JP2006241367A - Sealing resin composition and sealed structure using the same - Google Patents

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Shoichi Yoshizawa
昌一 吉澤
Kyoko Kataoka
恭子 片岡
Daiki Shiga
大樹 志賀
Junichi Isa
淳一 伊佐
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a sealing resin composition in which outside air and steam do not penetrates into an inner space and which seals a peripheral part between substrates so as not to leak a sealing gas such as an inert gas, etc., from an inner space and a sealed structure such as a display element, etc., using the same. <P>SOLUTION: The sealing resin composition seals a peripheral part between substrates composed of two opposing substrates and forms a sealed structure having an inner space maintained under reduced pressure or in an inert gas atmosphere. The sealing resin composition comprises at least one kind of a thermoplastic resin (a) and a thermosetting resin (b) composed of a polyimide silicone as an essential component and resin layers obtained by sealing are each independently formed so as to constitute a multilayer structure in which the resin layers are mutually adjacent. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、封着樹脂組成物及びそれを用いた封着構造体に関し、さらに詳しくは、外部の空気が内部空間に浸透することなく、しかも内部空間から不活性ガスなどの封入ガスが漏出しないように基板間周縁部を封着できる封着用樹脂組成物、およびそれを用いたディスプレイ素子などの封着構造体に関する。   The present invention relates to a sealing resin composition and a sealing structure using the same, and more specifically, external air does not penetrate into the internal space, and an enclosed gas such as an inert gas does not leak from the internal space. The sealing resin composition which can seal the peripheral part between board | substrates in this way, and sealing structures, such as a display element using the same.

近年、液晶ディスプレイ素子をはじめ、PDP(プラズマディスプレイパネル)、FED(フィールドエミッションディスプレイ)、VFD(蛍光表示管)などの薄型のディスプレイ素子が注目され、さらに高機能を有する素子の開発が進められている。   In recent years, thin display elements such as liquid crystal display elements, PDPs (plasma display panels), FEDs (field emission displays), VFDs (fluorescent display tubes) have attracted attention, and the development of elements with higher functions has been promoted. Yes.

液晶ディスプレイ素子には、素子内部を減圧に保つ機能を必要としないことから、通常ガスバリア性やアウトガスの特性が要求されていない。しかしながら、PDP、FED、VFDなどのディスプレイ素子においては、素子の内部空間が減圧され真空状態に維持されているため、基板間の周縁部を封着する封着材には、内部空間から不活性ガスのリークを防止する機能、すなわち減圧を維持する機能が必要とされている。   Since the liquid crystal display element does not require a function of keeping the inside of the element at a reduced pressure, the gas barrier property and the outgas characteristic are usually not required. However, in display elements such as PDP, FED, and VFD, the internal space of the element is maintained in a vacuum state under reduced pressure. Therefore, the sealing material that seals the peripheral edge between the substrates is inactive from the internal space. There is a need for a function for preventing gas leakage, that is, a function for maintaining a reduced pressure.

特に、PDPなどにおいては、基板を封着した際に発生する不純物を処理するために、封着後に内部空間を高真空に保つ工程が必要になる場合がある。例えば、PDPを製造する際、基板を封着した後、約300℃以上の高温下で加熱排気を行い、水分や炭素などの不純物を排出してから放電ガスを導入する工程を付加することが提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In particular, in a PDP or the like, there is a case where a process of keeping the internal space at a high vacuum after sealing is required in order to process impurities generated when the substrate is sealed. For example, when manufacturing a PDP, after sealing the substrate, heating and exhausting at a high temperature of about 300 ° C. or more, and adding a step of introducing a discharge gas after removing impurities such as moisture and carbon. It has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

これまでPDP、FED、VFDなどでは、封着材として鉛ガラスが主に用いられている。ところが鉛ガラスは、それを融着焼成するのに最低でも450℃近い温度を必要とするため、素子内の蛍光体の損失が大きくなって性能が低下するだけでなく、環境に問題となる鉛を含有しているので使用上の制約がある。   Until now, lead glass has been mainly used as a sealing material in PDP, FED, VFD and the like. However, since lead glass requires a temperature close to 450 ° C. to fuse and fire it, not only does the loss of the phosphor in the device increase and the performance deteriorates, but also lead that causes environmental problems Since it contains, there are restrictions on use.

一方、液晶ディスプレイ素子においては、シリカなどのフィラーを含有するエポキシ樹脂がガラス基板間を封着する材料として広く利用されている。それは、エポキシ樹脂の硬化物が耐透湿性や機械的強度に優れているためである。そこで、PDPなどの封着構造体でも、このようなエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂単体からなる低温封着組成物を用いることが提案されている(例えば、特許文献2参照)。   On the other hand, in a liquid crystal display element, an epoxy resin containing a filler such as silica is widely used as a material for sealing between glass substrates. This is because the cured epoxy resin has excellent moisture resistance and mechanical strength. Therefore, it has been proposed to use a low-temperature sealing composition made of a single thermosetting resin such as an epoxy resin even in a sealing structure such as a PDP (see, for example, Patent Document 2).

これによれば鉛ガラスよりも低温で基板間の周縁部を封着できるが、水蒸気、Heガスなどの不活性ガス、さらには樹脂組成物の内部から発生するアウトガス等を長期にわたって遮蔽する効果が小さく、今後、ますます大画面化、薄型化のニーズが強まっているPDP等においては、製品の長期信頼性を維持できないとして問題視されていた。
このような状況下、鉛を含有せず、水蒸気、Heガスなどの不活性ガスやアウトガス等の長期にわたる遮蔽効果が大きく、PDP等の長期信頼性が確保できる封着用樹脂組成物の出現が切望されていた。
特開2000−243280号公報 特開2003−183624号公報
According to this, the peripheral portion between the substrates can be sealed at a temperature lower than that of lead glass, but it has an effect of shielding the inert gas such as water vapor and He gas, and further outgas generated from the inside of the resin composition over a long period of time. In the case of PDPs, which are small and have a growing need for larger screens and thinner screens in the future, they have been regarded as problematic because they cannot maintain long-term reliability of products.
Under such circumstances, the appearance of a sealing resin composition that does not contain lead, has a long-term shielding effect such as an inert gas such as water vapor or He gas, or outgas, and can ensure long-term reliability such as PDP is eagerly desired. It had been.
JP 2000-243280 A JP 2003-183624 A

本発明の課題は、外部の空気が内部空間に浸透することなく、しかも内部空間から不活性ガスなどの封入ガスが漏出しないように基板間周縁部を封着できる封着用樹脂組成物、およびそれを用いたディスプレイ素子などの封着構造体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a sealing resin composition capable of sealing a peripheral edge portion between substrates so that external air does not permeate into the internal space, and an enclosed gas such as an inert gas does not leak from the internal space, and An object of the present invention is to provide a sealing structure such as a display element using the.

本発明者らは、前述の課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、エポキシ樹脂など熱硬化性樹脂のみを用いた従来の封着用樹脂組成物では、たとえ鉛の問題を克服できたとしても所定間隔を保持して対向された2枚の基板の基板間周縁部を十分には封着できないが、ポリイミドシリコーン樹脂を必須成分とする熱硬化性樹脂の層に熱可塑性樹脂の層が隣接した多層構造を形成することにより、基板間周縁部が実質的に封着され、内部空間が減圧又は不活性ガスを含む雰囲気に維持された封着構造体が形成できることを見出して、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the conventional sealing resin composition using only a thermosetting resin such as an epoxy resin can overcome the problem of lead. However, it is not possible to sufficiently seal the peripheral portion between the two substrates facing each other while maintaining a predetermined interval, but the thermoplastic resin layer is adjacent to the thermosetting resin layer containing polyimide silicone resin as an essential component. By forming the multi-layered structure, it was found that a peripheral structure between the substrates is substantially sealed, and a sealed structure in which the internal space is maintained in an atmosphere containing reduced pressure or inert gas can be formed. It came to be completed.

すなわち、本発明の第1の発明によれば、対向する2枚の基板によって構成される基板間周縁部を封着し、その内部空間が減圧または不活性ガス雰囲気に維持された封着構造体を形成するための封着用樹脂組成物であって、少なくとも1種の熱可塑性樹脂(a)とポリイミドシリコーン樹脂を必須成分とする熱硬化性樹脂(b)とを含むとともに、封着により得られる樹脂層がそれぞれ独立して形成し互いに隣接した多層構造になることを特徴とする封着用樹脂組成物が提供される。   That is, according to the first invention of the present invention, the sealing structure in which the inter-substrate peripheral edge constituted by two opposing substrates is sealed, and the internal space thereof is maintained in a reduced pressure or inert gas atmosphere. It is a resin composition for sealing for forming a resin, and contains at least one thermoplastic resin (a) and a thermosetting resin (b) containing a polyimide silicone resin as essential components, and is obtained by sealing. A resin composition for sealing is provided, wherein the resin layers are formed independently and have a multilayer structure adjacent to each other.

また、本発明の第2の発明によれば、第1の発明において、熱可塑性樹脂(a)が、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレン・ビニルアルコール共重合体樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、又はポリエチレンナフタレート樹脂から選ばれることを特徴とする封着用樹脂組成物が提供される。   According to the second invention of the present invention, in the first invention, the thermoplastic resin (a) is a polyolefin resin, a polyvinyl alcohol resin, an ethylene / vinyl alcohol copolymer resin, a polyamide resin, a polyethylene terephthalate resin, Alternatively, a sealing resin composition is provided which is selected from polyethylene naphthalate resins.

