JP2006265567A - プラズマ処理シートの製造装置および製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】投入電力を増大させても、放電の広がり、短絡、アーク放電、ガス雰囲気の性能低下現象が生じ難いプラズマ処理シートの製造装置を提供すること。
【解決手段】対向する放電電極5と対極電極3を有し、放電電極5と対極電極3の間の放電により形成されるプラズマ処理域を連続して走行するシート6が通過するシート走行路を有し、放電電極5または対極電極3の少なくとも一方の電極の表面が誘電体2により被覆されているプラズマ処理シートの製造装置において、プラズマ処理域を外界から実質的に遮蔽するプラズマチャンバ10が設けられ、プラズマチャンバ10に、チャンバ内に希ガス類元素を含有する気体を送給するための気体送給口13、ならびに、シート走行路の入口11および出口12が設けられ、シート走行路の入口11の外側に、走行路の入口11の近傍においてシート走行路に向かい加圧気体を送給する加圧気体送給口31を有する気体チャンバ32を設ける。
【選択図】図1
【解決手段】対向する放電電極5と対極電極3を有し、放電電極5と対極電極3の間の放電により形成されるプラズマ処理域を連続して走行するシート6が通過するシート走行路を有し、放電電極5または対極電極3の少なくとも一方の電極の表面が誘電体2により被覆されているプラズマ処理シートの製造装置において、プラズマ処理域を外界から実質的に遮蔽するプラズマチャンバ10が設けられ、プラズマチャンバ10に、チャンバ内に希ガス類元素を含有する気体を送給するための気体送給口13、ならびに、シート走行路の入口11および出口12が設けられ、シート走行路の入口11の外側に、走行路の入口11の近傍においてシート走行路に向かい加圧気体を送給する加圧気体送給口31を有する気体チャンバ32を設ける。
【選択図】図1
Description
本発明は、プラズマ処理シートの製造装置およびこの装置が用いられて製造されるプラズマ処理されたシートの製造方法に関する。
従来から、樹脂シートの表面を改質するために、例えば、当該シートの表面の接着性、親水性、あるいは、印刷性を改良するために、当該シートをプラズマ雰囲気中で処理することが行われている。
この処理方法および処理装置は、特開平1−138242号公報、特開平4−74525号公報、特開平5−1160号公報に開示されている。これらの文献には、次のプラズマ処理シートの製造装置が開示されている。
対向する放電電極と対極電極を有し、該放電電極と対極電極の間の放電により形成されるプラズマ処理域を連続して走行するシートが通過するシート走行路を有し、前記放電電極または対極電極の少なくとも一方の電極の表面が誘電体により被覆されているプラズマ処理シートの製造装置。
これら従来のプラズマ処理シートの製造装置は、走行する樹脂シートを連続処理するものであるが、特開平4−74525号公報は、その図2に連続処理装置を単に示しているのみで、具体的な連続処理条件は、開示していない。特開平1−138242号公報および特開平5−1160号公報は、連続処理条件を開示するが、樹脂シートの走行速度として、15m/minを教えるに過ぎない。
これら従来のプラズマ処理シートの製造装置において、プラズマ処理による表面の改質効果の向上、および、プラズマ処理中のシートの走行速度の向上による生産コストの低減が要望されている。
改質効果を向上するには、プラズマを発生させるために使用される放電電極と対極電極間に作用する電力(投入電力)の増大が望まれる。特定のガス雰囲気下、例えば、不活性ガス雰囲気下、でプラズマ処理が行われる場合には、そのガス雰囲気が安定して維持されることも望まれる。
改質効果を向上するには、プラズマを発生させるために使用される放電電極と対極電極間に作用する電力(投入電力)の増大が望まれる。特定のガス雰囲気下、例えば、不活性ガス雰囲気下、でプラズマ処理が行われる場合には、そのガス雰囲気が安定して維持されることも望まれる。
シートの走行速度を高めるには、投入電力の増大、および、ガス雰囲気の安定した維持が望まれる。
ところが、投入電力の増大は、放電の広がりをもたらし、その結果、放電電極の近傍にある金属部材への短絡が生じ易くなると云う問題をもたらす。条件によっては、投入電力の増大は、必要とするグロー放電状態をアーク放電状態に移行させてしまうことがあると云う問題を有する。
このような短絡やアーク放電が発生すると、所望のプラズマ状態でのシートの処理が出来なくなり、あるいは、放電電極に供給される放電電流を調製するために設けられた放電電流発生用電源に障害が発生し、プラズマ処理シートの生産の継続が不可能になる。
