JP2006252922A - Manufacturing method of display panel - Google Patents

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JP2006252922A JP2005067233A JP2005067233A JP2006252922A JP 2006252922 A JP2006252922 A JP 2006252922A JP 2005067233 A JP2005067233 A JP 2005067233A JP 2005067233 A JP2005067233 A JP 2005067233A JP 2006252922 A JP2006252922 A JP 2006252922A
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Takashi Ishikawa
隆司 石川
Isayuki Matsubara
功幸 松原
Shigeru Suzuki
繁 鈴木
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Pioneer Corp
Pioneer Display Products Corp
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Pioneer Display Products Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of display panel capable of improving productivity. <P>SOLUTION: The manufacturing method of a display panel, forming a barrier rib by forming a barrier rib forming material layer on a back side glass plate 1 on which an address electrode is formed and by grinding it by a sand blast method, comprises a process of sticking an electrode protecting DFR 5 formed by photosensitive material on a part of the glass plate where a draw-out electrode Da is exposed, before a grinding process of sand blast method; a process of making an exposing mask 6, made of transmissive material on which a light-dispersing surface treatment is applied, face on the electrode protecting DFR 5; and an exposing process exposing the electrode protecting DFR 5 through the exposing mask 6 after the above process. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明は、表示パネルの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a display panel.

所要の電極が配置された二枚の基板が密閉空間を介して互いに対向され、この電極の駆動により、赤,緑,青の三原色に色分けされた蛍光体が選択的に発光されることによって画像を形成するプラズマディスプレイパネル(PDP)等の平面型表示パネルは、一般的に、二枚の基板の間の密閉空間が、パネルの背面側に配置される基板(背面基板)上に形成された隔壁によって、画素またはセル毎に区画された構成を備えている。   Two substrates on which required electrodes are arranged are opposed to each other through a sealed space, and by driving these electrodes, phosphors colored in three primary colors of red, green, and blue are selectively emitted to generate an image. In general, a flat display panel such as a plasma display panel (PDP) is formed on a substrate (back substrate) in which a sealed space between two substrates is disposed on the back side of the panel. A partition is provided for each pixel or cell by a partition wall.

このような平面型表示パネルにおける隔壁の形成方法としては、サンドブラスト法が一般的に用いられている。   As a method for forming partition walls in such a flat display panel, a sandblast method is generally used.

この表示パネルの製造に用いられるサンドブラスト法は、所要の電極が形成されている背面基板上にガラス・ペースト等が塗布されて乾燥されることにより形成される層を、パターニングされた耐サンドブラスト・マスクを介して研磨剤によりブラストすることによって、背面基板上に所要の形状の隔壁を形成するものである。   The sand blasting method used in the manufacture of this display panel is a pattern in which a layer formed by applying a glass paste or the like on a back substrate on which a required electrode is formed and drying is patterned to be a sand blast resistant mask. A partition wall having a required shape is formed on the back substrate by blasting with an abrasive through the substrate.

ここで、例えば、背面基板上に形成されている電極の駆動回路等との接続のための外部接続端子(引出電極部)等は、ガラス・ペースト層やこのガラス・ペースト層の形成前に形成されている電極を被覆する絶縁層等から露出されており、隔壁の形成工程において、この電極の露出されている部分が損傷を受けるのを防止するために、サンドブラスト工程が実施される際に、この電極の露出部分を保護しておく必要がある。   Here, for example, external connection terminals (extraction electrode portions) for connection with the drive circuit of the electrodes formed on the back substrate are formed before the glass paste layer or this glass paste layer is formed. When the sandblasting process is performed in order to prevent the exposed part of the electrode from being damaged in the process of forming the partition wall, it is exposed from the insulating layer that covers the electrode that is applied. It is necessary to protect the exposed part of this electrode.

従来、このような隔壁のサンドブラスト工程時における電極の保護方法としては、表示パネルの製造装置に取り付けられた保護板によって電極の露出部を遮蔽しておく方法(例えば、特許文献1参照)や、基板上の電極の露出部の形成部分にドライ・フィルム・レジスト(以下、DFRという)を貼り付けて電極の露出部を保護しておく方法(例えば、特許文献2参照)などがある。   Conventionally, as a method for protecting the electrode during the sandblasting process of the partition wall, a method of shielding the exposed portion of the electrode with a protective plate attached to a display panel manufacturing apparatus (for example, see Patent Document 1), For example, there is a method in which a dry film resist (hereinafter referred to as DFR) is attached to a portion where the exposed portion of the electrode on the substrate is formed to protect the exposed portion of the electrode (for example, see Patent Document 2).

上記の保護板による電極の保護方法は、サンドブラスト工程時に保護板と基板との間に研磨材が巻き込まれて、電極を傷つけたり電極上に研磨材やガラス・ペースト層の研削くず等の異物が付着する可能性があったり、保護板による研磨材の破砕や保護板の寿命,保護板の取付け位置の精度など、高いメンテナンス性を要求されるので、製造コストが上昇するなどの問題点を有している。   The protection method of the electrode by the protection plate described above is that the abrasive is caught between the protection plate and the substrate during the sandblasting process, and the electrode is damaged or foreign matter such as abrasives or grinding waste of the glass paste layer is formed on the electrode. There is a possibility of adhesion, and there is a problem that the manufacturing cost rises because high maintainability is required such as crushing of abrasives by the protective plate, life of the protective plate, and accuracy of the mounting position of the protective plate. is doing.

このため、隔壁のサンドブラスト工程が実施される前に、基板上の電極の露出部分に電極保護用のDFRを貼り付けて電極を保護しておく方法が、既存設備の利用が可能である等の理由から、有望視されている。   For this reason, before the sandblasting process of the partition wall is performed, a method of protecting the electrode by attaching the DFR for electrode protection to the exposed portion of the electrode on the substrate can utilize the existing equipment. For reasons, it is considered promising.

しかしながら、このDFRの貼り付けによって隔壁のサンドブラスト工程時に電極を保護する方法も、下記のような問題点を有している。   However, the method of protecting the electrodes during the sandblasting process of the partition walls by attaching the DFR also has the following problems.