また、本発明の第3の発明によれば、第1の発明において、熱硬化性樹脂(b)が、さらに、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、又はフェノール樹脂から選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とする封着用樹脂組成物が提供される。   According to the third invention of the present invention, in the first invention, the thermosetting resin (b) is further selected from an epoxy resin, an acrylic resin, an unsaturated polyester resin, a polyimide resin, or a phenol resin. A sealing resin composition comprising at least one kind is provided.

また、本発明の第4の発明によれば、第1の発明において、さらに、無機微粒子(c)が、熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)からなる樹脂成分の合計量に対して50〜95質量%配合されることを特徴とする封着用樹脂組成物が提供される。   According to the fourth invention of the present invention, in the first invention, the inorganic fine particles (c) are further added to the total amount of the resin component comprising the thermoplastic resin (a) and the thermosetting resin (b). On the other hand, a sealing resin composition characterized by containing 50 to 95% by mass is provided.

さらに、本発明の第5の発明によれば、第1〜4のいずれかの発明において、熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)の割合が、重量比で30:1〜1:30であることを特徴とする封着用樹脂組成物が提供される。   Furthermore, according to the fifth invention of the present invention, in any one of the first to fourth inventions, the ratio of the thermoplastic resin (a) to the thermosetting resin (b) is 30: 1 to 1 by weight. : 30 is provided. The resin composition for sealing is provided.

一方、本発明の第6の発明によれば、第1〜5のいずれかの発明に係る封着用樹脂組成物によって、基板間周縁部が樹脂層で封着されてなる封着構造体が提供される。   On the other hand, according to the sixth invention of the present invention, there is provided a sealing structure in which the peripheral portion between the substrates is sealed with the resin layer by the sealing resin composition according to any one of the first to fifth inventions. Is done.

本発明の封着用樹脂組成物は、鉛を含有せず、樹脂成分として熱可塑性樹脂と特定の熱硬化性樹脂とを含むため、水蒸気、Heガスなどの不活性ガスやアウトガス等の長期にわたる遮蔽効果が大きく、内部が減圧に維持される必要があり、かつ耐熱性を要求されるPDPなどのディスプレイ素子において優れた性能を発揮する。また、特別な装置を用いることなく容易に基板上に描画することができることから、本発明の封着用樹脂組成物の工業的価値は極めて大きい。   Since the sealing resin composition of the present invention does not contain lead and contains a thermoplastic resin and a specific thermosetting resin as resin components, it is shielded over a long period of time, such as an inert gas such as water vapor or He gas, or an outgas. The effect is large, the inside needs to be maintained at a reduced pressure, and excellent performance is exhibited in a display element such as a PDP that requires heat resistance. Moreover, since it can draw on a board | substrate easily, without using a special apparatus, the industrial value of the sealing resin composition of this invention is very large.

1.封着用樹脂組成物
本発明の封着用樹脂組成物は、対向する2枚の基板によって構成される基板間周縁部を封着し、その内部空間が減圧または不活性ガス雰囲気に維持された封着構造体を形成するための封着用樹脂組成物であって、少なくとも1種の熱可塑性樹脂(a)とポリイミドシリコーン樹脂を必須成分とする熱硬化性樹脂(b)とを含むとともに、封着により得られる樹脂層がそれぞれ独立して形成し互いに隣接した多層構造になるものである。なお、熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)のいずれか、又は両者には無機微粒子(c)を配合することができる。
1. Sealing resin composition The sealing resin composition of the present invention seals a peripheral portion between substrates constituted by two opposing substrates, and sealing is performed in which the internal space is maintained in a reduced pressure or inert gas atmosphere. A sealing resin composition for forming a structure, comprising at least one thermoplastic resin (a) and a thermosetting resin (b) having a polyimide silicone resin as essential components, and sealing The resulting resin layers are formed independently and have a multilayer structure adjacent to each other. In addition, inorganic fine particles (c) can be blended in either or both of the thermoplastic resin (a) and the thermosetting resin (b).

(a)熱可塑性樹脂
本発明において用いる熱可塑性樹脂は、加熱により可塑性を示し冷却すると硬化し、さらに加熱すれば再び可塑性を示すような可逆的熱特性を持つ合成樹脂である。熱可塑性樹脂は、原料モノマーの単重合体だけでなく、他種モノマーとのランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体、他の物質での末端基変性品なども含まれる。
(A) Thermoplastic Resin The thermoplastic resin used in the present invention is a synthetic resin having reversible thermal characteristics that exhibit plasticity by heating, cure when cooled, and exhibit plasticity again when heated. The thermoplastic resin includes not only a homopolymer of raw material monomers but also random copolymers with other monomers, block copolymers, graft copolymers, end group-modified products with other substances, and the like.

例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブテン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂などのポリオレフィン樹脂;ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−(メタ)アクリレート共重合樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、部分酸化ポリエチレン樹脂等のポリオレフィン系及びその共重合樹脂;ポリアミド樹脂;ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、酢酸セルロース、酪酸セルロース、ポリスチレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、スチレン−ブタジエン共重合樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合樹脂、アクリレート−スチレン−アクリロニトリル樹脂、塩素化ポリエチレン−アクリロニトリル−スチレン共重合樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリブチルメタクリレート樹脂、ポリテトラフロロエチレン樹脂、エチレン−ポリテトラフロロエチレン共重合樹脂等が挙げられる。ポリアミド樹脂としては、例えば、6ナイロン、6,6ナイロン、11ナイロン、12ナイロン、6,12ナイロン、芳香族系ナイロン等が挙げられる。   For example, polyolefin resin such as polyethylene resin, polypropylene resin, polybutene resin, polymethylpentene resin; polyvinyl alcohol resin, polyvinyl butyral resin, ethylene-vinyl alcohol copolymer resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, ethylene- (meth) acrylate Polyolefin resins such as copolymer resins, chlorinated polyethylene resins, partially oxidized polyethylene resins, and copolymer resins thereof; polyamide resins; polyethylene terephthalate resins, polyethylene naphthalate resins, polybutylene terephthalate resins, polyacetal resins, polycarbonate resins, polyphenylene oxide resins, Polyarylate resin, polysulfone resin, polyamideimide resin, polyphenylene sulfide resin, cellulose acetate, cellulose butyrate , Polystyrene resin, polybutadiene resin, polyacrylonitrile resin, styrene-butadiene copolymer resin, styrene-acrylonitrile copolymer resin, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin, acrylate-styrene-acrylonitrile resin, chlorinated polyethylene-acrylonitrile-styrene copolymer Examples thereof include resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polyvinyl acetate resins, polymethyl methacrylate resins, polybutyl methacrylate resins, polytetrafluoroethylene resins, and ethylene-polytetrafluoroethylene copolymer resins. Examples of the polyamide resin include 6 nylon, 6,6 nylon, 11 nylon, 12 nylon, 6,12 nylon, and aromatic nylon.

このうちポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレン・ビニルアルコール共重合体樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、又はポリエチレンナフタレート樹脂から選ばれる熱可塑性樹脂が好ましい。   Of these, thermoplastic resins selected from polyolefin resins, polyvinyl alcohol resins, ethylene / vinyl alcohol copolymer resins, polyamide resins, polyethylene terephthalate resins, or polyethylene naphthalate resins are preferred.

熱可塑性樹脂は、特に限定されることなく単独で、又は2種以上を混合して使用できる。不活性ガスに対するガスバリア性に優れた樹脂、例えば、ポリエチレンテレフタレート、芳香族ナイロン、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂等は、数種選択して組み合わせるのが好ましい。これら不活性ガスに対するガスバリア性に優れる樹脂には、水蒸気に対するガスバリア性に優れるポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂を組み合わせることが好ましい。   A thermoplastic resin is not specifically limited, It can use individually or in mixture of 2 or more types. It is preferable to select and combine several resins having excellent gas barrier properties against inert gas, such as polyethylene terephthalate, aromatic nylon, and ethylene-vinyl alcohol copolymer resin. These resins having excellent gas barrier properties against inert gas are preferably combined with polyolefin resins such as polypropylene having excellent gas barrier properties against water vapor.

