50質量%の範囲が好ましく、更には0.5〜10質量%の範囲で含まれることが好ましい。
[Hindered phenol compounds]
By combining the tocopherol compound and the hindered phenol compound in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, the photosensitive lithographic printing plate works extremely effectively for improving the safelight property of the photosensitive lithographic printing plate. A conventionally known compound can be used as the hindered phenol compound. For example, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6- t-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol, tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] Methane, bis [3,3′-bis- (4′-hydroxy-3′-tert-butylphenyl) butyric acid] glycol ester, 2,6-di-tert-butyl-4-ethylphenol, 2,2 '-Methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, etc. The content of the hindered phenol compound is preferably in the range of 0.1 to 50% by mass and more preferably in the range of 0.5 to 10% by mass with respect to 100% by mass of the polymerizable double bond polymer. It is preferable that

[増感色素]
本発明の感光性平版印刷版の感光層には増感色素を含有するのが好ましい。増感色素は、380nm〜1300nmの波長域において光重合開始剤の分解を増感するものであり、種々のカチオン性色素、アニオン性色素および電荷を有しない中性の色素としてメロシアニン、クマリン、キサンテン、チオキサンテン、アゾ色素等が使用できる。これらの内で特に好ましい例は、カチオン色素としてのシアニン、カルボシアニン、へミシアニン、メチン、ポリメチン、トリアリールメタン、インドリン、アジン、チアジン、キサンテン、オキサジン、アクリジン、ローダミン、およびアザメチン色素から選ばれる色素である。これらのカチオン性色素との組み合わせに於いて、特に高感度でかつ保存性に優れるために好ましく使用される。さらには近年380〜410nmの範囲に発振波長を有するバイオレット半導体レーザーを搭載した出力機(プレートセッター)が開発されている。この出力機に対応する高感度である感光系としては増感色素としてピリリウム系化合物やチオピリリウム系化合物を含む系が好ましい。本発明に関わる増感色素の例を以下に示す。
[Sensitizing dye]
The photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention preferably contains a sensitizing dye. The sensitizing dye sensitizes the decomposition of the photopolymerization initiator in a wavelength range of 380 nm to 1300 nm. Various cationic dyes, anionic dyes, and neutral dyes having no charge include merocyanine, coumarin, and xanthene. Thioxanthene, azo dyes and the like can be used. Among these, particularly preferable examples are dyes selected from cyanine, carbocyanine, hemicyanine, methine, polymethine, triarylmethane, indoline, azine, thiazine, xanthene, oxazine, acridine, rhodamine, and azamethine dyes as cationic dyes. It is. In combination with these cationic dyes, they are preferably used because of their particularly high sensitivity and excellent storage stability. Furthermore, in recent years, an output machine (plate setter) equipped with a violet semiconductor laser having an oscillation wavelength in the range of 380 to 410 nm has been developed. As a photosensitive system having high sensitivity corresponding to this output machine, a system containing a pyrylium compound or a thiopyrylium compound as a sensitizing dye is preferable. Examples of sensitizing dyes according to the present invention are shown below.

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

上記の増感色素の内で、特に750nm以上の近赤外から赤外光の波長領域の光に感光性を持たせる系が好ましく、増感色素としてこうした波長領域に吸収を有することが必要であり、こうした目的で使用される特に好ましい例を以下に示す。   Among the above sensitizing dyes, a system that gives light sensitivity to light in the near infrared to infrared wavelength region of 750 nm or more is particularly preferable, and it is necessary to have absorption in such a wavelength region as a sensitizing dye. There are particularly preferred examples used for such purposes.

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

本発明の感光性平版印刷版の感光層に好ましく使用される増感色素は、各イメージセッターのレーザー光源種に適合するよう用いるが、白色蛍光灯の分光分布(主に300〜800nm)にも感度を有しており、特に本発明の好ましい光重合開始剤である有機ホウ素塩と組み合わせると、高い感度を有する為、セーフライト性には不利である。しかしながら本発明のトコフェロール化合物を用いる事で、感度への影響は小さく、セーフライト性を改善する事ができる。本発明の感光層に含まれる増感色素と光重合開始剤との量的な比率に於いて好ましい範囲が存在する。増感色素1質量部に対して光重合開始剤は0.01質量部から100質量部の範囲で用いることが好ましく、更に好ましくは光重合開始剤が0.1質量部から50質量部の範囲で使用することが好ましい。   The sensitizing dye preferably used in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is used so as to be compatible with the laser light source type of each image setter, but also in the spectral distribution (mainly 300 to 800 nm) of a white fluorescent lamp. In particular, when combined with an organic boron salt which is a preferred photopolymerization initiator of the present invention, it has a high sensitivity and is disadvantageous for safelight properties. However, by using the tocopherol compound of the present invention, the influence on the sensitivity is small and the safelight property can be improved. There is a preferred range in the quantitative ratio between the sensitizing dye and the photopolymerization initiator contained in the photosensitive layer of the present invention. The photopolymerization initiator is preferably used in the range of 0.01 to 100 parts by mass with respect to 1 part by mass of the sensitizing dye, and more preferably in the range of 0.1 to 50 parts by mass of the photopolymerization initiator. Is preferably used.