すなわち、基板上に貼り付けられた電極保護用のDFRは、隔壁のサンドブラスト工程の終了後のレジスト剥離工程において、隔壁形成用のレジスト・マスクとともに剥離されるが、通常、電極保護用DFRは、電極およびガラス基板上に貼り付けられるので、隔壁形成用材料層上に貼り付けられたDFRよりも密着性が高くなり、レジスト剥離工程において剥離性があまり良くない。   That is, the DFR for protecting the electrode attached on the substrate is peeled off together with the resist mask for forming the partition wall in the resist stripping step after the sandblasting process of the partition wall. Since it is affixed on an electrode and a glass substrate, adhesiveness becomes higher than DFR affixed on the partition formation material layer, and peelability is not so good in a resist peeling process.

このため、生産性を向上させるためには、この電極保護用DFRの剥離性を向上させることが課題になるため、DFRを剥離するための装置の増強や強力な剥離液の使用等の必要性が生じてくるが、これによって、製造装置の大型化による設置スペースの拡大およびリードタイムの増加,設備費の上昇といった問題や、高濃度の剥離液の使用による作業者の安全性の低下および環境への悪影響といった問題が発生する。   For this reason, in order to improve productivity, it becomes a subject to improve the releasability of this DFR for electrode protection. Therefore, it is necessary to enhance the apparatus for peeling the DFR or use a strong stripping solution. This causes problems such as an increase in installation space and lead time, an increase in equipment costs due to an increase in the size of manufacturing equipment, a decrease in worker safety due to the use of a high concentration stripping solution, and the environment. Problems such as adverse effects on

特開2001−222946号公報JP 2001-222946 A 特開2000−100327号公報JP 2000-100367 A

この発明は、上記のような従来の表示パネルの製造方法における問題点を解決することをその技術的課題の一つとしている。   An object of the present invention is to solve the problems in the conventional display panel manufacturing method as described above.

この発明による表示パネルの製造方法は、上記目的を達成するために、表面に電極が形成された基板上に、この電極の一部を露出させた状態で所要の構造物を形成するための材料層を形成し、この材料層をサンドブラスト法によって研削することにより所要の形状の構造物を形成する表示パネルの製造方法において、前記材料層をサンドブラスト法によって研削する工程の前に、感光性材料による保護膜を基板上の電極が露出されている部分上に形成する工程と、前記保護膜上に、透過性材料によって形成されるとともに表面において光を散乱させる表面処理が施された露光マスクを対向させる工程と、この工程の後に、露光マスクを介して保護膜を露光させる露光工程と、この露光工程および材料層をサンドブラスト法によって研削する工程の終了後に、基板上に貼り付けられた保護膜を剥離させる剥離工程とを含んでいることを特徴としている。   In order to achieve the above object, a manufacturing method of a display panel according to the present invention is a material for forming a required structure on a substrate having an electrode formed on the surface, with a part of the electrode exposed. In a manufacturing method of a display panel in which a layer having a desired shape is formed by grinding a layer by sandblasting, the material layer is coated with a photosensitive material before the step of grinding the material layer by sandblasting. A step of forming a protective film on a portion of the substrate where the electrode is exposed is opposed to an exposure mask formed on the protective film by a transparent material and subjected to a surface treatment for scattering light on the surface. An exposure step of exposing the protective film through an exposure mask, and a step of grinding the exposure step and the material layer by a sandblast method. After the completion, it is characterized in that it includes a release step of peeling the protective film stuck on the substrate.

この発明は、ガラス基板上に形成された電極を、その端部の引出電極部を基板上に露出させた状態で誘電体層によって被覆し、さらに、この誘電体層上に、例えばPDPの放電空間を区画する隔壁等の構造物をサンドブラスト法によって形成するための材料層を形成し、この材料層を、感光性材料によって構成されて露光によって所要の構造物の成形パターンに形成されたレジスト・マスクを介して研削することによって基板および電極上に所要の形状の構成物を形成するPDP等の表示パネルの製造工程において、材料層のサンドブラスト法による研削工程が行われる前に、電極の引出電極部が露出されているガラス基板上の部分に、感光性材料によって形成される保護膜を貼り付ける工程と、この保護層に、例えば梨子地状または格子状などの細かい凹凸を形成する等の方法によって、表面において照射される光を散乱させる表面処理が施された露光マスクを対向させる工程と、この露光マスクを介して保護膜を材料層のレジスト・マスクとともに露光させる工程と、材料層の研削工程の終了後に保護層を基板上から剥離させる剥離工程を含んでいる表示パネルの製造方法を、その最良の実施形態としている。   In the present invention, an electrode formed on a glass substrate is covered with a dielectric layer in a state in which an extraction electrode portion at an end thereof is exposed on the substrate, and further, for example, a PDP discharge is formed on the dielectric layer. A resist layer is formed by forming a material layer for forming a structure such as a partition wall that divides a space by a sandblasting method, and the material layer is formed of a photosensitive material and formed into a molding pattern of a required structure by exposure. In a manufacturing process of a display panel such as a PDP in which a component having a required shape is formed on a substrate and an electrode by grinding through a mask, before the material layer is subjected to a sandblasting grinding process, an extraction electrode of the electrode A step of applying a protective film formed of a photosensitive material to a portion on the glass substrate where the portion is exposed, and a protective layer, for example, a pear ground or a lattice A method of forming a fine unevenness or the like, a process of facing an exposure mask that has been subjected to a surface treatment that scatters light irradiated on the surface, and a protective film together with the resist mask of the material layer through this exposure mask The display panel manufacturing method including the step of exposing and the peeling step of peeling the protective layer from the substrate after the material layer grinding step is the best embodiment.

この実施形態による表示パネルの製造方法は、材料層がサンドブラスト法によって研削されて基板上に所要の形状の構造物が成形される際に、基板上に露出されている電極の外部の回路等との接続のための引出電極部が、この引出電極部が露出している基板上の部分に貼り付けられている保護膜によって保護されていることによって、引出電極部が損傷したり、この引出電極部に材料層の研削屑等が付着したりするのが防止される。   The display panel manufacturing method according to this embodiment includes a circuit outside the electrodes exposed on the substrate when the material layer is ground by the sandblast method and a structure having a required shape is formed on the substrate. The lead electrode part for connecting the lead electrode part is protected by a protective film attached to the part on the substrate where the lead electrode part is exposed, so that the lead electrode part is damaged or the lead electrode part is damaged. It is prevented that grinding scraps of the material layer adhere to the part.