放電電流発生用電源として共振型電源が用いられることがあるが、その場合には、放電状態によって放電部と電源とのマッチングが変化することがあり、放電部と電源との最適なマッチングの維持が困難になる。従来の装置は、この問題を有する。
特定のガス雰囲気下でプラズマ処理が行われる場合には、目的とするシート表面改質効果を得るために、また、コスト面から、使用されるガスは自づと限定される。所望のガス雰囲気(濃度)の維持は、ガスの供給量を増大させることにより行われるが、コストダウンをもたらすガス使用量の削減には、限界がある。
シートが走行せしめられ連続して処理される場合には、プラズマ処理がなされる処理室の入口部および出口部に、処理室内の雰囲気を安定に保つために、処理室内外の間の気体の流動を極力少なくするためのシール装置が設けられる。
しかし、従来用いられているシール装置では、走行速度が従来よりも高められた高速のシートが処理室内に持ち込む空気(随伴空気)を僅少に抑えることは難しく、処理室内を所定濃度のガス雰囲気に保つのが困難となる。従来の装置は、この問題を有する。
本発明の課題は、従来の装置が有する問題を解決することにある。
本発明は、投入電力を増大させても、放電の広がり、短絡、アーク放電、ガス雰囲気の性能低下現象が生じ難いプラズマ処理シートの製造装置を提供する。
上記課題を解決するための本発明に係るプラズマ処理シートの製造装置の第1の態様は、次の通り。
対向する放電電極と対極電極を有し、該放電電極と対極電極の間の放電により形成されるプラズマ処理域を連続して走行するシートが通過するシート走行路を有し、前記放電電極または対極電極の少なくとも一方の電極の表面が誘電体により被覆されているプラズマ処理シートの製造装置において、該プラズマ処理域を外界から実質的に遮蔽するプラズマチャンバが設けられ、該プラズマチャンバに、該チャンバ内に希ガス類元素を含有する気体を送給するための気体送給口、ならびに、前記シート走行路の入口および出口が設けられ、該シート走行路の入口の外側に、該走行路の入口の近傍において前記シート走行路に向かい加圧気体を送給する加圧気体送給口を有する気体チャンバが設けられたプラズマ処理シートの製造装置。
また、前記放電電極および前記対極電極の少なくとも一方の電極の表面が、誘電体により被覆され、かつ、該誘電体の単位面積当たりの静電容量が、0.13μF/m2から20μF/m2の範囲である請求項1に記載のプラズマ処理シートの製造装置。
プラズマチャンバ内に供給される希ガス類元素およびそれを含有する気体は、前記特開平1−138242号公報あるいは特開平5−1160号公報に開示されている。希ガス類元素の濃度は、少なくとも20モル%であることが好ましい。アルゴンガスが用いられ、酸素濃度が200ppmから2000ppmの範囲に保たれていることが好ましい。
気体送給口から送給される気体は、空気で良い。その流速は、約2m/secから20m/secの範囲が好ましい。
気体送給口から樹脂シート表面に噴射される加圧気体の流れにより、走行速度の早い樹脂シートに随伴してプラズマチャンバへと向かう空気の流れが実質的に遮断される。
気体送給口を有する気体チャンバは、プラズマチャンバの走行路の入口に対し、気体送給口より手前側、すなわち、プラズマチャンバに向かうシートの走行方向の上流側に、気体吸引口が設けられ、この気体吸引口と気体送給口とは、気体循環手段、例えば、気体ブロア、を介して結合されるのが好ましい。これにより、走行速度の早い樹脂シートに随伴してプラズマチャンバへと向かう空気の流れが、更に良く遮断され、かつ、気体送給口から噴出した気体の再使用がなされる。
単位面積当たりの静電容量Cs(F/m2)の定義および測定方法は、次の通り。
定義: Cs=C/S (I)
ここで、Cは、誘電体層の両面に導電板が貼り付けられた時の静電容量(F)、Sは、該導電板の面積(m2)である。
ここで、Cは、誘電体層の両面に導電板が貼り付けられた時の静電容量(F)、Sは、該導電板の面積(m2)である。
測定方法: 誘電体層の両面に導電板が貼り付けられた状態での静電容量Cが、LCRメータ(ヒューレットパッカード社製4284A、測定周波数100kHz近傍)で測定される。測定された静電容量Cと使用された導電板の面積Sが用いられ、式Iにより、単位面積当たりの静電容量Csが、求められる。
単位面積当たりの静電容量が0.13μF/m2から20μF/m2の範囲の誘電体が被覆された電極は、上記定義、測定方法に従って選定される。
単位面積当たりの静電容量Csは、好ましくは、0.16μF/m2から4μF/m2の範囲である。
