JP2006247589A - Apparatus for applying coating liquid - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for applying a primer liquid on a base material in which the sticking of lint on the primer layer and the remaining of an excess primer component are easily suppressed. <P>SOLUTION: The coating apparatus fo a coating liquid has a coating zone for applying at least the primer liquid, a cleaning zone to clean the base material after coating and a mechanism for transporting the base material in each zone and between the zones. The cleaning zone has a mechanism for removing the primer component not bonded to the base material and/or the lint and the mechanism has a water supply mechanism and a cleaning mechanism having a cleaning pad in which a sponge having sponge hardness of 1-20 or a cleaning mechanism having a disk brush having ≤300 μm wire diameter and comprising a material having hardness of 1-2.5 in 10 stage Mohs hardness. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、基材に被膜を形成する前に基材と被膜との密着性を向上させるために基材に塗布液を塗布して基材上にプライマー層を形成するための装置に関する。   The present invention relates to an apparatus for forming a primer layer on a base material by applying a coating solution to the base material in order to improve the adhesion between the base material and the coating film before forming the coating film on the base material.

基材と基材上に形成される被膜との密着性を向上させるために、被膜の形成前にプライマー層を形成させることがある。そして基材がガラス基材の場合、プライマー層を形成するための塗布液(以下、プライマー液)には、アルコキシ基、イソシアネート基、ハロゲン基等の加水分解可能な官能基を有するケイ素化合物等と溶媒とを混合してなる塗布液が使用される。そして、形成される被膜の種類に応じて、前記ケイ素化合物が有する官能基の一部が必要な化学種となるように選択される。   In order to improve the adhesion between the substrate and the coating formed on the substrate, a primer layer may be formed before the coating is formed. When the substrate is a glass substrate, the coating liquid for forming the primer layer (hereinafter referred to as the primer liquid) includes a silicon compound having a hydrolyzable functional group such as an alkoxy group, an isocyanate group, and a halogen group. A coating solution obtained by mixing a solvent is used. And according to the kind of film formed, it selects so that a part of functional group which the said silicon compound has may become a required chemical species.

プライマー層は、基材と基材上に形成される被膜との密着性の向上を目的として形成されるので、プライマー液の塗布ムラ、プライマー層へのリントの付着、基材とは結合されなかったプライマー成分の基材上への残存等の欠陥原因は回避されなければならない。なぜなら、前記欠陥原因は、被膜と基材との密着性低下を引き起こすからである。又、基材がガラスや鏡等の光学部材で、被膜が可視光域に透光性を有する光学被膜である場合、前記欠陥原因は、光学歪をも生じさせるので、回避されなければならない。   Since the primer layer is formed for the purpose of improving the adhesion between the substrate and the coating film formed on the substrate, the primer solution is unevenly applied, the lint adheres to the primer layer, and is not bonded to the substrate. Causes of defects such as remaining primer components on the substrate must be avoided. This is because the cause of the defect causes a decrease in adhesion between the coating and the substrate. Further, when the substrate is an optical member such as glass or a mirror and the coating is an optical coating having translucency in the visible light range, the cause of the defect also causes optical distortion, so it must be avoided.

プライマー液の塗布ムラを回避する一つの手段は、該塗布液のゲル化を避けることと、プライマー層を薄く、好適には、単分子層〜20nmの厚みで形成することである。例えば、特許文献1では、ゲル化を回避するために基材を水冷する機構、及び前後の工程に水の移動を防止する機構を有するゾーン、プライマー液を塗布するためのロールコーター法類似の塗布機構を有するゾーンとを有する装置が開示されている。又、特許文献2では、基材を洗浄ゾーン、プライマー液の塗布ゾーン等の各ゾーンが、基材の搬送ゾーンを除いて気密構造となった装置が開示されている。
特開昭56−76271号公報 特開平7−251117号公報
One means for avoiding the coating unevenness of the primer solution is to avoid the gelation of the coating solution and to form the primer layer thin, preferably with a thickness of monomolecular layer to 20 nm. For example, in Patent Document 1, a zone having a mechanism for water-cooling a substrate to avoid gelation, a zone having a mechanism for preventing water movement in the preceding and following steps, and coating similar to a roll coater method for coating a primer solution An apparatus having a zone having a mechanism is disclosed. Further, Patent Document 2 discloses an apparatus in which each zone such as a substrate cleaning zone and a primer solution coating zone has an airtight structure excluding the substrate transport zone.
JP-A-56-76271 Japanese Patent Laid-Open No. 7-251117