そして、この電極の保護膜が材料層のレジスト・マスクとともに露光される際に、保護膜に対向されている露光マスクに施された表面処理によって、露光ランプから照射される光が露光マスクの表面で散乱されて、この露光マスクを透過して保護膜に照射される光量が材料層のレジスト・マスクに照射される光量よりも減少されることにより、保護膜のガラス基板および引出電極に対する密着性が減少され、これによって、保護膜をガラス基板から剥離させる際に、大型の剥離装置を必要としたり、強力または高濃度の剥離液を使用したりすることなく、容易に剥離を行うことが出来るようになるとともに、保護膜の露光工程を材料層のレジスト・マスクと別個に行う必要もなくなる。   Then, when the protective film of this electrode is exposed together with the resist mask of the material layer, the light irradiated from the exposure lamp is irradiated by the surface treatment applied to the exposure mask facing the protective film. The amount of light that is scattered by the exposure mask and transmitted to the protective film through the exposure mask is reduced compared to the amount of light that is applied to the resist mask of the material layer, so that the protective film adheres to the glass substrate and the extraction electrode. As a result, when the protective film is peeled off from the glass substrate, peeling can be easily performed without requiring a large peeling device or using a strong or high concentration peeling solution. In addition, it is not necessary to perform the protective film exposure step separately from the resist mask of the material layer.

以下、図面を参照しながら、この発明の実施形態における第1の実施例について詳細に説明を行う。   Hereinafter, the first example of the embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

なお、この発明は、基板上に形成された電極上にさらにサンドブラスト法によって隔壁等の構造物を形成する種々の平面型表示パネルの製造方法に適用することが出来るが、以下においては、表示パネルとしてPDPを例に挙げて説明を行う。   The present invention can be applied to various flat panel display manufacturing methods in which a structure such as a partition wall is further formed on an electrode formed on a substrate by a sand blasting method. As an example, PDP will be described.

図1は、PDPの製造工程における背面ガラス基板の隔壁成形時の状態を示す側面図であり、図2は、背面ガラス基板上に形成されたアドレス電極の状態を示す部分平面図である。   FIG. 1 is a side view showing a state of the rear glass substrate during the partition molding in the PDP manufacturing process, and FIG. 2 is a partial plan view showing the state of the address electrodes formed on the rear glass substrate.

この図1および2において、PDPの製造工程は、先ず、PDPの背面側に位置される背面ガラス基板1上に、互いに平行に並設される複数のアドレス電極Dと、パネルの周縁部分に形成される非表示領域内に位置されてアドレス電極DをPDPの駆動回路と接続するための引出電極Daが一体成形される。   1 and 2, the manufacturing process of the PDP is first formed on the rear glass substrate 1 positioned on the back side of the PDP, on a plurality of address electrodes D arranged in parallel with each other and on the peripheral portion of the panel. A lead electrode Da for connecting the address electrode D to the driving circuit of the PDP, which is positioned in the non-display area, is integrally formed.

次に、図2に示されるように、このアドレス電極Dと引出電極Daが形成された背面ガラス基板1上に、ガラス・ペースト等の誘電材料ペーストが塗布されることによってアドレス電極保護層2が形成されて、アドレス電極Dが被覆される。   Next, as shown in FIG. 2, a dielectric material paste such as glass paste is applied on the rear glass substrate 1 on which the address electrode D and the extraction electrode Da are formed, whereby the address electrode protection layer 2 is formed. After being formed, the address electrode D is covered.

このとき、アドレス電極保護層2は引出電極Daが形成されている部分には形成されず、引出電極Daは、アドレス電極保護層2によっては被覆されずに背面ガラス基板1上に露出された状態になっている。   At this time, the address electrode protection layer 2 is not formed in the portion where the extraction electrode Da is formed, and the extraction electrode Da is not covered with the address electrode protection layer 2 and is exposed on the rear glass substrate 1. It has become.

なお、この各引出電極Daは、所要の本数ずつグループ化されて、背面ガラス基板1上の非表示領域部分に配置されている。   Each of the extraction electrodes Da is grouped by a required number and arranged in a non-display area portion on the rear glass substrate 1.

次に、アドレス電極保護層2上に、ガラス・ペースト等の隔壁形成材料ペーストが塗布されることによって隔壁形成材料層3が形成され、さらに、この隔壁形成材料層3上に、感光性材料によって形成された隔壁形成用DFR(ドライ・フィルム・レジスト)4が貼り付けられる。   Next, a partition wall forming material layer 3 such as glass paste is applied on the address electrode protective layer 2 to form a partition wall forming material layer 3. Further, on the partition wall forming material layer 3, a photosensitive material is used. The formed partition forming DFR (dry film resist) 4 is attached.

次に、背面ガラス基板1上の引出電極Daが露出されている部分に、感光性材料によって形成された電極保護用DFR5が貼り付けられて、この電極保護用DFR5によって引出電極Daが覆われる。   Next, the electrode protection DFR5 formed of a photosensitive material is attached to the exposed portion of the extraction electrode Da on the rear glass substrate 1, and the extraction electrode Da is covered with the electrode protection DFR5.

そして、隔壁形成用DFR4上に隔壁パターン形成のための露光用マスクが対向されるとともに、図3に示されるように、電極保護用DFR5上に、透過性材料によって形成された露光マスク6が対向される。   Then, an exposure mask for forming a barrier rib pattern is opposed to the barrier rib forming DFR 4 and, as shown in FIG. 3, an exposure mask 6 made of a transparent material is opposed to the electrode protecting DFR 5. Is done.

この電極保護用DFR5用の露光マスク6の表面には、細かな凹凸が形成されている。   Fine irregularities are formed on the surface of the exposure mask 6 for the DFR 5 for electrode protection.

この電極保護用DFR5用の露光マスク6上に形成される凹凸の形状としては、例えば、所謂、梨子地状(図3参照)や格子状(図4の露光マスク6Aを参照)の凹凸パターン等が挙げられる。   Examples of the uneven shape formed on the exposure mask 6 for the DFR 5 for electrode protection include, for example, a so-called concavo-convex pattern (see FIG. 3) or a lattice pattern (see the exposure mask 6A in FIG. 4). Is mentioned.