静電容量Csが、20μF/m2を越える場合は、集中放電が発生し易くなり、放電が不均一になる。静電容量Csが、0.13μF/m2を下回る場合は、放電の広がりが大きくなり、その結果、放電電極の近傍にある金属部材への短絡が生じ易くなる。
電極を被覆する前記誘電体の比誘電率εsは、10以上であることが好ましい。
誘電体の比誘電率εsの定義および測定方法は、次の通り。
定義: εs=D/(ε・E) (II)
ここで、Dは、電束密度(C/m2)、εは、真空中の誘電率(8.854×10−12F/m)、Eは、電界(V/m)である。
ここで、Dは、電束密度(C/m2)、εは、真空中の誘電率(8.854×10−12F/m)、Eは、電界(V/m)である。
比誘電率εsと静電容量Cとの関係は、次の通りである。
εs=C・d/(ε・S) (III)
ここで、dは、導電板間隔(m)である。
ここで、dは、導電板間隔(m)である。
測定方法: LCRメータ(ヒューレットパッカード社製4284A)により、誘電体の静電容量Cが測定される。測定された静電容量C、導電板間隔(誘電体厚み)d、真空中の誘電率(8.854×10−12F/m)、導電板面積Sが用いられ、式IIIにより、比誘電率εsが、求められる。
比誘電率が10以上の誘電体は、上記定義、測定方法に従って選定される。
誘電体の比誘電率εsは、約15から約200までの範囲であることが好ましい。誘電体の厚みdは、0.5mm以上5mm以下の範囲にあることが好ましい。
誘電体は、チタン酸バリウム、チタニア、ジルコニア、マグネシア、イットリアであることが好ましい。
誘電体の比誘電率εsは、約15から約200までの範囲であることが好ましい。誘電体の厚みdは、0.5mm以上5mm以下の範囲にあることが好ましい。
誘電体は、チタン酸バリウム、チタニア、ジルコニア、マグネシア、イットリアであることが好ましい。
誘電体は、チタン酸バリウムだけの1層構造であっても良いが、比誘電率が約7のアルミナの層と比誘電率が約200のチタン酸バリウムの層とからなる2層構造の複合誘電体が好ましく、この複合誘電体の比誘電率が約20乃至約25となるように、これらの誘電体を配合するのが更に好ましい。
対極電極は、固定された回転軸に支持され走行路におけるシート走行方向に回転する1個の回転ロール電極からなるものが、走行する樹脂シートを支持し送給するのに好ましい。この場合、回転ロール電極周面を被覆している誘電体の表面により、走行する樹脂シートが支持される。
この場合、放電電極は、複数列とされ、回転ロール電極の周面の湾曲方向に、間隔をおいて配列されるのが好ましい。これらの放電電極は、前記誘電体による被覆は有さないのが好ましい。
対極電極は、接地された非共振電源に接続されるのが、プラズマ処理時の負荷に依存することなく、放電電流の波形が安定するので、好ましい。
非共振電源とは、電源の発振回路に、負荷(放電部分)回路が含まれない電源、すなわち、負荷回路の共振周波数に影響されにくい電源を云う。この非共振電源として、例えば、RFパワープロダクツ社製LF−30がある。
放電電極は、任意に周波数を選定できる周波数可変電源に接続されても良い。使用される周波数は、約5kHzから約100MHzの範囲であることが好ましい。
複数列設けられた放電電極において、各列独立して、それぞれの放電電力が制御可能であることが好ましい。
複数列設けられた放電電極において、各列独立して、それぞれの放電電力が制御可能であることが好ましい。
この第1の態様によれば、放電電極あるいは対極電極を被覆する誘電体として、単位面積当たりの静電容量が、0.13μF/m2から20μF/m2の範囲ある誘電体が用いられているため、更には、比誘電率が10以上の誘電体が用いられているため、放電電極への投入電力が増大しても、放電の広がりが抑制され、電極近傍の金属部材への短絡が防止される。その結果、従来の装置における場合より、大量の電力を放電電極に供給することが可能になる。
また、電圧値と電流値の積で表される投入電力の増大に当たり、電圧値を抑えて、電流値の増大を図るのが良い。その結果、プラズマ処理に作用する電流密度の増加が可能となる。この電流密度の増加は、電子の数量の増加をもたらす。これは、シートに作用する活性粒子数が増加することを意味する。この活性粒子の増加は、シートの表面改質の効率を高め、シートの走行速度、すなわち、プラズマ処理シートの生産効率を高めることを可能とする。
更に、この場合、電流が流れ易くなるため、投入電力が大きくてもアーク放電が生じ難くなり、良好なグロー放電プラズマによる処理が可能になる。