前記で挙げた塗布ムラ発生の抑制、プライマー層へのリントの付着、及び基材とは結合されなかったプライマー成分の基材上への残存(以下、「余剰プライマー成分」とする)の抑制といった課題のうち、少なくともプライマー層へのリントの付着及び余剰プライマー成分を抑制することを目的とする。すなわち、本発明は、基材にプライマー層を形成するための塗布液の塗布装置にあって、プライマー層へのリントの付着及び余剰プライマー成分を抑制しやすい塗布液の塗布装置を提供することを課題とする。   Suppression of coating unevenness mentioned above, adhesion of lint to the primer layer, and suppression of remaining primer component on the substrate (hereinafter referred to as “excess primer component”). Among the problems, an object is to suppress at least adhesion of lint to the primer layer and excess primer components. That is, the present invention provides a coating liquid coating apparatus for forming a primer layer on a substrate, and provides a coating liquid coating apparatus that easily suppresses adhesion of lint to the primer layer and excess primer components. Let it be an issue.

すなわち本発明のプライマー層を基材に形成するための塗布液(以下、「プライマー液」とする)の塗布装置は、少なくともプライマー液を塗布するための塗布ゾーン、前記塗布を行った後に基材を洗浄するための洗浄ゾーン、そして各ゾーン内及び各ゾーン間で基材を搬送するための機構を有し、前記洗浄ゾーンは、基材に結合されなかったプライマー成分及び/又はリントを除去するための機構を有し、該機構は、水の供給機構、及びスポンジ硬度で1〜20のスポンジが設置された洗浄パッドを有してなる洗浄機構又は線径300μm以下で10段階モース硬度において1〜2.5の硬度を有する材質によるディスクブラシを有してなる洗浄機構とを有することを特徴とする。   That is, a coating apparatus for coating liquid (hereinafter referred to as “primer liquid”) for forming the primer layer of the present invention on a substrate includes at least a coating zone for coating the primer liquid, and the substrate after performing the coating. A cleaning zone for cleaning the substrate and a mechanism for transporting the substrate within and between each zone, the cleaning zone removing primer components and / or lint that have not been bound to the substrate A mechanism for supplying water and a cleaning mechanism comprising a cleaning pad having a sponge hardness of 1 to 20 installed in a sponge hardness or a wire diameter of 300 μm or less and a 10-stage Mohs hardness of 1 And a cleaning mechanism having a disc brush made of a material having a hardness of ˜2.5.

前記機構があることにより、本発明の塗布装置を用いての基材へのプライマー層の形成は、プライマー形成後のリントの付着を抑制でき、さらには、余剰プライマー成分を容易に除去しやすくなる。従って、プライマー層上への被膜を形成する際の密着性低下を生じさせることが少なくなり、結果、不良の発生が抑制される。   Due to the above-described mechanism, the formation of the primer layer on the base material using the coating apparatus of the present invention can suppress adhesion of lint after the primer formation, and moreover, the excess primer component can be easily removed. . Therefore, it is less likely to cause a decrease in adhesion when forming a film on the primer layer, and as a result, the occurrence of defects is suppressed.

本発明の塗布装置では、基材が装置に投入された後、基材へのプライマー液の吐出、該プライマー層形成後の基材の洗浄が、搬送ローラーやコンベヤ等の基材を搬送するための機構により基材が搬送されることによって、連続工程で行われる。そして、好適には、プライマー液の吐出前に基材の洗浄が行われる。   In the coating apparatus of the present invention, after the base material is put into the apparatus, the discharge of the primer liquid onto the base material and the cleaning of the base material after forming the primer layer transport the base material such as a transport roller or a conveyor. It is performed in a continuous process by transporting the substrate by the mechanism. Preferably, the substrate is cleaned before the primer solution is discharged.