この露光マスク6の表面の凹凸は、露光マスク6の成形後に、サンドブラストによってその表面の加工を行ったり、また、露光マスク6の成形時に同時にその表面に凹凸を形成する等の方法によって形成される。   The unevenness of the surface of the exposure mask 6 is formed by a method such as processing the surface by sand blasting after forming the exposure mask 6 or forming unevenness on the surface at the same time as forming the exposure mask 6. .

次に、露光ランプからのUV照射により、形成する隔壁の形状に対応したパターンを有するマスクを介して隔壁形成用DFR4に対する露光工程が行われて、隔壁形成用DFR4に、隔壁の形成パターンに対応した露光部と未露光部が形成される。   Next, an exposure process for the partition forming DFR 4 is performed by UV irradiation from an exposure lamp through a mask having a pattern corresponding to the shape of the partition to be formed, and the partition forming DFR 4 corresponds to the partition formation pattern. An exposed portion and an unexposed portion are formed.

そして、これと同時に、引出電極Da上に貼り付けられた電極保護用DFR5に対しても、露光マスク6を介して露光ランプからのUV照射による露光が行われる。   At the same time, the electrode protection DFR 5 attached on the extraction electrode Da is also exposed by UV irradiation from the exposure lamp via the exposure mask 6.

次に、隔壁形成用DFR4の現像工程が行われ、隔壁形成用DFR4の光硬化していない未露光部分が除去された後、隔壁形成用DFR4の現像によって形成されたサンドブラスト・マスクを介してサンドブラスト工程が行われて、所要の形状の隔壁が成形される。   Next, a development process of the partition wall forming DFR 4 is performed, and after unexposed portions of the partition wall forming DFR 4 that are not photocured are removed, sand blasting is performed through a sand blast mask formed by development of the partition wall forming DFR 4. A process is performed and the partition of a required shape is shape | molded.

そして、この後、隔壁上のサンドブラスト・マスクの剥離が行われ、これと同時に、電極保護用DFR5の剥離工程が行われる。   Thereafter, the sandblast mask on the partition walls is peeled off, and at the same time, the peeling process of the electrode protecting DFR5 is carried out.

ここで、上記において、電極保護用DFR5の露光工程が行われる際に、露光マスク6の表面に、前述したように、梨子地状または格子状等の凹凸が形成されていることによって、この電極保護用DFR5に対して照射された露光ランプからのUV光が、露光マスク6の表面の凹凸によって散乱され、これによって、電極保護用DFR5の露光量が、隔壁形成用DFR4の露光量よりも減少される。   Here, in the above, when the exposure step of the DFR 5 for electrode protection is performed, the surface of the exposure mask 6 is formed with irregularities such as a pear-like shape or a lattice shape, as described above. The UV light from the exposure lamp irradiated to the protective DFR 5 is scattered by the irregularities on the surface of the exposure mask 6, thereby reducing the exposure amount of the electrode protective DFR 5 than the exposure amount of the partition wall forming DFR 4. Is done.

感光性レジストは、その露光量によって密着性が変化し、露光量が多いほどその密着性が増加するが、上記のように、電極保護用DFR5の露光量が隔壁形成用DFR4の露光量よりも減少することによって、電極保護用DFR5の背面ガラス基板1および引出電極Daに対する密着性が減少されて、例えば、隔壁形成用DFR4の隔壁形成材料層3に対する密着性と同じか、または、それよりも小さくなる。   The adhesiveness of the photosensitive resist changes depending on the exposure amount, and the adhesion amount increases as the exposure amount increases. As described above, the exposure amount of the electrode protecting DFR5 is higher than the exposure amount of the partition wall forming DFR4. By reducing, the adhesiveness of the DFR 5 for electrode protection to the rear glass substrate 1 and the extraction electrode Da is reduced. For example, the adhesiveness to the partition wall forming material layer 3 of the partition wall forming DFR 4 is equal to or more than that. Get smaller.

これによって、電極保護用DFR5の剥離工程の際に、従来のように大型の剥離装置を必要としたり、強力または高濃度の剥離液を使用したりすることなく、容易に電極保護用DFR5を剥離させることが出来るようになる。   As a result, the electrode protection DFR5 can be easily peeled off without requiring a large peeling device or using a strong or high-concentration stripping solution as in the past in the step of peeling the electrode protection DFR5. You will be able to

なお、電極保護用DFR5に対する露光量を減らす方法としては、電極保護用DFR5に対する露光ランプからのUV光の照射量自体を減らす方法も考えられるが、隔壁形成用DFRと電極保護用DFRに対するUV光の照射は、通常、同じ露光ランプによって同時に行われ、もし、隔壁形成用DFRと電極保護用DFRに対するUV光の照射を別個に行う場合には、露光ランプを2つ用意し、さらに、隔壁形成用DFRに対するUV光の照射と電極保護用DFRに対するUV光の照射とが干渉しないように、露光装置に物理的な遮蔽手段を設置する必要が生じる等、製造装置の複雑化を招来することになる。   As a method of reducing the exposure amount for the electrode protection DFR 5, a method of reducing the irradiation amount itself of UV light from the exposure lamp for the electrode protection DFR 5 can be considered, but the UV light for the partition formation DFR and the electrode protection DFR is also considered. Is normally performed simultaneously by the same exposure lamp. If the partition wall formation DFR and the electrode protection DFR are separately irradiated with UV light, two exposure lamps are prepared. In order to prevent the irradiation of the UV light to the DFR for use and the irradiation of the UV light to the electrode protection DFR, it is necessary to install a physical shielding means in the exposure apparatus, which causes a complicated manufacturing apparatus. Become.

上記の表示パネルの製造方法によれば、既存の製造装置の変更を伴うことなく、容易に電極保護用DFR5の背面ガラス基板1および引出電極Daに対する密着力を減少させることが出来、これによって、この電極保護用DFR5の剥離工程を容易に行うことが出来るようになる。   According to the above method for manufacturing a display panel, the adhesion force of the DFR 5 for electrode protection to the rear glass substrate 1 and the extraction electrode Da can be easily reduced without changing the existing manufacturing apparatus. The peeling process of the electrode protecting DFR 5 can be easily performed.