また、この第1の態様によれば、走行路の入口に隣接して走行シートに対し加圧気体を送給する加圧気体送給口が設けられているため、シートの走行速度が早いために生じるシートが随伴する空気のプラズマチャンバ内への搬入が、実質的に阻止される。その結果、シートが高速で移動していても、プラズマチャンバ内は、所望のガス雰囲気に維持され、安定した放電状態が維持される。これは、高速で走行するシートのプラズマ処理が可能であること、すなわち、プラズマ処理シートの生産性の向上が可能であることを意味する。
なお、次の構成のプラズマ処理シートの製造装置も好ましい。
対向する放電電極と対極電極を有し、該放電電極と対極電極の間の放電により形成されるプラズマ処理域を連続して走行するシートが通過するシート走行路を有し、前記放電電極または対極電極の少なくとも一方の電極の表面が誘電体により被覆されているプラズマ処理シートの製造装置において、該誘電体の単位面積当たりの静電容量が、0.13μF/m2から20μF/m2の範囲であるプラズマ処理シートの製造装置。
第1の態様と前記構成との組合せにより、本発明の課題がよりよく達成される。これにより、樹脂シートの走行速度を従来の2倍あるいはそれ以上にすることが可能となる。例えば、約60m/minの樹脂シートの走行速度が維持された状態で、良好なプラズマ処理が安定してなされる。
上記課題を解決するための本発明に係るプラズマ処理シートの製造装置の第2の態様は、次の通り。
上記第1の態様あるいは上記構成の内の回転ロール電極が設けられた態様において、前記走行するシートの走行方向において、前記複数列の放電電極の最も上流側に位置する放電電極の上流側、および、最も下流側に位置する放電電極の下流側において、当該放電電極に隣接して、放電電力が当該放電電極のそれよりも小さいプラズマ閉じ込め電極が、前記回転ロール電極のロールの表面に対向して、それぞれ設けられたプラズマ処理シートの製造装置。
プラズマ閉じ込め電極の放電電力は、放電電極の放電電力の約1/2から約1/10の範囲であることが好ましい。
プラズマ閉じ込め電極は、前記上流側および下流側に設けられた上で更に、複数列の放電電極の前記走行路の幅方向の両端側に沿って前記走行するシートの走行方向に沿って設けられていても良い。
この第2の態様によれば、プラズマ閉じ込め電極が設けられているため、放電電極への投入電力が増大しても、放電の広がりが抑制され、電極近傍の金属部材への短絡が防止される。その結果、従来の装置における場合より、大量の電力を放電電極に供給することが可能になる。
上記課題を解決するための本発明に係るプラズマ処理シートの製造方法は、次の通り。
上記本発明に係るプラズマ処理シートの製造装置の走行路に、シートが走行せしめられ、プラズマ処理域において、このシートがプラズマ処理されてなるプラズマ処理シートの製造方法。
この製造方法において、プラズマ処理域の雰囲気の圧力は、実質的に大気圧で良い。
この製造方法は、プラズマ処理された樹脂シートの製造に好ましく用いられる。プラズマ処理を受ける樹脂シートの具体例は、前記特開平1−138242号公報に開示されている。この製造方法は、特に、上記特開平5−1160号公報に開示されるポリイミド樹脂シートに好ましく適用される。
この製造方法において、プラズマ処理域の電流密度Cdが、0.1A・分/m2以上であることが好ましい。この電流密度Cdの定義および測定方法は、次の通り。
定義: Cd=I/(w×v) (IV)
ここで、Iは、放電部に流れる電流(A)、wは、シート幅(m)、vは、シートの走行速度(m/分)である。
ここで、Iは、放電部に流れる電流(A)、wは、シート幅(m)、vは、シートの走行速度(m/分)である。
測定方法: 電流検出プローブ(TDK社製CM825A)により放電部の電流が検出され、高速オシロスコープ(ヒューレットパッカード社製54540C)で電流値Iが測定される。測定された電流値I、シート幅w、シートの走行速度vが用いられ、式IVにより、電流密度Cdが、求められる。
本発明に係る装置により、シートの表面改質の処理強度の増大や表面改質されたシートの生産速度の向上が図られる。
本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明に係るプラズマ処理シートの製造装置の一実施態様の縦断面図である。
図1において、この装置は、機台(図示せず)に取り付けられたドラム回転支持軸(図示せず)に回転自在に支持された金属製の回転ドラム1を有する。回転ドラム1は、所定の幅を有し、その周面に、単位面積当たりの静電容量が、0.13μF/m2から20μF/m2の範囲にあり、比誘電率が10以上の誘電体2が貼着されている。誘電体2が貼着された回転ドラム1は、対極電極(回転ロール電極)3を形成する。回転ロール電極3は、回転駆動源(図示せず)により、矢印4が示す方向に回転される。