[エチレン性不飽和化合物]
本発明の感光性平版印刷版の感光層には、更にエチレン性不飽和化合物を含有するのが好ましい。これを組み合わせることによって更に高感度が実現でき、また印刷性能に優れた平版印刷版を得ることができる。
[Ethylenically unsaturated compound]
The photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention preferably further contains an ethylenically unsaturated compound. By combining this, a higher sensitivity can be realized, and a lithographic printing plate excellent in printing performance can be obtained.

本発明に係わるエチレン性不飽和化合物としては、分子内に2個以上の重合性二重結合(例えばアクリレート、メタクリレート等)を有する重合性化合物が挙げられる。エチレン性不飽和化合物の例としては、多官能モノマー(例えば1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールグリセロールトリアクリレート、グリセロールエポキシトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等)や多官能オリゴマー(ポリエステルメタクリレート、ウレタンメタクリレート、エポキシメタクリレート等)が挙げられる。   Examples of the ethylenically unsaturated compound according to the present invention include polymerizable compounds having two or more polymerizable double bonds (for example, acrylate, methacrylate, etc.) in the molecule. Examples of ethylenically unsaturated compounds include polyfunctional monomers (eg, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trisacryloyloxyethyl isocyanate). Nurate, tripropylene glycol diacrylate, ethylene glycol glycerol triacrylate, glycerol epoxy triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, etc.) and polyfunctional oligomers (polyester methacrylate, urethane methacrylate, epoxy methacrylate, etc.) ).

エチレン性不飽和化合物の好ましい態様としては、分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以上有する重合性化合物が挙げられる。該化合物を使用した場合に於いて、発生するラジカルにより生成するスチリルラジカル同士の再結合により効果的に架橋を行うため、高感度のネガ型感光性平版印刷版を作製する上で極めて好ましい。分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以上有する重合性化合物は、代表的には下記一般式で表される。   A preferred embodiment of the ethylenically unsaturated compound includes a polymerizable compound having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups in the molecule. When this compound is used, crosslinking is effectively carried out by recombination of styryl radicals generated by the generated radicals, which is extremely preferable for producing a highly sensitive negative photosensitive lithographic printing plate. A polymerizable compound having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups in the molecule is typically represented by the following general formula.

Figure 2008203349
Figure 2008203349

式中、Zは連結基を表し、R31、R32及びR33は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等であり、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等で置換されていても良い。R34はベンゼン環に置換可能な基または原子を表す。mは0〜4の整数を表し、kは2以上の整数を表す。 In the formula, Z 3 represents a linking group, and R 31 , R 32 and R 33 are a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, and an aryl group. An alkoxy group, an aryloxy group, and the like, and these groups may be substituted with an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxy group, or the like. R 34 represents a group or atom substitutable on the benzene ring. m 3 represents an integer of 0 to 4, k 3 is an integer of 2 or more.

更に詳細に説明する。Zの連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−N(R35)−、−C(O)−O−、−C(R36)=N−、−C(O)−、スルホニル基、複素環基等の単独もしくは2以上が複合した基が挙げられる。ここでR35及びR36は水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。更に、上記した連結基には、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。 Further details will be described. As the linking group for Z 3 , an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, —N (R 35 ) —, —C (O) —O—, —C (R 36 ) ═N—, Examples include —C (O) —, a sulfonyl group, a heterocyclic group, or a group in which two or more are combined. Here, R 35 and R 36 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or the like. Furthermore, the above-described linking group may have a substituent such as an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.

上記複素環基としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらには置換基が結合していても良い。   Examples of the heterocyclic group include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thiatriazole ring, indole ring. , Indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline ring, quinoxaline ring, etc. A nitrogen-containing heterocyclic ring, a furan ring, a thiophene ring and the like, and a substituent may be bonded to these.

上記一般式で表される化合物の中でも好ましい化合物が存在する。即ち、R31及びR32は水素原子で、R33は水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)で、kは2〜10の化合物が好ましい。以下に分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以上有する重合性化合物の具体例を示すが、これらの例に限定されるものではない。 Among the compounds represented by the above general formula, there are preferable compounds. That is, R 31 and R 32 are hydrogen atoms, R 33 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.), and k 3 is preferably a compound having 2 to 10. Specific examples of the polymerizable compound having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups in the molecule are shown below, but are not limited to these examples.

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

上記のようなエチレン性不飽和化合物が感光性組成物中に占める割合に関しては好ましい範囲が存在し、全感光性組成物100質量部中においてエチレン性不飽和化合物は1質量部から60質量部の範囲で含まれることが好ましく、さらに5質量部から50質量部の範囲で含まれることが特に好ましい。   There is a preferred range regarding the proportion of the ethylenically unsaturated compound as described above in the photosensitive composition, and the ethylenically unsaturated compound is 1 to 60 parts by mass in 100 parts by mass of the total photosensitive composition. It is preferably included in the range, and more preferably in the range of 5 to 50 parts by mass.

感光層を構成する他の要素として特開2002−244288号、特開2006−39178号公報に記載されているヒンダードアミン化合物を含有する事ができる。   As other elements constituting the photosensitive layer, hindered amine compounds described in JP-A Nos. 2002-244288 and 2006-39178 can be contained.

