JP2006258845A - Pattern forming device and head correcting method - Google Patents

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Masayuki Murata
村田  正幸
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming device or the like of which the operating ratio can be improved by reducing a time required for position adjustment of a head therein. <P>SOLUTION: In a pattern forming device 1, a suction table 3 supporting a substrate 13 is provided with a camera 7, and a processing part 2 is provided with a camera 21. The pattern forming device 1 detects a position or the like of a head 29 of the processing part 2 by the camera 7 and detects an impact position or the like of ink on the substrate 13 by the camera 21. The pattern forming device 1 uses picked-up images of cameras 7 and 12 to calculate correction data 53 for correcting the position of the head 29 and the position of the substrate 13. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、カラーフィルタ等のパターンを形成するパターン形成装置等に関する。詳細には、ヘッド等の位置を補正可能なパターン形成装置等に関する。   The present invention relates to a pattern forming apparatus for forming a pattern such as a color filter. Specifically, the present invention relates to a pattern forming apparatus that can correct the position of a head or the like.

従来、基板上に液晶ディスプレイ、有機EL(organic ElectroLuminescence)等に用いるカラーフィルタのパターンを形成する方法として、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法等の各種方法がある。   Conventionally, there are various methods such as a dyeing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, and a printing method as a method for forming a color filter pattern used for a liquid crystal display, organic EL (organic Electroluminescence), etc. on a substrate.

また、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色のインクをインクジェット方式により基板上に吐出して着色層パターンを形成するパターン形成装置が提案されている(例えば、[特許文献1]参照。)。
このインクジェット方式によれば、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色のパターン形成を一度の工程により行い、製造工程を簡素化することができるので、コストの低減、歩留まりの向上等を図ることができる。
In addition, there has been proposed a pattern forming apparatus that forms a colored layer pattern by ejecting ink of three colors of R (red), G (green), and B (blue) onto a substrate by an ink jet method (for example, [Patents] Reference 1]).
According to this ink jet method, pattern formation of three colors of R (red), G (green), and B (blue) can be performed in a single process, and the manufacturing process can be simplified, thereby reducing cost and yield. The improvement etc. can be aimed at.

また、複数のインクジェットヘッドを備え、各インクジェットヘッドの間隔を調整可能な位置調整機構を設けることにより、インクジェットヘッドの位置合わせに要する時間の短縮を図るインクジェットヘッドユニットが提案されている(例えば、[特許文献2]参照。)。   In addition, there has been proposed an inkjet head unit that includes a plurality of inkjet heads and is provided with a position adjustment mechanism that can adjust the interval between the inkjet heads, thereby reducing the time required for alignment of the inkjet heads (for example, [[ (See Patent Document 2]).

特開2002−361852号公報JP 2002-361852 A 特開2001−330720号公報JP 2001-330720 A

しかしながら、従来の技術では、位置調整に係る補正量を迅速に取得することが困難であり、ヘッドの位置調整に相当の時間を要し、生産効率が悪化するという問題点がある。   However, in the conventional technique, it is difficult to quickly obtain the correction amount related to the position adjustment, and it takes a considerable time to adjust the position of the head, and there is a problem that the production efficiency is deteriorated.

本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、パターン形成装置におけるヘッドの位置調整に要する時間を削減し、パターン形成装置の稼働率を向上させることを可能とする、パターン形成装置等を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and reduces the time required for head position adjustment in the pattern forming apparatus and makes it possible to improve the operating rate of the pattern forming apparatus. The purpose is to provide.

前述した目的を達成するために第1の発明は、基板に対して相対的に移動可能なヘッドによる加工処理を行い前記基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、前記ヘッドを撮像可能な第1撮像装置、前記基板を撮像可能な第2撮像装置の少なくともいずれかを具備することを特徴するパターン形成装置である。   In order to achieve the above-described object, the first invention is a pattern forming apparatus that forms a pattern on the substrate by performing processing with a head that is movable relative to the substrate, and can image the head. A pattern forming apparatus comprising at least one of a first imaging device and a second imaging device capable of imaging the substrate.

第1の発明のパターン形成装置は、所定のパターンを形成可能である場合、第1撮像装置または第2撮像装置の少なくともいずれかによりヘッドまたは基板の少なくともいずれかの基準部位を撮像して登録し、当該所定のパターンと同一のパターンを形成する際、第1撮像装置または第2撮像装置の少なくともいずれかによる撮像データと登録した撮像データとの差異に基づいて補正データを算出し、補正データに基づいてヘッドの位置、基板の位置、加工タイミング等を補正することができる。   In the pattern forming apparatus of the first invention, when a predetermined pattern can be formed, at least one of the first imaging device or the second imaging device images and registers at least one reference portion of the head or the substrate. When forming the same pattern as the predetermined pattern, the correction data is calculated based on the difference between the imaging data by at least one of the first imaging device and the second imaging device and the registered imaging data, and the correction data Based on this, the position of the head, the position of the substrate, the processing timing, etc. can be corrected.

また、第1の発明のパターン形成装置は、第1撮像装置または第2撮像装置の少なくともいずれかによりヘッドまたは基板の少なくともいずれかの基準部位を撮像し、撮像画像上の任意の位置が指定されると、撮像画像上における基準部位の位置と指定位置とに基づいて補正データを算出し、補正データに基づいてヘッドの位置、基板の位置、加工タイミング等を補正することができる。
尚、補正後の位置のみならず、補正前の基準部位の位置を撮像画像上において指定するようにしてもよい。
In the pattern forming apparatus of the first invention, at least one of the first imaging device and the second imaging device captures an image of at least one of the reference portions of the head or the substrate, and an arbitrary position on the captured image is designated. Then, correction data can be calculated based on the position of the reference part and the designated position on the captured image, and the position of the head, the position of the substrate, the processing timing, and the like can be corrected based on the correction data.
Note that not only the corrected position but also the position of the reference part before correction may be designated on the captured image.

第1撮像装置は、対象物を撮像する撮像装置であり、例えば、CCDカメラ(Charge Coupled Device)である。第1撮像装置は、基板を支持する基板支持部に設けることが望ましい。基板支持部は、例えば、基板を吸着して支持する吸着テーブルである。
第2撮像装置は、対象物を撮像する撮像装置であり、例えば、CCDカメラ(Charge Coupled Device)である。第2撮像装置は、ヘッドを支持するヘッド支持部に設けることが望ましい。ヘッド支持部は、例えば、少なくとも1つのヘッドが設けられる加工部を支持し、所定の方向(Y方向)のスライドレールに沿って移動するスライダである。
The first imaging device is an imaging device that images a target object, and is, for example, a CCD camera (Charge Coupled Device). The first imaging device is preferably provided on a substrate support unit that supports the substrate. The substrate support unit is, for example, a suction table that sucks and supports a substrate.
The second imaging device is an imaging device that images a target object, and is, for example, a CCD camera (Charge Coupled Device). The second imaging device is preferably provided in a head support portion that supports the head. The head support portion is, for example, a slider that supports a processing portion provided with at least one head and moves along a slide rail in a predetermined direction (Y direction).

ヘッドの基準部位は、第1撮像装置による撮像対象を示し、例えば、ヘッドのノズル孔、ヘッドあるいはノズル孔の位置を示すマーク等である。
基板の基準部位は、第2撮像装置による撮像対象を示し、例えば、ヘッドから吐出されるインクの着弾位置等である。
加工処理は、基板に対してヘッドが行う処理であり、例えば、インク塗布処理、レーザ照射処理である。
The reference portion of the head indicates an object to be imaged by the first imaging device, and is, for example, a nozzle hole of the head, a mark indicating the position of the head or the nozzle hole, or the like.
The reference portion of the substrate indicates an object to be imaged by the second imaging device, and is, for example, a landing position of ink ejected from the head.
The processing process is a process performed by the head on the substrate, for example, an ink application process or a laser irradiation process.

第1の発明では、パターン形成装置は、第1撮像装置あるいは第2撮像装置によりヘッドの位置あるいは基板上の着弾位置等を検出して補正データを算出し、補正データに基づいてヘッドの位置、基板の位置、加工タイミング等を補正するので、ヘッドあるいは基板の位置等の位置調整に要する時間を軽減することができる。ひいては、生産コストの軽減、生産効率の向上を図ることができる。   In the first invention, the pattern forming apparatus calculates the correction data by detecting the position of the head or the landing position on the substrate by the first imaging apparatus or the second imaging apparatus, and based on the correction data, Since the position of the substrate, the processing timing, and the like are corrected, the time required for adjusting the position of the head or the substrate can be reduced. As a result, production costs can be reduced and production efficiency can be improved.