回転ロール電極3の上方に、回転ロール電極3の表面から一定の間隔をおいて、放電電極5が、回転ロール電極3の幅方向を向いて、機台に固定されて設けられている。放電電極5は、1本の場合もあるが、間隔をおいて、回転ロール電極3の回転方向に、複数本(図では、6本)設けられるのが好ましい。この装置における放電電極5は、誘電体の被覆を有さない金属電極である。
回転ロール電極3と放電電極5との間には、回転ロール電極3の周面の一部区間に沿って、連続して走行するシート6が通過する走行路7が存在する。この装置においては、シート6は、回転ロール電極3の周面に被覆された誘電体2に接触して、実質的に回転ロール電極3の周面速度と同じ速度で、矢印8が示す方向に走行する。
シート6は、所定の幅、例えば、600mm、を有する。回転ロール電極3の幅、および、放電電極5の長さは、このシート6の幅に対応するように設定されている。
放電電極5と回転ロール電極3との間に、プラズマ処理域9が存在する。回転ロール電極3の周面の一部区間と放電電極5とを内包して、機台に固定されたプラズマチャンバ10が設けられている。プラズマチャンバ10は、シート6の走行方向の上流側に走行路の入口11を有し、シート6の走行方向の下流側に走行路の出口12を有する。プラズマチャンバ10の内の雰囲気は、これら走行路の入口11と出口12の部分を除いて、外界雰囲気に対して、実質的に閉じられている。
プラズマチャンバ10には、希ガス元素類を含有する気体(プラズマ処理気体)をプラズマチャンバ10内に送給するための気体送給口13が開口している。気体送給口13は、プラズマ処理気体の供給源(ボンベ)14に、送給管15を介して接続されている。
放電電極5と対極電極である回転ロール電極3との間に所定の電圧をかけ、所定の電流を流すためのプラズマ処理電源16が用意されている。
各列の放電電極5とプラズマ処理電源16とは、第1の電力線17により結合され、回転ロール電極3とプラズマ処理電源16とは、第2の電力線18により結合されている。
第2の電力線18は、接地部19にて接地され、プラズマ処理電源16は、接地された低インピーダンスの非共振型電源を形成している。
放電電極5が複数本ある場合は、プラズマ処理電源16も複数個とし、1本の放電電極5が1個のプラズマ処理電源16に接続されるようにし、各放電電極5が、対応するプラズマ処理電源16により、互いに独立して制御される形式が採用されても良い。
非共振型電源の形式が用いられる場合、プラズマ処理電源16と放電電極5との間に、マッチング回路が介在していることが好ましい。
図2、図3、および、図4に、放電電極5の例が示される。図2に示された放電電極5aは、その先端部(図では、下端部)がナイフエッジ形状からなる。図3に示された放電電極5bは、その先端部(図では、下端部)が多数個の四角錐が千鳥状に配列された形状からなる。図4に示された放電電極5cは、その先端部(図では、下端部)がドーム形状からなる。放電電極5の先端部の突起の形状については、上記特開平5−1160号公報に説明がある。この装置では、図3に示された多数の四角錐を有する形態の放電電極5bが、好ましく使用される。
図5に、回転ロール電極3の一部の断面図が示される。回転ロール電極3は、その周面上に形成されたアルミナからなる第1の誘電体の層21とその上に形成されたチタン酸バリウムからなる第2の誘電体の層22を有する。この2層から複合誘電体が形成される。この複合誘電体の各層の厚みが調整されることにより、回転ロール電極3を被覆する誘電体の比誘電率が10以上に設定される。
回転ロール1自体は、この業界で良く知られているものである。図1に図示はされていないが、プラズマ処理中に回転ロール1に発生する熱を除去するためのラジエーターが、回転ロール1の内部に設けられている。このラジエーターには、外部から冷却水が供給される。
以上に説明された構成からなるプラズマ処理シートの製造装置により、シート6のプラズマ処理が行われる。
シート6の先端は、矢印8が示す方向にて、走行路の入口11からプラズマチャンバ10内に入れられ、走行路の出口12から導出される。シート6は、少なくとも走行路の入口11と出口12との間において、回転ロール電極3の周面に巻きかけられる。
この状態において、プラズマチャンバ10内に、プラズマ処理気体の供給源(ボンベ)14から、送給管15および気体送給口13を経て、プラズマ処理気体が供給される。一方、プラズマ処理電源16が作動せしめられ、放電電極5と回転ロール電極3との電気的作用により、プラズマ処理域9に、グロー放電現象に基づくプラズマが形成される。
この状態において、シート6の走行が開始され、走行されてプラズマチャンバ10内に搬入されるシート6の表面はプラズマ処理を受け、プラズマ処理シートの連続生産が開始される。