感光層を構成する他の要素として着色剤の添加も好ましく行うことが出来る。着色剤としては露光および現像処理後に於いて画像部の視認性を高める目的で使用されるものであり、カーボンブラック、フタロシアニン系色素、トリアリールメタン系色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素等の各種の色素および顔料を使用することが出来、重合性二重結合ポリマー1質量部に対して0.005質量部から0.5質量部の範囲で好ましく添加することが出来る。   Addition of a colorant can be preferably performed as another element constituting the photosensitive layer. The colorant is used for the purpose of enhancing the visibility of the image area after exposure and development processing, and includes various types such as carbon black, phthalocyanine dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, and azo dyes. These pigments and pigments can be used, and can be preferably added in the range of 0.005 parts by mass to 0.5 parts by mass with respect to 1 part by mass of the polymerizable double bond polymer.

感光層を構成する要素については上述の要素以外にも種々の目的で他の要素を追加して含有することも出来る。例えば感光層組成物のブロッキングを防止する目的もしくは現像後の画像のシャープネス性を向上させる等の目的で無機物微粒子あるいは有機物微粒子を添加することも好ましく行われる。   Regarding the elements constituting the photosensitive layer, in addition to the elements described above, other elements may be added for various purposes. For example, inorganic fine particles or organic fine particles are also preferably added for the purpose of preventing blocking of the photosensitive layer composition or improving the sharpness of an image after development.

本発明の感光性平版印刷版が有する感光層自体の厚みに関しては、支持体上に0.5μmから10μmの範囲の乾燥厚みで形成することが好ましく、さらに1μmから5μmの範囲であることが耐刷性を大幅に向上させるために極めて好ましい。感光層は上述した要素を混合した溶液を作製し、公知の種々の塗布方式を用いて支持体上に塗布、乾燥される。支持体については、例えばフィルムやポリエチレン被覆紙を使用しても良いが、より好ましい支持体は、研磨され、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板である。以下にアルミニウム支持体の処理方法について説明する。   Regarding the thickness of the photosensitive layer itself of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, it is preferably formed on the support with a dry thickness in the range of 0.5 μm to 10 μm, and more preferably in the range of 1 μm to 5 μm. This is extremely preferable for greatly improving the printability. For the photosensitive layer, a solution in which the above-described elements are mixed is prepared, and is applied onto a support and dried using various known coating methods. As the support, for example, a film or polyethylene-coated paper may be used, but a more preferable support is an aluminum plate that is polished and has an anodized film. Below, the processing method of an aluminum support body is demonstrated.

アルミニウム板は、通常、より好ましい形状に砂目立て処理される。砂目立て処理方法は、特開昭56−28893号公報に開示されているような機械的砂目立て(機械的粗面化処理)、化学的エッチング、電解グレイン等がある。更に、塩酸電解液中または硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学的砂目立て法(電気化学的粗面化処理、電解粗面化処理)や、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法等の機械的砂目立て法(機械的粗面化処理)を用いることができる。これらの砂目立て法は、単独でまたは組み合わせて用いることができる。例えば、ナイロンブラシと研磨剤とによる機械的粗面化処理と、塩酸電解液または硝酸電解液による電解粗面化処理との組み合わせや、複数の電解粗面化処理の組み合わせが挙げられる。   The aluminum plate is usually grained to a more preferable shape. Examples of the graining method include mechanical graining (mechanical surface roughening), chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. In addition, electrochemical graining (electrochemical roughening, electrolytic graining), which is electrochemically grained in hydrochloric acid electrolyte or nitric acid electrolyte, or the aluminum surface is scratched with metal wire Mechanical graining methods (mechanical roughening treatment) such as brush grain method, ball grain method to grain the aluminum surface with abrasive balls and abrasives, brush grain method to grain the surface with nylon brush and abrasives, etc. Can be used. These graining methods can be used alone or in combination. For example, a combination of a mechanical surface roughening treatment with a nylon brush and an abrasive and an electrolytic surface roughening treatment with a hydrochloric acid electrolytic solution or a nitric acid electrolytic solution, or a combination of a plurality of electrolytic surface roughening treatments may be mentioned.

ブラシグレイン法の場合、研磨剤として使用される粒子の平均粒径、最大粒径、使用するブラシの毛径、密度、押し込み圧力等の条件を適宜選択することによって、アルミニウム支持体表面の長い波長成分の凹部の平均深さを制御することができる。ブラシグレイン法により得られる凹部は、平均波長が3〜15μmであるのが好ましく、平均深さが0.3〜1μmであるのが好ましい。   In the case of the brush grain method, the long wavelength of the surface of the aluminum support is selected by appropriately selecting the conditions such as the average particle size, maximum particle size, bristle diameter of the brush used, density, indentation pressure, etc. The average depth of the component recesses can be controlled. The recesses obtained by the brush grain method preferably have an average wavelength of 3 to 15 μm and an average depth of 0.3 to 1 μm.

電気化学的粗面化方法としては、塩酸電解液中または硝酸電解液中で化学的に砂目立てする電気化学的方法が好ましい。好ましい電流密度は、陽極時電気量50〜400C/dmである。更に具体的には、例えば、0.1〜50質量%の塩酸または硝酸を含む電解液中で、温度20〜100℃、時間1秒〜30分、電流密度100〜400C/dmの条件で直流または交流を用いて行われる。電解粗面化処理によれば、表面に微細な凹凸を付与することが容易であるため、感光層とアルミニウム支持体との密着性を向上させるうえでも好適である。 As the electrochemical surface roughening method, an electrochemical method in which graining is chemically performed in a hydrochloric acid electrolytic solution or a nitric acid electrolytic solution is preferable. A preferred current density is 50 to 400 C / dm 2 in terms of electricity at the time of anode. More specifically, for example, in an electrolytic solution containing 0.1 to 50% by mass of hydrochloric acid or nitric acid, under conditions of a temperature of 20 to 100 ° C., a time of 1 second to 30 minutes, and a current density of 100 to 400 C / dm 2 . This is done using direct current or alternating current. According to the electrolytic surface-roughening treatment, it is easy to impart fine irregularities to the surface, which is suitable for improving the adhesion between the photosensitive layer and the aluminum support.