熱可塑性樹脂には、プラスチック成形用滑剤や種々の安定剤等を添加することができる。
滑剤としては、例えばパラフィンワックス、流動パラフィン、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、エステルワックス、カルナウバ、マイクロワックス等のワックス類;ステアリン酸、1,2−オキシステアリン酸、ラウリン酸、パルミチン酸、オレイン酸等の脂肪酸類;ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム、ラウリン酸カルシウム、リノール酸亜鉛、リシノール酸カルシウム、2−エチルヘキソイン酸亜鉛等の脂肪酸塩(金属石鹸類);ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、ベヘン酸アミド、パルミチン酸アミド、ラウリン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、メチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、ジステアリルアジピン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド、ジオレイルアジピン酸アミド、N−ステアリルステアリン酸アミド等の脂肪酸アミド類;ステアリン酸ブチル等の脂肪酸エステル;エチレングリコール、ステアリルアルコール等のアルコール類;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、及びこれら変性物からなるポリエーテル類;ジメチルポリシロキサン、シリコングリース等のポリシロキサン類;弗素系オイル、弗素系グリース、含弗素樹脂粉末といった弗素化合物;窒化珪素、炭化珪素、酸化マグネシウム、アルミナ、二酸化珪素、二硫化モリブデン等の無機化合物粉体が挙げられる。
Plastic molding lubricants and various stabilizers can be added to the thermoplastic resin.
Examples of the lubricant include waxes such as paraffin wax, liquid paraffin, polyethylene wax, polypropylene wax, ester wax, carnauba, and microwax; stearic acid, 1,2-oxystearic acid, lauric acid, palmitic acid, oleic acid, and the like Fatty acids: Fatty acid salts (metal soaps) such as calcium stearate, barium stearate, magnesium stearate, lithium stearate, zinc stearate, aluminum stearate, calcium laurate, zinc linoleate, calcium ricinoleate, zinc 2-ethylhexoate ); Stearic acid amide, oleic acid amide, erucic acid amide, behenic acid amide, palmitic acid amide, lauric acid amide, hydroxystearic acid amide, methylene bis-stear Fatty acid amides such as acid amide, ethylene bis stearic acid amide, ethylene bis lauric acid amide, distearyl adipic acid amide, ethylene bis oleic acid amide, dioleyl adipic acid amide, N-stearyl stearic acid amide; butyl stearate, etc. Fatty acid esters; alcohols such as ethylene glycol and stearyl alcohol; polyethers composed of polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, and modified products thereof; polysiloxanes such as dimethylpolysiloxane and silicon grease; fluorine-based oils And fluorine compounds such as fluorine-based grease and fluorine-containing resin powder; inorganic compound powders such as silicon nitride, silicon carbide, magnesium oxide, alumina, silicon dioxide, and molybdenum disulfide.

また、安定剤としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、1−[2−{3−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]−4−{3−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、8−ベンジル−7,7,9,9−テトラメチル−3−オクチル−1,2,3−トリアザスピロ[4,5]ウンデカン−2,4−ジオン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、こはく酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ[[6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2、4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[[2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]]、2−(3,5−ジ・第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)等のヒンダード・アミン系安定剤のほか、フェノール系、ホスファイト系、チオエーテル系等の抗酸化剤等が挙げられる。   As stabilizers, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 1- [2 -{3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy} ethyl] -4- {3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy} -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 8-benzyl-7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,2,3-triazaspiro [4,5] undecane-2,4- Dione, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, dimethyl-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine polycondensate Poly [[6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl ) Imino] hexamethylene [[2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]], 2- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butyl In addition to hindered amine stabilizers such as bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) malonate, there may be mentioned antioxidants such as phenols, phosphites and thioethers.

本発明において、各成分の混合方法は特に限定されず、例えばリボンブレンダー、タンブラー、ナウターミキサー、ヘンシェルミキサー、スーパーミキサー等の混合機あるいは、バンバリーミキサー、ニーダー、ロール、ニーダールーダー、単軸押出機、二軸押出機等の混練機を使用して実施される。   In the present invention, the mixing method of each component is not particularly limited. For example, a mixer such as a ribbon blender, a tumbler, a nauter mixer, a Henschel mixer, a super mixer, or a banbury mixer, a kneader, a roll, a kneader ruder, a single screw extruder. It is carried out using a kneader such as a twin screw extruder.

こうして、各成分を混合することで、熱可塑性樹脂(組成物)は、パウダー、ビーズ、ペレットあるいはこれらの混合物の形で得られるが、取扱い易い点で、ペレットが望ましい。得られた組成物は、各種の熱可塑性樹脂成形機、好ましくはホットメルト・ガン等により塗布できるものとなる。   Thus, by mixing each component, the thermoplastic resin (composition) can be obtained in the form of powder, beads, pellets, or a mixture thereof. Pellets are desirable because they are easy to handle. The obtained composition can be applied by various thermoplastic resin molding machines, preferably a hot melt gun.

(b)熱硬化性樹脂
一方、本発明で用いられる熱硬化性樹脂は、一旦硬化すると三次元の網目構造を形成し、再加熱しても軟化溶融しない不可逆的熱特性をもつ、ポリイミドシリコーン樹脂を必須成分とする合成樹脂である。必須成分とは、熱硬化性樹脂の少なくとも50重量%以上を占めるということである。熱硬化性樹脂は、基板間周縁部を多層構造の樹脂層で封着するために、前記熱可塑性樹脂と組み合わせて用いられる。
(B) Thermosetting resin On the other hand, the thermosetting resin used in the present invention forms a three-dimensional network structure once cured, and has an irreversible thermal property that does not soften and melt even when reheated. Is an essential component. The essential component means that it occupies at least 50% by weight or more of the thermosetting resin. The thermosetting resin is used in combination with the thermoplastic resin in order to seal the peripheral portion between the substrates with a multi-layered resin layer.

本発明において必須成分であるポリイミドシリコーン樹脂は、分子鎖中にシリコーンポリマーとポリイミド骨格とを有することを特徴としている。例えば、信越化学工業(株)から商品名:信越ポリイミドシリコーンで販売されている樹脂が挙げられる。このポリイミドシリコーン樹脂は、テトラカルボン酸二無水物とシロキサン結合を有するジアミンの反応生成物であり、反応生成物の構造中に後述する熱硬化性基が含まれている。   The polyimide silicone resin, which is an essential component in the present invention, is characterized by having a silicone polymer and a polyimide skeleton in the molecular chain. For example, there is a resin sold by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. under the trade name: Shin-Etsu Polyimide Silicone. This polyimide silicone resin is a reaction product of tetracarboxylic dianhydride and a diamine having a siloxane bond, and a thermosetting group described later is contained in the structure of the reaction product.

ポリイミドシリコーン樹脂は、溶媒存在下で前記ジアミンとテトラカルボン酸二無水物とをほぼ等モル数で使用し、高温のみで重合させる一段重合法によって製造され、また、まず低温でアミック酸を合成し、その後に高温でイミド化する二段重合法でも製造できる。シリコーンポリマーとポリイミド骨格との比率、分子量などは上記原料であるジアミンとテトラカルボン酸二無水物の種類や反応条件を制御することで所望のものを得ることができる。   The polyimide silicone resin is produced by a one-stage polymerization method in which the diamine and tetracarboxylic dianhydride are used in approximately equimolar numbers in the presence of a solvent and polymerized only at a high temperature. First, an amic acid is synthesized at a low temperature. Thereafter, it can also be produced by a two-stage polymerization method in which imidization is performed at a high temperature. The desired ratio and molecular weight of the silicone polymer and the polyimide skeleton can be obtained by controlling the types and reaction conditions of the diamine and tetracarboxylic dianhydride as the raw materials.

熱硬化性基としては、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、水酸基等が一般的であるが、ポリイミドの製造工程を考慮すると、アミノ基と容易に反応しない点でカルボキシル基、またはフェノール基が好ましく選択される。   As the thermosetting group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, a hydroxyl group, etc. are common, but in consideration of the production process of polyimide, a carboxyl group or a phenol group is preferable in that it does not easily react with an amino group. Selected.

ポリイミドシリコーン樹脂は、有機溶剤への溶解性に優れているため、各種基材上にコーティングしやすいように有機溶剤に溶解して適当な粘度に調整することが可能である。使用できる溶剤は、特に限定されるものではなく、フェノール、4−メトキシフェノ−4−メトキシフェノール、2,6−ジメチルフェノール、m−クレゾール等のフェノール類、テトラヒドロフラン、アニソール等のエーテル類;シクロヘキサノン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、2−オクタノン、アセトフェノン等のケトン類;酢酸ブチル、安息香酸メチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類;ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセロソルブ類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド類等が例示される。   Since the polyimide silicone resin is excellent in solubility in an organic solvent, it can be dissolved in an organic solvent and adjusted to an appropriate viscosity so that it can be easily coated on various substrates. Solvents that can be used are not particularly limited, phenols such as phenol, 4-methoxyphen-4-methoxyphenol, 2,6-dimethylphenol, m-cresol, ethers such as tetrahydrofuran and anisole; cyclohexanone, Ketones such as 2-butanone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, 2-octanone and acetophenone; esters such as butyl acetate, methyl benzoate and γ-butyrolactone; cellosolves such as butyl cellosolve acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; Examples include amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone.

ポリイミドシリコーン樹脂は、熱硬化することによってポリイミドのもつ優れた耐熱性、機械強度と、シリコーンのもつ低吸湿性、可撓性、耐溶剤性、ガラスなど各種基材への密着性を発揮する。
ポリイミドシリコーン樹脂の硬化条件は、特に限定されるものではないが、80〜300℃、好ましくは100〜250℃の範囲に加熱して硬化させる。80℃より低い温度で硬化した場合には熱硬化に時間がかかりすぎて実用的でなく、また、300℃を超える温度で硬化した場合には樹脂が熱劣化を起こしてしまう。
The polyimide silicone resin exhibits excellent heat resistance and mechanical strength possessed by polyimide by thermosetting, and exhibits low moisture absorption, flexibility, solvent resistance, and adhesion to various substrates such as glass.
The curing conditions of the polyimide silicone resin are not particularly limited, but are cured by heating in the range of 80 to 300 ° C, preferably 100 to 250 ° C. If it is cured at a temperature lower than 80 ° C., it takes too much time for thermosetting, and it is not practical, and if it is cured at a temperature exceeding 300 ° C., the resin is thermally deteriorated.