この連続工程では、プライマー液の基材への吐出は、ノズル等の噴射機能を有する管から行われことが好ましく、さらに好適には、ノズル等の噴射機能を有する管が複数個、基材の進行方向に対して垂直に配置される。プライマー層は薄く、好適には、単分子層〜20nm、より好適には、10nm以下の厚みで形成されるために、プライマー液は、粘度が高いものではない。従って、前記吐出により、プライマー液は基材表面にわたってある程度供給することは可能である。   In this continuous process, it is preferable that the primer liquid is discharged to the base material from a tube having an injection function such as a nozzle, and more preferably, a plurality of tubes having an injection function such as a nozzle are provided. Arranged perpendicular to the direction of travel. Since the primer layer is thin, preferably a monomolecular layer to 20 nm, more preferably 10 nm or less in thickness, the primer solution does not have a high viscosity. Therefore, the primer liquid can be supplied to some extent over the surface of the base material by the ejection.

しかしながら、当該吐出だけでは、塗布厚みムラや塗布されない部位の発生等の塗布ムラを抑制することは難しく、結果として商品の欠陥が多くなる。ここでいう欠陥とは、プライマー層上に形成される被膜と基材との密着性低下、基材がガラスや鏡等の光学部材で被膜が可視光域に透光性を有する光学被膜である場合であっては、光学歪の発生も含まれる。   However, it is difficult to suppress coating unevenness such as coating thickness unevenness and the occurrence of non-applied parts only by the discharge, resulting in an increase in product defects. The defect here refers to an optical film having a reduced adhesion between the film formed on the primer layer and the base material, the base material being an optical member such as glass or a mirror, and the film having translucency in the visible light region. In some cases, the occurrence of optical distortion is also included.

従って、本発明の塗布装置では、前記塗布ゾーンは、さらに本発明の塗布装置では、塗布液の基材への吐出機構、及び基材上に吐出された塗布液を、含液可能な弾性部材で基材の全領域を拭うことが可能な払拭機構を有することが好ましい。   Therefore, in the coating apparatus of the present invention, the coating zone further includes, in the coating apparatus of the present invention, a discharge mechanism for discharging the coating liquid to the base material, and an elastic member capable of containing the coating liquid discharged onto the base material. It is preferable to have a wiping mechanism that can wipe the entire area of the substrate.

該構造の塗布装置は、塗布ゾーンに含液可能な弾性部材で基材の全領域を拭うことが可能な払拭機構が配置されるので、該機構部にプライマー液が吐出された基材が搬送されると、前記弾性部材によりプライマー液が基材上で強制的に薄く且つ均質な状態で塗り広げられることが可能となる。   In the coating device having this structure, a wiping mechanism capable of wiping the entire area of the base material with an elastic member capable of containing liquid is disposed in the coating zone, so that the base material on which the primer liquid is discharged is transported to the mechanism portion. Then, the elastic member can forcibly spread the primer solution on the substrate in a thin and homogeneous state.

又、該弾性部材を含液可能なものとすると、塗布装置が稼動中に一時的にプライマー液の吐出機構に異常、例えば噴射機能を有する管の目詰まり等が発生しても、該弾性部材からもプライマー液が基材に供給されるようになるので、プライマー液の塗布不良の発生を抑制することができるようになる。ここで含液可能な弾性部材とは、プライマー液を吸収可能な部材のことであり、その吸収量については、1cmあたり、0.15g〜0.55g吸収できるものが好ましい。 Further, if the elastic member can be liquid-containing, even if an abnormality occurs in the primer liquid discharge mechanism temporarily, for example, clogging of a tube having an injection function, during operation of the coating apparatus, the elastic member Since the primer solution is supplied to the base material, the occurrence of poor application of the primer solution can be suppressed. Here, the elastic member that can contain liquid is a member that can absorb the primer solution, and the absorption amount is preferably one that can absorb 0.15 g to 0.55 g per cm 3 .