機械的粗面化処理の後の電気化学的粗面化処理により、平均直径約0.3〜1.5μm、平均深さ0.05〜0.4μmのクレーター状またはハニカム状のピットをアルミニウム板の表面に80〜100%の面積率で生成させることができる。なお、機械的粗面化方法を行わずに、電気化学的粗面化方法のみを行う場合には、ピットの平均深さを0.3μm未満とするのが好ましい。設けられたピットは、印刷版の非画像部の汚れにくさ及び耐刷性を向上する作用を有する。電解粗面化処理では、十分なピットを表面に設けるために必要なだけの電気量、即ち、電流と電流を流した時間との積が、重要な条件となる。より少ない電気量で十分なピットを形成できることは、省エネの観点からも望ましい。粗面化処理後の表面粗さは、JIS B0601−1994に準拠してカットオフ値0.8mm、評価長さ3.0mmで測定した算術平均粗さ(Ra)が、0.2〜0.8μmであるのが好ましい。   By electrochemical surface roughening after mechanical surface roughening, crater-like or honeycomb-like pits having an average diameter of about 0.3 to 1.5 μm and an average depth of 0.05 to 0.4 μm are formed on an aluminum plate. It can be made to produce on the surface of 80-100% of area ratio. In the case where only the electrochemical surface roughening method is performed without performing the mechanical surface roughening method, the average pit depth is preferably less than 0.3 μm. The provided pits have the effect of improving the resistance to stains on the non-image area of the printing plate and the printing durability. In the electrolytic surface roughening treatment, an amount of electricity necessary for providing sufficient pits on the surface, that is, the product of the current and the time during which the current flows is an important condition. From the viewpoint of energy saving, it is desirable that sufficient pits can be formed with a smaller amount of electricity. The surface roughness after the roughening treatment is such that the arithmetic average roughness (Ra) measured at a cut-off value of 0.8 mm and an evaluation length of 3.0 mm in accordance with JIS B0601-1994 is 0.2-0. It is preferably 8 μm.

このように砂目立て処理されたアルミニウム板は、化学エッチング処理をされるのが好ましい。化学エッチング処理としては、酸によるエッチングやアルカリによるエッチングが知られているが、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ溶液を用いる化学エッチング処理が挙げられる。   The grained aluminum plate is preferably subjected to chemical etching. As the chemical etching treatment, acid etching or alkali etching is known, and a chemical etching treatment using an alkaline solution is a particularly excellent method in terms of etching efficiency.

前記アルカリ溶液に好適に用いられるアルカリ剤は、特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウム、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウムが挙げられる。アルカリエッチング処理の条件は、Alの溶解量が0.05〜1.0g/mとなるような条件で行うのが好ましい。また、他の条件も、特に限定されないが、アルカリの濃度は1〜50質量%であるのが好ましく、5〜30質量%であるのがより好ましく、また、アルカリの温度は20〜100℃であるのが好ましく、30〜50℃であるのがより好ましい。アルカリエッチング処理は、1種の方法に限らず、複数の工程を組み合わせることができる。なお、本発明においては、機械的粗面化処理の後、電気化学的粗面化処理の前にアルカリエッチング処理を行うこともできる。この場合、Alの溶解量は、0.05〜30g/mとするのが好ましい。 The alkali agent suitably used for the alkaline solution is not particularly limited, and examples thereof include sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. The alkaline etching treatment is preferably performed under such a condition that the amount of dissolved Al is 0.05 to 1.0 g / m 2 . The other conditions are not particularly limited, but the alkali concentration is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and the alkali temperature is 20 to 100 ° C. It is preferable that it is, and it is more preferable that it is 30-50 degreeC. The alkali etching treatment is not limited to one method, and a plurality of steps can be combined. In the present invention, an alkali etching treatment can be performed after the mechanical roughening treatment and before the electrochemical roughening treatment. In this case, the dissolution amount of Al is preferably 0.05 to 30 g / m 2 .

アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。特に、電解粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度で15〜65質量%の硫酸と接触させる方法が挙げられる。   After performing the alkali etching treatment, pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface. Examples of the acid used include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, and borohydrofluoric acid. In particular, as a method for removing smut after the electrolytic surface roughening treatment, it is preferably brought into contact with 15 to 65 mass% sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739. A method is mentioned.

また、化学エッチング処理を酸性溶液で行う場合において、酸性溶液に用いられる酸は、特に限定されないが、例えば、硫酸、硝酸、塩酸が挙げられる。酸性溶液の濃度は、1〜50質量%であるのが好ましい。また、酸性溶液の温度は、20〜80℃であるのが好ましい。   Moreover, when performing a chemical etching process with an acidic solution, the acid used for an acidic solution is not specifically limited, For example, a sulfuric acid, nitric acid, and hydrochloric acid are mentioned. The concentration of the acidic solution is preferably 1 to 50% by mass. Moreover, it is preferable that the temperature of an acidic solution is 20-80 degreeC.