ポリイミドシリコーン樹脂は単独でもよいが、その他に、例えば、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ビス・マレイミドトリアジン樹脂等、もしくはそれを主成分とする2種以上の熱硬化性樹脂混合物として用いることができる。ただし、これらポリイミドシリコーン樹脂以外の樹脂は、50重量%未満とすることが望ましい。   Polyimide silicone resin may be used alone, but in addition, for example, phenol resin, urea resin, melamine resin, diallyl phthalate resin, acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, urethane resin, polyimide resin, bis-maleimide triazine resin, or the like It can be used as a mixture of two or more thermosetting resins mainly composed thereof. However, the resin other than the polyimide silicone resin is desirably less than 50% by weight.

ポリイミドシリコーン樹脂とともに、さらに、これに含まれるフェノール基などと反応性のある官能基を有する樹脂、例えばエポキシ樹脂を組み合せて用いればさらに密着性、耐久性を向上できる。組み合わせて用いるエポキシ樹脂は、脂環式エポキシ樹脂、水素添加型エポキシ樹脂、芳香族エポキシ樹脂のいずれでもよく、これらの混合物であってもよい。   Adhesion and durability can be further improved by using a polyimide silicone resin in combination with a resin having a functional group reactive with a phenol group contained therein, for example, an epoxy resin. The epoxy resin used in combination may be an alicyclic epoxy resin, a hydrogenated epoxy resin, an aromatic epoxy resin, or a mixture thereof.

脂環式エポキシ樹脂は、シクロヘキサンなどの脂環部分とエポキシ部分とを有する熱硬化性樹脂である。この脂環式エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂などに代表される、ベンゼン環を有するエポキシ樹脂を水素化反応してシクロヘキサン環化した水素添加型エポキシ樹脂や、シクロヘキセン環の二重結合を過酢酸で酸化してエポキシ化した、脂肪族環状エポキシ樹脂などが挙げられる。例えば、水添ビスフェノールA型ジグリシジルエーテル、(3,4−3’,4’−エポキシシクロ)ヘキシルメチルヘキサンカルボキシレート、ポリ(エポキシ化シクロヘキセンオキサイド)などがある。これらの脂環式エポキシ化合物は、単独で用いても、混合して使用しても差し支えない。   The alicyclic epoxy resin is a thermosetting resin having an alicyclic portion such as cyclohexane and an epoxy portion. Examples of the alicyclic epoxy resin include a hydrogenated epoxy resin represented by a hydrogenation reaction of an epoxy resin having a benzene ring, represented by a bisphenol A type epoxy resin, and a double bond of a cyclohexene ring. Aliphatic cyclic epoxy resins oxidized and epoxidized with peracetic acid. For example, hydrogenated bisphenol A type diglycidyl ether, (3,4-4 ', 4'-epoxycyclo) hexylmethylhexanecarboxylate, poly (epoxidized cyclohexene oxide), and the like. These alicyclic epoxy compounds may be used alone or in combination.

また、水素添加型エポキシ樹脂であれば、ベンゼン環のシクロヘキサン環化率が80%以上、好ましくは90%以上で、かつ不純物残留成分となる全塩素の含有率が0.5重量%以下、好ましくは0.1重量%以下であることが望ましい。シクロヘキサン環化率は、ベンゼン環がシクロヘキサン環に変化した割合で、核磁気共鳴分析装置などで求めることが出来る。   Further, in the case of a hydrogenated epoxy resin, the cyclohexane cyclization rate of the benzene ring is 80% or more, preferably 90% or more, and the content of total chlorine that is an impurity residual component is 0.5% by weight or less, preferably Is preferably 0.1% by weight or less. The cyclohexane cyclization rate can be determined by a nuclear magnetic resonance analyzer or the like at a rate at which a benzene ring is changed to a cyclohexane ring.

芳香族エポキシ樹脂は、1以上の芳香核と2以上のエポキシ基を有する化合物であり、脂環を有しない化合物である。芳香族エポキシ樹脂におけるエポキシ基は、グリシジル基であることが好ましい。代表的芳香族エポキシ樹脂は、ポリフェノール類のグリシジルエーテルであり、また芳香族ポリカルボン酸のグリシジルエステル、芳香族アミンのグリシジルアミノ化物などがある。また、これらグリシジル化合物のオリゴマー化物も使用できる。具体的な芳香族エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ノボラックポリグリシジルエーテル、N,N−ジグリシジルアニリンなどがある。   An aromatic epoxy resin is a compound having one or more aromatic nuclei and two or more epoxy groups, and having no alicyclic ring. The epoxy group in the aromatic epoxy resin is preferably a glycidyl group. Typical aromatic epoxy resins are glycidyl ethers of polyphenols, glycidyl esters of aromatic polycarboxylic acids, glycidyl aminated products of aromatic amines, and the like. In addition, oligomerized products of these glycidyl compounds can also be used. Specific examples of the aromatic epoxy resin include bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, novolac polyglycidyl ether, and N, N-diglycidyl aniline.

本発明で使用できる硬化剤は、上記の熱硬化性樹脂と反応し硬化物が得られるものであれば何ら制限は無い。例えば、ヒドラジド系硬化剤、酸無水物類やジシアンジアミドおよびその変性物など様々な硬化剤を使用でき、それらは単独でも複数種で使用しても差し支えない。   The curing agent that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it can react with the thermosetting resin to obtain a cured product. For example, various curing agents such as hydrazide-based curing agents, acid anhydrides, dicyandiamide and modified products thereof can be used, and they may be used alone or in combination.

このようなヒドラジド系硬化剤としては、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、エイコサン二酸ジヒドラジド、7,11−オクタデカジエン−1,18−ジカルボジヒドラジド、或いは1,3−ビス(ヒドラジノカルボノエチル)−5−イソプロピルヒダントインなどが挙げられ、単独で用いても混合して使用しても構わない。   Examples of such hydrazide-based curing agents include adipic acid dihydrazide, sebacic acid dihydrazide, dodecanedioic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, eicosanedioic acid dihydrazide, 7,11-octadecadien-1,18-dicarbodihydrazide, or 1 , 3-bis (hydrazinocarbonoethyl) -5-isopropylhydantoin, and the like may be used alone or in combination.

酸無水物であれば、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸やヘキサヒドロ無水フタル酸等の、構造中の6員環部分がシクロ環になっているものが望ましく、さらには、一液性潜在性硬化剤として作用し、硬化物もより透明なものが得られやすい、ヒドラジド系硬化剤が望ましい。   In the case of acid anhydrides, it is desirable that the 6-membered ring portion in the structure is a cyclo ring, such as 4-methylhexahydrophthalic anhydride or hexahydrophthalic anhydride. A hydrazide-based curing agent that acts as an agent and easily obtains a more transparent cured product is desirable.

硬化促進剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、ベンジルジメチルアミン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ジメチルシクロヘキシルアミン等の3級アミン類;1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール等のイミダゾール類;トリフェニルホスフィン、亜リン酸トリフェニル等の有機リン系化合物;テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイド等の4級ホスホニウム塩類;1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7等や、その有機酸塩等のジアザビシクロアルケン類;オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫やアルミニウムアセチルアセトン錯体等の有機金属化合物類;テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等の4級アンモニウム塩類;三ふっ化ホウ素、トリフェニルボレート等のホウ素化合物、塩化亜鉛、塩化第二錫等の金属ハロゲン化物が挙げられる。
さらには、高融点イミダゾール化合物、ジシアンジアミド、アミンをエポキシ樹脂等に付加したアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性促進剤、イミダゾール系、リン系、ホスフィン系促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性促進剤、アミン塩型潜在性硬化促進剤、ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩等の高温解離型で熱カチオン重合型の潜在性硬化促進剤等に代表される潜在性硬化促進剤も使用することができる。これらの硬化促進剤は単独、又は2種以上を混合して使用することができる。
Although it does not specifically limit as a hardening accelerator, For example, tertiary amines, such as benzyldimethylamine, a tris (dimethylaminomethyl) phenol, a dimethyl cyclohexylamine; 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methyl Imidazoles such as imidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole; organophosphorus compounds such as triphenylphosphine and triphenyl phosphite; tetraphenylphosphonium bromide, tetra-n-butyl Quaternary phosphonium salts such as phosphonium bromide; 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7 etc. and diazabicycloalkenes such as organic acid salts thereof; zinc octylate, tin octylate and aluminum acetylacetone complex Organometallic compounds such as Tetraethylammonium bromide, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide; boron trifluoride, boron compounds such as triphenyl borate, zinc chloride, metal halides such as stannic chloride.
In addition, high melting point imidazole compounds, dicyandiamide, high melting point dispersion type latent accelerators such as amine addition type accelerators with amines added to epoxy resins, etc., and imidazole, phosphorus and phosphine accelerators are coated with a polymer. Latent curing represented by high temperature dissociation type thermal cationic polymerization type latent curing accelerators such as microcapsule type latent accelerator, amine salt type latent curing accelerator, Lewis acid salt, Bronsted acid salt, etc. Accelerators can also be used. These curing accelerators can be used alone or in admixture of two or more.