そして、基材へのプライマー層の形成を確実なものとするために、基材が前記払拭機構で拭われた後に基材に塗布されたプライマー液を乾燥させるための機構、例えば、エアをブローできる機構を有することが好ましい。   In order to ensure the formation of the primer layer on the base material, a mechanism for drying the primer liquid applied to the base material after the base material is wiped by the wiping mechanism, for example, air is blown. It is preferable to have a mechanism that can.

本発明の塗布液の塗布装置は、基材にプライマー層を形成後に、リントの付着を抑制でき、さらには、余剰プライマー成分を容易に除去しやすくなる。従って、プライマー層上への被膜を形成する際の密着性低下を生じさせることが少なくなるので、不良の発生が抑制に奏功する。   The coating liquid coating apparatus of the present invention can suppress the adhesion of lint after forming a primer layer on a substrate, and further easily remove excess primer components. Therefore, since it is less likely to cause a decrease in adhesion when forming a film on the primer layer, the occurrence of defects is effectively suppressed.

本発明の塗布装置を図で説明する。図1は、プライマー液塗布後の洗浄のための洗浄ゾーンの要部断面、図2は、塗布ゾーンの要部断面を示す。洗浄装置等で洗浄された基材は、塗布ゾーン1に導入される。塗布ゾーン1に導入された基材7は、各ゾーン内及び各ゾーン間で基材を搬送するための機構である搬送ローラ6で搬送される。本発明では、基材7が搬送される方向を下流側、その反対側を上流側とする。搬送された基材7が、プライマーの基材への吐出機構2の下方に到達すると、吐出機構2よりプライマー液が基材7に吐出される。該吐出機構2には、ノズル等の噴射機能を有する管を使用でき、好適には、ノズル等の噴射機能を有する管が複数個、基材の進行方向に対して垂直に配置される。   The coating apparatus of this invention is demonstrated with a figure. FIG. 1 shows a cross section of the main part of the cleaning zone for cleaning after application of the primer solution, and FIG. 2 shows a cross section of the main part of the application zone. The substrate cleaned with a cleaning device or the like is introduced into the coating zone 1. The base material 7 introduced into the coating zone 1 is transported by a transport roller 6 which is a mechanism for transporting the base material within each zone and between each zone. In this invention, let the direction in which the base material 7 is conveyed be a downstream, and let the opposite side be an upstream. When the conveyed base material 7 reaches below the discharge mechanism 2 to the base material of the primer, the primer liquid is discharged from the discharge mechanism 2 onto the base material 7. For the discharge mechanism 2, a pipe having an injection function such as a nozzle can be used. Preferably, a plurality of pipes having an injection function such as a nozzle are arranged perpendicular to the traveling direction of the substrate.

その後基材が下流側に搬送され、基材7が基材の払拭機構34に到達すると、含液可能な弾性部材3により、基材7全体が払拭される。該弾性部材3は、基材7全体を払拭できるように進行方向に対して垂直方向の基材7の長さより長くすることが好ましい。又、該弾性部材3は、搬送された基材7により、図1に図示したように、その先端が押し曲げられるように配置されることが好ましい。   After that, when the base material is transported to the downstream side and the base material 7 reaches the wiping mechanism 34 of the base material, the whole base material 7 is wiped by the elastic member 3 capable of containing liquid. The elastic member 3 is preferably longer than the length of the substrate 7 in the direction perpendicular to the traveling direction so that the entire substrate 7 can be wiped off. Further, it is preferable that the elastic member 3 is arranged so that the tip of the elastic member 3 is pushed and bent by the conveyed base material 7 as shown in FIG.