第2の発明は、基板を支持する基板支持部であって、上方の対象物を撮像可能な第1撮像装置を備えることを特徴とする基板支持部である。
第1撮像装置は、基板に対して相対的に移動可能なヘッドの位置を検出することが望ましい。
2nd invention is a board | substrate support part which is a board | substrate support part which supports a board | substrate, Comprising: The 1st imaging device which can image an upper target object is provided.
It is desirable for the first imaging device to detect the position of the head that can move relative to the substrate.

第2の発明は、第1の発明のパターン形成装置における基板支持部に関する発明である。   The second invention is an invention relating to the substrate support in the pattern forming apparatus of the first invention.

第3の発明は、加工処理を行うヘッドを支持するヘッド支持部であって、下方の対象物を撮像可能な第2撮像装置を備えることを特徴とするヘッド支持部である。
第2撮像装置は、ヘッドに対して相対的に移動可能な基板におけるヘッドからの吐出物の着弾位置を検出することが望ましい。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a head support unit that supports a head that performs processing, and includes a second imaging device that can image a lower object.
It is desirable for the second imaging device to detect the landing position of the ejected matter from the head on the substrate that can move relative to the head.

第3の発明は、第1の発明のパターン形成装置におけるヘッド支持部に関する発明である。   A third invention is an invention relating to the head support portion in the pattern forming apparatus of the first invention.

第4の発明は、基板に対して相対的に移動可能であり所定の処理を行うヘッドの補正方法であって、所定のパターンを形成可能である場合、第1撮像装置により前記ヘッドの基準部位を撮像して登録する第1登録ステップ、第2撮像装置により前記基板の基準部位を撮像して登録する第2登録ステップの少なくともいずれかと、前記所定のパターンと同一のパターンを形成する際、前記第1撮像装置による撮像データと前記第1登録ステップにより登録した撮像データとの差異に基づいて補正データを算出する第1補正データ算出ステップ、前記第2撮像装置による撮像データと前記第2登録ステップにより登録した撮像データとの差異に基づいて補正データを算出する第2補正データ算出ステップの少なくともいずれかと、前記補正データに基づいて前記ヘッドの位置、前記基板の位置、処理タイミングの少なくともいずれかを補正する補正ステップと、を具備することを特徴とするヘッドの補正方法である。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a correction method for a head that is movable relative to a substrate and performs a predetermined process, and when a predetermined pattern can be formed, the first imaging device uses the reference portion of the head. When forming a pattern identical to the predetermined pattern with at least one of a first registration step for imaging and registering, and a second registration step for imaging and registering a reference portion of the substrate with a second imaging device, A first correction data calculating step for calculating correction data based on a difference between the imaging data by the first imaging device and the imaging data registered by the first registration step; the imaging data by the second imaging device and the second registration step; At least one of a second correction data calculation step for calculating correction data based on a difference from the imaging data registered by the correction data, and the correction data Based on the position of the head, the position of the substrate, a head correction method characterized by comprising a correction step of correcting at least one of the processing timing.

第5の発明は、基板に対して相対的に移動可能であり所定の処理を行うヘッドの補正方法であって、前記第1撮像装置により前記ヘッドの基準部位を撮像し、撮像画像上の任意の位置を指定する第1位置指定ステップ、前記第2撮像装置により前記基板の基準部位を撮像し、撮像画像上の任意の位置を指定する第2位置指定ステップの少なくともいずれかと、前記撮像画像上における前記基準部位の位置と前記指定した位置とに基づいて補正データを算出する第3補正データ算出ステップと、前記補正データに基づいて前記ヘッドの位置、前記基板の位置、処理タイミングの少なくともいずれかを補正する補正ステップと、を具備することを特徴とするヘッドの補正方法である。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a correction method for a head that is movable relative to a substrate and performs a predetermined process, wherein the first imaging device captures an image of a reference portion of the head, and an arbitrary image on the captured image. At least one of a first position designating step for designating a position of the image, an image of a reference part of the substrate by the second imaging device, and designating an arbitrary position on the captured image; A third correction data calculation step for calculating correction data based on the position of the reference portion and the designated position in the head; and at least one of the position of the head, the position of the substrate, and the processing timing based on the correction data And a correction step for correcting the head.

第4の発明及び第5の発明は、第1の発明のパターン形成装置におけるヘッドの補正方法に関する発明である。   4th invention and 5th invention are the invention regarding the correction method of the head in the pattern formation apparatus of 1st invention.

本発明によれば、パターン形成装置におけるヘッドの位置調整に要する時間を削減し、パターン形成装置の稼働率を向上させることを可能とする、パターン形成装置等を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the pattern formation apparatus etc. which make it possible to reduce the time required for the position adjustment of the head in a pattern formation apparatus and to improve the operation rate of a pattern formation apparatus can be provided.

以下、添付図面を参照しながら、本発明に係るパターン形成装置等の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明及び添付図面において、略同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略することにする。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of a pattern forming apparatus and the like according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description and the accompanying drawings, the same reference numerals are given to components having substantially the same functional configuration, and redundant description will be omitted.

最初に、図1を参照しながら、本発明の実施の形態に係るパターン形成装置1の構成について説明する。
以下、パターン形成装置1は、主としてインクジェット方式によりパターン形成を行うものとして説明する。尚、インクジェット方式のみならず、レーザ照射によりパターン形成を行う場合についても本実施形態に示す技術を適用することができる。
First, the configuration of the pattern forming apparatus 1 according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
Hereinafter, description will be made assuming that the pattern forming apparatus 1 performs pattern formation mainly by an ink jet method. Note that the technique shown in this embodiment can be applied not only to the ink jet system but also to the case where pattern formation is performed by laser irradiation.

図1は、パターン形成装置1の概略斜視図である。
尚、θ軸は鉛直方向回転軸を示し、θ方向はその回転方向を示す。Y軸はパターニングピッチ方向を示し、X軸はパターンニング方向を示し、θ軸、Y軸、X軸は、互いに直角をなす。
FIG. 1 is a schematic perspective view of the pattern forming apparatus 1.
The θ axis indicates the vertical rotation axis, and the θ direction indicates the rotation direction. The Y axis indicates the patterning pitch direction, the X axis indicates the patterning direction, and the θ axis, the Y axis, and the X axis are perpendicular to each other.

図1に示すパターン形成装置1は、加工部2、吸着テーブル3、X方向移動ステージ5、θ方向移動ステージ9、アライメントカメラ11等により構成される。   A pattern forming apparatus 1 shown in FIG. 1 includes a processing unit 2, a suction table 3, an X direction moving stage 5, a θ direction moving stage 9, an alignment camera 11, and the like.

パターン形成装置1は、インクジェット方式によりカラーフィルタを製造する装置である。パターン形成装置1は、R(赤)、G(緑)、B(青)の三色の色素を含有するインクをインクジェット方式で光透過性の基板上に吐出し、各インクを硬化させて着色画素部を形成し、当該基板上にカラーフィルタパターンを形成する。   The pattern forming apparatus 1 is an apparatus that manufactures a color filter by an inkjet method. The pattern forming apparatus 1 discharges ink containing three color pigments of R (red), G (green), and B (blue) onto a light-transmitting substrate by an inkjet method, and cures and colors each ink. A pixel portion is formed, and a color filter pattern is formed on the substrate.

加工部2は、ベース25に少なくとも1つのヘッド29が配置されて構成される。
ヘッド29は、基板13にインク塗布、レーザ照射等の加工処理を行う装置であり、例えば、インクジェットヘッド、レーザ照射ヘッド等である。加工部2は、Y方向移動機構15(スライダ17、スライドレール19等)、回転機構23等を介して、ガントリ21に設けられる。加工部2は、基板13に対してヘッド29からインク等を吐出したり、レーザ照射することによりパターン形成を行う。
The processing unit 2 is configured by arranging at least one head 29 on a base 25.
The head 29 is a device that performs processing such as ink application and laser irradiation on the substrate 13, and is, for example, an inkjet head or a laser irradiation head. The processing unit 2 is provided in the gantry 21 via a Y-direction moving mechanism 15 (slider 17, slide rail 19 and the like), a rotating mechanism 23 and the like. The processing unit 2 forms a pattern by ejecting ink or the like from the head 29 or irradiating the substrate 13 with a laser.

加工部2は、Y方向移動機構15によりY方向に移動可能である。Y方向移動機構15による位置制御により、加工部2のY方向の位置調整を行うことができる。また、加工部2は、回転機構23によりθ方向に回転可能である。回転機構23による位置制御により、加工部2のθ方向の位置調整を行うことができる。
尚、加工部2の詳細については、後述する。
The processing unit 2 is movable in the Y direction by the Y direction moving mechanism 15. By the position control by the Y-direction moving mechanism 15, the position of the processing unit 2 in the Y direction can be adjusted. Further, the processing unit 2 can be rotated in the θ direction by the rotation mechanism 23. Position control in the θ direction of the processing unit 2 can be performed by position control by the rotation mechanism 23.
Details of the processing unit 2 will be described later.