ここで、熱硬化性樹脂と硬化剤の使用量は、特に制限されず、例えば、エポキシ樹脂のように硬化剤が必要な熱硬化性樹脂を(a)、硬化剤を(c)としたとき、重量比率で、(a):(c)が97:3〜80:20、好ましくは95:5〜85:15とすることができる。硬化剤(c)が3未満では粘度が低いままで、粘ちょうな液状樹脂物質とはならず、(c)が20より多いと硬化反応が進行しすぎて、液状とならない場合がある。   Here, the usage-amount of a thermosetting resin and a hardening | curing agent is not restrict | limited in particular, For example, when a thermosetting resin which requires a hardening agent like an epoxy resin is (a) and a hardening agent is (c). The weight ratio (a) :( c) can be 97: 3 to 80:20, preferably 95: 5 to 85:15. If the curing agent (c) is less than 3, the viscosity remains low and does not become a viscous liquid resin substance. If the curing agent (c) is more than 20, the curing reaction proceeds excessively and may not become liquid.

この熱硬化性樹脂は、上記樹脂成分以外に、他の成分を含んでいてもよい。例えば、溶媒を配合して組成物の粘度を下げ、組成物の塗工性を向上させることができる。また、溶媒を使用することにより、上記各成分を混合する際の混合性を向上できる。
溶媒としては、通常の溶媒が使用できる。例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N−メチルピロリドン、ジエチルエーテル、エタノール、プロパノール、イソブタノール、四塩化炭素、アセトン、ジメチルホルムアミドなどの溶媒を用いることができる。
This thermosetting resin may contain other components in addition to the resin component. For example, a solvent can be blended to lower the viscosity of the composition and improve the coating properties of the composition. Moreover, the mixing property at the time of mixing each said component can be improved by using a solvent.
A normal solvent can be used as the solvent. For example, solvents such as benzene, toluene, xylene, hexane, heptane, tetrahydrofuran, dioxane, N-methylpyrrolidone, diethyl ether, ethanol, propanol, isobutanol, carbon tetrachloride, acetone, dimethylformamide and the like can be used.

この他、熱硬化性樹脂及び硬化剤と反応しない溶剤としては、2,2,4−トリメチル−3−ヒドロキシジペンタンイソブチレート、2,2,4−トリメチルペンタン−1,3−イソブチレート、イソブチルブチレート、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、或いは2−ヒドロオキシプロパン酸エチル等が挙げられる。   Other solvents that do not react with thermosetting resins and curing agents include 2,2,4-trimethyl-3-hydroxydipentane isobutyrate, 2,2,4-trimethylpentane-1,3-isobutyrate, and isobutyl. Examples include butyrate, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, and ethyl 2-hydroxypropanoate.

また、加熱時に熱硬化性樹脂および硬化剤と反応し得る溶剤としては、フェニルグリシジルエーテル、エチルヘキシルグリシジルエーテルや、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる   Examples of the solvent capable of reacting with the thermosetting resin and the curing agent during heating include phenyl glycidyl ether, ethylhexyl glycidyl ether, 3-aminopropyltriethoxysilane, and 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane.

(c)無機微粒子
上記樹脂成分である熱可塑性樹脂(a)及び/又は熱硬化性樹脂(b)には、封着部分の性能を改善するために無機微粒子を配合できる。
(C) Inorganic fine particles In the thermoplastic resin (a) and / or thermosetting resin (b), which are the resin components, inorganic fine particles can be blended in order to improve the performance of the sealing portion.

無機微粒子としては、粒径が50μm以下のシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニアなどの金属酸化物が使用できる。基板がガラス基板であれば、無機微粒子としてシリカを用いることが好ましい。その配合量は、樹脂組成物全体に対して、30〜95重量%、好ましくは40〜90重量%とすることができる。本発明においては、無機微粒子は任意成分であるが、封着部分の耐熱性を高めるだけでなく、強度を高めガスのリークをさらに抑制することが期待できる。配合量が30重量%未満ではその効果が小さく、95重量%を超えると塗布性が悪化する。   As the inorganic fine particles, metal oxides such as silica, alumina, titania, zirconia having a particle size of 50 μm or less can be used. If the substrate is a glass substrate, silica is preferably used as the inorganic fine particles. The compounding quantity can be 30 to 95 weight% with respect to the whole resin composition, Preferably it can be 40 to 90 weight%. In the present invention, the inorganic fine particle is an optional component, but it can be expected not only to increase the heat resistance of the sealed portion but also to increase the strength and further suppress gas leakage. If the blending amount is less than 30% by weight, the effect is small, and if it exceeds 95% by weight, the coating property deteriorates.

2.封着構造体
本発明の封着構造体は、基板間周縁部が上記封着用樹脂組成物の樹脂層で封着された封着構造体、すなわち、所定間隔を保持して対向された2枚の基板の基板間周縁部が上記封着用樹脂組成物の樹脂層で封着され、その内部空間に不活性ガスが封入され、又は減圧に維持された封着構造体である。
2. Sealing structure The sealing structure of the present invention is a sealing structure in which the peripheral edge portion between the substrates is sealed with the resin layer of the sealing resin composition, that is, two sheets facing each other while maintaining a predetermined interval. This is a sealing structure in which the peripheral portion between the substrates of the substrate is sealed with the resin layer of the sealing resin composition, and the inert gas is sealed in the internal space or maintained at a reduced pressure.

基板としては、ディスプレイ素子を構成できるものであれば、ガラス基板、金属やセラミックスなどの耐熱性基板でよく、特に限定されないが、2枚の基板のうち少なくとも一方はガラス基板であることが好ましい。基板の一方をガラス基板とした場合、他方は金属やセラミックスなどの耐熱性材料からなる基板を用いてもよい。
基板としての下板と上板のサイズは特に限定されず、小面積のものから大面積のものまで使用できる。例えば、縦50〜500mm、横50〜800mm、厚さ3〜10mmのものなどである。下板と上板のいずれかには排気用に、直径(一辺)が3〜10mmの孔を有するものが適している。
The substrate may be a glass substrate, a heat-resistant substrate such as metal or ceramics as long as it can constitute a display element, and is not particularly limited, but at least one of the two substrates is preferably a glass substrate. When one of the substrates is a glass substrate, the other may be a substrate made of a heat resistant material such as metal or ceramics.
The size of the lower plate and the upper plate as the substrate is not particularly limited, and a substrate having a small area to a large area can be used. For example, the length is 50 to 500 mm, the width is 50 to 800 mm, and the thickness is 3 to 10 mm. Any one of the lower plate and the upper plate having a hole with a diameter (one side) of 3 to 10 mm is suitable for exhaust.

本発明においては、2枚の基板の間にスぺーサーを介在させることができる。スぺーサーは、前記基板の中央部分が切り抜かれた枠状の板状体である。外形(縦、横の長さ)は基板(下板と上板)のサイズと同じであるが、例えば、内形(中空部分)は縦30〜450mm、横30〜750mm、厚さ0.5〜5mmとすることができる。これにより、基板間周縁部の幅が、20〜50mm確保される。   In the present invention, a spacer can be interposed between the two substrates. The spacer is a frame-like plate-like body in which the central portion of the substrate is cut out. The outer shape (vertical and horizontal length) is the same as the size of the substrate (lower plate and upper plate). For example, the inner shape (hollow part) is 30 to 450 mm in length, 30 to 750 mm in width, and 0.5 mm in thickness. It can be set to -5 mm. Thereby, the width | variety of the peripheral part between board | substrates is ensured 20-50 mm.

この基板間周縁部は、互いに隣接する多層構造の樹脂層によって封着されている。多層構造の樹脂層は、樹脂成分として、熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)とを含むとともに、封着により得られる樹脂層がそれぞれ独立して形成され、互いに隣接した多層構造になる。多層構造とは、熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)とが各1層である場合だけでなく、熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)のいずれかが2層以上である場合を包含している。   The inter-substrate peripheral edge is sealed with a resin layer having a multilayer structure adjacent to each other. The resin layer having a multilayer structure includes a thermoplastic resin (a) and a thermosetting resin (b) as resin components, and the resin layers obtained by sealing are formed independently, and are adjacent to each other. become. The multilayer structure is not only the case where the thermoplastic resin (a) and the thermosetting resin (b) are each one layer, but either the thermoplastic resin (a) or the thermosetting resin (b) is 2 The case of more than a layer is included.

基板間周縁部において、熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)の位置関係は特に限定されない。熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)とが各1層である場合、熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)は、どちらが内部空間側に位置していても良い。ただし、基板間周縁部の中央部分が熱硬化性樹脂の樹脂層によって封着され、その熱硬化性樹脂層の両側に熱可塑性樹脂層が隣接していることが好ましい。それは、樹脂成分のうち、熱可塑性樹脂(a)が主としてガスのリークを抑制する機能を担うのに対して、熱硬化性樹脂(b)が主として基板同士を接着する機能を担っているためである。   The positional relationship between the thermoplastic resin (a) and the thermosetting resin (b) is not particularly limited in the peripheral portion between the substrates. When the thermoplastic resin (a) and the thermosetting resin (b) are each in one layer, either the thermoplastic resin (a) or the thermosetting resin (b) may be located on the inner space side. . However, it is preferable that the central part of the peripheral part between the substrates is sealed with a resin layer of a thermosetting resin, and the thermoplastic resin layer is adjacent to both sides of the thermosetting resin layer. This is because, among the resin components, the thermoplastic resin (a) mainly has a function of suppressing gas leakage, whereas the thermosetting resin (b) mainly has a function of bonding substrates together. is there.

熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)のいずれか、又は両者には無機微粒子(c)を配合できる。無機微粒子は任意成分であるが、前記の通り、封着部分の耐熱性を高めるだけでなく、樹脂層の機械的強度を高め、ガスのリークをさらに抑制する。
熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)の割合は、特に限定するわけではないが、重量比で30:1〜1:30であることが好ましい。熱可塑性樹脂(a)よりも熱硬化性樹脂(b)の量が少なく、30:1未満であると、封着部の機械的強度が小さくなり、一方、熱可塑性樹脂(a)よりも熱硬化性樹脂(b)の量が1:30よりも多くなりすぎると、ガスのリークを十分には抑制できない場合があり好ましくない。
Inorganic fine particles (c) can be blended in either or both of the thermoplastic resin (a) and the thermosetting resin (b). Inorganic fine particles are optional components. As described above, the inorganic fine particles not only increase the heat resistance of the sealed portion, but also increase the mechanical strength of the resin layer and further suppress gas leakage.
The ratio of the thermoplastic resin (a) and the thermosetting resin (b) is not particularly limited, but is preferably 30: 1 to 1:30 by weight. When the amount of the thermosetting resin (b) is smaller than that of the thermoplastic resin (a) and less than 30: 1, the mechanical strength of the sealing portion is reduced, while on the other hand, it is hotter than the thermoplastic resin (a). If the amount of the curable resin (b) is more than 1:30, gas leakage may not be sufficiently suppressed, which is not preferable.

本発明の封着構造体は、2枚の基板間周縁部が封着されて形成される内部空間が減圧〜真空に維持されるPDP、FED、VFDなどのディスプレイ素子として有用である。ディスプレイ素子としては特にPDPが好ましい。   The sealing structure of the present invention is useful as a display element such as a PDP, FED, or VFD in which an inner space formed by sealing the peripheral portion between two substrates is maintained at a reduced pressure to a vacuum. PDP is particularly preferable as the display element.

3.封着構造体の製造方法
本発明においては、(1)2枚の基板を重ね、必要によりスぺーサーを介在させることにより、2枚の基板間を所定の間隔に維持した状態で、(2)基板周縁部に本発明の封着用樹脂組成物である熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを塗布し、加圧し、所定の時間保持して、多層構造の樹脂層を形成し、(3)基板間の内部空間を減圧、排気してから、基板の排気孔を閉じることにより封着構造体が製造される。
3. Manufacturing method of sealing structure In the present invention, (1) In a state where two substrates are stacked and a spacer is interposed as necessary, the two substrates are maintained at a predetermined interval (2 ) Applying a thermoplastic resin and a thermosetting resin, which are the resin composition for sealing of the present invention, to the periphery of the substrate, pressurizing and holding for a predetermined time to form a multi-layered resin layer; (3) The internal structure between the substrates is depressurized and evacuated, and then the sealing structure is manufactured by closing the exhaust hole of the substrate.

(1)基板など材料の配置
すなわち、本発明の封着方法を図面により説明すれば、図1の基板2枚とスぺーサーを用意し、これらを図2のように重ね合わせ、基板の周縁でスぺーサーの上下に熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを塗布できるようにする。
(1) Arrangement of Materials such as Substrate That is, if the sealing method of the present invention is described with reference to the drawings, two substrates of FIG. 1 and a spacer are prepared and overlapped as shown in FIG. The thermoplastic resin and thermosetting resin can be applied to the top and bottom of the spacer.

基板のサイズは前記のとおりであり、特に限定されない。基板である下板1と上板2の間にスぺーサーとして枠状の中板3を挿入できるが、樹脂成分である熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂のいずれかにスぺーサーの厚さに相当する粒径のセラミック粒子が含有されていれば、枠状の中板3を省略することができる。
以下の手順では、便宜上、スぺーサー(中板)を用いない場合で封着構造体の製造方法を説明する。
The size of the substrate is as described above and is not particularly limited. A frame-shaped middle plate 3 can be inserted as a spacer between the lower plate 1 and the upper plate 2 which are substrates, but the thickness of the spacer is either a thermoplastic resin or a thermosetting resin which is a resin component. If the ceramic particle having a particle size corresponding to is contained, the frame-shaped intermediate plate 3 can be omitted.
In the following procedure, for the sake of convenience, a method for manufacturing a sealing structure will be described without using a spacer (intermediate plate).

(2)封着用樹脂組成物の塗布、封着
次に、基板の周縁部に封着用樹脂組成物を塗布する。そのためには、上記封着用樹脂組成物をディスペンサーから2枚の基板間周縁部に吐出させ、2枚の基板間を所定の間隔に維持した状態で樹脂組成物と密着させる。
(2) Application and sealing of sealing resin composition Next, the sealing resin composition is applied to the peripheral edge of the substrate. For this purpose, the sealing resin composition is discharged from the dispenser to the peripheral portion between the two substrates, and is in close contact with the resin composition in a state where the two substrates are maintained at a predetermined interval.

封着用樹脂組成物は、樹脂成分として熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の樹脂成分とを含むが、各樹脂成分を同時に基板の周縁に吐出してもよいし、いずれかを先に吐出してもよい。すなわち、熱可塑性樹脂を先に塗布し、次に熱硬化性樹脂を塗布してもよいし、その逆であってもよい。
また、2枚の基板のうち、いずれか1枚に樹脂成分を塗布して、封着させてから、次に他の基板に樹脂成分を塗布して、封着させてもよいし、重ね合わせた2枚の基板の間に樹脂成分を吐出・注入して、一度に封着させてもよい。すなわち、重ね合わせた基板(上板)を取り去ってから、基板(下板)の周縁に封着用組成物を吐出し、次いで基板(上板)を重ね合わせて加圧し、2枚の基板間隔を所定の間隔としてから、封着用樹脂組成物の熱硬化性樹脂を硬化させる方法;間隔を保って重ねた2枚の基板の周縁間隙に封着用樹脂組成物を吐出して注入し、2枚の基板間を加圧して間隙を所定間隔に保持した後、封着用樹脂組成物の熱硬化性樹脂を硬化する方法などを採用できる。
The sealing resin composition contains a thermoplastic resin and a thermosetting resin resin component as resin components, but each resin component may be discharged simultaneously to the periphery of the substrate, or either one may be discharged first. Also good. That is, the thermoplastic resin may be applied first, and then the thermosetting resin may be applied, or vice versa.
Alternatively, the resin component may be applied to one of the two substrates and sealed, and then the resin component may be applied to another substrate and sealed. Alternatively, the resin component may be discharged and injected between the two substrates to be sealed at a time. That is, after removing the overlapped substrate (upper plate), the sealing composition is discharged to the periphery of the substrate (lower plate), and then the substrate (upper plate) is overlapped and pressed to increase the distance between the two substrates. A method of curing the thermosetting resin of the sealing resin composition after the predetermined interval; discharging and injecting the sealing resin composition into the peripheral gap between the two substrates stacked at intervals; A method of curing the thermosetting resin of the sealing resin composition after pressurizing between the substrates and keeping the gap at a predetermined interval can be employed.

この際、封着用樹脂組成物として熱可塑性樹脂のみを用いたのでは、気密性が不足する。また、従来技術のように熱硬化性樹脂のみを用いたのでは、シール部分に気泡が発生し、気密性も不足してしまう。   At this time, if only the thermoplastic resin is used as the sealing resin composition, the airtightness is insufficient. Further, if only the thermosetting resin is used as in the prior art, bubbles are generated in the seal portion and the airtightness is insufficient.

封着用樹脂組成物を塗布する手段は特に限定されないが、熱可塑性樹脂を吐出するにはホットガンを用い、熱硬化性樹脂はディスペンサー等を用いて、それぞれ基板上に塗布することが有利である。
ホットガンは、熱可塑性樹脂をホットメルト装置の中で溶融温度以上に過熱し、押し出し機構を用いて溶融状態の部材を直接封着すべき基板に吐出させるものである。ここでホットメルト装置内に原材料である熱可塑性樹脂を充填し、熱可塑性樹脂の溶融温度まで加熱しながら基板の所定の位置に吐出する。
The means for applying the sealing resin composition is not particularly limited, but it is advantageous to apply a hot gun to discharge the thermoplastic resin and apply the thermosetting resin onto the substrate using a dispenser or the like.
In the hot gun, a thermoplastic resin is heated to a melting temperature or higher in a hot melt apparatus, and a molten member is directly discharged onto a substrate to be sealed using an extrusion mechanism. Here, a thermoplastic resin, which is a raw material, is filled in the hot melt apparatus and discharged to a predetermined position on the substrate while being heated to the melting temperature of the thermoplastic resin.