なお、上記において、全ての引出電極Daを一枚の電極保護用DFRによって覆うようにしても良く、また、引出電極Daを各グループ毎や数グループ毎に電極保護用DFRによって覆うようにしても良い。   In the above, all the extraction electrodes Da may be covered with a single electrode protection DFR, and the extraction electrodes Da may be covered with the electrode protection DFR for each group or every several groups. good.

また、上記においては、隔壁形成用DFR4と電極保護用DFR5が別体になっている例が示されているが、隔壁形成用DFRと電極保護用DFRを一体に形成して、背面ガラス基板および隔壁形成材料層状に貼り付けるようにしても良い。   Further, in the above, an example is shown in which the partition wall forming DFR 4 and the electrode protection DFR 5 are separated, but the partition wall forming DFR and the electrode protection DFR are integrally formed, and the rear glass substrate and You may make it stick on the partition formation material layer form.

また、図1に示されるように、サンドブラスト工程時に、背面ガラス基板1の電極保護用DFR5によって覆われていない部分のサンドブラストによるダメージを回避するために、保護板7を使用して、背面ガラス基板1上の非表示領域部分をカバーするようにしてもよい。   In addition, as shown in FIG. 1, in order to avoid damage caused by sandblasting of the portion of the back glass substrate 1 that is not covered with the electrode protection DFR 5 during the sandblasting process, the back glass substrate is used. The non-display area part on 1 may be covered.

この保護板7は、アドレス電極Dの引出電極Daが電極保護用DFR5によって保護されているため、サンドブラスト工程時の研磨剤の巻き込み等による影響を考慮する必要がないので、簡易な保護板で良く、また、シビアな取付位置精度も要求されない。   Since the lead electrode Da of the address electrode D is protected by the electrode protection DFR 5, the protection plate 7 does not need to take into account the influence of the entrainment of the abrasive during the sandblasting process, so a simple protection plate may be used. Also, severe mounting position accuracy is not required.

この保護板7が併設されることで、電極保護用DFR5に対して高い耐ブラスト性を要求されることがなくなる。   By providing this protective plate 7, the electrode protection DFR 5 is not required to have high blast resistance.

図5は、この発明の実施形態における第2の実施例を示している。   FIG. 5 shows a second example of the embodiment of the present invention.

なお、以下においては、第1実施例の場合と同様に、表示パネルとしてPDPを例に挙げて説明を行う。   In the following description, as in the case of the first embodiment, the display panel will be described by taking a PDP as an example.

PDPの製造工程において、アドレス電極保護層上に隔壁形成材料ペーストによって隔壁形成材料層が形成され、この隔壁形成材料層上に隔壁形成用DFR4が貼り付けられた後、図5に示されるように、背面ガラス基板1上の周縁部の非表示領域となる部分に、全ての引出電極Daまたはグループ毎や数グループ毎に引出電極Daを覆うように、感光性材料によって形成された電極保護用DFR15がべたに貼り付けられる。   In the manufacturing process of the PDP, a partition wall forming material layer is formed on the address electrode protective layer with a partition wall forming material paste, and a partition wall forming DFR 4 is attached on the partition wall forming material layer, and as shown in FIG. The DFR 15 for electrode protection formed of a photosensitive material so as to cover all the extraction electrodes Da or the extraction electrodes Da for each group or every several groups in a portion which becomes a non-display area at the peripheral edge on the rear glass substrate 1. Affixed to the solid.

そして、この電極保護用DFR15上に、露光マスク16が対向される。   The exposure mask 16 is opposed to the electrode protection DFR 15.

この露光マスク16は、図6に示されるように、電極保護用DFR15上に対向された際に所定のピッチで平行に配列されている引出電極Daにそれぞれ対向する部分の間に位置する部分に、光透過性を有しない材料によって形成されて引出電極Daと平行に延びる帯状の遮光部16aが形成されている。   As shown in FIG. 6, the exposure mask 16 is positioned between the portions facing the extraction electrodes Da arranged in parallel at a predetermined pitch when opposed to the electrode protection DFR 15. A band-shaped light shielding portion 16a formed of a material having no light transmittance and extending in parallel with the extraction electrode Da is formed.

そして、この露光マスク16の遮光部16aを除いた部分は、光透過性を有する材料によって形成されているとともに、その表面に、第1実施例の露光マスク6と同様に、所謂、梨子地状または格子状等の細かな凹凸が形成されている(図示の例では梨子地状の凹凸が形成されている)。   And the part except the light-shielding part 16a of this exposure mask 16 is formed with the material which has a light transmittance, and is the so-called pear-like shape on the surface similarly to the exposure mask 6 of 1st Example. Or fine irregularities, such as a lattice shape, are formed (in the example shown, a pear-like irregularity is formed).

次に、電極保護用DFR15の露光工程が行われる。   Next, an exposure step of the electrode protection DFR 15 is performed.

このとき、露光マスク16の表面に梨子地状または格子状等の凹凸が形成されている部分に対向している部分の電極保護用DFR15が、この露光マスク16を通過したUV光によって露光されて硬化するが、遮光部16aに対向している部分の電極保護用DFR15は露光されず、硬化されない。   At this time, the electrode protecting DFR 15 facing the portion where the surface of the exposure mask 16 is formed with irregularities such as a pear-like or lattice pattern is exposed by the UV light that has passed through the exposure mask 16. Although cured, the electrode protecting DFR 15 in the portion facing the light shielding portion 16a is not exposed and is not cured.

次に現像工程が行われ、この現像工程によって電極保護用DFR15の露光工程において露光されていない部分が除去されることにより、電極保護用DFR15の引出電極Daの間の部分に対向する各位置に、各引出電極Daと平行に延びるスリット15aが形成される。   Next, a developing process is performed. By this developing process, a portion that is not exposed in the exposure process of the electrode protecting DFR 15 is removed, so that each position facing the portion between the extraction electrodes Da of the electrode protecting DFR 15 is provided. A slit 15a extending in parallel with each extraction electrode Da is formed.

上記の露光工程において、露光ランプから露光マスク16を介して電極保護用DFR15に照射されるUV光が、露光マスク16の表面の凹凸によって散乱されることにより、電極保護用DFR15の露光量が、隔壁形成用DFR4の露光量よりも減少される。   In the above exposure process, the UV light irradiated from the exposure lamp to the electrode protection DFR 15 through the exposure mask 16 is scattered by the irregularities on the surface of the exposure mask 16, so that the exposure amount of the electrode protection DFR 15 is It is less than the exposure amount of the partition forming DFR 4.