Y方向移動機構15としては、汎用のものを用いることができ、例えば、リニアモータ、スライド機構等を用いることができる。また、回転機構23としては、ダイレクトドライブモータ等を用いることができる。
また、θ軸鉛直回転軸方向に上下移動機構を設けてもよい。また、スライドレール際にリニアスケール等の精密測長手段を配置し、直線移動を駆動するモータをフィードバック制御する。
As the Y-direction moving mechanism 15, a general purpose one can be used, and for example, a linear motor, a slide mechanism, or the like can be used. Further, as the rotation mechanism 23, a direct drive motor or the like can be used.
Further, a vertical movement mechanism may be provided in the θ-axis vertical rotation axis direction. In addition, precision length measuring means such as a linear scale is arranged on the slide rail, and the motor that drives linear movement is feedback controlled.

吸着テーブル3は、カラーフィルタパターンを形成する対象となる基板13(ガラス基板、フィルム基板等)を吸着して固定するテーブルである。基板の吸着は、例えば、吸着テーブルと基板との間の空気を減圧、真空にすることにより行われる。この場合、吸着テーブルには、空気を吸引するための小孔(図示しない。)が設けられ、吸着の際には当該孔を通じて真空ポンプ(図示しない。)等により空気の吸引が行われる。   The suction table 3 is a table that sucks and fixes a substrate 13 (glass substrate, film substrate, or the like) that is a target for forming a color filter pattern. The adsorption of the substrate is performed, for example, by reducing the pressure and vacuum of the air between the adsorption table and the substrate. In this case, the suction table is provided with a small hole (not shown) for sucking air, and at the time of suction, air is sucked by a vacuum pump (not shown) or the like through the hole.

X方向移動ステージ5は、直線移動ステージであり、例えば、ステップモータ、サーボモータ、リニアモータ等の制御可能なモータによって所定の軸方向に移動可能に支持される。X方向移動ステージ5は、制御部41が出力する制御量に基づいて、吸着テーブル3をX方向に移動する。また、X方向移動ステージ5の直線移動には、スライドレールの際にリニアスケール等の精密測長手段を配置し、モータにフィードバックして制御する。   The X direction moving stage 5 is a linear moving stage and is supported so as to be movable in a predetermined axial direction by a controllable motor such as a step motor, a servo motor, or a linear motor. The X-direction moving stage 5 moves the suction table 3 in the X direction based on the control amount output from the control unit 41. Further, for linear movement of the X-direction moving stage 5, precision length measuring means such as a linear scale is arranged at the time of the slide rail, and is controlled by feedback to the motor.

尚、Y方向に関しては、吸着テーブル3側に、X方向移動ステージ5と同様の機構を有するY方向移動ステージ(図示しない。)を設けてもよいし、図1に示すように、加工部2側にY方向移動機構15を設けるようにしてもよい。   Regarding the Y direction, a Y-direction moving stage (not shown) having the same mechanism as the X-direction moving stage 5 may be provided on the suction table 3 side, or as shown in FIG. A Y-direction moving mechanism 15 may be provided on the side.

θ方向移動ステージ9は、回転ステージであり、例えば、ステップモータ、サーボモータ、ダイレクトドライブモータ等の制御可能なモータによって所定の回転軸に回転自在に支持される。θ方向移動ステージ9は、制御部41が出力する制御量に基づいて、吸着テーブル3を回転する。   The θ-direction moving stage 9 is a rotating stage and is rotatably supported on a predetermined rotating shaft by a controllable motor such as a step motor, a servo motor, a direct drive motor, or the like. The θ-direction moving stage 9 rotates the suction table 3 based on the control amount output from the control unit 41.

カメラ7は、吸着テーブル3に設けられ、上方の対象物を撮像可能な撮像装置である。カメラ7は、加工部2の所定の箇所を撮像し、ヘッド29のノズル孔31の位置等を検出する。
カメラ21は、加工部2を支持するスライダ17に設けられ、下方の対象物を撮像可能な撮像装置である。カメラ21は、基板13におけるインク等の着弾位置等を検出するために、基板21の所定の箇所を撮像する。
カメラ7及びカメラ21は、例えば、CCDカメラ(Charge Coupled Device)等の画像処理カメラである。カメラ7及びカメラ21は、対象物を撮影し、取得した画像データを画像処理することにより、対象物の位置、対象物の所定部位等を検出することができる。
The camera 7 is an imaging device that is provided on the suction table 3 and that can image an upper object. The camera 7 images a predetermined portion of the processing unit 2 and detects the position of the nozzle hole 31 of the head 29 and the like.
The camera 21 is an image pickup apparatus that is provided on the slider 17 that supports the processing unit 2 and can pick up an image of an object below. The camera 21 images a predetermined portion of the substrate 21 in order to detect the landing position of ink or the like on the substrate 13.
The camera 7 and the camera 21 are image processing cameras such as a CCD camera (Charge Coupled Device), for example. The camera 7 and the camera 21 can detect the position of the target, a predetermined part of the target, and the like by photographing the target and performing image processing on the acquired image data.

アライメントカメラ11は、吸着テーブル3に吸着固定された基板13のθ方向角度及びXY座標を検出するために、基板13の所定箇所(基板上に形成されるアライメントマーク(図示しない。)等)を撮像するカメラである。アライメントカメラ11の撮像画像は、パターン形成装置1の制御部41に入力される。
尚、アライメントカメラ11は、パターン形成装置1のフレーム(図示しない。)に固定支持される。
The alignment camera 11 detects a predetermined angle (an alignment mark (not shown) or the like formed on the substrate) on the substrate 13 in order to detect the θ-direction angle and XY coordinates of the substrate 13 that is attracted and fixed to the adsorption table 3. A camera for imaging. The captured image of the alignment camera 11 is input to the control unit 41 of the pattern forming apparatus 1.
The alignment camera 11 is fixedly supported on a frame (not shown) of the pattern forming apparatus 1.

制御部41は、パターン形成装置1を構成する各種機器の動作を制御したり、演算処理等を行う装置であり、例えば、コンピュータ等である。制御部41は、CPU43、メモリ45、記憶部47等を備える。   The control unit 41 is a device that controls operations of various devices constituting the pattern forming apparatus 1 and performs arithmetic processing, and is a computer, for example. The control unit 41 includes a CPU 43, a memory 45, a storage unit 47, and the like.

CPU43は、演算処理、動作制御等を行うプロセッサであり、記憶部47、ROM、記録媒体等に格納されるプログラムをメモリ45に呼び出して実行する。
メモリ45は、ROM、RAM等であり、恒久的あるいは一時的に各種情報を保持する。
記憶部47は、メモリ、ハードディスク等の記憶装置であり、仕様データ49、登録データ51、補正データ53等を保持する。
The CPU 43 is a processor that performs arithmetic processing, operation control, and the like, and calls a program stored in the storage unit 47, ROM, recording medium, or the like to the memory 45 and executes it.
The memory 45 is a ROM, a RAM, or the like, and holds various types of information permanently or temporarily.
The storage unit 47 is a storage device such as a memory or a hard disk, and holds specification data 49, registration data 51, correction data 53, and the like.

仕様データ49は、製作対象の基板のパターンピッチ、ヘッドユニット27の取付位置、回転角度、基準ノズル孔33の位置座標、インク吐出のタイミング、各種装置の動作等に関する標準的な設定、初期設定を示すデータである。
登録データ51は、カメラ7によるヘッド29の撮像画像及びカメラ21による基板13の撮像画像等の登録データである。登録データ51は、仕様データ49に適合するパターン形成を行った際の撮像画像を登録したものである。
補正データ53は、ヘッド29の位置、基板13の位置、インクの吐出タイミング等に関する補正量を示すデータである。
The specification data 49 includes standard settings and initial settings regarding the pattern pitch of the substrate to be manufactured, the mounting position of the head unit 27, the rotation angle, the position coordinates of the reference nozzle hole 33, the timing of ink ejection, the operation of various devices, and the like. It is the data shown.
The registration data 51 is registration data such as a captured image of the head 29 by the camera 7 and a captured image of the substrate 13 by the camera 21. The registration data 51 is obtained by registering a captured image when pattern formation conforming to the specification data 49 is performed.
The correction data 53 is data indicating a correction amount relating to the position of the head 29, the position of the substrate 13, the ink ejection timing, and the like.