この装置においては、シート6の走行速度が、従来の装置における処理可能な速度を越えても、プラズマ処理は、高速下で、安定して遂行される。この高速下でのプラズマ処理が可能になった理由は、この装置における対極電極である回転ロール電極3の表面が、単位面積当たりの静電容量が0.13μF/m2から20μF/m2の範囲の誘電体で被覆されているからである。
一方、シート60走行速度が増すにつれて、シート6に随伴してプラズマチャンバ10内に進入する外界の空気の量が多くなる。その結果、プラズマ処理域9のグロー放電状態が不安定になる現象が現れる。この現象を防ぐため、この装置には、更に、次の手段が装備されている。
図1および図6において、プラズマチャンバ10の外側において、走行路の入口11に隣接して、走行するシート6の表面に向かい加圧気体を送給する加圧気体送給口31を有する気体チャンバ32が、設けられている。気体チャンバ32は、機台に固定されている。
加圧気体送給口31は、シート60走行路7の幅方向に、スリット状に開口している。加圧気体送給口31には、送給される加圧気体を幅方向にわたり均一に噴射するための整流手段、例えば、多孔板からなる整流板が設けられていることが好ましい。
加圧気体送給口31から噴出される気体(空気)は、シート6の走行方向(矢印8)とは反対方向に斜めに、シート6の表面に向かい噴出されるようにされているのが良い。
この手段が装備されることにより、シート6がプラズマチャンバ10内に持ち込む外界の空気の量は、激減し、シート6の走行速度が高められても、プラズマ処理域9におけるプラズマ処理は、安定して継続される。
加圧気体送給口31から噴射された気体(空気)が回収され、再使用されるように、気体チャンバ32には、更に、気体吸引口33および気体循環手段(ブロア)34、ならびに、気体吸引口33と気体循環手段34とを結合する第1の気体流通路35および気体循環手段34と加圧気体送給口31とを結合する第2の気体流通路36が、装備されるのが好ましい。
図7は、図6に示された気体チャンバ32の変形態様の縦断面図である。図7に示される気体チャンバ32は、シート6の走行方向の上流側において、シート6を回転ロール電極3の表面に対しニップするニップ手段41を更に有する。ニップ手段41は、シート6を回転ロール電極3の表面に対しニップするニップロール42とこれを内包するニップチャンバ43からなる。
ニップロール42は、ニップチャンバ43に回転自在に支持されている。ニップロール42は、シート6の走行により回転する従動形式のものでも、あるいは、外部に用意される回転駆動手段に結合された積極駆動形式のものでも良い。
このニップ手段41が装備されることにより、走行するシート6が随伴する空気の量が更に減少する。
このニップ手段41の変形態様が、図1に示される。この変形態様は、変形ニップ手段41aで示される。変形ニップ手段41aは、変形ニップロール42a、この変形ニップロール42aを内包する変形ニップチャンバ43a、および、変形ニップ補助ローラ42bからなる。
変形ニップローラ42aは、その両端部のみにおいて、回転ロール電極3の表面に接触され、その中間部の直径は、両端部の直径より小さくされている。走行するシート6は、回転する変形ニップ補助ローラ42bの周面に接触した後、回転する変形ニップローラ42aの中間部の周面に接触し、次いで、回転ロール電極3の周面に接触する。
この態様により、走行するシート6が随伴する空気の排除が行われる。この態様では、走行するシート6が、図7に示されたニップ手段41の態様におけるように、完全にニップされる状態が生じないので、ニップにより表面に損傷を受け易いシート6の場合は、この態様が適用されるのが好ましい。
プラズマチャンバ10の走行路の出口12の外側に、プラズマチャンバ10から伸びた気体流動防止板51が設けられるのが好ましい。これにより、プラズマチャンバ10内のガスが、シート6に随伴して外界に流出されるのが実質的に防止される。気体流動防止板51のシート6に対向する面(下面)は、ラビリンス構造にされているのが好ましい。
図8は、図1に示した装置における回転ロール電極3の側面とプラズマチャンバ10との間のシール手段の一形態の横断面図である。プラズマチャンバ10の外界に対する密閉性を良くするには、プラズマチャンバ10のシート6の走行方向に沿った両側壁の下端部(スカート部)10aが、回転ロール電極3の両側面の外周端部3aに対し、間隙を有して向かい合うようになされ、この間隙が、下端部10aおよび外周端部3aのいずれかに固定された摺動性の良好な部材からなるシュー61にて、外界に対し閉じられるようにされているのが良い。