一方、熱硬化性樹脂は、例えばディスペンサー等を用いて基板上に塗布されるが、当該ディスペンサーのシリンジ中や吐出部における組成物の粘度は10Pas〜70Pasであることが好ましく、そのためこれらにおける温度を100℃以上に維持して吐出を行うことが好ましい。熱硬化性樹脂の硬化温度は150〜250℃、特に180〜220℃であることが好ましい。この温度条件における硬化時間としては1〜20時間程度が好ましい。   On the other hand, the thermosetting resin is applied on the substrate using, for example, a dispenser or the like, and the viscosity of the composition in the syringe or the discharge part of the dispenser is preferably 10 Pas to 70 Pas. It is preferable to discharge while maintaining at 100 ° C. or higher. The curing temperature of the thermosetting resin is preferably 150 to 250 ° C, particularly 180 to 220 ° C. The curing time under these temperature conditions is preferably about 1 to 20 hours.

樹脂成分を塗布後は速やかに加圧し、この樹脂層を150〜250℃の範囲で1〜20時間段階的に加熱し昇温する。加熱条件は、用いる熱硬化性樹脂の種類によって異なるが、例えば、150〜180℃で0.1〜5時間、180〜210℃で0.3〜5時間、200〜220℃で0.3〜5時間、210〜250℃で0.3〜5時間加熱することで、熱硬化性樹脂を硬化させることができる。その後、基板(上板)中央部の孔から真空ポンプを用いて脱気し、内部空間を10−8〜10−10Torrの真空にする。 After applying the resin component, the pressure is quickly applied, and the resin layer is heated stepwise in the range of 150 to 250 ° C. for 1 to 20 hours. Although heating conditions change with kinds of thermosetting resin to be used, for example, 150-180 degreeC is 0.1-5 hours, 180-210 degreeC is 0.3-5 hours, 200-220 degreeC is 0.3- The thermosetting resin can be cured by heating for 5 hours at 210 to 250 ° C. for 0.3 to 5 hours. Then, it deaerates from the hole of the center part of a board | substrate (upper board) using a vacuum pump, and internal space is evacuated to 10 < -8 > -10 < -10 > Torr.

(3)内部空間の排気
前記のようにして封着された2枚の基板間の内部空間を減圧にし、アウトガスが実質的に排出されてから、最後に減圧にするために用いた排気孔を閉じる。
(3) Exhaust of the internal space The internal space between the two substrates sealed as described above is depressurized, and after the outgas is substantially exhausted, the exhaust hole used for depressurization is finally used. close.

この工程で、基板間の内部空間に空気以外のガスを封入してもよい。通常ガスを封入するには、基板間の内部空間から空気を充分排出した後、空気以外のガスを導入して排気孔を閉じる。封入する不活性ガスとしては、例えば封着構造体がPDPである場合、ネオン、キセノン、ヘリウム、アルゴンなどの放電ガスがある。封着構造体の内部空間における減圧度は特に限定されるものではなく、0.5atm以下、特に0.1atm以下が好ましい。不活性ガスが充填されている場合の減圧度もこの範囲が好ましい。
これにより、上記封着用樹脂組成物で封着された封着構造体、すなわち、所定間隔を保持して対向された2枚の基板の基板間周縁部が封着され、その内部空間が減圧に維持された封着構造体が製造される。
In this step, a gas other than air may be sealed in the internal space between the substrates. In order to enclose the normal gas, air is sufficiently exhausted from the internal space between the substrates, and then a gas other than air is introduced to close the exhaust hole. Examples of the inert gas to be sealed include discharge gases such as neon, xenon, helium, and argon when the sealing structure is a PDP. The degree of reduced pressure in the internal space of the sealing structure is not particularly limited, and is preferably 0.5 atm or less, particularly preferably 0.1 atm or less. This range is also preferable for the degree of vacuum when the inert gas is filled.
As a result, the sealing structure sealed with the sealing resin composition, that is, the peripheral portion between the two substrates facing each other while maintaining a predetermined interval is sealed, and the internal space is reduced in pressure. A maintained sealing structure is produced.

こうして得られる本発明の封着構造体は、気密性が高く、空気の浸透や不活性ガスの漏出が少ないという特徴を有する。本発明における封着用樹脂組成物は、例えば、ヘリウム(He)リークディテクターで評価すると、封着樹脂層のHeリークの値を10−10[Pa・m/s]以下にすることができる。 The sealing structure of the present invention thus obtained is characterized by high airtightness and low air permeation and inert gas leakage. When the sealing resin composition in the present invention is evaluated with, for example, a helium (He) leak detector, the value of He leak of the sealing resin layer can be 10 −10 [Pa · m 3 / s] or less.

以下に、本発明の実施例および比較例を具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り、これらに限定されるものでは無い。本実施例、比較例で使用した原材料および評価法を以下に示す。   Examples of the present invention and comparative examples will be specifically described below, but the present invention is not limited to these examples without departing from the spirit of the present invention. The raw materials and evaluation methods used in the examples and comparative examples are shown below.

[原材料]
A 熱可塑性樹脂
・樹脂a1:芳香族ナイロン(ナイロンMXD6)
(商品名:MXナイロン 6001、三菱ガス化学(株)製)
・樹脂a2:ポリエチレンテレフタレート(PET)
(商品名:バイロン GM480、東洋紡績(株)製)
B 熱硬化性樹脂
・樹脂b1:ポリイミドシリコーン樹脂
(商品名:信越ポリイミドシリコーンSMP−2001、信越化学工業(株)製)
・樹脂b2:ビスフェノール型エポキシ樹脂
(商品名:エピコート828、ジャパンエポキシレジン(株)製)
・硬化剤:酸無水物系硬化剤
(商品名:YH307、ジャパンエポキシレジン(株)製)
C 無機微粒子:ガラスフリット
(商品名:無鉛系Pタイプ、東罐マテリアルテクノロジー(株)製)、平均粒径10μm
[raw materials]
A Thermoplastic resin Resin a1: Aromatic nylon (Nylon MXD6)
(Product name: MX nylon 6001, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.)
Resin a2: Polyethylene terephthalate (PET)
(Product name: Byron GM480, manufactured by Toyobo Co., Ltd.)
B Thermosetting resin Resin b1: Polyimide silicone resin (trade name: Shin-Etsu polyimide silicone SMP-2001, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Resin b2: bisphenol type epoxy resin (trade name: Epicoat 828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
Curing agent: acid anhydride curing agent (trade name: YH307, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
C Inorganic fine particles: Glass frit
(Product name: Lead-free P type, manufactured by Toago Material Technology Co., Ltd.), average particle size 10 μm

[評価法]
(1)ポットライフ:熱硬化性樹脂組成物が硬化する一定の所定温度(150℃)で樹脂を加熱しながらその粘度を測定した。その結果を、ある粘度に到達するまでの時間で次のように相対評価した。
○;粘度上昇開始までの時間が長い。
×;粘度上昇開始までの時間が短い。
(2)気泡の有無:目視および光学顕微鏡観察により、次のように評価した。
○;硬化樹脂中に気泡が無い。
×;硬化樹脂中に気泡が存在する。
(3)気密性:周縁部を封着した基板(上板)中央部の孔から真空ポンプを用いて脱気し、内部空間を10−10Torrの真空にした後、リークの有無を測定した。
リークの有無の測定は、ULVACヘリウムリークディテクター HELIOTを用いたフード法で行った。最初にバックグラウンド値が1.5×10−11[Pa・m/s]になるまでサンプル内を真空排気した後、フード内にヘリウムガスを導入し、10分間ヘリウムガスのリークレートを測定し、ヘリウムガスのリークレートの最大値を記録してリークの有無を確認した。
○;フード内にHeガスを投入して24時間Heリークレートを観測した時、その値に殆ど変動が無く、24時間後のHeリークレートがバックグラウンド値以下である。
×;フード内にHeガスを投入して24時間Heリークレートを観測した時、その値が変動し、24時間後のHeリークレートがバックグラウンド値より高い。
[Evaluation method]
(1) Pot life: The viscosity was measured while heating the resin at a predetermined temperature (150 ° C.) at which the thermosetting resin composition was cured. The result was evaluated relative to the time to reach a certain viscosity as follows.
○: The time until the viscosity increase starts is long.
X: The time until the viscosity increase starts is short.
(2) Presence / absence of bubbles: Evaluation was performed as follows by visual observation and observation with an optical microscope.
○: There are no bubbles in the cured resin.
X: Air bubbles are present in the cured resin.
(3) Airtightness: After deaeration using a vacuum pump from the hole in the center of the substrate (upper plate) with the peripheral edge sealed, the internal space was evacuated to 10 −10 Torr and the presence or absence of leakage was measured. .
The presence or absence of leakage was measured by a hood method using ULVAC helium leak detector HELIOT. First, after evacuating the sample until the background value becomes 1.5 × 10 −11 [Pa · m 3 / s], helium gas is introduced into the hood, and the leak rate of helium gas is measured for 10 minutes. Then, the maximum value of the leak rate of helium gas was recorded to confirm the presence or absence of leak.
○: When He gas was injected into the hood and the He leak rate was observed for 24 hours, the value was almost unchanged, and the He leak rate after 24 hours was below the background value.
X: When He gas was injected into the hood and the He leak rate was observed for 24 hours, the value fluctuated, and the He leak rate after 24 hours was higher than the background value.