制御部41は、アライメントカメラ11の撮像画像に基づいて基板13のθ方向角度及びXY座標を抽出する処理を行う。制御部41は、抽出したデータを所定のデータと比較してそれらの偏差を算出し、偏差を小さくするように制御量を演算する。制御部41は、X方向移動ステージ5、θ方向移動ステージ9、Y方向移動ステージ等に対してそれぞれの制御量を出力して各ステージの位置制御を行う。このように、制御部41は、アライメントカメラ11の撮像画像に基づいて、基板13が所定のθ方向角度、所定のXY座標となるように制御する。
また、制御部41は、カメラ7、カメラ21の撮像画像に基づいて、パターン形成時におけるヘッド29の位置及び基板13の位置を補正する。尚、補正処理の詳細については、後述する。
The control unit 41 performs a process of extracting the θ direction angle and the XY coordinates of the substrate 13 based on the captured image of the alignment camera 11. The control unit 41 compares the extracted data with predetermined data, calculates a deviation between them, and calculates a control amount so as to reduce the deviation. The controller 41 outputs control amounts to the X-direction moving stage 5, the θ-direction moving stage 9, the Y-direction moving stage, etc., and controls the position of each stage. As described above, the control unit 41 controls the substrate 13 to have a predetermined θ-direction angle and a predetermined XY coordinate based on the captured image of the alignment camera 11.
Further, the control unit 41 corrects the position of the head 29 and the position of the substrate 13 at the time of pattern formation based on the captured images of the camera 7 and the camera 21. The details of the correction process will be described later.

このように、パターン形成装置1は、X方向移動ステージ5、θ方向移動ステージ9、Y方向移動ステージ、Y方向移動機構15等により、所定のXY座標、所定のθ方向角度となるように、基板13、ヘッド29の位置決め及び位置補正を行う。   As described above, the pattern forming apparatus 1 uses the X direction moving stage 5, the θ direction moving stage 9, the Y direction moving stage, the Y direction moving mechanism 15 and the like so that the predetermined XY coordinates and the predetermined θ direction angle are obtained. Positioning and position correction of the substrate 13 and the head 29 are performed.

次に、図2を参照しながら、パターン形成装置1の加工部2の構成について説明する。
図2は、加工部2を下方から見た図である。
Next, the configuration of the processing unit 2 of the pattern forming apparatus 1 will be described with reference to FIG.
FIG. 2 is a view of the processing unit 2 as viewed from below.

図2に示す加工部2は、少なくとも1つのヘッドユニット27が板状部材のベース25に取り付けられて構成される。
ヘッドユニット27は、少なくとも1つのヘッド29が板状部材に配置されて構成される。
ヘッド29は、インクジェットヘッド、レーザ照射ヘッド等のヘッドであり、インク等を吐出する少なくとも1つのノズル孔31を有する。レーザ照射ヘッドの場合、ノズル孔31は、レーザ射出口に相当する。
The processing unit 2 shown in FIG. 2 is configured by attaching at least one head unit 27 to a base 25 of a plate member.
The head unit 27 is configured by arranging at least one head 29 on a plate-like member.
The head 29 is a head such as an inkjet head or a laser irradiation head, and has at least one nozzle hole 31 for ejecting ink or the like. In the case of a laser irradiation head, the nozzle hole 31 corresponds to a laser emission port.

尚、ヘッドユニット27は、各単色毎(R、G、B)に設けてもよい。また、各ヘッドユニット27に設けるヘッド29の数、配置形態に特段の制限はなく、1つのヘッドユニット27に1つのヘッド29を設けるようにしてもよい。   The head unit 27 may be provided for each single color (R, G, B). Further, the number and arrangement of the heads 29 provided in each head unit 27 are not particularly limited, and one head 29 may be provided in one head unit 27.

また、各ヘッド29には、ノズル列方向(W方向)に移動可能な調整機構(図示しない。)が設けられる。
以下、ヘッドユニット27に取り付けられた各ヘッド29間、各ノズル孔31間の相対的な位置関係に関しては、所定の精度を有するものとして説明する。
Each head 29 is provided with an adjustment mechanism (not shown) that can move in the nozzle row direction (W direction).
Hereinafter, the relative positional relationship between the heads 29 attached to the head unit 27 and the nozzle holes 31 will be described as having a predetermined accuracy.

ベース25は、少なくとも1つのヘッドユニット27を取り付けるベース部材である。ベース25には、取り付けるヘッドユニット27の数に応じて、少なくとも1つのスライドレール35が設けられる。
ヘッドユニット27側には、スライドレール35に沿って移動可能なスライドブッシュ(図示しない。)が設けられる。ベース25とヘッドユニット27とは、スライドレール35及びスライドブッシュを介して取り付けられる。ヘッドユニット27は、リニアモータ(図示しない。)等の駆動装置によりスライドレール35に沿ってW方向に移動可能である。
The base 25 is a base member to which at least one head unit 27 is attached. The base 25 is provided with at least one slide rail 35 according to the number of head units 27 to be attached.
A slide bush (not shown) that is movable along the slide rail 35 is provided on the head unit 27 side. The base 25 and the head unit 27 are attached via a slide rail 35 and a slide bush. The head unit 27 is movable in the W direction along the slide rail 35 by a drive device such as a linear motor (not shown).

リニアスケール37は、ベース25側に設けられる。ヘッドユニット27側には、リニアスケールヘッド(図示しない。)が設けられる。リニアスケールヘッドによりリニアスケール37のメモリを読み取り、ベース25に対するヘッドユニット27の位置、移動量等を測長することができる。   The linear scale 37 is provided on the base 25 side. A linear scale head (not shown) is provided on the head unit 27 side. The memory of the linear scale 37 can be read by the linear scale head, and the position of the head unit 27 relative to the base 25, the amount of movement, etc. can be measured.

次に、図3〜図7を参照しながら、本発明の第1の実施の形態に係るパターン形成装置1の動作について説明する。   Next, the operation of the pattern forming apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図3〜図6は、パターン形成装置1の動作を示すフローチャートである。
図3は、仕様データ49から登録データ51を作成するまでの処理を示すフローチャートである。
図4は、登録データ51に基づいてパターン形成を行う処理を示すフローチャートである。
図5は、図3に示す処理の中で行われる補正処理A(図3:ステップ305)の詳細を示すフローチャートである。
図6は、図4に示す処理の中で行われる補正処理B(図4:ステップ402)の詳細を示すフローチャートである。
3 to 6 are flowcharts showing the operation of the pattern forming apparatus 1.
FIG. 3 is a flowchart showing the processing from the specification data 49 to the creation of the registration data 51.
FIG. 4 is a flowchart showing a process for forming a pattern based on the registration data 51.
FIG. 5 is a flowchart showing details of the correction process A (FIG. 3: step 305) performed in the process shown in FIG.
FIG. 6 is a flowchart showing details of the correction process B (FIG. 4: step 402) performed in the process shown in FIG.

パターン形成装置1の制御部41は、記憶部47から仕様データ49を読み出しメモリ45に保持する(ステップ301)。
制御部41は、カメラ7によるヘッド29の撮像画像に基づいて、ヘッド29の位置を調整する(ステップ302)。
ステップ302において、カメラ7によるヘッド29の撮像画像に基づいて、ノズル孔間ピッチを取得する。尚、ノズル孔間ピッチの取得に関しては、特に限定されないが、隣接するノズル孔間の距離を計測してもよいし、所定の隣接しない2つのノズル孔間の距離(ノズル孔のトータルピッチ等)から求めることもできる。
ノズル孔間ピッチと仕様データ49のパターンピッチとが一致しない場合、回転機構23によりベース25をθ方向に回転させることにより、ヘッド29の位置を調整し、ピッチを一致させる。
制御部41は、加工部2により基板13に対して加工処理を行いパターンを形成する(ステップ303)。
The control unit 41 of the pattern forming apparatus 1 reads the specification data 49 from the storage unit 47 and holds it in the memory 45 (step 301).
The controller 41 adjusts the position of the head 29 based on the image captured by the head 29 by the camera 7 (step 302).
In step 302, the nozzle hole pitch is acquired based on the image captured by the head 29 by the camera 7. In addition, although it does not specifically limit regarding acquisition of the pitch between nozzle holes, you may measure the distance between adjacent nozzle holes, and the distance between two predetermined nozzle holes (total pitch of nozzle holes etc.). You can also ask for it.
When the pitch between the nozzle holes does not match the pattern pitch of the specification data 49, the position of the head 29 is adjusted by rotating the base 25 in the θ direction by the rotation mechanism 23 to match the pitch.
The control unit 41 performs processing on the substrate 13 by the processing unit 2 to form a pattern (step 303).

形成されたパターンが仕様データ49に適合しない場合(ステップ304のNo)、ヘッド29の位置及び基板13の位置を補正し(ステップ305)、再度ステップ303からの処理を繰り返す。尚、補正処理A(ステップ305)の詳細については後述する。   When the formed pattern does not conform to the specification data 49 (No in Step 304), the position of the head 29 and the position of the substrate 13 are corrected (Step 305), and the processing from Step 303 is repeated again. Details of the correction process A (step 305) will be described later.