以上のように処理されたアルミニウム板には、更に、陽極酸化処理が施される。陽極酸化処理はこの分野で従来行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等の単独のまたは2種以上を組み合わせた水溶液または非水溶液の中で、アルミニウム板に直流または交流を流すとアルミニウム板の表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。   The aluminum plate treated as described above is further subjected to anodizing treatment. The anodizing treatment can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when direct current or alternating current is applied to an aluminum plate in an aqueous solution or non-aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc., alone or in combination of two or more. An anodized film can be formed on the surface of the aluminum plate.

陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液濃度1〜80質量%、液温−5〜70℃、電流密度0.5〜60A/dm、電圧1〜100V、電解時間10〜200秒であるのが適当である。これらの陽極酸化処理の中でも、英国特許第1,412,768号明細書に記載されている、硫酸電解液中で高電流密度にて陽極酸化処理する方法が特に好ましい。 The conditions for the anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be determined unconditionally. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass, the solution temperature is −5 to 70 ° C., and the current density is 0.8. 5 to 60 A / dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 to 200 seconds are appropriate. Among these anodizing treatments, the method of anodizing at a high current density in a sulfuric acid electrolyte solution described in British Patent 1,412,768 is particularly preferable.

本発明においては、陽極酸化皮膜の量は1〜10g/mであるのが好ましく、1.5〜7g/mであるのがより好ましく、2〜5g/mであるのが特に好ましい。粗面化処理の後、電気化学的粗面化処理の前にアルカリエッチング処理を行うこともできる。この場合、Alの溶解量は、0.05〜30g/mとするのが好ましい。 In the present invention, the amount of anodized layer is preferably from 1 to 10 g / m 2, more preferably from 1.5~7g / m 2, particularly preferably from 2-5 g / m 2 . After the roughening treatment, an alkali etching treatment can be performed before the electrochemical roughening treatment. In this case, the dissolution amount of Al is preferably 0.05 to 30 g / m 2 .

上記のようにして製造されたアルミニウム支持体上に感光層を塗設されて得られた感光性平版印刷版は、感光層に付与された感光域に応じてレーザー走査露光が行われ、露光された部分が架橋することでアルカリ性現像液に対する溶解性が低下することから、後述するアルカリ性現像液により未露光部を溶出することで露光画像のパターン形成が行われる。   The photosensitive lithographic printing plate obtained by coating the photosensitive layer on the aluminum support produced as described above is subjected to laser scanning exposure according to the photosensitive area imparted to the photosensitive layer and exposed. Since the solubility in an alkaline developer is reduced due to crosslinking of the exposed portion, the pattern of the exposed image is formed by eluting the unexposed portion with an alkaline developer described later.

本発明に係わるレーザー走査露光に使用する特に好ましいレーザー光源は、近赤外領域に発振波長を有するレーザーであり、各種半導体レーザー、YAGレーザーやガラスレーザー等の固体レーザーが最も好ましい。   A particularly preferable laser light source used for the laser scanning exposure according to the present invention is a laser having an oscillation wavelength in the near infrared region, and various semiconductor lasers, solid lasers such as YAG lasers and glass lasers are most preferable.

本発明の感光層は、公知の種々の塗布方式を用いて支持体上に塗布、乾燥される。塗布方式としては、例えばロールコーティング、ディップコーティング、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、ホッパーコーティング、ブレードコーティング、ワイヤドクターコーティングなどが挙げられる。   The photosensitive layer of the present invention is coated on a support and dried using various known coating methods. Examples of the coating method include roll coating, dip coating, air knife coating, gravure coating, hopper coating, blade coating, and wire doctor coating.

本発明に用いられるアルカリ性現像液は、25℃におけるpHが10〜12であるのが好ましい。現像液のpHを上記範囲に調整するためのアルカリ性化合物として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、トリエチルアンモニウムハイドロキサイド等が挙げられるが、これらの内、特にアルカノールアミン類が好ましい。さらには、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、ベンジルアルコール等の各種アルコール類をアルカリ性現像液中に添加することも好ましく行われる。また、各種界面活性剤の添加も好ましく行うことが出来る。こうしたアルカリ性現像液を用いて現像処理を行った後に、アラビアガム、デキストリン類等を使用して通常のガム引きが好ましく行われる。   The alkaline developer used in the present invention preferably has a pH of 10 to 12 at 25 ° C. As an alkaline compound for adjusting the pH of the developer to the above range, sodium hydroxide, potassium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methylethanolamine, N-ethylethanolamine, triethylammonium hydroxide Of these, alkanolamines are particularly preferable. Furthermore, it is also preferable to add various alcohols such as ethanol, propanol, isopropanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerin and benzyl alcohol to the alkaline developer. Also, various surfactants can be preferably added. After developing with such an alkaline developer, normal gumming is preferably performed using gum arabic, dextrins, and the like.

以下実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、効果はもとより本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples as well as the effects.

<感光性平版印刷版の作製>
砂目立て及び陽極酸化処理が施された厚み0.24mmのアルミニウム板上に、下記の感光層塗工液を乾燥厚みが3.5μmになるよう塗布を行い、75℃の温風にて乾燥を行い、本発明及び比較の感光性平版印刷版を得た。
<Preparation of photosensitive lithographic printing plate>
The following photosensitive layer coating solution is applied on a 0.24 mm thick aluminum plate that has been grained and anodized to a dry thickness of 3.5 μm, and dried with warm air at 75 ° C. And a photosensitive lithographic printing plate of the present invention and a comparison was obtained.