そして、当該機能が生じるように、弾性部材3は、塗布ゾーン1を側方から見たときに下辺部が下流側となるよう斜めに配置されることが好ましい。この時の傾き具合は、基材7と弾性部材3の押し曲げられていない部位とが40〜50°に調整されることが好ましい。加えて、払拭機構34では、弾性部材3と保持部材4とが取り外し可能な構造とすることが好ましい。   And so that the said function may arise, it is preferable that the elastic member 3 is arrange | positioned diagonally so that a lower side part may become a downstream when the application zone 1 is seen from a side. As for the inclination degree at this time, it is preferable that the base material 7 and the site | part which is not bent by the elastic member 3 are adjusted to 40-50 degrees. In addition, the wiping mechanism 34 preferably has a structure in which the elastic member 3 and the holding member 4 are removable.

この払拭機構34にて、プライマー液が吐出された基材7が搬送されると、弾性部材3によりプライマー液が基材上で強制的に薄く且つ均質な状態で塗り広げられることが可能となる。そして、該弾性部材3が、搬送された基材により、図1に図示したように、その先端が押し曲げられるように配置されていると、弾性部材3が基材7に圧力を加えつつ、接触するので、プライマー液が基材上で強制的に薄く且つ均質な状態で塗り広げられることを容易とする。   When the base material 7 on which the primer liquid is discharged is conveyed by the wiping mechanism 34, the elastic member 3 can forcibly spread the primer liquid on the base material in a thin and homogeneous state. . And when this elastic member 3 is arrange | positioned so that the front-end | tip may be bent by the conveyed base material as shown in FIG. 1, while the elastic member 3 applies pressure to the base material 7, The contact makes it easy for the primer solution to be forcibly spread in a thin and homogeneous state on the substrate.

弾性部材3は、直方体の形状を有するものを使用することが好ましく、その材料にはスポンジ硬度が1〜20、好ましくは3〜15、より好ましくは5〜10のスポンジ状の樹脂を使用することが好ましい。そのような樹脂には、ポリウレタン、ネオプレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート等があり、その中でもポリウレタン製のスポンジを使用することが好ましい。   The elastic member 3 preferably has a rectangular parallelepiped shape, and a sponge-like resin having a sponge hardness of 1 to 20, preferably 3 to 15, more preferably 5 to 10 is used as the material. Is preferred. Such resins include polyurethane, neoprene, polyethylene, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, etc. Among them, it is preferable to use polyurethane sponge.

基材7は、払拭機構34を経た後、好ましくは下流側に配置されるプライマー液を乾燥させるための機構5を使用することで乾燥させられ、基材上にプライマー層が形成される。   After passing through the wiping mechanism 34, the base material 7 is preferably dried by using the mechanism 5 for drying the primer liquid disposed on the downstream side, and a primer layer is formed on the base material.

プライマー層が形成された後、基材に結合されなかったプライマー成分及び/又はリントを除去するための洗浄工程のため、基材7は洗浄ゾーンへと送られる。該工程は、手作業としてもよいが、生産効率向上のためには、洗浄ゾーンは、図2に図示したような、基材の搬送機構である搬送ローラ6、水の供給機構11、及び洗浄機構9を有する洗浄ゾーン20とすることが好ましい。   After the primer layer is formed, the substrate 7 is sent to a cleaning zone for a cleaning step to remove primer components and / or lint that have not been bonded to the substrate. The process may be performed manually, but in order to improve production efficiency, the cleaning zone includes a transport roller 6 which is a base material transport mechanism, a water supply mechanism 11, and a cleaning as illustrated in FIG. A cleaning zone 20 having a mechanism 9 is preferable.

水の供給機構11より水が基材へ供給され、洗浄機構9を基材に押し付けつつ
基材の洗浄を行うことで、基材に結合されなかったプライマー成分、リント等が除去される。洗浄機構9は、基材の進行方法に対して垂直方向に単列又は2列以上の複数列配列される。又、該洗浄ゾーン20では、プライマー層へのリントの付着を抑制するために洗浄機構9及び水の供給機構11をフード12で覆うことが好ましい。
Water is supplied from the water supply mechanism 11 to the base material, and the base material is washed while pressing the cleaning mechanism 9 against the base material, whereby primer components, lint, and the like that are not bonded to the base material are removed. The cleaning mechanism 9 is arranged in a single row or two or more rows in the vertical direction with respect to the method of advancing the base material. In the cleaning zone 20, it is preferable to cover the cleaning mechanism 9 and the water supply mechanism 11 with a hood 12 in order to suppress adhesion of lint to the primer layer.