形成されたパターンが仕様データ49に適合する場合(ステップ304のYes)、カメラ7によるヘッド29の撮像画像及びカメラ21による基板13の撮像画像を登録データ51として記憶部47に登録する(ステップ306)。尚、登録データ51に関しては、撮像画像に代えてあるいは撮像画像と共に、当該撮像画像に対して画像処理を施して算出した各種データを保持するようにしてもよい。   When the formed pattern conforms to the specification data 49 (Yes in Step 304), the captured image of the head 29 by the camera 7 and the captured image of the substrate 13 by the camera 21 are registered in the storage unit 47 as registration data 51 (Step 306). ). Regarding the registration data 51, various data calculated by performing image processing on the captured image instead of the captured image or together with the captured image may be held.

尚、補正処理A(ステップ305)を経て、適正なパターンを形成して登録データ51を取得しても、その後に、ベース25のスライドレール35に対して抜き差してヘッドユニット27を交換したり、パターン形成を一定時間継続した場合など、精度を維持することが困難となる。例えば、カラーフィルタパターンの場合、ミクロンオーダの高精度が要求される。従って、パターン形成装置1を稼働させて実際にパターン基板を生産する際においても、以下図4及び図6等を用いて説明するように、補正処理を行う必要がある。   Even if correction data A (step 305) is used to form a proper pattern and the registration data 51 is acquired, the head unit 27 can be replaced by inserting / removing the slide rail 35 of the base 25. It is difficult to maintain accuracy when pattern formation is continued for a certain period of time. For example, in the case of a color filter pattern, high accuracy on the order of microns is required. Therefore, even when the pattern forming apparatus 1 is operated to actually produce a pattern substrate, it is necessary to perform correction processing as will be described below with reference to FIGS.

パターン形成装置1の制御部41は、記憶部47から登録データ51を読み出しメモリ45に保持する(ステップ401)。
制御部41は、ヘッド29の位置及び基板13の位置を補正する(ステップ402)。尚、補正処理B(ステップ402)の詳細については後述する。
制御部41は、加工部2により基板13に対して加工処理を行いパターンを形成する(ステップ403)。
The control unit 41 of the pattern forming apparatus 1 reads the registration data 51 from the storage unit 47 and holds it in the memory 45 (step 401).
The controller 41 corrects the position of the head 29 and the position of the substrate 13 (step 402). Details of the correction process B (step 402) will be described later.
The control unit 41 performs processing on the substrate 13 by the processing unit 2 to form a pattern (step 403).

図5を参照しながら、補正処理A(図3:ステップ305)の詳細について説明する。
パターン形成装置1の制御部41は、カメラ7によりヘッド29の撮像画像(ノズル孔の位置等)を取得し(ステップ501)、カメラ21により基板13の撮像画像(インクの着弾位置等)を取得する(ステップ502)。尚、補正処理Aに際しては、カメラ7及びカメラ21の両カメラによる撮像画像を用いることが望ましいが、いずれか一方のみでもよい。
Details of the correction process A (FIG. 3: step 305) will be described with reference to FIG.
The control unit 41 of the pattern forming apparatus 1 acquires a captured image of the head 29 (nozzle hole position, etc.) by the camera 7 (step 501), and acquires a captured image of the substrate 13 (ink landing position, etc.) by the camera 21. (Step 502). In the correction process A, it is desirable to use images captured by both the camera 7 and the camera 21, but only one of them may be used.

パターン形成装置1の操作者は、撮像画像上において位置指定を行い、制御部41は、指定された位置(指定位置60)をメモリ45に保持する(ステップ503)。
ステップ503において、操作者は、撮像画像上に表示されているヘッド29あるいは基板13の基準部位について、補正後の位置を指定する。基準部位は、ヘッド29あるいは基板13における基準となる対象を示し、例えば、ヘッド29のノズル孔、基板13におけるインクの着弾位置である。尚、位置指定に関しては、ポインティングデバイス等の各種装置を用いて入力することができる。
The operator of the pattern forming apparatus 1 designates a position on the captured image, and the control unit 41 holds the designated position (designated position 60) in the memory 45 (step 503).
In step 503, the operator designates a corrected position for the head 29 or the reference portion of the substrate 13 displayed on the captured image. The reference portion indicates a reference target in the head 29 or the substrate 13 and is, for example, a nozzle hole of the head 29 or an ink landing position on the substrate 13. The position designation can be input using various devices such as a pointing device.

制御部41は、ヘッド29あるいは基板13の基準部位の位置を検出する。制御部41は、ヘッド29あるいは基板13の基準部位の位置(基準部位位置58)とステップ503において指定した位置(指定位置60)とに基づいて、ヘッド29の位置の補正量及び基板13の位置の補正量、加工処理タイミングの補正量等を算出し、補正データ53として記憶部47に保持する(ステップ504)。
制御部41は、補正データ53が示す補正量に基づいて、ヘッド29の位置及び基板13の位置を補正する(ステップ505)。
The control unit 41 detects the position of the reference portion of the head 29 or the substrate 13. The control unit 41 determines the correction amount of the position of the head 29 and the position of the substrate 13 based on the position of the reference portion (reference portion position 58) of the head 29 or the substrate 13 and the position specified in step 503 (specified position 60). And the correction amount of the processing timing are calculated and stored in the storage unit 47 as correction data 53 (step 504).
The control unit 41 corrects the position of the head 29 and the position of the substrate 13 based on the correction amount indicated by the correction data 53 (step 505).

尚、基準部位(移動対象点)の補正前の位置に関しては、撮像画像に画像処理を行って検出するものとして説明したが、補正後の位置指定(ステップ503)と同様に、補正前の位置に関しても、撮像画像上で指定するようにしてもよい。   The position before correction of the reference part (movement target point) has been described as being detected by performing image processing on the captured image. However, the position before correction is the same as the position specification after correction (step 503). Also, the image may be designated on the captured image.

図6を参照しながら、補正処理B(図4:ステップ402)の詳細について説明する。
パターン形成装置1の制御部41は、カメラ7によりヘッド29の撮像画像(ノズル孔の位置等)を取得し(ステップ601)、カメラ21により基板13の撮像画像(インクの着弾位置等)を取得する(ステップ602)。尚、補正処理Bに際しては、カメラ7及びカメラ21の両カメラによる撮像画像を用いることが望ましいが、いずれか一方のみでもよい。
Details of the correction process B (FIG. 4: step 402) will be described with reference to FIG.
The control unit 41 of the pattern forming apparatus 1 acquires the captured image of the head 29 (the position of the nozzle hole, etc.) with the camera 7 (step 601), and acquires the captured image of the substrate 13 (the landing position of the ink, etc.) with the camera 21. (Step 602). In the correction process B, it is desirable to use images captured by both the camera 7 and the camera 21, but only one of them may be used.

制御部41は、ステップ601及びステップ602の処理において取得した撮像画像と登録データ51に登録されている撮像画像との差異に基づいて、ヘッド29の位置の補正量及び基板13の位置の補正量、加工処理タイミングの補正量等を算出し、補正データ53として記憶部47に保持する(ステップ603)。
制御部41は、補正データ53が示す補正量に基づいて、ヘッド29の位置及び基板13の位置を補正する(ステップ604)。
The control unit 41 determines the correction amount of the position of the head 29 and the correction amount of the position of the substrate 13 based on the difference between the captured image acquired in the processing of Step 601 and Step 602 and the captured image registered in the registration data 51. Then, the correction amount of the machining processing timing is calculated and stored in the storage unit 47 as the correction data 53 (step 603).
The control unit 41 corrects the position of the head 29 and the position of the substrate 13 based on the correction amount indicated by the correction data 53 (step 604).

ここで、図7及び図8を参照しながら、カメラ7による撮像画像に基づく補正量の算出について説明する。
以下、図6に示す補正処理Bにおける補正量の算出(図6:ステップ603)について説明する。
尚、図5に示す補正処理Aは、ヘッド29あるいは基板13の基準部位について補正後の位置を指定するものであり、図6に示す補正処理Bは、補正後の位置として登録データ51を用いるものであり、両ステップにおける補正量算出処理は同様のものである。従って、図5に示す補正処理Aにおける補正量の算出も同様に処理することができる。
Here, calculation of the correction amount based on the captured image by the camera 7 will be described with reference to FIGS. 7 and 8.
Hereinafter, calculation of the correction amount in the correction process B shown in FIG. 6 (FIG. 6: step 603) will be described.
The correction process A shown in FIG. 5 designates the corrected position with respect to the reference portion of the head 29 or the substrate 13, and the correction process B shown in FIG. 6 uses the registered data 51 as the corrected position. The correction amount calculation processing in both steps is the same. Therefore, the calculation of the correction amount in the correction process A shown in FIG. 5 can be similarly processed.