これによって、第1実施例の場合と同様に、電極保護用DFR15の背面ガラス基板1および引出電極Daに対する密着力が減少して、電極保護用DFR15の剥離工程の際に、従来のように大型の剥離装置を必要としたり、強力または高濃度の剥離液を使用したりすることなく、容易に電極保護用DFR15を剥離させることが出来るようになる。   As a result, as in the case of the first embodiment, the adhesion force of the DFR 15 for electrode protection to the rear glass substrate 1 and the extraction electrode Da is reduced, and the electrode protection DFR 15 has a large size as in the past in the peeling process. Thus, the electrode protection DFR 15 can be easily peeled off without using a peeling device or using a strong or high concentration peeling solution.

そして、この実施例においては、電極保護用DFR15の引出電極Daの間の部分に対向する各位置にスリット15aがそれぞれ形成されていることによって、その剥離工程の際に、このスリット15aから剥離液が浸透して電極保護用DFR15の膨潤が促進されるので、電極保護用DFR15の剥離がさらに容易に行われるようになる。   In this embodiment, the slit 15a is formed at each position facing the portion between the extraction electrodes Da of the DFR 15 for electrode protection, so that the stripping liquid is removed from the slit 15a during the stripping process. As the electrode penetrates and the swelling of the electrode protecting DFR 15 is promoted, the electrode protecting DFR 15 is more easily peeled off.

また、この実施例における電極保護用DFR15は、各引出電極Daを覆う部分が繋がっているために、剥離工程において、電極保護用DFR15は、一カ所から剥離が始まると残りの部分が繋がって剥離されるので、剥がれ残しが生じる虞が無い。   In addition, since the electrode protection DFR 15 in this embodiment is connected to the portion covering each extraction electrode Da, the electrode protection DFR 15 is peeled off by connecting the remaining portions when peeling starts from one place. As a result, there is no risk of unpeeling.

なお、上記において、全ての引出電極Daを一枚の電極保護用DFRによって覆うようにしても良く、また、引出電極Daをグループ毎や数グループ毎に電極保護用DFRによって覆うようにしても良い。   In the above, all the extraction electrodes Da may be covered with one electrode protection DFR, and the extraction electrodes Da may be covered with the electrode protection DFR for each group or every several groups. .

また、上記においては、隔壁形成用DFR4と電極保護用DFR15が別体になっている例が示されているが、隔壁形成用DFRと電極保護用DFRを一体に形成して、背面ガラス基板および隔壁形成材料層状に貼り付けるようにしても良い。   In the above example, the partition forming DFR 4 and the electrode protecting DFR 15 are shown as separate bodies. However, the partition forming DFR and the electrode protecting DFR are integrally formed, and the rear glass substrate and You may make it stick on the partition formation material layer form.

さらにまた、この実施例においても、第1実施例の場合と同様に、サンドブラスト工程時に、背面ガラス基板1の電極保護用DFR15によって覆われていない部分のサンドブラストによるダメージを回避するために、保護板を使用して、背面ガラス基板1上の非表示領域部分をカバーするようにしても良い。   Further, in this embodiment, as in the case of the first embodiment, in order to avoid damage caused by sandblasting in the portion not covered with the electrode protection DFR 15 of the back glass substrate 1 during the sandblasting process, May be used to cover the non-display area portion on the rear glass substrate 1.

図7は、この発明の実施形態における第3の実施例を示している。   FIG. 7 shows a third example of the embodiment of the present invention.

なお、以下においては、第1実施例の場合と同様に、表示パネルとしてPDPを例に挙げて説明を行う。   In the following description, as in the case of the first embodiment, the display panel will be described by taking a PDP as an example.

PDPの製造工程において、アドレス電極保護層上に隔壁形成材料ペーストによって隔壁形成材料層が形成され、この隔壁形成材料層上に隔壁形成用DFR4が貼り付けられた後、図7に示されるように、背面ガラス基板1上の周縁部の非表示領域内に形成されている引出電極Da上に、電極保護用DFR25がべたに貼り付けられる。   In the manufacturing process of the PDP, a partition wall forming material layer is formed on the address electrode protective layer with a partition wall forming material paste, and a partition wall forming DFR 4 is attached on the partition wall forming material layer, and as shown in FIG. The electrode protecting DFR 25 is stuck on the lead electrode Da formed in the non-display area at the peripheral edge on the rear glass substrate 1.

そして、この各電極保護用DFR25上に、露光マスク26が対向される。   Then, an exposure mask 26 is opposed to each electrode protecting DFR 25.

この露光マスク26は、図8に示されるように、電極保護用DFR25上に対向された際に各引出電極Daに対向する部分を含む帯状部分(透光部)26Aが、それぞれ光透過性を有する材料によって形成され、他の部分(遮光部)26Bが、光透過性を有しない材料によって形成されている。   As shown in FIG. 8, the exposure mask 26 has a band-like portion (translucent portion) 26A including a portion facing each extraction electrode Da when opposed to the electrode protecting DFR 25. The other part (light-shielding part) 26B is formed of a material that does not have optical transparency.

そして、この露光マスク26の光透過性の材料によって形成された透光部26Aの表面に、第1実施例の露光マスク6と同様に、所謂、梨子地状または格子状等の細かな凹凸が形成されている(図示の例では、梨子地状の凹凸が形成されている)。   Then, on the surface of the translucent portion 26A formed of the light transmissive material of the exposure mask 26, as in the exposure mask 6 of the first embodiment, fine irregularities such as a so-called satin or grid pattern are formed. It is formed (in the illustrated example, a pear-like unevenness is formed).

次に、電極保護用DFR25の露光工程が行われる。   Next, an exposure process of the electrode protection DFR 25 is performed.

このとき、露光マスク26の透光部26Aに対向している部分の電極保護用DFR25が、この透光部26Aを通過したUV光によって露光されて硬化するが、遮光部26Bに対向している部分の電極保護用DFR25は露光されず、硬化されない。   At this time, the electrode protecting DFR 25 of the portion of the exposure mask 26 facing the light transmitting portion 26A is exposed and cured by the UV light passing through the light transmitting portion 26A, but faces the light shielding portion 26B. The part DFR 25 for electrode protection is not exposed and is not cured.