<本発明の感光層塗工液処方>
重合性二重結合ポリマー(P−1;質量平均分子量約9万) 10質量部
光重合開始剤(表1記載) 2質量部
光重合開始剤トリハロアルキル置換化合物(T−4) 1質量部
増感色素(S−39) 0.4質量部
エチレン性不飽和化合物(C−5) 2質量部
ヒンダードアミン化合物(化28) 1質量部
10%フタロシアニン分散液 0.5質量部
1,4−ジオキサン 70質量部
シクロヘキサノン 20質量部
トコフェロール化合物(表1記載) 0.05質量部
ヒンダードフェノール化合物(2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)(表1記載) 無し又は0.5質量部
<Prescription of photosensitive layer coating solution of the present invention>
Polymerizable double bond polymer (P-1; weight average molecular weight of about 90,000) 10 parts by weight Photopolymerization initiator (described in Table 1) 2 parts by weight Photopolymerization initiator trihaloalkyl-substituted compound (T-4) 1 part by weight Increase Dye-sensitive dye (S-39) 0.4 parts by mass Ethylenically unsaturated compound (C-5) 2 parts by mass Hindered amine compound (Chemical formula 28) 1 part by mass 10% phthalocyanine dispersion 0.5 part by mass 1,4-dioxane 70 Part by mass Cyclohexanone 20 parts by mass Tocopherol compound (described in Table 1) 0.05 part by mass Hindered phenol compound (2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol) (described in Table 1) None or 0.5 Parts by mass

<比較の感光層塗工液処方>
重合性二重結合ポリマー(P−1;質量平均分子量約9万) 10質量部
光重合開始剤(表1記載) 2質量部
光重合開始剤トリハロアルキル置換化合物(T−4) 1質量部
増感色素(S−39) 0.4質量部
エチレン性不飽和化合物(C−5) 2質量部
ヒンダードアミン化合物(化28) 1質量部
10%フタロシアニン分散液 0.5質量部
1,4−ジオキサン 70質量部
シクロヘキサノン 20質量部
ラジカル捕捉剤(表1記載) 無し又は0.05質量部
ヒンダードフェノール化合物(2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)(表1記載) 無し又は0.5質量部
<Comparison of photosensitive layer coating solution>
Polymerizable double bond polymer (P-1; weight average molecular weight of about 90,000) 10 parts by weight Photopolymerization initiator (described in Table 1) 2 parts by weight Photopolymerization initiator trihaloalkyl-substituted compound (T-4) 1 part by weight Increase Dye-sensitive dye (S-39) 0.4 parts by mass Ethylenically unsaturated compound (C-5) 2 parts by mass Hindered amine compound (Chemical formula 28) 1 part by mass 10% phthalocyanine dispersion 0.5 part by mass 1,4-dioxane 70 Parts by mass cyclohexanone 20 parts by mass radical scavenger (described in Table 1) None or 0.05 parts by mass hindered phenol compound (2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol) (described in Table 1) None or 0.5 parts by weight

Figure 2008203349
Figure 2008203349

上記の本発明及び比較の感光性平版印刷版を、白色蛍光灯(三菱電機(株)製白色蛍光ランプFLR40SW/M/36)にて版面が500ルクスになるよう2時間曝露し、本発明及び比較の感光性平版印刷版それぞれについて、セーフライト曝露済みと未曝露のサンプルを得た。   The present invention and the comparative photosensitive lithographic printing plate are exposed for 2 hours with a white fluorescent lamp (white fluorescent lamp FLR40SW / M / 36 manufactured by Mitsubishi Electric Corporation) so that the plate surface becomes 500 lux, and the present invention and Safelight exposed and unexposed samples were obtained for each comparative photosensitive lithographic printing plate.

<適性露光エネルギー量>
上記の比較及び本発明の感光性平版印刷版(セーフライト未曝露サンプル)を、830nm半導体レーザーを搭載した外面ドラム方式プレートセッター大日本スクリーン製造株式会社製PT−R4000を使用して、ドラム回転速度400rpmで、露光エネルギー量を20mJ/cmおきに変化しながらレーザー露光(1200dpi、100線)を行い、露光版を後述する現像処理液にて現像し、50%網点画像が50%から上下2%以内となる露光エネルギー量を各サンプルの適性露光エネルギー量(mJ/cm)として求め表1に記載した。
<Appropriate exposure energy amount>
The above comparison and the photosensitive lithographic printing plate of the present invention (safelight unexposed sample) were subjected to drum rotation speed using PT-R4000 manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. At 400 rpm, laser exposure (1200 dpi, 100 lines) is performed while changing the exposure energy amount every 20 mJ / cm 2 , and the exposed plate is developed with a developing solution described later. The exposure energy amount that is within 2% was determined as the appropriate exposure energy amount (mJ / cm 2 ) of each sample and listed in Table 1.

<レーザー露光>
上記の白色蛍光灯の曝露によって得られたサンプル、更にセーフライト未曝露サンプルを、上記で決定した適性露光エネルギー量にて露光(1200dpi、100線)し、露光済みの版を後述する現像処理にて製版した。
<Laser exposure>
The sample obtained by the exposure of the above white fluorescent lamp, and further the safelight unexposed sample are exposed (1200 dpi, 100 lines) with the appropriate exposure energy amount determined above, and the exposed plate is subjected to the development processing described later. Made a plate.