パターン形成装置1の制御部41は、カメラ7による撮像画像55により、基準ノズル孔33の位置座標を検出する(図6:ステップ601)。
制御部41は、カメラ7により検出した検出ノズル孔位置57及び登録データ51が示す登録ノズル孔位置59から、補正データ53(ヘッドユニット補正量67、吐出開始位置ズレ量69等)を算出する(図6:ステップ603)。
The control unit 41 of the pattern forming apparatus 1 detects the position coordinates of the reference nozzle hole 33 from the image 55 taken by the camera 7 (FIG. 6: step 601).
The control unit 41 calculates the correction data 53 (head unit correction amount 67, ejection start position deviation amount 69, etc.) from the detected nozzle hole position 57 detected by the camera 7 and the registered nozzle hole position 59 indicated by the registered data 51 (the head unit correction amount 67, the discharge start position deviation amount 69, etc.). FIG. 6: Step 603).

図7は、補正データの算出の説明図である(ヘッドユニット27が1軸方向に移動可能である場合)。
撮像画像55は、カメラ7により基準ノズル孔33付近を撮影した画像である。
検出ノズル孔位置57は、カメラ7により基準ノズル孔33を検出した座標位置である。
登録ノズル孔位置59は、登録データ51に登録されている基準ノズル孔33の座標位置である。
図7に示すように、検出ノズル孔位置57と登録ノズル孔位置59との間には、ピッチズレ量31(Y方向のズレ量)、塗布方向ズレ量63(X方向のズレ量)が生じている。
FIG. 7 is an explanatory diagram for calculating correction data (when the head unit 27 is movable in one axis direction).
The captured image 55 is an image obtained by capturing the vicinity of the reference nozzle hole 33 with the camera 7.
The detection nozzle hole position 57 is a coordinate position at which the reference nozzle hole 33 is detected by the camera 7.
The registered nozzle hole position 59 is a coordinate position of the reference nozzle hole 33 registered in the registered data 51.
As shown in FIG. 7, a pitch deviation amount 31 (Y direction deviation amount) and a coating direction deviation amount 63 (X direction deviation amount) occur between the detection nozzle hole position 57 and the registered nozzle hole position 59. Yes.

パターン形成装置1の制御部41は、検出ノズル孔位置57からノズル列方向(W方向)の延長線上であって、登録ノズル孔位置59のY方向における座標位置が一致する座標位置を補正後ノズル孔位置65として算出する。
制御部41は、検出ノズル孔位置57から補正後ノズル孔位置65までの距離をヘッドユニット補正量67として算出し、登録ノズル孔位置59から補正後ノズル孔位置65までの距離を吐出開始位置ズレ量69として算出する。
The control unit 41 of the pattern forming apparatus 1 corrects the coordinate position on the extension line in the nozzle row direction (W direction) from the detection nozzle hole position 57 and the coordinate position in the Y direction of the registered nozzle hole position 59 is corrected. Calculated as hole position 65.
The control unit 41 calculates the distance from the detected nozzle hole position 57 to the corrected nozzle hole position 65 as the head unit correction amount 67, and calculates the distance from the registered nozzle hole position 59 to the corrected nozzle hole position 65 as the discharge start position deviation. Calculated as quantity 69.

尚、具体的には、ヘッドユニット補正量67=ピッチズレ量31/cosθ、吐出開始位置ズレ量69=塗布方向ズレ量63+ピッチズレ量31×tanθ、により補正データの算出を行うことができる。   Specifically, the correction data can be calculated as follows: head unit correction amount 67 = pitch deviation amount 31 / cos θ, ejection start position deviation amount 69 = application direction deviation amount 63 + pitch deviation amount 31 × tan θ.

また、基準ノズル孔33の選択に関しては、特に限定はないが、例えば、図2に示すように、ヘッドユニット27の最端のノズル孔31を基準ノズル孔33とすることができるし、各ヘッドユニット27毎に、所定のノズル孔31(例えば、左端から第10番目のノズル孔31)を基準ノズル孔33としてもよい。   The selection of the reference nozzle hole 33 is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 2, the nozzle hole 31 at the extreme end of the head unit 27 can be used as the reference nozzle hole 33, and each head. For each unit 27, a predetermined nozzle hole 31 (for example, the tenth nozzle hole 31 from the left end) may be used as the reference nozzle hole 33.

パターン形成装置1の制御部41は、補正データ53のヘッドユニット補正量67等に基づいて、ベース25におけるヘッドユニット27の取付位置及びヘッド29の位置の調整を行い、補正データ53の吐出開始位置ズレ量69等に基づいて、ノズル孔31からの吐出タイミングを調整し、インク等の吐出処理を行い基板上にパターンを形成する(図3:ステップ303、図4:ステップ403)。
尚、ヘッドユニット27の移動に関しては、リニアモータ(図示しない。)等の駆動装置により行い、リニアスケール37等の測長装置により移動量を計測することができる。
The control unit 41 of the pattern forming apparatus 1 adjusts the mounting position of the head unit 27 and the position of the head 29 in the base 25 based on the head unit correction amount 67 of the correction data 53 and the ejection start position of the correction data 53. Based on the deviation amount 69 and the like, the ejection timing from the nozzle hole 31 is adjusted, and ink is ejected to form a pattern on the substrate (FIG. 3: step 303, FIG. 4: step 403).
The head unit 27 is moved by a driving device such as a linear motor (not shown), and the moving amount can be measured by a length measuring device such as a linear scale 37.

図8は、補正データの算出の説明図である(ヘッドユニット27が2軸方向に移動可能である場合)。
上記図7の説明において、ヘッドユニット27に関しては、ノズル列方向(W方向)の1軸方向に移動可能であるものとして説明したが、2軸方向に移動可能であってもよい。
FIG. 8 is an explanatory diagram of calculation of correction data (when the head unit 27 is movable in two axial directions).
In the description of FIG. 7 described above, the head unit 27 has been described as being movable in one axis direction in the nozzle row direction (W direction), but may be movable in two axis directions.

図8に示すように、例えば、ベース25において、X方向及びY方向の2軸方向に移動可能である場合、パターン形成装置1の制御部41は、登録ノズル孔位置59の座標位置を補正後ノズル孔位置65として算出するようにしてもよい。この場合、ヘッドユニット補正量67として、ヘッドユニット補正量(X方向)71、ヘッドユニット補正量(Y方向)73を算出するようにしてもよい。
尚、補正後ノズル孔位置65の座標位置は、登録ノズル孔位置59の座標位置と一致するので、吐出タイミングのズレが生じないので、吐出開始位置ズレ量69は、「0」となるので、吐出開始位置ズレ量69を算出する必要はなく、吐出開始タイミングを補正する必要もない。
As shown in FIG. 8, for example, when the base 25 is movable in two axial directions of the X direction and the Y direction, the control unit 41 of the pattern forming apparatus 1 corrects the coordinate position of the registered nozzle hole position 59. The nozzle hole position 65 may be calculated. In this case, a head unit correction amount (X direction) 71 and a head unit correction amount (Y direction) 73 may be calculated as the head unit correction amount 67.
Since the coordinate position of the corrected nozzle hole position 65 coincides with the coordinate position of the registered nozzle hole position 59, the discharge timing shift does not occur, and the discharge start position shift amount 69 is “0”. It is not necessary to calculate the discharge start position deviation amount 69, and it is not necessary to correct the discharge start timing.

尚、図7及び図8では、カメラ7による撮像画像に基づく補正量の算出について説明したが、カメラ21による撮像画像に基づく補正量の算出も同様に行うことができる。カメラ7の場合は、ヘッド29のノズル孔31の位置を検出することにより補正量を算出したが、カメラ21の場合は、基板13におけるインクの着弾位置を検出することにより補正量を算出すればよい。
また、補正量に関しては、ヘッド29側と基板側13との間の相対的な位置関係を補正するものであればよい。従って、カメラ7による撮像画像に基づいて、ヘッド29側の位置だけでなく基板13側の位置を補正するようにしてもよいし、カメラ21による撮像画像に基づいて、基板13側の位置だけでなくヘッド29側の位置を補正するようにしてもよい。
7 and 8, the calculation of the correction amount based on the captured image by the camera 7 has been described, but the correction amount based on the captured image by the camera 21 can be calculated in the same manner. In the case of the camera 7, the correction amount is calculated by detecting the position of the nozzle hole 31 of the head 29, but in the case of the camera 21, if the correction amount is calculated by detecting the ink landing position on the substrate 13. Good.
The correction amount may be anything that corrects the relative positional relationship between the head 29 side and the substrate side 13. Therefore, not only the position on the head 29 side but also the position on the substrate 13 side may be corrected based on the image captured by the camera 7, or only the position on the substrate 13 side based on the image captured by the camera 21. Alternatively, the position on the head 29 side may be corrected.

図7及び図8では、図6に示す補正処理Bにおける補正量の算出(図6:ステップ603)について説明したが、図5に示す補正処理Aにおける補正量の算出も同様に処理することができる。
この場合、指定位置60が登録ノズル孔位置59に相当し、基準部位位置58が検出ノズル孔位置58に相当するものとして、同様の処理を行えばよい。
7 and 8, the calculation of the correction amount in the correction process B shown in FIG. 6 (FIG. 6: Step 603) has been described. However, the calculation of the correction amount in the correction process A shown in FIG. it can.
In this case, the same processing may be performed assuming that the designated position 60 corresponds to the registered nozzle hole position 59 and the reference portion position 58 corresponds to the detection nozzle hole position 58.