次に、現像工程が行われて、電極保護用DFR25の引出電極Daに対向する部分とその周辺部の帯状部分以外の露光されていない部分が、除去される。   Next, a developing process is performed to remove the portions that are not exposed except for the portion facing the extraction electrode Da of the DFR 25 for electrode protection and the belt-shaped portion around the periphery.

上記の露光工程において、露光マスク26の透光部26Aの表面に梨子地状または格子状等の凹凸が形成されていることによって、露光ランプから透光部26Aを介して電極保護用DFR25に照射されたUV光が透光部26Aの表面の凹凸によって散乱されることにより、電極保護用DFR25の引出電極Daを被覆する部分の露光量が、隔壁形成用DFR4の露光量よりも減少される。   In the above exposure process, the surface of the light transmitting portion 26A of the exposure mask 26 is formed with irregularities such as a pear-like shape or a lattice shape so that the electrode protection DFR 25 is irradiated from the exposure lamp through the light transmitting portion 26A. The UV light thus scattered is scattered by the irregularities on the surface of the translucent portion 26A, so that the exposure amount of the portion that covers the extraction electrode Da of the electrode protection DFR 25 is smaller than the exposure amount of the partition forming DFR 4.

これによって、第1実施例の場合と同様に、電極保護用DFR25の背面ガラス基板1および引出電極Daに対する密着力が減少して、電極保護用DFR25の剥離工程の際に、従来のように大型の剥離装置を必要としたり、強力または高濃度の剥離液を使用したりすることなく、容易に電極保護用DFR25を剥離させることが出来るようになる。   As a result, as in the case of the first embodiment, the adhesion force of the DFR 25 for electrode protection to the rear glass substrate 1 and the extraction electrode Da is reduced, so that the large size as in the prior art is used in the peeling process of the electrode protection DFR 25. Therefore, the electrode protecting DFR 25 can be easily peeled off without the need for a peeling device or using a strong or high concentration peeling solution.

そして、この実施例においては、帯状に成形された電極保護用DFR25が各引出電極Da上に個別に貼り付けられるので、電極保護用DFR25の背面ガラス基板1に対する貼着面積が第1および第2実施例の場合に比べて小さくなり、これによって、剥離工程の際に、各電極保護用DFR25に剥離液が浸透し易くなり、電極保護用DFR25の膨潤が促進されて、電極保護用DFR25の剥離がさらに容易に行われるようになる。   In this embodiment, since the DFR 25 for electrode protection formed in a strip shape is individually affixed on each extraction electrode Da, the adhering areas of the DFR 25 for electrode protection to the rear glass substrate 1 are first and second. Compared to the case of the embodiment, this makes it easier for the stripping solution to penetrate into each electrode protecting DFR 25 during the stripping step, and the swelling of the electrode protecting DFR 25 is promoted, so that the stripping of the electrode protecting DFR 25 is facilitated. Is more easily performed.

なお、この実施例においても、第1実施例の場合と同様に、サンドブラスト工程時に、背面ガラス基板1の電極保護用DFR25によって覆われていない部分のサンドブラストによるダメージを回避するために、保護板を使用して、背面ガラス基板1上の非表示領域部分をカバーするようにしても良い。   In this embodiment, as in the case of the first embodiment, a protective plate is used in order to avoid damage caused by sandblasting of the portion of the back glass substrate 1 not covered by the electrode protection DFR 25 during the sandblasting process. It may be used to cover a non-display area portion on the rear glass substrate 1.

この発明による製造方法の実施形態の第1実施例における工程説明図である。It is process explanatory drawing in 1st Example of embodiment of the manufacturing method by this invention. 同実施例におけるアドレス電極の形成状態を示す平面図である。It is a top view which shows the formation state of the address electrode in the Example. 同実施例において、背面ガラス基板上に電極保護用DFRおよび露光マスクが貼り付けられている状態を示す平面図である。In the Example, it is a top view which shows the state by which DFR for electrode protection and an exposure mask are affixed on the back glass substrate. 同実施例における露光マスクの他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the exposure mask in the Example. この発明による製造方法の実施形態の第2実施例において、背面ガラス基板上に電極保護用DFRおよび露光マスクが貼り付けられている状態を示す平面図である。In 2nd Example of embodiment of the manufacturing method by this invention, it is a top view which shows the state by which DFR for electrode protection and the exposure mask are affixed on the back glass substrate. 同実施例において使用される露光マスクを示す平面図である。It is a top view which shows the exposure mask used in the Example. この発明による製造方法の実施形態の第3実施例において、背面ガラス基板上に電極保護用DFRおよび露光マスクが貼り付けられている状態を示す平面図である。In 3rd Example of embodiment of the manufacturing method by this invention, it is a top view which shows the state by which DFR for electrode protection and the exposure mask are affixed on the back glass substrate. 同実施例において使用される露光マスクを示す平面図である。It is a top view which shows the exposure mask used in the Example.

符号の説明Explanation of symbols

1 …背面ガラス基板(基板)
2 …アドレス電極保護層(誘電体層)
3 …隔壁形成材料層(材料層)
4 …隔壁形成用DFR(レジスト膜)
5.5A,15,25 …電極保護用DFR(保護膜)
6,6A,16,26 …露光マスク
7 …保護板(保護部材)
15a …スリット
16a,26B …遮光部
26A …透光部
D …アドレス電極(電極)
Da …引出電極(電極の露出部分)
1 ... Back glass substrate (substrate)
2 ... Address electrode protective layer (dielectric layer)
3 ... partition wall forming material layer (material layer)
4 ... DFR (resist film) for barrier rib formation
5.5A, 15, 25 ... DFR (protective film) for electrode protection
6, 6A, 16, 26 ... exposure mask 7 ... protective plate (protective member)
15a ... slits 16a and 26B ... light shielding part 26A ... translucent part D ... address electrode (electrode)
Da: Extraction electrode (exposed part of electrode)

Claims (17)