<現像処理>
現像処理方法は、自動現像機として大日本スクリーン製造株式会社製PS版用自動現像機PD−1310を使用し、下記処方の現像液を使用して現像処理(現像液温度28℃、現像時間20秒処理)を行い、続いて水洗後、下記処方のガム液を塗布し、乾燥し、印刷版を得た。
<Development processing>
The development processing method uses an automatic developing machine PD-1310 for PS plate manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. as an automatic developing machine, and develops using a developer having the following formulation (developing temperature 28 ° C., developing time 20 Second treatment), followed by washing with water, applying a gum solution having the following formulation, and drying to obtain a printing plate.

<現像液>
N−エチルエタノールアミン 37g
85質量%のリン酸水溶液 10g
25質量%の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液 60g
35質量%のアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム水溶液 30g
EDTA2ナトリウム 1g
水で 1L
pH=11.20
<Developer>
N-ethylethanolamine 37g
85 g of phosphoric acid aqueous solution 10 g
60% of 25% by weight tetramethylammonium hydroxide aqueous solution
35% by weight of sodium alkylnaphthalenesulfonate aqueous solution 30g
EDTA2 sodium 1g
1L with water
pH = 11.20

<ガム液>
リン酸1カリウム 5g
アラビアガム 30g
デヒドロ酢酸ナトリウム 0.5g
EDTA2ナトリウム 1g
水で 1L
<Gum solution>
Monopotassium phosphate 5g
Gum arabic 30g
Sodium dehydroacetate 0.5g
EDTA2 sodium 1g
1L with water

<非画像部現像性試験>
上記現像処理で得られた印刷版の非画像部を、ルーペ(倍率50倍)にて観察し、非画像部の残膜を下記基準で評価を行った。尚、評価基準の数値が大きいほど現像性は良い。この結果を表1に記載した。
<非画像部現像性評価基準>
3:非画像部に全く残膜が無い
2:非画像部に点状に残膜が存在する
1:非画像部のほぼ全面に残膜が存在する
<Non-image area developability test>
The non-image area of the printing plate obtained by the development process was observed with a magnifying glass (50 times magnification), and the remaining film of the non-image area was evaluated according to the following criteria. In addition, developability is so good that the numerical value of evaluation criteria is large. The results are shown in Table 1.
<Non-image area developability evaluation criteria>
3: There is no residual film in the non-image area. 2: A residual film exists in the form of dots in the non-image area. 1: A residual film exists on almost the entire surface of the non-image area.

<印刷地汚れ試験>
上記現像処理で得られた印刷版を、印刷機リョービ560に装着し、給湿液として1%東邦精機製トーホーエッチ水溶液、インキとして大日本インキ化学工業製Fグロス紫(ソフトタイプ)を用いて白色コート紙で1000枚印刷を行った(1000枚目をサンプリング)。印刷時の条件は室内の温度が23℃、相対湿度が65%であった。サンプリングした印刷物を目視で観察し、非画像部の地汚れを以下の基準で評価した。尚、評価基準の数値が大きいほど地汚れは良い。この結果を表1に記載した。
<地汚れ評価基準>
3:非画像部に全く地汚れがない
2:非画像部に若干の地汚れがある
1:非画像部に著しい地汚れがある
<Print stain test>
The printing plate obtained by the above development processing is mounted on a printing machine Ryobi 560, using 1% Toho Etch aqueous solution manufactured by Toho Seiki as a moisturizing liquid, and Dainippon Ink & Chemicals F gloss purple (soft type) as ink. 1000 sheets of white coated paper were printed (the 1000th sheet was sampled). The conditions during printing were an indoor temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 65%. The sampled printed matter was visually observed, and the background stain on the non-image area was evaluated according to the following criteria. Note that the greater the numerical value of the evaluation standard, the better the soiling. The results are shown in Table 1.
<Evaluation criteria for dirt>
3: There is no background stain in the non-image area 2: There is a slight background contamination in the non-image area 1: There is significant background contamination in the non-image area

<印刷耐刷性試験>
上記現像処理で得られた印刷版を、印刷機リョービ560に装着し、給湿液として10%イソプロピルアルコール水溶液、インキとして大日本インキ化学工業製Fグロス墨(ハードタイプ)を用いて白色コート紙で10万枚印刷を行った(10万枚目をサンプリング)。印刷時の条件は室内の温度が23℃、相対湿度が65%であった。サンプリングした印刷物の1%網点画像をルーペ(倍率50倍)にて観察し、耐刷性を以下の基準で評価した。尚、評価基準の数値が大きいほど耐刷性は良い。この結果を表1に記載した。
<耐刷性評価基準>
3:1%網点画像が全て残っている
2:1%網点画像の一部が欠損している
1:1%網点画像の殆どが欠損している
<Printing durability test>
The printing plate obtained by the above development processing is mounted on a printing press Ryobi 560, white coated paper using a 10% isopropyl alcohol aqueous solution as a moisturizing liquid, and F gloss ink (hard type) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals as an ink. Printed 100,000 sheets (sampling the 100,000th sheet). The conditions during printing were an indoor temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 65%. A 1% halftone dot image of the sampled printed matter was observed with a magnifying glass (50 times magnification), and printing durability was evaluated according to the following criteria. The larger the evaluation standard value, the better the printing durability. The results are shown in Table 1.
<Evaluation criteria for printing durability>
3: 1% halftone dot images all remain 2: 1% halftone dot images are partially missing 1: 1% halftone dot images are mostly missing