以上の過程を経て、本発明の実施の形態に係るパターン形成装置1は、カメラ7及びカメラ21による撮像画像に基づいて、ヘッド29の位置及び基板13の位置、インク吐出タイミング等を補正する。   Through the above process, the pattern forming apparatus 1 according to the embodiment of the present invention corrects the position of the head 29, the position of the substrate 13, the ink discharge timing, and the like based on the images captured by the camera 7 and the camera 21.

パターン形成装置1は、撮像画像上においてヘッド29あるいは基板13の基準部位について補正後の位置が指定されると、基準部位位置と指定位置との差異に基づいて補正データを算出して補正処理を行う。
また、パターン形成装置は、製品仕様に適合したパターンを形成するための登録データ51(カメラ7及びカメラ21による撮像画像等)を取得し、登録データ51及びカメラ7及びカメラ21の撮像画像に基づいて、ヘッド29の位置及び基板13の位置、加工処理タイミング等を補正しつつ、順次基板13に対してパターン形成を行う。
When a corrected position is specified for the reference portion of the head 29 or the substrate 13 on the captured image, the pattern forming apparatus 1 calculates correction data based on the difference between the reference portion position and the specified position, and performs correction processing. Do.
In addition, the pattern forming apparatus acquires registration data 51 (images captured by the camera 7 and the camera 21) for forming a pattern that conforms to product specifications, and is based on the registration data 51 and the images captured by the camera 7 and the camera 21. Then, the pattern is sequentially formed on the substrate 13 while correcting the position of the head 29, the position of the substrate 13, the processing timing, and the like.

このように、パターン形成装置1は、基板13を支持する吸着テーブル3にカメラ7を備え、加工部2にカメラ21を備える。パターン形成装置1は、カメラ7により加工部2のヘッド29の位置等を検出し、カメラ21により基板13におけるインクの着弾位置等を検出する。パターン形成装置1は、カメラ7及びカメラ21の撮像画像を用いて、ヘッド29の位置及び基板13の位置、加工処理タイミング等を補正するための補正データ53を算出する。   As described above, the pattern forming apparatus 1 includes the camera 7 on the suction table 3 that supports the substrate 13 and the camera 21 on the processing unit 2. In the pattern forming apparatus 1, the camera 7 detects the position of the head 29 of the processing unit 2, and the camera 21 detects the ink landing position on the substrate 13. The pattern forming apparatus 1 calculates correction data 53 for correcting the position of the head 29, the position of the substrate 13, the processing timing, and the like using the captured images of the camera 7 and the camera 21.

登録データ51を取得するためにヘッド29等の位置を合わせ込む場合や、登録データ51に基づいてヘッド29等の位置を合わせ込む場合に、補正データ53に基づいて補正処理が行われる。
従って、製品仕様毎にパターンを形成して登録データを取得する場合や、登録データに基づいてパターン基板を量産する場合に、ヘッド、基板等の位置調整に要する時間を軽減することができる。ひいては、生産コストの軽減、生産効率の向上を図ることができる。
When the position of the head 29 or the like is adjusted in order to acquire the registration data 51, or when the position of the head 29 or the like is adjusted based on the registration data 51, correction processing is performed based on the correction data 53.
Therefore, when forming a pattern for each product specification to obtain registration data, or when mass-producing a pattern substrate based on the registration data, it is possible to reduce the time required for position adjustment of the head, the substrate, and the like. As a result, production costs can be reduced and production efficiency can be improved.

尚、ヘッド29に関しては、インクジェットヘッドについて説明したが、ヘッド29は、インクジェットヘッドに限られず、レーザ照射ヘッド等、様々な加工装置を適用することができる。
また、ヘッドの位置ズレに関しては、基準ノズル孔の位置ズレに着目して補正データを算出したが、これに限られない。ノズル孔の位置に代えて、ヘッドの基準部位として所定の標識(マーク)をヘッドあるいはヘッドユニット等に付し、当該所定の標識の位置ズレ量に基づいて補正データを算出するようにしてもよい。
In addition, although the inkjet head was demonstrated regarding the head 29, the head 29 is not restricted to an inkjet head, Various processing apparatuses, such as a laser irradiation head, can be applied.
Further, regarding the positional deviation of the head, the correction data is calculated by paying attention to the positional deviation of the reference nozzle hole, but is not limited thereto. Instead of the position of the nozzle hole, a predetermined mark (mark) may be attached to the head or the head unit or the like as the reference portion of the head, and correction data may be calculated based on the positional deviation amount of the predetermined mark. .

また、ベース25に設けるヘッドユニット27の数に制限はなく、1つでも複数であってもよい。また、ヘッドユニット27は、各単色毎(R、G、B)に設けてもよい。また、各ヘッドユニット27に設けるヘッド29の数、配置形態に特段の制限はない。
図9は、ベース25、ヘッドユニット27の一態様を示す図である。
例えば、図9に示すように、1つのベース25に1つのヘッドユニット27を設け、1つのヘッドユニット27に1つのヘッド29を設けるようにしてもよい。
Further, the number of head units 27 provided on the base 25 is not limited, and may be one or plural. The head unit 27 may be provided for each single color (R, G, B). Further, there is no particular limitation on the number and arrangement of the heads 29 provided in each head unit 27.
FIG. 9 is a diagram illustrating an aspect of the base 25 and the head unit 27.
For example, as shown in FIG. 9, one head unit 27 may be provided in one base 25, and one head 29 may be provided in one head unit 27.

以上、説明したように、本発明のパターン形成装置等によれば、基板の支持部等にヘッドの所定の箇所を撮像するカメラを設け、ヘッドの支持部に基板の所定の箇所を撮像するカメラを設け、両カメラによりヘッドの位置ズレ及び基板の位置ズレを検出し、位置ズレ量から補正データを算出し、当該補正データに基づいてヘッドの位置、基板の位置、加工タイミング等を補正することにより、位置ズレを補正する。ヘッド及び基板の位置ズレの検出は、ノズル孔の位置及びヘッドからの吐出インク等の着弾位置に着目することにより行うことができる。   As described above, according to the pattern forming apparatus and the like of the present invention, a camera that images a predetermined portion of the head is provided on the support portion of the substrate, and a camera that images a predetermined portion of the substrate on the support portion of the head And detecting the positional deviation of the head and the substrate with both cameras, calculating correction data from the positional deviation amount, and correcting the position of the head, the position of the substrate, the processing timing, etc. based on the correction data. To correct the positional deviation. Detection of the positional deviation between the head and the substrate can be performed by paying attention to the position of the nozzle hole and the landing position of the ejected ink or the like from the head.

以上、添付図面を参照しながら、本発明に係るパターン形成装置等の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   The preferred embodiments of the pattern forming apparatus and the like according to the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the technical idea disclosed in the present application, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

パターン形成装置1の概略斜視図Schematic perspective view of the pattern forming apparatus 1 加工部2を下方から見た図The figure which looked at processing part 2 from the lower part パターン形成装置1の動作を示すフローチャート(仕様データ49から登録データ51を作成するまでの処理)Flowchart showing the operation of the pattern forming apparatus 1 (processing from creation of the specification data 49 to the registration data 51) パターン形成装置1の動作を示すフローチャート(登録データ51に基づいてパターン形成を行う処理)Flowchart showing the operation of the pattern forming apparatus 1 (processing for forming a pattern based on the registration data 51) 補正処理Aの詳細を示すフローチャートFlow chart showing details of correction processing A 補正処理Bの詳細を示すフローチャートFlow chart showing details of correction process B 補正データの算出の説明図(ヘッドユニット27が1軸方向に移動可能である場合)Explanatory drawing of calculation of correction data (when head unit 27 is movable in one axis direction) 補正データの算出の説明図(ヘッドユニット27が2軸方向に移動可能である場合)Explanatory drawing of calculation of correction data (when head unit 27 is movable in two axial directions) ベース25、ヘッドユニット27の一態様を示す図The figure which shows the one aspect | mode of the base 25 and the head unit 27