(実施例1)
図1に示すソーダライムガラス板3枚を用意し、下板1と中板(スぺーサー)3との間、上板2と中板3との間に、図2のように封着用樹脂組成物を挟んで加圧して、樹脂層の多層構造(内部空間側からみて、a2、b1、a1の3層)が形成されるように積層した。なお、ガラス板のサイズは、下板1;100mm×200mm×5mm、孔4を有する上板2;100mm×200mm×5mm、孔の直径5mm、枠状の中板4;外形100mm×200mm、内形70mm×170mm、厚さ5mmとした。なお、封着用樹脂組成物のうち、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂成分には、無機微粒子を各樹脂成分に対して、50質量%配合しておいた。
熱可塑性樹脂a1、a2はホットガンを用い、熱硬化性樹脂b1は、ディスペンサー等を用いてそれぞれ基板上に同時に塗布し、速やかに加圧した(合計シール幅6mm)。なお、熱可塑性樹脂a1及びa2と熱硬化性樹脂b1は、重量比が10:1の割合となるように吐出した。次に、この積層体を180℃で2時間、200℃で4時間、210℃で4時間、220℃で4時間かけて加熱し、熱硬化性樹脂b1の硬化を行った。その後、上板中央部の孔4から真空ポンプを用いて脱気し、内部空間を10−10Torrの真空にして、リークを測定した。
ポットライフ、気泡の有無、気密性を前記の要領で評価して、その結果を表1に示した。
Example 1
Prepare three soda lime glass plates shown in FIG. 1, and seal resin between the lower plate 1 and the middle plate (spacer) 3 and between the upper plate 2 and the middle plate 3 as shown in FIG. The composition was sandwiched and pressed so as to form a multilayer structure of resin layers (three layers a2, b1, and a1 as viewed from the inner space side). The size of the glass plate is: lower plate 1; 100 mm × 200 mm × 5 mm, upper plate 2 having holes 4; 100 mm × 200 mm × 5 mm, hole diameter 5 mm, frame-shaped middle plate 4; outer shape 100 mm × 200 mm, inner The shape was 70 mm × 170 mm and the thickness was 5 mm. In addition, 50 mass% of inorganic fine particles were mix | blended with respect to each resin component in the thermoplastic resin and the thermosetting resin component among the resin compositions for sealing.
The thermoplastic resins a1 and a2 were applied simultaneously on the substrate using a hot gun, and the thermosetting resin b1 was simultaneously applied on the substrate using a dispenser or the like, and quickly pressed (total seal width 6 mm). The thermoplastic resins a1 and a2 and the thermosetting resin b1 were discharged so that the weight ratio was 10: 1. Next, this laminate was heated at 180 ° C. for 2 hours, 200 ° C. for 4 hours, 210 ° C. for 4 hours, and 220 ° C. for 4 hours to cure the thermosetting resin b1. Thereafter, the hole 4 at the center of the upper plate was deaerated using a vacuum pump, the internal space was evacuated to 10 −10 Torr, and the leak was measured.
The pot life, presence / absence of bubbles, and airtightness were evaluated as described above, and the results are shown in Table 1.

(実施例2〜7)
熱可塑性樹脂の種類を変更するか、熱硬化性樹脂(樹脂b2、硬化剤)の種類と組成、基板周縁部への吐出位置を表1、2のように変更した以外は実施例1と同様にして実験した。
ポットライフ、気泡の有無、気密性を前記の要領で評価して、その結果を表1、2に示した。
(Examples 2 to 7)
Example 1 except that the type of thermoplastic resin is changed, or the type and composition of the thermosetting resin (resin b2, curing agent) and the discharge position to the peripheral edge of the substrate are changed as shown in Tables 1 and 2. And experimented.
The pot life, presence / absence of bubbles, and airtightness were evaluated as described above, and the results are shown in Tables 1 and 2.

(比較例1、2)
熱可塑性樹脂を用いず、熱硬化性樹脂のみを封着用樹脂組成物として用いた以外は、実施例と同様にして実験した。ポットライフ、気泡の有無、気密性を前記の要領で評価し、結果を表3に示した。
(Comparative Examples 1 and 2)
An experiment was conducted in the same manner as in the example except that only the thermosetting resin was used as the sealing resin composition without using the thermoplastic resin. The pot life, presence / absence of air bubbles, and airtightness were evaluated as described above, and the results are shown in Table 3.

(比較例3)
熱可塑性樹脂のみを用い、熱硬化性樹脂を用いずに封着用樹脂組成物とした以外は、実施例と同様にして実験した。ポットライフ、気泡の有無、気密性を前記の要領で評価し、結果を表3に示した。
(Comparative Example 3)
An experiment was conducted in the same manner as in the example except that only a thermoplastic resin was used and a resin composition for sealing was used without using a thermosetting resin. The pot life, presence / absence of air bubbles, and airtightness were evaluated as described above, and the results are shown in Table 3.

Figure 2006241367
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Figure 2006241367
Figure 2006241367

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「評価」
実施例1〜7は、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂を組み合せ、熱硬化性樹脂としてポリイミドシリコーンを含む封着用樹脂組成物を用いたために、ポットライフ、気泡の有無、気密性のいずれも良好な封着構造体が得られている。これに対して、比較例1、2は、熱硬化性樹脂のみを封着用樹脂組成物として用いたために、ポットライフは良好であるが、気泡の有無、気密性は不十分であった。また、比較例3は、熱可塑性樹脂のみを封着用樹脂組成物として用いたために、気泡は無いものの、気密性は不十分であった。
"Evaluation"
Since Examples 1-7 used a sealing resin composition containing polyimide silicone as a thermosetting resin by combining a thermoplastic resin and a thermosetting resin, all of pot life, presence of air bubbles, and airtightness were good. A simple sealing structure is obtained. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, since only the thermosetting resin was used as the sealing resin composition, the pot life was good, but the presence of air bubbles and the airtightness were insufficient. Moreover, since the comparative example 3 used only the thermoplastic resin as a sealing resin composition, although there was no bubble, airtightness was inadequate.

封着構造体を構成する基板などの平面図である。It is a top view of the board | substrate etc. which comprise the sealing structure. 本発明の封着樹脂組成物を基板に吐出した状態を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the state which discharged the sealing resin composition of this invention to the board | substrate.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板(下板)
2 基板(上板)
3 スぺーサー(中板)
4 孔
a1、a2 熱可塑性樹脂
b1 熱硬化性樹脂
1 Substrate (lower plate)
2 Substrate (upper plate)
3 Spacer (medium plate)
4 hole a1, a2 thermoplastic resin b1 thermosetting resin

Claims (6)

対向する2枚の基板によって構成される基板間周縁部を封着し、その内部空間が減圧または不活性ガス雰囲気に維持された封着構造体を形成するための封着用樹脂組成物であって、
少なくとも1種の熱可塑性樹脂(a)とポリイミドシリコーン樹脂を必須成分とする熱硬化性樹脂(b)とを含むとともに、封着により得られる樹脂層がそれぞれ独立して形成し互いに隣接した多層構造になることを特徴とする封着用樹脂組成物。
A sealing resin composition for sealing a peripheral portion between substrates constituted by two opposing substrates, and forming a sealing structure in which the internal space is maintained in a reduced pressure or inert gas atmosphere. ,
A multilayer structure including at least one thermoplastic resin (a) and a thermosetting resin (b) having a polyimide silicone resin as essential components, and resin layers obtained by sealing are formed independently and adjacent to each other A resin composition for sealing.
熱可塑性樹脂(a)が、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレン・ビニルアルコール共重合体樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、又はポリエチレンナフタレート樹脂から選ばれることを特徴とする、請求項1に記載の封着用樹脂組成物。   The thermoplastic resin (a) is selected from polyolefin resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene / vinyl alcohol copolymer resin, polyamide resin, polyethylene terephthalate resin, or polyethylene naphthalate resin. Sealing resin composition. 熱硬化性樹脂(b)が、さらにエポキシ樹脂、アクリル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、又はフェノール樹脂から選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とする、請求項1に記載の封着用樹脂組成物。   The sealing resin according to claim 1, wherein the thermosetting resin (b) further contains at least one selected from an epoxy resin, an acrylic resin, an unsaturated polyester resin, a polyimide resin, or a phenol resin. Composition. さらに、無機微粒子(c)が、熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)からなる樹脂成分の合計量に対して30〜95質量%配合されることを特徴とする、請求項1に記載の封着用樹脂組成物。   Furthermore, 30 to 95 mass% of inorganic fine particles (c) are mix | blended with respect to the total amount of the resin component which consists of a thermoplastic resin (a) and a thermosetting resin (b), It is characterized by the above-mentioned. The resin composition for sealing as described in 2. 熱可塑性樹脂(a)と熱硬化性樹脂(b)の割合が、重量比で30:1〜1:30であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の封着用樹脂組成物。   The sealing resin according to any one of claims 1 to 4, wherein the ratio of the thermoplastic resin (a) and the thermosetting resin (b) is 30: 1 to 1:30 by weight. Composition. 請求項1〜5のいずれかに記載の封着用樹脂組成物によって、基板間周縁部が樹脂層で封着されてなる封着構造体。   The sealing structure by which the peripheral part between board | substrates is sealed with the resin layer with the sealing resin composition in any one of Claims 1-5.
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