Figure 2008203349
Figure 2008203349

Figure 2008203349
Figure 2008203349

表1の結果より、感光性平版印刷版が白色蛍光灯に長時間曝露される事で、比較の感光性平版印刷版は現像処理性や印刷特性を大きく低下するのに対し、本発明の感光性平版印刷版は現像処理性や印刷特性への影響が極めて小さく、セーフライト性に優れている事が判る。   From the results shown in Table 1, the photosensitive lithographic printing plate is exposed to a white fluorescent lamp for a long time, so that the comparative photosensitive lithographic printing plate significantly deteriorates the development processability and printing characteristics. It can be seen that the lithographic printing plate has very little influence on the development processability and printing characteristics and is excellent in safe light properties.

Claims (2)

支持体上に、側鎖に重合性二重結合を有するモノマーを共重合成分として含むポリマー、光重合開始剤、及びトコフェロール化合物を含む感光層を有することを特徴とするネガ型感光性平版印刷版。   A negative photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing a polymer containing a monomer having a polymerizable double bond in the side chain as a copolymerization component, a photopolymerization initiator, and a tocopherol compound on a support. . 前記感光層が更に、ヒンダードフェノール化合物を含有する請求項1に記載のネガ型感光性平版印刷版。   The negative photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the photosensitive layer further contains a hindered phenol compound.
JP2007036885A 2007-02-16 2007-02-16 Photosensitive lithographic printing plate Pending JP2008203349A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007036885A JP2008203349A (en) 2007-02-16 2007-02-16 Photosensitive lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007036885A JP2008203349A (en) 2007-02-16 2007-02-16 Photosensitive lithographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008203349A true JP2008203349A (en) 2008-09-04

Family

ID=39780963

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007036885A Pending JP2008203349A (en) 2007-02-16 2007-02-16 Photosensitive lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008203349A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015034926A (en) * 2013-08-09 2015-02-19 東京応化工業株式会社 Chemically amplified photosensitive resin composition and production method of resist pattern using the same
WO2016065276A1 (en) * 2014-10-24 2016-04-28 Polyera Corporation Photopatternable compositions and methods of fabricating transistor devices using same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6165235A (en) * 1984-09-06 1986-04-03 Nippon Oil & Fats Co Ltd Photosensitive resin composition
JPH06222554A (en) * 1993-01-21 1994-08-12 Konica Corp Photosensitive planographic printing plate
JP2002258475A (en) * 2001-03-01 2002-09-11 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition, photosensitive element using the same, resist pattern forming method and method for producing circuit board for semiconductor package
JP2006267188A (en) * 2005-03-22 2006-10-05 Mitsubishi Paper Mills Ltd Negative type lithography plate

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6165235A (en) * 1984-09-06 1986-04-03 Nippon Oil & Fats Co Ltd Photosensitive resin composition
JPH06222554A (en) * 1993-01-21 1994-08-12 Konica Corp Photosensitive planographic printing plate
JP2002258475A (en) * 2001-03-01 2002-09-11 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition, photosensitive element using the same, resist pattern forming method and method for producing circuit board for semiconductor package
JP2006267188A (en) * 2005-03-22 2006-10-05 Mitsubishi Paper Mills Ltd Negative type lithography plate

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015034926A (en) * 2013-08-09 2015-02-19 東京応化工業株式会社 Chemically amplified photosensitive resin composition and production method of resist pattern using the same
WO2016065276A1 (en) * 2014-10-24 2016-04-28 Polyera Corporation Photopatternable compositions and methods of fabricating transistor devices using same
CN107003608A (en) * 2014-10-24 2017-08-01 飞利斯有限公司 Photo-patterned composition and the method that transistor device is manufactured using it
US10551745B2 (en) 2014-10-24 2020-02-04 Flexterra, Inc. Photopatternable compositions and methods of fabricating transistor devices using same
CN107003608B (en) * 2014-10-24 2020-09-25 飞利斯有限公司 Photopatternable composition and method for manufacturing transistor device by using same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4299032B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate material
JP4667219B2 (en) Negative photosensitive lithographic printing material
JP2008203349A (en) Photosensitive lithographic printing plate
JP4395276B2 (en) Photosensitive composition
JP4339201B2 (en) Photosensitive composition
JP4472463B2 (en) Photosensitive planographic printing plate
JP2010054878A (en) Method for development processing image forming material
JP2007264497A (en) Photosensitive lithographic printing plate and development processing method using the same
JP4695533B2 (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP4472543B2 (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP2008216749A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP5036586B2 (en) Photosensitive planographic printing plate
JP4378238B2 (en) Photosensitive composition
JP2008249874A (en) Development process liquid and development method for lithographic printing plate
JP5010326B2 (en) Photosensitive planographic printing plate
JP2007147854A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP2007121589A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP4315871B2 (en) Development method for photosensitive lithographic printing plate
JP2011209515A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP2009204874A (en) Photosensitive composition and negative photosensitive lithographic printing plate
JP4299199B2 (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP2011215234A (en) Method for manufacturing photosensitive lithographic printing plate
JP2008026358A (en) Photosensitive lithographic printing plate
JP4425041B2 (en) Photosensitive composition
JP4371688B2 (en) Method for processing photosensitive lithographic printing plate material

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090810

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110427

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110510

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110920