そして洗浄パッド10は、スポンジ硬度で1〜20、好ましくは3〜15、より好ましくは5〜10のスポンジが設置されたものとすることが好ましい。そのようなスポンジとしては、ポリウレタン、ネオプレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート等を使用でき、その中でもポリウレタン製のスポンジを使用することが好ましい。   The cleaning pad 10 is preferably provided with a sponge hardness of 1 to 20, preferably 3 to 15, more preferably 5 to 10. As such a sponge, polyurethane, neoprene, polyethylene, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, or the like can be used, and among these, a polyurethane sponge is preferably used.

又、前記洗浄パッド10の代りに、線径300μm以下で10段階モース硬度において1〜2.5の硬度を有する材質によるディスクブラシとしてもよい。前記線径については、実用を考慮すると、10μm以上、維持コスト等を考慮すると50μm以上、より好ましくは100μm以上とすることが好ましい。そして前記材質には、10段階モース硬度で2程度の硬度を有するナイロン等の軟質な樹脂を使用することが好ましい。   Instead of the cleaning pad 10, a disc brush made of a material having a wire diameter of 300 μm or less and a hardness of 1 to 2.5 in 10-step Mohs hardness may be used. The wire diameter is preferably 10 μm or more in consideration of practical use, 50 μm or more, and more preferably 100 μm or more in consideration of maintenance costs. The material is preferably a soft resin such as nylon having a 10-step Mohs hardness of about 2.

前記洗浄パッド10又はディスクブラシは基材の進行方向8に対して垂直報告に配列され、該配列は単列又は好ましくは2〜4列の複数列としてもよい。複数列とする場合各洗浄パッド又ディスクブラシは千鳥状に配列されることが好ましく、各列に配列された洗浄パッド又はディスクブラシの回転方向は、各列毎で異なっていることが好ましい。そして、前記洗浄ゾーンを経た基材は、その後被膜の形成工程へと送られ、基材に被膜が形成される。   The cleaning pads 10 or disk brushes are arranged in a vertical report with respect to the direction 8 of travel of the substrate, and the arrangement may be a single row or preferably 2-4 rows. In the case of a plurality of rows, the cleaning pads or disc brushes are preferably arranged in a staggered manner, and the rotation direction of the cleaning pads or disc brushes arranged in each row is preferably different for each row. And the base material which passed through the said washing | cleaning zone is sent to the formation process of a film after that, and a film is formed in a base material.

本発明の塗布液の塗布装置に使用される基材には、代表的なものとしてはガラスが用いられる。そのガラスは自動車用、建築用、建装用等に通常用いられている板ガラスであり、フロート法、デュープレックス法、ロールアウト法等による板ガラスであって、製法は特に問わない。   As a base material used in the coating liquid coating apparatus of the present invention, glass is typically used. The glass is a plate glass that is usually used for automobiles, buildings, building construction, and the like, and is a plate glass by a float method, a duplex method, a roll-out method, etc., and the manufacturing method is not particularly limited.

ガラス種としては、クリアをはじめグリーン、ブロンズ等の各種着色ガラスやUV、IRカットガラス、電磁遮蔽ガラス等の各種機能性ガラス、網入りガラス、低膨張ガラス、ゼロ膨張ガラス等防火ガラスに供し得るガラス、強化ガラスやそれに類するガラス、合わせガラスのほか複層ガラス、銀引き法、あるいは真空成膜法により作製された鏡、さらには平板、曲げ板等各種ガラス製品を使用できる。特には平板の基材を使用することが好ましい。板厚は特に制限されないが、1mm以上10mm以下が好ましく、車両用としては1mm以上5mm以下が好ましい。   As glass types, it can be used for various colored glasses such as clear, green and bronze, various functional glasses such as UV, IR cut glass and electromagnetic shielding glass, netted glass, low expansion glass, zero expansion glass and fireproof glass. Various glass products such as glass, tempered glass, glass similar to them, laminated glass, multilayer glass, mirrors produced by silvering or vacuum film formation, and flat plates and bent plates can be used. In particular, it is preferable to use a flat substrate. The plate thickness is not particularly limited, but is preferably 1 mm or more and 10 mm or less, and is preferably 1 mm or more and 5 mm or less for vehicles.