図9は、本発明に係るプラズマ処理シートの製造装置の別の一実施態様の縦断面図である。
図9に示される装置において、図1に示された装置と同じ要素は、その要素と同じ符号を有している。図9に示された装置は、放電電極5の外側に、プラズマ閉じ込め電極71a、71bを有する。図9に示された装置は、特にこの構成において、図1に示された装置と異なる。
図9において、プラズマ閉じ込め電極71aは、シート6の走行方向において一番手前の放電電極5の幅方向に沿って、走行路の入口11側に、間隔を置いて、設けられている。プラズマ閉じ込め電極71bは、シート6の走行方向において一番奥の放電電極5の幅方向に沿って、走行路の出口12側に、間隔を置いて、設けられている。これらのプラズマ閉じ込め電極71a、71bの幅方向の長さは、放電電極5のそれと同じかそれよりもやや長い。全体の大きさは、放電電極5よりも小さい。
この関係は、放電電極5とプラズマ閉じ込め電極71a、71bとの配列状態の下面図を示す図10にも示される。
プラズマ閉じ込め電極71a、71bと対極電極である回転ロール電極3との間に放電現象を形成するために、プラズマ閉じ込め電源72が用意されている。
プラズマ閉じ込め電極71a、71bとプラズマ閉じ込め電源72とは、第3の電力線73により結合され、回転ロール電極3とプラズマ閉じ込め電源72とは、第4の電力線74により結合されている。第4の電力線74は、接地部19にて接地されている。
プラズマ閉じ込め電極71a、71bの放電電力は、隣接する放電電極5のそれよりも小さくなるように、プラズマ閉じ込め電源72により制御される。
プラズマ処理時に、プラズマ閉じ込め電極71a、71bが駆動せしめられることにより、放電電極5による放電の拡がりが抑制される。放電の拡がりが抑制されるため、放電電極5が、近傍の金属部材と短絡を起こすことが防止される。プラズマ閉じ込め電極71a、71bの放電電力は、放電電極5の放電電力よりも小さいため、プラズマ閉じ込め電極71a、71bが、近傍の金属部材と短絡を起こすことはない。
プラズマ閉じ込め電極71a、71bが装備されることにより、放電電極5の投入電力を、より高めることが可能となる。そのため、この装置によれば、シート6の表面改質の処理強度ならびに処理速度のより一層の増大が可能となり、プラズマ処理シートの生産性がより一層向上される。
図11は、放電電極5に対するプラズマ閉じ込め電極の設け方の別の態様を示す下面図である。この態様においては、放電電極5が、一連のプラズマ閉じ込め電極75により包囲される。この態様は、放電電極5の放電が、放電電極5の幅方向の両端近傍の金属部材と短絡を起こし易い場合、この短絡現象の発生を防止する。
図9に示された装置では、図1に示された装置の気体流動防止板51に替えて、走行路の入口11側に設けられている気体チャンバ32および変形ニップチャンバ43aと同じ構造を有する気体チャンバ82および変形ニップチャンバ93aが、設けられている。気体チャンバ82および変形ニップチャンバ93aが装備されることにより、プラズマチャンバ10内の雰囲気ガスの外界への流出が防止される。
以上において、本発明に係るプラズマ処理シートの製造装置およびそれによるプラズマ処理シートの製造方法が説明された。
従来の装置においても、放電電極あるいは対極電極が誘電体で被覆されている。この誘電体として、ガラス、雲母、シリコンゴム、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、アルミナが、具体的に用いられている。しかし、これらの誘電体の比誘電率は、10未満である。この従来の装置において用いられているシートの走行速度は、約15m/分から約20m/分の範囲である。
この従来の装置において、プラズマ処理シートの生産性を上げるため、シートの走行速度を上げると、約25m/分に至るまでに、プラズマ処理域におけるプラズマ処理の効果、すなわち、表面改質の効果が落ち始めるのが観測された。
この効果の下落を防止するために、プラズマ処理時の投入電力を増大すると、プラズマ処理域で、異常放電現象が生じることが観測された。
プラズマ処理シートの製造装置およびそれによるプラズマ処理シートの製造方法は、シートの処理速度を上げるに際に生じるこれらの現象の発生を防止することに成功している。
本発明は、従来の装置では達成出来なかった、シートの走行速度が約20m/分以上でのシートのグロー放電下のプラズマ処理を可能にした。現在のところ、ポリイミドシートの走行速度が約45m/分でも処理が可能なことが確認された。
本発明により、シートの走行速度が20m/分以上でも、シートの表面改質に必要な安定したプラズマが維持されるプラズマ処理シートの製造装置および製造方法が提供される。