符号の説明Explanation of symbols

1………パターン形成装置
2………加工部
3………吸着テーブル
5………X方向移動ステージ
7………カメラ
9………θ方向移動ステージ
11………アライメントカメラ
13………基板
15………Y軸移動機構
17………スライダ
19………スライドレール
21………カメラ
23………回転機構
25………ベース
27………ヘッドユニット
29………ヘッド
31………ノズル孔
33………基準ノズル孔
35………スライドレール
37………リニアスケール
41………制御部
43………CPU
45………メモリ
47………記憶部
49………仕様データ
51………登録データ
53………補正データ
55………撮像画像
57………検出ノズル孔位置
58………基準部位位置
59………登録ノズル孔位置
60………指定位置
61………ピッチズレ量
63………塗布方向ズレ量
65………補正後ノズル孔位置
67、71、73………ヘッドユニット補正量
69………吐出開始位置ズレ量
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ......... Pattern forming apparatus 2 ......... Processing part 3 ......... Suction table 5 ......... X direction moving stage 7 ...... Camera 9 ..... theta. Direction moving stage 11 ......... Alignment camera 13 ......... Board 15 ......... Y-axis moving mechanism 17 ......... Slider 19 ......... Slide rail 21 ......... Camera 23 ...... Rotating mechanism 25 ......... Base 27 ......... Head unit 29 ......... Head 31 ... ... Nozzle hole 33 ... Standard nozzle hole 35 ... Slide rail 37 ... Linear scale 41 ... Control unit 43 ... CPU
45 ......... Memory 47 ......... Storage section 49 ......... Specification data 51 ......... Registered data 53 ......... Correction data 55 ......... Imaged image 57 ......... Detection nozzle hole position 58 ......... Reference part position 59 ......... Registered nozzle hole position 60 ......... Specified position 61 ......... Pitch deviation amount 63 ......... Displacement direction deviation amount 65 ......... After-correction nozzle hole positions 67, 71, 73 ......... Head unit correction amount 69 ……… Displacement start position deviation

Claims (11)

基板に対して相対的に移動可能なヘッドによる加工処理を行い前記基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記ヘッドを撮像可能な第1撮像装置、
前記基板を撮像可能な第2撮像装置の少なくともいずれかを具備することを特徴するパターン形成装置。
A pattern forming apparatus that forms a pattern on the substrate by performing processing with a head that is movable relative to the substrate,
A first imaging device capable of imaging the head;
A pattern forming apparatus comprising at least one of a second imaging device capable of imaging the substrate.
所定のパターンを形成可能である場合、前記第1撮像装置により前記ヘッドの基準部位を撮像して登録する第1登録手段、
前記第2撮像装置により前記基板の基準部位を撮像して登録する第2登録手段の少なくともいずれかと、
前記所定のパターンと同一のパターンを形成する際、前記第1撮像装置による撮像データと前記第1登録手段により登録した撮像データとの差異に基づいて補正データを算出する第1補正データ算出手段、
前記第2撮像装置による撮像データと前記第2登録手段により登録した撮像データとの差異に基づいて補正データを算出する第2補正データ算出手段の少なくともいずれかと、
前記補正データに基づいて前記ヘッドの位置、前記基板の位置、加工タイミングの少なくともいずれかを補正する補正手段と、
を具備することを特徴とする請求項1に記載のパターン形成装置。
A first registration unit configured to image and register a reference portion of the head with the first imaging device when a predetermined pattern can be formed;
At least one of second registration means for imaging and registering a reference portion of the substrate by the second imaging device;
First correction data calculating means for calculating correction data based on a difference between imaging data obtained by the first imaging device and imaging data registered by the first registration means when forming the same pattern as the predetermined pattern;
At least one of second correction data calculation means for calculating correction data based on the difference between the imaging data obtained by the second imaging device and the imaging data registered by the second registration means;
Correction means for correcting at least one of the position of the head, the position of the substrate, and processing timing based on the correction data;
The pattern forming apparatus according to claim 1, further comprising:
前記第1撮像装置により前記ヘッドの基準部位を撮像し、撮像画像上の任意の位置を指定する第1位置指定手段、
前記第2撮像装置により前記基板の基準部位を撮像し、撮像画像上の任意の位置を指定する第2位置指定手段の少なくともいずれかと、
前記撮像画像上における前記基準部位の位置と前記指定した位置とに基づいて補正データを算出する第3補正データ算出手段と、
前記補正データに基づいて前記ヘッドの位置、前記基板の位置、加工タイミングの少なくともいずれかを補正する補正手段と、
を具備することを特徴とする請求項1に記載のパターン形成装置。
First position specifying means for picking up an image of a reference portion of the head with the first image pickup device and specifying an arbitrary position on the picked-up image;
At least one of second position designation means for imaging a reference portion of the substrate by the second imaging device and designating an arbitrary position on the captured image;
Third correction data calculating means for calculating correction data based on the position of the reference portion on the captured image and the designated position;
Correction means for correcting at least one of the position of the head, the position of the substrate, and processing timing based on the correction data;
The pattern forming apparatus according to claim 1, further comprising:
前記第1撮像装置は、前記基板を支持する基板支持部に設けられることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のパターン形成装置。   The pattern forming apparatus according to claim 1, wherein the first imaging device is provided on a substrate support unit that supports the substrate. 前記第2撮像装置は、前記ヘッドを支持するヘッド支持部に設けられることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のパターン形成装置。   The pattern forming apparatus according to claim 1, wherein the second imaging device is provided in a head support portion that supports the head. 基板を支持する基板支持部であって、
上方の対象物を撮像可能な第1撮像装置を備えることを特徴とする基板支持部。
A substrate support for supporting the substrate,
A substrate support section comprising a first imaging device capable of imaging an upper object.
前記第1撮像装置は、前記基板に対して相対的に移動可能なヘッドの位置を検出することを特徴とする請求項6に記載の基板支持部。   The substrate support unit according to claim 6, wherein the first imaging device detects a position of a head that is movable relative to the substrate. 加工処理を行うヘッドを支持するヘッド支持部であって、
下方の対象物を撮像可能な第2撮像装置を備えることを特徴とするヘッド支持部。
A head support unit for supporting a head for processing,
A head support unit comprising a second imaging device capable of imaging a lower object.
前記第2撮像装置は、前記ヘッドに対して相対的に移動可能な基板における前記ヘッドからの吐出物の着弾位置を検出することを特徴とする請求項8に記載のヘッド支持部。   The head support unit according to claim 8, wherein the second imaging device detects a landing position of an ejected matter from the head on a substrate movable relative to the head. 基板に対して相対的に移動可能であり所定の処理を行うヘッドの補正方法であって、
所定のパターンを形成可能である場合、第1撮像装置により前記ヘッドの基準部位を撮像して登録する第1登録ステップ、
第2撮像装置により前記基板の基準部位を撮像して登録する第2登録ステップの少なくともいずれかと、
前記所定のパターンと同一のパターンを形成する際、前記第1撮像装置による撮像データと前記第1登録ステップにより登録した撮像データとの差異に基づいて補正データを算出する第1補正データ算出ステップ、
前記第2撮像装置による撮像データと前記第2登録ステップにより登録した撮像データとの差異に基づいて補正データを算出する第2補正データ算出ステップの少なくともいずれかと、
前記補正データに基づいて前記ヘッドの位置、前記基板の位置、処理タイミングの少なくともいずれかを補正する補正ステップと、
を具備することを特徴とするヘッドの補正方法。
A method of correcting a head that is movable relative to a substrate and performs a predetermined process,
A first registration step of imaging and registering a reference portion of the head with a first imaging device if a predetermined pattern can be formed;
At least one of a second registration step of imaging and registering a reference portion of the substrate with a second imaging device;
A first correction data calculation step for calculating correction data based on a difference between imaging data obtained by the first imaging device and imaging data registered by the first registration step when forming the same pattern as the predetermined pattern;
At least one of a second correction data calculation step for calculating correction data based on a difference between the imaging data obtained by the second imaging device and the imaging data registered in the second registration step;
A correction step of correcting at least one of the position of the head, the position of the substrate, and the processing timing based on the correction data;
A method of correcting a head, comprising:
基板に対して相対的に移動可能であり所定の処理を行うヘッドの補正方法であって、
前記第1撮像装置により前記ヘッドの基準部位を撮像し、撮像画像上の任意の位置を指定する第1位置指定ステップ、
前記第2撮像装置により前記基板の基準部位を撮像し、撮像画像上の任意の位置を指定する第2位置指定ステップの少なくともいずれかと、
前記撮像画像上における前記基準部位の位置と前記指定した位置とに基づいて補正データを算出する第3補正データ算出ステップと、
前記補正データに基づいて前記ヘッドの位置、前記基板の位置、処理タイミングの少なくともいずれかを補正する補正ステップと、
を具備することを特徴とするヘッドの補正方法。
A method of correcting a head that is movable relative to a substrate and performs a predetermined process,
A first position designation step of imaging a reference portion of the head by the first imaging device and designating an arbitrary position on the captured image;
At least one of a second position designation step of imaging a reference portion of the substrate by the second imaging device and designating an arbitrary position on the captured image;
A third correction data calculating step for calculating correction data based on the position of the reference portion on the captured image and the designated position;
A correction step of correcting at least one of the position of the head, the position of the substrate, and the processing timing based on the correction data;
A method of correcting a head, comprising:
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