表面に電極が形成された基板上に、この電極の一部を露出させた状態で所要の構造物を形成するための材料層を形成し、この材料層をサンドブラスト法によって研削することにより所要の形状の構造物を形成する表示パネルの製造方法において、
前記材料層をサンドブラスト法によって研削する工程の前に、感光性材料による保護膜を基板上の電極が露出されている部分上に形成する工程と、
前記保護膜上に、透過性材料によって形成されるとともに表面において光を散乱させる表面処理が施された露光マスクを対向させる工程と、
この工程の後に、露光マスクを介して保護膜を露光させる露光工程と、
この露光工程および材料層をサンドブラスト法によって研削する工程の終了後に、基板上に貼り付けられた保護膜を剥離させる剥離工程と、
を含んでいることを特徴とする表示パネルの製造方法。
A material layer for forming a required structure is formed on a substrate having an electrode formed on the surface with a part of the electrode exposed, and the material layer is ground by a sand blast method. In a manufacturing method of a display panel that forms a structure having a shape,
Before the step of grinding the material layer by the sand blast method, forming a protective film made of a photosensitive material on the portion where the electrode on the substrate is exposed;
On the protective film, facing the exposure mask formed of a transmissive material and subjected to a surface treatment that scatters light on the surface;
After this step, an exposure step of exposing the protective film through an exposure mask,
After the completion of the exposure step and the step of grinding the material layer by the sandblast method, a peeling step of peeling off the protective film attached on the substrate,
A display panel manufacturing method characterized by comprising:
前記露光マスクに施される表面処理が、保護膜の表面に凹凸を形成する処理である請求項1に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein the surface treatment applied to the exposure mask is a treatment for forming irregularities on the surface of the protective film. 前記露光マスクの表面の凹凸が、梨子地状に形成されている請求項2に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 2, wherein the unevenness of the surface of the exposure mask is formed in a pear-like shape. 前記露光マスクの表面の凹凸が、格子状パターンによって形成されている請求項2に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 2, wherein the unevenness of the surface of the exposure mask is formed by a lattice pattern. 前記基板上に配列されている複数の電極の露出部分の全てが覆われるように、または、所要のグループにグループ分けされた複数の電極の露出部分が各グループ毎に覆われるように、保護膜が形成される請求項1に記載の表示パネルの製造方法。   The protective film so that all exposed portions of the plurality of electrodes arranged on the substrate are covered, or the exposed portions of the plurality of electrodes grouped into a required group are covered for each group. The method of manufacturing a display panel according to claim 1, wherein: is formed. 前記保護膜の互いに隣接する電極の露出部分の間の位置に対向する部分に、それぞれスリットが形成される請求項5に記載の表示パネルの製造方法。   6. The method of manufacturing a display panel according to claim 5, wherein slits are respectively formed in portions of the protective film facing positions between exposed portions of adjacent electrodes. 前記露光マスクの保護層のスリットに対向する部分が、それぞれ透光性を有しない材料によって形成されている請求項6に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 6, wherein portions of the exposure mask that face the slits of the protective layer are each formed of a material that does not have translucency. 前記基板上に配列されている複数の電極の露出部分が各電極毎に個別に覆われるように、それぞれ保護膜が形成される請求項1に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein the protective film is formed so that the exposed portions of the plurality of electrodes arranged on the substrate are individually covered for each electrode. 前記露光マスクの電極毎に個別に形成される保護層にそれぞれ対向する部分以外の部分が、透光性を有しない材料によって形成されている請求項8に記載の表示パネルの製造方法。   9. The method for manufacturing a display panel according to claim 8, wherein a portion other than a portion facing the protective layer formed individually for each electrode of the exposure mask is formed of a material that does not have translucency. 前記材料層上にサンドブラスト処理のためのレジスト膜が貼り付けられ、このレジスト膜と保護膜が一体に形成されている請求項1に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein a resist film for sandblasting is attached on the material layer, and the resist film and the protective film are integrally formed. 前記材料層上にサンドブラスト処理のためのレジスト膜が貼り付けられ、このレジスト膜と保護膜が別体に形成されている請求項1に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein a resist film for sandblasting is attached on the material layer, and the resist film and the protective film are formed separately. 前記材料層上にサンドブラスト処理のためのレジスト膜が貼り付けられ、このレジスト膜の露光工程と保護膜の露光工程が、同じ露光ランプによって同時に行われる請求項1に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein a resist film for sandblasting is affixed on the material layer, and the resist film exposure step and the protective film exposure step are simultaneously performed by the same exposure lamp. 前記表示パネルがプラズマディスプレイパネルであり、基板上に形成される材料層が、互いに対向される二枚の基板の間に形成される放電空間を単位発光領域ごとに区画する隔壁形成用の材料層である請求項1に記載の表示パネルの製造方法。   The display panel is a plasma display panel, and the material layer formed on the substrate divides a discharge space formed between the two substrates facing each other for each unit light emitting region. The method of manufacturing a display panel according to claim 1. 前記記基板上に形成された電極の露出部分以外の部分を被覆する誘電体層を基板上に形成し、この誘電体層上に隔壁形成用の材料層を形成する請求項13に記載の表示パネルの製造方法。   14. The display according to claim 13, wherein a dielectric layer covering a portion other than the exposed portion of the electrode formed on the substrate is formed on the substrate, and a material layer for forming a partition wall is formed on the dielectric layer. Panel manufacturing method. 前記基板上に形成された電極の露出部分が、電極を外部に接続するための引出電極部である請求項13に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 13, wherein the exposed portion of the electrode formed on the substrate is a lead electrode portion for connecting the electrode to the outside. 前記基板がプラズマディスプレイパネルの背面基板であり、電極がプラズマディスプレイパネルの列方向に延び行方向に並設されたアドレス電極である請求項13に記載の表示パネルの製造方法。   14. The method of manufacturing a display panel according to claim 13, wherein the substrate is a rear substrate of the plasma display panel, and the electrodes are address electrodes extending in the column direction of the plasma display panel and arranged in parallel in the row direction. 前記材料層をサンドブラスト法によって研削する工程が行われるときに、基板の保護膜が貼り付けられている部分の上方を保護部材によってカバーする請求項1に記載の表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein when a step of grinding the material layer by a sandblast method is performed, the upper portion of the portion of the substrate where the protective film is attached is covered with a protective member.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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