1:回転ドラム
2:誘電体
3:対極電極
5:放電電極
6:シート
9:プラズマ処理域
10:プラズマチャンバ
11:走行路の入口
12:走行路の出口
13:気体送給口
14:ボンベ
16:プラズマ処理電源
21:第1の誘電体の層
22:第2の誘電体の層
31:加圧気体送給口
32:気体チャンバ
33:気体吸引口
34:気体循環手段
41:ニップ手段
42:ニップロール
43:ニップチャンバ
2:誘電体
3:対極電極
5:放電電極
6:シート
9:プラズマ処理域
10:プラズマチャンバ
11:走行路の入口
12:走行路の出口
13:気体送給口
14:ボンベ
16:プラズマ処理電源
21:第1の誘電体の層
22:第2の誘電体の層
31:加圧気体送給口
32:気体チャンバ
33:気体吸引口
34:気体循環手段
41:ニップ手段
42:ニップロール
43:ニップチャンバ
Claims (16)
- 対向する放電電極と対極電極を有し、該放電電極と対極電極の間の放電により形成されるプラズマ処理域を連続して走行するシートが通過するシート走行路を有し、前記放電電極または対極電極の少なくとも一方の電極の表面が誘電体により被覆されているプラズマ処理シートの製造装置において、該プラズマ処理域を外界から実質的に遮蔽するプラズマチャンバが設けられ、該プラズマチャンバに、該チャンバ内に希ガス類元素を含有する気体を送給するための気体送給口、ならびに、前記シート走行路の入口および出口が設けられ、該シート走行路の入口の外側に、該走行路の入口の近傍において前記シート走行路に向かい加圧気体を送給する加圧気体送給口を有する気体チャンバが設けられたプラズマ処理シートの製造装置。
- 前記放電電極および前記対極電極の少なくとも一方の電極の表面が、誘電体により被覆され、かつ、該誘電体の単位面積当たりの静電容量が、0.13μF/m2から20μF/m2の範囲である請求項1に記載のプラズマ処理シートの製造装置。
- 前記対極電極が、固定された回転軸に支持され、前記走行路のシート走行方向に回転する1個の回転ロール電極からなり、該回転ロール電極の表面が前記誘電体により被覆され、前記放電電極が、前記誘電体による被覆を有さない少なくとも1つの固定電極からなる請求項2に記載のプラズマ処理シートの製造装置。
- 前記対極電極が、接地された非共振型電源に接続されている請求項3に記載のプラズマ処理シートの製造装置。
- 前記放電電極が、複数列設けられ、各列の放電電極に作用する放電電力が、相互に独立して制御可能である請求項4に記載のプラズマ処理シートの製造装置。
- 前記誘電体の比誘電率が、10以上である請求項2乃至5のいずれかに記載のプラズマ処理シートの製造装置。
- 前記誘電体の厚みが、0.5mmから5mmの範囲である請求項6に記載のプラズマ処理シートの製造装置。
- 前記誘電体が、チタン酸バリウム、チタニア、ジルコニア、マグネシア、および、イットリアの群の中から選択された少なくとも1つの誘電体である請求項7に記載のプラズマ処理シートの製造装置。
- 前記気体チャンバに、前記加圧気体送給口から供給された気体を排出する気体吸引口が、前記加圧気体送給口に対し前記走行路の入口の側とは反対側に設けられ、該気体吸引口から吸引された気体を加圧して前記加圧気体送給口に供給する気体循環手段が設けられた請求項1乃至5のいずれかに記載のプラズマ処理シートの製造装置。
- 前記走行するシートの走行方向において、前記複数列の放電電極の最も上流側に位置する放電電極の上流側、および、最も下流側に位置する放電電極の下流側において、当該放電電極に隣接して、放電電力が当該放電電極のそれよりも小さいプラズマ閉じ込め電極が、前記回転ロール電極のロールの表面に対向して、それぞれ設けられた請求項3乃至5のいずれかに記載のプラズマ処理シートの製造装置。
- 請求項1乃至10のいずれかに記載のプラズマ処理シートの製造装置の走行路に、シートが走行せしめられ、プラズマ処理域において、該シートがプラズマ処理されてなるプラズマ処理シートの製造方法。
- 前記プラズマ処理域が、実質的に大気圧である請求項11に記載のプラズマ処理シートの製造方法。
- 前記希ガス類元素がアルゴンである請求項12に記載のプラズマ処理シートの製造方法。
- 前記シートが、樹脂からなるシートである請求項13に記載のプラズマ処理シートの製造方法。
- 前記樹脂が、ポリイミドである請求項14に記載のプラズマ処理シートの製造方法。
- 前記プラズマ処理域の電流密度が、0.1A・分/m2以上である請求項15に記載のプラズマ処理シートの製造方法。
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