又、基材は、ガラスに限定されるものではなく、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルム、ポリカーボネート等の樹脂、金属、特には金属鏡、セラミックス等も使用することができる。   The substrate is not limited to glass, and a resin film such as polyethylene terephthalate, a resin such as polycarbonate, a metal, particularly a metal mirror, ceramics, and the like can also be used.

本発明の塗布液の塗布装置に使用されるプライマー液には、プライマー成分と溶媒とを混合して得られるもので、該プライマー成分には、アルキレン基を有する加水分解性ケイ素化合物及び/又は加水分解物が好適に使用される。そして、該プライマー液には、オキシ塩化ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウム、アルコキシド化合物等の加水分解性ジルコニウム化合物及び/又は加水分解物、又はオキシ塩化チタニウム、硝酸チタニウム、酢酸チタニウム、アルコキシド化合物等加水分解性チタニウム化合物及び/又は加水分解物等が適宜導入される。   The primer liquid used in the coating liquid coating apparatus of the present invention is obtained by mixing a primer component and a solvent, and the primer component includes a hydrolyzable silicon compound having an alkylene group and / or water. Decomposition products are preferably used. The primer solution is hydrolyzable zirconium compound such as zirconium oxychloride, zirconium nitrate, zirconium acetate, alkoxide compound and / or hydrolyzate, or hydrolyzed such as titanium oxychloride, titanium nitrate, titanium acetate, alkoxide compound. Titanium compounds and / or hydrolysates are appropriately introduced.

前記アルキレン基を有する加水分解性ケイ素化合物には、モノメチルシラノール、ジメチルシラノール、トリメチルシラノール、シラノール(テトラハイドロキシシラン)、モノエチルシラノール、ジエチルシラノール、トリエチルシラノール、モノプロピルシラノール、ジプロピルシラノール、トリプロピルシラノール、トリイソプロピルシラノール、ジフェニルシランジオール、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン等があげられる。   Examples of the hydrolyzable silicon compound having an alkylene group include monomethylsilanol, dimethylsilanol, trimethylsilanol, silanol (tetrahydroxysilane), monoethylsilanol, diethylsilanol, triethylsilanol, monopropylsilanol, dipropylsilanol, tripropylsilanol. , Triisopropylsilanol, diphenylsilanediol, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxy Examples thereof include silane.

上記ケイ素化合物等を溶媒に希釈又は溶解させ、プライマー液を調製する。該溶媒には、アルコール類、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール、又は、パラフィン系炭化水素や芳香族炭化水素の一般有機溶剤、例えばn−ヘキサン、トルエン、クロロベンゼン等、又はこれらの混合物を使用することができる。   The above silicon compound or the like is diluted or dissolved in a solvent to prepare a primer solution. Examples of the solvent include alcohols such as lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, and isopropyl alcohol, or general organic solvents such as paraffinic hydrocarbons and aromatic hydrocarbons such as n-hexane, toluene, and chlorobenzene. Or mixtures thereof.

塗布液のpHを調整するために、塩酸、硝酸、酢酸の酸を導入してもよく、ケイ素化合物、及びジルコニウム化合物の加水分解反応を促進させるために少量の水を導入してもよい。   In order to adjust the pH of the coating solution, hydrochloric acid, nitric acid, and acetic acid may be introduced, and a small amount of water may be introduced to promote the hydrolysis reaction of the silicon compound and the zirconium compound.

そして、本発明の塗布液の塗布装置で使用されるプライマー液には、プライマー層を薄く、好適には、単分子層〜20nmの厚みで形成させるために、ケイ素化合物、ジルコニウム化合物、及びチタニウム化合物の総量を、溶媒に対して、1.0重量%乃至1.4重量%となるように調整されたプライマー液を使用することが好ましい。   In the primer liquid used in the coating liquid coating apparatus of the present invention, a silicon compound, a zirconium compound, and a titanium compound are used in order to form a thin primer layer, preferably a monomolecular layer having a thickness of 20 nm. It is preferable to use a primer solution whose total amount is adjusted to 1.0 to 1.4% by weight with respect to the solvent.

本発明の塗布装置において、プライマー液塗布後の行われる洗浄のために配置される洗浄ゾーンの要部断面を示す図である。It is a figure which shows the principal part cross section of the washing | cleaning zone arrange | positioned for the washing | cleaning performed after primer liquid application | coating in the coating device of this invention. 本発明の塗布装置の塗布ゾーンに要部断面を示す図である。It is a figure which shows the principal part cross section in the coating zone of the coating device of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 塗布ゾーン
2 プライマー液の基材への吐出機構
3 含液可能な弾性部材
4 含液可能な弾性部材3の保持部材
34 基材の払拭機構
5 プライマー液を乾燥させるための機構
6 搬送ローラ
7 基板
8 基材の搬送方向
9 洗浄機構
10 洗浄パッド
11 水の供給機構
12 フード
20 洗浄ゾーン
1 Application zone
2 Mechanism for discharging primer liquid to base material 3 Elastic member 4 capable of containing liquid 34 Holding member 34 for elastic member 3 capable of containing liquid Base material wiping mechanism 5 Mechanism for drying primer liquid 6 Transport roller 7 Substrate 8 Base Material transport direction 9 Cleaning mechanism 10 Cleaning pad 11 Water supply mechanism 12 Hood 20 Cleaning zone

Claims (4)

プライマー層を基材に形成するための塗布液の塗布装置であり、該塗布装置は、少なくとも塗布液を塗布するための塗布ゾーン、前記塗布を行った後に基材を洗浄するための洗浄ゾーン、そして各ゾーン内及び各ゾーン間で基材を搬送するための機構を有し、前記洗浄ゾーンは、基材と結合されなかったプライマー成分及び/又はリントを除去するための機構を有し、該機構は、水の供給機構、及びスポンジ硬度で1〜20のスポンジが設置された洗浄パッドを有してなる洗浄機構又は線径300μm以下で10段階モース硬度において1〜2.5の硬度を有する材質によるディスクブラシを有してなる洗浄機構とを有することを特徴とする塗布液の塗布装置。 A coating liquid coating apparatus for forming a primer layer on a substrate, the coating apparatus comprising at least a coating zone for coating the coating liquid, a cleaning zone for cleaning the substrate after performing the coating, And having a mechanism for transporting the substrate within and between each zone, the cleaning zone having a mechanism for removing primer components and / or lint that have not been bonded to the substrate, The mechanism has a water supply mechanism and a cleaning mechanism having a cleaning pad with a sponge hardness of 1 to 20 or a wire diameter of 300 μm or less and a 10-stage Mohs hardness of 1 to 2.5 And a cleaning mechanism having a disc brush made of a material. 基材が前記払拭機構で拭われた後に基材上に塗布された塗布液を乾燥させるための機構を有することを特徴とする請求項1に記載の塗布液の塗布装置。 The coating liquid coating apparatus according to claim 1, further comprising a mechanism for drying the coating liquid coated on the substrate after the substrate is wiped by the wiping mechanism. 前記塗布ゾーンは、塗布液の基材への吐出機構、及び基材上に吐出された塗布液を、含液可能な弾性部材で基材の全領域を拭うことが可能な払拭機構を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の塗布液の塗布装置。 The coating zone has a mechanism for discharging the coating liquid onto the substrate and a wiping mechanism capable of wiping the entire area of the substrate with an elastic member capable of containing the coating liquid discharged onto the substrate. The coating liquid coating apparatus according to claim 1 or 2. 請求項1乃至3のいずれかの塗布装置による基材へのプライマー層の形成方法。 A method for forming a primer layer on a substrate using the coating apparatus according to claim 1.
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